JP2001030448A - 二軸配向ポリエステルフィルム - Google Patents

二軸配向ポリエステルフィルム

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JP2001030448A
JP2001030448A JP20890499A JP20890499A JP2001030448A JP 2001030448 A JP2001030448 A JP 2001030448A JP 20890499 A JP20890499 A JP 20890499A JP 20890499 A JP20890499 A JP 20890499A JP 2001030448 A JP2001030448 A JP 2001030448A
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Yoshio Meguro
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 フィルム製造時および磁気記録媒体製造時の
スリット性に優れ、磁気記録媒体としての走行性および
電磁変換特性を高度に満足でき、かつドロップアウト発
生防止の点で優れ、擦り傷や摩耗粉の発生が極めて少な
いフィルムの提供。 【解決手段】 平均粒径0.8〜1.5μm、粒度分布
値1.0〜2.0、粒子変形度1.5〜5.0の架橋高
分子粒子を0.001〜0.05重量%、平均粒径0.
2〜0.6μmの活性微粒子を0.1〜1.0重量%、
平均一次粒径0.3μm以下でモース硬度が7以上の不
活性微粒子を0.1〜1.0重量%含有するポリエステ
ルA層をポリエステルB層に積層してなる二軸配向ポリ
エステルフィルムであって、下記式を満足する (EMDはフィルム縦方向の引っ張り破断伸度、ETDは横
方向の引っ張り破断伸度、RMSはポリエステルA層表
面の自乗平均平方根粗さ、SRaはA層表面の平均面粗
さ(μm)、P−VはA層表面の最大粗さ)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、二軸配向ポリエス
テルフィルムに関する。詳しくは、本発明は、高品質磁
気記録媒体用ベースフィルムとして、フィルム製造時お
よび磁気記録媒体製造時のスリット性に優れ、磁気記録
媒体としての耐久走行性および電磁変換特性を高度に満
足し、かつドロップアウト発生防止の点で優れた二軸配
向ポリエステルフィルムに関するものである。
【0002】
【従来の技術】二軸配向ポリエステルフィルムは、各種
の特性を高度にバランス良く有し、コストパフォーマン
スの点で優れるため、産業用資材として広く用いられて
いる。ポリエステルフィルムの数多い用途の中でも、特
に磁気テープ用途において、近年、磁気テープの高品質
化のためにベースフィルムに対する要求特性がますます
高度になってきている。すなわち、電磁変換特性を向上
させるためフィルム表面が平坦であることが強く望ま
れ、特にドロップアウトの原因となるような粗大突起が
存在しないことが必須の条件になっている。一方、磁気
記録媒体の走行性を高めるため、フィルム表面を適度に
粗面化し、フィルムの摩擦係数を低くすることも必要で
ある。
【0003】かかる要件に加え、最近は特にフィルム製
造時および磁気記録媒体製造時のフィルムのスリット性
に優れることが望まれるようになった。かかるスリット
性が不足すると、フィルム製造時にはスリット端面の形
状が均一でないためにシワが発生したり、スリット刃の
交換を頻繁に行わなくてはならないという問題が生じる
場合がある。また、スリットにより発生した切り粉や、
磁気記録媒体製造時のスリット工程で発生した切り粉
が、フィルム表面や磁性層面に付着することによりドロ
ップアウトの原因になるという問題が発生する。
【0004】一方、フィルムを加工する工程において
は、磁気記録媒体製造時の磁性層塗布工程やカレンダー
工程、巻取り工程等において、ロールやガイドとの接触
によりフィルム表面が削り取られ、その傷が原因で電磁
変換特性が悪化したり、削れ粉がドロップアウトの原因
になるという問題がある。また、特に最近はビデオソフ
トの普及に伴い、ソフトビデオテープ生産性向上のため
高速ダビング装置が使用されるようになり、かかる高速
ダビング装置を使用する場合、磁気テープ、ひいては磁
気テープ用ベースフィルムに高度な品質が要求されるよ
うになった。すなわち、ダビング時のテープの走行速度
は、通常のビデオ再生時の走行よりも高速であるため、
従来の磁気テープにおける走行性向上とは異なる設計が
必要になる。例えば、高速走行時の走行安定性が良好で
蛇行を起こさないこと、走行時に磁気テープが削れて、
その削れ粉の影響でドロップアウト等の問題を起こさな
いこと等が要求されている。
【0005】これらの品質の厳しい要求に加え、コスト
低減の要求も強く、ベースフィルム生産性が良好である
ことも必須である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記実情に鑑
みなされたものであって、その解決課題は、フィルム製
造時および磁気記録媒体製造時のスリット性に優れ、磁
気記録媒体としての走行性および電磁変換特性を高度に
満足でき、かつドロップアウト発生防止の点で優れ、擦
り傷や摩耗粉の発生が極めて少ないフィルムを提供する
ことにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題に
鑑み鋭意検討した結果、特定の粒子を特定量含有する積
層フィルムが優れた特性を有することを見いだし、本発
明を完成するに至った。すなわち、本発明の要旨は、平
均粒径dA が0.8〜1.5μmであって、粒度分布値
(d25/d75)が1.0〜2.0、かつ粒子変形度が
1.5〜5.0の架橋高分子粒子Aを0.001〜0.
05重量%、平均粒径dB が0.2〜0.6μmである
不活性微粒子Bを0.1〜1.0重量%、および平均一
次粒径dCが0.3μm以下でかつモース硬度が7以上
である不活性微粒子Cを0.1〜1.0重量%含有する
ポリエステルA層をポリエステルB層に積層してなる二
軸配向ポリエステルフィルムであって、下記式(1)〜
(4)を同時に満足することを特徴とする二軸配向ポリ
エステルフィルムに存する。
【0008】
【数2】 0.010≦RMS≦0.025 ‥‥‥(2) 0.005≦SRa≦0.020 ‥‥‥(3) 0.200≦P−V≦0.350 ‥‥‥(4) (上記式中、EMDはフィルム縦方向の引っ張り破断伸度
(%)、ETDはフィルム横方向の引っ張り破断伸度
(%)、RMSはポリエステルA層表面の自乗平均平方
根粗さ(μm)、SRaはポリエステルA層表面の平均
面粗さ(μm)、P−VはポリエステルA層表面の最大
粗さ(μm)を表す)
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のポリエステルとは、芳香族ジカルボン酸または
そのエステルとグリコールとを主たる出発原料として得
られるポリエステルであり、繰り返し構造単位の80%
以上がエチレンテレフタレート単位またはエチレン−
2,6−ナフタレート単位または1,4−シクロヘキシ
レンジメチレンテレフタレート単位を有するポリエステ
ルを指す。そして、上記の範囲内であれば、他の第三成
分を含有していてもよい。
【0010】芳香族ジカルボン酸成分としては、例え
ば、テレフタル酸および2,6−ナフタレンジカルボン
酸以外に、例えば、イソフタル酸、フタル酸、アジピン
酸、セバシン酸、ジフェニルジカルボン酸、オキシカル
ボン酸(例えば、p−オキシエトキシ安息香酸等)等を
用いることができる。グリコール成分としては、エチレ
ングリコールおよび1,4−シクロヘキサンジメタノー
ル以外に、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオー
ル、ネオペンチルグリコール等の一種または二種以上を
用いることができる。
【0011】また、ポリエステルに任意の添加剤、例え
ば、熱安定剤、ブロッキング防止剤、酸化防止剤、着色
剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤などを含有させてもよ
い。フィルムの滑り性、走行性、耐摩耗性を向上し、か
つ平坦性を保ち、フィルム製造時の傷発生を防止するた
め、通常、ポリエステルに粒子を含有させ、フィルムに
適度な突起を形成させる。本発明者らは、特定の粒子を
用いた場合、上記した効果を高度に達成できることを見
いだした。
【0012】すなわち、平均粒径dA が0.8〜1.5
μmであって、粒度分布値(d25/d75)が1.0〜
2.0、かつ粒子変形度が1.5〜5.0の架橋高分子
粒子Aを0.001〜0.05重量%、平均粒径dB
0.2〜0.6μmである不活性微粒子Bを0.1〜
1.0重量%、および平均粒径dC が0.01〜0.3
μmでかつモース硬度が7以上である不活性微粒子Cを
0.01〜1.0重量%含有させた場合、フィルムの滑
り性、平坦性が高度に満足され、特に磁気記録媒体のベ
ースフィルムとして使用した場合、走行性、耐摩耗性が
良好で、しかも平坦性に優れるため、電磁変換特性が良
好な高品質磁気記録媒体とすることができる。
【0013】本発明の二軸配向ポリエステルフィルム
は、A層に平均粒径の異なる架橋高分子粒子A、不活性
微粒子Bおよび不活性微粒子Cの3種類の粒子を同時に
含有するものである。架橋高分子粒子Aとしては多種に
わたるが、その中でも、耐熱性を優先させた高架橋度の
粒子を用いた場合は、延伸時に強い応力がかかっても、
それ自身変形することなく、粒子周辺に空隙を生じてし
まう。
【0014】空隙が生じるとフィルム表面が摩耗された
時、そこを開始点として粒子がフィルムから容易に剥離
してしまう。しかるにかかるフィルムを用いた場合、フ
ィルム製造工程を含む磁性層塗布工程以前の段階で摩耗
粉が発生すると磁性層塗布ヌケや磁性層表面への摩耗粉
転着によりドロップアウト増加の原因となる。本発明者
が知見したところによれば、ポリエステルと比較的馴染
みが良く、しかも延伸追随性があり、フィルム中で特定
の粒子変形度を有する架橋高分子粒子の場合には、粒子
周辺の空隙の発生が少なく、耐摩耗性に極めて優れてい
ることが明らかとなった。
【0015】延伸前、例えば、球形であった粒子からフ
ィルム中でかかる粒子変形度を有する粒子を得るために
は、架橋高分子粒子自身の変形のしやすさと、延伸条件
とを適度に組み合わせることが好ましい。すなわち、比
較的変形が容易な架橋高分子粒子の場合は、緩やかな延
伸条件、例えば、比較的高温で低倍率で延伸したとして
も変形度は大きくなる。逆に比較的変形し難い架橋高分
子粒子の場合には、本発明の変形度を得るには強い延伸
応力を与える必要がある。
【0016】何れにしても本発明においては、架橋高分
子粒子に延伸応力を作用させることにより、粒子変形度
を1.5〜5.0、好ましくは1.6〜4.0、さらに
好ましくは1.7〜3.0となるようするが、この場
合、次のような粒子が好適に用いられる。すなわち、本
発明で用いることのできる架橋高分子粒子の典型的な例
としては、適度な架橋構造を有する高分子微粉体を挙げ
ることができ、分子中に唯一個の脂肪族の不飽和結合を
有するモノビニル化合物(a)と、架橋剤として分子中
に2個以上の脂肪族の不飽和結合を有する化合物(b)
との共重合体を例示することができる。この場合、かか
る共重合体はポリエステルと反応し得る基を持っていて
もよい。
【0017】共重合体の一成分である化合物(a)とし
ては、アクリル酸、メタクリル酸、およびこれらのメチ
ルまたはグリシジルエステル、無水マレイン酸およびそ
のアルキル誘導体、ビニルグリシジルエーテル、酢酸ビ
ニル、スチレン、アルキル置換、スチレン等を挙げるこ
とができる。また、化合物(b)としてはジビニルベン
ゼン、ジビニルスルホン、エチレングリコールジメタク
リレート等を挙げることができる。化合物(a)および
(b)は各々一種以上用いるが、エチレンや窒素原子を
有する化合物を共重合させてもよい。
【0018】本発明では、これらの中から、易変形が得
られるよう特にその組成を選定することが好ましいが、
そのためには、架橋高分子粒子のガラス転移温度が低く
なるよう、具体的には100℃以下、好ましくは95℃
以下、さらに好ましくは85℃以下となるよう共重合成
分、特に化合物(a)を選定する。このためには、その
共重合成分のみでポリマーを得たとき、そのガラス転移
温度が0℃以下であるような化合物を導入することが好
ましい。
【0019】かかる化合物の具体的な例としては、アク
リル酸の炭素数6〜12のアルキルエステル、P位に炭
素数6〜12のアルキル置換基を有するスチレン誘導体
を挙げることができるが、勿論これに限定される訳では
ない。また、架橋度も易変形性に大きな影響を与える
が、本発明においては、耐熱性が許容される範囲で比較
的架橋度を低くしたものが好ましい。具体的には、共重
合中の(b)成分の重量比が0.5〜20%、好ましく
は0.7〜15%、さらに好ましくは1〜15%の範囲
とするのがよい。
【0020】何れにしても、本発明においては、延伸応
力により適度に変形し得る粒子を選定し、延伸条件との
組み合わせのもとに、耐摩耗性が高度に改良され、ドロ
ップアウトの少ない磁気テープが得られることに特徴を
有す。本発明において、これら架橋高分子粒子の延伸前
の粒径比は通常1.0〜1.1で、平均粒径dA は、
0.8〜1.5μm、好ましくは0.9〜1.4μm、
さらに好ましくは1.0〜1.2μmの範囲から選択さ
れる。
【0021】平均粒径dA が0.8未満では、フィルム
の滑り性や巻き取り性の向上効果が不十分であり、好ま
しくない。一方、平均粒径dA が1.5μmを超える
と、フィルム表面粗度が大きくなり過ぎて、磁気テープ
としたときの電磁変換特性が悪化し、また耐摩耗性も悪
化するので好ましくない。また、粒径比が5.5を超え
ると、フィルム表面が不均一となり、滑り性と平坦性と
を同時に満足することが難しくなる。
【0022】本発明で用いる架橋高分子粒子の粒度分布
値(d25/d75)は、1.0〜2.0、好ましくは1.
1〜1.9、さらに好ましくは1.2〜1.8である。
なお、ここでいう粒度分布値とは、粒度分布値=d25/
d75(d25、d75は、粒子群の積算体積を大粒子側から
計測し、それぞれ総体積の25%、75%に相当する粒
径(μm)を示す)により定義される値である。すなわ
ち、磁気記録媒体用として使用したときの電磁変換特性
を高め、かつドロップアウトを防止するために、粗大粒
子を存在させないことが好ましく、そのために粒度分布
がシャープであることが必要である。かかる粒度分布が
2.0を超えると、得られるフィルムに粗大突起が生成
したり、粒子の脱落が起こって、電磁変換特性が悪化す
る。一方、粒度分布値が小さい粒子を製造しようとする
と、分級や濾過の工程の精密さが高度に要求されること
になり、コスト的な問題が発性することがある。
【0023】また、架橋高分子粒子のポリエステルに対
する配合量は、0.001〜0.05重量%、好ましく
は0.01〜0.04重量%、さらに好ましくは0.0
15〜0.03重量%である。この配合量が0.001
重量%未満では、フィルムの滑り性、磁気記録媒体とし
たときの走行性や耐摩耗性が十分に発揮されない。一
方、0.05重量%を超えるとフィルム表面粗度が大き
くなり過ぎて、電磁変換特性が低下したり、粒子が脱落
してドロップアウトの原因となる。
【0024】平均粒径dB が0.2〜0.6μm、好ま
しくは0.3〜0.5μm、さらに好ましくは0.4〜
0.5μmの不活性微粒子Bを、0.1〜1.0重量
%、好ましくは0.2〜0.9重量%、さらに好ましく
は0.3〜0.8重量%含有させることにより、高度な
フィルム取り扱い性と磁気テープ特性を得ることができ
る。
【0025】不活性微粒子Bの平均粒径dB が0.2μ
m未満の場合は、フィルム表面に適度な突起を形成する
ことができず、フィルムの走行性向上の効果が得られな
いことや、かえって粒子が凝集しやすくなり、粗大突起
形成の問題が発生し、磁気記録媒体用として用いた場合
にドロップアウト発生の原因となる。一方、dB が0.
6μmを超えると表面の突起が大きくなりすぎてフィル
ムの平坦性や耐摩耗性が低下する。特に磁気記録媒体用
として用いた場合、電磁変換特性の低下やドロップアウ
トの発生といった問題が発生するようになる。
【0026】不活性微粒子Bの含有量が0.1重量%未
満では、フィルムの滑り性、磁気記録媒体としたときの
走行性が満足されない。一方、1.0重量%を超える
と、電磁変換特性が低下したり、粒子が脱落してドロッ
プアウトの原因となったり、フィルムのスリット性が低
下して、スリット工程でのトラブルが発生する等の問題
が発生するようになる。
【0027】本発明において用いる不活性微粒子Bとし
ては、例えば炭酸カルシウム、シリカ、リン酸カルシウ
ム、カオリン、タルク、二酸化チタン、アルミナ、硫酸
バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、ゼオラ
イト、硫化モリブデン等の無機粒子およびシュウ酸カル
シウム、架橋高分子粒子等の有機粒子を挙げることがで
き、これらの中から1種または2種以上を含有させるこ
とができる。
【0028】さらに、本発明においては、フィルムの耐
摩耗性や耐擦り傷性を向上させるため、上記した2種の
粒子に加え、平均一次粒径dC が0.3μm以下、好ま
しくは0.1μm以下、モース硬度が7以上の不活性微
粒子CをポリエステルA層中に0.1〜1.0重量%の
範囲で含有させる。また、フィルム全体に対する不活性
微粒子Cの量が0.001〜0.5重量%である場合、
スリット性が良好となるため好ましい。
【0029】モース硬度が7以上の粒子としては、アル
ミナ、シリコンカーバイド、バナジウムカーバイド、チ
タンカーバイド、ボロンカーバイド等を挙げることがで
きる。これらの中では、工業的に入手が容易であり、か
つ耐擦り傷性向上の効果が大きいアルミナが好ましく、
その中でもδ型アルミナおよびγ型アルミナが特に好ま
しい。モース硬度7以上の無機粒子は、必要に応じて2
種以上併用してもよい。
【0030】かかるアルミナ粒子の製造法としては、例
えば熱分解法、すなわち無水塩化アルミニウムを原料と
して火焔加水分解させる方法、あるいはアンモニウム明
礬熱分解法、すなわち水酸化アルミニウムを原料として
硫酸と反応させて硫酸アルミニウムとした後硫酸アンモ
ニウムと反応させてアンモニウム明礬として焼成する方
法等を挙げることができる。これらの方法により得られ
るアルミナの一次粒径は、通常5〜40nmの範囲にあ
るが、しばしば0.5μmを超える凝集体を形成してい
るので、適度に解砕して使用することが望ましい。本発
明で使用する場合、多少凝集した二次粒子となっていて
もよいが、見かけ上の平均粒径は、0.5μm以下が好
ましく、0.2μm以下が特に好ましい。
【0031】また、フィルム製造時に発生する再生原料
を利用する等の理由で、B層中に微粒子を含有すること
があるが、B層中の粒子の含有量は0.5重量%以下、
さらには0.3重量%以下であることが望ましい。B層
中の粒子の含有量が1.0重量%を超えると、スリット
性が低下することがある。本発明のフィルムを構成する
粒子を含むポリエステルの製造に際して、粒子はポリエ
ステルの合成反応中に添加してもポリエステルに直接添
加してもよい。合成反応中に添加する場合は、粒子をエ
チレングリコール等に分散させたスラリーとして、ポリ
エステル合成の任意の段階で添加する方法が好ましい。
一方、ポリエステルに直接添加する場合は、乾燥した粒
子として、または水あるいは沸点が200℃以下の有機
溶媒中に分散したスラリーとして、2軸混練り押出機を
用いてポリエステルに添加混合する方法が好ましい。な
お、添加する粒子は、必要に応じ、事前に解砕、分散、
分級、濾過等の処理を施しておいてもよい。
【0032】本発明でいう積層フィルムとは、全ての層
が押し出し機の口金から共溶融押し出しされる、いわゆ
る共押し出し法により押し出されたものを、延伸および
熱処理されたものを指す。積層の構成としては、B層の
少なくとも片面にA層を積層した構造を有するが、2
層、3層フィルム以外にも、本発明の要旨を越えない限
り、4層またはそれ以上の多層であってもよい。例え
ば、B層の両面にA層を積層する場合に、B層を2層ま
たは3層構造とし、フィルム全体として4層または5層
のフィルムにするという形態も採用できる。本発明の優
れた効果は、上述の粒子を少なくとも片側の最外層であ
るA層に含有させることにより得られる。
【0033】本発明のフィルムの特徴は、A層表面の自
乗平方根粗さ(RMS)を0.010〜0.025μ
m、好ましくは0.012〜0.020μm、平均面粗
さ(SRa)を0.005〜0.020μm、好ましく
は0.007〜0.015μm、最大高さ(P−V)を
0.200〜0.350μm、好ましくは0.220〜
0.300μmの範囲としたことにあり、かかる範囲を
満足させることにより、高度な特性を有する磁気記録媒
体用フィルムとすることができる。
【0034】自乗平方根粗さ(RMS)、平均面粗さ
(SRa)、あるいは最大高さ(P−V)のいずれかが
上記下限未満では、フィルムの取り扱い性、巻き特性、
磁気テープとしたときの走行性が不十分となる。一方、
自乗平方根粗さ(RMS)、平均面粗さ(SRa)、あ
るいは最大高さ(P−V)のいずれかが上記上限を超え
ると、磁気テープの電磁変換特性が悪化するため好まし
くない。
【0035】A層の反対側にC層を設ける場合は、C層
は、A層と異なる組成物からなってもよいし、A層と同
じポリエステル組成物からなり、厚さの異なる層として
設けることもできる。かかる構成を用いることにより、
粗度の異なる表面を表裏に有するフィルムとすることが
でき、磁気記録媒体の電磁変換特性と走行性とを同時に
高度に満足することができる。
【0036】特に、C層をA層と同じポリエステル組成
物からなり厚みのみ異なる層として設けた場合、製造工
程の単純化が可能で、コスト的にも有利となり、表面粗
度等の物性の調節も容易となる。かかる構成の場合、C
層の厚みtCは、A層厚みtAの0.05〜0.8倍、
さらに0.1〜0.7倍の範囲が望ましい。tC/tA
が0.8を超えると、表面粗度の十分な表裏差が得られ
ない場合がある。一方、tC/tAが0.05未満で
は、C層の厚みが薄くなり、耐摩耗性が不足する問題が
発生することがある。
【0037】A層表面の中心線粗さSRaAと、C層表
面の粗さSRaCとの差は、好ましくは1〜10nm、
さらに好ましくは1.5〜8nm、特に好ましくは2〜
5nmの範囲である。層厚みの差のみで表面粗さの差を
10nmを超える範囲とすることは、厚みの差を大きく
しなければならないので、上記と同様の問題が発生する
恐れがある。
【0038】本発明のフィルムのB層を構成するポリエ
ステルの極限粘度は、通常0.600未満、好ましくは
0.580未満、さらに好ましくは0.570未満であ
る。極限粘度が0.600以上では、フィルムのスリッ
ト性が悪化する場合がある。B層の極限粘度の下限は、
フィルムの生産性の点から、通常0.450、好ましく
は0.480、さらに好ましくは0.500である。A
層の極限粘度にもよるが、B層の極限粘度が0.450
未満では、フィルム生産時に破断が頻発するようにな
り、生産性の低下をもたらすことがある。
【0039】さらに、A層の極限粘度はB層の極限粘度
よりも0.02以上、さらには0.03以上高いことが
好ましい。A層の極限粘度が低くなると、フィルムの耐
摩耗性が悪化する傾向がある。A層の極限粘度は、好ま
しくは0.570以上、さらに好ましくは0.580以
上、特に好ましくは0.600以上である。本発明のフ
ィルムは、スリット性を高度に満足するために、縦方向
の引っ張り破断伸度(EMD)と横方向の引っ張り破断伸
度(ETD)の比(EMD/ETD)が1.2〜1.8、好ま
しくは1.3〜1.7、さらに好ましくは1.4〜1.
6である。かかる比が1.2未満では、フィルムのスリ
ット性が悪化し、磁気テープ製造時の生産性が低下した
り、スリット時に発生する異物が原因で磁気テープのド
ロップアウト特性が悪化する問題が発生する。かかる比
が1.8を超える場合は、フィルム製造時の生産性が悪
化することになるためコスト的に問題となり好ましくな
い。
【0040】次に、本発明のフィルムの製造法について
具体的に説明する。フィルムを構成するポリエステル原
料を、押し出し機に供給し、スリット状のダイから溶融
シートとして押し出す。この時、それぞれの層を構成す
るポリエステル原料を、共押し出し積層用押し出し装置
に供給する。すなわち、2または3台以上の押し出し
機、3層以上のマルチマニホールドまたはフィードブロ
ックを用いて積層し、スリット状のダイから3層以上の
溶融シートとして押し出す。その際、それぞれの層の厚
みはメルトラインに設置したギャポンプ等の定量フィー
ダーによるポリマーの流量の調節により設定することが
できる。
【0041】次に、ダイから押し出された溶融シート
を、回転冷却ドラム上でガラス転移温度以下になるよう
に急冷固化し、実質的に非晶状態の未配向シートを得
る。この場合、シートの平面性を向上させるため、シー
トと回転冷却ドラムとの密着性を高めることが好まし
く、本発明においては、静電印加密着法およびまたは液
体塗布密着法が好ましく採用される。
【0042】本発明においてはこのようにして得られた
シートを2軸方向に延伸してフィルム化する。延伸条件
について具体的に述べると、前記未延伸シートを好まし
くは70〜150℃、さらに好ましくは75〜130℃
の温度範囲で、まず一方向にロールもしくはテンター方
式の延伸機により3.0〜7倍、好ましくは3.2〜6
倍に延伸する。次に一段目と直交する方向に好ましくは
75〜150℃、さらに好ましくは80〜140℃の温
度範囲で3.2〜7倍、好ましくは3.5〜6倍に延伸
を行い、2軸に配向したフィルムを得る。なお、一方向
の延伸を2段階以上で行う方法も用いることができる
が、その場合も、最終的な延伸倍率が上記した範囲に入
ることが望ましい。また、前記未延伸シートを面積倍率
が10〜40倍になるように同時二軸延伸することも可
能である。
【0043】かくして得られたフィルムを150〜25
0℃で、30%以内の伸長、制限収縮、または定長下で
1秒〜5分間熱処理する。二軸延伸した後、さらに11
0℃〜180℃の温度で縦方向に1.05〜2.5倍再
延伸を行った後、熱処理する方法も採り得る。この際、
再縦延伸前熱固定、再縦延伸後縦弛緩、再縦延伸前また
は後微小倍率縦延伸等の手法を適宜採用も可能である。
また、同様に横方向に再延伸を行ってもよい。また、必
要に応じて製膜工程内で各種の表面処理等を施しても構
わない。
【0044】また、本発明のフィルムは、特に磁気記録
媒体用として使用する場合、磁性層との接着性を高める
ため、フィルム表面に塗布層を設けてもよい。塗布層
は、フィルム製造工程内で設けてもよいし、フィルム製
造後に塗布してもよい。特に塗布厚みの均一性や、生産
効率の点で、フィルム製造工程の縦方向延伸後、横延伸
工程の前に塗布する方法が好ましい。
【0045】塗布剤の例としては、磁性層との接着性に
優れる、ポリエステル、ポリアミド、ポリスチレン、ポ
リアクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレート、
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルブチ
ラート、ポリビニルアルコール、ポリウレタンなどの樹
脂およびこれらの樹脂の共重合体や混合体などを挙げる
ことができるが、これらに限定されるわけではない。こ
れらの中で最も好ましい塗布剤は、ポリエステル系樹脂
である。また、フィルムのブロッキングによる取り扱い
性低下を防止するため、塗布層中に架橋成分を配合する
ことが好ましい。架橋成分としては、エポキシ系、メラ
ミン系、イソシアネート系、アジリジン系、オキサゾリ
ン系等の架橋剤が使用できる。
【0046】本発明で用いる塗布剤は、水を媒体とする
塗布剤であることが望ましい。水を媒体とする場合は、
界面活性剤などによって強制分散化した塗布剤であって
もよいが、好ましくはポリエーテル類のような親水性の
ノニオン成分や、四級アンモニウム塩のようなカチオン
性基を有する自己分散型塗布剤であり、さらに好ましく
は、アニオン性基を有する水溶性または水分散型樹脂塗
布剤である。
【0047】特に高速ダビング装置に使用されるビデオ
パンケーキ用の磁気記録媒体ベースフィルムとして使用
される場合は、かかる易接着処理を施し、磁性層の剥離
を防止することが品質を高めるのに有効である。なお、
本発明においては、製膜に共するポリエステル全量に対
し、10重量%程度以下の他のポリマー(例えばポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリスルホ
ン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミド、ポリイミ
ド等)を含有させることができる。また、必要に応じ、
酸化防止剤、熱安定剤、潤滑剤、染料、顔料等の添加剤
を配合しても良い。
【0048】
【実施例】以下、本発明を実施例を挙げてさらに詳細に
説明するが、本発明は、その要旨を越えない限り、以下
の実施例によって限定されるものではない。尚、実施例
における種々の物性および特性の測定方法、定義は下記
のとおりである。実施例および比較例中「部」とあるは
「重量部」を示す。 (1)粒子の平均粒径 島津製作所製遠心沈降式粒度分布測定装置(SP−CP
3型)で測定した。
【0049】本発明において平均粒径とは、その形状の
如何にかかわらず等価球形分布の積算体積分率50%の
粒径を平均粒径d50とした。 (2)粒度分布値 平均粒径の測定と同様にして粒度分布値を求める。等価
球分布における大粒子側から積算を行い下記式より求め
た。
【0050】
【数3】 なお、粒度分布値が1.0に近いほど粒径分布がシャー
プである。 (3)ポリエステルに添加する粒子の粒径比 走査型電子顕微鏡(日立(株)製S−4500)にてポ
リエステルに配合する粒子を観察し、粒子ごとに最大径
と最小径を求め、その比を算出した。少なくても100
個の粒子についてこの値を求めその相加平均を粒径比と
した。 (4)架橋高分子粒子の粒子変形度 透過型電子顕微鏡(TEM)によるフィルム断面の観察
にて行った。すなわち、フィルムサンプルの小片を、エ
ポキシ樹脂に硬化剤、加速剤を配合した樹脂に包埋処理
し、ウルトラミクロトームにて厚み200nmの切片を
作成し、観察用サンプルとした。得られてサンプルを日
立(株)製透過型電子顕微鏡H−9000を用いてフィ
ルムの長手方向の断面の顕微鏡写真を撮影し、粒子毎の
最大径と最小径を求めその比を算出した。少なくても1
00個の粒子についてこの値を求め、その相加平均して
粒径比を求め、粒子変形度とした。 (5)ポリマーの極限粘度[η](dl/g) ポリマー1gをフェノール/テトラクロロエタン=50
/50(重量比)の混合溶媒100ml中に溶解し、3
0℃で測定した。 (6)フィルムの層厚み 透過型電子顕微鏡(TEM)によるフィルム断面の観察
にて行った。すなわち、フィルムサンプルの小片を、エ
ポキシ樹脂に硬化剤、加速剤を配合した樹脂に包埋処理
し、ウルトラミクロトームにて厚み約200nmの切片
を作成し、観察用サンプルとした。得られたサンプルを
日立(株)製透過型電子顕微鏡(H−9000)を用い
て断面の顕微鏡写真を撮影し、表層の厚みを測定した。
ただし、加速電圧は300KV、倍率は表層厚みに応
じ、1万倍〜10万倍の範囲で設定した。厚み測定は5
0点行い、測定値の厚い方から10点、薄い方から10
点を削除して30点を平均して測定値とした。 (7)フィルム表面粗度 マイクロマップ社製、直接位相検出干渉法いわゆる2光
束干渉法を用いた非接触表面形状計測システム(Mic
romap 512)を用いて、自乗平方根粗さ(RM
S)、平均面粗さ(SRa)、最大粗さ(P−V)を計
測した。なお、測定波長は554nmとし、対物レンズ
は20倍を用いて、20視野計測し、その平均値とし
た。 (8)フィルムの引っ張り破断伸度(%) (株)インテスコ製引っ張り試験機(2001型)を用
いて、温度23℃、湿度50%RHに調節された室内に
おいて、長さ(チャック間)50mm、幅15mmの試
料フィルムを、200mm/分の速度で引っ張り、引っ
張り応力−歪み曲線より次の式から算出した。フィルム
の縦方向をEMD、フィルムの横方向をE TDとした。
【0051】
【数4】 (上記式中、LB は引っ張り破断伸度(%)、Lは破断
時のフィルム長さ(mm)、L0 は元のフィルムの長さ
(mm)を表す) (9)耐摩耗性 特公平7−81020号公報の第1図に示されている装
置を用いて下記のようにして測定した。室温23℃、湿
度50%RHの環境で、幅1/2インチに裁断したフィ
ルムを固定棒に角度θ=135゜で接触させて、毎分1
0mの速さで、入口張力が400gとなるようにして3
00m走行させる。走行後に固定棒に付着した摩耗粉の
量を目視評価した。
【0052】この時、固定棒としてカーボンブラック含
有ポリアセタールの6ψのテープガイドを使った場合を
A法、SUS420−J2製で表面を十分に仕上げた6
ψのテープガイド(表面粗さ0.2S)を使った場合を
B法とする。 〈摩耗粉の判定〉 ◎:付着がまったく認められない ○:付着が極く僅か認められるが事実上問題ない △:付着量やや多く、長時間使用すると問題となる ×:付着量多く実用上使用し難い (10)スリット性 フィルムをスリット刃にて10000mスリットした
後、顕微鏡にて刃を観察した。刃の損傷状況により以下
のように評価した。
【0053】 ◎:損傷はほとんど認められない ○:損傷が僅かに認められるが実用上は問題ない △:損傷がやや大きく、長時間使用すると問題となる ×:損傷が大きく実用上使用し難い スリット性が悪い場合は、フィルム製造時に刃の交換を
頻繁に行わなければならない。また、スリット性は、磁
気テープ特性の中のドロップアウトによっても評価され
る。すなわち、スリット性が不良の場合はドロップアウ
トが増加してしまうことがある。 (11)磁気テープ特性 磁性微粉末200部、ポリウレタン樹脂30部、ニトロ
セルロース10部、塩化ビニル−酢酸セルロース共重合
体10部、レシチン5部、シクロヘキサン100部、メ
チルイソブチルケトン100部、およびメチルエチルケ
トン300部をボールミルにて48時間混合分散後、ポ
リイソシアネート化合物5部を加えて磁性塗料とし、こ
れをポリエステルA層表面、またはA/B/Cの積層の
場合はC層表面に塗布し、塗料が十分に乾燥固化する前
に磁気配向させた後乾燥し、1.8μmの膜厚の磁性層
を形成した。
【0054】次いで、この塗布フィルムを、鏡面仕上げ
の金属ロールとポリエステル系複合樹脂ロールとから構
成されているスーパーカレンダーを用い、カレンダー処
理を行った。次いで、カレンダー処理後のテープを1/
2インチ幅にスリットし、日本ビクター(株)製BR6
400により、常速にて下記の磁気テープ特性を評価し
た。 (A)電磁変換特性(VTRヘッド出力) シンクロスコープにより測定周波数が4メガヘルツにお
ける初期のVTRヘッド出力を測定し、基準テープ(ハ
イグレードタイプビデオテープ市販品)と比較し、下記
に示すランク別の評価を行った。
【0055】 A:基準テープと同等である B:基準テープよりやや劣る C:明らかに基準テープより劣り、実用に耐えない (B)ドロップアウト 4.4メガヘルツの信号を記録したビデオテープを再生
し、大倉インダストリー(株)ドロップアウトカウンタ
ー(IDC2)数を約20分間測定し、良好なものを
A、不良であり実用に耐えないものをC、AおよびCの
中間的状況をBとした。 (12)耐擦り傷性 幅1/2インチにスリットした磁気テープを直径6mm
の硬質クロムメッキ金属ピン(仕上げ3S)に、巻き付
け角135゜、走行速度4m/分、張力50gで磁気テ
ープのベースフィルム面を1回擦過させた。次に擦過面
にアルミニウムを約50nm厚となるように真空蒸着
し、傷の量を目視により観察し、下記の判定を行った。
【0056】 ランク1:傷の量が極めて多い ランク2:傷の量が多い ランク3:傷の量が2,4の中間 ランク4:傷の量が少ない ランク5:傷が付かない (13)走行性 市販のVTR方式VTRを用い、巻き出し側のバックテ
ンションをゼロにして、ビデオテープを120分間走行
させた。ヘッドシリンダーの直前のピンで、ビデオテー
プの走行状態を観察し、下記の判定を行った。
【0057】 A:走行中のテープの走行位置の外れが規定位置から
0.5mm未満 B:走行中のテープの走行位置の外れが規定位置から
0.5mm以上2mm未満 C:走行中のテープの走行位置が規定位置から2mm以
上外れる 実施例1〜3 <架橋高分子粒子の製造>脱塩水120部に、水溶性重
合開始剤の過硫酸カリウム0.25部および分散安定剤
を添加し均一に溶解させた後、エチレングリコールモノ
メタクリレート7部、n−ブチルアクリレート4部およ
びジビニルベンゼン1部の混合溶液を加えた。次いで窒
素ガス雰囲気下で撹拌しながら70℃で6時間重合反応
を行った。得られた架橋高分子粒子の粒度分布値が1.
2、平均粒径は1.1μm、粒径比1.04であった。
次いで、得られた粒子の水スラリーにエチレングリコー
ル2000部加え、加熱、減圧下で水を留去し、エチレ
ングリコールスラリーとした。 <ポリエステルAの製造>ジメチルテレフタレート10
0部、エチレングリコール60部および酢酸マグネシウ
ム四水塩0.09部を反応器にとり、加熱昇温するとと
もにメタノールを留去してエステル交換反応を行い、反
応開始から4時間を要して230℃まで昇温し、実質的
にエステル交換反応を終了させた。
【0058】次いで、架橋高分子粒子0.3部をエチレ
ングリコールスラリーとして添加し、さらにリン酸0.
03部、三酸化アンチモン0.01部を加えて重縮合反
応を行い、極限粘度0.61のポリエチレンテレフタレ
ートを得た。 <ポリエステルBの製造>ジメチルテレフタレート10
0部とエチレングリコール70部および酢酸マグネシウ
ム四水塩0.09部を反応器にとり、加熱昇温すると共
にメタノールを留去させ、反応開始後約4時間を要して
230℃に達せしめエステル交換反応を終了した。次い
で、粒径0.4μmの炭酸カルシウム粒子1.0部をエ
チレングリコールスラリーとして添加した後、さらにリ
ン酸0.06部、三酸化アンチモン0.04部を加え、
徐々に反応系を減圧とし、温度を高めて重縮合反応を行
い、4時間後極限粘度0.62のポリエステルを得た。 <ポリエステルCの製造>上記の炭酸カルシウム粒子の
代わりに、あらかじめ解砕、分級、濾過した一次粒径
0.02μmのδ−アルミナ粒子1.5部をエチレング
リコールスラリーとして添加した以外は、上記と同様に
エステル交換反応、重縮合反応を行い、極限粘度0.6
2のポリエステルを得た。 <ポリエステルDの製造>粒子を添加しないこと以外
は、上記と同様にエステル交換反応、重縮合反応を行
い、実質的に不活性粒子を含まない極限粘度0.66の
ポリエステルを得た。 <ポリエステルEの製造>粒子を添加しないこと以外
は、上記と同様にエステル交換反応、重縮合反応を行
い、実質的に不活性粒子を含まない極限粘度0.59の
ポリエステルを得た。 <ポリエステルフィルムの製造>得られたポリエステル
A,B,C,Dを、下記表1の粒子含有量となるように
ブレンドし、溶融押し出し機により溶融押し出して、積
層の無定形シートを得た。ポリエステルB層としては、
ポリエステルEに再生原料を30%配合したものを使用
した。
【0059】次いで、上記の無定形シートをフィルムの
流れ方向(縦方向)に90℃で2.5倍、さらに縦方向
に℃で1.26倍延伸し、横方向に115℃で4.6倍
延伸し、210℃で4秒間熱処理を行い、さらに200
℃で3%横方向に弛緩処理して二軸配向積層フィルムを
得た。フィルムの全厚さは15μm、それぞれの積層厚
みは表1にまとめたとおりであった。また、実施例2に
おいて、得られたフィルムのA層の極限粘度は0.61
0、B層の極限粘度は0.570であった。
【0060】比較例1 実施例1において、架橋高分子粒子の組成をエチレング
リコールモノメタクリレート7部、スチレン2部および
ジビニルベンゼン1部とする以外は実施例1と同様にし
て、二軸延伸積層ポリエステルフィルムを得た。 比較例2 実施例1におけるポリエステルB、C、Dの原料のみを
用いる以外は実施例1同様にして、二軸延伸積層ポリエ
ステルフィルムを得た。
【0061】比較例3および4 架橋高分子粒子の粒径が本発明の範囲の上限および下限
を超えるものを用いたこと以外は実施例1と同様にし
て、二軸延伸積層ポリエステルフィルムを得た。 比較例5および6 実施例1において、縦方向の引っ張り破壊伸び(EMD
と横方向引っ張り破壊伸び(ETD)の比が本発明の範囲
外になるように、縦方向および横方向の延伸倍率および
弛緩率を変えること以外は、実施例1と同様にして、二
軸延伸積層ポリエステルフィルムを得た。
【0062】比較例7 実施例1において、架橋高分子粒子の添加量を本発明の
範囲外になるようにすること以外は実施例1と同様にし
て、二軸延伸積層ポリエステルフィルムを得た。実施例
および比較例で得られたフィルムに磁性層を塗布して磁
気テープを得、その特性を評価した。下記表1〜3にそ
れぞれのフィルム特性と、磁気テープの評価結果を示
す。
【0063】
【表1】
【0064】
【表2】
【0065】
【表3】
【0066】
【表4】 本発明の要件を満たす実施例1および2のフィルムは、
走行性、耐摩耗性、耐擦り傷性に優れ、磁気テープ特性
において高度に満足するレベルである。これに対し比較
例1〜7のフィルムは本発明の要件を満たさないフィル
ムの例であるが、耐摩耗性、耐擦り傷性、磁気テープ特
性に劣るものである。
【0067】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明のフィルム
は、磁気記録媒体用ベースフィルムとして、フィルム製
造時および磁気記録媒体製造時のスリット性に優れ、磁
気記録媒体としての走行性および電磁変換特性を高度に
満足でき、かつドロップアウト発生防止の点で優れお
り、擦り傷や摩耗粉の発生が極めて少なく、しかも生産
性、コスト面で優れたものであり、その工業的価値は非
常に大きい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4F071 AA01 AA33 AA43 AB18 AB21 AD02 AD06 AD07 AE11 AH14 BA01 BB06 BB08 BC01 BC02 BC16 4F100 AA08 AA19 AK01A AK25 AK41A AK41B AK41C AK42 AL01 BA02 BA03 BA06 BA10A BA10C BA16 BA25 BA26 DE01A EJ05A EJ38 GB41 JG00 JK02 JK03 JK12A JK14 JL00 YY00A 4J002 BC022 BC082 BE042 BF022 BG012 BG042 BG052 BH002 CF051 CF061 CF081 DB017 DD036 DE136 DE146 DE147 DE236 DG026 DG046 DH046 DJ007 DJ016 DJ036 DJ046 DK007 EG056 FA082 FD016 FD017 GS01 5D006 CB01 CB05 CB06 CB07 CB08 FA05 FA09

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平均粒径dA が0.8〜1.5μmであ
    って、粒度分布値(d25/d75)が1.0〜2.0、か
    つ粒子変形度が1.5〜5.0の架橋高分子粒子Aを
    0.001〜0.05重量%、平均粒径dB が0.2〜
    0.6μmである不活性微粒子Bを0.1〜1.0重量
    %、および平均一次粒径dC が0.3μm以下でかつモ
    ース硬度が7以上である不活性微粒子Cを0.1〜1.
    0重量%含有するポリエステルA層をポリエステルB層
    に積層してなる二軸配向ポリエステルフィルムであっ
    て、下記式(1)〜(4)を同時に満足することを特徴
    とする二軸配向ポリエステルフィルム。 【数1】 0.010≦RMS≦0.025 ‥‥‥(2) 0.005≦SRa≦0.020 ‥‥‥(3) 0.200≦P−V≦0.350 ‥‥‥(4) (上記式中、EMDはフィルム縦方向の引っ張り破断伸度
    (%)、ETDはフィルム横方向の引っ張り破断伸度
    (%)、RMSはポリエステルA層表面の自乗平均平方
    根粗さ(μm)、SRaはポリエステルA層表面の平均
    面粗さ(μm)、P−VはポリエステルA層表面の最大
    粗さ(μm)を表す)
  2. 【請求項2】 ポリエステルB層に、ポリエステルA層
    を構成するポリエステル組成物からなるC層を積層して
    なる、A/B/C構成のフィルムであって、C層の厚み
    がA層の厚みの0.1〜0.8倍であり、A層表面の平
    均面粗さとC層表面の平均面粗さとの差が1〜10nm
    の範囲であることを特徴とする請求項1または2記載の
    磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008255236A (ja) * 2007-04-05 2008-10-23 Mitsubishi Plastics Ind Ltd 光学用ポリエステルフィルム
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