CN107797397A - 电子照相感光体、处理盒以及图像形成装置 - Google Patents

电子照相感光体、处理盒以及图像形成装置 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种电子照相感光体、处理盒以及图像形成装置，该电子照相感光体包括：导电基底；底涂层，其设置在所述导电基底上并含有粘合剂树脂、金属氧化物颗粒和具有蒽醌结构的电子接受化合物；以及感光层，其设置在所述底涂层上，其中，所述底涂层对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL为大约2％至5％。

Description

电子照相感光体、处理盒以及图像形成装置
技术领域
本发明涉及一种电子照相感光体、处理盒以及图像形成装置。
背景技术
电子照相图像形成装置应用于诸如复印机和激光打印机的图像形成装置中。图像形成装置中使用的电子照相感光体的主流为含有有机感光材料的有机感光体。例如，在所述有机感光体的一般生产中，在诸如铝基底的导电基底上形成底涂层(也称为“中间层”)，然后在所述底涂层上形成感光层。
在日本专利文献特开2007-094226号公报中公开了一种电子照相感光体，其包括含有氧化钛和粘合剂树脂并且反射吸光度不高于0.05的中间层。
在日本专利文献特开2000-347433号公报中公开了一种电子照相感光体，其包括含有白色颜料和粘合剂的底涂层以及设置在其上的感光层，其中，相对于该导电基底对波长为600nm至900nm的光的镜面反射率的包括导电基底以及设置在其上的该底涂层的层压板的相对镜面反射率为16％以下。
在日本专利文献特开2010-152406号公报中公开了一种电子照相感光体，其包括含有折射率不低于2.0的金属氧化物颗粒的底涂层以及设置在其上的感光层，其中，假设该底涂层的厚度为2μm，该底涂层对波长为480nm的光的镜面反射与导电性支持体对相同波长的光的镜面反射的百分比为50％以上。
在日本专利文献特开2010-145473号公报中公开了一种电子照相感光体，其包括底涂层，该底涂层对波长为390nm至450nm的曝光光的总反射率为20％至80％。
发明内容
本发明的目的在于，提供一种电子照相感光体，其包括导电基底以及底涂层，所述底涂层设置在所述导电基底上并含有粘合剂树脂、金属氧化物颗粒以及具有蒽醌结构的电子接受化合物，该电子照相感光体，与所述底涂层对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL小于2％或大于5％的情况相比，能够减少连续形成图像时先形成的图像残留在后形成的图像上的余像(也称为“重影”)的发生。
本发明是通过以下技术方案实现的。
根据本发明的第一方面，提供一种电子照相感光体，其包括导电基底；底涂层，其设置在所述导电基底上并含有粘合剂树脂、金属氧化物颗粒和具有蒽醌结构的电子接受化合物；以及感光层，其设置在所述底涂层上，其中，所述底涂层对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL为大约2％至5％。
根据本发明的第二方面，对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL为大约2％至4％。
根据本发明的第三方面，对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL与对波长为大约750nm至800nm的光的反射率RH的百分比为大约5％至20％。
根据本发明的第四方面，对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL与对波长为大约750nm至800nm的光的反射率RH的百分比为大约5％至15％。
根据本发明的第五方面，对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL与对波长为大约750nm至800nm的光的反射率RH的百分比为大约7％至10％。
根据本发明的第六方面，所述金属氧化物颗粒为选自由氧化锌颗粒和氧化钛颗粒组成的组中的至少一种。
根据本发明的第七方面，所述金属氧化物颗粒为氧化锌颗粒。
根据本发明的第八方面，提供一种处理盒，其包括：根据第一方面至第七方面中任一项所述的电子照相感光体，其中，所述处理盒可拆卸地安装到图像形成装置上。
根据本发明的第九方面，提供一种图像形成装置，其包括：根据第一方面至第七方面中任一项所述的电子照相感光体；充电装置，其用于对所述电子照相感光体的表面进行充电；静电潜像形成装置，其用于在所述已充电的电子照相感光体的所述表面上形成静电潜像；显影装置，其用于使用含有调色剂的显影剂对所述电子照相感光体的所述表面上的所述静电潜像进行显影以形成调色剂图像；以及转印装置，其用于将所述调色剂图像转印到记录介质的表面。
根据本发明的第十方面，所述图像形成装置未使用电荷中和装置，该电荷中和装置用于在所述电子照相感光体的所述表面形成的所述调色剂图像被所述转印装置转移之后以及所述电子照相感光体的所述表面被所述充电装置充电之前去除所述电子照相感光体的所述表面的电荷。
根据本发明的第一方面，提供一种电子照相感光体，其包括导电基底以及底涂层，所述底涂层设置在所述导电基底上并含有粘合剂树脂、金属氧化物颗粒以及具有蒽醌结构的电子接受化合物，该电子照相感光体，与所述底涂层的光反射率RL小于2％或大于5％的情况相比，能够减少重影的发生。
根据本发明的第二方面，提供一种电子照相感光体，其与所述底涂层的光反射率RL小于2％或大于4％的情况相比，能够减少重影的发生。
根据本发明的第三方面，提供一种电子照相感光体，其与所述底涂层的光反射率RL与光反射率RH的百分比小于5％或大于20％的情况相比，能够减少重影的发生。
根据本发明的第四方面，提供一种电子照相感光体，其与所述底涂层的光反射率RL与光反射率RH的百分比小于5％或大于15％的情况相比，能够减少重影的发生。
根据本发明的第五方面，提供一种电子照相感光体，其与所述底涂层的光反射率RL与光反射率RH的百分比小于7％或大于10％的情况相比，能够减少重影的发生。
根据本发明的第六和第七方面，提供一种电子照相感光体，其与所述金属氧化物颗粒为氧化锡颗粒的情况相比，能够减少重影的发生。
根据本发明的第八和第九方面，分别提供一种处理盒以及图像形成装置，其与使用包括导电基底以及设置在其上并含有金属氧化物颗粒和具有蒽醌结构的电子接受化合物的底涂层并且该底涂层的光反射率RL小于2％或大于5％的电子照相感光体的情况相比，能够减少重影的发生。
根据本发明的第十方面，提供一种图像形成装置，其与使用包括导电基底以及设置在其上并含有金属氧化物颗粒和具有蒽醌结构的电子接受化合物的底涂层并且该底涂层的光反射率RL小于2％或大于5％的电子照相感光体的情况相比，未使用电荷中和装置也能够减少重影的发生。
附图说明
将基于下列附图详细说明本发明的示例性实施例，其中：
图1是部分示出根据第一示例性实施例的电子照相感光体的分层结构的示意性横截面图；
图2是部分示出根据第一示例性实施例的电子照相感光体的分层结构的另一个示例的示意性横截面图；
图3是部分示出根据第一示例性实施例的电子照相感光体的分层结构的另一个示例的示意性横截面图；
图4示意性地示出根据第二示例性实施例的图像形成装置的结构；
图5示意性地示出根据第二示例性实施例的另一种图像形成装置的结构；以及
图6示意性地示出用于测量底涂层的反射率的装置。
具体实施方式
下面参照附图与示例性实施例对本发明作进一步详细说明。
电子照相感光体
根据第一示例性实施例的电子照相感光体(以下也称为“感光体”)包括：导电基底；底涂层，其设置在导电基底上；以及感光层，其设置在底涂层上。底涂层含有粘合剂树脂、金属氧化物颗粒和具有蒽醌结构的电子接受化合物(以下也称为“电子接受蒽醌化合物”)，并且对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL为大约2％至5％。
第一示例性实施例的感光体的这种结构可以减少重影的发生(连续形成图像时先形成的图像残留在后形成的图像上的余像的发生)。据推测，这种重影的发生的减少归功于以下机制。
在电子照相图像形成中，对感光体进行充电，接着将其曝光以形成静电潜像。感光体的曝光使得其表面电势衰减；在这一过程中，电荷在感光层(例如，功能分离型感光层中的电荷生成层)与底涂层之间的交界处移动。在含有粘合剂树脂、金属氧化物颗粒和电子接受蒽醌化合物中，电荷经由金属氧化物颗粒移动，并且电子接受蒽醌化合物有助于电荷的转移。
在与感光层的交界处周围的底涂层部分中的金属氧化物颗粒的分布大体上不均匀和不密集的情况下，认为抑制了电荷在感光层与底涂层之间的交界处的迁移，因此电荷在感光层与底涂层之间的交界处累积。这种状态下的连续图像形成(换句话说，感光体的重复充电和曝光)使得电荷在感光层与底涂层之间的交界处累积，并且推测累积的电荷导致重影。
电子接受蒽醌化合物对波长为大约470nm至510nm的光有强吸收性。因此，当含有电子接受蒽醌化合物的底涂层反射波长为大约470nm至510nm的光时，反射光不含有透射光的成分(即已穿过底涂层接着从导电基底反射的光的成分)，或者，即使含有，也含有少量透射光的成分。因此，反射光仅含有从底涂层的表面反射的光的成分以及从表面的周围散射的光的成分。具体地，从表面的周围散射的光的成分的数量反映金属氧化物颗粒的分散状态(具体地，聚集状态)。
具体地，金属氧化物颗粒聚集越多(即在金属氧化物颗粒的分布不均匀和不密集的状态下)，由金属氧化物颗粒散射的光越多，其导致散射光的成分增加。换句话说，底涂层对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL升高。相反，金属氧化物颗粒聚集越少(即在金属氧化物颗粒的分布大体上均匀和密集的状态下)，由金属氧化物颗粒散射的光越少，导致散射光的成分减少。换句话说，底涂层对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL降低。
金属氧化物颗粒聚集越多，感光层与底涂层之间的交界处的电荷的迁移被抑制得越多；因此，电荷在感光层与底涂层之间的交界处累积，导致容易产生重影。并且，在过多抑制金属氧化物颗粒的聚集的情况下(即在金属氧化物颗粒的分布大体上过多均匀和密集的状态下)，有可能发生重影。认为发生这种情况的机制如下。在注入电荷的部分有适度的错乱的状态下，可以从容易侵入的部分注入电荷；但是，在电荷的分布过多密集的状态下，容易注入电荷的部分很少，因此电荷有可能累积。
因此，将底涂层对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL调整为大约2％至5％，并且将金属氧化物颗粒的聚集程度控制在适当的状态(即控制在金属氧化物颗粒的分布大体适当地均匀和密集的状态)。这样，减少了感光层与底涂层之间的交界处的电荷迁移的抑制，因此减少了电荷在其之间的交界处的累积。
认为第一示例性实施例的感光体由于上述机制减少了重影的发生。
下面，参照附图对第一示例性实施例的电子照相感光体作进一步详细说明。
图1是示出第一示例性实施例的电子照相感光体的示例的示意性横截面图。图2和图3分别是示出第一示例性实施例的电子照相感光体的另一个示例的示意性横截面图。
图1所示的电子照相感光体7A为所谓的功能分离型感光体(分层感光体)，并且包括：导电基底4；底涂层1，其形成于导电基底4上；以及电荷产生层2、电荷输送层3和保护层5，其按顺序地设置以覆在导电基底4和底涂层1上面。在电子照相感光体7A中，电荷产生层2和电荷输送层3构成感光层。
图2所示的电子照相感光体7B为功能分离型感光体，其中电荷产生层2和电荷输送层3如同在图1所示的电子照相感光体7A中一样按功能分离。
图2所示的电子照相感光体7B包括：导电基底4；底涂层1，其形成于导电基底4上；以及电荷输送层3、电荷产生层2和保护层5，其按顺序地设置以覆在导电基底4和底涂层1上面。在电子照相感光体7B中，电荷产生层2和电荷输送层3构成感光层。
在图3所示的电子照相感光体7C中，电荷产生材料和电荷输送材料在单层(单层感光层6)中使用。图3所示的电子照相感光体7C包括：导电基底4；底涂层1，其形成于导电基底4上；以及单层感光层6，其设置成覆在导电基底4和底涂层1上面。
下面，将图1所示的电子照相感光体7A的各个部分作为代表性示例进行说明。为了方便起见，省去参考符号。
导电基底
导电基底的示例包括金属板、金属鼓以及金属带，它们含有金属(例如铝、铜、锌、铬、镍、钼、钒、铟、金和铂)或合金(例如不锈钢)。导电基底的其他示例包括纸张、树脂薄膜以及带，它们中的每个具备通过涂敷、沉积或层压导电化合物(例如导电聚合物和氧化铟)、金属(例如铝、钯和金)或合金形成的涂布薄膜。这里，术语“导电”指体积电阻率小于1013Ωcm。
在电子照相感光体用于激光打印机中的情况下，导电基底的表面优选粗糙化为0.04μm至0.5μm的中线平均粗糙度Ra以减少由激光辐射产生的干涉条纹。当从光源发出非相干光时，不需要进行粗糙化以减少干涉条纹；但是，粗糙化导电基底的表面减少了其缺陷的产生，使得产品寿命延长。
粗糙化技术的示例包括：湿珩磨，其中将磨料悬浮于水中，接着喷涂到导电基底上；无心研磨，其中将旋转魔石压在导电基底上以连续研磨导电基底；以及阳极氧化。
可以采用其他粗糙化技术；例如，将导电或半导电粉末分散到树脂中，在导电基底的表面形成粉末层，并且分散到该层中的颗粒用于粗糙化而不直接粗糙化导电基底的表面。
在通过阳极氧化的粗糙化中，由金属(例如，铝)制成的导电基底作为电解质溶液中的阳极氧化的阳极，从而在导电基底的表面形成氧化膜。电解质溶液的示例包括硫酸溶液以及草酸溶液。但是，由阳极氧化形成的多孔阳极氧化膜在其原始状态下呈化学活性；因此，该多孔阳极氧化膜容易被污染并且其电阻根据环境发生巨大的变化。因此，多孔阳极氧化膜的孔优选通过由于加压蒸汽或开水中的水合反应产生的体积膨胀而封闭以将氧化膜变成更稳定的水合氧化物。
例如，阳极氧化膜的厚度优选为0.3μm至15μm。在该范围内的厚度下，有可能实现注入阻隔性，并且有可能减少由于重复使用导致的残余电势的增加。
导电基底可任选地使用酸性处理液进行处理或者进行勃母石处理。
使用酸性处理液进行处理的示例如下。制备含有磷酸、铬酸和氢氟酸的酸性处理液。例如，酸性处理液中磷酸、铬酸和氢氟酸的数量分别在10重量％至11重量％、3重量％至5重量％内以及0.5重量％至2重量％的范围内；所有酸的总浓度优选为13.5重量％至18重量％。例如，处理温度优选为42℃至48℃。涂布薄膜的厚度优选为0.3μm至15μm。
例如，勃母石处理包含在90℃至100℃的温度范围的纯水中浸入5至60分钟，或者与90℃至120℃的温度范围的加热蒸汽接触5至60分钟。涂布薄膜的厚度优选为0.1μm至5μm。使用不易溶解涂布薄膜的电解质液，例如己二酸、硼酸、硼酸盐、磷酸盐、邻苯二甲酸酯、马来酸盐、苯甲酸盐、酒石酸盐或柠檬酸盐进一步可任选地对涂布薄膜进行阳极氧化处理。
底涂层
底涂层含有粘合剂树脂、金属氧化物颗粒和电子接受蒽醌化合物。底涂层对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL为大约2％至5％。
反射率RL为大约2％至5％；当重影的发生减少时，优选为大约2％至4％。
为调整反射率RL，通过改变用于形成底涂层的涂布液的搅拌条件来控制金属氧化物颗粒的聚集状态。例如，具体地，为实现大约2％至5％的反射率RL，在搅拌器中以高旋转数进行搅拌，接着以低旋转数进行搅拌。或者，可以交替地以高旋转数和低旋转数进行搅拌。另外，通过改变底涂层的厚度可以控制金属氧化物颗粒的聚集状态，可以调整反射率RL。
底涂层对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL与其对波长为大约750nm至800nm的光的反射率RH的百分比优选为大约5％至20％，更优选为大约5％至15％，进一步优选为大约7％至10％。
电子接受蒽醌化合物不吸收波长为大约750nm至800nm的光，即使吸收，其吸收率也较低。因此，当反射波长为大约750nm至800nm的光时，除从表面反射的光的成分和来自表面的周围的散射光的成分以外，反射光还含有透射光的成分(即已穿过底涂层接着从导电基底反射的光的成分)。因此，底涂层对波长为大约750nm至800nm的光的反射率RH与整个底涂层对波长为大约750nm至800nm的光的反射率相对应。通过将与整个底涂层的反射率相对应的反射率RH调整到上述范围内可以减少重影的发生，尽管其机制仍在研究中。
通过以下方式测量底涂层的光反射率。
下面对待使用的测量装置进行说明。如图6所示，测量装置70包括光纤束(直径：1mm)；分叉光导72，其具有向测量对象发射光并接收反射光的光发射和接收表面72A；光源74(卤素灯)，其连接到分叉光导72的分支部分的一端；以及分光光度计75(MPCD-3000，由日本大冢电子株式会社(Otsuka Electronics Co.,Ltd.)生产)，其连接到分叉光导72的分支部分的一端。在图6中，参考号76表示其上已形成有底涂层的导电基底。
在测量装置70中，光源74产生光，并且产生的光从分叉光导72的光发射和接收表面72A向测量对象发射。发射的光被反射，接着被分叉光导72的光发射和接收表面72A接收，并且由分光光度计75测量反射光的光谱。
在光发射和接收表面72A中，针对光纤束中的边缘表面，光发射光纤的边缘表面和光接收光纤的边缘表面呈随机排列。
测量装置70用于将光源74中产生的光从分叉光导72的光发射和接收表面72A向测量对象的表面发射，该测量对象为导电基底上形成的底涂层。发射的光被反射，接着被分叉光导72的光发射和接收表面72A接收，并且由分光光度计75测量波长为400nm至800nm的反射光的强度。
在测量过程中，以光纤束(直径：1mm，即间隔为10mm)的直径的十倍的间隔将分叉光导72的光发射和接收表面72A面对底涂层的表面放置，使得发射光的方向沿着与导电基底的轴向正交的方向(换句话说，使得发射光和反射光在与导电基底的轴向正交的方向上)。
同时，在400nm至800nm的波长范围内，以相同的条件测量从通过将铝沉积在玻璃基底上形成的镜面反射的光的强度，并且测量的强度被定义为参考强度。从底涂层反射的光的强度与参考强度的百分比被定义为底涂层的光反射率。
从底涂层反射的光的强度与大约470nm至510nm波长范围内的参考强度的百分比的平均值被定义为进行测量时对波长为大约470nm至510nm的光的反射率。同样地，从底涂层反射的光的强度与大约750nm至800nm波长范围内的参考强度的百分比的平均值被定义为进行测量时对波长为大约750nm至800nm的光的反射率。
每隔一定时间沿导电基底的轴向在十个点上进行相同的测量，同时沿导电基底的周向在与这十个点每隔90°的点进行相同的测量；也就是说，总共在40个点上进行测量。在每个点确定对波长为大约470nm至510nm的光的反射率，并且确定的反射率的平均值被定义为对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL。同样地，在每个点确定对波长为大约750nm至800nm的光的反射率，并且确定的反射率的平均值被定义为对波长为大约750nm至800nm的光的反射率RH。
在测量感光体中的底涂层的反射率的情况下，对感光体进行切割以去除感光层。接着，可任选地使用溶剂或其他材料清洁已去除感光层的部分以对底涂层进行曝光。接着，对曝光的底涂层进行上述底涂层的反射率的测量。
下面对底涂层中使用的粘合剂树脂进行说明。
用于形成底涂层的粘合剂树脂的示例包括诸如缩醛树脂(例如聚乙烯醇缩丁醛)、聚乙烯醇树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、酪蛋白树脂、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、不饱和聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂、氯乙烯-醋酸乙烯酯-顺丁烯二酸酐树脂、硅酮树脂、硅酮醇酸树脂、尿素树脂、酚醛树脂、苯酚甲醛树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂、醇酸树脂和环氧树脂的已知聚合物化合物；锆螯合物；钛螯合物；铝螯合物；钛醇盐化合物；有机钛化合物；以及诸如硅烷偶联剂的已知材料。
用于形成底涂层的粘合剂树脂的其他示例包括具有电荷输送基的电荷输送树脂以及导电树脂(例如，聚苯胺)。
用于形成底涂层的粘合剂树脂优选不溶于用于形成上层的溶剂。具体地，优选的树脂为诸如尿素树脂、酚醛树脂、苯酚甲醛树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂、不饱和聚酯树脂、醇酸树脂和环氧树脂的热固性树脂；以及通过固化剂和选自由聚酰胺树脂、聚酯树脂、聚醚树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚乙烯醇树脂和聚乙烯醇缩醛树脂组成的组中的至少一种树脂之间的反应而获得的树脂。
在这些粘合剂树脂中的两种或两种以上组合使用的情况下，适当地确定混合比。
下面对金属氧化物颗粒进行说明。
金属氧化物颗粒的示例包括粉体电阻(体积电阻率)为102Ωcm至1011Ωcm的金属氧化物颗粒。
具有这种电阻的金属氧化物颗粒的具体示例包括氧化锡颗粒、氧化钛颗粒、氧化锌颗粒和氧化锆颗粒；具体的，金属氧化物颗粒优选为选自由氧化锌颗粒和氧化钛颗粒组成的组中的至少一种，在减少重影的发生方面特别优选为氧化锌颗粒。
金属氧化物颗粒可以单独或组合使用。
金属氧化物颗粒的平均一次粒径优选为500nm以下；具体地，优选为20nm至200nm，更优选为30nm至150nm，进一步优选为30nm至100nm。
使用扫描电子显微镜(SEM)系统对金属氧化物颗粒的100个一次颗粒进行分析。对获得的SEM图像中的一次颗粒进行图像分析以确定每一颗颗粒的最大直径和最小直径，并根据这些直径的中间值获得球当量直径。在所获得的球当量直径基于颗粒数的累积频率中，50％直径(D50p)被定义为金属氧化物颗粒的平均一次粒径。
例如，通过BET方法测量的金属氧化物颗粒的比表面积优选不小于10m2/g。
例如，相对于粘合剂树脂含量，金属氧化物颗粒含量优选在10重量％至80重量％的范围内，更优选在40重量％至80重量％的范围内。
金属氧化物颗粒可任选地进行表面处理。
待使用的表面处理剂的示例包括硅烷偶联剂、钛酸酯类偶联剂、铝基偶联剂以及表面活性剂。具体地，优选硅烷偶联剂，更优选具有氨基的硅烷偶联剂。
具有氨基的硅烷偶联剂的示例包括但不限于3-氨丙基三乙氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨丙基甲基二甲氧基硅烷以及N,N-双(2-羟乙基)-3-氨丙基三乙氧基硅烷。
两种或两种以上的硅烷偶联剂可以组合使用；例如，具有氨基的硅烷偶联剂可以与另一种硅烷偶联剂组合使用。所述另一种硅烷偶联剂的示例包括但不限于乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨丙基三乙氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、N,N-双(2-羟乙基)-3-氨丙基三乙氧基硅烷以及3-氯丙基三甲氧基硅烷。
可以采用使用表面处理剂的任何已知的表面处理，也可以进行干法和湿法。
例如，与金属氧化物颗粒含量相比，待使用的表面处理剂的数量优选为0.5重量％至10重量％。
下面对电子接受蒽醌化合物进行说明。
电子接受蒽醌化合物为具有蒽醌结构的电子接受化合物。电子接受蒽醌化合物可以为其蒽醌结构具有取代基(例如，羟基或氨基)的化合物。
电子接受蒽醌化合物的示例包括蒽醌、茜素、醌茜、蒽绛酚以及羟基茜草素。
从减少重影的发生的角度，电子接受蒽醌化合物优选为具有羟基的电子接受蒽醌化合物。具有羟基的电子接受蒽醌化合物为蒽醌结构中的芳环的至少一个氢原子已被羟基取代的化合物；具体地，优选由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物，更优选为通式(1)表示的化合物，进一步优选为通式(1A)表示的化合物。
在通式(1)中，n1和n2各自独立地表示0至4之间的整数。然而，n1和n2中的至少任一个表示1至4之间的整数(换句话说，n1和n2不同时表示0)。m1和m2各自独立地表示0或1的整数。R1和R2各自独立地表示具有1至10个碳原子的烷基或具有1至10个碳原子的烷氧基。
在通式(2)中，n1、n2、n3以及n4各自独立地表示0至3之间的整数。m1和m2各自独立地表示0或1的整数。n1和n2中的至少任一个表示1至3之间的整数(换句话说，n1和n2不同时表示0)。n3和n4中的至少任一个表示1至3之间的整数(换句话说，n3和n4不同时表示0)。r表示2至10之间的整数。R1和R2各自独立地表示具有1至10个碳原子的烷基或者具有1至10个碳原子的烷氧基。
在通式(1)和通式(2)中，具有1至10个碳原子并且由R1和R2表示的烷基可以为直链或支链；并且其示例包括甲基、乙基、丙基以及异丙基。具有1至10个碳原子的烷基优选为具有1至8个碳原子的烷基，更优选为具有1至6个碳原子的烷基。
具有1至10个碳原子并且由R1和R2表示的烷氧基可以为直链或支链；并且其示例包括甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基以及辛氧基。具有1至10个碳原子的烷氧基优选为具有1至8个碳原子的烷氧基，更优选为具有1至6个碳原子的烷氧基。
在通式(1A)中，R11表示具有1至10个碳原子的烷氧基。n表示1至8之间的整数。
在通式(1A)中，具有1至10个碳原子并且由R11表示的烷氧基的含义与通式(1)中具有1至10个碳原子并且由R1和R2表示的烷氧基的含义相同，并且它们的优选范围也相同。
在通式(1A)中，n优选为1至7之间的整数，更优选为2至5之间的整数。
下面，对电子接受化合物的具体示例进行说明；然而，电子接受化合物不限于此。
化合物的以下具体示例中的每一个指“示例性化合物”；例如，下述化合物(1-1)指“示例性化合物(1-1)”。
在以下示例性化合物中，“Me”指甲基；“Et”指乙基；“Bu”指正丁基；“C5H11”指正戊基；“C6H13”指正己基；“C7H15”指正庚基；“C8H17”指正辛基；“C9H19”指正壬基；以及“C10H21”指正癸基。
电子接受化合物可以以与金属氧化物颗粒一起分散的状态或者以附着在金属氧化物颗粒的表面的状态包含在底涂层中。
例如，通过干法或湿法可以使电子接受化合物附着在金属氧化物颗粒的表面。
例如，在干法中，利用具有大剪切力的混合器或其他装置对金属氧化物颗粒进行搅拌，并且向其滴加或者连同干燥空气或氮气喷涂电子接受化合物本身或溶解到有机溶剂中的电子接受化合物，使得电子接受化合物附着在金属氧化物颗粒的表面。电子接受化合物的滴加或喷涂可以在不高于溶剂的沸点的温度下进行。在滴加或喷涂电子接受化合物之后，可以在不低于100℃下进行烘干。烘干可以在任何温度下进行任何时间，只要可以获得电子照相性能。
例如，在湿法中，通过使用搅拌、超声波、砂磨机、磨碎机或球磨机的技术使金属氧化物颗粒分散到溶剂中；向其添加电子接受化合物，接着进行搅拌或分散；并且去除溶剂，使得电子接受化合物附着在金属氧化物颗粒的表面。例如，通过过滤或蒸馏去除溶剂。去除溶剂之后，可以在不低于100℃下对所得产品进行烘干。烘干可以在任何温度下进行任何时间，只要可以获得电子照相性能。在湿法中，金属氧化物颗粒中含有的水可以在添加电子接受化合物之前去除；去除技术的示例包括在溶剂中搅拌以及加热以去除水的技术或者通过与溶剂共沸去除水的技术。
附着电子接受化合物可以在通过使用表面处理剂对金属氧化物颗粒进行表面处理之前、之后或同时进行。
例如，相对于金属氧化物颗粒的含量，电子接受化合物的数量优选在0.01重量％至20重量％的范围内，优选在0.01重量％至10重量％的范围内。
底涂层可以含有改善电气性能、环境稳定性和图像质量的各种添加剂。
添加剂的示例包括诸如电子输送颜料(例如稠合多环颜料和偶氮颜料)、锆螯合物、钛螯合物、铝螯合物、钛醇盐化合物、有机钛化合物和硅烷偶联剂的已知材料。尽管硅烷偶联剂按照上面讨论的方式在金属氧化物颗粒的表面处理中使用，它还可以作为添加剂添加到底涂层中。
作为添加剂使用的硅烷偶联剂的示例包括乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨丙基三乙氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、N,N-双(2-羟乙基)-3-氨丙基三乙氧基硅烷以及3-氯丙基三甲氧基甲硅烷.
锆螯合物的示例包括丁氧基锆、乙酰乙酸乙酯锆、三乙醇胺锆、乙酰丙酮丁氧基锆、乙酰乙酸乙酯丁氧基锆、乙酸锆、草酸锆、乳酸锆、磷酸锆、辛酸锆、环烷酸锆、月桂酸锆、硬脂酸锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸丁氧基锆、硬脂酸丁氧基锆以及异硬脂酸丁氧基锆。
钛螯合物的示例包括钛酸四异丙酯、钛酸四正丁酯、钛酸丁酯二聚物、钛酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮钛、聚乙酰丙酮钛、亚辛基乙醇酸钛、乳酸钛铵盐、乳酸钛、乳酸钛乙酯、三乙醇胺合钛以及多羟基硬脂酸钛。
铝螯合物的示例包括异丙醇铝、单丁氧基二异丙醇铝、丁酸铝、二乙酰乙酸乙酯二异丙醇铝以及三(乙酰乙酸乙酯)铝。
这些添加剂可以单独使用，或者作为多种化合物的混合物或缩聚物使用。
底涂层可以具有不低于35的维氏硬度。
为抑制莫尔条纹，底涂层的表面粗糙度(十点平均粗糙度)可以调整到曝光用激光器的波长λ的1/(4n)(n表示上层的折射率)至1/2。
例如，可以在底涂层中添加树脂颗粒等以调整表面粗糙度。树脂颗粒的示例包括硅酮树脂颗粒以及交联聚甲基丙烯酸甲酯树脂颗粒。可以将底涂层的表面抛光以调整表面粗糙度。抛光技术的示例包括皮革抛光、喷砂、湿珩磨以及研磨。
底涂层可以通过任何已知的技术形成，只要能够通过上述处理获得预期的反射率RL；例如，将上述成分添加到溶剂中制备用于形成底涂层的涂布液，涂敷涂布液以形成涂布薄膜，并对涂布薄膜进行干燥，以及加热(如果需要)。
制备用于形成底涂层的涂布液的溶剂的示例包括诸如醇溶剂、芳烃溶剂、卤代烃溶剂、酮溶剂、酮醇溶剂、醚溶剂以及酯溶剂的已知有机溶剂。
所述溶剂的具体示例包括诸如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、醋酸正丁酯、二氧六环、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯以及甲苯的通常的有机溶剂。
在制备用于形成底涂层的涂布液的过程中分散金属氧化物颗粒的技术的示例包括已知的技术，其中使用辊磨机、球磨机、振动球磨机、磨碎机、砂磨机、胶体磨机或油漆搅拌器。
将用于形成底涂层的涂布液涂敷到导电基底上的技术的示例包括通常的技术，例如刮刀涂布技术、线棒涂布技术、喷涂技术、浸渍涂布技术、珠涂布技术、气刀涂布技术以及幕式涂布技术。
例如，底涂层的厚度优选为不小于5μm，更优选为20μm至50μm。
具体地，为了将电阻RL调整在上述范围内以减少重影的发生，底涂层的厚度优选为10μm至50μm，更优选为15μm至35μm。
中间层
虽然附图中未示出，可以在底涂层和感光层之间进一步设置中间层。
中间层的示例为含有树脂的层。用于形成中间层的树脂的示例包括诸如缩醛树脂(例如聚乙烯醇缩丁醛)、聚乙烯醇树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、酪蛋白树脂、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂、氯乙烯-醋酸乙烯酯-顺丁烯二酸酐树脂、硅酮树脂、硅酮醇酸树脂、苯酚甲醛树脂以及三聚氰胺树脂的已知聚合物。
中间层可以是含有有机金属化合物的层。用于形成中间层的有机金属化合物的示例包括含有诸如锆原子、钛原子、铝原子、锰原子或硅原子的金属原子的有机金属化合物。
这些用于形成中间层化合物可以单独使用，或者作为多种化合物的混合物或缩聚物使用。
具体地，中间层优选为含有有机金属化合物的层，该有机金属化合物含有锆原子或硅原子。
中间层可以通过任何已知的技术形成；例如，将上述成分添加到溶剂中制备用于形成中间层的涂布液，涂敷涂布液以形成涂布薄膜，并对涂布薄膜进行干燥，以及加热(如果需要)。
涂敷用于形成中间层的涂布液的技术的示例包括通常的技术，例如浸渍涂布技术、上推涂布技术、线棒涂布技术、喷涂技术、刮刀涂布技术、气刀涂布技术以及幕式涂布技术。
例如，中间层的厚度优选调整为0.1μm至3μm。中间层还可以作为底涂层。
电荷产生层
电荷产生层的示例为含有电荷产生材料以及粘合剂树脂的层。电荷产生层可以是电荷产生材料的沉积层。电荷产生材料的沉积层适用于诸如发光二极管(LED)或有机电致发光(EL)图像阵列的非相干光源作为光源的情况。
电荷产生材料的示例包括诸如双偶氮颜料和三偶氮颜料的偶氮颜料；诸如二溴蒽嵌蒽醌的稠环芳香族颜料；苝颜料；吡咯并吡咯颜料；酞菁颜料；氧化锌；以及三方晶系硒。
具体地，为了使用波长在近红外区域内的激光进行曝光优选金属酞菁颜料和无金属酞菁颜料作为电荷产生材料。其具体示例包括羟基镓酞菁；氯化镓酞菁；二氯化锡酞菁；以及氧钛酞菁。
为了使用波长在近紫外光区域内的激光进行曝光，电荷产生材料优选为诸如二溴蒽嵌蒽醌、硫靛颜料、四氮杂卟啉化合物、氧化锌、三方晶系硒或双偶氮颜料的稠环芳香族颜料。
上述电荷产生材料还可以在使用诸如LED或有机EL图像阵列的非相干光源的情况下使用，该非相干光源的发射中心波长为450nm至780nm；然而，当感光层的厚度不大于20μm以提高分辨率时，感光层中的场强增加，从而容易产生由于基底的电荷注入导致的带电减少，即容易产生被称为黑斑的图像缺陷。此现象在使用诸如三方晶系硒或酞菁颜料的电荷产生材料时较明显，该电荷产生材料是p型半导体并且容易产生暗电流。
相比之下，当使用诸如稠环芳香族颜料、苝颜料或偶氮颜料的n型半导体作为电荷产生材料时，尽管厚度较小，不容易产生暗电流并且产生的被称为黑斑的图像缺陷。
为区分n型电荷产生材料，通过常用的飞行时间技术分析流经的光电电流的极性，并且容易将电子(并非孔)作为载体而流动的材料确定为n型电荷产生材料。
用于形成电荷产生层的粘合剂树脂选自各种绝缘树脂，还可以选自诸如聚(N-乙烯咔唑)、聚乙烯蒽、聚乙烯芘和聚硅烷的有机光电导聚合物。
粘合剂树脂的示例包括聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚芳酯树脂(例如由双酚和芳香族二价羧酸制成的缩聚物等)、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、苯氧基树脂、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚酰胺树脂、丙烯酸树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚乙烯吡啶树脂、纤维素树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、酪蛋白、聚乙烯醇树脂以及聚乙烯吡咯烷酮树脂。这里，术语“绝缘”表示体积电阻率不低于1013Ωcm。
这些粘合剂树脂可以单独或组合使用。
电荷产生材料与粘合剂树脂的重量混合比优选为10:1至1:10。
电荷产生层可以含有其它已知的添加剂。
电荷产生层可以通过任何已知的技术形成；例如，将上述成分添加到溶剂中制备用于形成电荷产生层的涂布液，涂敷涂布液以形成涂布薄膜，并且对涂布薄膜进行干燥，以及加热(如果需要)。电荷产生层还可以通过电荷产生材料的沉积形成。通过沉积形成电荷产生层尤其适用于使用稠环芳族颜料或苝颜料作为电荷产生材料的情况。
制备用于形成电荷产生层的涂布液的溶剂的示例包括甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、醋酸正丁酯、二氧六环、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯以及甲苯。这些溶剂可以单独或组合使用。
例如，使用诸如球磨机、振动球磨机、磨碎机、砂磨机或卧式砂磨机的介质分散器，或者使用诸如搅拌器、超声波分散器、辊磨机和高压均质器的无介质分散器将颗粒(例如，电荷产生材料)分散到用于形成电荷产生层的涂布液中。高压均质器的示例包括在高压下通过液-液碰撞或液-壁碰撞将分散液分散的碰撞型均质器，或者在高压下使分散液流经窄通道将分散液分散的贯通型均质器。
在进行分散时，将用于形成电荷产生层的涂布液中的电荷产生材料的平均粒径控制为不大于0.5μm，优选为不大于0.3μm，更优选为不大于0.15μm是有效的。
将用于形成电荷产生层的涂布液涂敷到底涂层(或中间层)上的技术的示例包括诸如刮刀涂布技术、线棒涂布技术、喷涂技术、浸渍涂布技术、珠涂布技术、气刀涂布技术以及幕式涂布技术的通常的技术。
例如，电荷产生层的厚度优选调整为0.1μm至5.0μm，更优选为0.2μm至2.0μm。
电荷输送层
电荷输送层的示例为含有电荷输送材料以及粘合剂树脂的层。电荷输送层可以为含有电荷输送聚合材料的层。
电荷输送材料的示例包括诸如对苯醌、氯醌、四溴对苯醌和蒽醌的醌类化合物；四氰基醌二甲烷类化合物；诸如2,4,7-三硝基芴酮的芴酮化合物；氧杂蒽酮类化合物；二苯甲酮类化合物；氰基乙烯基化合物；以及乙烯基化合物。电荷输送材料的另一个示例包括诸如三芳基胺类化合物、联苯胺类化合物、芳基烷烃类化合物、芳基取代的乙烯类化合物、芪类化合物、蒽类化合物以及腙类化合物的空穴传输化合物。这些电荷输送材料为非限制性示例，并且可以单独或组合使用。
从电荷迁移性的角度，电荷输送材料优选为由结构式(a-1)表示的三芳基胺衍生物中的任何一种或者是由结构式(a-2)表示的联苯胺衍生物中的任何一种。
在结构式(a-1)中，ArT1、ArT2以及ArT3各自独立地表示取代或未取代的芳基、-C6H4-C(RT4)＝C(RT5)(RT6)或-C6H4-CH＝CH-CH＝C(RT7)(RT8)。RT4、RT5、RT6、RT7以及RT8各自独立地表示氢原子、取代或未取代的烷基或者取代或未取代的芳基。
这些基团中的每一个的取代基的示例包括卤素原子、具有1至5个碳原子的烷基以及具有1至5个碳原子的烷氧基。取代基的另一个示例为被具有1至3个碳原子的烷基取代的取代氨基。
在结构式(a-2)中，RT91以及RT92各自独立地表示氢原子、卤素原子、具有1至5个碳原子的烷基或者具有1至5个碳原子的烷氧基。RT101、RT102、RT111以及RT112各自独立地表示卤素原子、具有1至5个碳原子的烷基、具有1至5个碳原子的烷氧基、被具有1或2个碳原子的烷基取代的氨基、取代或未取代的芳基、-C(RT12)＝C(RT13)(RT14)或-CH＝CH-CH＝C(RT15)(RT16)。RT12、RT13、RT14、RT15以及RT16各自独立地表示氢原子、取代或未取代的烷基或者取代或未取代的芳基。Tm1、Tm2、Tn1以及Tn2各自独立地表示0至2之间的整数。
这些基团中的每一个的取代基的示例包括卤素原子、具有1至5个碳原子的烷基以及具有1至5个碳原子的烷氧基。取代基的另一个示例为被具有1至3个碳原子的烷基取代的取代氨基。
在由结构式(a-1)表示的三芳基胺衍生物以及由结构式(a-2)表示的联苯胺衍生物中，从电荷移动性的角度，优选具有“-C6H4-CH＝CH-CH＝C(RT7)(RT8)”的三芳基胺衍生物以及具有“-CH＝CH-CH＝C(RT15)(RT16)”的联苯胺衍生物。
聚合物电荷输送材料的示例包括具有电荷输送能力的已知材料，例如聚(N-乙烯基咔唑)和聚硅烷。具体地，特别优选聚酯类聚合物电荷输送材料。聚合物电荷输送材料可以单独使用或者与粘合剂树脂组合使用。
电荷输送材料中使用的粘合剂树脂的示例包括聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚芳酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏二氯烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-醋酸乙烯共聚物、氯乙烯-醋酸乙烯-马来酸酐共聚物、硅酮树脂、硅酮-醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂、苯乙烯-醇酸树脂、聚(N-乙烯基咔唑)树脂以及聚硅烷。在这些粘合剂树脂中，优选使用聚碳酸酯树脂和聚芳酯树脂作为粘合剂树脂。这些粘合剂树脂单独或组合使用。
电荷输送材料与粘合剂树脂的重量混合比优选为10:1至1:5。
电荷输送层还可以含有已知的添加剂。
电荷输送层可以通过任何已知的技术形成；例如，将上述成分添加到溶剂中制备用于形成电荷输送层的涂布液，涂敷涂布液以形成涂布薄膜，并且对涂布薄膜进行干燥，以及加热(如果需要)。
制备用于形成电荷输送层的涂布液的溶剂的示例包括通常的有机溶剂，例如诸如苯、甲苯、二甲苯和氯苯的芳香烃；诸如丙酮和2-丁酮的酮；诸如二氯甲烷、氯仿和二氯乙烷的卤代脂肪族烃；以及诸如四氢呋喃和乙醚的环状或直链醚。这些溶剂单独或组合使用。
对电荷产生层涂敷用于形成电荷输送层的涂布液的技术的示例包括通常的技术，例如刮刀涂布技术、线棒涂布技术、喷涂技术、浸渍涂布技术、珠涂布技术、气刀涂布技术以及幕式涂布技术。
例如，电荷输送层的厚度优选调整为5μm至50μm，更优选为10μm至30μm。
保护层
保护层可任选地形成于感光层上。例如，形成保护层以防止感光层在充电过程中发生化学变化并提高感光层的机械强度。
因此，保护层可以是固化薄膜(交联薄膜)的层。每一层的示例包括以下层(1)和层(2)。
(1)由含有一个分子具有反应基团和电荷输送骨架的含反应基团电荷输送材料的组合物制成的固化薄膜的层(换句话说，含有含反应基团电荷输送材料的聚合物或交联产物的层)
(2)由含有非反应性电荷输送材料和不具有电荷输送骨架但具有反应基团的含反应基团非电荷输送材料的组合物制成的固化薄膜的层(换句话说，含有非反应性电荷输送材料和含反应基团非电荷输送材料的聚合物或交联产物的层)
含反应基团电荷输送材料的反应基团的示例包括已知的反应基团，例如链可聚合基团、环氧基、-OH、-OR(其中R表示烷基)、-NH2、-SH、-COOH以及-SiRQ1 3-Qn(ORQ2)Qn(其中RQ1表示氢原子、烷基或者取代或未取代芳基；RQ2表示氢原子、烷基或者三烷基甲硅烷基；并且Qn表示1至3之间的整数)。
可以采用任何链可聚合基团，只要该基团为可以实现自由基聚合的官能团；例如，可以采用至少含有一个具有碳双键的基团的官能团。其具体示例包括含有选自乙烯基、乙烯醚基、乙烯基硫醚基、苯乙烯基(乙烯基苯基)、丙烯酰基、甲基丙烯酰基及其衍生物中的任何一种的基团。在这些基团中，含有选自乙烯基、苯乙烯基(乙烯基苯基)、丙烯酰基、甲基丙烯酰基及其衍生物中的任何一种的基团优选作为链可聚合基团，因为这些基团具有极好的反应性。
含反应基团电荷输送材料的电荷输送骨架并未特别受限，只要其结构为电子照相感光体领域中的已知结构。这种结构的示例包括衍生自诸如三芳基胺类化合物、联苯胺类化合物和腙类化合物的含氮空穴传输化合物并且与氮原子共轭的骨架。具体地，优选三芳基胺骨架。
具有反应基团和电荷输送骨架的含反应基团电荷输送材料、非反应性电荷输送材料以及含反应基团非电荷输送材料可以选自已知的材料。
保护层还可以进一步含有已知的添加剂。
保护层可以通过任何已知的技术形成；例如，将上述成分添加到溶剂中制备用于形成保护层的涂布液，涂敷涂布液以形成涂布薄膜，并且对涂布薄膜进行干燥，以及加热(如果需要)。
制备用于形成保护层的涂布液的溶剂的示例包括诸如甲苯和二甲苯的芳香烃类溶剂；诸如甲基乙基酮、甲基异丁基酮和环己酮的酮类溶剂；诸如乙酸乙酯和乙酸丁酯的酯类溶剂；诸如四氢呋喃和二恶烷的醚类溶剂；诸如乙二醇单甲醚的溶纤剂类溶剂；以及诸如异丙醇和丁醇的醇类溶剂。这些溶剂单独或组合使用。
用于形成保护层的涂布液可以为无溶剂涂布液。
对感光层(例如电荷输送层)涂敷用于形成保护层的涂布液的技术的示例包括通常的技术，例如浸渍涂布技术、上推涂布技术、线棒涂布技术、喷涂技术、刮刀涂布技术、气刀涂布技术以及幕式涂布技术。
例如，保护层的厚度优选调整为1μm至20μm，更优选为2μm至10μm。
单层型感光层
例如，单层型感光层(电荷产生/电荷输送层)为含有电荷产生材料和电荷输送材料，并且还可以含有粘合剂树脂和另一种已知的添加剂的层。这些材料与用于形成电荷产生层和电荷输送层的材料相同。
相对于总固体含量，单层感光层中含有的电荷产生材料的数量优选为10重量％至85重量％，更优选为20重量％至50重量％。相对于总固体含量，单层感光层中含有的电荷输送材料的数量优选为5重量％至50重量％。
单层感光层通过与用于形成电荷产生层和电荷输送层的技术相同的技术形成。
例如，单层感光层的厚度优选为5μm至50μm，更优选为10μm至40μm。
图像形成装置(以及处理盒)
根据第二示例性实施例的图像形成装置包括：电子照相感光体；充电装置，其对电子照相感光体的表面进行充电；静电潜像形成装置，其在已充电的电子照相感光体的表面形成静电潜像；显影装置，其通过使用含有调色剂的显影剂将电子照相感光体表面的静电潜像显影以形成调色剂图像；以及转印装置，其将调色剂图像转印到记录介质的表面。电子照相感光体为根据第一示例性实施例的电子照相感光体。
根据第二示例性实施例的图像形成装置可以是以下已知的图像形成装置中的任何一种：配有定影装置的装置，该定影装置将转印到记录介质表面的调色剂图像定影；直接转印型装置，其将电子照相感光体的表面形成的调色剂图像直接转印到记录介质上；中间转印型装置，其将电子照相感光体的表面形成的调色剂图像转印到中间转印体的表面(一次转印)，接着将中间转印体表面的调色剂图像转印到记录介质的表面(二次转印)；配有清洁装置的装置，该清洁装置在调色剂图像转印之后以及电子照相感光体被充电之前清洁电子照相感光体的表面；配有电荷中和装置的装置，该电荷中和装置在调色剂图像转印之后以及电子照相感光体被充电之前对电子照相感光体的表面照射消除电荷的光；以及配有电子照相感光体加热元件的装置，该电子照相感光体加热元件对电子照相感光体进行加热以降低相对温度。
在未提供在调色剂图像被转印之后(即，在电子照相感光体上形成的调色剂图像通过转印装置转印之后)并且在电子照相感光体被充电之前(即，通过充电装置对电子照相感光体表面进行充电之前)去除电子照相感光体表面上的电荷的电荷中和装置情况下，电荷尤其在感光层和底涂层之间的界面积聚，其容易导致重影的发生。然而，使用第一示例性实施例的电子照相感光体能够在不具备电荷中和装置的情况下也容易地减少重影的发生。
例如，在中间转印型装置中，转印装置包括调色剂图像将转印到其表面的中间转印体；将电子照相感光体表面形成的调色剂图像一次转印到中间转印体的表面的一次转印装置；以及将转印到中间转印体表面的调色剂图像二次转印到记录介质表面的二次转印装置。
根据第二示例性实施例的图像形成装置可以是干式显影型图像形成装置或湿式显影型图像形成装置(使用液体显影剂进行显影)。
例如，在根据第二示例性实施例的图像形成装置的结构中，配有电子照相感光体的部分可以为可拆卸地连接到图像形成装置(处理盒)上的盒的形式。处理盒的优选示例为包括根据第一示例性实施例的电子照相感光体的处理盒。除电子照相感光体以外，处理盒还可以包括选自由充电装置、静电潜像形成装置、显影装置以及转印装置组成的组中的至少一种。
下面，对根据第二示例性实施例的图像形成装置的示例进行说明；然而，根据第二示例性实施例的图像形成装置并不限于此。对附图中所示的部件进行说明，并且省略其它部件的说明。
图4示意性地示出根据第二示例性实施例的图像形成装置的结构的示例。
如图4所示，根据第二示例性实施例的图像形成装置100包括处理盒300，该处理盒300包括电子照相感光体7、曝光装置9(静电潜像形成装置的示例)、转印装置40(一次转印装置)以及中间转印体50。在图像形成装置100中，曝光装置9的配置成：曝光装置9可以通过处理盒300中的开口向电子照相感光体7照射光。转印装置40的配置成：转印装置40面对电子照相感光体7，而中间转印体50在它们之间。中间转印体50设置成使得中间转印元件50的一部分与电子照相感光体7相接触。尽管附图中未示出，还提供将中间转印体50上的调色剂图像转印到记录介质(例如，纸张)上的二次转印装置。在这种情况下，中间转印体50、转印装置40(一次转印装置)以及二次转印装置(附图中未示出)与转印装置的示例相对应。
在图4所示的处理盒300中，外壳一体地容纳电子照相感光体7、充电装置8(充电装置的示例)、显影装置11(显影装置的示例)以及清洁装置13(清洁装置的示例)。清洁装置13具备清洁刮刀131(清洁元件的示例)，并且清洁刮刀131设置成与电子照相感光体7的表面相接触。清洁元件无需为清洁刮刀131的形式，还可以是导电或绝缘纤维元件；这种纤维元件可以单独使用或者与清洁刮刀131组合使用。
图4中的图像形成装置的示例包括向电子照相感光体7的表面供应润滑剂14的纤维元件132(辊形)，以及辅助清洁的纤维元件133(平面刷形)，并且这些零部件可根据需要而设置。
下面，对根据第二示例性实施例的图像形成装置的各个部件进行说明。
充电装置
充电装置8的示例包括接触型充电器，其使用导电或半导电充电辊、充电刷、充电薄膜、充电橡胶刮刀和充电管。还可以使用任何其他已知的充电器，例如非接触型辊充电器以及使用电晕放电的格栅电晕管或电晕管充电器。
曝光装置
曝光装置9的示例包括光学系统，其通过来自半导体激光器、LED或液晶光闸的呈预期图像的形状的光照亮电子照相感光体7的表面。光源的波长在电子照相感光体的光谱灵敏度区域以内。来自半导体激光器的光通常是震荡波长接近780nm的近红外光。然而，光的波长不限于此；也可以使用震荡波长为600nm的激光或者震荡波长在400nm至450nm的范围内的蓝色激光。也可以使用能够输出多个波束的表面发射型激光源形成彩色图像。
显影装置
显影装置11的示例为使用显影剂以接触或非接触方式进行显影的通用显影装置。显影装置11并未特别受限，只要具备上述功能，并且选择适用于预期用途的结构。显影装置11的示例为已知的显影装置，该已知的显影装置具有以下功能：使用刷子或辊使单组分或双组分显影剂附着在电子照相体7上。具体地，优选包括将显影剂保持在其表面的显影辊的显影装置。
显影装置11中使用的显影剂可以是由调色剂单独组成的单组份显影剂或者可以是由调色剂和载体组成的双组份显影剂。显影剂可以是磁性的或非磁性的。可以使用任何已知的显影剂。
清洁装置
清洁装置13为使用清洁刮刀131的清洁刮刀型清洁装置。
清洁装置13还可以具备除清洁刮刀型以外的结构；具体地，可以采用毛刷清洁，或者同时进行显影和清洁。
转印装置
转印装置40的示例包括已知的转印充电器，例如接触型转印充电器，其具备带、辊、薄膜或橡胶刮刀，并且采用使用电晕放电的非接触型转印充电器，例如格栅电晕管转印充电器和电晕管转印充电器。
中间转印体
例如，中间转印体50为含有半导电的聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚碳酸酯、聚芳酯、聚酯或橡胶的带形(中间转印带)。中间转印体还可以是除带形以外的形状，例如鼓形。
图5示意性地示出根据第二示例性实施例的图像形成装置的结构的另一个示例。
图5所示的图像形成装置120为配有四个处理盒300的串联型多色图像形成装置。在图像形成装置120中，四个处理盒300并列设置在中间转印体50上，并且一个电子照相感光体用于一种颜色。除串联型以外，图像形成装置120还具有与图像形成装置100相同的结构。
第二示例性实施例的图像形成装置100的结构不限于上述结构。例如，在沿电子照相感光体7旋转方向的转印装置40的下游侧且在沿电子照相感光体旋转方向的清洁装置13的上游侧，可以在电子照相感光体7周围设置第一电荷中和装置，其使残余调色剂的极性相同以便于去除剩余调色剂。此外，可以在沿电子照相感光体7旋转方向的清洁装置13的下游侧且在沿电子照相感光体旋转方向的充电装置8的上游侧设置第二电荷中和装置，其中和电子照相感光体7表面的电荷。
第二示例性实施例的图像形成装置100的结构不限于上述结构，还可以是已知的结构；例如，可以采用直接转印系统，其将电子照相感光体7上形成的调色剂图像直接转印到记录介质上。
示例
下面，参照不限制本发明范围的示例对本发明的示例性实施例作进一步详细说明。在以下描述中，术语“份”和“％”表示重量份和重量％，除非另有规定。
示例1
底涂层的形成
将以下材料彼此混合：100重量份作为金属氧化物颗粒的氧化锌颗粒(商标名：MZ-300，由帝国化工公司(Tayca Corporation)生产，平均一次粒径：35nm)、10重量份作为硅烷偶联剂的N-β(氨乙基)γ-氨丙基三乙氧基硅烷的10重量％甲苯溶液以及200重量份甲苯。接着，搅拌混合物并回流2小时。甲苯在10mmHg的减压下蒸馏掉，并且在135℃下对所得产物进行2小时的烘干以实现表面处理。
接着，将33重量份经过表面处理的氧化锌颗粒与6重量份封端异氰酸酯(商标名：Sumidur3175，由住化拜耳氨酯公司(Sumitomo Bayer Urethane Co.,Ltd.)生产)、1重量份由通式(X)表示作为电子接受化合物的电子接受蒽醌化合物以及25重量份甲基乙基酮混合30分钟。接着，将5重量份缩丁醛树脂(商标名：S-LEC BM-1，由积水化学工业公司(SekisuiChemical Co.,Ltd.)生产)、3重量份硅球(商标名：Tospearl120，由迈图高新材料公司(Momentive Performance Materials Inc.)生产)以及0.01重量份硅油(商标名：SH29PA，由道康宁东丽公司(Dow Corning Toray Silicone Co.,Ltd.)生产)加入混合物中。使用砂磨机(商标名：DYNO-MILL，由SHINMARU ENTERPRISE株式会社(SHINMARU ENTERPRISESCORPORATION)生产)以1600rpm的圆盘转速对所得混合物进行4小时的一次分散。将砂磨机的圆盘转速降低一半(800rpm)以进行12小时的二次分散，从而获得用于形成底涂层的涂布液。
通过浸渍涂布将用于形成底涂层的涂布液涂敷于直径为40mm、长度为340mm且厚度为1.0mm的导电基底上，并在180℃下干燥和固化30分钟以形成厚度为23.5μm的底涂层。
电荷产生层的形成
将18重量份作为电荷产生材料的羟基镓酞菁颜料、16重量份作为粘合剂树脂的氯乙烯-醋酸乙烯共聚物树脂(商标名：VMCH，由日本尤尼卡公司(Nippon Unicar CompanyLimited)生产))以及100重量份醋酸正丁酯的混合物放入容量为100mL的玻璃瓶中，并以50％的填充率向其中添加直径为1.0mm的玻璃珠。使用油漆搅拌器将内容物分散2.5小时以生产用于形成电荷产生层的涂布液。通过浸渍涂布将该涂布液涂敷于底涂层上，并在100℃下干燥5分钟以形成厚度为0.20μm的电荷产生层。
电荷输送层的形成
将2重量份由通式(CT1)表示的化合物、2重量份由通式(CT2)表示的化合物以及6重量份由通式(PC1)表示的聚碳酸酯共聚树脂(分子量为40,000)加入并溶解到60重量份四氢呋喃中，从而产生用于形成电荷输送层的涂布液。通过浸渍涂布将用于形成电荷输送层的涂布液涂敷于电荷产生层上，并在150℃下干燥30分钟以形成厚度为24μm的电荷输送层。
通过这一过程，制造了示例1的电子照相感光体。
示例2至示例11以及比较示例1至比较示例3
用于形成底涂层的涂布液的制备过程中的一次和二次分散的条件；底涂层的厚度；平均一次粒径(D50p)；金属氧化物颗粒的类型和数量(经表面处理的金属氧化物颗粒的数量)；以及电子接受化合物的类型和数量如表1所示。除这些变化以外，示例2至示例11以及比较示例1至比较示例3的电子照相感光体的生产方式与示例1相同。
在示例6和示例7中，将氧化锌颗粒(商标名：MZ-200，由帝国化工公司生产，平均一次粒径：50nm)作为金属氧化物颗粒使用。
在示例9中，将氧化钛颗粒(商标名：TAF500J，由富士钛工业株式会社(FujiTitanium Industry Co.Ltd.)生产，平均一次粒径：50nm)作为金属氧化物颗粒使用。
在示例10中，将氧化锡颗粒(商标名：S-1，由三菱材料株式会社(MitsubishiMaterials Corporation)生产，平均一次粒径：25nm)作为金属氧化物颗粒使用。
在示例11中，将由通式(Y)表示的电子接受蒽醌化合物作为电子接受化合物使用。
测量
当在生产各个示例的电子照相感光体的过程中完成底涂层的形成时，按照上述方式测量底涂层对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL以及对波长为大约750nm至800nm的光的反射率RH。
评价
重影的评价
在示例中生产的电子照相感光体各自安装到已改良为电荷消除灯可以被关闭的电子照相图像形成装置(DocuCentre-V C7776，由富士施乐公司(Fuji Xerox Co.Ltd.)生产)上，接着在10℃的气温和15％的相对湿度RH下输出图像。
具体地，依次输出其整个表面上以30％的图像密度形成半色调图像的100张A3纸。接着，输出一张A3纸并将其用作评价重影的图像，在该A3纸上，以100％的图像密度形成2cm的正方形图像并且以30％的图像密度在正方形图像之后以相当于感光体的周长(大约94mm)的间隔形成半色调图像。使用该用于评价重影的图像目测观察图像密度为30％的半色调图像上的正方形图像的重影的发生。
对图像进行感光评价并分级。级别分为G0至G5的6个等级；“G”后面的数字越小，评价结果越好(换句话说，发生的重影越少)。在重影的评价中，G3以上的级别可以接受。
在电荷消除灯已打开(去除电荷)以及电荷消除灯已关闭(未去除电荷)的情况下，进行重影的评价。
表1
表2
结果显示，与比较示例相比，减少了示例中的重影的发生。具体地，在电荷消除灯关闭的情况下，容易发生重影；但是，在示例中，减少了重影的发生。
为了进行图示和说明，以上对本发明的示例性实施例进行了描述。其目的并不在于全面详尽地描述本发明或将本发明限定于所公开的具体形式。很显然，对本技术领域的技术人员而言，可以做出许多修改以及变形。本实施例的选择和描述，其目的在于以最佳方式解释本发明的原理及其实际应用，从而使得本技术领域的其他熟练技术人员能够理解本发明的各种实施例，并做出适合特定用途的各种变形。本发明的范围由与本说明书一起提交的权利要求书及其等同物限定。

Claims (10)

1.一种电子照相感光体，其特征在于，包括：
导电基底；
底涂层，其设置在所述导电基底上并含有粘合剂树脂、金属氧化物颗粒和具有蒽醌结构的电子接受化合物；
以及感光层，其设置在所述底涂层上，其中，
所述底涂层对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL为大约2％至5％。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其中，对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL为大约2％至4％。
3.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其中，对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL与对波长为大约750nm至800nm的光的反射率RH的百分比为大约5％至20％。
4.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其中，对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL与对波长为大约750nm至800nm的光的反射率RH的百分比为大约5％至15％。
5.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其中，对波长为大约470nm至510nm的光的反射率RL与对波长为大约750nm至800nm的光的反射率RH的百分比为大约7％至10％。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的电子照相感光体，其中，所述金属氧化物颗粒为选自由氧化锌颗粒和氧化钛颗粒组成的组中的至少一种。
7.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其中，所述金属氧化物颗粒为氧化锌颗粒。
8.一种处理盒，其特征在于，包括：
根据权利要求1至7中任一项所述的电子照相感光体，其中，
所述处理盒可拆卸地安装到图像形成装置上。
9.一种图像形成装置，其特征在于，包括：
根据权利要求1至7中任一项所述的电子照相感光体；
充电装置，其用于对所述电子照相感光体的表面进行充电；
静电潜像形成装置，其用于在所述已充电的电子照相感光体的所述表面上形成静电潜像；
显影装置，其用于使用含有调色剂的显影剂对所述电子照相感光体的所述表面上的所述静电潜像进行显影以形成调色剂图像；以及
转印装置，其用于将所述调色剂图像转印到记录介质的表面。
10.根据权利要求9所述的图像形成装置，其中，所述图像形成装置未使用电荷中和装置，该电荷中和装置用于在所述电子照相感光体的所述表面形成的所述调色剂图像被所述转印装置转移之后以及所述电子照相感光体的所述表面被所述充电装置充电之前去除所述电子照相感光体的所述表面的电荷。
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