CN103309180B - 图像形成设备和处理盒 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了图像形成设备和处理盒，所述图像形成设备至少包括：电子照相感光体，所述电子照相感光体至少具有导电性支持体、底涂层和感光层；充电装置，所述充电装置以接触充电的方式对电子照相感光体的表面充电，其中仅施加直流(DC)电压；静电潜像形成装置，所述静电潜像形成装置将经充电的电子照相感光体的表面曝光以形成静电潜像；显影装置，所述显影装置通过显影剂使静电潜像显影以形成色调剂图像；和转印装置，所述转印装置将色调剂图像由电子照相感光体直接转印到转印介质上；并且所述图像形成设备不包括擦除装置，所述擦除装置用于在通过转印装置将色调剂图像转印至转印介质上之后且在通过充电装置对电子照相感光体的表面充电之前对电子照相感光体的表面进行擦除。

Description

图像形成设备和处理盒
技术领域
本发明涉及图像形成设备和处理盒。
背景技术
电子照相方式的图像形成近来已经广泛用于如复印机和激光打印机等图像形成设备。
JP-A-2001-312075(专利文献1)公开了“一种不具有擦除系统的图像形成设备，所述图像形成设备使用单层电子照相感光体，其中感光层形成在导电性基体上，所述感光层含有在粘合剂树脂中的作为电荷生成剂的酞菁类化合物、空穴输送剂和电子输送剂，相对于粘合剂树脂的重量，所述酞菁类化合物的含量为0.1重量%～4重量%，感光层的膜厚度为10μm～35μm，并且在曝光波长为780nm且曝光能量为1.0μm/cm2时测量的对于正极性的感度与对于负极性的感度之差的绝对值等于或小于500V”。
JP-A-2008-281723(专利文献2)公开了“一种其中不具有擦除单元的非擦除型图像形成设备，所述图像形成设备包括电子照相感光体，所述电子照相感光体具有位于基体上的至少含有电荷生成剂、空穴输送剂和粘合剂树脂的感光层，其中空穴输送剂含有由特定结构表示的胺化合物”。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种图像形成设备，利用所述图像形成设备，可以抑制因电子照相感光体的曝光部分与未曝光部分之间的表面电位差而引起的浓度不均匀。
上述目的通过本发明的以下方面而实现。
根据本发明的第一方面，提供一种图像形成设备，所述图像形成设备至少包括：电子照相感光体，所述电子照相感光体至少具有导电性支持体、设置在所述导电性支持体上的底涂层和设置在所述底涂层上的感光层，所述底涂层含有金属氧化物颗粒和具有蒽醌结构的电子接受性化合物，所述电子接受性化合物的量相对于100重量份的所述金属氧化物颗粒为1重量份～5重量份，并且所述底涂层具有通过交流(AC)阻抗法测得为3.5×108Ωm～1.0×109Ωm的体积电阻率；充电装置，所述充电装置以接触充电的方式对电子照相感光体的表面充电，其中仅施加直流(DC)电压；静电潜像形成装置，所述静电潜像形成装置使经充电的电子照相感光体的表面曝光以形成静电潜像；显影装置，所述显影装置通过显影剂使静电潜像显影以形成色调剂图像；和转印装置，所述转印装置将色调剂图像由电子照相感光体直接转印至转印介质；并且所述图像形成设备不包括用于在通过转印装置将色调剂图像转印至转印介质上之后和在通过充电装置对电子照相感光体的表面充电之前对电子照相感光体的表面进行擦除的擦除装置。
根据本发明的第二方面，在根据第一方面的图像形成设备中，所述电子接受性化合物的含量相对于100重量份的所述金属氧化物颗粒可以为2重量份～4重量份。
根据本发明的第三方面，在根据第一方面的图像形成设备中，所述电子接受性化合物可以是由下式(1)表示的电子接受性化合物：
式(1)
其中，R1和R2各自独立地表示羟基、甲基、甲氧基甲基、苯基或氨基，并且m和n各自独立地表示0～4的整数。
根据本发明的第四方面，在根据第三方面的图像形成设备中，在由式(1)表示的电子接受性化合物中，R1可以为羟基，m可以为1～3，并且n可以为0。
根据本发明的第五方面，在根据第一方面的图像形成设备中，所述电子接受性化合物可以为具有羟基蒽醌结构的电子接受性化合物。
根据本发明的第六方面，在根据第一方面的图像形成设备中，所述金属氧化物颗粒可以经过硅烷偶联剂进行的表面处理。
根据本发明的第七方面，在根据第一方面的图像形成设备中，所述金属氧化物颗粒可以经过具有氨基的硅烷偶联剂进行的表面处理。
根据本发明的第八方面，在根据第一方面的图像形成设备中，100重量份金属氧化物颗粒的表面上所附着的所述表面处理剂的量可以为0.5重量份～3重量份。
根据本发明的第九方面，在根据第一方面的图像形成设备中，通过交流(AC)阻抗法测得的所述底涂层的体积电阻率可以为4.0×108Ωm～9.5×108Ωm。
根据本发明的第十方面，在根据第一方面的图像形成设备中，通过交流(AC)阻抗法测得的所述底涂层的体积电阻率可以为4.5×108Ωm～9.0×108Ωm。
根据本发明的第十一方面，提供一种处理盒，所述处理盒至少包括：电子照相感光体，所述电子照相感光体至少具有导电性支持体、设置在所述导电性支持体上的底涂层和设置在所述底涂层上的感光层，所述底涂层含有金属氧化物颗粒和具有蒽醌结构的电子接受性化合物，所述电子接受性化合物的量相对于100重量份的所述金属氧化物颗粒为1重量份～5重量份，并且所述底涂层具有通过交流(AC)阻抗法测得为3.5×108Ωm～1.0×109Ωm的体积电阻率；和充电装置，所述充电装置以接触充电的方式对电子照相感光体的表面充电，其中仅施加直流(DC)电压；并且所述处理盒不包括用于在通过转印装置将形成于电子照相感光体的表面上的色调剂图像转印至转印介质上之后和在通过充电装置对电子照相感光体的表面充电之前对电子照相感光体的表面进行擦除的擦除装置；并且所述处理盒可与图像形成设备分离。
根据本发明的第十二方面，在根据第十一方面的处理盒中，所述电子接受性化合物的含量相对于100重量份金属氧化物颗粒可以为2重量份～4重量份。
根据本发明的第十三方面，在根据第十一方面的处理盒中，所述电子接受性化合物可以是由下式(1)表示的电子接受性化合物：
式(1)
其中，R1和R2各自独立地表示羟基、甲基、甲氧基甲基、苯基或氨基，并且m和n各自独立地表示0～4的整数。
根据本发明的第十四方面，在根据第十三方面的处理盒中，在由式(1)表示的电子接受性化合物中，R1可以为羟基，m可以为1～3，并且n可以为0。
根据本发明的第十五方面，在根据第十一方面的处理盒中，所述电子接受性化合物可以是具有羟基蒽醌结构的电子接受性化合物。
根据本发明的第十六方面，在根据第十一方面的处理盒中，所述金属氧化物颗粒可以经过硅烷偶联剂进行的表面处理。
根据本发明的第十七方面，在根据第十一方面的处理盒中，所述金属氧化物颗粒可以经过具有氨基的硅烷偶联剂进行的表面处理。
根据本发明的第十八方面，在根据第十一方面的处理盒中，100重量份金属氧化物颗粒的表面上所附着的所述表面处理剂的量可以为0.5重量份～3重量份。
根据本发明的第十九方面，在根据第十一方面的处理盒中，通过交流(AC)阻抗法测得的所述底涂层的体积电阻率可以为4.0×108Ωm～9.5×108Ωm。
根据本发明的第二十方面，在根据第十一方面的处理盒中，通过交流(AC)阻抗法测得的所述底涂层的体积电阻率可以为4.5×108Ωm～9.0×108Ωm。
根据本发明的第一至第四方面和第六至第十方面，可以提供一种图像形成设备，所述图像形成设备包括其中仅施加直流电压的接触充电方式的充电装置，和将色调剂图像由电子照相感光体直接转印至转印介质的直接转印方式的转印装置，并且所述图像形成设备不包括擦除装置，与电子照相感光体的底涂层不包含特定范围内的金属氧化物颗粒和特定电子接受性化合物或者体积电阻率不在特定范围内的情形相比，所述图像形成设备抑制了因电子照相感光体的曝光部分与未曝光部分之间的表面电位差而引起的浓度不均匀。
根据本发明的第五方面，可以提供图像形成设备，与在电子照相感光体底涂层中所包含的电子接受性化合物不是具有羟基蒽醌结构的电子接受性化合物的情形相比，所述图像形成设备抑制了因电子照相感光体的曝光部分与未曝光部分之间的表面电位差而引起的浓度不均匀。
根据本发明的第十一至第二十方面，可以提供一种处理盒，所述处理盒包括其中仅施加直流电压的接触充电方式的充电装置，和将色调剂图像由电子照相感光体直接转印至转印介质的直接转印方式的转印装置，并且所述处理盒不包括擦除装置，与电子照相感光体的底涂层不包含特定范围内的金属氧化物颗粒和特定电子接受性化合物或者体积电阻率不在特定范围内的情形相比，所述处理盒抑制了因电子照相感光体的曝光部分与未曝光部分之间的表面电位差而引起的浓度不均匀。
附图说明
将基于以下附图对本发明的示例性实施方式进行详细描述，其中：
图1是显示根据本发明示例性实施方式的电子照相感光体的一部分的横截面的示意图；
图2是显示根据本发明示例性实施方式的图像形成设备的基本构造的示意图；
图3是显示根据本发明示例性实施方式的处理盒的实例的基本构造的示意图；和
图4是显示在实施例的评价中形成的图像的模拟图。
具体实施方式
下面将详细描述示例性实施方式。此外，在附图中，相同或等同的要素具有相同的附图标记，在一些情形下省略了重复说明。
图像形成设备
根据本发明示例性实施方式的图像形成设备包括：电子照相感光体；充电单元，所述充电单元对电子照相感光体的表面充电；静电潜像形成单元，所述静电潜像形成单元使经充电的电子照相感光体的表面曝光以形成静电潜像；显影单元，所述显影单元通过显影剂使静电潜像显影以形成色调剂图像；和转印单元，所述转印单元将色调剂图像转印至转印介质上。
对于不具有擦除单元(该擦除单元用于在通过转印单元将形成于电子照相感光体的表面上的色调剂图像转印至转印体上之后和在通过充电单元对电子照相感光体的表面充电之前对电子照相感光体的表面进行擦除)的图像形成设备(下文中将称为非擦除系统)，采用其中仅施加直流(DC)电压的接触充电形式的充电单元作为所述充电单元，并采用将色调剂图像由电子照相感光体直接转印至转印介质的直接转印形式的转印单元作为所述转印单元。
另外，对于如上构造的图像形成设备，将至少具有底涂层和感光层的电子照相感光体用作位于导电性支持体上的电子照相感光体，所述底涂层含有金属氧化物颗粒和具有蒽醌结构的电子接受性化合物，所述电子接受性化合物的量相对于100重量份的所述金属氧化物颗粒为1重量份～5重量份，并且所述底涂层具有通过交流(AC)阻抗法测得为3.5×108Ωm～1.0×109Ωm的体积电阻率。
此处，现有技术中的非擦除系统通过由转印单元(其从电子照相感光体转印色调剂图像)赋予的反向电压(反向偏压)消除电子照相感光体的曝光部分与未曝光部分之间的表面电位差。
然而，为了应对对于更小尺寸和更快速度的需求，在采用其中仅施加直流(DC)电压的接触充电方式和直接转印方式的非擦除系统中，电子照相感光体的曝光部分与未曝光部分之间的表面电位差往往难以消除，导致在一些情形中产生图像浓度不均匀。
其原因被认为如下。由于在直接转印方式中，转印介质(例如，记录介质，如纸)的电阻值很高，因而由转印单元赋予电子照相感光体的反向电压(反向偏压)较低。进而，在其中仅施加直流(DC)电压的接触充电形式中，电子照相感光体的曝光部分与未曝光部分之间的表面电位差未被消除。
因此，在根据本发明示例性实施方式的图像形成设备中的采用其中仅施加直流(DC)电压的接触充电形式和直接转印形式的非擦除系统中，当电子照相感光体构造如上时，因电子照相感光体的曝光部分与未曝光部分之间的表面电位差而引起的浓度不均匀得到抑制。
其原因尚不清楚，但推测如下。
认为当将电子照相感光体的底涂层的体积电阻率调整为3.5×108Ωm～1.0×109Ωm的低范围并且底涂层的电阻值自身降低时，电子照相感光体的电阻降低，并且虽然赋予电子照相感光体的反向电压(反向偏压)较低，但电荷容易流入感光层。
还认为，当电子照相感光体的底涂层的体积电阻率降低并且在电子照相感光体的底涂层中引入相对于100重量份的金属氧化物颗粒为1重量份～5重量份的很大的量的具有蒽醌结构的电子接受性化合物时，底涂层与接触底涂层设置的感光层(具有电荷生成/电荷输送功能的单层感光层或在功能分离型感光层中的电荷生成层)之间发生的电荷注入不受干扰地进行(这意味着电荷注入很容易进行)，结果，尽管赋予电子照相感光体的反向电压(反向偏压)降低，也能够获得电子照相感光体的曝光部分与未曝光部分之间的表面电位差的消除。
因此，认为在根据本发明示例性实施方式的图像形成设备中的采用其中仅施加直流(DC)电压的接触充电形式和直接转印形式的非擦除系统中，当电子照相感光体构造如上时，因电子照相感光体的曝光部分与未曝光部分之间的表面电位差而引起的浓度不均匀得到抑制。
此外，在根据本发明示例性实施方式的图像形成设备中，当采用具有羟基蒽醌结构的电子接受性化合物作为具有蒽醌结构的电子接受性化合物时，因电子照相感光体的曝光部分与未曝光部分之间的表面电位差而引起的浓度不均匀得到进一步抑制。
下面，将参照各部件详细描述根据本发明示例性实施方式的图像形成设备。
[电子照相感光体]
图1示意性地显示了根据本发明示例性实施方式的电子照相感光体的一部分的横截面。图1所示的电子照相感光体1包括例如其中电荷生成层5和电荷输送层6分开设置的功能分离型感光层3，并且具有其中底涂层4、电荷生成层5和电荷输送层6依次层压在导电性支持体2上的结构。
此外，在本说明书中，绝缘性是指体积电阻率大于或等于1012Ωcm的范围，而导电性是指体积电阻率小于或等于1010Ωcm的范围。
下面将描述电子照相感光体1的各要素。
导电性支持体
作为导电性支持体2，可以使用现有技术中使用的任一种导电性支持体。导电性支持体的实例包括：金属，如铝、镍、铬和不锈钢；具有例如铝、钛、镍、铬、不锈钢、金、钒、氧化锡、氧化铟或ITO的薄膜的塑料膜；和涂布或浸渍有导电性赋予剂的纸或塑料膜。
导电性支持体2的形状不限于筒形，还可以是片状或板状。
当使用金属管作为导电性支持体2时，其表面可以是未处理的状态，也可以预先进行如镜面切削、蚀刻、阳极氧化、粗切削、无心研磨、喷砂和湿珩磨等处理。
底涂层
底涂层4可以至少含有金属氧化物颗粒和特定电子接受性化合物，如果需要还可以含有其他材料。
底涂层4的实例包括通过将金属氧化物颗粒和特定电子接受性化合物分散在粘合剂树脂中而形成的底涂层。
金属氧化物颗粒
金属氧化物颗粒的实例包括例如氧化锌、氧化钛、氧化锡或氧化锆的颗粒，并且可以使用其中两种以上的混合物。
金属氧化物颗粒的体积平均粒径可以为例如50nm～200nm，优选60nm～180nm，且更优选70nm～120nm。
使用例如激光衍射型粒径分布测量装置(LA-700，由HORIBA，Ltd.制造)测量金属氧化物颗粒的体积平均粒径。作为测量方法，制备处于分散状态的样品以提供2g的固体含量，并对其添加离子交换水，以将溶液的量调整为40ml。然后将该溶液充入池中，直至获得适当的浓度，在等待2分钟后，进行测量。从较小体积平均粒径侧起累积各所获区段的所获体积平均粒径，并将50%累积的体积平均粒径定义为该体积平均粒径。
相对于底涂层的总量，包含在底涂层4中的金属氧化物颗粒的含量可以为例如大于或等于2.5重量%，优选为10重量%～70重量%，且更优选为30重量%～50重量%。
金属氧化物颗粒可以接受使用具有氨基的偶联剂进行的表面处理。金属氧化物颗粒可以接受使用除具有氨基的偶联剂以外的偶联剂进行的表面处理。
具有氨基的偶联剂的实例包括硅烷偶联剂、钛酸酯(盐)类偶联剂、铝类偶联剂和表面活性剂。特别是，用于通过调整电阻来抑制模糊的表面处理剂可以是例如硅烷偶联剂。
硅烷偶联剂为有机硅烷化合物(含有硅原子的有机化合物)，其具体实例包括γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-N-双(2β-羟基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷和N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷。
通过利用例如FT-IR、拉曼光谱或XPS的分子结构分析来确认金属氧化物颗粒是否接受了使用具有氨基的偶联剂进行的表面处理。
用于金属氧化物颗粒的表面处理的方法不受特别限制，但其实例包括干法和湿法。
在通过干法进行表面处理的情形中，例如，在使用例如具有高剪切力的混合器搅拌金属氧化物颗粒的同时，将表面处理剂直接逐滴添加或者将溶解在有机溶剂中的表面处理剂逐滴添加，并将其与干燥的空气或氮气一起喷射。逐滴添加或喷射在例如低于或等于溶剂沸点的温度进行。在逐滴添加或喷射之后，可以再将溶液加热至高于或等于100℃的温度以便于打印。
对于湿法，例如，将金属氧化物颗粒在溶剂中搅拌并使用例如超声波、砂磨机、磨碎机或球磨机分散，对其添加表面处理剂溶液并将该表面处理剂溶液在其中搅拌或分散，然后除去溶剂。除去溶剂的方法的实例包括过滤和蒸馏。除去溶剂之后，打印也可以在高于或等于100℃的温度进行。在湿法中，金属氧化无颗粒的水分含量可以在添加表面活性剂之前除去，这种方法的实例包括其中通过在用于表面处理剂溶液的溶剂中搅拌和加热来除去金属氧化物颗粒的水分含量的方法，和其中在使用溶剂与其进行共沸时除去金属氧化物颗粒的水分含量的方法。
表面附着的表面处理剂的量(下文中有时称作“表面处理量”)相对于100重量份金属氧化物颗粒，可以为例如0.5重量份～3重量份，优选0.5重量份～2.0重量份，且更优选0.75重量份～1.30重量份。
测量表面处理量(即，附着于金属氧化物颗粒的表面处理剂的量)的方法的实例包括利用例如FT-IR、拉曼光谱或XPS的分子结构分析法。
电子接受性化合物
电子接受性化合物为具有蒽醌结构的电子接受性化合物。此处，“具有蒽醌结构的化合物”具体而言是选自蒽醌和蒽醌衍生物中的至少一种，更具体而言，电子接受性化合物可以是由下式(1)表示的化合物。
式(1)
在式(1)中，R1和R2各自独立地表示羟基、甲基、甲氧基甲基、苯基或氨基，并且m和n各自独立地表示0～4的整数。
此外，其中m和n均为0的式(1)的化合物为蒽醌，其中m和n中至少有一个为1～4的整数的式(1)的化合物为蒽醌衍生物。即，蒽醌衍生物是指其中包含在蒽醌中的至少一个氢原子被如羟基、甲基、甲氧基甲基、苯基和氨基等取代基取代的蒽醌化合物。
特别是，在上述化合物中，电子接受性化合物的适当实例包括其中m和n均为0的式(1)的蒽醌，和其中R1为羟基、m为1～3且n为0的式(1)的羟基蒽醌。
电子接受性化合物的具体实例包括蒽醌、红紫素、茜素、醌茜、乙基蒽醌和氨基羟基蒽醌。
通过如气相色谱、液相色谱、FT-IR、拉曼光谱和XPS等分析方法来确认底涂层4是否含有具有蒽醌结构的电子接受性化合物。
相对于100重量份包含在底涂层4中的金属氧化物颗粒，底涂层4中所含的电子接受性化合物的含量为1重量份～5重量份，且优选2重量份～4重量份。
通过如NMR谱、XPS、原子吸收光谱和电子束显微分析仪等分析方法来确认电子照相感光体的底涂层4中所含的金属氧化物颗粒与电子接受性化合物的含量比。
粘合剂树脂
作为包含在底涂层4中的粘合剂树脂，使用的是：高分子化合物，如缩醛树脂(如聚乙烯醇缩丁醛)、聚乙烯醇树脂、酪蛋白、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸类树脂、丙烯酸类树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、硅树脂、聚硅氧烷-醇酸树脂、酚醛树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂和氨基甲酸乙酯树脂；具有电荷输送基团的电荷输送树脂；或导电性树脂，如聚苯胺树脂。
相对于底涂层的总量，包含在底涂层中的粘合剂树脂的含量可以为例如5重量%～60重量%，优选10重量%～55重量%，且更优选30重量%～50重量%。
其他添加剂
可以向底涂层4添加树脂颗粒以调整其表面粗糙度。其实例包括硅树脂颗粒和交联型PMMA树脂颗粒。
此外，可以对底涂层4的表面进行研磨以调整其表面粗糙度。研磨方法的实例包括软皮研磨(buff grinding)、喷砂处理、湿珩磨和研磨处理。
此外，可以向底涂层4添加固化剂或固化催化剂。当添加固化剂或固化催化剂时，固化反应得到充分进行，由此抑制从底涂层4的不必要的洗脱，并且抑制残余电位的升高和感光度的降低。
固化剂的实例包括封端异氰酸酯化合物和三聚氰胺树脂，并且适合使用的是封端异氰酸酯化合物。由于封端异氰酸酯化合物具有被封端剂遮掩的异氰酸酯基团，因此涂布液随时间推移的凝胶化和稠化得到抑制，因此加工性优异。
固化催化剂的实例包括常用的已知材料，固化催化剂优选选自酸催化剂、胺类催化剂和金属化合物类催化剂。此外，当使用三聚氰胺树脂作为固化剂时，优选使用的是酸催化剂；而当使用封端异氰酸酯化合物时，优选使用的是胺类催化剂或金属化合物类催化剂。金属化合物类催化剂的实例包括氧化亚锡、二辛基二月桂酸锡、二丁基二月桂酸锡、二丁基二乙酸锡、环烷酸锌、三氯化锑、油酸钾、邻苯基苯酚钠、硝酸铋、氯化铁、四正丁基锡、四(2-乙基己基)钛酸盐、2-乙基己酸钴和2-乙基己酸铁。
相对于固化剂的量，所固化催化剂的添加量优选为0.0001重量%～0.1重量%，且更优选为0.001重量%～0.01重量%。
底涂层的形成
当形成底涂层4时，使用通过向溶剂中添加上述组分而形成的涂布液(形成底涂层用涂布液)。
所述溶剂的实例包括有机溶剂，特别是，芳香烃类溶剂，如甲苯和氯苯；脂肪醇类溶剂，如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇和正丁醇；酮类溶剂，如丙酮、环己酮和2-丁酮；卤代脂肪烃溶剂，如二氯甲烷、氯仿和氯乙烯；环醚或直链醚类溶剂，如四氢呋喃、二氧六环、乙二醇和二乙醚；和酯类溶剂，如乙酸甲酯、乙酸乙酯和乙酸正丁酯。这些溶剂可以单独使用或将其中两种以上组合使用，并且不受特别限制，但优选使用用于溶解粘合剂树脂的溶剂。
形成底涂层用涂布液中所使用的溶剂的量不受特别限制，只要粘合剂树脂溶解于其中即可，不过其相对于1重量份粘合剂树脂可以为例如0.05重量份～200重量份。
此外，对于将金属氧化物颗粒分散在形成底涂层用涂布液中的方法，可以使用如球磨机、振动式球磨机、磨碎机和砂磨机等介质分散器；和如搅拌器、超声分散器、辊磨机和高压均化器等无介质分散器。此外，高压均化器的实例包括：通过高压下的液-液碰撞或液-壁碰撞而使分散液分散的碰撞型均化器，和通过使分散液在高压下通过微细流路而使分散液分散的通过型均化器。
优选选择适当的分散方法，以将所获得的底涂层4的体积电阻率调整至如下文所述的范围，具体而言，优选将利用玻璃珠的砂磨机或球磨机等用于分散。根据所使用的如金属氧化物颗粒和粘合剂树脂等组分来控制玻璃珠的粒径，具体而言，粒径可以为0.1mm～10mm。
形成底涂层用涂布液在导电性支持体2上的涂布方法的实例包括浸涂法、挤出涂布法、线棒涂布法、喷涂法、刮板涂布法、刮刀涂布法和幕涂法。
在于导电性支持体2上涂布形成底涂层用涂布液之后，优选进行加热以干燥或固化。在使用固化剂或固化催化剂的情形中的固化温度和加热时间优选根据所使用的固化剂或固化催化剂的种类来调整，具体而言，加热可以在例如160℃～200℃进行15分钟～40分钟。
底涂层的物理性质
底涂层4的厚度大于或等于10μm，更优选为15μm～40mm。
底涂层4的体积电阻率使用交流(AC)阻抗法测量为3.5×108Ωm～1.0×109Ωm，优选为4.0×108Ωm～9.5×108Ωm，且更优选为4.5×108Ωm～9.0×108Ωm。
详细的测量底涂层4的体积电阻率的方法如下。
首先，测量底涂层4的阻抗。在用于阻抗测量的样品中，将如铝管等导电性支持体用作阴极，将金电极用作阳极，由1MHz～1mHz的频率范围内的高频侧施加1Vp-p的交流(AC)电压，并测量各样品的交流(AC)阻抗。通过利用测量中获得的科尔-科尔图(Cole-Coleplot)将图拟合为并联RC的等效电路，获得底涂层4的体积电阻率。
此外，由电子照相感光体制备用于测量体积电阻率的底涂层样品的方法如下。
例如，使用如丙酮、四氢呋喃、甲醇和乙醇等溶剂除去涂覆底涂层的如电荷生成层和电荷输送层等涂布膜，并通过真空沉积法或溅射法在暴露的底涂层上安置金电极，以提供用于测量体积电阻率的底涂层样品。
将底涂层4的体积电阻率调整至上述范围内的方法的实例包括调整金属氧化物颗粒的添加量或粒径的方法，和对将金属氧化物颗粒分散在形成底涂层用涂布液中的方法进行改变的方法。
随着金属氧化物颗粒的粒径的增大，底涂层4的体积电阻率倾向于升高。此外，通过增加金属氧化物颗粒的添加量，底涂层4的体积电阻率倾向于升高。
此外，当金属氧化物颗粒在形成底涂层用涂布液中的分散性提高时，底涂层4的体积电阻率倾向于升高。具体而言，通过延长形成底涂层用涂布液的分散处理时间，底涂层4的体积电阻率倾向于升高。
中间层
还可以在底涂层4上设置中间层(未示出)以改善例如电特性、图像品质、图像品质的保持性或感光层的附着性。用于中间层的粘合剂树脂的实例包括含有锆原子、钛原子、铝原子、锰原子和硅原子的有机金属化合物，以及高分子树脂化合物，例如缩醛树脂(如聚乙烯醇缩丁醛)、聚乙烯醇树脂、酪蛋白、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸类树脂、丙烯酸类树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、硅树脂、聚硅氧烷-醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂和三聚氰胺树脂。
使用例如通过将粘合剂树脂溶解在溶剂中而形成的涂布液来形成中间层。涂布液的涂布方法的实例包括已知的方法，如浸涂法、挤出涂布法、线棒涂布法、喷涂法、刮板涂布法、刮刀涂布法和幕涂法。
中间层的厚度被设定为例如0.1μm～3μm。
电荷生成层
电荷生成层5被构造为例如具有分散在粘合剂树脂中的电荷生成材料。
作为电荷生成材料，使用的是如非金属酞菁、氯化镓酞菁、羟基镓酞菁、二氯化锡酞菁和钛氧基酞菁等酞菁颜料，特别是使用了关于CuKα特性X射线至少在布拉格角(2θ±0.2°)为7.4°、16.6°、25.5°和28.3°处具有强衍射峰的氯化镓酞菁晶体；关于CuKα特性X射线至少在布拉格角(2θ±0.2°)为7.7°、9.3°、16.9°、17.5°、22.4°和28.8°处具有强衍射峰的非金属酞菁晶体；关于CuKα特性X射线至少在布拉格角(2θ±0.2°)为7.5°、9.9°、12,5°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°处具有强衍射峰的羟基镓酞菁晶体；关于CuKα特性X射线至少在布拉格角(2θ±0.2°)为9.6°、24.1°和27.2°处具有强衍射峰的钛氧基酞菁晶体；等等。另外，其他电荷生成材料的实例包括醌颜料、苝颜料、靛青颜料、双苯并咪唑颜料、蒽酮颜料和喹吖啶酮颜料等。这些电荷生成材料可以单独使用，也可以作为其中两种以上的混合物使用。
作为电荷生成层5中的粘合剂树脂，例如使用的是：聚碳酸酯树脂，如双酚A型树脂和双酚Z型树脂、丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸类树脂、聚芳酯树脂、聚酯树脂、聚氯乙烯树脂、聚苯乙烯树脂、丙烯腈-苯乙烯共聚物树脂、丙烯腈-丁二烯共聚物、聚乙酸乙烯酯树脂、聚乙烯醇缩甲醛树脂、聚砜树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物树脂、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、硅树脂、苯酚-甲醛树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚酰胺树脂或聚-N-乙烯基咔唑树脂。这些粘合剂树脂可以单独使用，也可以将其中两种以上作为混合物使用。
电荷生成材料与粘合剂树脂的共混比(重量比)取决于所使用的材料，不过优选例如为10:1～1:10。
当形成电荷生成层5时，使用的是通过将上述组分添加至溶剂而获得的涂布液。
为将电荷生成材料分散在粘合剂树脂中，对涂布液进行分散处理。可使用的分散单元的实例包括如球磨机、振动球磨机、磨碎机和砂磨机等介质分散器，和如搅拌器、超声分散器、辊磨机和高压均化器等无介质分散器。此外，高压均化器的实例包括：通过高压下的液-液碰撞或液-壁碰撞而使分散液分散的碰撞型均化器，和通过使分散液在高压下通过微细流路而使分散液分散的通过型均化器。
将所获得的形成电荷生成层用涂布液涂布在底涂层4上的方法的实例包括浸涂法、挤出涂布法、线棒涂布法、喷涂法、刮板涂布法、刮刀涂布法和幕涂法。
电荷生成层5的膜厚优选被设定为0.01μm～5μm。
电荷输送层
电荷输送层6被构造为具有例如分散在粘合剂树脂中的电荷输送材料。
电荷输送材料的实例包括：空穴输送材料，例如，噁二唑衍生物，如2,5-双(对二乙基氨基苯基)-1,3,4-噁二唑，吡唑啉衍生物，如1,3,5-三苯基吡唑啉和1-[吡啶基-(2)]-3-(对二乙基氨基苯乙烯基)-5-(对二乙基氨基苯乙烯基)吡唑啉，芳香族叔胺化合物，如三苯胺、N,N’-双(3,4-二甲基苯基)-联苯基-4-胺、三(对甲基苯基)胺基-4-胺和二苄基苯胺，芳香族叔二氨基化合物，如N,N’-双(3-甲基苯基)-N,N’-二苯基联苯胺、N,N’-二苯基-N,N’-双(3-甲基苯基)-[1,1’]联苯基-4,4’-二胺，1,2,4-三嗪衍生物，如3-(4’-二乙基氨基苯基)-5,6-二-(4’-甲氧基苯基)-1,2,4-三嗪，腙衍生物，如4-二乙基氨基苯甲醛-1,1-二苯基腙；喹唑啉衍生物，如2-苯基-4-苯乙烯基-喹唑啉，苯并呋喃衍生物，如6-羟基-2,3-二(对甲氧基苯基)-苯并呋喃，α-茋衍生物，如对-(2,2-二苯基乙烯基)-N,N-二苯基苯胺，烯胺衍生物，咔唑衍生物，如N-乙基咔唑和聚-N-乙烯基咔唑及其衍生物；电子输送材料，例如，醌类化合物，如氯醌和溴蒽醌，四氰基对醌二甲烷类化合物，芴酮化合物，如2,4,7-三硝基芴酮和2,4,5,7-四硝基-9-芴酮，氧杂蒽酮类化合物和噻吩类化合物；和主链或侧链中具有由上述化合物形成的基团的聚合物。这些电荷输送材料可以单独使用，也可以将其中两种以上组合使用。
电荷输送层6中的粘合剂树脂的实例包括：绝缘树脂，例如，联苯基共聚型聚碳酸酯树脂，聚碳酸酯树脂，如双酚A型树脂和双酚Z型树脂，丙烯酸类树脂，甲基丙烯酸类树脂，聚芳酯树脂，聚酯树脂，聚氯乙烯树脂，聚苯乙烯树脂，丙烯腈-苯乙烯共聚物树脂，丙烯腈-丁二烯共聚物树脂，聚乙酸乙烯酯树脂，聚乙烯醇缩甲醛树脂，聚砜树脂，苯乙烯-丁二烯共聚物树脂，偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物树脂，氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂，硅树脂，苯酚-甲醛树脂，聚丙烯酰胺树脂，聚酰胺树脂和氯化橡胶；和有机光电导聚合物，如聚乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽和聚乙烯基芘。这些粘合剂树脂可以单独使用，也可以作为其中两种以上的混合物使用。
此外，当电荷输送层6为电子照相感光体的表面层(感光层的距导电性支持体2最远设置的层)时，可以在电荷输送层6中加入润滑性颗粒(例如，氟类树脂颗粒和聚硅氧烷类树脂颗粒，如二氧化硅颗粒、氧化铝颗粒和聚四氟乙烯(PTFE))。这些润滑性颗粒可以以其两种以上的混合物来包含在内。
此外，当电荷输送层6为电子照相感光体的表面层时，可以向电荷输送层6中添加氟改性的硅油。氟改性的硅油的实例包括具有氟烷基的化合物。
此外，电荷输送层6中电荷输送材料与粘合剂树脂的重量比可以为例如10:1～1:5。即，相对于电荷输送层6的总量，电荷输送材料的含量可以为例如17重量%～91重量%。
使用通过将上述组分添加至溶剂而获得的形成电荷输送层用涂布液来形成电荷输送层6。
所述溶剂的实例包括已知的有机溶剂，例如：芳香烃类溶剂，如甲苯和氯苯；脂肪醇类溶剂，如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇和正丁醇；酮类溶剂，如丙酮、环己酮和2-丁酮；卤代脂肪烃溶剂，如二氯甲烷、氯仿和氯乙烯；环醚或直链醚类溶剂，如四氢呋喃、二氧六环、乙二醇和二乙醚；和酯类溶剂，如乙酸甲酯、乙酸乙酯和乙酸正丁酯。此外，这些溶剂可以单独使用或者将其中两种以上组合使用，并且混合和使用的溶剂不受特别限制，只要其为作为混合溶剂是可溶解粘合剂树脂的溶剂即可。
将润滑性颗粒分散在形成电荷输送层用涂布液中的方法的实例包括使用如球磨机、振动球磨机、磨碎机和砂磨机等介质分散器或者如搅拌器、超声分散器、辊磨机、高压均化器和纳米化器(nanomizer)等无介质分散器的方法。此外，高压均化器的实例包括：通过高压下的液-液碰撞或液-壁碰撞而使分散液分散的碰撞型均化器，和通过使分散液在高压下通过微细流路而使分散液分散的通过型均化器。
形成电荷输送层6的方法的实例包括下述方法，其中，将形成电荷输送层用涂布液涂布在其中形成了底涂层4和电荷生成层5的导电性支持体2的电荷生成层5上并干燥，由此形成电荷输送层6。
在电荷生成层5上涂布形成电荷输送层用涂布液的方法的实例包括浸涂法、挤出涂布法、线棒涂布法、喷涂法、刮板涂布法、刮刀涂布法和幕涂法。
此外，在于电荷生成层5上涂布了所述涂布液之后，进行加热和干燥，以除去涂布液中的溶剂。电荷输送层6的膜厚度可以是例如5μm～50μm。
为防止因图像形成设备中产生的臭氧或氧化氮或者因光和热导致的感光体劣化，可以向构成感光层3的各层中添加如抗氧化剂、光稳定剂和热稳定剂等添加剂。抗氧化剂的实例包括受阻酚、受阻胺、对苯二胺、芳基烷烃、氢醌、螺环色烷、螺环茚酮及其衍生物、有机硫化合物和有机磷化合物。光稳定剂的实例包括二苯甲酮、氮茚、二硫代氨基甲酸酯(盐)和四甲基哌啶的衍生物。
此外，根据本发明示例性实施方式的电子照相感光体1可以被构造为使得电荷输送层6为最外层，不过还可以在电荷输送层上形成保护层。
图像形成设备
接下来，将描述包括根据本发明示例性实施方式的电子照相感光体的图像形成设备。
第一示例性实施方式
图2示意性地显示了第一示例性实施方式的图像形成设备的基本构造。
图2所示的图像形成设备200包括：例如，本发明示例性实施方式的电子照相感光体1；接触充电方式的充电装置208(充电单元)，其与电源209相连，用于对电子照相感光体1充电；曝光装置210(静电潜像形成单元)，其使经充电装置208充电的电子照相感光体1曝光以形成静电潜像；显影装置211(显影单元)，其使用含有色调剂的显影剂使通过曝光装置210形成的静电潜像显影以形成色调剂图像；转印装置212(转印单元)，其将形成于电子照相感光体1表面上的色调剂图像转印至转印介质500上；色调剂去除装置213(色调剂去除单元)，其除去转印后残留在电子照相感光体1表面上的色调剂；和定影装置215(定影单元)，其将转印至转印介质500上的色调剂图像在转印介质500中定影。
此外，图3所示的图像形成设备200是非擦除方式的图像形成设备，所述图像形成设备不包括在电子照相感光体表面上的色调剂图像被转印后消除残留在电子照相感光体表面上的电荷的擦除单元。
充电装置208具有充电部件，当感光体1被充电时，对充电部件施加电压。对于电压范围，在本发明示例性实施方式中仅施加直流(DC)电压，因此，可以以施加50V～2000V(优选为200V～1000V，且更优选为300V～700V)的正或负值的直流(DC)电压的方式来施加电压，该值根据电子照相感光体1的所需充电电位而变化。
充电部件的实例包括辊、刷和膜。其中，辊状充电部件(在下文中，有些情况下可称为“充电辊”)的实例包括由电阻率调整为103Ω～108Ω的材料构成的辊状充电部件。此外，充电辊可以由单层或多个层构成。
当使用充电辊作为充电部件时，施加于感光体1的压力可以为例如250mgf～600mgf。
构成充电部件的材料的实例包括下述材料，所述材料以合成橡胶，如氨基甲酸乙酯橡胶、硅橡胶、氟橡胶、氯丁二烯橡胶、丁二烯橡胶、EPDM (乙烯-丙烯-二烯共聚橡胶)和表氯醇橡胶作为主要材料，或者以由聚烯烃、聚苯乙烯或氯乙烯等构成的弹性体作为主要材料，并且还具有以适当的量共混于其中的导电性赋予剂，如导电性碳、金属氧化物和离子导电剂。
另外，可以通过使用使用如尼龙、聚酯、聚苯乙烯、聚氨酯和聚硅氧烷等树脂形成涂料，并可以将如导电性碳、金属氧化物和离子导电剂等导电性赋予剂以适当的量共混于其中，然后可以将所获得的涂料通过利用浸渍法、喷雾法或辊涂法等进行层合来使用。
在使用充电辊作为充电部件的情形中，通过将充电辊与感光体1的表面进行接触，即使当充电单元不包括驱动单元时充电单元也能随感光体1而旋转，但通过在充电辊中安装驱动单元，充电单元可以以不同于感光体1的圆周速度旋转。
作为曝光装置210，使用的是已知的曝光单元。具体而言，例如，使用的是用于通过如半导体激光器、LED(发光二极管)和液晶快门等光源曝光的光学系统的设备。在感光体的表面上的写入过程中的光量可以为例如0.5mJ/m2～5.0mJ/m2。
显影装置211的实例包括：双组分显影方式的显影单元，其中附着有含有载体和色调剂的显影剂的显影刷(显影剂保持部件)与静电潜像保持部件接触以进行显影；和接触型单组分显影方式的显影单元，其中色调剂附着在导电性橡胶弹性体输送辊(显影剂保持部件)上以使静电潜像保持部件中的色调剂显影。
色调剂不受特别限制，只要其是已知的色调剂即可。具体而言，可以是例如至少含有粘合剂树脂的色调剂，并如果需要还可以含有着色剂或防粘剂等。
制备色调剂的方法不受特别限制，但其实例包括利用背景技术中的普通粉碎法、用于在分散介质中制备的湿熔融球化法和聚合法(如悬浮聚合、分散聚合和乳液聚合凝集法)来制备色调剂的方法。
当显影剂为含有色调剂和载体的双组分显影剂时，载体不受特别限制，其实例包括仅包含芯材，例如磁性金属(如氧化铁、镍和钴)和磁性氧化物(如铁氧体和磁铁矿)的载体(未涂布的载体)；和具有设置在这些芯材表面上的树脂层的树脂涂布的载体。双组分显影剂中色调剂与载体(色调剂:载体)的混合比(重量比)可以为1:100～30:100，或者可以为3:100～20:100。
转印装置212的实例除辊状接触型充电部件之外，还包括利用例如带、膜或橡胶刮板的接触型转印充电器，或者利用电晕放电的格栅电晕管转印充电器或电晕管转印充电器。
色调剂去除装置213用于除去转印后附着在电子照相感光体1表面上的残留色调剂，由此为重复执行图像形成过程提供了具有经清洁的表面的电子照相感光体1。对于色调剂去除装置213，例如，除异物去除部件(清洁刮板)之外还采用刷清洁或辊清洁，但其中优选使用的是清洁刮板。此外，用于清洁刮板的材料的实例包括氨基甲酸乙酯橡胶、氯丁橡胶和硅橡胶。
此外，在不存在残留色调剂的问题的情形中，例如在色调剂不容易保留在感光体1的表面上的情形中，不需要提供色调剂去除装置213。
下面将描述图像形成设备200用于设置图像的基本工序。
首先，充电装置208将感光体1的表面充电至预定电势。接下来，基于图像信号，通过曝光装置210将经充电的感光体1的表面曝光，从而形成静电潜像。
然后，将显影剂保持在显影装置211的显影剂保持部件上，将所保持的显影剂输送至感光体1，并于显影剂保持部件与感光体1彼此接近(或彼此接触)的位置处供给至静电潜像。由此，静电潜像被可视化为色调剂图像。
经显影的色调剂图像被输送至转印装置212的位置，并通过转印装置212被直接转印至转印介质500上。
然后，转印有色调剂图像的转印介质500被输送至定影装置215，通过定影装置215将色调剂图像在转印介质500上定影。定影温度可以为例如100℃～180℃。
另一方面，在色调剂图像转印至转印介质500上之后，未被转印而保留在感光体1上的色调剂颗粒移至与色调剂去除装置213接触的位置，并被色调剂去除装置213回收。
由此，通过图像形成设备200形成了图像。
处理盒
图3示意性地显示了根据本发明示例性实施方式的处理盒的实例的基本构造。该处理盒300通过使用附着轨道216将下述部分组合而实现一体化：电子照相感光体1；接触充电方式的充电装置208，其对电子照相感光体1充电；显影装置211，其使用含有色调剂的显影剂使通过曝光而形成于电子照相感光体1上的静电潜像显影以形成色调剂图像；色调剂去除装置213，其除去转印后残留在电子照相感光体1表面上的色调剂；和曝光用开口218。
此外，该处理盒300被构造为可安装于图像形成设备的主体上或可拆卸，所述图像形成设备包括：转印装置212，其将形成于电子照相感光体1表面上的色调剂图像转印至转印介质500上；定影装置215，其将转印至转印介质500上的色调剂图像在转印介质500上定影；和未示出的其他组件，并且处理盒300与图像形成设备的主体一起构成该图像形成设备。
除电子照相感光体1、充电装置208、显影装置211、色调剂去除装置213和曝光用开口218之外，处理盒300可以还包括将电子照相感光体1的表面曝光的曝光装置(未示出)。
另外，根据本发明示例性实施方式的处理盒可以至少包括电子照相感光体1和充电装置208。
[实施例]
下面将参照实施例详细描述本发明，但不应认为本发明限于这些实施例。此外，除非另外指出，否则“%”都是基于重量的。
电子照相感光体的制备
实施例1
感光体的制备
在搅拌下将100重量份氧化锌(平均粒径：70nm，由Tayca Corporation制造，比表面积：15m2/g)与500重量份甲醇混合。向其中添加1.0重量份作为硅烷偶联剂的KBM603(N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷，由Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.制造)，之后搅拌2小时。然后，通过在减压下蒸馏来蒸发甲醇，并在120℃进行打印3小时，从而获得以硅烷偶联剂进行了表面处理的氧化锌颗粒。
将100重量份作为金属氧化物颗粒的经表面处理的氧化锌颗粒、1重量份作为具有蒽醌结构的电子接受性化合物的茜素、22.5重量份作为固化剂的封端异氰酸酯(SUMIDULEBL 3175，由Sumitomo Bayer Urethane Company Ltd.制造)和25重量份丁缩醛树脂(S-LecBM-1，由Sekisui Chemical Co，Ltd.制造)溶解在142重量份甲基乙基酮中，以得到溶液。将38重量份该溶液与25重量份甲级乙基酮混合，并将该混合物在利用直径为2mm的玻璃珠的砂磨机中分散30小时，以得到分散液。向获得的分散液中添加0.005重量份作为催化剂的二辛基二月桂酸锡和4.0重量份硅树脂颗粒(TOSPEARL 130，由GE Toshiba Silicones Co.，Ltd.制造)，以得到底涂层用涂布液。通过浸涂法将该涂布液涂布在直径为30mm的铝基体上，并在170℃干燥25分钟，以获得厚度为25μm的底涂层。
接下来，利用直径为1mm的玻璃珠，将15重量份作为电荷生成材料的关于CuKα特性X射线至少在布拉格角(2θ±0.2°)为7.4°、16.6°、25.5°和28.3°处具有强衍射峰的氯化镓酞菁晶体、10重量份氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物树脂(VMCH，由Nippon UnicarCompanyLimited制造)和300重量份正丁醇的混合物在砂磨机中分散4小时，以获得电荷生成层用涂布液。将电荷生成层用涂布液浸涂在上述底涂层上，并干燥以获得厚度为0.2μm的电荷生成层。
接下来，将4重量份作为电荷输送材料的N,N'-二苯基-N,N'-双(3-甲基苯基)-[1,1']联苯-4,4'-二胺、6重量份作为粘合剂树脂的双酚Z型聚碳酸酯树脂(粘均分子量：40,000)和1重量份作为抗氧化剂的2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚混合，并将其与24重量份四氢呋喃和11重量份甲苯混合，并溶解于其中。然后，向其中添加10ppm的氟改性硅油(商品名：FL-100，由Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.制造)，并充分搅拌该混合物，以获得形成电荷输送层用涂布液。
将该涂布液涂布在电荷生成层上，并在140℃干燥25分钟，以形成膜厚度为25μm的电荷输送层，由此获得所期望的电子照相感光体。
将由此获得的电子照相感光体作为感光体1。
底涂层的体积电阻率的测量
·测量样品的制备
通过刮板涂布法将实施例和比较例的感光体的制备中所使用的底涂层用涂布液涂布在铝板上，并在170℃干燥和固化24分钟。对于底涂层的单层膜，通过真空沉积法将尺寸为100nm的金电极设置为对电极并用于电阻率的测量。
测量方法
对于阻抗的测量，使用SI 1287电化学界面(由TOYO Corporation制造)作为电源，使用SI 1260阻抗/增益相位分析仪(由TOYO Corporation制造)作为安培计，并使用1296介电界面(由TOYO Corporation制造)作为电流放大器。
在用于阻抗测量的样品中，使用铝管作为阴极，并使用金电极作为阳极，由1MHz～1mHz的频率范围内的高频侧施加1Vp-p的交流(AC)电压，并在室温(22℃，55%RH)测量各样品的交流(AC)阻抗。通过利用测量中获得的科尔-科尔图将图拟合为并联RC的等效电路，获得体积电阻率。体积电阻率显示在表1中。
曝光部分与未曝光部分之间的表面电位差
将电子照相感光体1安装在通过从DocuPrint C2110“装置被构造为通过对充电辊施加-600V的直流(DC)电压从而以接触充电的方式对电子照相感光体充电和对转印辊施加1500V至2000V的电压，来进行由电子照相感光体至纸的直接转印”上取下擦除单元而获得的改造装置上，并将充电、曝光(电子照相感光体的上半部分)和转印依次各进行一次。然后，当进行充电和曝光(前表面)时，使用静电伏特计Trek 334(由TREK JAPAN Co.，Ltd.制作)测量电子照相感光体的上半部分(在之前的循环中具有曝光史)和电子照相感光体的下半部分(在之前的循环中不具有曝光史)的表面电位，并将表面电位之差定义为曝光部分与未曝光部分的表面电位差ΔVh。结果显示在表1中。
评价标准如下。此外，将由富士施乐株式会社制造的纸C2用作所述纸。
评价标准如下。
A：未产生浓度不均匀。
B：产生了轻微的浓度不均匀，为可接受的水平。
C：以较差的水平产生了浓度不均匀，浅部无边缘。
D：以较差的水平产生了浓度不均匀，浓部和淡部有明显的边缘。
图像浓度不均匀性
使用上述DocuPrint C2110改造装置，以相似的方式依次进行充电、曝光和转印，以打印图4中所示的图像(实心图像(图像浓度为100%)和半色调图像(图像浓度为30%))以评价图4中所示的半色调部分的浓度不均匀性。结果显示在表1中。
实施例2
以与实施例1相似的方式制备感光体，不同之处在于，茜素的添加量改变为3重量份并且干燥底涂层的温度改变为185℃，并以相似的方式进行评价。
实施例3
以与实施例1相似的方式制备感光体，不同之处在于，茜素的添加量改变为3重量份并且干燥底涂层的温度改变为180℃，并以相似的方式进行评价。
实施例4
以与实施例1相似的方式制备感光体，不同之处在于，茜素的添加量改变为3重量份并且干燥底涂层的温度改变为175℃，并以相似的方式进行评价。
实施例5
以与实施例1相似的方式制备感光体，不同之处在于，茜素的添加量改变为5重量份并且干燥底涂层的温度改变为180℃，并以相似的方式进行评价。
实施例6
以与实施例1相似的方式制备感光体，不同之处在于添加1重量份醌茜代替茜素，并以相似的方式进行评价。
实施例7
以与实施例3相似的方式制备感光体，不同之处在于添加3重量份醌茜代替茜素，并以相似的方式进行评价。
比较例1
以与实施例1相似的方式制备感光体，不同之处在于茜素的添加量改变为0.5重量份，并以相似的方式进行评价。
比较例2
以与实施例1相似的方式制备感光体，不同之处在于未添加茜素，并以相似的方式进行评价。
比较例3
以与实施例1相似的方式制备感光体，不同之处在于，茜素的添加量改变为6重量份并且干燥底涂层的温度改变为190℃，并以相似的方式进行评价。
比较例4
以与实施例1相似的方式制备感光体，不同之处在于，茜素的添加量改变为6重量份并且干燥底涂层的温度改变为185℃，并以相似的方式进行评价。
比较例5
以与实施例1相似的方式制备感光体，不同之处在于，茜素的添加量改变为6重量份并且干燥底涂层的温度改变为175℃，并以相似的方式进行评价。
比较例6
以与实施例1相似的方式制备感光体，不同之处在于，茜素的添加量改变为3重量份并且干燥底涂层的温度改变为185℃，并以相似的方式进行评价。
比较例7
以与实施例1相似的方式制备感光体，不同之处在于，茜素的添加量改变为3重量份并且干燥底涂层的温度改变为165℃，并以相似的方式进行评价。
各实施例的结果显示在表1中。
表1
由上述结果可以看出，与比较例相比，本发明实施例中获得了曝光与未曝光部分的表面电势差和浓度不均匀性评价的有利结果。
提供对本发明的实施方式的前述描述是为了说明和描述的目的。并非试图穷尽本发明所披露的精确形式或将本发明限制于所披露的精确形式。显然，许多改进和变化对于本领域技术人员是显而易见的。选择并描述所述实施方式是为了能够最好地解释本发明的原理及其实际用途，由此使得本领域的其他技术人员能够理解适用于预计的特定用途的本发明的各种实施方式和各种改进方案。本发明的范围由所附权利要求及其等同物所限定。

Claims (20)

1.一种图像形成设备，所述图像形成设备至少包括：
电子照相感光体，所述电子照相感光体至少具有
导电性支持体，
设置在所述导电性支持体上的底涂层，所述底涂层含有金属氧化物颗粒和具有蒽醌结构的电子接受性化合物，所述电子接受性化合物的量相对于100重量份的所述金属氧化物颗粒为1重量份～5重量份，并且所述底涂层具有通过交流阻抗法测定为3.5×108Ωm～1.0×109Ωm的体积电阻率，和
设置在所述底涂层上的感光层；
充电装置，所述充电装置以仅施加直流电压的接触充电的方式对所述电子照相感光体的表面充电；
静电潜像形成装置，所述静电潜像形成装置将所充电的电子照相感光体的表面曝光以形成静电潜像；
显影装置，所述显影装置通过显影剂使所述静电潜像显影以形成色调剂图像；和
转印装置，所述转印装置将所述色调剂图像从所述电子照相感光体直接转印到转印介质上；并且
所述图像形成设备不包括擦除装置，所述擦除装置用于在通过所述转印装置将所述色调剂图像转印到所述转印介质上之后和在通过所述充电装置对所述电子照相感光体的表面充电之前对所述电子照相感光体的表面进行擦除。
2.如权利要求1所述的图像形成设备，其中，所述电子接受性化合物的含量相对于100重量份的所述金属氧化物颗粒为2重量份～4重量份。
3.如权利要求1所述的图像形成设备，其中，所述电子接受性化合物为由下式(1)表示的电子接受性化合物：
其中，R1和R2各自独立地表示羟基、甲基、甲氧基甲基、苯基或氨基，并且m和n各自独立地表示0～4的整数。
4.如权利要求3所述的图像形成设备，其中，在由式(1)表示的电子接受性化合物中，R1为羟基，m为1～3，并且n为0。
5.如权利要求1所述的图像形成设备，其中，所述电子接受性化合物为具有羟基蒽醌结构的电子接受性化合物。
6.如权利要求1所述的图像形成设备，其中，所述金属氧化物颗粒经过硅烷偶联剂进行的表面处理。
7.如权利要求1所述的图像形成设备，其中，所述金属氧化物颗粒经过具有氨基的硅烷偶联剂进行的表面处理。
8.如权利要求1所述的图像形成设备，其中，100重量份所述金属氧化物颗粒的表面上所附着的表面处理剂的量为0.5重量份～3重量份。
9.如权利要求1所述的图像形成设备，其中，通过交流阻抗法测得的所述底涂层的体积电阻率为4.0×108Ωm～9.5×108Ωm。
10.如权利要求1所述的图像形成设备，其中，通过交流阻抗法测得的所述底涂层的体积电阻率为4.5×108Ωm～9.0×108Ωm。
11.一种处理盒，所述处理盒至少包括：
电子照相感光体，所述电子照相感光体至少具有
导电性支持体，
设置在所述导电性支持体上的底涂层，所述底涂层含有金属氧化物颗粒和具有蒽醌结构的电子接受性化合物，所述电子接受性化合物的量相对于100重量份的所述金属氧化物颗粒为1重量份～5重量份，并且所述底涂层具有通过交流阻抗法测定为3.5×108Ωm～1.0×109Ωm的体积电阻率，和
设置在所述底涂层上的感光层；和
充电装置，所述充电装置以仅施加直流电压的接触充电的方式对所述电子照相感光体的表面充电；并且
所述处理盒不包括擦除装置，所述擦除装置用于在通过转印装置将形成于所述电子照相感光体的表面上的色调剂图像转印到转印介质上之后和在通过所述充电装置对所述电子照相感光体的表面充电之前对所述电子照相感光体的表面进行擦除；并且
所述处理盒可与所述图像形成设备分离。
12.如权利要求11所述的处理盒，其中，所述电子接受性化合物的含量相对于100重量份的所述金属氧化物颗粒为2重量份～4重量份。
13.如权利要求11所述的处理盒，其中，所述电子接受性化合物为由下式(1)表示的电子接受性化合物：
其中，R1和R2各自独立地表示羟基、甲基、甲氧基甲基、苯基或氨基，并且m和n各自独立地表示0～4的整数。
14.如权利要求13所述的处理盒，其中，在由式(1)表示的电子接受性化合物中，R1为羟基，m为1～3，并且n为0。
15.如权利要求11所述的处理盒，其中，所述电子接受性化合物为具有羟基蒽醌结构的电子接受性化合物。
16.如权利要求11所述的处理盒，其中，所述金属氧化物颗粒经过硅烷偶联剂进行的表面处理。
17.如权利要求11所述的处理盒，其中，所述金属氧化物颗粒经过具有氨基的硅烷偶联剂进行的表面处理。
18.如权利要求11所述的处理盒，其中，100重量份所述金属氧化物颗粒的表面上所附着的表面处理剂的量为0.5重量份～3重量份。
19.如权利要求11所述的处理盒，其中，通过交流阻抗法测得的所述底涂层的体积电阻率为4.0×108Ωm～9.5×108Ωm。
20.如权利要求11所述的处理盒，其中，通过交流阻抗法测得的所述底涂层的体积电阻率为4.5×108Ωm～9.0×108Ωm。
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