CN108139697A - 电子照相用感光体、其制造方法以及电子照相装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供即使长期使用时磨耗也少且能实现稳定图像的电子照相用感光体、其制造方法以及电子照相装置。该电子照相用感光体具备导电性基体(1)和形成于导电性基体(1)上且包含无机氧化物的感光层，对20质量％无机氧化物浆料照射波长780nm的光时的光的透射率在40％以上；所述20质量％无机氧化物浆料通过将20质量％的无机氧化物分散在用于涂布形成感光层的感光层涂布液用的溶剂中而形成。

Description

电子照相用感光体、其制造方法以及电子照相装置
技术领域
本发明涉及用于电子照相方式的打印机或者复印机、传真等的电子照相用感光体(以下也简称为“感光体”)、其制造方法及电子照相装置，特别涉及通过在感光层中具有特定的无机氧化物以实现优异的耐磨耗性或电特性的稳定性的电子照相用感光体、其制造方法及电子照相装置。
背景技术
电子照相用感光体以在导电性基体上设置具有光导电功能的感光层的结构作为基本结构。近年来，对于使用有机化合物作为担负电荷的产生或输送的功能成分的有机电子照相用感光体，利用材料的多样性及高生产性、安全性等的优点，积极地开展研究开发，进行着往复印机及打印机等的应用。
通常对于感光体要有在暗处保持表面电荷的功能、或者接受光产生电荷的功能，还需要输送所产生的电荷的功能。作为此种感光体，存在有具备同时具有这些功能的单层感光层的所谓单层型感光体；以及主要具备层叠电荷产生层和电荷输送层进行功能分离的层而成的感光层的所谓层叠型(功能分离型)感光体，其中的电荷产生层担负在接受光时的电荷产生的功能，其中的电荷输送层担负在暗处保持表面电荷的功能以及输送接受光时电荷产生层所产生的电荷的功能。
上述感光层一般是通过将电荷产生材料以及电荷输送材料和树脂粘合剂溶解或分散于有机溶剂中而得到的涂布液涂布于导电性基体上而形成。在这些有机电子照相用感光体的特别是成为最外面的层中，大多见到使用聚碳酸酯作为树脂粘合剂，该聚碳酸酯具有与纸之间、或者与用以去除碳粉的刮板之间产生的摩擦强、可挠性优异并且曝光的透射性良好。其中，作为树脂粘合剂广泛使用双酚Z型聚碳酸酯。使用该聚碳酸酯作为树脂粘合剂的技术被记载于例如专利文献1等中。
近年来，随着基于办公室内的网络化的印刷张数增加，或基于电子照相的轻型打印机的急速发展等，对于电子照相方式的打印装置越来越要求高的耐磨耗性，即高耐久性或高灵敏度，高速响应性。
再者，随着最近彩色打印机的发展和普及率的提高，正朝着打印速度的高速化或装置的小型化以及节省构件化进发，也要求其可应付各种使用环境。在这样的状况中，对于因重复使用或使用环境(室温及环境)的变动造成图像特性或电特性的变动小的感光体的要求显著提高，但是以以往的技术就无法同时充分满足这些要求。
为了解决这些问题，提出各种对感光体最外表面层的改良方法。
为提高感光体表面的耐久性，提出了各种聚碳酸酯树脂结构的方案。例如，专利文献2、3中提出了含特定结构的聚碳酸酯树脂的方案，但关于与各种电荷输送剂或添加材料的相溶性、或树脂的溶解性的检讨不足。另外，专利文献4中提出了含特定结构的聚碳酸酯树脂的方案，但因为具有大体积结构的树脂的聚合物彼此之间的空间较多，带电时放电物质或接触构件、异物等容易浸透在感光层中，所以难以获得充分的耐久性。为了提高耐印刷性及涂布性，专利文献5中提出了特殊结构的聚碳酸酯，但关于组合的电荷输送性材料或添加剂的记载并不够，存在难以持续长期使用时的稳定的电特性的问题。
专利文献6中提出了为改善耐磨耗性而在感光层中含有填充剂粒子的方案，但对于制作感光层涂布液时的粒子凝集所造成的对感光体特性的影响或者关于粒子的制法或杂质控制以及表面处理的影响未进行充分验证。另外，专利文献7中针对分散了烧成二氧化硅的电荷输送层提出了方案，但未对将二氧化硅分散于溶剂中的浆料液的透射率进行记载。再者，专利文献8中虽记载二氧化硅中所含有的金属元素，但专利文献8中，仅从制造上的成本增高的原因的观点描述了有关有无含有金属元素的技术思想，但未对从分散性提高的观点提及杂质的量进行记载。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利特开昭61-62040号公报
专利文献2：日本专利特开2004-354759号公报
专利文献3：日本专利特开平4-179961号公报
专利文献4：日本专利特开2004-85644号公报
专利文献5：日本专利特开平3-273256号公报
专利文献6：日本专利特开2008-176054号公报
专利文献7：日本专利特开2002-182409号公报
专利文献8：日本专利特开平8-146642号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
如上所述，关于感光体的表面层的改良，以往提出了各种技术。但是这些专利文献所记载的技术对于实际使用时的图像缺陷等都不是完美技术。另外，对于涂布感光层时的涂布液的性质也未充分研究，作为结果为了开发耐久性提高的感光体而需要进一步提高感光层涂布液的性质。
因此本发明的目的在于提供一种即使长期使用也可实现磨耗少且稳定的图像的电子照相用感光体、其制造方法及电子照相装置。
解决问题所采用的技术方案
为了解决上述问题，本发明人对感光体的最外表面层的材料进行了认真研究，其结果是：提供一种膜磨耗性提高且图像缺陷少，即使重复使用也具有图像品质稳定性的感光体。具体而言，本发明人发现通过应用如下构成就可获得良好的电子照相用感光体，进而完成了本发明。
即，本发明的电子照相用感光体具备导电性基体、和形成于上述导电性基体上且包含无机氧化物的感光层，对20质量％无机氧化物浆料照射波长780nm的光时的上述光的透射率为40％以上；上述20质量％无机氧化物浆料通过将20质量％的上述无机氧化物分散在用于涂布形成上述感光层的感光层涂布液用的溶剂中而形成。
在本发明中，通过使感光层含有无机氧化为，能提高感光层的机械强度，发现通过使用在以高浓度分散于用于形成感光层的溶剂中时显示非常高的光透射性的无机氧化物，能提供高品质的感光体。
在本发明中，上述20质量％无机氧化物浆料的粘度优选在50mPa·s以下。
此外，在本发明中，上述无机氧化物的一次粒径为在分散于溶剂中时保持高透射率即可，优选为1～200nm。
还有，在本发明中，上述感光层优选为最外层。
还有，在本发明中，上述无机氧化物优选以二氧化硅为主成分，更优选以二氧化硅为主成分且以1ppm～1000ppm包含铝元素。
还有，上述无机氧化物优选经硅烷偶联剂表面处理。
在本发明中，作为上述硅烷偶联剂，优选使用具有下述通式(1)所示的结构的硅烷偶联剂：
(R1)n-Si-(OR2)4-n (1)
式中，Si表示硅原子，R1表示碳直接结合于该硅原子上的形态的有机基团，R2表示有机基团，n表示0～3的整数。
此外，上述硅烷偶联剂优选是包含选自如下至少一种的表面处理剂：
苯基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、环氧基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酸三甲氧基硅烷、氨基三甲氧基硅烷、脲基三甲氧基硅烷、巯丙基三甲氧基硅烷、异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷、苯基氨基三甲氧基硅烷、丙烯酸三甲氧基硅烷、对苯乙烯基三甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷以及N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷。
此外，在本发明中，上述无机氧化物经多种上述硅烷偶联剂表面处理，最初用于表面处理的硅烷偶联剂优选具有上述通式(1)所示的结构。此外，还优选在上述感光层涂布液中以2质量％以下包含具有下述通式(2)所示结构的化合物：
Si(OH)m(R1)n(OR2)4-(n+m) (2)
式中，Si表示硅原子，R1表示碳直接结合于该硅原子上的形态的有机基团，R2表示有机基团，m表示1～4的整数，n表示0～3的整数，m+n为4以下。
此外，在本发明中，用于形成上述感光层的感光层涂布液优选通过将无机氧化物浆料和感光层形成用液混合制得；上述无机氧化物浆料通过将上述无机氧化物一次分散在上述感光层涂布液用的溶剂中形成；上述感光层形成用液通过将电荷输送材料和树脂粘合剂溶解在上述感光层涂布液用的溶剂中形成。此外，用于形成上述感光层的感光层涂布液还优选通过将无机氧化物浆料和感光层形成用液混合制得；上述无机氧化物浆料通过将上述无机氧化物一次分散在上述感光层涂布液用的溶剂中形成；上述感光层形成用液通过将电荷输送材料和树脂粘合剂溶解在上述感光层涂布液用的溶剂中，再使电荷产生材料分散而形成。
该情况下，作为上述电荷输送材料，优选包含芳基胺化合物。作为上述电荷输送材料，还优选包含电子输送材料。作为上述电荷产生材料，还优选包含酞菁化合物。
本发明的电子照相用感光体的制造方法是通过使用感光层涂布液形成上述感光层以制造上述的电子照相用感光体的方法，包含如下工序：将上述无机氧化物一次分散于上述感光层涂布液用的溶剂中得到无机氧化物浆料的无机氧化物浆料调制工序，将电荷输送材料及树脂粘合剂溶解于上述感光层涂布液用的溶剂中得到感光层形成用液的感光层形成用液调制工序，以及将所得的上述无机氧化物浆料与上述感光层形成用液混合而得到上述感光层涂布液的感光层涂布液调制工序。
本发明的电子照相装置由搭载有上述的电子照相用感光体形成。
此外，本发明的感光层涂布液是混合无机氧化物浆料与感光层形成用液而成的用于形成感光层的感光层涂布液；
上述无机氧化物浆料是将无机氧化物一次分散于上述感光层涂布液用的溶剂中而成的无机氧化物浆料；
上述感光层形成用液是将电荷输送材料及树脂粘合剂溶解于上述溶剂中而成的感光层形成用液；并且
对20质量％无机氧化物浆料照射波长780nm的光时的上述光的透射率为40％以上；上述20质量％无机氧化物浆料通过将20质量％的上述无机氧化物分散在上述溶剂中而制得。
发明的效果
依据本发明可明确：通过使用具有上述条件的感光层，能获得可持续稳定的图像品质且可控制磨耗性能的感光体。
这被认为是基于以下理由：在本发明中，虽然通过在感光层中含有无机氧化物来提高感光层的机械强度，但是在以往的技术中存在如下缺点：在感光层溶剂中单独分散无机氧化物时发生凝集部分，其后与电荷输送材料或树脂成分混合时的分散会因添加树脂成分造成粘性的提高而无法充分分散，其结果会形成图像上伴有微小缺陷的感光体。对此在本发明中，由于以高浓度将无机氧化物分散在感光层溶剂中时显示非常高的光透射性，故无机氧化物显示均匀的分散状态，以近似一次粒子的状态保持溶剂合状态。即在本发明中，即使以高浓度状态将无机氧化物分散在溶剂中，浆料(分散液)的粘度也低，其结果是与溶解有其他感光层的构成成分的涂布液的混合变得容易，故混合时的凝集性也减低，以提供更高品质的感光体。
附图说明
图1是显示本发明的电子照相用感光体的一例的示意剖面图，(a)显示负带电型的层叠型电子照相用感光体，(b)显示正带电型的单层型电子照相用感光体，(c)显示正带电型的层叠型电子照相用感光体。
图2是显示本发明的电子照相装置的一例的示意结构图。
图3是显示本发明的感光体的制造方法的一例的流程图。
具体实施方式
以下，使用附图对本发明的电子照相用感光体的具体实施方式加以详细说明。本发明并不因以下说明而有任何限制。
如前所述，电子照相用感光体大体上被分成层叠型(功能分离型)感光体和主要用作正带电型的单层型感光体；作为层叠型(功能分离型)感光体有所谓的负带电层叠型感光体以及正带电层叠型感光体。图1是显示本发明的电子照相用感光体的一例的示意剖面图，(a)显示负带电型的层叠型电子照相用感光体，(b)显示正带电型的单层型电子照相用感光体，(c)显示正带电型的层叠型电子照相用感光体。
如图所示，在负带电层叠型感光体中，在导电性基体1上依次层叠有基底层2、以及具有具备电荷产生功能的电荷产生层4及具备电荷输送功能的电荷输送层5的感光层。另外，在正带电单层型感光体中，在导电性基体1上依次层叠有基底层2、以及兼具电荷产生和电荷输送两功能的单层型的感光层3。再者，在正带电层叠型感光体中，在导电性基体1上依次层叠有基底层2、具备电荷输送功能的电荷输送层5、以及具有具备电荷产生及电荷输送两功能的电荷产生层4的感光层。另外，在任一类型的感光体中，可根据需要设置基底层2。
本发明的感光体是在导电性基体上至少具有感光层的感光体，该感光层包含无机氧化物，对20质量％无机氧化物浆料照射波长780nm的光时的光的透射率在40％以上；所述20质量％无机氧化物浆料通过将20质量％的无机氧化物分散在用于涂布形成包含无机氧化物的感光层的感光层涂布液用的溶剂中而形成。透射率较好为80％以上。
本发明的感光体为层叠型的情况下，电荷产生层或电荷输送层是包含上述无机氧化物的感光层；本发明的感光体为单层型的情况下，单层型的感光层成为包含上述无机氧化物的感光层。特别是在包含前述无机氧化物的感光层为最外层的情况下，本发明良好获得耐磨耗性的提高效果，所以较为理想。
作为本发明所用的无机氧化物，只要是分散于涂布液溶剂时的透射率为上述范围内的无机氧化物都可以，除了以二氧化硅为主成分的无机氧化物以外，还举例有氧化铝、氧化锆、氧化钛、氧化锡、氧化锌等。
其中，作为无机氧化物，较好为以二氧化硅为主成分的无机氧化物。作为制造具有几个纳米至几十纳米左右的粒径的二氧化硅粒子作为二氧化硅的方法，公知有被称为湿式法的以水玻璃为原料进行制造的方法、被称为干式法的使氯硅烷等在气相中反应的方法，以作为二氧化硅前体的醇盐为原料的方法等。
此处，如果表面处理二氧化硅时大量存在作为杂质的异种金属，由与通常的氧化物部位不同的金属产生缺陷，表面的电荷分布变动，以该部位为起点提高了氧化物粒子的凝集性，结果引起涂布液或感光层中的凝集物增加，所以二氧化硅的纯度较好为高纯度。因此，较好将构成无机氧化物的金属元素以外的金属含量控制在各金属元素为1000ppm以下。
另一方面，为了使表面处理剂充分反应，提高二氧化硅表面的活性，事先添加非常微量的其他种类金属是合适的。虽然表面处理剂与存在于二氧化硅表面的羟基反应，但是如果二氧化硅含有微量的其他金属元素的话，由于金属间的电阴性度的差的影响，所以与存在于二氧化硅表面的其他金属元素邻接的硅烷醇基(羟基)的反应性提高。
该羟基与表面处理剂的反应性高，所以比其他羟基更强地与表面处理剂反应，同时如果残存，则成为凝集的原因。但考虑到在这些的表面处理剂的反应后，通过表面处理剂与其他的羟基反应，通过表面处理剂的效果和由表面的异种金属所致的表面电荷不平衡的减少效果，大幅改善了二氧化硅彼此间的凝集性，所以在本发明中，如果无机氧化物含有微量的其他金属，表面处理剂的反应性变得更好，作为结果由表面处理所致的分散性得到提高，所以较为理想。
关于二氧化硅，若以达到1000ppm以下的范围事先添加铝元素，对于表面处理较为适合。对于二氧化硅中的铝元素量的调整，可使用日本专利特开2004-143028号公报、日本专利特开2013-224225号公报、日本专利特开2015-117138号公报等记载的方法进行，但只要是能控制为期望范围的方法即可，对调制方法未特别限制。具体而言，作为更佳地控制二氧化硅表面的铝元素量的方法，有例如以下方法：首先，在制造二氧化硅微粒时，在使二氧化硅粒子成长至小于目标的二氧化硅粒径的形状后，添加成为铝源的铝醇盐等，以控制二氧化硅表面的铝量的方法。另外，还有在含氯化铝的溶液中添入二氧化硅微粒，于二氧化硅微粒表面涂布氯化铝溶液，使其干燥烧成的方法，或者使卤化铝化合物与卤化硅化合物的混合气体反应的方法等。
另外，对于二氧化硅的结构，公知是采取多个的硅原子与氧原子连成环状的网眼状的键合结构。在含铝元素的情况下，构成二氧化硅的环状结构的原子数，因混合了铝的效果，而比通常的二氧化硅更大。通过该效果，在表面处理剂对含有铝元素的二氧化硅表面的羟基反应时的立体障碍，与通常的二氧化硅表面相比得到了缓和，提高了表面处理剂的反应性，制得与通常的二氧化硅与相同表面处理剂反应时的分散性相比，得到进一步提高的表面处理二氧化硅。
另外，专利文献7等记载的二氧化硅是通过干式法制造的二氧化硅，但为了具有本发明的效果，除控制铝元素量以外，还采用湿式法制得二氧化硅较为适合。另外，对于二氧化硅的铝元素的含量，如考虑表面处理剂的反应性，则较好为1ppm以上。
对于作为无机氧化物的形态无特别限定，但为了降低凝集性，获得均匀的分散状态，无机氧化物的圆球度较好为0.8以上，更好为0.9以上。
另外，将无机氧化物分散(一次分散)在感光层涂布液用的溶剂中时的粘度是以20质量％分散在溶剂时的20质量％无机氧化物浆料的粘度，为50mPa·s以下，这样可进行较佳的混合，因此较为理想，更好为10mPa·s以下。
再者，对于无机氧化物的一次粒径，只要将分散于溶剂时的透射率保持为较高水平即可，较好为1～200nm，更好为5～100nm，又更好为10～50nm。另外，分散中的粒子可为一次粒子的形状，也可形成多个团簇，只要透射率满足上述范围即可。
另外，对于感光层中的无机氧化物的粒子间平均距离，若能获得于上述溶剂中分散时的透射率，则无特别限定，作为结果：接近一次粒径能通过粒子间的相互作用提高膜成分的约束力，与膜的磨耗性的改善相关，所以较为理想。具体而言较好为200nm以下，更好为70nm以下。
另外，在期待高分辨率的感光体的电荷输送层中使用无机氧化物时，较好考虑源自添加于电荷输送层的材料的α射线等的影响。例如，若以半导体存储元件为例，则存储元件通过电荷累积的有无来保持所记忆的数据种类，但由于微细化，累积的电荷大小也变小，由于自外部照射的α射线所致变化的程度的电荷，使得数据种类产生变化，结果是产生了非预期的数据变化。另外，由于流入半导体元件的电流大小也变小，所以会存在α射线所产生的电流(噪声)与信号大小相比，也相对变大而出现误操作的担忧。与此种现象同样，若考虑对于感光体的电荷输送层的电荷移动的影响，使用产生α射线较少的材料作为膜构成材料更为理想。具体而言，减低无机氧化物中的铀或钍的浓度是有效的，且较好钍为30ppb以下，铀为1ppb以下。作为减低无机氧化物中的铀量或者钍量的制法，例如有日本专利特开2013-224225号公报中所记载的制法，但只要能减低这些元素的浓度即可，对该制法无限定。
为了使无机氧化物保持本发明的透射率的条件，适合将无机氧化物表面施以表面处理。
作为表面处理剂，只要是能得到上述透射率的表面处理剂，可使用市售的表面处理剂。更好使用硅烷偶联剂。作为硅烷偶联剂，例如为苯基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、环氧基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酸三甲氧基硅烷、氨基三甲氧基硅烷、脲基三甲氧基硅烷、巯丙基三甲氧基硅烷、异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷、苯基氨基三甲氧基硅烷、丙烯酸三甲氧基硅烷、对苯乙烯基三甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷以及N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷等。可使用包含这些硅烷偶联剂中的至少一种。且醇盐的烷基较好为甲基，除此以外，乙基、丙基、丁基也较为理想。对于无机氧化物进行处理的表面处理剂的量，相对于处理后的无机氧化物的质量，表面处理剂的量为0.01～10.0质量％，较好为0.05～5.0质量％的量。
作为本发明所用的硅烷偶联剂，更加详尽而言，举例为具有下述通式(1)所示的结构的化合物，但只要是与无机粒子表面的羟基等反应性基团进行缩合反应的化合物即可，但不限于下述化合物。
(R1)n-Si-(OR2)4-n (1)
(式中，Si表示硅原子，R1表示碳直接结合于该硅原子上的形态的有机基团，R2表示有机基团，n表示0～3的整数)。
在上述通式(1)所示的有机硅化合物中，作为R1，举例为甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、辛基、十二烷基等烷基，苯基、甲苯基、萘基、联苯基等芳基，γ-环氧丙氧基丙基、β-(3,4-环氧基环己基)乙基等含环氧基团，γ-丙烯酰氧基丙基、γ-甲基丙烯酰氧基丙基的含(甲基)丙烯酰基的基团，γ-羟基丙基、2,3-二羟基丙氧基丙基等含羟基的基团，乙烯基、丙烯基等含乙烯基的基团，γ-巯丙基等含巯基的基团，p-氨基苯基、γ-氨基丙基、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基、N-苯基-3-氨基丙基等含氨基的基团，m-氨基苯基、o-氨基苯基、γ-氯丙基、1,1,1-三氟丙基、九氟己基、全氟辛基乙基等含卤素基团，此外举例有硝基、氰基取代的烷基。另外，作为OR2的水解性基团，举例为甲氧基、乙氧基等烷氧基，卤素基团、酰氧基。
上述通式(1)所示的硅烷偶联剂可单独使用，也可组合二种以上使用。另外，组合多种硅烷偶联剂时，可同时使二种硅烷偶联剂与无机氧化物反应，但也可依次使多种硅烷偶联剂反应。
另外，在上述通式(1)所示的硅烷偶联剂中，n为2以上时，多个的R1可相同也可不同。同样地n为2以下时，多个R2可相同也可不同。另外，以二种以上使用上述通式(1)所示的有机硅化合物时，R1及R2于各自的偶联剂中可相同也可不同。
作为n为0的化合物，例如可列举下述化合物，即四甲氧基硅烷、四乙酰氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四烯丙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四(2-甲氧基乙氧基)硅烷、四丁氧基硅烷、四苯氧基硅烷、四(2-乙基丁氧基)硅烷、四(2-乙基己氧基)硅烷等。
作为n为1的化合物，例如，举例为下述化合物，即甲基三甲氧基硅烷、巯基甲基三甲氧基硅烷、三甲氧基乙烯基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、3,3,3-三氟丙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷、3-巯丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、2-氨基乙基氨基甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙酰氧基硅烷、氯甲基三乙氧基硅烷、乙基三乙酰氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、3-烯丙基硫丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-溴丙基三乙氧基硅烷、3-烯丙基氨基丙基三甲氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、双(乙基甲基酮肟)甲氧基甲基硅烷、戊基三乙氧基硅烷、辛基三乙氧基硅烷、十二烷基三乙氧基硅烷等。
作为n为2的化合物，例如举例为下述化合物，即二甲氧基甲基硅烷、二甲氧基二甲基硅烷、二乙氧基硅烷、二乙氧基甲基硅烷、二甲氧基甲基-3,3,3-三氟丙基硅烷、3-氯丙基二甲氧基甲基硅烷、氯甲基二乙氧基硅烷、二乙氧基二甲基硅烷、二甲氧基-3-巯丙基甲基硅烷、二乙酰氧基甲基乙烯基硅烷、二乙氧基甲基乙烯基硅烷、3-氨基丙基二乙氧基甲基硅烷、3-(2-氨基乙基氨基丙基)二甲氧基甲基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基二甲氧基甲基硅烷、3-(3-氰基丙基硫丙基)二甲氧基甲基硅烷、3-(2-乙酰氧基乙基硫丙基)二甲氧基甲基硅烷、二甲氧基甲基-2-哌啶基乙基硅烷、二丁氧基二甲基硅烷、3-二甲基氨基丙基二乙氧基甲基硅烷、二乙氧基甲基苯基硅烷、二乙氧基-3-环氧丙氧基丙基甲基硅烷、3-(3-乙酰氧基丙硫基)丙基二甲氧基甲基硅烷、二甲氧基甲基-3-哌啶基丙基硅烷、二乙氧基甲基十八烷基硅烷等。
作为n为3的化合物，例如举例为下述化合物，即甲氧基三甲基硅烷、乙氧基三甲基硅烷、甲氧基二甲基-3,3,3-三氟丙基硅烷、3-氯丙基甲氧基二甲基硅烷、甲氧基-3-巯丙基甲基甲基硅烷等。
另外，在本发明的感光层涂布液中也可微量含有硅烷偶联剂的水解物。具体而言，也可以2质量％以下含有具有下述通式(2)所示的结构的化合物：
Si(OH)m(R1)n(OR2)4-(n+m) (2)
(式中，Si表示硅原子，R1表示碳直接结合于该硅原子上的形态的有机基团，R2表示有机基团，m表示1～4的整数，n表示0～3的整数，m+n为4以下)。
在无机氧化物被多种表面处理剂表面处理的情况下，在表面处理工序中可以任何顺序进行表面处理，例如，在无机氧化物被多种硅烷偶联剂表面处理时，较好将具有上述通式(1)所示结构的硅烷偶联剂用于最初表面处理中。另外，在表面处理工序中，也可以用硅烷偶联剂及有机硅氮烷同时对二氧化硅进行表面处理，或者先用硅烷偶联剂对二氧化硅进行表面处理，然后用有机硅氮烷进行表面处理。更进一步是也可以用有机硅氮烷先对二氧化硅进行表面处理，然后用硅烷偶联剂进行表面处理，再其后用有机硅氮烷进行表面处理。
在本发明中，测量20质量％无机氧化物浆料(无机氧化物浆料)的透射率的波长可从可见光区域至电子照相装置的曝光所用的激光波长区域的范围任意选择，但可以通过电子照相装置使用的波长780nm的透射率予以确认。
对于用于浆料化的溶剂，只要是感光层涂布液用的溶剂，则无特别限定，只要是上述无机氧化物满足上述透射率的溶剂即可。较好举例为四氢呋喃(THF)、1,3-二氧戊环、四氢吡喃、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮、甲苯、二氯甲烷、1,2-二氯乙烷、氯苯、乙二醇、乙二醇单甲醚、1,2-二甲氧基乙烷等，这些可单独使用或可混合使用，不限定于这些。较好使用四氢呋喃或包含四氢呋喃的混合溶剂。
在本发明中，若搅拌进行混合就可制得上述无机氧化物浆料的话，可为任何方法。作为浆料化时分散所用的分散机，可举例为油漆摇动器、球磨机和砂磨机等。
本发明中，在调制用以形成包含上述无机氧化物的感光层的感光层涂布液时，虽然首先制作将无机氧化物一次分散在感光层涂布液用的溶剂中而形成的无机氧化物浆料，但是在将无机氧化物浆料与感光层的其他构成成分混合时，可以任意顺序进行溶解和分散而制得。例如，在感光层为负带电层叠型的感光层，且电荷输送层包含上述无机氧化物的情况下，较好使用如下方法制得：首先通过将电荷输送材料及树脂粘合剂溶解于感光层涂布液用的溶剂中以制得感光层形成用液(电荷输送层用液)，再将感光层形成用液添加于上述无机氧化物浆料中而制得。在该情况下、以及感光层为正带电单层型的感光层且单层型的感光层包含上述无机氧化物的情况下，作为感光层形成用液，可使用将电荷输送材料和树脂粘合剂溶解在感光层涂布液用的溶剂中，再使电荷产生材料分散(二次分散)而制得的感光层形成用液。
(导电性基体)
导电型基体1具有作为感光体的电极的作用，同时也成为构成感光体的各层的支承体，可为圆筒状、板状、薄膜状等的任一形状。作为导电性基体1的材质，可使用铝、不锈钢、镍等金属类，或者于玻璃、树脂等的表面施以导电处理而成的材料等。
(基底层)
基底层2为以树脂为主成分的层，或由耐酸铝等的金属氧化皮膜构成的层。该基底层2是为了控制电荷自导电性基体1向感光层的注入性，或者被覆导电性基体的表面的缺陷、或者提高感光层与导电性基体1的粘接性等目的，根据需要而设置的。作为用于基底层2的树脂材料，举例为酪素(casein)、聚乙烯醇、聚酰胺、三聚氰胺、纤维素等绝缘性高分子，或者聚噻吩、聚吡咯、聚苯胺等导电性高分子，这些树脂可单独使用，或适当组合混合使用。另外，也可使用在这些树脂中含有二氧化钛、氧化锌等金属氧化物而形成的材料。
(负带电层叠型感光体)
本发明的感光体若为满足上述无机氧化物的条件的感光体，也可是具有图1(a)～(c)所示的任一层结构的感光体。较好是本发明的感光体为负带电层叠型电子照相用感光体，在该情况下，最外层为电荷输送层。如前所述，负带电层叠型感光体中，感光层具有电荷产生层4及电荷输送层5。
在负带电层叠型感光体中，电荷产生层4通过涂布将电荷产生材料的粒子分散于树脂粘合剂中而形成的涂布液等的方法形成，接收光产生电荷。电荷产生层4重要的是其电荷产生效率高且同时所产生的电荷向电荷输送层5的注入性，期待其对电场的依赖性少，即使为低电场注入也好。
作为电荷产生材料，可单独或适当组合使用X型无金属酞菁、τ型无金属酞菁、α型氧钛酞菁、β型氧钛酞菁、Y型氧钛酞菁、γ型氧钛酞菁、非晶型氧钛酞菁、ε型铜酞菁等酞菁化合物、各种偶氮颜料、蒽嵌蒽醌颜料、噻喃鎓(thiapyrylium)颜料、二萘嵌苯颜料、紫环酮(perinone)颜料、方酸鎓盐颜料、喹吖啶酮颜料等，且可依据图像形成所用的曝光光源的光波长区域选择适合的物质。特好使用酞菁化合物。电荷产生层4是以电荷产生材料为主体，也可在电荷产生层中添加电荷输送材料等而使用。
作为电荷产生层4的树脂粘合剂，可适当将如下的树脂进行组合使用：聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚酰胺树脂、聚氨酯树脂、氯乙烯树脂、乙酸乙烯酯树脂、苯氧基树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚苯乙烯树脂、聚砜树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、甲基丙烯酸酯树脂的聚合物及共聚物等。
另外，电荷产生层4中的电荷产生材料的含量是相对于电荷产生层4中的固体成分，较好为20～80质量％，更好为30～70质量％。另外，电荷产生层4中的树脂粘合剂的含量是相对于电荷产生层4中的固体成分，较好为20～80质量％，更好为30～70质量％。电荷产生层4由于只要具有电荷产生功能即可，故其膜厚一般为1μm以下，较好为0.5μm以下。
在负带电层叠型感光体的情况下，电荷输送层5成为含上述无机氧化物的感光层。在负带电层叠型感光体中，电荷输送层5主要由上述无机氧化物、电荷输送材料和树脂粘合剂构成。
作为电荷输送层5的树脂粘合剂，可单独或混合多种如下物质进行使用：聚芳酯树脂、双酚A型、双酚Z型、双酚C型、双酚A型-联苯共聚物、双酚Z型-联苯共聚物等各种聚碳酸酯树脂。也可混合分子量不同的同种树脂进行使用。此外，还可使用聚亚苯基树脂、聚酯树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚乙烯醇树脂、氯乙烯树脂、乙酸乙烯酯树脂、聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、三聚氰胺树脂、有机硅树脂、聚酰胺树脂、聚苯乙烯树脂、聚缩醛树脂、聚砜树脂、甲基丙烯酸酯的聚合物及它们的共聚物等。
另外，上述树脂的重均分子量，在以聚苯乙烯换算的GPC(凝胶渗透色谱)分析中，较好为5000～250000，更好为10000～200000。
另外，作为电荷输送层5的电荷输送材料，可单独或适当组合混合如下物质进行使用：各种腙化合物、苯乙烯化合物、二胺化合物、丁二烯化合物、吲哚化合物、芳基胺化合物等。作为该电荷输送材料，可举例以下的(II-1)～(II-30)所示的物质，但不限于此。
作为电荷输送层5中的无机氧化物的含量，相对于电荷输送层5的固体成分，为1～40质量％，更好为2～30质量％。作为电荷输送层5中的树脂粘合剂的含量，相对于除无机氧化物以外的电荷输送层5的固体成分，较好为20～90质量％，更好为30～80质量％。作为电荷输送层5中的电荷输送材料的含量，相对于除无机氧化物以外的电荷输送层5的固体成分，较好为10～80质量％，更好为20～70质量％。
另外，作为电荷输送层5的膜厚，为了维持实用上有效的表面电位，较好为3～50μm的范围，更好为15～40μm的范围。
(正带电单层型感光体)
在正带电单层型的情况，单层型感光层3成为包含上述无机氧化物的感光层。在正带电单层型感光体中，单层型感光层3主要由上述无机氧化物、电荷产生材料、作为电荷输送材料的空穴输送材料及电子输送材料(受体性化合物)以及树脂粘合剂构成。
作为单层型感光层3的树脂粘合剂，可使用双酚A型、双酚Z型、双酚A型-联苯共聚物、双酚Z型-联苯共聚物等其他各种聚碳酸酯树脂、聚亚苯基树脂、聚酯树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚乙烯醇树脂、氯乙烯树脂、乙酸乙烯酯树脂、聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、三聚氰胺树脂、有机硅树脂、聚酰胺树脂、聚苯乙烯树脂、聚缩醛树脂、聚芳酯树脂、聚砜树脂、甲基丙烯酸酯的聚合物以及它们的共聚物等。另外，也可混合使用分子量不同的同种树脂。
作为单层型感光层3的电荷产生材料，可使用例如酞菁类颜料、偶氮颜料、蒽嵌蒽醌颜料、二萘嵌苯颜料、紫环酮颜料、多环醌颜料、方酸鎓盐颜料、噻喃鎓颜料、喹吖啶酮颜料等。这些电荷产生材料可单独使用，或者将两种以上组合使用。特别是在本发明的感光体中，作为偶氮颜料，优选使用双偶氮颜料、三偶氮颜料；作为二萘嵌苯颜料，优选使用N,N’-二(3,5-二甲基苯基)-3,4:9,10-二萘嵌苯-二(甲酰亚胺)；作为酞菁类颜料，优选使用无金属酞菁、铜酞菁、氧钛酞菁。此外，当使用X型无金属酞菁、τ型无金属酞菁、ε型铜酞菁、α型氧钛酞菁、β型氧钛酞菁、Y型氧钛酞菁、非晶型氧钛酞菁、日本专利特开平8-209023号公报、美国专利第5736282号说明书和美国专利第5874570号说明书记载的在CuKα:X射线衍射图谱中以布拉格角2θ为9.6°作为最大峰的氧钛酞菁时，在灵敏度、耐久性和画质的方面显示明显改善的效果，因而较为理想。
作为单层型感光层3的空穴输送材料，可使用例如腙化合物、吡唑啉化合物、吡唑啉酮化合物、噁二唑化合物、噁唑化合物、芳基胺化合物、联苯胺化合物、芪化合物、苯乙烯基化合物、聚N-乙烯基咔唑、聚硅烷等。这些空穴输送材料可单独使用，或者将两种以上组合使用。作为本发明中使用的空穴输送材料，除了光照射时产生的空穴的输送能力优异外，优选还适合与电荷产生材料组合的材料。
作为单层型感光层3的电子输送材料(受体性化合物)，可例举琥珀酸酐、马来酸酐、二溴琥珀酸酐、邻苯二甲酸酐、3-硝基邻苯二甲酸酐、4-硝基邻苯二甲酸酐、均苯四酸酐、均苯四酸、偏苯三酸、偏苯三酸酐、邻苯二甲酰亚胺、4-硝基邻苯二甲酰亚胺、四氰基乙烯、四氰基对醌二甲烷、氯醌、四溴对苯醌、o-硝基安息香酸、丙二腈、三硝基芴酮、三硝基噻吨酮、二硝基苯、二硝基蒽、二硝基吖啶、硝基蒽醌、二硝基蒽醌、噻喃类化合物、醌类化合物、苯醌化合物、联苯醌类化合物、萘醌类化合物、蒽醌类化合物、芪醌类化合物、偶氮醌类化合物等。这些电子输送材料可单独使用，或者将两种以上组合使用。
作为单层型感光层3中的无机氧化物的含量，相对于单层型感光层3的固体成分，为1～40质量％，更好为2～30质量％。作为单层型感光层3中的树脂粘合剂的含量，相对于除无机氧化物以外的单层型感光层3的固体成分，较好为10～90质量％，更好为20～80质量％。作为单层型感光层3中的电荷产生材料的含量，相对于除无机氧化物以外的单层型感光层3的固体成分，较好为0.1～20质量％，更好为0.5～10质量％。单层型感光层3中的空穴输送材料的含量，相对于除无机氧化物以外的单层型感光层3的固体成分，较好为3～80质量％，更好为5～60质量％。单层型感光层3中的电子输送材料含量，相对于除无机氧化物以外的单层型感光层3的固体成分，较好为1～50质量％，更好为5～40质量％。
为了维持实用上有效的表面电位，单层型感光层3的膜厚较好为3～100μm的范围，更好为5～40μm的范围。
(正带电层叠型感光体)
如上述所述，在正带电层叠型感光体中，感光层具有电荷输送层5及电荷产生层4。在正带电层叠型感光体的情况，电荷产生层4为最外层，且成为包含上述无机氧化物的感光层。在正带电层叠型感光体中，电荷输送层5主要由电荷输送材料与树脂粘合剂构成。作为该电荷输送材料和树脂粘合剂，除无机氧化物以外，可使用与就负带电层叠型感光体的电荷输送层5所列举的材料相同的材料。对于各材料的含量及电荷输送层5的膜厚，除无机氧化物以外，都与负带电层叠型感光体的相同。
设置于电荷输送层5上的电荷产生层4主要由无机氧化物、电荷产生材料、作为电荷输送材料的空穴输送材料和电子输送材料(受体性化合物)以及树脂粘合剂构成。作为该电荷产生材料、空穴输送材料、电子输送材料及树脂粘合剂，可使用与就单层型感光体中的单层型感光层3所列举的材料相同的材料。各材料的含量以及电荷产生层4的膜厚也可与单层型感光体中的单层型感光层3相同。
在本发明中，为了提高形成的膜的平整性和赋予其润滑性的目的，层叠型或单层型的任一感光层中还可含有硅油或氟类油等均化剂。进而，为了调整膜硬度或减低摩擦系数、赋予润滑性等的目的，还可含有多种无机氧化物。还可含有氧化硅、氧化钛、氧化锌、氧化钙、氧化铝、氧化锆等金属氧化物、硫酸钡、硫酸钙等金属硫酸盐、氮化硅、氮化铝等金属氮化物微粒，或四氟乙烯树脂等含氟类树脂粒子、含氟类梳状接枝聚合树脂等。此外，根据需要，还可在不明显损害电子照相特性的范围内，含有其他公知的添加剂。
另外，为了提高耐环境性或对于有害光的稳定性，也可在感光层中含有抗氧化剂或光稳定剂等劣化防止剂。作为用于该目的的化合物，可例举维生素E等色原烷醇衍生物和酯化化合物、聚芳烷化合物、氢醌衍生物、醚化化合物、二醚化化合物、二苯甲酮衍生物、苯并三唑衍生物、硫醚化合物、苯二胺衍生物、磷酸酯、亚磷酸酯、苯酚化合物、受阻酚化合物、直链胺化合物、环状胺化合物、受阻胺化合物等。
(感光体的制造方法)
本发明的制造方法在通过使用感光层涂布液形成感光层而制造感光体时，包含以下工序。即，如图3所示，首先，将无机氧化物一次分散于感光层涂布液用的溶剂中，得到无机氧化物浆料(无机氧化物浆料调制工序(S1))，将电荷输送材料及树脂粘合剂溶解于感光层涂布液用的溶剂中，得到感光层形成用液(感光层形成用液调制工序(S2))，其后将所得的无机氧化物浆料与感光层形成用液混合，得到感光层涂布液(感光层涂布液调制工序(S3))。由此，可切实制造即使长期使用时磨耗也少且能实现稳定图像的感光体。
此处，无机氧化物浆料的调制可适合使用所述分散机，依据常用方法实施，无特别限制。关于感光层形成用液及感光层涂布液的调制，也可根据常用方法适当实施，无特别限制。
(电子照相装置)
本发明的电子照相用感光体是搭载上述本发明的感光体而形成的感光体，是通过适用于各种机械工艺中以获得所希望的效果的感光体。具体而言，即使使用辊或碳刷等带电构件的接触带电方式、使用了单极电极丝(corotron)或带栅极电极丝(scorotron)等的非接触带电方式等的带电工艺，以及使用了非磁性一成分、磁性一成分、二成分等的显影工艺方式的接触显影及非接触显影方式等显影工艺中，也可获得足够的效果。特别是在本发明具备使带电构件与感光体接触而带电的接触带电方式的带电工艺的情况下，在能抑制因带电构件的接触所致的磨耗的点上，是有用的。
图2是显示本发明的电子照相装置的一结构例的示意结构图。图示的本发明的电子照相装置60搭载包括导电性基体1、被覆在其外周面上的基底层2以及感光层300的本发明的感光体7。该电子照相装置60由配置于感光体7的外周缘部的带电构件21、对该带电构件21供给施加电压的高压电源22、像曝光构件23、具备显影辊241的显影器24、具备走纸辊251及走纸引导器252的走纸构件25、转印带电器(直接带电型)26构成。电子照相装置60还可进一步包含具备清洁刮板271的清洁装置27、以及除电构件28。另外，本发明的电子照相装置60可成为彩色打印机。
实施例
以下，采用实施例对本发明的具体实施方式进行详细说明。本发明在不超出其发明思想的范围内，并不限定于以下的实施例。
(无机氧化物浆料的调制)
<制造例1～44>
依据表1、2所示的制造例，调制无机氧化物浆料。具体而言，作为无机氧化物，采用雅都玛公司制二氧化硅(YA010C(铝元素含量500ppm)、YA050C(铝元素含量900ppm)、YA100C(铝元素含量900ppm))、二氧化硅F(铝元素含量10ppm)、二氧化硅G(铝元素含量100ppm)，准备了采用表1记载的处理剂作为表面处理剂而实施了表面处理的表面处理二氧化硅，并将其分散(一次分散)于感光层涂布液用的四氢呋喃(THF)中。对于制造例1、21、33的表面处理后的无机氧化物，定量表面处理剂的量，结果发现：相对于处理后的无机氧化物，表面处理剂的量分别为1.0、0.2、0.1质量％。对于其他的制造例也同样定量表面处理剂的量，得到如下类似结果：相对于处理后的无机氧化物的质量，满足0.01～10.0质量％的范围。
<比较制造例1～10>
依据表1、2所示的制造例，与制造例1等同样，作为无机氧化物，采用日本AEROSIL公司制的AEROSIL R7200、R8200(均为铝量未达1ppm的干式制法二氧化硅)、二氧化硅H(铝元素含量2000ppm)、住友化学公司制的AKP-20(氧化铝)、帝化公司制的MSP-015、MT-600B、石原产业公司制的TTO-55(氧化钛)，调制无机氧化物浆料。
[表1]
[表2]
*1)二氧化硅A：雅都玛公司制，YA010C，一次粒径10nm
*2)二氧化硅B：日本AEROSIL公司制，AEROSIL R7200，一次粒径15nm
*3)二氧化硅C：日本AEROSIL公司制，AEROSIL R8200，一次粒径15nm
*4)氧化铝：住友化学公司制，AKP-20，一次粒径460nm
*5)氧化钛A：帝化公司制，MSP-015，一次粒径15nm
*6)氧化钛B：帝化公司制，MT-600B，一次粒径50nm
*7)氧化钛C：石原产业公司制，TTO-55，一次粒径40nm
*8)KBM573：信越化学公司制，N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷
*9)KBM5103：信越化学公司制
*10)KBM603：信越化学公司制
*11)二氧化硅D：雅都玛公司制，YA050C，一次粒径50nm
*12)KBM903：信越化学公司制
*13)二氧化硅E：雅都玛公司制，YA100C，一次粒径100nm
*14)二氧化硅F：依据日本专利特开2015-117138号公报的试验例记载的方法调整为铝含量10ppm的二氧化硅，一次粒径100nm
*15)二氧化硅G：依据日本专利特开2015-117138号公报的试验例记载的方法调整为铝含量100ppm的二氧化硅，一次粒径100nm
*16)二氧化硅H：依据日本专利特开2015-117138号公报的试验例记载的方法调整为铝含量2000ppm的二氧化硅，一次粒径100nm
(负带电层叠型感光体的制造)
(实施例1)
将醇可溶性尼龙(东丽株式会社制，商品名“CM8000”)5质量份、经氨基硅烷处理过的氧化钛微粒5质量份溶解分散于甲醇90质量份中，调制涂布液1。将该涂布液1浸渍涂布于作为导电性基体1的外径30mm的铝制圆筒的外周作为基底层，在温度100℃干燥30分钟，形成膜厚3μm的基底层2。
将作为电荷产生材料的Y型氧钛酞菁1质量份、以及作为树脂粘合剂的聚乙烯醇缩丁醛树脂(积水化学(株式会社)制，商品名“エスレックBM－2”)1.5质量份溶解分散于二氯甲烷60质量份中，制得涂布液2。将该涂布液2浸渍涂布于上述基底层2上，在温度80℃干燥30分钟，形成膜厚0.3μm的电荷产生层4。
将作为电荷输送材料(CTM)的下述结构式所示化合物9质量份
以及
作为树脂粘合剂的具有下述结构式所示重复单元的树脂11质量份溶解于四氢呋喃80质量份中。将该液添加于制造例1制得的二氧化硅浆料25质量份中，制得涂布液3；
于上述电荷产生层4上，浸渍涂布该涂布液3，在温度120℃干燥60分钟，形成膜厚20μm的电荷输送层5，制得负带电层叠型感光体。
(实施例2～25)
除了将实施例1所使用的制造例1的浆料液种类及量或者将涂布液组成依据表3中的记载改变以外，以与实施例1同样的方法，制得感光体。
(实施例26)
除了将实施例1所使用的电荷输送材料变更为下式所示材料以外，以与实施例1同样的方法，制得感光体。
(实施例27)
除了将实施例1所使用的电荷输送材料变更为下式所示材料以外，以与实施例1同样的方法，制得感光体。
(实施例28)
除了将实施例1所使用的电荷输送材料变更为下式所示材料以外，以与实施例1同样的方法，制得感光体。
(实施例29)
除了将实施例1所使用的电荷输送材料变更为下式所示材料以外，以与实施例1相同的方法，制得感光体。
(实施例30)
除了将实施例1所使用的电荷输送材料变更为下式所示材料以外，以与实施例1相同的方法，制得感光体。
(实施例31)
除了将实施例1所使用的电荷输送材料变更为下式所示材料以外，以与实施例1相同的方法，制得感光体。
(1):(2):(3)＝1:2:1的混合物
(实施例32)
除了将实施例1所使用的电荷输送层的树脂粘合剂变更为具有下式所示的重复结构的材料以外，以与实施例1相同的方法，制得感光体。
(实施例33)
除了将实施例1所使用的电荷输送层的树脂粘合剂变更为具有下式所示的重复结构的材料以外，以与实施例1相同的方法，制得感光体。
(实施例34)
除了将实施例1所使用的电荷输送层的树脂粘合剂变更为具有下式所示的重复结构的材料以外，以与实施例1相同的方法，制得感光体。
(实施例35)
除了将实施例1所使用的电荷输送层的树脂粘合剂变更为具有下式所示的重复结构的材料以外，以与实施例1相同的方法，制得感光体。
(实施例36～56)
除了依据表4中的记载将实施例1所使用的制造例1的浆料液种类以及量或者涂布液组成进行改变以外，以与实施例1相同的方法，制得感光体。
(实施例57)
除了将实施例36所使用的电荷输送材料变更为实施例27所用材料以外，以与实施例36相同的方法，制得感光体。
(实施例58)
除将实施例36所使用的树脂粘合剂变更为实施例35使用材料以外，以与实施例36相同的方法，制得感光体。
(实施例59)
除了将实施例48所使用的电荷输送材料变更为实施例27所用材料以外，以与实施例48相同的方法，制得感光体。
(实施例60)
除了将实施例48所使用的树脂粘合剂变更为实施例35所使用的材料以外，以与实施例48相同的方法，制得感光体。
(实施例61～73)
除了依据表4中的记载将实施例1所使用的制造例1的浆料液种类以及量进行改变以外，以与实施例1相同的方法，制得感光体。
(比较例1～10)
除了依据表5中的记载将实施例1所使用的制造例1的浆料液种类以及量进行改变以外，以与实施例1相同的方法，制得感光体。
(比较例11)
除了不添加实施例1所使用的制造例1的浆料液以外，以与实施例1相同的方法，制得感光体。
(正带电单层型感光体的制造)
(实施例74)
将氯乙烯-乙酸乙烯酯-乙烯醇共聚物(日信化学工业(株式会社)制，商品名“ソルバインTA5R”)0.2质量份搅拌溶解于甲基乙酮99质量份而制得涂布液，将该涂布液浸渍涂布在作为导电性基体1的外径24mm的铝制圆筒的外周，以作为基底层，于温度100℃干燥30分钟，形成膜厚0.1μm的基底层2。
将作为电荷产生材料的X型无金属酞菁0.1质量份、作为空穴输送材料的实施例1所使用的电荷输送材料(CTM)8质量份、作为电子输送材料(ETM)的下式所示的化合物4质量份、以及作为树脂粘合剂的实施例1的电荷输送层所使用的树脂粘合剂8质量份溶解分散于四氢呋喃80质量份中。将该液添加于制造例1制得的二氧化硅浆料25质量份中，制得涂布液。
将该涂布液浸渍涂布于基底层2上，在温度100℃干燥60分钟，形成膜厚25μm的感光层，制得单层型感光体。
(实施例75)
除了将实施例74所使用的浆料液变更为制造例21的浆料液以外，以与实施例74相同的方法，制得感光体。
(比较例12)
除了将实施例74所使用的浆料液变更为比较制造例1的浆料液以外，以与实施例74相同的方法，制得感光体。
(比较例13)
除了不添加实施例74所使用的浆料液以外，以与实施例74相同的方法，制得感光体。
(正带电层叠型感光体的制造)
(实施例76)
将实施例34所使用的树脂粘合剂5质量份和实施例1所使用的电荷输送材料5质量份溶解于四氢呋喃80质量份中，制得涂布液。将该涂布液浸渍涂布于作为导电性基体1的外径24mm的铝制圆筒的外周，于温度120℃干燥60分钟，形成膜厚15μm的电荷输送层。
将作为电荷产生材料的Y型氧钛酞菁0.1质量份、作为空穴输送材料的实施例1所使用的电荷输送材料(CTM)2质量份、作为电子输送材料(ETM)的实施例72所使用的化合物5质量份、以及实施例1所使用的树脂粘合剂13质量份溶解、分散于1,2-二氯乙烷120质量份中。将该液添加于制造例1制得的二氧化硅浆料25质量份中，制得涂布液。将该涂布液浸渍涂布于电荷输送层上，于温度100℃干燥60分钟，形成膜厚15μm的电荷产生层，制得正带电层叠型感光体。
(实施例77)
除了将实施例76所使用的浆料液变更为制造例21的浆料液以外，以与实施例76相同的方法，制得感光体。
(比较例14)
除了将实施例76所使用的浆料液变更为比较制造例1的浆料液以外，以与实施例76相同的方法，制得感光体。
(比较例15)
除了不添加实施例76所使用的浆料液以外，以与实施例76相同的方法，制得感光体。
<浆料透射率>
关于各制造例的浆料液，准备了将20质量％无机氧化物一次分散到感光层涂布液用的溶剂中而形成的评价用的浆料。将这些试料称为20质量％无机氧化物浆料。将评价用的浆料放入光路长为10mm的石英管中，以分光光度计(岛津制作所制UV-3100)测量照射波长780nm的光时的光透射率。也将这些光的透射率称为浆料透射率。测量结果一并表示在表3～5中。
<浆料液粘度>
关于各制造例的浆料液，准备了将20质量％无机氧化物分散到感光层涂布液用的溶剂中而形成的评价用的20质量％无机氧化物浆料。以振动式粘度计(SEKONIC制VISCOMATE VM-10A)测量这些20质量％无机氧化物浆料于20℃的粘度。也将这些粘度称为浆料液粘度。将测量结果一并表示在表3～5中。
<感光体的评价>
以下述方法评价上述实施例1～77及比较例1～15中制得的感光体的电特性。将评价结果一并表示在表3～5中。
<电特性>
使用基因科技株式会社(ジェンテック社)制的过程模拟器(CYNTHIA91)，通过以下的方法对各实施例和比较例中所得的感光体的电特性进行了评价。
对于实施例1～73及比较例1～11的感光体，在温度22℃、湿度50％的环境下，于暗处通过电晕放电使感光体的表面带电-650V后，测定刚带电后的表面电位V0。接着，在暗处放置5秒后，测定表面电位V5，根据下述计算式(1)，求得带电后5秒后的电位保持率Vk5(％)。接着，将卤素灯作为光源，使用过滤器将其于780nm分光而得到1.0μW/cm2的曝光光，自表面电位达到
-600V时向感光体照射上述曝光光5秒，将表面电位达到-300V为止进行光衰减所需的曝光量记作E1/2(μJ/cm2)，将曝光5秒后的感光体表面的残余电位记作Vr5(V)，进行了评价。
Vk5＝V5/V0×100 (1)
对于实施例74～77和比较例12～15的感光体，将带电电位设为+650V，自表面电位达到+600V时照射曝光光，E1/2作为达到+300V为止所需的曝光量，与上述同样进行评价。
<实机特性>
将实施例1～73及比较例1～11制得的感光体搭载于HP制打印机LJ-4250上，打印10000张A4用纸，测定打印前后的感光体的膜厚，对于打印后的平均磨耗量(μm)实施评价。且作为图像缺陷的评价，观察初期及打印10000张后的白纸上的灰雾及黑纸浓度。将无灰雾和无浓度降低的情况设为良好。
另外，将实施例74～77及比较例12～15制得的感光体搭载于兄弟公司制打印机HL-2040上，打印10000张A4用纸，测定打印前后的感光体膜厚，对打印后的平均磨耗量(μm)实施评价。一并与上述同样，观察初期及打印10000张后的白纸上的灰雾及黑纸浓度。
[表3]
[表4]
[表5]
从表3～5的结果可知：在使用了无机氧化物浆料的透射率高、粘度低的无机氧化物的实施例1～77中，耐磨耗性良好，同时作为感光体的电特性良好，初期和打印10000张后图像品质都良好。另一方面，比较例1～15中确认到：耐刷后的膜磨耗量大，或者图像发生灰雾，打印浓度降低。在实施例1～77中，虽然机理尚不明确，但可认为是：由于浆料状态的透射率高且分散性良好，所以在形成感光层时的膜结构均匀，有助于图像的稳定性。另外，可知：在各实施例中，由于膜强度提高，所以相对于未添加无机氧化物的比较例，膜的耐磨耗性提高。
由以上可明确：通过形成含有满足本发明的透射率条件的无机氧化物的感光层，就能获得抑制磨耗且得到无图像缺陷的良好图像的电子照相用感光体。
符号说明
1 导电性基体
2 基底层
3 单层型感光层
4 电荷产生层
5 电荷输送层
7 感光体
21 带电构件
22 高压电源
23 像曝光构件
24 显像器
241 显像辊
25 走纸构件
251 走纸辊
252 走纸引导器
26 转印带电器(直接带电型)
27 清洁装置
271 清洁刮板
28 除电构件
60 电子照相装置
300 感光层

Claims (19)

1.一种电子照相用感光体，具备导电性基体、和
形成于所述导电性基体上且包含无机氧化物的感光层，
对20质量％无机氧化物浆料照射波长780nm的光时的所述光的透射率为40％以上；所述20质量％无机氧化物浆料通过将20质量％的所述无机氧化物分散在用于涂布形成所述感光层的感光层涂布液用的溶剂中而形成。
2.如权利要求1所述的电子照相用感光体，其特征在于，所述20质量％无机氧化物浆料的粘度在50mPa·s以下。
3.如权利要求1所述的电子照相用感光体，其特征在于，所述无机氧化物的一次粒径为1～200nm。
4.如权利要求1所述的电子照相用感光体，其特征在于，所述感光层为最外层。
5.如权利要求1所述的电子照相用感光体，其特征在于，所述无机氧化物以二氧化硅为主成分。
6.如权利要求1所述的电子照相用感光体，其特征在于，所述无机氧化物以二氧化硅为主成分且以1ppm～1000ppm包含铝元素。
7.如权利要求6所述的电子照相用感光体，其特征在于，所述无机氧化物经硅烷偶联剂表面处理。
8.如权利要求7所述的电子照相用感光体，其特征在于，所述硅烷偶联剂具有下述通式(1)所示的结构：
(R1)n-Si-(OR2)4-n (1)
式中，Si表示硅原子，R1表示碳直接结合于该硅原子上的形态的有机基团，R2表示有机基团，n表示0～3的整数。
9.如权利要求7所述的电子照相用感光体，其特征在于，所述硅烷偶联剂是包含选自如下至少一种的表面处理剂：
苯基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、环氧基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酸三甲氧基硅烷、氨基三甲氧基硅烷、脲基三甲氧基硅烷、巯丙基三甲氧基硅烷、异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷、苯基氨基三甲氧基硅烷、丙烯酸三甲氧基硅烷、对苯乙烯基三甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷以及N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷。
10.如权利要求7所述的电子照相用感光体，其特征在于，所述无机氧化物经多种所述硅烷偶联剂表面处理，最初用于表面处理的硅烷偶联剂具有下述通式(1)所示的结构：
(R1)n-Si-(OR2)4-n (1)
式中，Si表示硅原子，R1表示碳直接结合于该硅原子上的形态的有机基团，R2表示有机基团，n表示0～3的整数。
11.如权利要求1所述的电子照相用感光体，其特征在于，在所述感光层涂布液中以2质量％以下包含具有下述通式(2)所示结构的化合物：
Si(OH)m(R1)n(OR2)4-(n+m) (2)
式中，Si表示硅原子，R1表示碳直接结合于该硅原子上的形态的有机基团，R2表示有机基团，m表示1～4的整数，n表示0～3的整数，m+n为4以下。
12.如权利要求1所述的电子照相用感光体，其特征在于，用于形成所述感光层的感光层涂布液通过将无机氧化物浆料和感光层形成用液混合制得；所述无机氧化物浆料通过将所述无机氧化物一次分散在所述感光层涂布液用的溶剂中形成；所述感光层形成用液通过将电荷输送材料和树脂粘合剂溶解在所述感光层涂布液用的溶剂中形成。
13.如权利要求1所述的电子照相用感光体，其特征在于，用于形成所述感光层的感光层涂布液通过将无机氧化物浆料和感光层形成用液混合制得；所述无机氧化物浆料通过将所述无机氧化物一次分散在所述感光层涂布液用的溶剂中形成；所述感光层形成用液通过将电荷输送材料和树脂粘合剂溶解在所述感光层涂布液用的溶剂中，再使电荷产生材料分散而形成。
14.如权利要求12所述的电子照相用感光体，其特征在于，作为所述电荷输送材料，包含芳基胺化合物。
15.如权利要求12所述的电子照相用感光体，其特征在于，作为所述电荷输送材料，包含电子输送材料。
16.如权利要求13所述的电子照相用感光体，其特征在于，作为所述电荷产生材料，包含酞菁化合物。
17.一种电子照相用感光体的制造方法，它是通过使用感光层涂布液形成所述感光层以制造权利要求1所述的电子照相用感光体的方法，包含如下工序：
将所述无机氧化物一次分散于所述感光层涂布液用的溶剂中得到无机氧化物浆料的无机氧化物浆料调制工序，
将电荷输送材料及树脂粘合剂溶解于所述感光层涂布液用的溶剂中得到感光层形成用液的感光层形成用液调制工序，以及
将所得的所述无机氧化物浆料与所述感光层形成用液混合而得到所述感光层涂布液的感光层涂布液调制工序。
18.一种电子照相装置，由搭载有权利要求1所述的电子照相用感光体形成。
19.一种感光层涂布液，它是混合无机氧化物浆料与感光层形成用液而成的用于形成感光层的感光层涂布液；
所述无机氧化物浆料是将无机氧化物一次分散于所述感光层涂布液用的溶剂中而成的无机氧化物浆料；
所述感光层形成用液是将电荷输送材料及树脂粘合剂溶解于所述溶剂中而成的感光层形成用液；并且
对20质量％无机氧化物浆料照射波长780nm的光时的所述光的透射率为40％以上；所述20质量％无机氧化物浆料通过将20质量％的所述无机氧化物分散在所述溶剂中而制得。
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