CN103809399A - 电子照相感光体、处理盒和图像形成设备 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及电子照相感光体、处理盒和图像形成设备,所述电子照相感光体包括:导电性基板;底涂层,所述底涂层设置在导电性基板上,含有粘合剂树脂、金属氧化物颗粒和具有酸性基团的电子接受性化合物,并在温度为22℃、湿度为50%RH、交流电压为±1V和频率为1Hz的测量条件下具有1×105Ω~1×108Ω的交流阻抗,并且在温度为22℃、湿度为50%RH、交流电压为±1V和频率为100Hz的测量条件下具有1×103Ω~1×108Ω的交流阻抗;和感光层,所述感光层设置在底涂层上。
Description
技术领域
本发明涉及电子照相感光体、处理盒和图像形成设备。
背景技术
电子照相图像形成设备由于能够进行高速、高品质打印而用于如复印机和激光束打印机等图像形成设备中。通常,用于图像形成设备中的感光体是使用有机光电导材料的有机感光体。当制造有机感光体时,例如在许多情形中,先在铝基板上形成底涂层(有时也称作中间层),然后形成感光层,特别是由电荷生成层和电荷输送层构成的感光层。
例如,JP-A-05-11483(专利文献1)公开了一种电子照相感光体,所述电子照相感光体包括通过中间层而位于导电性基板上的感光层,其中中间层含有特定聚酰胺树脂。
JP-A-2002-123028(专利文献2)公开了一种图像形成设备,所述图像形成设备通过将形成于感光体上的色调剂图像转印至记录介质而形成图像,其中,所述感光体具有导电性基板、在导电性基板周围形成的中间层和在中间层周围形成的感光层,并且中间层含有在树脂中的平均粒径为100nm以下的金属氧化物细粒。
JP-A-05-80572(专利文献3)公开了一种电子照相感光体,所述电子照相感光体具有设置在导电性基板上的光电导层,包括:中间层,所述中间层设置在导电性基板与光电导层之间,含有白色颜料和粘合剂树脂作为主要组分,并且其中所使用的白色颜料与粘合剂树脂的体积比为1/1~3/1;和底涂层,所述底涂层由设置在导电性基板与中间层之间的粘合剂树脂构成。
JP-A-2003-186219(专利文献4)公开了一种电子照相感光体,所述电子照相感光体包括导电性基板、在基板上形成的中间层和在中间层上形成的感光层,其中,中间层含有金属氧化物细粒和粘合剂树脂,在28℃和85%RH对其施加106V/m的电场时具有108Ω·cm~1013Ω·cm的体积电阻率,并在15℃和15%RH对其施加106V/m的电场时该层的体积电阻率为在28℃和85%RH对其施加106V/m的电场时的体积电阻率的500倍以下。
JP-A-2006-30698(专利文献5)公开了一种图像形成设备,所述图像形成设备包括电子照相感光体、充电单元、曝光单元、显影单元和转印单元,其中,所述图像形成设备在使电子照相感光体的外周表面沿预定方向移动的同时进行充电、曝光、显影和转印,所述图像形成设备还包括控制单元,所述控制单元控制电子照相感光体的外周表面的移动速度以使由充电至显影的过程所需的时间可变,所述电子照相感光体至少包括底涂层和感光层,并且所述底涂层至少包含金属氧化物细粒和具有能够与金属氧化物细粒反应的基团的受体化合物。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种能够获得图像的电子照相感光体,其中,因前一循环的历史而导致的浓度变化(下文中称作“重影”)得到抑制。
上述目的通过以下方面实现。即,根据本发明的第一方面,提供一种电子照相感光体,所述电子照相感光体包括:导电性基板;底涂层,所述底涂层设置在导电性基板上且含有粘合剂树脂、金属氧化物颗粒和具有酸性基团的电子接受性化合物,并在温度为22℃、湿度为50%RH、交流电压为±1V和频率为1Hz的测量条件下具有1×105Ω~1×108Ω的交流阻抗,并且在温度为22℃、湿度为50%RH、交流电压为±1V和频率为100Hz的测量条件下具有1×103Ω~1×108Ω的交流阻抗;和感光层,所述感光层设置在底涂层上。
根据本发明的第二方面,在根据第一方面的电子照相感光体中,在温度为22℃、湿度为50%RH、交流电压为±1V和频率为1Hz的测量条件下交流阻抗可以为1×104Ω~1×107Ω。
根据本发明的第三方面,在根据第一方面的电子照相感光体中,在温度为22℃、湿度为50%RH、交流电压为±1V和频率为100Hz的测量条件下交流阻抗可以为5×103Ω~1×107Ω。
根据本发明的第四方面,在根据第一方面的电子照相感光体中,在温度为22℃、湿度为50%RH、交流电压为±1V和频率为1Hz~100Hz的测量条件下交流阻抗可以为1×103Ω~1×108Ω。
根据本发明的第五方面,在根据第一方面的电子照相感光体中,电子接受性化合物可以是蒽醌衍生物。
根据本发明的第六方面,在根据第五方面的电子照相感光体中,蒽醌衍生物可以是由以下式(1)表示的化合物:
式(1)
其中,式(1)中,n1和n2各自独立地表示0~3的整数,条件是n1和n2中至少有一个表示1~3的整数;m1和m2各自独立地表示0或1的整数;并且R1和R2各自独立地表示具有1~10个碳原子的烷基或具有1~10个碳原子的烷氧基。
根据本发明的第七方面,在根据第一方面的电子照相感光体中,金属氧化物颗粒可以是选自由氧化锌、氧化钛和氧化锡组成的组中的至少一种。
根据本发明的第八方面,在根据第一方面的电子照相感光体中,金属氧化物颗粒可以是氧化锌。
根据本发明的第九方面,提供一种可从图像形成设备拆卸的处理盒,所述处理盒包括根据第一至第八方面中任一方面的电子照相感光体。
根据本发明的第十方面,根据第九方面的处理盒还包括接触型充电单元,所述接触型充电单元对电子照相感光体的表面充电。
根据本发明的第十一方面,提供一种图像形成设备,所述图像形成设备包括:根据第一至第八方面中任一方面的电子照相感光体;充电单元,所述充电单元对电子照相感光体的表面充电;静电潜像形成单元,所述静电潜像形成单元在经充电的电子照相感光体的表面上形成静电潜像;显影单元,所述显影单元使用色调剂使形成于电子照相感光体表面上的静电潜像显影以形成色调剂图像;和转印单元,所述转印单元将形成于电子照相感光体表面上的色调剂图像转印至记录介质上。
根据本发明的第十二方面,在根据第十一方面的图像形成设备中,充电单元可以是接触型充电单元。
根据本发明的第一至第四方面,提供了一种能够获得图像的电子照相感光体,其中,与底涂层在各频率的交流阻抗不在上述范围内的情形相比,重影得到抑制。
根据本发明的第五和第六方面,提供了一种能够获得图像的电子照相感光体,其中,与电子接受性化合物不是蒽醌衍生物的情形相比,重影得到抑制。
根据本发明的第七方面,提供了一种能够获得图像的电子照相感光体,其中,与金属氧化物不是特定金属氧化物的情形相比,重影得到抑制。
根据本发明的第九方面,提供了一种能够获得图像的处理盒,其中,与提供其中底涂层在各频率的交流阻抗不在上述范围内的电子照相感光体的情形相比,重影得到抑制。
根据本发明的第十方面,提供了一种能够获得图像的处理盒,其中,与提供其中底涂层在各频率的交流阻抗不在上述范围内的电子照相感光体的情形相比,即使当设置容易产生色调剂附着于非图像部分的现象(下文中称作“模糊”)的接触型充电单元时,模糊也得到抑制。
根据本发明的第十一方面,提供了一种图像形成设备,其中,与提供其中底涂层在各频率的交流阻抗不在上述范围内的电子照相感光体的情形相比,模糊得到抑制。
根据本发明的第十二方面,提供了一种图像形成设备,其中,与提供其中底涂层在各频率的交流阻抗不在上述范围内的电子照相感光体的情形相比,即使当设置容易产生模糊的接触型充电单元时,模糊也得到抑制。
附图说明
将基于以下附图对本发明的示例性实施方式进行详细描述,其中:
图1是显示根据示例性实施方式的电子照相感光体的层构造的一个实例的示意图;
图2是显示根据本发明的示例性实施方式的电子照相感光体的层构造的另一实例的示意图;
图3是显示根据本发明的示例性实施方式的电子照相感光体的层构造的又一实例的示意图;
图4是显示根据本发明的示例性实施方式的电子照相感光体的层构造的另一实例的示意图;
图5是显示根据本发明的示例性实施方式的电子照相感光体的层构造的又一实例的示意图;
图6是显示根据本发明的示例性实施方式的电子照相感光体的层构造的另一实例的示意图;
图7是显示根据本发明的示例性实施方式的图像形成设备的一个实例的构造示意图;和
图8是显示用于实施例中重影评价的图表的示意图。
具体实施方式
下面将描述本发明的示例性实施方式。
电子照相感光体
根据本发明的示例性实施方式的电子照相感光体(下文中有时简称为“感光体”)包括导电性基板、设置在导电性基板上的底涂层和设置在底涂层上的感光层。
底涂层含有粘合剂树脂、金属氧化物颗粒和具有酸性基团的电子接受性化合物。
此外,底涂层在温度为22℃、湿度为50%RH、交流电压为±1V和频率为1Hz的测量条件下具有1×105Ω~1×108Ω的交流阻抗,并且在温度为22℃、湿度为50%RH、交流电压为±1V和频率为100Hz的测量条件下具有1×103Ω~1×108Ω的交流阻抗。
在此,例如近来与打印用感光体市场有关的是,对于特别是图像品质的需求已经得到增长。为满足此需求,已知有下述技术,所述技术通过将粘合剂树脂、金属氧化物颗粒和电子接受性化合物混合用于电子照相感光体的底涂层,然后控制底涂层的电阻,从而能使感光体的电特性得到稳定化,由此提高图像品质的稳定性。
然而,近来由于感光体的直径减小(设备的小型化使然)和设备速度提高,因此目前尚不能充分实现感光体的电特性的稳定化,即图像品质的稳定化,特别是对重影(因前一循环的历史而导致的浓度变化)的抑制。
另一方面,在根据本发明的示例性实施方式的感光体中,通过使用上述构造,可以获得重影(因前一循环的历史而导致的浓度变化)得到抑制的图像。
原因尚不清楚,但可考虑下述原因。
首先,在通过电子照相的图像形成过程中,进行感光体的充电和曝光,以及转印。在此图像形成过程中,如果关注电荷在电子照相感光体的底涂层中的移动,则会认为在充电时空穴在底涂层中移动,并且空穴在底涂层与感光层(例如,电荷生成层)之间的界面处被阻挡。
接下来,在曝光时,电子在底涂层中向导电性基板方向移动。然后,在转印时,考虑到施加了正电场,感光体表面的电荷减少,因此空穴在底涂层中移动。
另外,作为另一种情况,出于控制色调剂的带电极性的目的,在转印和清洁之前也对感光体进行充电,或者出于擦除累积的电荷的目的,也使用擦除光进行照射。此时,电荷也在底涂层中移动。
以此方式,在一次图像形成过程中,据认为在感光体的底涂层中存在电荷的一次或多次往复运动,并且底涂层处于被施加交流电压的状态。具体而言,例如,当感光体的直径因使设备小型化而减小并且设备的速度提高时,认为底涂层处于被施加高频率的交流电压的状态。
底涂层的交流阻抗是指处于被施加交流电压状态下的电阻。换言之,频率为1Hz时的交流阻抗是指在施加低频率的交流电压状态下(即,当采用具有大直径感光体和低处理速度的设备时)底涂层的电阻。另一方面,频率为100Hz时的交流阻抗是指当感光体的直径被减小并且设备的速度被升高时底涂层的电阻。
如果底涂层在频率为1Hz和频率为100Hz时各自的交流阻抗被调整为具有上文所述范围的电阻,则在通过使电荷平滑移动而抑制图像品质缺陷的同时获得电荷的阻挡性。即,当电阻过低时,认为电荷的阻挡性在充电时劣化,由此使模糊或黑点变得更严重。
据此,在根据本发明的示例性实施方式的感光体中,可以获得重影(因前一循环的历史而导致的浓度变化)得到抑制的图像。特别是,即使在感光体的直径被减小并且设备的速度被升高的情形中,也可以长期抑制重影。
另外,在根据本发明的示例性实施方式的感光体中,由于残余电位的增加也得到抑制,因此感光体电位的循环特性得到提高(因反复使用而导致的感光体电位变化得到抑制)。结果,例如,容易实现更耐用的电子照相感光体或者抑制半色调图像的浓度不均匀。
特别是,在包括接触型充电单元的图像形成设备(处理盒)中,认为容易发生局部放电,并且当底涂层的面内不均一性显著时,更容易发生反常的放电。
因此,在包括接触型充电单元的图像形成设备(处理盒)中,容易产生模糊(色调剂附着于非图像部分的现象)。但是,当使用根据本发明的示例性实施方式的电子照相感光体时,底涂层具有在上文所述范围内的交流阻抗。因此,认为底涂层的防漏性也得到提高,由此可能实现模糊得到抑制的图像。
下面将参照附图描述根据本发明的示例性实施方式的电子照相感光体。
图1~6是显示根据本发明的示例性实施方式的感光体的层构造的示意图。图1所示的感光体被构造为包括导电性基板1、在导电性基板1上形成的底涂层2和在底涂层2上形成的感光层3。
另外,如图2所示,感光层3可以具有电荷生成层31和电荷输送层32的双层结构。此外,如图3和4所示,可以在感光层3或者电荷输送层32上设置保护层5。此外,如图5和6所示,可以在底涂层2与感光层3之间或者在底涂层2与电荷生成层31之间设置中间层4。
所示为在底涂层2与感光层3之间或者在底涂层2与电荷生成层31之间设置中间层4的情况,但是也可以在导电性基板1与底涂层2之间设置中间层4。当然,也可以采用不设置中间层4的情形。
下面描述电子照相感光体的各组成部分。将在省略附图标记的情形下进行描述。
导电性基板
作为导电性基板,可以使用过去使用的任何导电性基板。导电性基板的实例包括具有薄膜(例如,金属,如铝、镍、铬或不锈钢,和膜,如铝、钛、镍、铬、不锈钢、金、钒、氧化锡、氧化铟或氧化铟锡(ITO)等)等的树脂模、涂布或浸渍有导电性赋予剂的纸张,和涂布或浸渍有导电性赋予剂的树脂膜等。基板的形状不限于圆筒状,也可以是片状或板状。
当使用金属管作为基板时,管的表面可以处于未处理的状态,或可以进行如镜面切削、蚀刻、阳极氧化、粗切削、无心研磨、喷砂或湿珩磨等处理。
底涂层
交流阻抗
底涂层在温度为22℃、湿度为50%RH、交流电压为±1V和频率为1Hz的测量条件下具有1×105Ω~1×108Ω的交流阻抗。从抑制重影方面考虑,该交流阻抗优选为1×104Ω~1×107Ω。
另一面,底涂层在温度为22℃、湿度为50%RH、交流电压为±1V和频率为100Hz的测量条件下具有1×103Ω~1×108Ω的交流阻抗。从抑制重影方面考虑,该交流阻抗优选为5×103Ω~1×107Ω。
此外,优选的是,底涂层在1Hz~100Hz的频率范围内具有在1×103Ω~1×108Ω范围内的交流阻抗。
各频率下底涂层的交流阻抗通过例如以下方面调整:1)金属氧化物颗粒和电子接受性化合物的种类,2)金属氧化物颗粒的添加量或粒径,3)金属氧化物颗粒的表面处理剂的种类和处理量,4)金属氧化物颗粒的分散状态,和5)底涂层的干燥条件(干燥时间和干燥温度)。
另外,随着金属氧化物颗粒的粒径变大,底涂层的交流阻抗趋于降低。此外,随着金属氧化物颗粒的添加量变大,底涂层的交流阻抗趋于升高。
此外,随着金属氧化物颗粒的分散性提高,底涂层的交流阻抗趋于升高。具体而言,随着底涂层形成用涂布液的分散处理时间的延长,底涂层的交流阻抗趋于升高。
交流阻抗的测量方法如下。
首先,使用溶剂(例如,丙酮、四氢呋喃、甲醇或乙醇等)从电子照相感光体除去覆盖底涂层的如电荷生成层和电荷输送层等涂布膜,并通过真空沉积法或溅射法等在暴露的底涂层上设置金电极。由此,获得用于测量的底涂层样品。
使用该底涂层样品,在测量条件(温度为22℃,湿度为50%RH,交流电压±1V(直流电压0V)和频率为1Hz或100Hz)下通过使用阻抗分析仪126096W型(由Solartron制造)进行测量,由此获得各频率下的交流阻抗。
构造
所述底涂层被构造为包含粘合剂树脂、金属氧化物颗粒和电子接受性化合物。
粘合剂树脂
粘合剂树脂的实例包括聚合物树脂化合物,如缩醛树脂(例如聚乙烯醇缩丁醛等)、聚乙烯醇树脂、酪蛋白、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸系树脂、丙烯酸系树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、聚硅氧烷树脂、聚硅氧烷-醇酸树脂、酚醛树脂、苯酚-甲醛树脂和三聚氰胺树脂等。另外,也可以举出通过这些树脂与固化剂之间的反应而获得的树脂。
金属氧化物颗粒
金属氧化物颗粒的实例包括氧化锑颗粒、氧化铟颗粒、氧化锡颗粒、氧化钛颗粒和氧化锌颗粒等。
其中,作为金属氧化物颗粒,从抑制重影方面考虑,优选的是氧化锡颗粒、氧化钛颗粒、氧化锌颗粒。更优选的是氧化锌颗粒。
作为金属氧化物颗粒,优选使用粒径优选为100nm以下的导电性粉末,特别是优选使用粒径为10nm~100nm的导电性粉末。此处,粒径是指平均一次粒径。金属氧化物颗粒的平均一次粒径为通过使用SEM(扫描电子显微镜)观察而测量的值。
当金属氧化物颗粒的粒径为10nm以下时,金属氧化物颗粒的表面积增加,由此分散体的均一性有时会降低。另一方面,当金属氧化物颗粒的粒径超过100nm时,可以推断,二次颗粒或更高次颗粒具有约为1μm的粒径,由此底涂层具有含有金属氧化物颗粒的部分和其中不含金属氧化物颗粒的部分,即,倾向于具有海-岛结构。因此,例如,有时会产生图像品质缺陷,如半色调浓度不均一。
优选的是,金属氧化物颗粒具有104Ω·cm~1010Ω·cm的粉末电阻。这使以下情况容易实现:底涂层获得在与电子照相处理速度相对应的频率下的适当阻抗。
当金属氧化物颗粒的电阻值低于104Ω·cm时,阻抗梯度对于颗粒的添加量的依赖性可能过大,由此有时会难以控制阻抗。另一方面,当金属氧化物颗粒的电阻值高于1010Ω·cm时,残余电位有时会升高。
根据需要,金属氧化物颗粒可以优选使用至少一种偶联剂进行表面处理,以达到提高如分散性等特性的目的。
偶联剂的实例包括选自硅烷偶联剂、钛酸盐(酯)偶联剂和铝酸盐(酯)偶联剂中的至少一种。
偶联剂的具体实例包括但不限于硅烷偶联剂,如乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油醚氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N,N-双(β-羟基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷和γ-氯丙基三甲氧基硅烷;铝酸盐(酯)偶联剂,如乙酰烷氧基二异丙醇铝;钛酸盐(酯)偶联剂,如三异硬脂酰钛酸异丙酯、双(焦磷酸二辛酯)和三(N-氨基乙基氨基乙基)钛酸异丙酯;等等。这些偶联剂可以作为其两种以上的混合物来使用。
相对于金属氧化物颗粒,偶联剂的处理量可以为0.1重量%~3重量%,优选为0.3重量%~2.0重量%,且更优选为0.5重量%~1.5重量%。
偶联剂的处理量如下测量。
测量方法的实例包括如FT-IR法、29Si固态NMR法、热分析法和XPS法等分析方法,并且最简单的是FT-IR法。在FT-IR法中,可以使用普通KBr压片法或ATR法。偶联剂的处理量通过将少量经处理的金属氧化物颗粒与KBr混合然后测量FT-IR而测得。
在使用上述偶联剂进行表面处理之后,可以根据需要对金属氧化物颗粒进行热处理,以改善电阻值的环境依赖性等。热处理温度可以优选为例如150℃~300℃,并且处理时间可以优选为30分钟~5小时。
从保持电特性方面考虑,金属氧化物颗粒的含量优选为30重量%~60重量%,且更优选为35重量%~55重量%。
电子接受性化合物
电子接受性化合物为可与包含在底涂层中的金属氧化物颗粒的表面化学反应的材料,或者为吸附在金属氧化物颗粒的表面上的材料。电子接受性化合物可以有选择地存在于金属氧化物的表面上。
作为电子接受性化合物,使用的是具有酸性基团的电子接受性化合物。酸性基团的实例包括羟基(酚羟基)、羧基和磺酰基等。
电子接受性化合物的具体实例包括醌化合物、蒽醌化合物、香豆素化合物、酞菁化合物、三苯甲烷化合物、花青素化合物、黄酮化合物、富勒烯化合物、钌络合物、氧杂蒽化合物、苯并恶嗪化合物和卟啉化合物。
特别是,作为电子接受性化合物,考虑到抑制重影和材料的安全性、可获得性和电子输送性,优选的是蒽醌材料(蒽醌衍生物)。特别是,优选的是由以下式(1)表示的化合物。
式(1)
式(1)中,n1和n2各自独立地表示0~3的整数,条件是n1和n2中至少有一个表示1~3的整数(即,n1和n2不同时表示0)。m1和m2各自独立地表示0或1的整数。R1和R2各自独立地表示具有1~10个碳原子的烷基或具有1~10个碳原子的烷氧基。
5电子接受性化合物可以是由以下式(2)表示的化合物。
式(2)
式(2)中,n1、n2、n3和n4各自独立地表示0~3的整数,条件是n1和n2中至少有一个表示1~3的整数(即,n1和n2不同时表示0)。另外,n3和n4中至少有一个表示1~3的整数(即,n3和n4不同时表示0)。m1和m2各自独立地表示0或1的整数。r表示2~10的整数。R1和R2各自独立地表示具有1~10个碳原子的烷基或者具有1~10个碳原子的烷氧基。
式(1)和(2)中,作为由R1和R2表示的具有1~10个碳原子的烷基,可以使用的是直链和支链烷基中的任一种。其实例包括甲基、乙基、丙基和异丙基等。作为具有1~10个碳原子的烷基,优选的是具有1~8个碳原子的烷基,并且更优选的是具有1~6个碳原子的烷基。
作为由R1和R2表示的具有1~10个碳原子的烷氧基,可以使用的是直链和支链烷氧基中的任一种。其实例包括甲氧基、乙氧基、丙氧基和异丙氧基等。作为具有1~10个碳原子的烷氧基,优选的是具有1~8个碳原子的烷氧基,并且更优选的是具有1~6个碳原子的烷氧基。
电子接受性化合物的具体实例将描述如下,但电子接受性化合物不限于此。
电子接受性化合物的含量根据以下方面确定:电子接受性化合物与其化学反应或者被吸附于其上的金属氧化物颗粒的表面积和含量,和各材料的电子输送性。但是,一般而言,电子接受性化合物的含量优选为0.01重量%~20重量%,且更优选为0.1重量%~10重量%。
当电子接受性化合物的含量为0.1重量%以下时,电子接受性化合物的作用将难以发挥。另一方面,当电子接受性化合物的含量超过20重量%时,容易发生金属氧化物颗粒之间的凝集。因此,金属氧化物颗粒容易不均一地分布在底涂层中,由此难以形成良好的导电路径。因此,残余电位增加并产生重影。此外,有时会产生黑点和半色调浓度不均匀。
其他添加剂
作为其他添加剂,可举出的有树脂颗粒。当将如激光等相干光用于曝光装置时,优选对云纹图像进行预防。为预防云纹图像,底涂层的表面粗糙度可以优选调整为1/4n(n为上层的折射率)~1/2λ,其中λ表示拟使用的曝光用激光的波长。在此情形中,当对底涂层添加树脂颗粒时,会实现对其表面粗糙度的调节。树脂颗粒的实例包括聚硅氧烷树脂颗粒和交联聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)树脂颗粒等。
另外,其他添加剂不限于上述实例,并且也可以举出公知的添加剂。
底涂层的形成
当形成底涂层时,使用的是通过将上述组分添加至溶剂而获得的底涂层形成用涂布液。底涂层形成用涂布液例如可以通过以下方式获得:根据需要将预先混合或预先分散的金属氧化物颗粒、电子接受性化合物和其他添加剂分散在粘合剂树脂中。
作为用于获得底涂层形成用涂布液的溶剂,使用的是溶解上述粘合剂树脂的公知有机溶剂,如醇类、芳香族类、卤代烃类、酮类、酮醇类、醚类和酯类溶剂。这些溶剂可以单独使用,也可以作为其两种以上的混合物使用。
作为将金属氧化物颗粒分散在底涂层形成用涂布液中的方法,使用的是公知的分散方法。其实例包括使用辊磨机、球磨机、振动式球磨机、磨碎机、砂磨机、胶体磨和涂料混合机等的方法。
涂布底涂层形成用涂布液的方法的实例包括浸涂法、刮板涂布法、线棒涂布法、喷涂法、珠涂法、气刀涂布法和幕涂法等。
底涂层的维氏硬度优选为35~50。
从抑制图像重影方面考虑,底涂层的厚度优选为15μm以上,更优选为15μm~30μm,进而更优选为20μm~25μm。
中间层
中间层可以根据需要设置在例如底涂层与感光层之间,以改善电特性、图像品质、图像品质保持性和感光层附着性等。另外,中间层可以设置在导电性基板与底涂层之间。
用于中间层的粘合剂树脂的实例有聚合物树脂化合物,例如缩醛树脂(如聚乙烯醇缩丁醛)、聚乙烯醇树脂、酪蛋白、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸系树脂、丙烯酸系树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、聚硅氧烷树脂、聚硅氧烷-醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂或三聚氰胺树脂等,除此之外还包括含有锆原子、钛原子、铝原子、锰原子或硅原子等的有机金属化合物。这些化合物可以单独使用,或者作为多种化合物的混合物或缩聚产物使用。其中,从残余电位低、环境引起的电位变化低、反复使用引起的电位改变低的方面考虑,含有锆或硅的有机金属化合物是适合的。
当形成中间层时,使用通过将上述组分添加至溶剂而获得的中间层形成用涂布液。
用于形成中间层的涂布方法的实例包括常用方法,如浸涂法、挤出涂布法、线棒涂布法、喷涂法、刮板涂布法、刮刀涂布法和幕涂法等。
另外,除起到改善上层的涂布性的作用之外,中间层还充当电阻挡层。但是,当中间层的膜厚过大时,电阻挡性会变得过强,导致感光度降低或者反复使用所引起的电位升高。因此,当形成中间层时,其膜厚优选设定为0.1μm~3μm。此外,在此情况下,中间层也可以被用作底涂层。
电荷生成层
电荷生成层被构造为含有例如电荷生成材料和粘合剂树脂。另外,电荷生成层可以被构造为包含电荷生成材料的气相沉积膜。
电荷生成材料的实例包括酞菁颜料,如非金属酞菁、氯化镓酞菁、羟基镓酞菁、二氯化锡酞菁和钛氧基酞菁等,特别是相对于CuKα特性X射线至少在布拉格角(2θ±0.2°)为7.4°、16.6°、25.5°和28.3°处具有强衍射峰的氯化镓酞菁晶体;相对于CuKα特性X射线至少在布拉格角(2θ±0.2°)为7.7°、9.3°、16.9°、17.5°、22.4°和28.8°处具有强衍射峰的非金属酞菁晶体;相对于CuKα特性X射线至少在布拉格角(2θ±0.2°)为7.5°、9.9°、12,5°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°处具有强衍射峰的羟基镓酞菁晶体;和相对于CuKα特性X射线至少在布拉格角(2θ±0.2°)为9.6°、24.1°和27.2°处具有强衍射峰的钛氧基酞菁晶体。另外,其他电荷生成材料的实例包括醌颜料、苝颜料、靛青颜料、双苯并咪唑颜料、蒽酮颜料和喹吖啶酮颜料等。此外,这些电荷生成材料可以单独使用,也可以作为其两种以上的混合物使用。
构成电荷生成层的粘合剂树脂的实例包括:聚碳酸酯树脂,如双酚A型树脂、双酚Z型树脂;丙烯酸系树脂;聚甲基丙烯酸系树脂;聚芳酯树脂;聚酯树脂;聚氯乙烯树脂;聚苯乙烯树脂;丙烯腈-苯乙烯共聚物树脂;丙烯腈-丁二烯共聚物;聚乙酸乙烯酯树脂;聚乙烯醇缩甲醛树脂;聚砜树脂;苯乙烯-丁二烯共聚物树脂;偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物树脂;氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂;聚硅氧烷树脂;苯酚-甲醛树脂;聚丙烯酰胺树脂;聚酰胺树脂;和聚-N-乙烯基咔唑树脂;等等。这些粘合剂树脂可以单独使用,也可以作为其两种以上的混合物使用。
电荷生成材料与粘合剂树脂的共混比优选例如为10:1~1:10。
当形成电荷生成层时,使用的是通过将上述组分添加至溶剂而获得的电荷生成层形成用涂布液。
作为将颗粒(例如,电荷生成材料)分散在电荷生成层形成用涂布液中的方法,使用的是如球磨机、振动球磨机、磨碎机、砂磨机或卧式砂磨机等介质分散机,和如搅拌机、超声波分散机、辊磨机或高压均化器等无介质分散机。高压均化器的实例包括:通过高压下的液-液碰撞或液-壁碰撞而分散分散体的碰撞型均化器,和通过使分散体在高压下通过细流路而使分散体分散的通过型均化器等。
在底涂层上涂敷电荷生成层形成用涂布液的方法的实例包括浸涂法、挤出涂布法、线棒涂布法、喷涂法、刮板涂布法、刮刀涂布法和幕涂法等。
电荷生成层的膜厚优选设定为0.01μm~5μm,且更优选为0.05μm~2.0μm。
电荷输送层
电荷输送层被构造为包含电荷输送材料和必要时的粘合剂树脂。
电荷输送材料的实例包括例如:空穴输送材料,例如噁二唑衍生物,如2,5-双(对二乙基氨基苯基)-1,3,4-噁二唑;吡唑啉衍生物,如1,3,5-三苯基-吡唑啉、1-[吡啶基-(2)]-3-(对二乙基氨基苯乙烯基)-5-(对二乙基氨基苯乙烯基)吡唑啉;芳香族叔氨基化合物,如三苯胺、N,N’-双(3,4-二甲基苯基)联苯基-4-胺、三(对甲基苯基)胺基-4-胺、二苄基苯胺;芳香族叔二氨基化合物,如N,N’-双(3-甲基苯基)-N,N’-联苯基联苯胺;1,2,4-三嗪衍生物,如3-(4’-二甲基氨基苯基)-5,6-二-(4’-甲氧基苯基)-1,2,4-三嗪;腙衍生物,如4-二乙基氨基苯甲醛-1,1-二苯基腙;喹唑啉衍生物,如2-苯基-4-苯乙烯基喹唑啉;苯并呋喃衍生物,如6-羟基-2,3-二(对甲氧基苯基)苯并呋喃;α-茋衍生物,如对-(2,2-二苯基乙烯基)-N,N-二苯基苯胺;烯胺衍生物;咔唑衍生物,如N-乙基咔唑;和聚-N-乙烯基咔唑及其衍生物;电子输送材料,例如醌化合物,如氯醌、溴蒽醌;四氰基对醌二甲烷化合物;芴酮化合物,如2,4,7-三硝基芴酮、2,4,5,7-四硝基-9-芴酮;氧杂蒽酮化合物;和噻吩化合物;在主链或侧链中具有由上述化合物形成的基团的聚合物;等等。这些电荷输送材料可以单独使用,也可以两种以上组合使用。
组成电荷输送层的粘合剂树脂的实例包括:绝缘树脂,例如聚碳酸酯树脂,如双酚A型树脂、双酚Z型树脂;丙烯酸系树脂;甲基丙烯酸系树脂;聚芳酯树脂;聚酯树脂;聚氯乙烯树脂;聚苯乙烯树脂;丙烯腈-苯乙烯共聚物树脂;丙烯腈-丁二烯共聚物树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、聚乙烯醇缩甲醛树脂;聚砜树脂;苯乙烯-丁二烯共聚物树脂;偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物树脂;氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂;聚硅氧烷树脂;苯酚-甲醛树脂;聚丙烯酰胺树脂;聚酰胺树脂;氯化橡胶;和有机光电导聚合物,如聚乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽和聚乙烯基芘;等等。这些粘合剂树脂可以单独使用,也可以作为其两种以上的混合物使用。
此外,电荷输送材料与粘合剂树脂的共混比例如优选为10:1~1:5。
使用通过将上述组分添加至溶剂获得的电荷输送层形成用涂布液来形成电荷输送层。
在电荷生成层上涂敷电荷输送层形成用涂布液的方法的实例包括常用方法,如浸涂法、挤出涂布法、线棒涂布法、喷涂法、刮板涂布法、刮刀涂布法和幕涂法等。
电荷输送层的膜厚优选设定为5μm~50μm,且更优选为10μm~40μm。
保护层
可以根据需要在感光层上设置保护层。例如,在具有层叠结构的感光体中,设置保护层,以防止充电时电荷输送层的化学改变,或者进一步提高感光层的机械强度。
因此,被构造为含有交联材料(固化材料)的层可以优选被用于保护层。该层的实例包括具有已知构造的层,如含有反应性电荷输送材料和必要时的固化性树脂的组合物的固化层,和通过将电荷输送材料分散在固化性树脂中的固化层。另外,保护层可以被构造为具有电荷输送材料分散在粘合剂树脂中的层。
使用通过将上述组分添加至溶剂获得的保护层形成用涂布液来形成保护层。
在电荷生成层上涂敷保护层形成用涂布液的方法的实例包括常用方法,如浸涂法、挤出涂布法、线棒涂布法、喷涂法、刮板涂布法、刮刀涂布法和幕涂法等。
保护层的膜厚被设定为例如优选1μm~20μm,且更优选2μm~10μm。
单层型感光层
单层型感光层(电荷生成/电荷输送层)被构造为包含例如粘合剂树脂、电荷生成材料和电荷输送材料。这些材料与针对电荷生成层和电荷输送层所描述的那些材料相同。
在单层型感光层中,电荷生成材料的含量优选为10重量%~85重量%,且更优选为20重量%~50重量%。另外,电荷输送材料的含量优选为5重量%~50重量%。
形成单层型感光层的方法与形成电荷生成层和电荷输送层的方法相同。单层型感光层的厚度优选为5μm~50μm,且更优选为10μm~40μm。
其他
在根据本发明的示例性实施方式的电子照相感光体中,可以将如抗氧化剂、光稳定剂和热稳定剂等添加剂添加至感光层或保护层,以防止因图像形成设备中所产生的臭氧或氧化性气体或者光和热而导致的感光体劣化。
另外,可以向感光层或保护层添加至少一种电子接受性材料,以提高敏感性、降低残余电位、降低因反复使用而导致的疲劳。
此外,可以向形成感光层和保护层的各层的涂布液添加作为流平剂的硅油,由此提高涂布膜的光滑性。
图像形成设备
接下来将描述根据本发明的示例性实施方式的图像形成设备。
根据本示例性实施方式的图像形成设备包括:根据本示例性实施方式的电子照相感光体;充电单元,所述充电单元对电子照相感光体的表面充电;潜像形成单元,所述潜像形成单元在经充电的电子照相感光体的表面上形成静电潜像;显影单元,所述显影单元通过使用色调剂使形成于电子照相感光体表面上的静电潜像显影以形成色调剂图像;和转印单元,所述转印单元将形成于电子照相感光体表面上的色调剂图像转印至记录介质上。
图7是显示根据本发明的示例性实施方式的图像形成设备的一个实例的构造示意图。图7所示的图像形成设备101包括例如可旋转地设置的根据本发明的示例性实施方式的鼓状(圆筒形)电子照相感光体7。在电子照相感光体7周围,例如沿着电子照相感光体7的外周表面的移动方向,依次设置充电装置8、曝光装置10、显影装置11、转印装置12、清洁装置13和擦除装置14。另外,根据需要设置清洁装置13和擦除装置14。
充电装置
充电装置8连接于电源9并通过电源9施加电压,以对电子照相感光体7的表面充电。
充电装置8的实例包括利用导电性充电辊、充电刷、充电膜、充电橡胶刮板或充电管等的接触型充电装置。另外,作为充电装置8,也使用利用非接触型辊充电装置、格栅电晕管充电装置或电晕管充电装置(利用电晕放电)等的已知充电装置等。作为充电装置8,优选使用的是接触型充电装置。
曝光装置
曝光装置10将经充电的电子照相感光体7暴光,以在电子照相感光体7上形成静电潜像。
曝光装置10的实例包括可通过使用半导体激光的光、LED或液晶快门光等将电子照相感光体7的表面可形成图像地曝光的光学仪器。光源的波长可以在电子照相感光体7的光谱敏感区域内。作为半导体激光的波长,例如优选的是振荡波长在780nm附近的近红外光。然而,光源的波长并不限于上述波长,也可以使用振荡波长为600nm左右的激光和振荡波长为400nm~450nm的蓝色激光。另外,作为曝光装置10,例如,能够多束输出的表面发射型激光光源也可有效地形成彩色图像。
显影装置
显影装置11使用显影剂使静电潜像显影以形成色调剂图像。优选的是,显影剂含有通过聚合方法获得的体均粒径为3μm~9mm的色调剂颗粒。显影装置11可以具有下述构造,其中,显影辊位于含有由色调剂和载体形成的双组分显影剂的容器中,从而在显影区域中面向电子照相感光体7。
转印装置
转印装置12将在电子照相感光体7上显影的色调剂图像转印至转印介质上。
转印装置12的实例包括已知的转印充电装置,如使用带、辊、膜或橡胶刮板等的接触型转印充电装置,和利用电晕放电的格栅电晕管转印充电装置或电晕管转印充电装置等。
清洁装置
清洁装置13除去转印后电子照相感光体7上的残留的色调剂。
优选的是,清洁装置13具有清洁刮板,所述清洁刮板以10g/cm~150g/cm的线性压力与电子照相感光体7进行接触。例如,清洁装置13被构造为包括箱体、清洁刮板和沿电子照相感光体7旋转方向设置在清洁刮板上游侧的清洁刷。另外,以接触方式在清洁刷上设置固体润滑剂。
擦除装置
擦除装置14通过利用擦除光照射转印色调剂图像之后的电子照相感光体7的表面,来擦除在电子照相感光体7表面上的残余电位。例如,擦除装置14通过利用擦除光照射电子照相感光体7在轴向和宽度方向上的所有区域,来擦除通过曝光装置10在电子照相感光体7的表面上产生的曝光部分与非曝光部分之间的电位差。
擦除装置14的光源不受特别限制,其实例包括钨灯(例如,白光)和发光二极管(LED:例如红光)等。
定影装置
图像形成设备100包括在转印工序之后将色调剂图像定影至记录纸P的定影装置15。定影装置不受特别限制,其实例包括已知定影装置,如热辊定影装置和热室定影装置。
接下来,描述根据本发明的示例性实施方式的图像形成设备101的运行。首先,电子照相感光体7沿箭头a所示方向旋转,并且由充电装置8充负电。
通过曝光装置10使表面被充电装置8充负电的电子照相感光体7曝光,以在其表面上形成静电潜像。
当其上形成了静电潜像的电子照相感光体7的部分接近显影装置11时,通过显影装置11,色调剂附着于静电潜像,从而形成色调剂图像。
当其上形成了色调剂图像的电子照相感光体7沿箭头A所示方向进一步旋转时,色调剂图像通过转印装置12转印至记录纸P。结果,在记录纸P上形成色调剂图像。
通过定影装置15,色调剂图像被定影至其上形成了图像的记录纸P。
处理盒
根据本发明的示例性实施方式的图像形成设备可以具有下述构造,其中包括根据本发明的示例性实施方式的电子照相感光体7的处理盒可拆卸地附接于该图像形成设备。
根据本发明的示例性实施方式的处理盒被构造为至少包括根据本发明的示例性实施方式的电子照相感光体7即已足够。除电子照相感光体7之外,根据本发明的示例性实施方式的处理盒可以被构造为还包括例如选自充电装置8、曝光装置10、显影装置11、转印装置12、清洁装置13和擦除装置14中的至少一个构成部件。
根据本示例性实施方式的图像形成设备不限于上述构造。例如,为使残留色调剂具有一致的极性和促进使用清洁刷等的清洁,可以将第一擦除装置设置在电子照相感光体7的周围,使其位于转印装置12沿电子照相感光体7旋转方向的下游侧并且位于清洁装置13沿电子照相感光体7旋转方向的上游侧。此外,为擦除电子照相感光体7表面上的电,可以将第二擦除装置设置在清洁装置沿电子照相感光体7旋转方向的下游侧,并设置在充电装置8沿电子照相感光体7旋转方向的上游侧。
根据本发明的示例性实施方式的图像形成设备不限于上述构造,并可以采用已知构造。例如,也可以采用中间转印型图像形成设备,其中形成于电子照相感光体7上的色调剂图像被转印至中间转印体,然后被转印至记录纸P上;或者串联型图像形成设备。
根据本发明的示例性实施方式的电子照相感光体可以被应用于不包括擦除装置的图像形成设备。
实施例
下面将基于实施例和比较例进一步详细描述本发明的示例性实施方式,但本发明的示例性实施方式不限于下述实施例。
表面处理例1
将100重量份作为金属氧化物颗粒的氧化锌(商品名:MZ-300,由TaycaCorporation制造)、10重量份含有10重量%作为偶联剂的N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷的甲苯溶液和200重量份甲苯混合并搅拌该混合物,然后回流2小时。之后,将甲苯在10mmHg的减压下馏除,并将残余物在135℃烘烤2小时。
表面处理例2~5
执行与表面处理例1相似的工序,不同之处在于根据表1改变条件。
表1
实施例1
将33重量份在表面处理例1中进行了表面处理的氧化锌、6重量份封端异氰酸酯SUMIDUR3175(由Sumitomo Bayer Urethane Co.,Ltd.制造)、0.7重量份电子接受性化合物(示例性化合物(1-2))和25重量份甲基乙基酮混合30分钟。之后,向其添加5重量份缩丁醛树脂“S-LEC BM-1(由Sekisui Chemical Co.,Ltd.制造)”、3重量份聚硅氧烷球TOSPEARL130(由GE Toshiba Silicones Co.,Ltd.制造)和0.01重量份流平剂硅油“SH29PA(由Dow Corning Toray Silicone Co.,Ltd.制造)”,并通过使用砂磨机将该混合物分散2小时。由此获得分散体(底涂层形成用涂布液)。
此外,通过浸涂法将该涂布液涂敷于直径40mm、长357nm且厚2mm的铝基板上,并在180℃进行干燥和固化30分钟。由此获得厚度为20μm的底涂层。
接下来,将羟基镓酞菁用作电荷生成材料,通过使用砂磨机将包含15重量份羟基镓酞菁、10重量份氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物树脂(VMCH,由Nippon Unicar Co.,Ltd.制造)和300重量份正丁醇的混合物分散4小时。通过浸涂将所获得的分散体涂敷于底涂层上,并在100℃干燥10分钟。由此获得膜厚为0.2μm的电荷生成层。
此外,在电荷生成层上形成涂布液,所述涂布液通过将4重量份N,N'-二苯基-N,N'-双(3-甲基苯基)-[1,1']联苯基-4,4'-二胺和6重量份双酚Z聚碳酸酯树脂(粘均分子量:40,000)添加至25重量份四氢呋喃和5重量份氯苯并溶解而获得,并在130℃干燥40分钟。由此形成膜厚为35μm的电荷输送层。
通过上述工序,获得感光体。
根据上文所述方法,对所获得的感光体的底涂层在1Hz和100Hz的频率下进行交流阻抗的测量。结果显示在表2中。
另外,将所获感光体安装在由富士施乐株式会社制造的“DocuCentre II7500”(安装有作为充电装置的接触型充电辊的设备)中,并进行以下评价。结果显示在表2中。
重影的评价
对于重影的评价,在28℃和80%RH的环境下输出图8所示的图表,输出300,000张各种颜色的图像浓度为5%的图像,之后再次输出图8所示的图表。将图表分别设定为第一次输出图像(初始图像)和第300,000次输出之后的图像(输出300,000张之后的图像),然后基于以下标准通过目视观察进行评价。
另外,图8所示的图表是下述图表,其中在图像浓度为100%的黑色实心图像中显示白色字母“G”的区域和图像浓度为40%的半色调图像的区域被打印。
评价标准如下。
A:未产生重影。
B:轻微地产生重影,但不存在实际使用的问题。
C:产生重影,并且就图像品质而言是不可接受的。
半色调图像浓度不均匀性的评价
对于半色调图像浓度不均匀性的评价,在28℃和80%RH的环境下输出图像浓度为30%的半色调图像,输出300,000张各颜色的图像浓度为5%的图像,之后再次输出图像浓度为30%的半色调图像。将半色调图像分别设定为第一次输出图像(初始图像)和第300,000次输出之后的图像(输出300,000张之后的图像),然后通过目视观察进行评价。
评价标准如下。
A:未产生图像浓度不均匀。
B:轻微地产生图像浓度不均匀,但不存在实际使用的问题。
C:产生图像浓度不均匀,并且就图像品质而言是不可接受的。
模糊的评价
对于模糊的评价,在28℃和80%RH的环境下输出尺寸为1cm×10cm并且图像浓度为100%的实心图像,输出300,000张各颜色的图像浓度为5%的图像,之后再次输出实心图像。将实心图像分别设定为第一次输出图像(初始图像)和第300,000次输出之后的图像(输出300,000张之后的图像),然后通过目视观察进行评价。
评价标准如下。
A:未产生模糊。
B:轻微地产生模糊,但不存在实际使用的问题。
C:产生模糊,并且就图像品质而言是不可接受的。
残余电位的评价
对于各实施例中获得的感光体的残余电位,进行以下测量。
在完成重影、半色调图像浓度不均匀性和模糊的评价之后,取下显影剂单元,在显影剂单元的位置设置电位探针,输出图像浓度为100%的实心图像,然后测量残余单位。
之后,在完成半色调图像浓度不均匀性评价之后(输出300,000张之后),进行上述测量。将所获得的残余电位与初始残余电位之差设定为残余电位的增量,然后进行残余电位的评价。
实施例2~5
以与实施例1相似的方式制备感光体然后进行评价,不同之处在于,在底涂层的形成中分别使用在表面处理例2、3、4和5中进行表面处理的金属氧化物颗粒。结果显示在表2中。
实施例6
以与实施例1相似的方式制备感光体然后进行评价,不同之处在于,在底涂层的形成中使用1重量份示例性化合物(1-9)作为电子接受性化合物。结果显示在表2中。
实施例7
以与实施例1相似的方式制备感光体然后进行评价,不同之处在于,在底涂层的形成中使用1.5重量份示例性化合物(1-14)作为电子接受性化合物。结果显示在表2中。
实施例8
以与实施例1相似的方式制备感光体然后进行评价,不同之处在于,在底涂层的形成中使用1重量份示例性化合物(1-21)作为电子接受性化合物。结果显示在表2中。
实施例9
以与实施例5相似的方式制备感光体然后进行评价,不同之处在于,在底涂层的形成中将干燥温度改变为190℃。结果显示在表2中。
实施例10
以与实施例1相似的方式制备感光体然后进行评价,不同之处在于,在底涂层的形成中使用在表面处理例6中进行表面处理的金属氧化物颗粒。结果显示在表2中。
比较例1
以与实施例1相似的方式制备感光体然后进行评价,不同之处在于,在底涂层的形成中使用MZ-300(由Tayca Corporation制造:无表面处理)作为氧化锌。结果显示在表2中。
比较例2
以与实施例1相似的方式制备感光体然后进行评价,不同之处在于,在底涂层的形成中未使用电子接受性化合物(示例性化合物(1-2))。结果显示在表2中。
比较例3
以与实施例1相似的方式制备感光体然后进行评价,不同之处在于,在底涂层的形成中使用S1(由Mitsubishi Materials Corporation制造:无表面处理)作为氧化锡并且未使用电子接受性化合物(示例性化合物(1-2))。结果显示在表2中。
比较例4
以与比较例3相似的方式制备感光体然后进行评价,不同之处在于,在底涂层的形成中将干燥温度改变为190℃。结果显示在表2中。
比较例5
以与实施例1相似的方式制备感光体然后进行评价,不同之处在于,在底涂层的形成中未使用电子接受性化合物(示例性化合物(1-2))并将干燥温度改变为190℃。结果显示在表2中。
比较例6
以与比较例3相似的方式制备感光体然后进行评价,不同之处在于,在底涂层的形成中将底涂层的膜厚改变为30μm。结果显示在表2中。
表2
由以上结果,在实施例中发现,与比较例相比,就初始图像和输出300,000张之后的图像而言,重影得到抑制。
另外,在实施例中发现,与比较例相比,就初始图像和输出300,000张之后的图像而言,半色调图像的浓度不均匀和模糊也得到抑制。
此外,在实施例中发现,与比较例相比,残余电位的升高得到抑制。
提供对本发明的实施方式的前述描述是为了说明和描述的目的。并非试图穷尽本发明所披露的精确形式或将本发明限制于所披露的精确形式。显然,许多改进和变化对于本领域技术人员是显而易见的。选择并描述所述实施方式是为了能够最好地解释本发明的原理及其实际用途,由此使得本领域的其他技术人员能够理解适用于预计的特定用途的本发明的各种实施方式和各种改进方案。本发明的范围由下述权利要求及其等同物所限定。
Claims (12)
1.一种电子照相感光体,所述电子照相感光体包括:
导电性基板;
底涂层,所述底涂层设置在所述导电性基板上且含有粘合剂树脂、金属氧化物颗粒和具有酸性基团的电子接受性化合物,并且在温度为22℃、湿度为50%RH、交流电压为±1V和频率为1Hz的测量条件下具有1×105Ω~1×108Ω的交流阻抗,并且在温度为22℃、湿度为50%RH、交流电压为±1V和频率为100Hz的测量条件下具有1×103Ω~1×108Ω的交流阻抗;和
感光层,所述感光层设置在所述底涂层上。
2.如权利要求1所述的电子照相感光体,其中,在温度为22℃、湿度为50%RH、交流电压为±1V和频率为1Hz的测量条件下的交流阻抗为1×104Ω~1×107Ω。
3.如权利要求1所述的电子照相感光体,其中,在温度为22℃、湿度为50%RH、交流电压为±1V和频率为100Hz的测量条件下的交流阻抗为5×103Ω~1×107Ω。
4.如权利要求1所述的电子照相感光体,其中,在温度为22℃、湿度为50%RH、交流电压为±1V和频率为1Hz~100Hz的测量条件下的交流阻抗为1×103Ω~1×108Ω。
5.如权利要求1所述的电子照相感光体,其中,所述电子接受性化合物为蒽醌衍生物。
6.如权利要求5所述的电子照相感光体,其中,所述蒽醌衍生物为由以下式(1)表示的化合物:
式(1)
其中,式(1)中,n1和n2各自独立地表示0~3的整数,条件是n1和n2中至少有一个表示1~3的整数;m1和m2各自独立地表示0或1的整数;并且R1和R2各自独立地表示具有1~10个碳原子的烷基或具有1~10个碳原子的烷氧基。
7.如权利要求1所述的电子照相感光体,其中,所述金属氧化物颗粒为选自由氧化锌、氧化钛和氧化锡组成的组中的至少一种。
8.如权利要求1所述的电子照相感光体,其中,所述金属氧化物颗粒为氧化锌。
9.一种能从图像形成设备拆卸的处理盒,所述处理盒包括权利要求1~8中任一项所述的电子照相感光体。
10.如权利要求9所述的处理盒,所述处理盒还包括对所述电子照相感光体的表面充电的接触型充电单元。
11.一种图像形成设备,所述图像形成设备包括:
权利要求1~8中任一项所述的电子照相感光体;
充电单元,所述充电单元对所述电子照相感光体的表面充电;
静电潜像形成单元,所述静电潜像形成单元在所述经充电的电子照相感光体的表面上形成静电潜像;
显影单元,所述显影单元使用色调剂使形成于所述电子照相感光体表面上的所述静电潜像显影以形成色调剂图像;和
转印单元,所述转印单元将形成于所述电子照相感光体表面上的所述色调剂图像转印至记录介质上。
12.如权利要求11所述的图像形成设备,其中,所述充电单元为接触型充电单元。
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