CN100559290C

CN100559290C - 电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备、及用于生产电子照相感光构件的方法

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Publication number: CN100559290C
Application number: CNB2006800046634A
Authority: CN
Inventors: 中村一成; 平野秀敏; 上杉浩敏; 云井郭文; 高木进司; 阿部幸裕; 久野纯平; 三浦大祐
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 2005-03-28
Filing date: 2006-03-24
Publication date: 2009-11-11
Anticipated expiration: 2026-03-24
Also published as: CN101120287A

Abstract

在具有支承体、形成在该支承体上的导电层、形成在该导电层上的中间层和形成在该中间层上的感光层的电子照相感光构件中，已经通过使用含有具有平均粒径0.20μm以上至0.60μm以下的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒的导电层用涂布液形成导电层，且该导电层具有体积电阻率为大于8.0×10⁸Ωcm至1.0×10¹¹Ωcm以下。该电子照相感光构件可以防止带电线条出现。

Description

电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备、及用于生产电子照相感光构件的方法

技术领域

本发明涉及电子照相感光构件、具有该电子照相感光构件的处理盒及电子照相设备，本发明还涉及用于生产电子照相感光构件的方法。

背景技术

近年，关于使用有机光导电性材料的电子照相感光构件(即，有机电子照相感光构件)进行了积极的研究和开发。

电子照相感光构件各自基本上由支承体和形成于该支承体上的感光层构成。然而，在现有的环境下，为了例如覆盖支承体表面的缺陷、提高感光层的涂布性能、提高支承体和感光层间的粘合性、保护感光层免受电击穿、提高可充电性及提高阻止电荷从支承体注入到感光层的性能，经常在支承体和感光层间形成各种层。因此，要求欲在支承体和感光层之间形成的层具有许多功能如覆盖性、粘合性、机械强度、导电性、电阻挡性能等。

欲设置在支承体和感光层之间的层传统已知包括以下类型。

(i)不含有导电性材料的树脂层。

(ii)含有导电性材料的树脂层。

(iii)通过在类型(ii)的层上叠加类型(i)的层形成的多层。

类型(i)的层不含有导电性材料，因此该层具有高的电阻率。而且，为了覆盖没有进行过表面平滑处理的支承体表面的缺陷，其必须以大的厚度(层厚度)形成。

然而，如果这种具有高电阻率的类型(i)的层以大的层厚度形成，问题出现如其在起始阶段和反复使用期间产生高的残余电势。

因此，为了使类型(i)的层投入实际使用，必须减少支承体表面的缺陷并以小的层厚度形成该层。

另一方面，类型(ii)的层是其中导电性材料如导电性粒子分散于树脂中的层，可以使该层具有低的电阻率。因此，该层可以以大的层厚度形成以致覆盖导电性支承体或非导电性支承体(如由树脂制成的支承体)表面的缺陷。

然而，当类型(ii)的层以大的层厚度形成时，与以小的厚度形成的类型(i)的层相比，必定赋予该层足够的电导性，因此，类型(ii)的层导致具有低体积电阻率的层。因此，为了阻止其为图像缺陷的原因的电荷从支承体和类型(ii)的层注入感光层，在从低温和低湿到高温和高湿广泛变化的环境条件下，优选在类型(ii)的层和感光层之间额外设置具有电阻挡性(electrical barrier properties)的层。这种具有电阻挡性的层是不含有导电性材料的树脂层，如类型(i)的层。

即，欲设置在支承体和感光层之间的层可以优选具有其中类型(i)的层和类型(ii)的层顺次叠置的类型(iii)的构造。

类型(iii)的构造要求多层的形成，因此要求相应地更大数目的步骤。然而，其具有对支承体表面上的缺陷的耐受力可以范围更宽的优点，因此，对支承体使用的耐受力可以具有很宽的范围，从而保证获得生产率的提高。

通常，类型(ii)的层称为导电层，类型(i)的层称为中间层(底层或阻挡层)。

通过具有挤出步骤和拉拔步骤的生产方法生产的铝管及通过具有挤出步骤和减薄拉伸步骤的生产方法生产的铝管用作用于电子照相感光构件的支承体，其能够获得作为不需要表面切割的非切割管的良好的空间精确性和表面光洁度，除此之外，考虑到成本也是有利的。然而，毛刺状突起缺陷趋于出现在这些铝非切割管的表面。因此，从覆盖这种支承体的表面缺陷的观点出发，类型(iii)的构成也是优选的。

作为用于导电层的导电性材料，其包括各种金属、金属氧化物和导电性聚合物。特别地，由于具有优良的电阻率特性，具有粉体电阻率通常在10⁴至10⁶Ωcm范围内的氧化锡(下文也为“SnO₂”)是优选的。当生产SnO₂导电性材料时，也可获得通过混合(或掺杂)具有不同于锡的化合价的金属的化合物如氧化锑或非金属元素将粉体电阻率降低到1/1000至1/100000的导电性材料。不添加组成元素且在非掺杂状态的情况下，也可获得其中已经使SnO₂的电阻率与锑掺杂的材料的电阻率一样低的氧缺乏型的SnO₂导电性材料。

作为与氧缺乏型的SnO₂相关的在先技术，例如，日本专例申请特开No.H07-295245公开了在导电层中使用氧缺乏型的SnO₂的技术。日本专利申请特开No.H06-208238还公开了一种技术，在该技术中，使用氧缺乏型的SnO₂涂布硫酸钡颗粒以致分散性比在其中仅使用SnO₂的情况中进一步提高。日本专利申请特开No.H10-186702还公开了其中为了提高分散性使用硫酸钡颗粒、为了提高白度用氧化钛(TiO₂)涂布及为了提供导电性用SnO₂进一步涂布颗粒的技术。然而，该日本专利申请特开No.H10-186702没有公开氧缺乏型的SnO₂的任何实施方案。

近年来，采用接触充电系统的电子照相设备已经广泛使用，在接触充电系统中将电压施加于以与电子照相感光构件接触设置的充电构件(即，接触充电构件)以使电子照相感光构件充电。特别地，盛行其中使辊形接触充电构件(充电辊)与电子照相感光构件表面接触，且将通过将交流电压叠加于直流电压上产生的电压施加于其上以使电子照相感光构件充电(AC/DC接触充电系统)，或其中仅将直流电压施加于充电构件以使电子照相感光构件充电(DC接触充电系统)的系统。

在AC/DC接触充电系统中，有以下缺点：例如，与DC接触充电系统的情况相比，使得直流电源和交流电源必定带来电子照相设备自身成本增加和电子照相设备尺寸变大。另外，有这样的缺点：大量消耗的交流电引起接触充电构件和电子照相设备的耐久性劣化。

因此，考虑到成本降低、体积小和高耐久性，DC接触充电系统可以说是更优选的。

然而，相对于采用AC/DC接触充电系统的电子照相设备，采用DC接触充电系统的电子照相设备趋于在充电时电子照相感光构件表面电势的均一性(即带电均一性)方面变差。因此，由非均一带电和在电子照相感光构件的纵长方向(垂直于外围方向的方向)中出现非均一线条(下文也为“带电线条”)引起的缺陷图像易于在半色调图像或其类似图像中带来问题。

对于这种问题，已经就充电构件提出用于改进的建议。具体地，作为用于提高带电均一性的方法，就如何使充电构件的电阻分布均一和提高充电构件的表面性质进行了研究。

对于前者，可获得其中例如提高充电构件的表面层(最外层)中导电性材料的分散、将具有相对低体积电阻率的树脂用于接触充电构件的表面层的粘结材料及将构成接触充电构件的每一层的层厚度调节至均一的方法。

对于后者，可获得其中例如将流平剂(leveling agent)加入充电构件表面层和提高充电构件的弹性层的表面性质的方法。

在其中仅将直流电压施加至充电构件以使电子照相感光构件充电的情况中，日本专利申请特开No.H05-341620建议其中使充电构件的表面粗糙度为5μm以下以获得带电均一性的技术。

日本专利申请特开No.H08-286468建议其中为了保证带电均一性以提供良好的图像而使充电构件表面的十点平均粗糙度Rzjis(JIS B 0601)为20μm以下的技术。

根据以上建议，能够基本获得起始阶段带电均一性的提高，但是，在现有情况下在稳定带电均一性方面还不够。更具体地，作为长期使用的结果，污染物如显影剂灰尘或纸灰尘附着于充电构件表面。在那种情况下，当它们部分非均一地附着或以大量附着时，它们可能降低带电均一性。

为了在长期使用期间稳定带电均一性，提出其中进一步调整表面粗糙度来进行改进的建议。例如，在日本专利申请特开No.2004-061640和No.2004-309911中，公开了其中控制充电构件的表面粗糙度以保证带电均一性的技术。此外，在日本专利申请特开No.2004-038056中，公开了其中控制充电构件的表面粗糙度和电子照相感光构件的表面摩擦系数以保证带电均一性的技术。

通常已知：当充电构件具有较小的表面粗糙度时，作为长期使用的结果，可以更好地防止污染物附着于充电构件的表面。此外，如果其具有太大的表面粗糙度，因为由于充电构件的表面形状引起的缺陷带电，缺陷图像如斑点可能出现。从这些观点出发，更优选充电构件具有较小的表面粗糙度。

高度要求电子照相设备获得更高的速度和更高的图像质量。特别地，随着已经以彩色(以全色彩)复制图像，也已经复制半色调图像和实心像，这种对更高图像质量的需求稳定地逐年增加。

例如，重要性放在在每张纸张上复制的图像中的密度和色泽的均一性及连续图像复制中的稳定性上，因此，与在黑白打印机和黑白复印机中的耐受性相比，耐受性已经变得非常严格。特别地，在采用DC接触充电系统的电子照相设备中，在电子照相过程的一个循环中的记录趋于以电子照相感光构件的电荷电势非均一性出现，其可能带来由于曝光的记录(图像曝光)引起的重影和由于转印(转印记忆)引起的电荷记忆。那么，因此，密度非均一性可能出现在复制的图像中。

因此，在通常的情况中，应用其中电荷消除(去电荷)装置如预曝光装置设置在转印装置下游侧和充电装置上游侧以致消除在电子照相过程的一个循环中的记录和消除电子照相感光构件的表面电势的非均一性的方法。

发明内容

然而，作为本发明人进行研究的结果，已证明当将在支承体和感光层之间采用类型(iii)构成的电子照相感光构件用于具有这种预曝光装置的电子照相设备时带电线条趋于极大地出现。另外，已证明在低温和低湿环境中及在循环时间短的情况中带电线条更明显地出现。

本发明的一个目的是提供其中即使当在支承体和感光层之间采用类型(iii)构成时带电线条也难以出现的电子照相感光构件。

本发明的另一个目的是提供具有这种电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。

本发明的又一个目的是提供用于生产这种电子照相感光构件的方法。

本发明是电子照相感光构件，其具有支承体、形成于该支承体上的导电层、形成于该导电层上的中间层和形成于该中间层上的感光层，其中；

该导电层是通过使用含有具有平均粒径0.20μm以上至0.60μm以下的用氧缺乏型的SnO₂涂布的TiO₂颗粒的导电层用涂布液形成的层；且

该导电层具有体积电阻率大于8.0×10⁸Ωcm至1.0×10¹¹Ωcm以下。

本发明也是具有以上电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。

本发明还是用于生产电子照相感光构件的方法；该方法具有在支承体上形成具有大于8.0×10⁸Ωcm至1.0×10¹¹Ωcm以下体积电阻率的导电层的导电层形成步骤、在该导电层上形成中间层的中间层形成步骤及在该中间层上形成感光层的感光层形成步骤；

在该导电层形成步骤中，该层是通过使用含有具有平均粒径0.20μm以上至0.60μm以下的用氧缺乏型的SnO₂涂布的TiO₂颗粒的导电层用涂布液形成的。

根据本发明，可以提供其中即使在支承体和感光层之间采用类型(iii)的构造时也难以引起带电线条的电子照相感光构件。

根据本发明，还可以提供具有其中难以引起带电线条的电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。

附图说明

图1A表示本发明的电子照相感光构件的层构造的实例。

图1B表示本发明的电子照相感光构件的层构造的实例。

图1C表示本发明的电子照相感光构件的层构造的实例。

图1D表示本发明的电子照相感光构件的层构造的实例。

图2示意性地表示设置有具有本发明的电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的构造的实例。

附图中由附图标记表示的内容为：

101：支承体；

102：导电层

103：中间层；

104：感光层；

1041：电荷产生层；

1042：电荷输送层；

105：保护层；

1：电子照相感光构件；

2：轴；

3：充电装置(一次充电装置)；

4：曝光光(成像曝光光)；

5：显影装置；

6：转印装置(转印辊)；

7：清洁装置(清洁刮板)；

8：定影装置；

9：处理盒；

10：导向装置；及

11：预曝光光。

P表示转印材料(如纸)。

具体实施方式

以下更详细地描述本发明。

本发明的电子照相感光构件具有支承体、形成于该支承体上的导电层、形成于该导电层上的中间层和形成于该中间层上的感光层。

在本发明中，将包括用通过实现氧缺乏使电阻率已经降低的SnO₂涂布的TiO₂颗粒的颗粒用作欲掺入导电层的导电性材料。在本发明中，这种颗粒称为“用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒”。作为用这种方法降低电阻率的结果，已经使颗粒具有降低至约1/10000的以粉末电阻率计的电阻率。

氧缺乏型SnO₂具有优于用不同元素如锑掺杂的SnO₂的再使用性质。另外，对于氧缺乏型SnO₂，在低湿度环境中电阻率的增加及在高湿度环境中电阻率的降低较少，因此其环境稳定性优良。

用于在本发明中使用的导电层的导电性材料也不是仅由氧缺乏型SnO₂组成的颗粒(氧缺乏型SnO₂颗粒)，而是用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒。其原因如下：

首先，芯颗粒的使用(TiO₂颗粒)是为了提高颗粒在导电层用涂布液中的颗粒的分散性。如果使用氧缺乏型SnO₂制备导电层用涂布液，尤其当以高百分比含有氧缺乏型SnO₂时，该氧缺乏型SnO₂趋于附聚。

其次，TiO₂颗粒用作芯颗粒是由于氧缺乏型SnO₂的氧缺乏部分和在TiO₂颗粒表面的氧化物部分之间的亲合力加强了氧缺乏型SnO₂涂布层和芯材料之间的键合。不像掺杂的SnO₂，氧缺乏型SnO₂可以在氧存在时氧化而失去氧缺乏部分，带来低电导率(高粉末电阻率)。然而，使用TiO₂颗粒作为芯颗粒，保护了氧缺乏型SnO₂的氧缺乏部分。

当曝光光(图像曝光光)为激光光时，芯颗粒TiO₂颗粒还可以防止由于在激光曝光时从支承体表面反射的光的干涉造成的干涉条纹出现在复制的图像上。

另外，用于生产用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒的方法(用于制备氧缺乏型SnO₂的方法和用氧缺乏型SnO₂涂布TiO₂颗粒的方法)公开在日本专利申请特开No.H07-295245和H04-154621中。

为了防止带电线条出现，要求导电层具有体积电阻率大于8.0×10⁸Ωcm至1.0×10¹¹Ωcm以下。导电层可以优选具有低的电阻率。然而，为了防止带电线条在低温和低湿环境中出现，要求导电层具有体积电阻率1.0×10¹¹Ωcm以下。另一方面，如果导电层具有过低的电阻率，由于在高温和高湿环境中电荷注入感光层，斑点和起雾可能出现，因此，导电层可以优选具有体积电阻率大于8.0×10⁸Ωcm。

在本发明中，导电层的体积电阻率以以下方式测量。

首先，使用导电层用涂布液，在铝片上形成导电层样品(层厚度：约10至15μm；层厚度可以优选与电子照相感光构件的导电层的层厚度相同)。在该导电层样品上，通过真空沉积形成金的薄膜。用皮安计(pA计)测量流过铝片和金的薄膜的两个电极的电流值。该测量在23℃/60％RH环境中进行。施加0.1V电压。电流值的测量开始一分钟后，读取已经稳定的值，由其得到导电层的体积电阻率。

为了保持导电层的体积电阻率在上述范围内，优选使用粉体电阻率在1至500Ωcm范围内，更优选在1至250Ωcm范围内的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒。使用具有过高粉体电阻率的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒制备的导电层用涂布液使得难以保持导电层的体积电阻率在上述范围内。另一方面，使用具有过低粉体电阻率的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒制备的导电层用涂布液可能产生具有低可带电性的电子照相感光构件。

为了稳定地获得具有在以上范围内的粉体电阻率的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒，当生产颗粒时可以控制原材料的混合比例。例如，当生产颗粒时，可以以基于用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒的30至60质量％的量混合对于生产SnO₂必要的锡原材料(以假定从锡原料获得的SnO₂的纯度为100％来计算)。换言之，优选氧缺乏型SnO₂在TiO₂颗粒上的覆盖率为30至60质量％。

本发明中的粉体电阻率用以下方式测量。

由Mitsubishi Chemical Corporation制造的电阻测量仪器LORESTA AP用作测量仪器。将测量对象粉末(即，颗粒)在500kg/cm²压力下压制以制备小球状测量样品。测量在23℃/60％RH环境中进行。施加100V电压。

为了防止带电线条出现，还要求在导电层用涂布液中用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.20μm以上至0.60μm以下。在包含在导电层用涂布液中的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒中，粒径0.10μm以上至0.40μm以下的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒可以优选比例为45数量％以上，更优选60数量％以上，基于所有包含在导电层用涂布液中的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒的数量。

在本发明中，在导电层用涂布液中的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒的粒径(包括平均粒径和颗粒尺寸分布)通过液相沉降方法用以下方式测量。

首先，用包含在其中的相同的溶剂稀释导电层用涂布液以具有0.8以上至1.0以下的透光度(transmittance)。接下来，通过使用由Horiba Ltd.制造的超离心自动颗粒尺寸分布测量仪(CAPA700)在3000rpm的转数(number of revolutions)下的测量作出平均粒径(基于体积的D50)和颗粒尺寸分布的柱状图。

即使当导电层具有相同的组成时，随着用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒的平均粒径增加，粉体电阻率降低，同时体积电阻率也降低。

如果用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径小于0.20μm，为了保持导电层的体积电阻率在以上范围内，必须大量使用用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒。然而，如果大量使用用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒，难以获得为了防止干涉条纹出现在复制的图像上而优选的导电层表面粗糙度(Rz jis：1至3μm)，该干涉条纹是由于从导电层表面反射的光的干涉造成的。另外，Rz jis对应于已在JIS B 0601(1994)中所定义的Rz。该JIS B 0601标准已经在2001年修订，且Rz已经修订并用1994年使用的Ry(最大高度)代替。1994年的Rz已经在2001年改变，为了清楚的目的，命名为Rz jis。

如果大量使用用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒，当具有大的层厚度时，导电层趋于破裂而具有低的膜性质。

另一方面，当用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径大于0.6μm时，或者，即使不大于该值，当粒径0.10μm以上至0.40μm以下的氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒比例小于45数量％时，虽然可能保持导电层的体积电阻率在以上范围内。然而，导电层的表面可能变得非常粗糙而趋于引起电荷局部注入感光层，在某些情况下，斑点明显地出现在复制图像中的白色背景上。

在本发明中，导电层可以通过以下方式形成：用通过在粘结材料中连同溶剂分散具有平均粒径0.20μm以上至0.60μm以下的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒获得的导电层用涂布液涂布支承体，再干燥所形成的该湿涂层。为了分散颗粒，可以利用使用油漆搅拌器、砂磨机、球磨机、液体碰撞型高速分散机或类似机器的方法。

用于导电层用涂布液的溶剂可以示例如下：醇如甲醇、乙醇和异丙醇；酮如丙酮、甲乙酮和环己酮；醚如四氢呋喃、二噁烷、乙二醇单甲基醚和丙二醇单甲基醚；酯如乙酸甲酯和乙酸乙酯；和芳族烃如甲苯和二甲苯。

从覆盖支承体的表面缺陷的观点出发，导电层可以优选具有层厚度10μm以上至25μm以下，更优选15μm以上至20μm以下。

另外，在本发明中，电子照相感光构件的包括导电层的每一层的层厚度用购自Fisher Instruments Co.的FISCHERSCOPE Multi Measurement System(mms)测量。

导电层的粘结材料可以包括树脂(粘结剂树脂(binderresin))如酚醛树脂、聚氨酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酰胺-酰亚胺、聚乙烯缩醛、环氧树脂、丙烯酸类树脂、三聚氰胺树脂和聚酯。可以使用这些的一种或两种或多种。此外，在各种树脂中，从防止迁移到其它层、防止粘合到支承体、导电性材料的分散性和分散稳定性、膜形成后的耐溶剂性等方面的观点出发，导电层的粘结剂树脂可以优选硬化性树脂，更优选热固性树脂。具体地，优选热固性酚醛树脂和聚氨酯。在硬化性树脂用作导电层的粘结剂树脂的情况中，欲包含于导电层用涂布液的粘结材料包括该硬化性树脂的单体和/或低聚物。

还优选在导电层用涂布液中用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(P)与粘结材料(B)的质量比(P∶B)的范围为2.3∶1.0至3.3∶1.0。如果用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒比例过小，难以保持导电层的体积电阻率在以上范围内。如果用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒比例太大，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒难以粘结在导电层中，从而趋于引起破裂。

为了防止由于从导电层表面反射的光的干涉造成的干涉条纹出现在复制的图像上，可以将用于粗糙化导电层表面的表面粗糙度提供材料(surface roughness providing material)加入导电层用涂布液。这种表面粗糙度提供材料可以优选具有平均粒径1μm以上至3μm以下的树脂颗粒。例如，这种颗粒可以包括硬化橡胶和硬化性树脂如聚氨酯、环氧树脂、醇酸树脂、酚醛树脂、聚酯、硅酮树脂和丙烯酸-三聚氰胺树脂(acryl-melamineresin)的颗粒。特别地，由于较难附聚，优选硅酮树脂颗粒。树脂颗粒的比重(其为0.5至2)小于用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒的比重(其为4至7)，因此，能够在形成导电层时，使导电层表面有效地粗糙化。然而，当导电层中的表面粗糙度提供材料的含量增加时，导电层具有增加体积电阻率的倾向。因此，为了保持导电层的体积电阻率在以上范围内，可以优选控制导电层中的表面粗糙度提供材料的含量为至15至25质量％，基于导电层中的粘结剂树脂。

为了提高导电层的表面性质，可以加入流平剂，且为了提高导电层的覆盖性，可以在导电层中掺入颜料颗粒。

为了阻止电荷从导电层注入感光层，必须在导电层和感光层之间设置具有电阻挡性的中间层。这种中间层可以优选具有体积电阻率1.0×10⁹Ωcm以上至1.0×10¹³Ωcm以下。如果中间层具有过低的体积电阻率，它可能具有差的电阻挡性而趋于严重地引起由于电荷从导电层的注入造成的斑点和起雾。另一方面，如果中间层具过高的体积电阻率，电荷(载流子(carriers))的流动可能在成像时停滞而趋于导致残余电势的严重增加。

本发明中的中间层的体积电阻率以以下方式测量。

首先，使用中间层用涂布液在铝片上形成中间层样品(层厚度：约2至5μm)。在该中间层样品上，通过真空沉积形成金的薄膜。用皮安计(pA计)测量流过铝片和金的薄膜的两个电极的电流值。该测量在23℃/60％RH环境中进行测量。施加100V电压。电流值的测量开始一分钟后，读取已经变得稳定的值，由其得到中间层的体积电阻率。

中间层可以通过用含有粘结剂树脂的中间层用涂布液涂布导电层，并干燥所形成的该湿涂层而得到。

用于中间层的粘结剂树脂可以示例如下：水溶性树脂如聚乙烯醇、聚乙烯基甲基醚、聚丙烯酸、甲基纤维素、乙基纤维素、聚谷氨酸、酪朊和淀粉；聚酰胺、聚酰亚胺、聚酰胺-酰亚氨、聚酰胺酸、三聚氰胺树脂、环氧树脂、聚氨酯和聚谷氨酰胺。

为了有效地带来电阻挡性和从可涂布性、粘合性、耐溶剂性和电阻的观点出发，用于中间层的粘结剂树脂可以优选热塑性树脂。具体地，优选热塑性聚酰胺。作为聚酰胺，优选低结晶或非结晶共聚物尼龙或其类似物，这是由于能够以溶液状态涂布。此外，中间层可以优选具有层厚度0.1μm以上至2μm以下。

在通过使用导电层用涂布液和中间层用涂布液并通过依次叠置导电层样品和中间层样品来制备的多层样品中，优选满足0.2≤Imin/I(0)≤1.0的关系，其中，在0.10V/μm的电压施加到多层样品总厚度(导电层样品的层厚度+中间层样品的层厚度)时，在电压施加时间t秒时的电流值以I(t)表示，在范围0≤t≤300中的电流I(t)的最小值以Imin表示。

用于测量相对于电压施加时间的电流值的方法和用于测定Imin/I(0)值的方法描述于下。

在多层样品中，导电层样品的层厚度和中间层样品的层厚度可以优选分别等于电子照相感光构件的导电层的层厚度和中间层的层厚度。具体地，导电层样品以层厚度10至15μm形成于铝片上，中间层以层厚度0.5至1.5μm形成于其上。

首先，通过真空沉积在中间层样品上形成金的薄膜，并通过铝片和金薄膜的两个电极将0.10V/μm的电压从恒压电源施加于多层样品总厚度。接下来，用皮安计(pA计)测量流过铝片和金的薄膜的两个电极的电流值。该测量在23℃/60％RH环境中进行。施加100V电压。直至经过300秒才测量电流值，以电压施加起始时间为0秒。此外，在0秒到300秒期间测量的电流的最小值以Imin表示，其中，通过从存在于5秒以下的范围内的值外推得到I(0)值，获得Imin/I(0)值。

认为Imin/I(0)值受电荷在导电层和中间层之间界面处的运动影响。认为当Imin/I(0)值较小时，电荷在导电层和中间层之间的界面的运动较不顺畅，表明电荷容易在导电层和中间层之间的界面停滞。为了防止带电线条出现，Imin/I(0)值可以优选0.2以上。为防止带电线条出现，越接近1.0越有效。

为了使电荷的流动(载流)不在中间层停滞，电子输送材料(电子接受材料如受体)可以掺入中间层。

本发明的电子照相感光构件的构造描述如下。

如图1A、1B、1C和1D所示，本发明的电子照相感光构件是在支承体101上依次具有导电层102、中间层103、感光层104(电荷产生层1041、电荷输送层1042)的电子照相感光构件。

该感光层可以是在同一层中含有电荷输送材料和电荷产生材料的单层型感光层(见图1A)，或者是分离为含有电荷产生材料的电荷产生层1041和含有电荷输送材料的电荷输送层1042的多层型(功能分离型)感光层。从电子照相性能的观点出发，优选多层型感光层。多层型感光层也可以包括规则层型感光层，其中电荷产生层1041和电荷输送层1042依次从支承体101侧叠置(见图1B)，和反向层型(reverse-layer type)感光层，其中电荷输送层1042和电荷产生层1041依次从支承体101侧叠置(见图1C)。从电子照相特性的观点出发，优选规则层型感光层。

保护层105也可以设置在感光层104(电荷产生层1041或电荷输送层1042)上(见图1D)。

作为支承体，其可以是具有导电性的支承体(导电性支承体)。例如，可以使用由金属如铝、铝合金或不锈钢制成的支承体。在铝或铝合金的情况下，以下是可用的：通过具有挤出步骤和拉拔步骤的生产方法生产的铝管、通过具有挤出步骤和减薄拉伸步骤的生产方法生产的铝管及还有通过将这些管进行切割、电解复合抛光(electrolytic composite polishing)(使用i)具有电解作用的电极和ii)电解液进行的电解及使用具有抛光作用的磨石(grinding stone)进行的抛光)或湿法或干法珩磨获得的那些。也可能使用由金属制成的上述支承体或由树脂(如聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯、酚醛树脂、聚丙烯或聚苯乙烯)制成并具有通过真空沉积铝、铝合金、氧化铟-氧化锡合金或其类似物形成的层的支承体。也可以使用包括用导电性材料如炭黑、氧化锡颗粒、氧化钛颗粒或银颗粒浸渍的树脂或纸的支承体和由含有导电性粘结剂树脂的塑料制成的支承体。

为了使导电层的电荷(载流子)流动至基底，导电性支承体或者其中支承体的表面是为了提供导电性而形成的层，此层可以具有优选1.0×10¹⁰Ωcm以下，特别地更优选1.0×10⁶Ωcm以下的体积电阻率。

当支承体为非导电性支承体时，必须采用其中基底从本发明的电子照相感光构件的导电层构建的构造。

在支承体上形成导电层且在该导电层上形成中间层。对于该导电层和该中间层，它们如以前所描述的。

在该中间层上形成感光层。

用于本发明的电子照相感光构件的电荷产生材料可以示例如下：偶氮颜料如单偶氮、双偶氮和三偶氮，酞菁颜料如金属酞菁和无金属酞菁，靛蓝颜料如靛蓝和硫靛蓝，苝颜料如苝酸酐和苝酸酰亚胺，多环醌颜料如蒽醌和芘醌，squarilium染料，吡喃鎓盐和噻喃鎓盐，三苯甲烷染料，无机材料如硒、硒-碲和无定形硅，喹吖啶酮颜料，薁鎓(azulenium)盐颜料，花青染料，呫吨染料，醌亚胺染料，苯乙烯类染料，硫化镉及氧化锌。

其中，尤其优选金属酞菁如酞菁氧钛、羟基镓酞菁和酞菁氯镓。

在感光层为多层型感光层的情况下，用于形成电荷产生层的粘结剂树脂可以示例如下：聚碳酸酯、聚酯、聚芳酯、丁醛树脂、聚苯乙烯、聚乙烯缩醛、邻苯二甲酸二烯丙基酯树脂、丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸类树脂、乙酸乙烯酯树脂、酚醛树脂、硅酮树脂、聚砜、苯乙烯-丁二烯共聚物、醇酸树脂、环氧树脂、脲醛树脂和氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物。它们的任何一种可以单独使用或以两种或多种的混合物或共聚物的形式使用。

电荷产生层可以通过涂布通过在粘结剂树脂中连同溶剂分散电荷产生材料获得的电荷产生层用涂布液，并干燥所形成的湿涂层来形成。作为用于分散的方法，可以利用使用均化器、超声波、球磨机、砂磨机、立式球磨机或辊式研磨机的方法。电荷产生材料和粘结剂树脂可以优选比例为10∶1至1∶10(质量比)，特别地，更优选3∶1至1∶1(质量比)。

可以考虑欲使用的粘结剂树脂和电荷产生材料的溶解性或分散稳定性来选择用于电荷产生层用涂布液的溶剂。作为有机溶剂，其可以包括醇、亚砜、酮、醚、酯、脂族卤化烃和芳族化合物。

当施涂电荷产生层用涂布液时，可使用的涂布方法示例为浸涂、喷涂、旋涂、辊涂、迈耶(Mayer)棒涂布或刮板涂布。

电荷产生层可以优选层厚度为5μm以下，更优选0.1μm以上至2μm以下。

可以将可为各种类型的敏化剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、增塑剂等任选加入电荷产生层。为了使电荷(载流子)的流动不在电荷产生层停滞，电子输送材料(电子接受材料如受体)也可以掺入电荷产生层。

用于本发明的电子照相感光构件的电荷输送材料可以包括，例如三芳基胺化合物、腙化合物、苯乙烯基化合物、或芪化合物、吡唑啉化合物、噁唑化合物、噻唑化合物、及三芳甲烷化合物。

在感光层为多层型感光层的情况下，用于形成电荷输送层的粘结剂树脂可以示例如下：丙烯酸类树脂、苯乙烯树脂、聚酯、聚碳酸酯、聚芳酯、聚砜、聚苯醚、环氧树脂、聚氨酯、醇酸树脂和不饱和树脂。特别地，优选聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯腈共聚物、聚碳酸酯、聚芳酯和邻苯二甲酸二烯丙基酯树脂。此外，这些的任何一种可以单独或以两种或多种的混合物或共聚物的形式使用。

电荷输送层可以通过施涂通过在溶剂中溶解电荷输送材料和粘结剂树脂获得的电荷输送层用涂布液，并干燥所形成的湿涂层而形成。电荷输送材料和粘结剂树脂可以优选比例为1∶2至1∶2(质量比)。

用于电荷输送层用涂布液的溶剂可以示例如下：酮如丙酮和甲乙酮、酯如乙酸甲酯和乙酸乙酯、芳族烃如甲苯和二甲苯、醚如二甲氧基甲烷和二甲氧基乙烷及用卤素原子取代的烃如氯苯、氯仿和四氯化碳。

当施涂电荷输送层用涂布液时，可用的涂布方法示例为浸涂、喷涂、旋涂、辊涂、迈耶刮棒涂布或刮板涂布。

从带电均一性的角度来看，电荷输送层可以优选层厚度为5μm以上至40μm以下，更优选10μm以上至20μm以下。

可以向电荷输送层中任选加入抗氧化剂、紫外线吸收剂、增塑剂等。

在感光层为单层型感光层的情况下，单层型感光层可以通过施涂通过在以上粘结剂树脂中连同以上溶剂分散以上电荷产生材料和电荷输送材料获得的单层型感光层涂布液，并干燥所形成的该湿涂层而形成。

旨在保护感光层的保护层也可以设置在感光层上。保护层可以通过施涂通过在溶剂中溶解各种类型的粘结剂树脂获得的保护层用涂布液，并干燥所形成的该湿涂层而形成。

保护层可以优选层厚度为0.5μm以上至10μm以下，更优选1μm以上至5μm以下。

在本发明中优选使用的充电构件描述于下。

在本发明中优选使用的充电构件是具有辊形状的构件(下文也为“充电辊”)。它可以由例如，导电基材和一层或两层或多层形成在该导电基材上的覆盖层构成。设置该覆盖层的至少一层具有导电性。更具体地讲，其可以由导电性基材、形成在该导电基材上的导电性弹性层和形成在该导电性弹性层上的表面层构成。

充电构件的表面可以优选具有十点平均粗糙度(Rzjis)为5μm以下。

充电构件的表面的十点平均粗糙度(Rz jis)用由KosakaLaboratory Ltd.制造的表面粗糙度分析仪SE-3400测量。更具体地，用该测量设备在充电构件表面上的任意十点测量Rz jis，在这十点的测量值的平均值当作十点平均粗糙度。

如果充电构件具有过大的表面粗糙度，显影剂(调色剂和其外部添加剂)趋于作为连续图像复制的结果附着于充电构件表面，导致出现在复制图像上的充电构件表面的污染。

通过控制充电构件表面具有特定范围内的粗糙度，可以保持由于表面的不平整水平的差异带来的放电时的电荷量的小的差异。因此，可以防止由于归因于充电构件的表面轮廓的不良充电而出现缺陷图像如斑点。

在图2中，附图标记1表示鼓形电子照相感光构件，其按箭头方向以恒定圆周速度围绕轴2被旋转驱动。

通过充电装置3将被旋转驱动的电子照相感光构件1的外周表面均匀充电至正或负的给定电位。然后，将如此充电的电子照相感光构件暴露于从用于狭缝曝光、激光束扫描曝光或类似形式曝光的曝光装置(未示出)发出的曝光光(图像曝光光)4。用这种方式，相应于预定图像的静电潜像在电子照相感光构件1外周表面接连形成。施加于充电装置3的电压可以仅为直流电压或可以为其上叠加交流电压的直流电压。

将由此形成在电子照相感光构件1外周表面的静电潜像用显影装置5的调色剂显影以形成调色剂图像。然后，通过施加来自转印装置(转印辊)6的转印偏压，将由此形成并维持在电子照相感光构件1外周表面的调色剂图像持续转印到转印材料(如纸)P。另外，转印材料以与电子照相感光构件1的旋转同步的方式通过转印材料进给装置(未示出)进给至电子照相感光构件1与转印装置6之间的部分(接触区域)。

将已转印调色剂图像的转印材料P从电子照相感光构件1的外周表面分离并导入将调色剂图像定影的定影装置8，然后作为成像材料(打印件或复印件)从该设备中输出。

通过清洁装置(如清洁刮板)7将已从其转印调色剂图像的电子照相感光构件1的表面进行转印后残留的显影剂(调色剂)的去除，并由此将其清洁。将其进一步通过从预曝光装置(未显示)发出的预曝光光11进行电荷消除，此后反复用于成像。

该设备可以由一体化放置在容器中成为处理盒的多个组件的组合构成，以使该处理盒可拆卸地安装到电子照相设备的主体，该多个组件来自构成物如上述电子照相感光构件1、充电装置3、显影装置5、转印装置6和清洁装置7。在图2中，电子照相感光构件1和充电装置3、显影装置5和清洁装置7一体化放置，形成通过导向装置10如安装在电子照相设备的主体中的轨道而可拆卸地安装到电子照相设备的主体的处理盒9。

实施例

以下通过给出具体工作实施例更详细地描述本发明。然而，本发明决不限于这些实施例。在以下实施例中，“份”指“质量份”。

导电层用涂布液制备实施例

制备导电层用涂布液A

将55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：100Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)、36.5份酚醛树脂(商品名：PLYOPHEN J-325；购自Dainippon Ink&Chemicals，Incorporated；树脂固含量：60％)作为粘结剂树脂和35份甲氧基丙醇作为溶剂借助使用1mm直径的玻璃珠的砂磨机进行分散3小时以制备液体分散体。

将3.9份硅酮树脂颗粒(商品名：TOSPEARL 120；购自GEToshiba Silicones；平均粒径：2μm)作为表面粗糙度提供材料和0.001份硅油(商品名：SH28PA；购自Dow Corning ToraySilicone Co.，Ltd.)作为流平剂加入该液体分散体，接着搅拌以制备导电层用涂布液A。

在该导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.36μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为61.2质量％。

制备导电层用涂布液B

除了分散时间改变为4小时以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液B。

在该导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.33μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为64.8质量％。

制备导电层用涂布液C

除了分散时间改变为1小时以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液C。

在该导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.47μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为47.1质量％。

制备导电层用涂布液D

除了将55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：100Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)改变为55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：500Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：30％)以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液D。

在该导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.23μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为92.5质量％。

制备导电层用涂布液E

除了将55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：100Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)改变为55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：220Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：35％)以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液E。

在该导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.30μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为67.0质量％。

制备导电层用涂布液F

除了将55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：100Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)改变为55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：800Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：25％)以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液F。

在该导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.20μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为90.0质量％。

制备导电层用涂布液G

除了将55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：100Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)改变为55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：800Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：50％)以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液G。

在该导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.45μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为45.3质量％。

制备导电层用涂布液H

除了将55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：100Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)改变为55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：800Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：60％)以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液H。

在该导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.51μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为40.4质量％。

制备导电层用涂布液I

除了将55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：100Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)改变为55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：800Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：65％)以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液I。

在该导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.57μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为33.8质量％。

制备导电层用涂布液K

除了将55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：100Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)改变为57.6份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：0.8Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：70％)且用作导电层的粘结剂树脂的酚醛树脂的量改变为32份，分散时间改变为0.5小时以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液K。

将导电层用涂布液K和导电层用涂布液F以质量比3∶2放在一起，接着借助辊式计数器(roll counter)混合2小时以制备导电层用涂布液J。

在导电层用涂布液K中用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.57μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为46.2质量％。

制备导电层用涂布液L

除了将55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：100Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)改变为53份相同的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒且用作导电层的粘结剂树脂的酚醛树脂的量改变为40份以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液L。

在该导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.36μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为62.5质量％。

制备导电层用涂布液M

除了将55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：100Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)改变为56.7份相同的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒且用作导电层的粘结剂树脂的酚醛树脂的量改变为33.5份以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液M。

在该导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.36μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为61.8质量％。

制备导电层用涂布液N

除了将55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：100Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)改变为58.5份相同的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒且用作导电层的粘结剂树脂的酚醛树脂的量改变为30.5份以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液N。

在该导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.36μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为60.9质量％。

制备导电层用涂布液P

除了将55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：100Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)改变为59.4份相同的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒且用作导电层的粘结剂树脂的酚醛树脂的量改变为17.4份以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液P。

在该导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.36μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为60.3质量％。

制备导电层用涂布液Q

除了将粘结剂树酯改变为31.3份聚酯聚氨酯(商品名：NIPPOLAN 2304；购自Nippon Polyurethane Industry Co.，Ltd.；固含量：70％)以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液Q。

在该导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.36μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为61.1质量％。

制备导电层用涂布液R

除了将用作导电层的表面粗糙度提供材料的硅酮树脂颗粒的量改变为3.3份以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液R。

制备导电层用涂布液S

除了将用作导电层的表面粗糙度提供材料的硅酮树脂颗粒的量改变为4.4份以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液S。

在该导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒的平均粒径为0.36μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为60.3质量％。

制备导电层用涂布液T

除了将用作导电层的表面粗糙度提供材料的硅酮树脂颗粒的量改变为5.4份以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液T。

制备导电层用涂布液a

除了将55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：100Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)改变为57.6份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：0.8Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：70％)且也将用作导电层的粘结剂树脂的酚醛树脂的量改变为32份以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液a。

在该导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.65μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为22.5质量％。

制备导电层用涂布液b

除了将55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：100Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)改变为51.2份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：120Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)且也将用作导电层的粘结剂树脂的酚醛树脂的量改变为42.6份以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液b。

在该导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.35μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为63.9质量％。

制备导电层用涂布液c

除了将55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：100Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)改变为58.9份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：1200Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：20％)且也将用作导电层的粘结剂树脂的酚醛树脂的量改变为29.8份以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液c。

在该导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.19μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为88.1质量％。

制备导电层用涂布液d

除了将55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：100Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)改变为55份用掺杂了10质量％氧化锑的SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：15Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液d。

在该导电层用涂布液中，用掺杂了10质量％氧化锑的SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.36μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为61.0质量％。

制备导电层用涂布液e

除了将55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：100Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)改变为55份用氧缺乏型SnO₂涂布的硫酸钡颗粒(粉体电阻率：950Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：30％)以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液e。

在该导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的硫酸钡颗粒具有平均粒径0.18μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为85.2质量％。

制备导电层用涂布液f

除了将55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：100Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)改变为55份用既没有进行掺杂处理也没有进行氧缺乏处理的SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：200000Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液f。

在该导电层用涂布液中，用既没有进行掺杂处理也没有进行氧缺乏处理的SnO₂涂布的TiO₂颗粒具有平均粒径0.34μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为64.8质量％。

制备导电层用涂布液g

除了将55份用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒(粉体电阻率：100Ωcm；以质量百分比计的SnO₂覆盖率：40％)改变为55份氧缺乏型SnO₂颗粒(粉体电阻率：0.5Ωcm；无芯颗粒)以外，用与导电层用涂布液A中相同的方式制备导电层用涂布液g。

在该导电层用涂布液中，氧缺乏型SnO₂颗粒具有平均粒径0.05μm。在这些颗粒中，具有粒径在0.10μm至0.40μm范围内的颗粒的比例为40.0质量％。

电子照相感光构件生产实施例

生产电子照相感光构件1

通过具有挤出步骤和拉拔步骤的生产方法生产的260.5mm长和30mm直径的铝圆筒(JIS A 3003，铝合金)用作支承体。

将导电层用涂布液A在23℃/60％RH环境中通过浸涂施涂在支承体上，接着在140℃下干燥和热固化30分钟以形成具有层厚度15μm的导电层。测量该导电层表面的Rz jis而得到其为1.5μm。

(在本发明中，Rz jis根据JIS B 0601(1994)，通过使用由Kosaka Laboratory Ltd.制造的表面粗糙度分析仪SURFCORDER SE3500，和设定进给速度为0.1mm/s、截止λc为0.8mm及测量长度为2.50mm而测量)。

使用导电层用涂布液A制备导电层样品(层厚度：15μm)。在该导电层样品上通过真空沉积形成金的薄膜，测量导电层的体积电阻率而发现其为1.5×10¹⁰Ωcm。

接下来，将4.5份N-甲氧基甲基化尼龙(商品名：TORESINEF-30T；购自Teikoku Chemical Industry Co.，Ltd.)和1.5份共聚物尼龙树脂(商品名：AMILAN CM8000；购自Toray Industries，Inc.)溶解在65份甲醇和30份正丁醇的混合溶剂中以制备中间层用涂布液。将该获得的中间层用涂布液通过浸涂施涂在导电层上，接着在100℃下干燥10分钟以形成具有0.6μm层厚度的中间层。

使用该中间层用涂布液制备中间层样品(层厚度：3μm)。在该中间层样品上通过真空沉积形成金的薄膜，测量中间层的体积电阻率而发现其为2.0×10¹¹Ωcm。

使用以上导电层用涂布液和中间层用涂布液制备导电层和中间层多层样品(导电层的层厚度：15μm；中间层的层厚度：0.6μm)。在该多层样品上通过真空沉积形成金的薄膜，测量Imin/I(0)而发现其为0.80。

接下来，将10份具有在CuKα特征X射线衍射中在7.5°、9.9°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°的布拉格角2θ±0.2°处具有强峰的晶形的羟基镓酞菁、5份聚乙烯醇缩丁醛(商品名：S-LEC BX-1，购自Sekisui Chemical Co.，Ltd.)和250份环己酮借助使用1mm直径玻璃珠的砂磨机进行分散1小时，然后加入250份乙酸乙酯以制备电荷产生层用涂布液。

通过浸涂在中间层上施涂电荷产生层用涂布液，接着在100℃下干燥10分钟以形成具有层厚度为0.16μm的电荷产生层。

接着，将10份具有下式表示的结构的胺化合物和10份聚碳酸酯树脂(商品名：Z400；购自Mitsubishi Engineering-PlasticsCorporation)溶解在30份二甲氧基甲烷和70份氯苯的混合溶剂中以制备电荷输送层用涂布液：

通过浸涂将该电荷输送层用涂布液施涂在电荷产生层上，接着在120℃下干燥30分钟以形成层厚度为18μm的电荷输送层。

由此，生产其中电荷输送层为表面层的电子照相感光构件1。

生产电子照相感光构件2

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液B以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件2。

结果，导电层表面的Rz jis为1.3μm，导电层的体积电阻率为4.4×10¹⁰Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.50。

生产电子照相感光构件3

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液C以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件3。

结果，导电层表面的Rz jis为1.7μm，导电层的体积电阻率为7.5×10⁹Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为1.00。

生产电子照相感光构件4

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液D以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件4。

结果，导电层表面的Rz jis为1.3μm，导电层的体积电阻率为1.1×10¹¹Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.50。

生产电子照相感光构件5

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液E以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件5。

结果，导电层表面的Rz jis为1.5μm，导电层的体积电阻率为1.5×10¹⁰Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.53。

生产电子照相感光构件6

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液F以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件6。

结果，导电层表面的Rz jis为1.1μm，导电层的体积电阻率为1.0×10¹¹Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.33。

生产电子照相感光构件7

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液G以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件7。

结果，导电层表面的Rz jis为1.7μm，导电层的体积电阻率为2.5×10⁹Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为1.00。

生产电子照相感光构件8

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液H以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件8。

结果，导电层表面的Rz jis为2.0μm，导电层的体积电阻率为1.5×10⁹Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.96。

生产电子照相感光构件9

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液I以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件9。

结果，导电层表面的Rz jis为2.2μm，导电层的体积电阻率为1.0×10⁹Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为1.00。

生产电子照相感光构件10

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液K以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件10。

结果，导电层表面的Rz jis为1.8μm，导电层的体积电阻率为1.2×10⁹Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.88。

生产电子照相感光构件11

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液L以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件11。

结果，导电层表面的Rz jis为1.6μm，导电层的体积电阻率为5.0×10¹⁰Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.20。

生产电子照相感光构件12

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液M以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件12。

结果，导电层表面的Rz jis为1.5μm，导电层的体积电阻率为4.5×10⁹Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.86。

生产电子照相感光构件13

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液N以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件13。

结果，导电层表面的Rz jis为1.4μm，导电层的体积电阻率为1.5×10⁹Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.90。

生产电子照相感光构件14

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液P以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件14。

结果，导电层表面的Rz jis为1.3μm，导电层的体积电阻率为8.5×10⁸Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.91。

生产电子照相感光构件15

除了将导电层的层厚度改变为9μm以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件15。

结果，导电层表面的Rz jis为1.2μm，导电层的体积电阻率为8.5×10⁸Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.91。

生产电子照相感光构件16

除了将导电层的层厚度改变为10μm以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件16。

生产电子照相感光构件17

除了将导电层的层厚度改变为20μm以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件17。

结果，导电层表面的Rz jis为1.7μm，导电层的体积电阻率为8.5×10⁸Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.91。

生产电子照相感光构件18

除了将导电层的层厚度改变为25μm以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件18。

结果，导电层表面的Rz jis为2.3μm，导电层的体积电阻率为8.5×10⁸Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.91。

生产电子照相感光构件19

除了将导电层的层厚度改变为28μm以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件19。

结果，导电层表面的Rz jis为2.5μm，导电层的体积电阻率为8.5×10⁸Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.91。

生产电子照相感光构件20

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液Q且将导电层的层厚度改变为10μm以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件20。

结果，导电层表面的Rz jis为1.3μm，导电层的体积电阻率为3.0×10¹⁰Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.70。

生产电子照相感光构件21

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液R以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件21。

结果，导电层表面的Rz jis为1.2μm，导电层的体积电阻率为1.5×10¹⁰Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.80。

生产电子照相感光构件22

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液S以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件22。

结果，导电层表面的Rz jis为1.8μm，导电层的体积电阻率为1.5×10¹⁰Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.80。

生产电子照相感光构件23

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液T以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件23。

结果，导电层表面的Rz jis为2.1μm，导电层的体积电阻率为1.5×10¹⁰Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.80。

生产电子照相感光构件24

除了将中间层的层厚度改变为0.4μm以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件24。

结果，导电层表面的Rz jis为1.5μm，导电层的体积电阻率为1.5×10¹⁰Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.80。

生产电子照相感光构件25

除了将中间层的层厚度改变为1.5μm以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件25。

生产电子照相感光构件26

除了将电荷输送层的层厚度改变为20μm以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件26。

生产电子照相感光构件27

除了将电荷输送层的层厚度改变为10μm以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件27。

生产电子照相感光构件28

除了在生产电子照相感光构件1中，将电荷输送层的粘结剂树脂改变为具有下式表示的重复结构单元的聚芳酯树脂以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件28：

(粘均分子量Mv：42000)。另外，该具有以上式表示的重复结构单元的聚芳酯树脂是其中对苯二酸结构与间苯二酸结构的摩尔比(对苯二酸结构∶间苯二酸结构)为50∶50的树脂。

另外，粘均分子量Mv以以下方式测量。

首先，将0.5g样品溶解在100ml二氯甲烷中，用改进的Ubbelohde式粘度计测量所得溶液在25℃的比粘度。接下来，从该比粘度确定特性粘度，并根据Mark-Houwink′s粘度公式计算粘均分子量Mv。通过GPC(凝胶渗透色谱)测量的以聚苯乙烯换算的值获得粘均分子量Mv。

生产电子照相感光构件a

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液a以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件a。

结果，导电层表面的Rz jis为1.4μm，导电层的体积电阻率为6.0×10⁸Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为1.00。

生产电子照相感光构件b

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液b以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件b。

结果，导电层表面的Rz jis为1.2μm，导电层的体积电阻率为2.0×10¹¹Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.17。

生产电子照相感光构件c

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液c以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件c。

结果，导电层表面的Rz jis为0.8μm，导电层的体积电阻率为7.0×10¹⁰Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.18。

生产电子照相感光构件d

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液d以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件d。

结果，导电层表面的Rz jis为1.6μm，导电层的体积电阻率为4.0×10⁸Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.67。

生产电子照相感光构件e

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液e以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件e。

结果，导电层表面的Rz jis为0.9μm，导电层的体积电阻率为3.0×10¹¹Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.40。

生产电子照相感光构件f

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液f以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件f。

结果，导电层表面的Rz jis为1.5μm，导电层的体积电阻率为5.0×10¹²Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.10。

生产电子照相感光构件g

除了将导电层用涂布液A改变为导电层用涂布液g以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件g。

结果，导电层表面的Rz jis为1.6μm，导电层的体积电阻率为7.0×10¹¹Ωcm，在导电层和中间层多层样品中的Imin/I(0)为0.14。

生产电子照相感光构件h

除了不设置中间层以外，以与生产电子照相感光构件1中相同的方式生产电子照相感光构件h。

结果，导电层表面的Rz jis为1.5μm，导电层的体积电阻率为1.5×10¹⁰Ωcm。

充电构件生产例

生产充电辊A

首先，以以下方式形成弹性层。

表氯醇橡胶三元共聚物 100份

(表氯醇∶环氧乙烷∶烯丙基缩水甘油醚

＝40mol％∶56mol％∶4mol％)

软碳酸钙 30份

脂族聚酯型增塑剂 5份

硬脂酸锌 1份

抗氧化剂MB(2-巯基苯并咪唑) 0.5份

氧化锌 5份

季铵盐 2份

(以下结构式)

炭黑 5份

(表面未处理产物；平均粒径：0.2μm；体积电阻率：0.1Ωcm)

将以上材料借助调节到50℃的封闭式搅拌机捏合10分钟以制备原料配混物。将基于100份原料橡胶表氯醇橡胶的1份硫作为硫化剂、1份DM(硫化二苯并噻唑)作为硫化促进剂和0.5份TS(一硫化四甲基秋兰姆)，加入该配混物中，并借助冷却到20℃的双辊塑炼机捏合10分钟。

将通过捏合获得的配混物借助挤出机在由不锈钢制成的直径6mm的芯棒上挤出，如此形成为外径15mm的辊的形状。将该挤出产品用热蒸汽硫化，接着通过研磨处理以具有10mm的外径，由此生产具有弹性层的辊。在研磨处理中，采用幅宽磨耗方式。该辊长度为232mm。

在弹性层上，通过浸涂将以下所示的表面层用涂布液施涂来形成表面层。将浸涂进行两次。

首先，使用以下材料作为用于表面层用涂布液的材料，在作为容器的玻璃瓶中制备液体混合物。

己内酯改性的丙烯酸-多元醇溶液 100份

甲基异丁基酮 250份

导电性氧化锡 130份

(三氟丙基三甲氧基硅烷处理的产物；平均粒径：0.05μm；体积电阻率：10³Ωcm)

疏水二氧化硅3份

(二甲基聚硅氧烷处理的产物；平均粒径：0.02μm；体积电阻率：10¹⁶Ωcm)

改性的二甲基硅油 0.08份

交联的PMMA颗粒 80份

(平均粒径：4.98μm)

在该容器中，填充作为分散介质的玻璃珠(平均粒径：0.8mm)以填充80％，借助油漆搅拌器分散机进行分散18小时。向该获得的液体分散体中加入1，2-己二异氰酸酯(HDI)和异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)每种的丁酮肟封闭的物质的1∶1的混合物以使

NCO/OH＝1.0

以制备用于浸涂的表面层用涂布液。

通过浸涂将该表面层用涂布液在弹性层上涂布两次，接着空气干燥，此后在160℃的温度下干燥1小时以生产充电辊A。

在因此生产的充电辊A中，通过以上描述的方法测量它的十点平均粗糙度(Rz jis)，得到其为4.4μm。

另外，用由Shimadzu Corporation制造的激光衍射颗粒尺寸分布测量仪SALD-7000测量欲加入表面层的细颗粒的颗粒尺寸分布。可测量的粒径范围为0.015至500μm。

生产充电辊B

除了将欲加入表面层的PMMA颗粒改变为具有平均粒径2.53μm的PMMA颗粒以外，用与生产充电辊A中相同的方式生产充电辊B。充电辊B的Rzjis为2.9μm。

生产充电辊C

除了将欲加入表面层的PMMA颗粒改变为具有平均粒径1.09μm的PMMA颗粒以外，用与生产充电辊A中相同的方式生产充电辊C。充电辊C的Rz jis为1.3μm。

生产充电辊D

除了不将PMMA颗粒加入表面层以外，用与生产充电辊A中相同的方式生产充电辊D。充电辊D的Rz jis为1.5μm。

实施例1至34和比较例1至14

将如上所述生产的电子照相感光构件和充电辊每一个放置在由CANON INC.制造的激光束打印机LBP-2510的改造机中，在15℃/10％RH的环境中和30℃/80％RH的环境中进行纸进给运行(广泛操作)试验。对在起始阶段和运行5000张之后复制的图像进行评价。详细资料如下：

改造LBP-2510以使在处理速度190mm/s下运行。使用该改造机进行评价，其中每一个电子照相感光构件和每一个充电辊放置在LBP-2510的青色处理盒中，且该处理盒放置在青色处理盒位置。

在纸进给运行期间，以间歇模式进行全色彩打印，其中，使用信纸将具有打印百分比为2％的字符图像以20秒间隔复制在一张上，以在5000张上复制图像。

然后，将用于图像评价的样品在运行开始和运行5000张纸后复制在三张(分别具有全白图像、全黑图像和一点锯齿图案半色调图像)上。

另外，对在15℃/10％RH环境中进行的运行试验中的带电线条、干涉条纹、斑点和起雾进行图像评价，对30℃/80％RH环境中进行的运行试验中的斑点和起雾进行评价。

图像评价标准如下所示。

带电线条：

检查任何带电线条是否见于锯齿图案半色调图像。

A：根本未见带电线条。

B：几乎未见带电线条。

C：轻微可见带电线条。

D：可见带电线条。

E：清晰可见带电线条。

干涉条纹：

检查任何干涉条纹是否见于锯齿图案半色调图像。

A：根本未见干涉条纹。

C：轻微可见干涉条纹。

D：可见干涉条纹。

起雾和斑点：

检查全白图像上的起雾和斑点。

结果示于表1和2。在表中，空白意味着未发生起雾和斑点。

从以上所示结果可以看出，根据本发明，即使当构造电子照相感光构件以具有支承体、形成在支承体上的导电层和形成在导电层上的中间层及形成在中间层上的感光层时，使用具有优良再使用性质的氧缺乏型SnO₂能够提供其中已经防止带电线条出现的电子照相感光构件。

根据本发明，还可以提供具有这种电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。

根据本发明，还可以提供用于生产这种电子照相设备的方法。

本申请要求2005年3月28日提交的日本专利申请No.2005-091564和2005年7月11日提交的日本专利申请No.2005-201857的优先权，其在这里引入以作参考。

Claims

1.一种电子照相感光构件，其包括支承体、形成在该支承体上的导电层、形成在该导电层上的中间层和形成在该中间层上的感光层，其中；

所述导电层是通过使用含有具有平均粒径为0.20μm至0.60μm的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒的导电层用涂布液形成的层；且

所述导电层具有体积电阻率为8.0×10⁸Ωcm至1.0×10¹¹Ωcm，但不包括8.0×10⁸Ωcm，

其中，所述导电层用涂布液进一步含有粘结材料，在所述导电层用涂布液中，用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒P和粘结材料B的质量比P∶B的范围为2.3∶1.0至3.3∶1.0。

2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中，在包含在导电层用涂布液中的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒中，粒径为0.10μm至0.40μm的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒的比例为45数量％以上，基于包含在导电层用涂布液中的所有用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒的数量。

3.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中，所述导电层用涂布液是通过使用具有粉体电阻率为1Ωcm至500Ωcm的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒制备的涂布液。

4.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中，所述导电层具有层厚度为10μm至25μm。

5.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中，所述粘结材料为用于硬化性树脂的原料的单体和低聚物的至少一种。

6.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中，所述支承体为由铝制成且通过具有挤出步骤和拉拔步骤的生产方法生产的支承体。

7.一种处理盒，其包括根据权利要求1所述的电子照相感光构件和选自由充电装置、显影装置、转印装置和清洁装置组成的组的至少一种，其一体化放置；该处理盒可拆卸地安装到电子照相设备的主体上。

8.根据权利要求7所述的处理盒，其中，所述充电装置包括以与所述电子照相感光构件接触设置的充电构件。

9.根据权利要求8所述的处理盒，其中，所述充电构件是具有导电性支承体和形成在该导电性支承体上的导电性覆盖层的构件，且该充电构件的表面具有十点平均粗糙度Rz jis为5μm以下。

10.一种电子照相设备，其包括根据权利要求1所述的电子照相感光构件、充电装置、曝光装置、显影装置和转印装置。

11.根据权利要求10所述的电子照相设备，其中，所述充电装置包括以与所述电子照相感光构件接触设置的充电构件。

12.根据权利要求11所述的电子照相设备，其中，所述充电构件是具有导电性支承体和形成在该导电性支承体上的导电性覆盖层的充电构件，且该充电构件的表面具有十点平均粗糙度Rz jis为5μm以下。

13.根据权利要求11所述的电子照相设备，其进一步包括用于仅施加直流电压的电压施加装置。

14.一种用于生产电子照相感光构件的方法；该方法包括在支承体上形成具有体积电阻率8.0×10⁸Ωcm至1.0×10¹¹Ωcm，但不包括8.0×10⁸Ωcm的导电层的导电层形成步骤，在该导电层上形成中间层的中间层形成步骤和在该中间层上形成感光层的感光层形成步骤；

在所述导电层形成步骤中，通过使用含有具有平均粒径0.20μm至0.60μm的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒的导电层用涂布液形成该层，

15.根据权利要求14所述的用于生产电子照相感光构件的方法，其中，在包含在导电层用涂布液中的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒中，粒径为0.10μm至0.40μm的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒的比例为45数量％以上，基于包含在导电层用涂布液中的所有用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒的数量。

16.根据权利要求14所述的用于生产电子照相感光构件的方法，其中，所述导电层用涂布液是通过使用具有粉体电阻率为1Ωcm至500Ωcm的用氧缺乏型SnO₂涂布的TiO₂颗粒制备的涂布液。

17.根据权利要求14所述的用于生产电子照相感光构件的方法，其中，所述导电层以层厚度为10μm至25μm形成。

18.根据权利要求14所述的用于生产电子照相感光构件的方法，其中，所述粘结材料为用于硬化性树脂的原料的单体或低聚物的至少一种。

19.根据权利要求14所述的用于生产电子照相感光构件的方法，其中，所述支承体是由铝制成且通过具有挤出步骤和拉拔步骤的生产方法生产的支承体。