CN102483592B - 电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种电子照相感光构件,所述电子照相感光构件即使在其为采用包含金属氧化物颗粒的层作为导电层的电子照相感光构件的情况下,也能够不易产生带电线条。此外,还公开了具有该电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。电子照相感光构件具有含有用掺杂有磷或钨的氧化锡涂布的氧化钛颗粒的导电层。
Description
技术领域
本发明涉及电子照相感光构件、以及具有所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
背景技术
近年来,关于使用有机光导电性材料的电子照相感光构件(有机电子照相感光构件)进行了积极的研究和开发。
电子照相感光构件基本上由支承体和形成于该支承体上的感光层构成。然而,在目前状况下,为了例如覆盖支承体表面的任何缺陷、保护感光层免受电击穿、改进带电性能及改进阻挡电荷从支承体注入到感光层等的目的,经常在支承体和感光层之间形成各种层。
在支承体和感光层之间形成的此类层中,包含金属氧化物颗粒的层已知为为了覆盖支承体表面的任何缺陷的目的而形成的层。包含金属氧化物颗粒的层通常具有比不包含任何金属氧化物颗粒的层更高的电导率(例如,5.0×108至1.0×1013Ω·cm作为体积电阻率)。因此,即使当其以大的层厚度形成时,在图像形成时的任何残余电位也不会易于增加,因此,能够容易地覆盖支承体表面的任何缺陷。
通过在支承体和感光层之间设置具有较高电导率的此类层(下文中“导电层)覆盖支承体表面的缺陷使得支承体表面对其缺陷具有更大的耐受度(tolerance)。结果,这使得支承体对其应用具有广大的耐受度,因此,带来电子照相感光构件的生产率能够得到改进的优点。
专利文献1公开了其中将掺杂有磷的氧化锡颗粒用于在支承体和感光层之间形成的层的技术。专利文献2还公开了其中将掺杂有钨的氧化锡颗粒用于在感光层上形成的保护层的技术。专利文献3还又公开了其中将用缺氧型氧化锡涂布的氧化钛颗粒用于在支承体和感光层之间形成的导电层的技术。专利文献4和5还又公开了其中将用氧化锡涂布的硫酸钡颗粒用于在支承体和感光层之间形成的层的技术。专利文献6还又公开了其中将用掺杂有锡的氧化铟(氧化铟-氧化锡)涂布的氧化钛颗粒用于在支承体和感光层之间形成的层的技术。
引用文献列表
专利文献
PTL1:日本专利申请特开H06-222600
PTL2:日本专利申请特开2003-316059
PTL3:日本专利申请特开2007-047736
PTL4:日本专利申请特开H06-208238
PTL5:日本专利申请特开H07-295270
PTL6:日本专利申请特开H 11-007145
发明内容
发明要解决的问题
然而,由本发明人进行的研究已揭示,当在低温低湿环境下通过使用采用包含如上所述的此类金属氧化物颗粒的任意层作为导电层的电子照相感光构件而形成图像时,在再现图像中趋于发生带电线条(charging lines)。带电线条是指沿与电子照相感光构件表面外周方向垂直的方向出现的线状缺陷图像,当电子照相感光构件的表面静电带电时由于电子照相感光构件的表面电位均匀性降低(即,非均匀带电)导致该线状缺陷图像,并且该线状缺陷图像在再现半色调图像时趋于显著出现。
本发明的目的在于提供一种电子照相感光构件和具有此类电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备,所述电子照相感光构件即使在其为采用包含金属氧化物颗粒的层作为导电层的电子照相感光构件的情况下,也能够不易产生此类带电线条。
用于解决问题的方案
本发明为一种电子照相感光构件,其包括支承体、形成在所述支承体上的导电层、形成在所述导电层上的感光层,其中;
所述导电层包含粘结材料和用掺杂有磷或钨的氧化锡涂布的氧化钛颗粒。
本发明还为一种处理盒,其一体化地支持上述电子照相感光构件和选自由充电装置、显影装置、转印装置和清洁装置组成的组的至少一种装置,并可拆卸地安装到电子照相设备的主体上。
本发明还又为一种电子照相设备,其包括上述电子照相感光构件、充电装置、曝光装置、显影装置和转印装置。
发明的效果
根据本发明,其能够提供一种电子照相感光构件和具有此类电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备,所述电子照相感光构件即使在其为采用包含金属氧化物颗粒的层作为导电层的电子照相感光构件的情况下,也能够不易产生此类带电线条。
附图说明
[图1]图1为示意性示出具有设置有本发明电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的结构的实例的图。
[图2]图2为说明如何测量导电层的体积电阻率的图(平面图)。
[图3]图3为说明如何测量导电层的体积电阻率的图(截面图)。
具体实施方式
本发明的电子照相感光构件为具有支承体、形成在所述支承体上的导电层、形成在所述导电层上的感光层的电子照相感光构件。感光层可以为将电荷产生材料和电荷输送材料包含在单一层中的单层型感光层,或者可以为以包含电荷产生材料的电荷产生层和包含电荷输送材料的电荷输送层的层形成的多层型感光层。此外还可以任选地在导电层和感光层之间设置底层。
作为支承体,其可以优选具有导电性的支承体(导电性支承体)。例如,可使用由金属如铝、铝合金或不锈钢制成的金属支承体。在使用铝或铝合金的情况下,以下是可用的:通过具有挤出步骤和拉拔步骤的生产方法生产的铝管和通过具有挤出步骤和减薄拉伸步骤的生产方法生产的铝管。此类铝管能够实现良好的尺寸精度和表面平滑度而不要求任何表面切削,此外从成本角度也是有利的。然而毛刺状突出缺陷(burr-likeprotruding defect)趋于在这些非切削铝管的表面上出现,因此设置导电层是特别有效的。
在本发明中,为了覆盖支承体表面的任何缺陷的目的,将含有粘结材料和用掺杂有磷(P)或者钨(W)的氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒的导电层形成在支承体上。用掺杂有磷(P)或者钨(W)的氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒在下文中也称为“磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒”。
导电层可以优选具有1.0×1013Ω·cm以下和更优选5.0×1012Ω·cm以下的体积电阻率。如果将具有太高体积电阻率的层设置在支承体上作为用于覆盖支承体表面的任何缺陷的层,电荷流动趋于停滞其中从而趋于增加残余电位。此外,还从防止带电线条发生的观点,导电层优选具有低体积电阻率。另一方面,导电层可以优选具有1.0×108Ω·cm以上和更优选5.0×108Ω·cm以上的体积电阻率。如果导电层具有太低体积电阻率,流动通过导电层的电荷的量可以为如此大以致当将图像在高温高湿环境下重复形成时在再现图像中由于电荷从支承体注入至感光层引起的点和/或起雾趋于发生。
以下将参照附图2和3描述如何测量电子照相感光构件的导电层的体积电阻率。
导电层的体积电阻率在常温常湿(23℃/50%RH)环境下测量。将铜制带203(型号1181,购自Sumitomo 3M Limited)粘贴至导电层202表面以使其作为导电层202表面侧上的电极。还可以使支承体201用作导电层202背侧上的电极。电源206和电流测量仪器207各自设定。前者用于在铜带203和支承体201之间施加电压,后者用于测量在铜带203和支承体201之间流过的电流。
为了使电压施加至铜带203,将铜线204放置在铜带203上,然后将类似于铜带203的铜制带205从铜线204上方粘贴至铜带203以使铜线204不可以从铜带203突出,从而将铜线204固定至铜带203。向铜带203,通过铜线204施加电压。
当在铜带203和支承体201之间不施加任何电压时确定的本底电流值通过I0(A)表示,当在铜带203和支承体201之间施加仅具有直流分量的1V电压时确定的电流值通过I(A)表示,导电层202的层厚度通过d(cm)表示和导电层202表面侧上的电极(铜带203)面积通过S(cm2)表示,其中将通过以下数学表达式(1)表示的值取做导电层202的体积电阻率ρ(Ω·cm)。
ρ=1/(I-I0)×S/d(Ω·cm) (1)
在该测量中,测量极度地小至1×10-6A以下的电流水平,因此,优选通过使用能够测量极其小的电流的仪器作为电流测量仪器207进行测量。此类仪器可以包括,例如,由YokogawaHewlett-Packard Company制造的pA计(商品名:4140B)。
此外,在以仅将导电层形成在支承体上的状态进行的测量或在以导电层上的各层(感光层等)已从电子照相感光构件剥离从而仅在支承体上留有导电层的状态进行的测量中导电层的体积电阻率显示出相似的值。
在本发明中,将具有核颗粒(氧化钛(TiO2)颗粒)和包覆层(磷(P)-或者钨(W)-掺杂的氧化锡(SnO2)层)的复合颗粒用作用于导电层的金属氧化物颗粒。这改进金属氧化物颗粒在形成导电层中使用的导电层涂布液中的分散性。如果任何磷(P)-或者钨(W)-掺杂的氧化锡(SnO2)颗粒(仅由磷(P)-或者钨(W)-掺杂的氧化锡(SnO2)组成的颗粒)用作金属氧化物颗粒,导电层涂布液中的金属氧化物颗粒趋于具有大的粒径,以致突出的斑点状缺陷可能出现在导电层的表面上或者导电层涂布液可能变得低稳定的。
将氧化钛(TiO2)颗粒用作核颗粒,这是因为它们的使用在防止带电线条出现方面是高度有效的,此外因为此类颗粒具有如此低的透明性以使得容易地覆盖支承体表面上的任何缺陷。另一方面,如果,例如将硫酸钡颗粒用作核颗粒,这使其难以防止带电线条出现。此外,因为它们作为金属氧化物颗粒的高透明性,这可能额外地需要用于覆盖支承体表面上的缺陷的任意材料。
不是任何未涂布的氧化钛(TiO2)颗粒,而是磷(P)-或者钨(W)-掺杂的氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒用作金属氧化物颗粒,这是因为当形成图像时此类未涂布的氧化钛(TiO2)颗粒趋于使电荷流动停滞,从而趋于导致残余电位的增加。
此外,与用缺氧型氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒相比,磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒在防止带电线条出现方面更高效。此外,与用缺氧型氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒相比,前者颗粒较少导致在低湿环境下体积电阻率的任何增加和在高湿环境下体积电阻率的任何降低,并还具有优良的环境稳定性。
此外,如何生产磷(P)-或者钨(W)-掺杂的氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒还公开于日本专利申请特开H06-207118和2004-349167中。
为了使导电层将体积电阻率保持在上述范围内,在制备用于形成导电层的导电层涂布液时,优选使用具有1.0×100Ω·cm以上至1.0×106Ω·cm以下的粉末电阻率的磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒。磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒可以更优选具有1.0×100Ω·cm以上至1.0×105Ω·cm以下,更加优选1.0×100Ω·cm以上至1.0×103Ω·cm以下,和更进一步优选1.0×100Ω·cm以上至1.0×102Ω·cm以下的粉末电阻率。如果磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒具有太高的粉末电阻率,则难以控制导电层具有1.0×1013Ω·cm以下或5.0×1012Ω·cm以下的体积电阻率。另一方面,如果磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒具有太低的粉末电阻率,则要生产的电子照相感光构件趋于具有低的带电性。
在磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒中,氧化锡(SnO2)的比例(覆盖率)可以优选为10质量%至60质量%,更优选15质量%至55质量%。为了控制氧化锡(SnO2)的覆盖率,形成氧化锡(SnO2)所需的锡原料必须在生产磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒时配混(compounded)。例如,该配混必须为考虑由锡原料氯化锡(SnCl4)形成的氧化锡(SnO2)。这里,氧化锡(SnO2)的覆盖率定义为由基于氧化锡(SnO2)和氧化钛(TiO2)的总质量、在不考虑掺杂至氧化锡(SnO2)的磷(P)或钨(W)的质量的情况下由氧化锡(SnO2)的质量计算的值。氧化锡(SnO2)任何太小的覆盖率使其难以控制磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒具有1.0×106Ω·cm以下的粉末电阻率。其任何太大的覆盖率趋于使氧化钛(TiO2)颗粒用氧化锡(SnO2)不均匀地涂布,并还趋于导致高成本。
用其掺杂氧化锡(SnO2)的磷(P)或者钨(W)(下文中也为“掺杂至氧化锡”的磷或者钨)的量(掺杂水平)可以优选0.1质量%至10质量%,基于要掺杂的氧化锡(SnO2)的质量(该质量不包括磷(P)或者钨(W)的质量)。任何太小的用其掺杂氧化锡(SnO2)的磷(P)或者钨(W)的掺杂水平使其难以控制磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒具有1.0×106Ω·cm以下的粉末电阻率。任何太大的用其掺杂氧化锡(SnO2)的磷(P)或者钨(W)的掺杂水平使得氧化锡(SnO2)具有低的结晶性,从而使其难以控制磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒具有1.0×100Ω·cm以上至1.0×106Ω·cm以下的粉末电阻率。通常,用磷(P)或者钨(W)掺杂氧化锡(SnO2)能够使颗粒具有低的粉末电阻率。
磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒的粉末电阻率在常温常湿(23℃/50%RH)环境下测量。在本发明中,将由Mitsubishi Chemical Corporation(商品名:LORESTA GP)制造的电阻测量仪器用作测量仪器。测量对象磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒在500kg/cm2的压力下压制以制备片状测量样品。粉末电阻率在100V的施加电压下测量。
为了更加防止带电线条出现,优选电子照相感光构件在频率1.0×103Hz下的介电损耗tanδ为5×10-3以上至2×10-2以下。
关于电子照相感光构件的带电线条和介电损耗tanδ之间的关系,其细节不清楚,本发明人认为如下所述。
在下述中,相对于电子照相感光构件的旋转方向,带电区域的这侧(其中将电子照相感光构件的表面通过充电装置静电带电的区域)称为带电区域上游侧,其相反侧称为带电区域下游侧。首先,在电子照相感光构件的表面的带电上游侧上已具有电荷后,电荷开始以较少量提供在带电区域下游侧,以致存在其中充分带电的区域和未充分带电的区域混合地存在于电子照相感光构件表面的情况。在此情况下,电位差可能出现在电子照相感光构件表面上,从而出现不均匀显影,其中线状缺陷图像(色调不均匀性)会沿与电子照相感光构件的表面的周向呈直角的方向出现在再现图像中。此类缺陷图像为带电线条。
作为该现象的原因之一,认为是介电极化。介电极化是在置于电场中的电介质中发生电荷偏移的现象。该介电极化的一种类型是由在任意构成该电介质的分子中沿偶极矩方向的变化导致的定向极化。
电子照相感光构件的定向极化和表面电位之间的关系如下所述,其与当电子照相感光构件的表面静电带电时施加至电子照相感光构件的电场如何变化有关。
电子照相感光构件的表面在其带电区域上游侧具有电荷,此时电荷到达电子照相感光构件的表面。在电荷到达电子照相感光构件表面的同时,由这些电荷产生电场(下文中称为“外部电场”)。因为该外部电场,电子照相感光构件内部的偶极矩逐渐开始极化(定向极化)。由此极化的偶极矩的矢量总和达到(comes to)作为极化的结果在电子照相感光构件内部产生的电场(下文中称为“内部电场”)。随着时间的消逝,极化进行,内部电场变得更大。
接着,考虑到施加至整个电子照相感光构件的电场强度,和在电子照相感光构件表面的电荷的量恒定时,此类电荷构成的外部电场恒定。另一方面,内部电场随着定向极化的进行变得更大。施加至整个电子照相感光构件的电场强度的总数可以通过增加外部电场和内部电场来确定,因此认为电场强度的总数随着极化的进行而逐渐降低。
在定向极化进行的过程中,电子照相感光构件各层的层厚度基本上不变,因此认为电位差和电场呈比例关系,其中随着定向极化进行而电场强度总数降低导致电子照相感光构件表面电位的降低。
为了评价该定向极化的进行,介电损耗tanδ用于本发明。介电损耗tanδ为基于交流电场中的定向极化进行的能量热损失,并作为定向极化的时间依赖性的指数。介电损耗tanδ在特定频率下大是指对应于该频率时的定向极化进行大。由定向极化进行引起的电子照相感光构件的表面电位降低受到在当电子照相感光构件表面在其充电区域上游侧上具有电荷时开始并当电子照相感光构件表面在其充电区域下游侧上具有电荷时结束的该时间(通常约1.0×10-3秒)期间定向极化进行得多远的影响。如果定向极化在该时间没有完成,则在电子照相感光构件表面在其充电区域下游侧上具有电荷之前定向极化会不可避免地进行,因此电子照相感光构件的表面电位降低,如所认为的。
因此,认为测量介电损耗tanδ能够预测伴随定向极化进行的电子照相感光构件的表面电位的降低而导致的带电线条及其程度。
以下描述如何测量电子照相感光构件的介电损耗tanδ。
首先,将电子照相感光构件沿其表面切成小片(每个10mm×10mm)。其中电子照相感光构件为圆筒状,具有曲面的片用钳子等拉伸以变为平面的各片。在制成平面的片上,真空沉积600nm厚度的金(电极)以制备测量样品。在本发明中,借助SanyuDenshi Co.,Ltd制造的溅射设备(商品名:SC-707QUICKCOATER)真空沉积。将该测量样品在常温常湿(23℃/50%RH)环境下放置24小时。放置后,将电子照相感光构件测量样品的介电损耗tanδ在频率为1.0×103Hz和施加电压为100mV的条件下在类似环境下测量。在本发明中,介电损耗tanδ利用由Solartron Co.,Ltd.制造的阻抗分析仪(商品名:Freq uency Response AnalyzerModel 1260,Dielectric-Constant Interface Model 1296)测量。
测量样品还可以通过以下制备:在其周围已卷绕铝片的支承体上形成与测量对象电子照相感光构件的各层类似的各层,其后将具有各层的铝片切割成小片(每个10mm×10mm),然后,其上真空沉积金(电极)。即使利用如此制备的测量样品,其也显示如上的类似值。
导电层的体积电阻率和具有导电层的电子照相感光构件的介电损耗tanδ具有关系,其中具有导电层的电子照相感光构件的介电损耗tanδ示出随着导电层体积电阻率的增加而增加的趋势。
在导电层具有类似的体积电阻率的情况下,具有包含磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒的导电层的电子照相感光构件的介电损耗tanδ显示变得比任意具有包含常规金属氧化物颗粒的导电层的电子照相感光构件的介电损耗tanδ低的趋势。因此,使用磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒的使用使其容易防止带电线条发生同时防止点和/或起雾发生。
导电层可以通过涂布以下导电层涂布液并干燥和/或固化形成的湿涂层来形成,所述导电层涂布液通过将磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒与粘结材料一起分散在溶剂中获得。作为分散方法,可以包括例如利用油漆搅拌器、砂磨机、球磨机或液体碰撞型高速分散机的方法。
作为用于导电层的粘结材料(粘结剂树脂),其可以包括例如酚醛树脂、聚氨酯树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺-酰亚胺树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、环氧树脂、丙烯酸类树脂、三聚氰胺树脂和聚酯树脂。任何这些可以单独使用或以两种以上组合使用。此外,这些中,从控制迁移(熔入(melt-in))到其它层、对支承体的粘合性、磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒的分散性和分散稳定性、膜形成后的耐溶剂性方面的观点,硬化性树脂是优选的,和热硬化性树脂(热固性树脂)是更优选的。又进一步地,热固性树脂中,热固性酚醛树脂和热固性聚氨酯树脂是优选的。在使用此类热固性树脂作为导电层用粘结材料的情况下,要包含于导电层涂布液的粘结材料用作热固性树脂的单体和/或低聚物。
用于制备导电层涂布液的溶剂可以包括例如醇类如甲醇、乙醇和异丙醇;酮类如丙酮、甲乙酮和环己酮;醚类如四氢呋喃、二噁烷、乙二醇单甲基醚和丙二醇单甲基醚;酯类如乙酸甲酯和乙酸乙酯;和芳香烃类如甲苯和二甲苯。
在本发明中,导电层涂布液中的磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒(P)和粘结材料(B)的质量比(P/B)可以优选为1.0/1.0以上至3.5/1.0以下。任何比粘结材料过于小的量的所述磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒会使得难以控制导电层的体积电导率为1.0×1013Ω·cm以下或者5.0×1012Ω·cm以下。另一方面,任何比粘结材料过于大的量的所述磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒会使得难以控制导电层的体积电导率为1.0×108Ω·cm以上或者5.0×108Ω·cm以上。任何比粘结材料过于大的量的所述磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒也会使其难以粘结磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒,从而趋于在导电层中产生裂纹。
从覆盖支承体的任何表面缺陷的观点,导电层的层厚度可以优选为10μm以上至40μm以下、更优选15μm以上至35μm以下。
在本发明中,电子照相感光构件的包括导电层的各层的层厚度用购自Fisher Instruments Co.的FISCHERSCOPE MultiMeasurement System(mms)测量。
导电层涂布液中磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒可以优选具有0.10μm以上至0.60μm以下、更优选0.15μm以上至0.45μm以下的平均粒径。如果磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒具有太小的平均粒径,则此类氧化物颗粒在制备导电层涂布液之后会再次聚集,从而使导电层涂布液是低稳定性的或者导致在导电层中的裂纹。如果磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒具有太大的平均粒径,则导电层的表面会如此粗糙以致趋于导致电荷从其局部注入至感光层中,从而点会显著地出现在再现图像的白色背景区域中。
导电层涂布液中的磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒的平均粒径可以下述方式通过液相沉积法测量。
首先,将导电层涂布液利用用于制备相同导电层涂布液的溶剂稀释,从而具有0.8和1.0之间的透光率。接着,磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒的平均粒径(体积基准D50)的直方图和粒径分布通过使用离心自动粒径分布测量仪制备。在本发明中,作为离心自动粒径分布测量仪,使用由Horiba,Ltd.制造的离心自动粒径分布测量仪(商品名:CAPA700)在3,000rpm转数的条件下进行测量。
为了防止由于从导电层的表面反射的光干涉导致的干涉条纹在再现图像上出现,还可以将用于使导电层表面粗糙化的表面粗糙度赋予材料加入导电层涂布液中。此类表面粗糙度赋予材料可以优选为平均粒径为1μm以上至5μm以下(优选3μm以下)的树脂颗粒。此类树脂颗粒可以包括例如硬化性橡胶和硬化性树脂的颗粒,所述硬化性树脂如聚氨酯、环氧树脂、醇酸树脂、酚醛树脂、聚酯、聚硅氧烷树脂和丙烯酸-三聚氰胺树脂。这些中,聚硅氧烷树脂颗粒由于较少聚集而是优选的。树脂颗粒的比重(其为0.5至2)比磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒的比重(其为4至7)小,因此导电层的表面能够在导电层形成时有效地粗糙化。然而,导电层具有随着导电层中表面粗糙度赋予材料的含量增加而体积电阻率增加的趋势。因此,为了将导电层的体积电阻率控制为1.0×1012Ω·cm以下,在导电层涂布液中表面粗糙度赋予材料的含量可以优选为1至80质量%,和更优选1至40质量%,基于在导电层涂布液中粘结材料的质量。
向导电层涂布液,还可以添加流平剂,以提高导电层的表面性质。还可以将颜料颗粒添加至导电层涂布液以改进导电层的覆盖性质。
在导电层和感光层之间,可以设置具有电阻挡性能的底层(也称为阻挡层或者中间层)以阻挡电荷从导电层注入至感光层中。
底层可以为通过在导电层上涂布含树脂(粘结剂树脂)的底层涂布液并干燥形成的湿涂层而形成。
用于底层的树脂(粘结剂树脂)可以包括例如,水溶性树脂如聚乙烯醇、聚乙烯基甲基醚、聚丙烯酸、甲基纤维素、乙基纤维素、聚谷氨酸、干酪素和淀粉;和聚酰胺、聚酰亚胺、聚酰胺-酰亚胺、聚酰胺酸、三聚氰胺树脂、环氧树脂、聚氨酯和聚谷氨酸酯。这些中,为了有效地带来底层的电阻挡性能,优选热塑性树脂。热塑性树脂中,优选热塑性聚酰胺。作为聚酰胺,优选共聚物尼龙等
底层的层厚度可以优选为0.1μm以上至2μm以下。
为了使电荷的流动不停滞在底层中,底层还可以引入电子输送材料。
将感光层形成于导电层(底层)上。
用于感光层的电荷产生材料可以包括例如,偶氮颜料如单偶氮、双偶氮和三偶氮,酞菁颜料如金属酞菁和无金属酞菁,靛蓝颜料如靛蓝和硫靛蓝,苝颜料如苝酸酐和苝酸酰亚胺,多环醌颜料如蒽醌和芘醌,方酸菁(squarilium)染料,吡喃鎓盐和噻喃鎓盐,三苯甲烷染料,喹吖啶酮颜料,薁鎓(azulenium)盐颜料,花青染料,呫吨染料,醌亚胺染料和苯乙烯基染料。这些中,优选金属酞菁如氧钛酞菁、羟基镓酞菁和氯镓酞菁。
在当感光层为多层型感光层时的情况下,电荷产生层可以通过涂布通过将电荷产生材料连同粘结剂树脂一起分散在溶剂中而获得的电荷产生层涂布液,并干燥所形成的湿涂层来形成。作为分散用的方法,可以利用使用均化器、超声波、球磨机、砂磨机、超微磨碎机或辊磨机的方法。
用于形成电荷产生层的粘结剂树脂可以包括例如,聚碳酸酯、聚酯、聚芳酯、丁醛树脂、聚苯乙烯、聚乙烯醇缩醛、邻苯二甲酸二烯丙基酯树脂、丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、乙酸乙烯酯树脂、酚醛树脂、聚硅氧烷树脂、聚砜、苯乙烯-丁二烯共聚物、醇酸树脂、环氧树脂、脲醛树脂和氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物。这些中的任何一种可以单独使用或以两种以上的混合物或共聚物的形式使用。
电荷产生材料和粘结剂树脂的比例(电荷产生材料∶粘结剂树脂)范围可以优选为10∶1至1∶10(质量比),更优选5∶1至1∶1(质量比),和再更优选3∶1至1∶1(质量比)。
用于电荷产生层涂布液的溶剂可以包括例如醇类、亚砜类、酮类、醚类、酯类、脂族卤化烃类和芳族化合物类。
电荷产生层的层厚度可以优选为5μm以下、更优选0.1μm以上至2μm以下。
向电荷产生层中,还可以任选加入可为各种类型的敏化剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂和增塑剂等。为了使电荷的流动不在电荷产生层中停滞,电子输送材料(电子接受材料如受体)也可以引入电荷产生层中。
用于感光层的电荷输送材料可以包括例如,三芳基胺化合物、腙化合物、苯乙烯基化合物、茋化合物、吡唑啉化合物、噁唑化合物、噻唑化合物和三芳基甲烷化合物。
在当感光层为多层型感光层时的情况下,电荷输送层可以通过涂布通过将电荷输送材料和粘结剂树脂溶解在溶剂中获得的电荷输送层涂布液,并干燥所形成的湿涂层来形成。
用于形成电荷输送层的粘结剂树脂可以包括,例如丙烯酸类树脂、苯乙烯树脂、聚酯、聚碳酸酯、聚芳酯、聚砜、聚苯醚、环氧树脂、聚氨酯、醇酸树脂和不饱和树脂。这些中的任何一种可以单独使用或以两种或多种的混合物或共聚物的形式使用。
电荷输送材料和粘结剂树脂的比例(电荷输送材料∶粘结剂树脂)的范围可以优选为2∶1至1∶2(质量比)。
用于电荷输送层涂布液的溶剂可以包括例如,酮类如丙酮和甲乙酮、酯类如乙酸甲酯和乙酸乙酯、醚类如二甲氧基甲烷和二甲氧基乙烷、芳香烃类如甲苯和二甲苯及用卤素原子取代的烃类如氯苯、氯仿和四氯化碳。
从充电均匀性和图像再现性的角度,电荷输送层的层厚度可以优选为3μm以上至40μm以下,和更优选5μm以上至30μm以下。
向电荷输送层中,还可以任选地添加抗氧化剂、紫外线吸收剂和增塑剂等。
在当感光层为单层型感光层时的情况下,单层型感光层可以通过涂布包含电荷产生材料、电荷输送材料、粘结剂树脂和溶剂的单层型感光层涂布液,并干燥所形成的湿涂层来形成。作为这些电荷产生材料、电荷输送材料、粘结剂树脂和溶剂,可以使用上述各种电荷产生材料、电荷输送材料、粘结剂树脂和溶剂。
出于保护感光层的目的,保护层还可以设置在感光层上。保护层可以通过涂布含树脂(粘结剂树脂)的保护层涂布液并干燥和/或固化所形成的湿涂层而形成。
用于形成保护层的粘结剂树脂可以包括,例如如酚醛树脂、丙烯酸类树脂、聚苯乙烯、聚酯、聚碳酸酯、聚芳酯、聚砜、聚苯醚、环氧树脂、聚氨酯、醇酸树脂、聚硅氧烷树脂和不饱和树脂。这些中的任何一种可以单独使用或以两种以上的混合物或共聚物的形式使用。
保护层的层厚度可以优选为0.5μm以上至10μm以下、更优选1μm以上至8μm以下。
当涂布上述各层用涂布液时,可使用通过浸涂(浸渍)、喷涂、旋涂、辊涂、迈耶(Mayer)棒涂布或刮板涂布示例的涂布方法。
图1示意性示出具有设置有本发明电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的结构的实例。
在图1中,附图标记1表示鼓形电子照相感光构件,其按箭头方向以规定圆周速度围绕轴2而旋转驱动。
通过充电装置(一次充电装置;例如充电辊)3将被旋转驱动的电子照相感光构件1的外周面均匀静电充电至正或负的规定电位。然后,将如此充电的电子照相感光构件暴露于从用于狭缝曝光或激光束扫描曝光的曝光装置(图像曝光装置;未示出)发出的曝光光(图像曝光光)4。以这种方式,相应于预定图像的静电潜像在电子照相感光构件1的外周面上连续形成。施加于充电装置3的电压可以仅为直流电压或可以为其上保持叠加交流电压的直流电压。
因此在电子照相感光构件1的外周面上形成的静电潜像用显影装置5的调色剂显影,从而形成调色剂图像。接着,将在电子照相感光构件1的外周面上如此形成和保持的调色剂图像通过施加来自转印装置(例如转印辊)6的转印偏压而转印到转印材料(如纸)P上。将该转印材料P以与电子照相感光构件1的旋转同步的方式通过转印材料进给装置(未示出)进给至电子照相感光构件1与转印装置6之间的部分(接触区域)。
将已转印调色剂图像的转印材料P从电子照相感光构件1的外周面分离并进给入将调色剂图像定影的定影装置8,然后作为成像材料(打印件或复印件)从该设备中输出。
通过清洁装置(如清洁刮板)7将已从其转印调色剂图像的电子照相感光构件1的外周面去除转印后残留的调色剂。将其进一步通过从预曝光装置(未显示)发出的预曝光光11进行电荷消除,此后重复用于成像。此外,在充电装置为接触型充电装置的情况下,不必需预曝光。
该设备可以由一体化引入在作为处理盒的容器中的多个组件的组合构成,以使该处理盒可拆卸地安装到电子照相设备的主体,该多个组件来自如上述电子照相感光构件1、充电装置3、显影装置5、转印装置6和清洁装置7等组件中。在图1中所示的内容中,电子照相感光构件1和充电装置3、显影装置5和清洁装置7一体化支持,从而形成设立处理盒9的盒,所述处理盒9通过设置在电子照相设备的主体中的导向装置10如轨道可拆卸地安装到电子照相设备的主体。
在本发明处理盒和电子照相设备的充电装置中,优选使用辊形充电装置(充电辊)。作为充电装置的构造,它可以由例如,导电性基材和一层或多层形成在该导电性基材上的覆盖层构成。设置该覆盖层的至少一层具有导电性。更具体地说,作为优选构成,其可以由导电性基材、形成在该导电性基材上的导电性弹性层和形成在该导电性弹性层上的表面层构成。
充电辊的表面可以优选具有5μm以下的十点平均粗糙度(Rzjis)。在本发明中,充电辊的表面的十点平均粗糙度(Rzjis)用由Kosaka Laboratory Ltd.制造的表面轮廓分析仪(商品名:SE-3400)测量。更具体地,使用该表面轮廓分析仪,在充电辊表面上随机的六点测量Rzjis,在这六点的测量值的算术平均值当作充电辊表面的十点平均粗糙度(Rzjis)。
如果充电辊的表面具有过大的十点平均粗糙度(Rzjis),调色剂及其外部添加剂趋于附着于充电辊表面,以致可能出现由充电辊表面的污染引起的缺陷图像。此外,因为将充电辊表面控制为5.0μm以下的十点平均粗糙度(Rzjis),所以可以将由于充电辊表面的表面轮廓高度差引起的放电水平差保持得很小。因此,这可以防止由于由充电辊的表面轮廓引起的任何不良带电而出现任何缺陷图像如斑点。
实施例
以下通过给出具体工作例更详细地描述本发明。然而,本发明决不限于这些工作例。在下述工作例中,“份”是指“质量份”。用于下述工作例的磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒中的氧化钛(TiO2)颗粒(核颗粒)全部为具有6.6m2/g BET值的那些。
-导电层涂布液制备例-
导电层涂布液1的制备例
将204份作为金属氧化物颗粒的磷(P)-掺杂的氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒(粉末电阻率:40Ω·cm;氧化锡(SnO2)的覆盖率:35质量%;掺杂至氧化锡(SnO2)的磷(P)量(磷(P)掺杂水平):3质量%)、148份作为粘结剂树脂的酚醛树脂(酚醛树脂的单体/低聚物)(商品名:PLYOPHEN J-325;购自Dainippon Ink&Chemicals,Incorporated;树脂固成分:60质量%)和98份作为溶剂的1-甲氧基-2-丙醇投入使用450份直径0.8mm的玻璃珠的砂磨机中,在转数为2,000rpm、分散处理时间为4小时和冷却水预设温度为18℃的条件下进行分散处理(表1中的“分散”),从而获得分散液。
在通过筛网从该分散液中去除玻璃珠后,将13.8份作为表面粗糙度赋予材料的聚硅氧烷树脂颗粒(商品名:TO SPEARL120;购自GE Toshiba Silicones;平均粒径:2μm)、0.014份作为流平剂的硅油(商品名:SH28PA;购自Dow Corning ToraySilicone Co.,Ltd.)、6份甲醇和6份1-甲氧基-2-丙醇添加至该分散液,接着搅拌,从而制备导电层涂布液1。
导电层涂布液1中磷(P)-掺杂的氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒具有0.35μm的平均粒径。
导电层涂布液2至20的制备例
除了将制备导电层涂布液时其中使用的金属氧化物颗粒(磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒)分别如表1所示改变之外,以与导电层涂布液1的制备例相同的方式制备导电层涂布液2至20。在导电层涂布液2至20中的金属氧化物颗粒(磷-或者钨-掺杂的氧化锡涂布的氧化钛颗粒)的平均粒径分别示于表1中。
导电层涂布液C1的制备例
除了将制备导电层涂布液时其中使用的204份金属氧化物颗粒,磷(P)-掺杂的氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒改变为204份日本专利申请特开H06-222600实施例1中公开的磷(P)-掺杂的氧化锡(SnO2)颗粒(含磷(P)氧化锡(SnO2)颗粒)(粉末电阻率:25Ω·cm;掺杂至氧化锡(SnO2)的磷(P)量(磷(P)掺杂水平):1质量%)之外,以与导电层涂布液1的制备例相同的方式制备导电层涂布液C1。在导电层涂布液C1中的金属氧化物颗粒的平均粒径为0.48μm。
导电层涂布液C2的制备例
除了将制备导电层涂布液时其中使用的204份金属氧化物颗粒,磷(P)-掺杂的氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒改变为204份钨(W)-掺杂的氧化锡(SnO2)颗粒(掺杂有基于氧化锡(SnO2)为7.1摩尔%钨(W)元素的超细氧化锡(SnO2)颗粒)之外,以与导电层涂布液1的制备例相同的方式制备导电层涂布液C2。在导电层涂布液C2中的金属氧化物颗粒的平均粒径为0.65μm。
导电层涂布液C3的制备例
除了将制备导电层涂布液时其中使用的204份金属氧化物颗粒,磷(P)-掺杂的氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒改变为204份日本专利申请特开2007-047736的导电层涂布液A的制备中公开的用缺氧型氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒(缺氧型SnO2涂布的TiO2颗粒)(粉末电阻率:100Ω·cm;氧化锡(SnO2)的覆盖率:40质量%)之外,以与导电层涂布液1的制备例相同的方式制备导电层涂布液C3。在导电层涂布液C3中的金属氧化物颗粒的平均粒径为0.36μm。
导电层涂布液C4的制备例
除了将制备导电层涂布液时其中使用的204份金属氧化物颗粒,磷(P)-掺杂的氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒改变为204份日本专利申请特开H11-007145的比较例1中公开的用锑(Sb)-掺杂的氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒(具有含氧化锑的氧化锡的涂层的氧化钛(TiO2)颗粒)(粉末电阻率:200Ω·cm)之外,以与导电层涂布液1的制备例相同的方式制备导电层涂布液C4。在导电层涂布液C4中的金属氧化物颗粒的平均粒径为0.36μm。
导电层涂布液C5的制备例
除了将制备导电层涂布液时其中使用的204份金属氧化物颗粒,磷(P)-掺杂的氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒改变为204份日本专利申请特开H07-295270的实施例3中公开的用氟(F)-掺杂的氧化锡(SnO2)涂布的硫酸钡(BaSO4)颗粒(具有含氟氧化锡涂层的硫酸钡颗粒)(粉末电阻率:40Ω·cm;氧化锡(SnO2)的覆盖率:50质量%;掺杂至氧化锡(SnO2)的氟(F)量(氟(F)掺杂水平):9质量%)之外,以与导电层涂布液1的制备例相同的方式制备导电层涂布液C5。在导电层涂布液C5中的金属氧化物颗粒的平均粒径为0.47μm。
导电层涂布液C6的制备例
除了将制备导电层涂布液时其中使用的204份金属氧化物颗粒,磷(P)-掺杂的氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒改变为日本专利申请特开2007-047736的导电层涂布液A的制备中公开的涂布有缺氧型氧化锡(SnO2)的氧化钛(TiO2)颗粒(缺氧型SnO2涂布的TiO2颗粒)(粉末电阻率:100Ω·cm;氧化锡覆盖率:40质量%)之外,以与导电层涂布液1的制备例相同的方式制备导电层涂布液C6。在导电层涂布液C6中的金属氧化物颗粒的平均粒径为0.36μm。
导电层涂布液C7的制备例
除了将制备导电层涂布液时其中使用的204份金属氧化物颗粒,磷(P)-掺杂的氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒改变为204份磷(P)-掺杂的氧化锡(SnO2)涂布的硫酸钡(BaSO4)颗粒(粉末电阻率:40Ω·cm;氧化锡覆盖率:35质量%;掺杂至氧化锡(SnO2)的磷(P)量(磷(P)掺杂水平):3质量%)之外,以与导电层涂布液1的制备例相同的方式制备导电层涂布液C7。在导电层涂布液C7中的金属氧化物颗粒的平均粒径为0.40μm。
-电子照相感光构件生产例-
电子照相感光构件1的生产例
通过具有挤出步骤和拉拔步骤的生产方法生产的246mm长和24mm直径的铝圆筒(JIS A 3003,铝合金)用作支承体。
将导电层涂布液1在23℃/60%RH环境下浸涂在支承体上,然后将形成的湿涂层在140℃下干燥和热固化30分钟以形成层厚度为30μm的导电层。导电层的体积电阻率通过前述方法测量,从而确定其为2.1×109Ω·cm。
接着,将4.5份N-甲氧基甲基化尼龙(商品名:TORESINEF-30T;购自Teikoku Chemical Industriy Co.,Ltd.)和1.5份共聚物尼龙树脂(商品名:AMILAN CM8000;购自Toray Industries,Inc.)溶解在65份甲醇和30份正丁醇的混合溶剂中,以制备底层涂布液。将获得的该底层涂布液浸涂在导电层上,然后将形成的湿涂层在70℃下干燥6分钟,从而形成层厚度为0.85μm的底层。
接着,将10份具有在CuKα特征X射线衍射中在布拉格角2θ±0.2°为7.5°、9.9°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°处具有强峰的晶形的羟基镓酞菁晶体(电荷产生材料)、5份聚乙烯醇缩丁醛树脂(商品名:S-LEC BX-1;购自Sekisui Chemical Co.,Ltd.)和250份环己酮投入使用0.8mm直径的玻璃珠的砂磨机中,并在分散处理时间为3小时的条件下进行分散处理。接着,向所得物体系中,加入250份乙酸乙酯,从而制备电荷产生层涂布液。将该电荷产生层涂布液浸涂在底层上,然后将形成的湿涂层在100℃下干燥10分钟,从而形成层厚度为0.12μm的电荷产生层。
接着,将4.8份由下式(CT-1)表示的胺化合物(电荷输送材料)和3.2份由下式(CT-2)表示的胺化合物(电荷输送材料)和10份聚碳酸酯树脂(商品名:Z400;购自Mitsubishi Engineering-PlasticsCorporation)溶解在30份二甲氧基甲烷和70份氯苯的混合溶剂中,从而制备电荷输送层涂布液:
将该电荷输送层涂布液浸涂在电荷产生层上,然后将形成的湿涂层在110℃下干燥30分钟,从而形成层厚度为12μm的电荷输送层。
因此,生产电荷输送层为表面层的电子照相感光构件1。
电子照相感光构件1在频率1.0×103Hz下的介电损耗tanδ通过前述方法测量,从而确定其为7×10-3。
电子照相感光构件2至20和C1至C7的生产例
除了将生产电子照相感光构件中用的导电层涂布液1分别改变为导电层涂布液2至20和C1至C7之外,电荷输送层为表面层的电子照相感光构件2至20和C1至C7以与电子照相感光构件1的生产例相同的方式生产。电子照相感光构件2至20和C1至C7在频率1.0×103Hz下的介电损耗tanδ各自通过前述方法与电子照相感光构件1一样地测量。关于各电子照相感光构件2至20和C1至C7的导电层的体积电阻率,也通过前述方法与电子照相感光构件1一样地测量。由此获得的结果示于表2。
电子照相感光构件21的生产例
除了将10份电荷产生材料,具有在CuKα特征X射线衍射中在布拉格角2θ±0.2°为7.5°、9.9°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°处具有强峰的晶形的羟基镓酞菁晶体改变为10份具有在CuKα特征X射线衍射中在布拉格角2θ±0.2°为9.0°,14.2°,17.9°,23.9°和27.1°处具有强峰的晶形的氧钛酞菁晶体之外,电荷输送层为表面层的电子照相感光构件21以与电子照相感光构件1的生产例相同的方式生产。电子照相感光构件21在频率1.0×103Hz下的介电损耗tanδ及其导电层的体积电阻率通过前述方法与电子照相感光构件1一样地测量。由此获得的结果示于表2。
电子照相感光构件22的生产例
除了将用于形成电子照相感光构件的电荷输送层的量为4.8份由结构式(CT-1)表示的胺化合物改变为7份,以及其中使用的3.2份由式(CT-2)表示的胺化合物改变为1份由下式(CT-3)表示的胺化合物之外,电子照相感光构件22以与电子照相感光构件1的生产例相同的方式生产。电子照相感光构件22在频率1.0×103Hz下的介电损耗tanδ及其导电层的体积电阻率通过前述方法与电子照相感光构件1一样地测量。由此获得的结果示于
表2。
电子照相感光构件R1的生产例
除了在生产电子照相感光构件时不形成导电层之外,电子照相感光构件R1以与电子照相感光构件1的生产例相同的方式生产。电子照相感光构件R1在频率1.0×103Hz下的介电损耗tanδ通过前述方法与电子照相感光构件1一样地测量。由此获得的结果示于表2。
表2
实施例1至22、参照例1和比较例1至7
将电子照相感光构件1至22、R1和C1至C7各自设置在由Hewlett-Packard Co.制造的激光束打印机(商品名:HPLASERJET P1505)中,在低温低湿(15℃/10%RH)环境下进行纸进给运行试验,从而进行图像评价。在纸进给运行试验中,以将具有打印百分比为2%的字符图像一张接一张地再现在信纸上的间歇模式操作打印,从而在3,000张上再现图像。
然后,在运行试验的开始和在3,000张上再现图像运行完成后,将图像评价用样品再现在两张上(实白图像、单点桂马(类似于桂马移动)图案半色调图像)。
进行关于带电线条和关于点(黑点)和/或起雾的图像评价。关于带电线条的评价通过使用单点桂马(类似于桂马移动)图案半色调图像进行。其标准如下所示。
A:根本未见带电线条。
B:几乎未见带电线条。
C:略微可见带电线条。
D:可见带电线条。
E:清晰可见带电线条。
关于黑点和/或起雾的评价通过使用实白图像进行。所得结果示于表3中。
除了对其进行上述纸进给运行试验的电子照相感光构件1至22、R1和C1至C7之外,还准备了用于各电子照相感光构件1至22、R1和C1至C的另一个,在高温高湿(30℃/80%RH)环境下对其进行与上述相同的纸进给运行试验,从而进行关于除了带电线条之外的那些的图像评价。所得结果一起示于表3中。
虽然已参照示例性实施方案描述了本发明,但是要理解本发明不限于所公开的示例性实施方案。以下权利要求书的范围应符合最宽的解释,从而涵盖所有这些改进和等同的结构及功能。
本申请要求2009年9月4日提交的日本专利申请2009-204522、2010年6月11日提交的日本专利申请2010-134306和2010年9月2日提交的日本专利申请2010-196408的权益,在此将其整体引入以作参考。
Claims (4)
1.一种电子照相感光构件,其包括支承体、形成在所述支承体上的导电层、形成在所述导电层上的感光层,其中:
所述导电层包含粘结材料和用掺杂有磷或钨的氧化锡涂布的氧化钛颗粒;
所述电子照相感光构件在频率1.0×103Hz下的介电损耗tanδ为5×10-3以上至2×10-2以下。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件,其中所述导电层的体积电阻率为5.0×108Ω·cm以上至1.0×1013Ω·cm以下。
3.一种处理盒,其一体化地支持根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件和选自由充电装置、显影装置、转印装置和清洁装置组成的组的至少一种装置,并可拆卸地安装至电子照相设备的主体。
4.一种电子照相设备,其包括根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件、充电装置、曝光装置、显影装置和转印装置。
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Legal Events
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---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |