JP3149546B2 - 二軸配向ポリエステルフィルム - Google Patents

二軸配向ポリエステルフィルム

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JP3149546B2 JP17855792A JP17855792A JP3149546B2 JP 3149546 B2 JP3149546 B2 JP 3149546B2 JP 17855792 A JP17855792 A JP 17855792A JP 17855792 A JP17855792 A JP 17855792A JP 3149546 B2 JP3149546 B2 JP 3149546B2
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一夫 遠藤
一弘 椚原
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はポリエステル中における
分散性を改良した架橋高分子粒子を含有してなる二軸配
向ポリエステルフィルムに関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】ポリ
エステル、特にポリエチレンテレフタレートを原料とす
るポリエステルフィルムは優れた物理的、化学的特性を
有することから産業用資材として広く用いられている
が、近年各用途において高級志向が著しくなりフィルム
表面が均一であることが強く望まれるようになった。さ
らに、摩耗特性の点の改良も待望されていおり、特に厳
しい品質が要求される磁気記録用途においてはこれらの
点を高度に満足する必要がある。従来、ポリエステルフ
ィルムの走行性および耐摩耗性を改良する手段として
は、フィルムに粒子を含有させて、その表面を適度に粗
面化する方法が知られており、ある程度その改良がなさ
れているが、必ずしも十分な結果は得られていない。例
えば、粒子としてポリエステル製造時の触媒残渣等から
のいわゆる析出粒子を用いた場合は、延伸により析出粒
子が破壊されやすいため、走行性や耐摩耗性が劣り、ま
た再生使用も困難である。また、酸化ケイ素、硫酸バリ
ウム、二酸化チタン、リン酸カルシウム等のポリエステ
ルに不活性な無機化合物粒子を添加した場合は、延伸に
より粒子が破壊、変形されることはなく、比較的急峻な
突起を与えることができ、走行性は改良されるが、通常
それらの粒子の粒度分布は広く、粒子の脱落も生じやす
いため、例えば磁気記録媒体用として用いた場合、しば
しば電磁変換特性の悪化やドロップアウトの多発を引き
起こしてしまう。
【0003】これらの点を克服するため、ポリエステル
との親和性に優れる有機の架橋高分子微粒子を用いるこ
とが提案されている。しかしながら、一般に有機の架橋
高分子微粒子は耐熱性が劣り、ポリエステル重合時ある
いは溶融成形時に軟化しやすく、これらに起因しポリエ
ステル中で必ずしも良好な分散性を示さず、しばしば凝
集し粗大粒子として挙動してしまい、前述の無機粒子の
場合と同様、例えば磁気記録媒体用として用いた場合、
しばしば電磁変換特性の悪化やドロップアウトの多発を
引き起こしてしまう。このように、これまでフィルムの
表面均一性、走行性および耐摩耗性を高度なレベルで満
足するポリエステルフィルムは得られていないのが実情
である。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる実
情に鑑み、走行性と耐摩耗性とを同時に高度に満たし、
フィルムとして必要な諸特性をも十分に満足し得る優れ
た二軸配向ポリエステルフィルムを提供すべく鋭意検討
を重ねた結果、ある特定の架橋高分子粒子を配合するな
らば、かかる要求特性を満たすことができることを知見
し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明の要旨
は、遠心沈降式粒度分布測定装置で測定した平均粒径が
0.01〜3μmで下記式に定義する界面活性剤の被覆
率が5%以上である架橋高分子粒子を0.01〜3重量
%含有してなる二軸配向ポリエステルフィルムに存す
る。
【0005】
【数2】 [上記式中、界面活性剤占有面積は架橋高分子粒子表面
の界面活性剤占有面積(m2 /g)、比表面積はBET
法で測定した架橋高分子粒子の比表面積(m2 /g)を
表す]
【0006】以下、本発明を詳細に説明する。本発明で
いうポリエステルとは、芳香族ジカルボン酸またはその
エステルとグリコールとを主たる出発原料として得られ
るポリエステルであり、繰り返し構造単位の80%以上
がエチレンテレフタレート単位またはエチレン−2,6
−ナフタレート単位を有するポリエステルを指す。そし
て、上記の範囲を逸脱しない条件下に他の第三成分を含
有していてもよい。芳香族ジカルボン酸成分としては、
例えば、テレフタル酸および2,6−ナフタレンジカル
ボン酸以外に、例えば、イソフタル酸、フタル酸、アジ
ピン酸、セバシン酸、オキシカルボン酸(例えば、p−
オキシエトキシ安息香酸等)等を用いることができる。
グリコール成分としては、エチレングリコール以外に、
例えば、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノ
ール、ネオペンチルグリコール等の一種または二種以上
を用いることができる。
【0007】本発明に適用し得る架橋高分子粒子として
は分子中に唯1個の脂肪族の不飽和結合を有するモノビ
ニル化合物(A)の一種以上と、架橋剤として分子中に
2個以上の脂肪族の不飽和結合を有する化合物(B)の
一種以上とを特定量の界面活性剤の存在下、乳化重合法
で共重合させることにより本発明に用いる架橋高分子粒
子を得ることができる。ここで言う乳化重合法とは、シ
ード乳化重合等の概念も包括した広義の乳化重合を指
す。なお、本発明で用いる化合物(A)としては、アク
リル酸、メタクリル酸およびこれらのアルキルまたはグ
リシジルエステル、無水マレイン酸およびそのアルキル
誘導体、ビニルグリシジルエーテル、酢酸ビニル、スチ
レン、アルキル置換スチレン等を挙げることができる。
また、化合物(B)としてはジビニルベンゼン、ジビニ
ルスルホン、エチレングリコールジメタクリレート、
1,4ブタンジオールジアクリレート等を挙げることが
できる。化合物(A)および(B)は各々一種類以上用
いるが、窒素原子を有する化合物やエチレンを共重合さ
せてもよい。
【0008】本発明に用いる架橋高分子粒子を被覆する
界面活性剤としては脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル
塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルスルホ
コハク酸塩、アルキルナフタレンスルフォン酸塩、アル
キルジフェニルエーテルジスルフォン酸塩、アルキルリ
ン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルまたはアルキルア
リル硫酸エステル塩等の陰イオン性界面活性剤やポリオ
キシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンア
ルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレン誘導体、ポ
リオキシエチレン−オキシプロピレンブロックコポリマ
ー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソ
ルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビト
ール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル等の非
イオン性界面活性剤やアルキルアミン塩、第4級アンモ
ニウム塩等の陽イオン界面活性剤およびアルキルベタイ
ン、アミンオキサイド等の両性界面活性剤である。その
中でも特にアルキルジフェニルエーテルジスルフォン酸
塩で代表される陰イオン性界面活性剤が好適に用いられ
る。
【0009】本発明で用いる架橋高分子粒子表面の界面
活性剤の被覆率は5%以上、好ましくは10%以上であ
る。架橋高分子粒子表面の界面活性剤の被覆率が5%未
満ではポリエステル中での分散性改良がほとんど達成さ
れない。本発明において用いる界面活性剤で被覆された
架橋高分子粒子の平均粒径は0.01〜3μm、好まし
くは0.05〜2μm、さらに好ましくは0.1〜1.
5μmである。平均粒径が0.01μm未満ではフィル
ムの走行性や耐摩耗性が不十分である。また3μmを超
えると表面粗度が大きくなり過ぎ好ましくない。本発明
においては、架橋高分子粒子の重量平均粒径(Dw)と
数平均粒径(Dn)との比(Dw/Dn)は通常、1.
3以下であり、好ましくは1.2以下、さらに好ましく
は1.1以下である。この値が1.3を超えるとフィル
ム表面の均一性が損なわれることがある。また、用いる
粒子は多孔質であってもそうでなくてもよいが、前者の
ほうがポリエステルとの親和性により優れているので好
ましい。
【0010】本発明で用いる架橋高分子粒子のガラス転
移温度は通常90℃以上、好ましくは110℃以上とす
る。ガラス転移温度が90℃未満の粒子は延伸時の強い
応力で変形してしまうことがある。本発明における特定
の被覆率を有する架橋高分子粒子製造の一態様を示すと
次ぎのとおりである。すなわち、水媒体中に所定量の界
面活性剤と水溶性の重合開始剤である過酸化水素、過硫
酸カリウム等の開始剤を所定量溶解した後、所定量の化
合物(A)および(B)の混合溶液を添加する。しかる
後、重合開始剤の分解開始温度以上、好ましくは30〜
90℃で攪拌下3〜10時間程度の反応を行う。この場
合、粒子は均一に分散した水スラリーとして得られるの
でポリエステルに配合するためにエチレングリコールス
ラリーに置換するか、乾燥した粒子として取り出すこと
が好ましい。いずれにしても、本発明の要旨を満たすな
らば、架橋高分子粒子の製造法は問わない。
【0011】本発明において、上記架橋高分子粒子のポ
リエステル中における配合量は、0.01〜3重量%、
好ましくは0.05〜2重量%である。配合量が0.0
1重量%未満ではフィルムの滑り性や耐摩耗性が不十分
であるし、逆に3重量%を超えるとフィルムの表面粗度
が大きくなり過ぎ電磁気特性が低下するので好ましくな
い。本発明で用いる架橋高分子粒子を製膜原料のポリエ
ステルに配合する方法は特に限定されるものではなく、
公知の方法を採用し得る。例えば、粒子をエチレングリ
コールスラリー分散体として得た場合には、ポリエステ
ル製造工程のいずれかの段階、好ましくはエステル化も
しくはエステル交換反応終了後、重縮合反応開始前の段
階で添加し重縮合反応を進めるとよい。
【0012】このように本発明は、ある特定な架橋高分
子粒子を用いるが、その効果が特に顕著となるのは、か
かる粒子と幾つかの次の要件が組み合わされたときであ
る。第一は、エチレンテレフタレート単位を80モル%
以上含むフィルムの場合、フィルムの厚み方向の屈折率
を1.492以上とすることである。このとき、易滑性
および耐摩耗性の改良効果が顕著となり、磁性層との接
着性も向上する。フィルムの厚み方向の屈折率は、好ま
しくは1.494〜1.505である。かかる物性を有
するフィルムは、例えば逐次二軸延伸の場合、縦延伸温
度を通常の延伸温度よりも5〜30℃高い85〜115
℃程度とすることによって得ることができる。
【0013】また、幅方向の屈折率(nTD)と長手方向
の屈折率(nMD)との差(Δn;n TD−nMD)が0.0
10以上の場合に裁断性がより優れ、磁気テープのベー
スフィルムとして適したものとなる。ここでいう裁断性
とは、磁気テープをシェアーカッター等でスリットする
際の特性であり、裁断性が悪い場合には、切り口が筋状
にめくれ上がったり、切り口からヒゲや粉が発生したり
する。かかる現象が生じた場合、テープに白粉が付着
し、電磁変換特性を悪化させたり、ドロップアウトを誘
起する。Δnは、好ましくは0.020以上、さらに好
ましくは0.025以上、特に好ましくは0.035以
上である。Δnが余り大きすぎる場合は、熱収縮率等の
不都合が生じるため、Δnの上限は、0.060とする
ことが好ましい。さらに、ポリエステルフィルムの極限
粘度は、0.52〜0.62が好ましく、0.54〜
0.59がさらに好ましい。極限粘度が低いほど、フィ
ルムの裁断性が良好であるが、極限粘度が0.52未満
の場合は、製膜時にフィルム破断が発生しやすくなる傾
向がある。一方、極限粘度が0.62を超える場合は、
フィルムの裁断性改良効果が不十分となることがある。
【0014】本発明の効果が特に発揮される第二の組み
合わせは、エチレンテレフタレート単位を80モル%以
上含むフィルムの場合、フィルムの縦方向のヤング率と
横方向のヤング率の和を900kg/mm2 以上、好ま
しくは1000kg/mm2以上、さらに1100kg
/mm2 以上としたときである。通常このように高強度
となるように強く延伸された場合は、フィルム表層から
粒子が脱落しやすく耐摩耗性が悪化するが、本発明の粒
子を用いた場合にはかかる粒子脱落現象が減少する傾向
にある。このような高強度フィルムは、例えば次の製膜
方法により得ることができる。すなわち、実質的に無配
向の未延伸シートを80℃〜120℃で縦方向に、3.
0〜6.0倍、次いで横方向に3.0〜6.0倍延伸
し、170℃〜240℃にて熱処理する方法である。も
ちろん縦横に逐次二軸延伸あるいは同時二軸延伸し、さ
らに110℃〜180℃の温度で縦方向に1.05〜
2.5倍再延伸を行った後、熱処理する方法も採り得
る。この際、再縦延伸前熱固定、再縦延伸後縦弛緩、再
縦延伸前または後微小倍率縦延伸等の手法を適宜採用も
可能である。また、同様に横方向に再延伸を行ってもよ
い。
【0015】本発明の効果が特に発揮される第三の組み
合わせは、ポリエチレン−2,6−ナフタレート単位を
80モル%以上含むフィルムに粒子を配合した場合であ
る。ポリエステルフィルムの中でも特にポリエチレン−
2,6−ナフタレート単位を80モル%以上含むフィル
ムは、機械的強度や耐熱性に優れていることから注目さ
れているが、フィルムの走行速度や張力の点においてし
ばしばより厳しい条件下で使用されるので、特に耐摩耗
性の改良が望まれている。特に、本発明で用いる粒子を
含むフィルムの縦方向のヤング率と横方向のヤング率の
和を1300kg/mm2 以上、さらには1400kg
/mm2 以上、特には1500kg/mm2 以上とした
場合に、その耐摩耗性の改良効果が顕著となる。ポリエ
チレン−2,6−ナフタレートの場合、延伸温度を高く
する以外はポリエチレンテレフタレートと同様な手法に
より、かかる高強度フィルムを得ることができる。すな
わち、実質的に無配向の未延伸シートを90℃〜180
℃で縦方向に、3.0〜6.0倍、次いで横方向に3.
0〜6.0倍延伸し、180℃〜260℃にて熱処理す
る方法である。もちろん縦横に逐次二軸延伸あるいは同
時二軸延伸し、さらに140℃〜200℃の温度で縦方
向に1.05〜4.0倍再延伸を行った後、熱処理する
方法も採り得る。この際、再縦延伸前熱固定、再縦延伸
後縦弛緩、再縦延伸前または後微小倍率縦延伸等の手法
を適宜採用も可能である。また、同様に横方向に再延伸
を行ってもよい。
【0016】本発明においては、その要旨を超えない範
囲で、他の粒子を一種以上併用して、さらにフィルムの
走行性、耐摩耗性、耐擦傷性等を改良することが可能で
ある。かかる粒子の一つとして析出粒子を挙げることが
できる。ここでいう析出粒子とは、例えばエステル交換
触媒としてアルカリ金属またはアルカリ土類金属化合物
を用いた系を常法により重合することにより反応系内に
析出するものを指す。また、エステル交換反応あるいは
重縮合反応時にテレフタル酸を添加することにより析出
させてもよい。これらの場合、リン酸、リン酸トリメチ
ル、リン酸トリエチル、リン酸トリブチル、酸性リン酸
エチル、亜リン酸、亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリ
エチル、亜リン酸トリブチル等のリン化合物の一種以上
を存在させてもよい。また、エステル化工程を経る場合
にもこれらの方法で不活性物質粒子を析出させることが
できる。例えば、エステル化反応終了前または後にアル
カリ金属またはアルカリ土類金属化合物を存在させ、リ
ン化合物の存在下あるいは非存在下に重縮合反応を行
う。いずれにしても本発明でいう析出粒子にはカルシウ
ム、リチウム、アンチモン、リン等の元素が一種以上含
まれている。
【0017】また併用する粒子の一つとして添加粒子も
用いることができる。ここでいう添加粒子とは、ポリエ
ステルに外部から添加する粒子を指すが、具体的にはカ
オリン、タルク、カーボンブラック、硫化モリブデン、
石膏、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、フッ化リチウ
ム、フッ化カルシウム、ゼオライト、リン酸カルシウ
ム、二酸化ケイ素、二酸化チタン等を挙げることができ
る。本発明において併用する粒子は、その平均粒径が本
発明の架橋高分子粒子の平均粒径より大きい場合には、
架橋高分子粒子と同量以下が好ましく、0.005〜
0.5倍重量がさらに好ましく、0.01〜0.3倍重
量が特に好ましい。一方、その平均粒径が本発明の架橋
高分子粒子の平均粒径より小さい場合には、架橋高分子
粒子と同量以上が好ましく、1〜20倍重量がさらに好
ましい。
【0018】近年、耐擦傷性の改良が求められており、
併用する粒子として特に酸化アルミニウムを選択するこ
とが好ましい。特に二次凝集体の平均粒径が0.5μm
以下が好ましく、0.1μm以下のデルタ型もしくはガ
ンマ型がさらに好ましく、0.1μm以下のデルタ型が
特に好ましく用いられる。これらの粒子の製造法として
は、例えば熱分解法、すなわち無水塩化アルミニウムを
原料として火焔加水分解させる方法、あるいはアンモニ
ウム明ばん熱分解法、すなわち水酸化アルミニウムを原
料として硫酸と反応させて硫酸アルミニウムとした後硫
酸アンモニウムと反応させてアンモニウム明ばんとして
焼成する方法等を挙げることができる。これらの方法に
より得られる酸化アルミニウムの一次粒径は、通常、5
〜40nmの範囲にあるが、しばしば0.5μmを超え
る凝集体を形成しているので、適度に解砕して使用する
ことが望ましい。本発明においては平均粒径の異なる架
橋高分子粒子を二種以上用いてもよく、特に、巻き特性
および走行性改良等を目的として、大粒子の架橋高分子
粒子と小粒子の架橋高分子粒子を組み合わせることが好
ましい。ここで大粒子の架橋高分子粒子とは、平均粒径
が0.5〜2μmのものを指し、含有量は0.005〜
0.15重量%が特に好ましく、一方、小粒子の架橋高
分子粒子とは、平均粒径が0.10〜0.8μmのもの
を指し、含有量は0.20〜3.0重量%が特に好まし
い。
【0019】このように特定の架橋高分子粒子と必要に
応じ酸化アルミニウム粒子を始めとする他の粒子を配合
することにより、極めて優れた、特に磁気記録媒体用に
適したポリエステルフィルムを得ることが可能となる。
本発明で用いる粒子は、ポリエステルの合成反応中に添
加することが好ましい。特に、エステル交換反応または
エステル化反応終了後、重縮合反応開始前に添加するこ
とが好ましい。なお、添加する粒子は、通常、エチレン
グリコールのスラリーとして添加するが、必要に応じ事
前に解砕、分散、分級、濾過等の処理を施しておいても
よい。添加するエチレングリコール中のスラリー濃度は
通常5〜50重量%、好ましくは10〜40%とする。
スラリーの粒子濃度が3重量%未満では、エチレングリ
コールの使用量が増し、エチレングリコールの原単位が
大きくなる。また、粒子濃度が50重量%を超えたスラ
リーを添加すると、粒子の分散性が悪化することがあ
る。なお、ポリエステル合成の重縮合反応触媒として
は、Sb,Ti,Ge,Sn,Si化合物等の通常用い
られている触媒が使用される。
【0020】本発明のフィルム表面の中心線平均粗さ
(Ra)は、0.005〜0.1μmが好ましく、0.
007〜0.08μmがさらに好ましく、0.01〜
0.03μmが特に好ましい。さらに、本発明のフィル
ムの最大突起高さ(Rt)と中心線平均粗さ(Ra)の
比、Rt/Raは15以下であることが好ましく、12
以下であることがさらに好ましく、5以上10以下が特
に好ましい。Rt/Ra値が15を超える場合、走行性
または耐摩耗性が劣る傾向がある。本発明のフィルム
は、本発明の構成要件を満足していれば、単層または2
層以上の積層フィルムであってもよい。本発明のフィル
ムはビデオテープ用のベースフィルムとして賞用される
ほか、オーディオ用、フロッピーディスク用のそれとし
て用いた場合にも特に効果を発揮し得る。もちろん必要
に応じ、コンデンサーの誘電体用、包装用、製版用、そ
の他の用途に用いることも可能である。
【0021】
【実施例】以下、本発明を実施例を挙げてさらに詳細に
説明するが、本発明は、その要旨を越えない限り、以下
の実施例によって限定されるものではない。なお、実施
例における種々の物性および特性の測定方法、定義は下
記のとおりである。実施例および比較例中「部」とある
は「重量部」を示す。 (1)平均粒径および粒度分布値 島津製作所製遠心沈降式粒度分布測定装置(SA−CP
3型)で測定した等価球形分布における積算体積分率5
0%の粒径d50を平均粒径とした。なお、この値は重量
平均粒径(Dw)であるが、同時に数平均粒径(Dn)
も求め両者の比(Dw/Dn)を粒度分布の指標とし
た。
【0022】(2)被覆率(架橋高分子粒子表面の界面
活性剤の被覆率) 蛍光X線分析法(理学電気社 System 3370
型蛍光X線分析装置)により粒子表面の界面活性剤中の
S元素含有量を定量して粒子表面の界面活性剤量を求
め、BET法により測定した粒子の比表面積と界面活性
剤の分子占有面積から被覆率を算出した。
【数3】
【0023】(3)フィルムの極限粘度 ポリマー1gをフェノール/テトラクロロエタン=50
/50(重量比)の混合溶媒100ml中に溶解し、3
0℃で測定した。 (4)フィルムの屈折率 アタゴ光学社製アッベ式屈折計を用い、フィルムの厚さ
方向の屈折率(nα)、幅方向の屈折率(nTD)および
長手方向の屈折率(nMD)を測定した。なお、屈折率の
測定はナトリウムD線を用いた。 (5)ヤング率(引張弾性率) (株)インテスコ製 引張試験機インテスコモデル20
01型を用いて、温度23℃、湿度50%RHに調節さ
れた室内において、長さ300mm、幅20mmの試料
フィルムを、10%/minの歪速度で引張り、引張応
力−歪曲線の初めの直線部分を用いて次式によってヤン
グ率(E)を計算した。 E=Δσ/Δε (上記式中、E、Δσ、Δεはそれぞれヤング率(kg
/mm2 )、直線上の2点間の元の平均断面積による応
力差、同じ2点間の歪差を表す)
【0024】(6)フィルム表面の平均粗さおよび粗さ
の均一性 日本工業規格JIS B0601に記載されている方法
に従い、(株)小坂研究所製 表面粗さ測定機(SE−
3F)を用いて、中心線平均粗さ(Ra)および最大高
さ(Rt)を求めた。使用した触針の半径は、2.0μ
m、荷重は30mgであり、カットオフ値は0.08m
mである。Rt/Raが小さいほど表面が均一である。 (7)走行性 フィルムの滑り性により評価した。滑り性は、固定した
硬質クロムメッキ金属ロール(直径6mm)にフィルム
を巻き付け角(θ)135°で接触させ、53g)の荷
重を一端にかけて、1m/minの速度でこれを走行さ
せ、他端の抵抗力(T1 ,g)を測定し、次式により走
行中の摩擦係数(μd)を求めた。μd=0.424・
ln(T1 /53)
【0025】(8)粗大突起数 フィルム表面にアルミニウムを蒸着し、ニコンオプチフ
ォト干渉顕微鏡を用い、二光束法にて測定した。測定波
長は0.54μmで3次以上の干渉縞を示す突起(突起
高さ0.81μm以上)個数を100cm2 の面積にわ
たり測定し、粗大突起数とした。 (9)摩耗特性 固定した直径6mmの硬質クロム製固定ピン(材質SU
S420−J2、仕上げ0.2S)に幅10mmのフィ
ルムを巻きつけ角135°で接触させ、速度は11.4
m/min、初期張力300gで、200mのフィルム
を計5000mにわたって走行させ、ピンに付着した摩
耗白粉量を目視評価し、下に示すランク別に評価を行っ
た。 ランクA:全く付着しない ランクB:微量付着する ランクC:少量(ランクBよりは多い)付着する ランクD:極めて多く付着する
【0026】(10)フィルムの巻き特性 ポリエステルフィルムの巻き取り作業時のロールの巻き
ずれ、シワ入りおよび巻き姿等の良否を総合的に判断し
た。 (11)磁気テープ特性 磁性微粉末200部、ポリウレタン樹脂30部、ニトロ
セルロース10部、塩化ビニル−酢酸セルロース共重合
体10部、レシチン5部、シクロヘキサノン100部、
メチルイソブチルケトン100部、およびメチルエチル
ケトン300部をボールミルにて48時間混合分散後、
ポリイソシアネート化合物5部を加えて磁性塗料とし、
これをポリエステルフィルムに塗布し、塗料が十分乾燥
固化する前に磁気配向させた後乾燥し、2μmの膜厚の
磁性層を形成した。次いでこの塗布フィルムを、鏡面仕
上げの金属ロールとポリエステル系複合樹脂ロールとか
ら構成されている5段のスーパーカレンダーを用い、ロ
ール温度85℃、線圧250kg/cm、走行速度80
m/minの条件下、5000mにわたって7回繰り返
し走行させ、樹脂ロールに付着する白粉量を目視評価
し、下に示すランク別に評価を行った。 〇…樹脂ロールに白粉の付着はほとんど見られない △…極く僅かな白粉の付着が見られる ×…明らかに白粉の付着が見られる 次いで、カレンダー処理後のフィルムを1/2インチ幅
にスリットした後、松下電気製NV−3700型ビデオ
デッキにより、常速にて下記の磁気テープ特性を評価し
た。
【0027】(A)電磁変換特性(VTRヘッド出力) シンクロスコープにより測定周波数が4メガヘルツにお
けるVTRヘッド出力を測定し、基準テープと比較し下
に示すランク別に評価を行った。 ◎…基準テープより非常に優れる 〇…基準テープと同等である △…基準テープより劣る ×…明らかに基準テープより劣り、実用に耐えない (B)最大ドロップアウト数 4.4メガヘルツの信号を記録したビデオテープを再生
し、大倉インダストリー(株)ドロップアウトカウンタ
ーでドロップアウト数を約20分間測定し、1分間当り
のドロップアウト数に換算した。その測定を20回繰り
返し、換算値の最大値を最大ドロップアウト数とした。
【0028】(12)耐擦傷性 幅1/2インチにスリットした磁気テープを直径6mm
の硬質クロムメッキ金属ピン(仕上げ3S)にフィルム
を巻きつけ角135°、走行速度3m/sec、張力5
0gで磁気テープのベースフィルム面を1回擦過させ
た。次に擦過面にアルミニウムを約1000Å厚となる
よう真空蒸着し、傷の量を目視により観察し、下記判定
を行った。 ランク1:傷の量が極めて多い ランク2:傷の量が多い ランク3:傷の量が2、4の中間 ランク4:傷の量が少ない ランク5:傷が付かない
【0029】実施例1 [架橋高分子粒子の製造]脱塩水1500部に水溶性重
合開始剤の過硫酸カリウム3.2部と陰イオン界面活性
剤のラウリル硫酸ナトリウム(商品名:エマール 0
花王株式会社製)1部を添加し均一に溶解させた後、エ
チレングリコールジメタクリレート65部、メチルメタ
クリレート10部、1.4ブタンジオールジアクリレー
ト5部およびジビニルベンゼン20部の混合溶液を加え
た。次いで、窒素ガス雰囲気下で攪拌しながら70℃−
12時間重合反応を行った。反応率は98%で得られた
粒子の平均粒径は0.50μm、粒度分布値(Dw/D
n)は1.05、界面活性剤の被覆率は50%であっ
た。また、得られた粒子を電子顕微鏡で観察したところ
ほぼ球状であった。得られた粒子の水スラリーにエチレ
ングリコール2000部を加え、加熱減圧下で水を留去
しエチレングリコールスラリーを得た。
【0030】[ポリエステルの製造]ジメチルテレフタ
レート100部、エチレングリコール60部および酢酸
マグネシウム4水塩0.09部を反応器にとり、加熱昇
温するとともにメタノールを留去してエステル交換反応
を行い、反応開始から4時間を要して230℃まで昇温
し、実質的にエステル交換反応を終了した。次いで、上
記スラリー8部を添加後、さらにリン酸0.03部、三
酸化アンチモン0.04部を加えて4時間重縮合反応を
行い、極限粘度 0.61のポリエチレンテレフタレー
トを得た。その内部を顕微鏡で観察したところ、粒子が
均一に分散していることが確認された。
【0031】[ポリエステルフィルムの製造]得られた
ポリエステルを乾燥後、290℃で溶融押出し、無定形
シートを得、シートの流れ方向(縦方向)に93℃で
3.5倍、横方向に110℃で3.5倍延伸し、220
℃で3秒間熱処理を行い、厚さ15μmのフィルムを得
た。得られたフィルムのヤング率は縦方向が430kg
/mm2 、横方向が440kg/mm2 であった。また
フィルムの極限粘度は0.59であった。得られたフィ
ルムに磁性層を塗布し磁気テープを得、その特性を測定
した。
【0032】実施例2 実施例1で用いた架橋高分子粒子を用い、フィルムの厚
さ方向の屈折率を1.490とする以外は実施例1と同
様にしてフィルムを得、その特性を評価した。 実施例3 実施例1で用いた架橋高分子粒子を用い、フィルムの複
屈折率を0.006とする以外は実施例1と同様にして
フィルムを得、その特性を評価した。
【0033】比較例1 実施例1で用いた架橋高分子粒子の被覆率を2%とする
以外は実施例1と同様にしてフィルムを得、その特性を
評価した。 比較例2 実施例1において、平均粒径が0.45μm、粒度分布
値(Dw/Dn)=1.35のカオリン粒子を用い、表
2に示す含有量とするほかは実施例1と同様にしてポリ
エチレンテレフタレートフィルムを得、その特性を評価
した。
【0034】実施例4 実施例1で用いた架橋高分子粒子と共に一次粒径が0.
02μm、平均二次粒径が0.08μmであるデルタ型
の酸化アルミニウムを表2に示すように配合するほかは
実施例1と同様にしてフィルムを得、その特性を評価し
た。なお、フィルムの極限粘度は0.59であった。 実施例5 実施例1で用いた架橋高分子粒子を用い、実施例1のフ
ィルム製造と同様に縦および横方向に延伸した後、13
0℃で縦方向に1.08倍延伸を行い、縦方向に強化さ
れた厚み9.8μmのフィルムを得、その特性を評価し
た。
【0035】実施例6 実施例1のポリエステルの製造において、ジメチルテレ
フタレートの代わりにジメチル−2,6−ジメチルナフ
タレートを用いるほかは実施例1と同様にしてエステル
交換反応を行った。次いで、実施例1で用いた架橋高分
子粒子含有エチレングリコールスラリー8部を添加し、
さらにリン酸0.03部、三酸化アンチモン0.04部
を加えて常法により重縮合反応を行い、極限粘度0.5
9のポリエチレン−2,6−ナフタレートを得た。得ら
れたポリマーを0.3mmHg、235℃で7時間固相
重合し、極限粘度0.68のポリエチレン−2,6−ナ
フタレートを得、295℃で押出機よりシート状に押し
出し、静電印加冷却法を用いて厚さ100μmの無定形
シートを得た。次いで、140℃で縦方向に4.2倍、
テンターで横方向に3.9倍延伸した後、220℃で5
秒間熱処理を行い、厚み8μmのポリエチレン−2,6
−ナフタレートフィルムを得、その特性を評価した。
【0036】比較例2 比較例1で用いた粒子を用い、実施例6と同様にしてフ
ィルムを得、その特性を評価した。 実施例7 実施例5で用いた架橋高分子粒子と共に一次粒径が0.
02μm、平均二次粒径が0.08μmであるデルタ型
の酸化アルミニウムを表2に示すように配合し、かつ縦
方向のヤング率を1010kg/mm2 とするほかは実
施例6と同様にしてポリエチレン−2,6−ナフタレー
トフィルムを得、その特性を評価した。
【0037】
【表1】
【0038】
【表2】
【0039】
【表3】
【0040】
【発明の効果】本発明のフィルムは、均一微細な表面構
造を有し、耐摩耗性および走行性に優れ、各種用途に適
用でき、その工業的価値は高い。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08J 5/18 B29C 55/12

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 遠心沈降式粒度分布測定装置で測定した
    平均粒径が0.01〜3μmで、下記式に定義する界面
    活性剤の被覆率が5%以上である架橋高分子粒子を0.
    01〜3重量%含有してなる二軸配向ポリエステルフィ
    ルム。 【数1】 [上記式中、界面活性剤占有面積は架橋高分子粒子表面
    の界面活性剤占有面積(m2/g)、比表面積はBET
    法で測定した架橋高分子粒子の比表面積(m2/g)を
    表す]
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