CN103365130B - 电子照相感光体、图像形成设备和处理盒 - Google Patents

电子照相感光体、图像形成设备和处理盒 Download PDF

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Abstract

本发明提供了电子照相感光体、图像形成设备和处理盒,所述电子照相感光体包含:基板;设置在基板上的感光层;和设置在感光层上的含有氟树脂颗粒的表面层,所述表面层是厚度为3μm以上的单层并具有满足特定表达式的截面,所述截面沿表面层厚度方向取得。

Description

电子照相感光体、图像形成设备和处理盒
技术领域
本发明涉及电子照相感光体、图像形成设备和处理盒。
背景技术
JP-A-56-51749(专利文献1)公开了一种感光体,其中使用环氧树脂作为粘合剂树脂。JP-A-8-278645(专利文献2)公开了一种感光体,所述感光体在感光层中含有具有一个环氧基团的环氧乙烷化合物。JP-A-2002-82469(专利文献3)和JP-A-2003-186234(专利文献4)公开了一种感光体,其中保护层含有酚醛树脂和带羟基的电荷输送材料。
JP-A-63-221355(专利文献5)公开了一种电子照相感光体,所述电子照相感光体的表面层含有氟树脂粉末和氟接枝聚合物。JP-A-04-12365(专利文献6)公开了一种电子照相感光体,其中感光层和保护层中的含有氟原子的树脂颗粒的含量满足特定条件。JP-A-04-345167(专利文献7)公开了一种电子照相感光体,其中保护层含有表面粗糙度在特定范围内的疏水二氧化硅。
JP-B-02-007057(专利文献8)和日本专利第2675035号(专利文献9)公开了一种电子照相感光体,其中保护层中的上层和下层的金属氧化物颗粒的含量是不同的。日本专利第3773868号(专利文献10)和日本专利第3831672号(专利文献11)公开了一种电子照相感光体,其中其表面层中的氧化铝等的浓度具有由支持体至表面的梯度。
JP-A-04-324451(专利文献12)公开了一种电子照相感光体,所述电子照相感光体包含通过层压两个具有不同聚四氟乙烯颗粒含量的层而获得的表面层。
JP-A-2009-145480(专利文献13)公开了一种电子照相感光体,所述电子照相感光体包含支持体;形成于支持体上方的电荷生成层;形成于电荷生成层上方的电荷输送层;形成于电荷输送层上方的含有颗粒和粘合剂材料的单层的表面层;其中,电荷输送层含有非高分子电荷输送化合物和热塑性树脂,表面层的粘合剂材料为通过聚合性单体或低聚物的聚合而获得的固化材料,并且相对于表面层中颗粒的总数量,颗粒在由表面层的表面至特定深度的上表面层中的含量(以数量计)40数量%~95数量%。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种电子照相感光体,其中残留在电子照相感光体表面上的色调剂的可去除性得到保持。
使用以下手段可解决上述问题。
即,根据本发明的第一方面,提供一种电子照相感光体,所述电子照相感光体包含基板;设置在基板上的感光层;和设置在感光层上的含有氟树脂颗粒的表面层,所述表面层是厚度为3μm以上的单层,并且具有满足以下表达式(1)、(2)和(3)的截面,该截面沿表面层的厚度方向取得:
0≤A1≤0.2×A4 表达式(1)
0.2×A4<A2≤0.6×A4 表达式(2)
0.6×A4<A3 表达式(3)
其中,A1表示截面中氟树脂颗粒的面积与第一区域的总面积之比(%),其中所述第一区域位于由表面层的最外表面至基板侧的大于或等于0.2μm且小于0.5μm的距离范围内;
A2表示截面中氟树脂颗粒的面积与第二区域的总面积之比(%),其中所述第二区域位于由表面层的最外表面至基板侧的大于或等于0.5μm且小于1.5μm的距离范围内;
A3表示截面中氟树脂颗粒的面积与第三区域的总面积之比(%),其中所述第三区域位于由表面层的最外表面至基板侧的1.5μm~(表面层的厚度-0.5μm)的距离范围内;并且
A4表示氟树脂颗粒的面积与截面的总面积之比(%)。
根据本发明的第二方面,在根据第一方面的电子照相感光体中,表面层可以含有交联组分,并且交联组分可以是具有烷氧基的交联性化合物和具有羟基的交联性化合物的反应产物。
根据本发明的第三方面,在根据第二方面的电子照相感光体中,具有烷氧基的交联性化合物可以是具有两个或多于两个烷氧基的化合物,并且具有羟基的交联性化合物可以是具有两个或多于两个羟基的化合物。
根据本发明的第四方面,在根据第一方面的电子照相感光体中,表面层的厚度可以为3μm~15μm。
根据本发明的第五方面,在根据第一方面的电子照相感光体中,表面层的厚度可以为6μm~10μm。
根据本发明的第六方面,在根据第一方面的电子照相感光体中,氟树脂颗粒的含量可以为1重量%~30重量%。
根据本发明的第七方面,在根据第一方面的电子照相感光体中,氟树脂颗粒的平均一次粒径可以为0.05μm~1μm。
根据本发明的第八方面,在根据第一方面的电子照相感光体中,氟树脂可以选自由聚四氟乙烯、聚氯三氟乙烯、聚六氟丙烯、聚氟乙烯、聚偏二氟乙烯和聚二氯二氟乙烯组成的组。
根据本发明的第九方面,在根据第一方面的电子照相感光体中,表面层可以满足以下表达式:
0≤A1≤0.1×A4 表达式(4)
0.3×A4<A2≤0.5×A4 表达式(5)
0.9×A4<A3 表达式(6)
其中,A1表示截面中氟树脂颗粒的面积与第一区域的总面积之比(%),其中所述第一区域位于由表面层的最外表面至基板侧的大于或等于0.2μm且小于0.5μm的距离范围内;
A2表示截面中氟树脂颗粒的面积与第二区域的总面积之比(%),其中所述第二区域位于由表面层的最外表面至基板侧的大于或等于0.5μm且小于1.5μm的距离范围内;
A3表示截面中氟树脂颗粒的面积与第三区域的总面积之比(%),其中所述第三区域位于由表面层的最外表面至基板侧的1.5μm~(表面层的厚度-0.5μm)的距离范围内;并且
A4表示氟树脂颗粒的面积与截面的总面积之比(%)。
根据发明的第十方面,在根据第一方面的电子照相感光体中,表面层可以还含有具有氟烷基基团的共聚物。
根据本发明的第十一方面,提供了一种图像形成设备,所述图像形成设备包括电子照相感光体;对电子照相感光体的表面充电的充电单元;在电子照相感光体的经充电的表面上形成静电潜像的潜像形成单元;通过使用色调剂使形成于电子照相感光体表面上的静电潜像显影以形成色调剂图像的显影单元;和将形成于电子照相感光体表面上的色调剂图像转印至记录介质的转印单元,其中,所述电子照相感光体为根据第一方面的电子照相感光体。
根据本发明的第十二方面,在根据第十一方面的图像形成设备中,电子照相感光体的表面层可以含有交联组分,并且交联组分可以是具有烷氧基的交联性化合物和具有羟基的交联性化合物的反应产物。
根据本发明的第十三方面,在根据第十一方面的图像形成设备中,电子照相感光体的表面层可以满足以下表达式:
0≤A1≤0.1×A4 表达式(4)
0.3×A4<A2≤0.5×A4 表达式(5)
0.9×A4<A3 表达式(6)
其中,A1表示截面中氟树脂颗粒的面积与第一区域的总面积之比(%),其中所述第一区域位于由表面层的最外表面至基板侧的大于或等于0.2μm且小于0.5μm的距离范围内;
A2表示截面中氟树脂颗粒的面积与第二区域的总面积之比(%),其中所述第二区域位于由表面层的最外表面至基板侧的大于或等于0.5μm且小于1.5μm的距离范围内;
A3表示截面中氟树脂颗粒的面积与第三区域的总面积之比(%),其中所述第三区域位于由表面层的最外表面至基板侧的1.5μm~(表面层的厚度-0.5μm)的距离范围内;并且
A4表示氟树脂颗粒的面积与截面的总面积之比(%)。
根据本发明的第十四方面,提供了一种处理盒,所述处理盒包括电子照相感光体和选自以下的至少一个单元:对电子照相感光体的表面充电的充电单元(A),在电子照相感光体的经充电的表面上形成静电潜像的潜像形成单元(B),通过使用色调剂使形成于电子照相感光体表面上的静电潜像显影以形成色调剂图像的显影单元(C),将形成于电子照相感光体表面上的色调剂图像转印至记录介质的转印单元(D),和清洁电子照相感光体的清洁单元(E),其中,所述电子照相感光体为根据第一方面的电子照相感光体。
根据本发明的第十五方面,在根据第十四方面的处理盒中,电子照相感光体的表面层可以含有交联组分,并且交联组分可以是具有烷氧基的交联性化合物和具有羟基的交联性化合物的反应产物。
根据本发明的第十六方面,在根据第十四方面的处理盒中,电子照相感光体的表面层可以满足以下表达式:
0≤A1≤0.1×A4 表达式(4)
0.3×A4<A2≤0.5×A4 表达式(5)
0.9×A4<A3 表达式(6)
其中,A1表示截面中氟树脂颗粒的面积与第一区域的总面积之比(%),其中所述第一区域位于由表面层的最外表面至基板侧的大于或等于0.2μm且小于0.5μm的距离范围内;
A2表示截面中氟树脂颗粒的面积与第二区域的总面积之比(%),其中所述第二区域位于由表面层的最外表面至基板侧的大于或等于0.5μm且小于1.5μm的距离范围内;
A3表示截面中氟树脂颗粒的面积与第三区域的总面积之比(%),其中所述第三区域位于由表面层的最外表面至基板侧的1.5μm~(表面层的厚度-0.5μm)的距离范围内;并且
A4表示氟树脂颗粒的面积与截面的总面积之比(%)。
根据第一方面和第四至第十方面,与沿表面层的厚度方向取得的截面不满足表达式(1)、(2)和(3)的情形相比,残留在电子照相感光体表面上的色调剂的可去除性可保持较长时间。
根据第二和第三方面,与表面层不含有作为具有烷氧基的交联性化合物和具有羟基的交联性化合物的反应产物的交联组分的情形相比,残留在电子照相感光体表面上的色调剂的可去除性可保持较长时间。
根据第十一至第十三方面,与沿电子照相感光体的表面层的厚度方向取得的截面不满足表达式(1)、(2)和(3)的情形相比,残留在电子照相感光体表面上的色调剂的可去除性可保持较长时间。
根据第十四至第十六方面,与沿电子照相感光体的表面层的厚度方向取得的截面不满足表达式(1)、(2)和(3)的情形相比,残留在电子照相感光体表面上的色调剂的可去除性可保持较长时间。
附图说明
将基于以下附图对本发明的示例性实施方式进行详细描述,其中:
图1是说明根据示例性实施方式的第一方面的电子照相感光体的一部分的截面示意图;
图2是说明根据本示例性实施方式的第二方面的电子照相感光体的一部分的截面示意图;
图3是说明根据本示例性实施方式的第三方面的电子照相感光体的一部分的截面示意图;
图4是说明根据一个示例性实施方式的图像形成设备的构造的示意图;
图5是说明根据另一示例性实施方式的图像形成设备的构造的示意图;和
图6是说明根据示例性实施方式的电子照相感光体的表面层的第一至第三区域的示意图。
具体实施方式
下面将详细描述本发明的示例性实施方式。
电子照相感光体
根据示例性实施方式的电子照相感光体(下文中有时简称为“感光体”)包含基板、设置在基板上的感光层和设置在感光层上方并与其接触的表面层。
表面层包含氟树脂颗粒且为厚度为3μm以上的单层,并具有满足以下表达式(1)、(2)和(3)的沿其厚度方向取得的截面。
在此情形中,优选的是,根据本示例性实施方式的感光体的表面层满足以下表达式(4)、(5)和(6)。
·表达式(1):0≤A1≤0.2×A4
·表达式(2):0.2×A4<A2≤0.6×A4
·表达式(3):0.6×A4<A3
·表达式(4):0≤A1≤0.1×A4
·表达式(5):0.3×A4<A2≤0.5×A4
·表达式(6):0.9×A4<A3
在以上表达式(1)~(6)中,A1表示截面中氟树脂颗粒的面积与第一区域的总面积之比(%),其中所述第一区域位于由表面层的最外表面至基板侧的大于或等于0.2μm且小于0.5μm的距离范围内;
A2表示截面中氟树脂颗粒的面积与第二区域的总面积之比(%),其中所述第二区域位于由表面层的最外表面至基板侧的大于或等于0.5μm且小于1.5μm的距离范围内;
A3表示截面中氟树脂颗粒的面积与第三区域的总面积之比(%),其中所述第三区域位于由表面层的最外表面至基板侧的1.5μm~(表面层的厚度-0.5μm)的距离范围内;并且
A4表示氟树脂颗粒的面积与截面的总面积之比(%)。
当将表面层的最外表面用作原点(基准点)时,第一区域至第三区域为位于由原点向基板侧沿表面层的厚度方向在上述距离范围内的层(参照图6)。
特别是,第三区域是截面中夹在由表面层的最外表面层向基板侧距离为1.5μm的部分与由表面层与感光层之间的界面向表面层的最外表面侧距离为0.5μm的部分之间的层(参照图6)。
具体而言,A1、A2、A3和A4的值例如如下获得:使用扫描电子显微镜(SEM)观察表面层的厚度方向的截面(下文中有时简称为“表面层的截面”)以获得表面层的截面SEM图像,所述截面通过沿其厚度方向使用刀等切割感光体的表面层并使用超薄切片机处理所暴露的切割表面而获得。作为扫描电子显微镜,使用例如JSM-6700F或JED-2300F(由JEOL Ltd.制造)。
在所获得的截面SEM图像中,计算氟树脂颗粒被切割和暴露的截面的面积(即,氟树脂颗粒的面积),并计算氟树脂颗粒的面积与表面层的截面的总面积之比(%),作为A4的值。
类似地,在表面层的截面中,在位于由表面层的最外表面向基板侧大于或等于0.2μm且小于0.5μm的距离范围(沿厚度方向的距离;下文中适用于同样情况)内的区域(第一区域),计算氟树脂颗粒的面积与表面层的截面的总面积之比(%)作为A1的值。
类似地,在表面层的截面中,在位于由表面层的最外表面向基板侧大于或等于0.5μm且小于1.5μm的距离范围内的区域(第二区域)中,计算氟树脂颗粒的面积与表面层的截面的总面积之比(%)作为A2的值。
类似地,在表面层的截面中,在位于由表面层的最外表面向基板侧1.5μm至(表面层的厚度-0.5μm)的距离范围内的区域(第三区域)中,计算氟树脂颗粒的面积与表面层的截面的总面积之比(%)作为A3的值。
在根据本示例性实施方式的感光体中,利用上述构造,与沿表面层的厚度方向的截面不满足以上表达式的情形相比,残留在电子照相感光体表面上的色调剂的可去除性可保持较长时间。
原因尚不清楚,但认为如下。
首先,认为与其中表面层不包含氟树脂颗粒的感光体相比,本示例性实施方式的情形中的其中表面层包含氟树脂颗粒的感光体所具有的感光体表面的表面能较低,并且残留在感光体的表面的色调剂的防粘性较高(即,残留的色调剂的可去除性较高)。此外,认为存在下述效果,即,摩擦系数因表面能的降低而降低,感光体的磨损率降低,并且由此感光体因磨损所导致的寿命缩短得到抑制。
附带指出,由于随着使用,感光体的表面层磨损和变薄,因此表面状态会比初始状态有所改变。通常,认为该变化是表面粗糙度增加。例如,认为未使用的感光体通常具有极其光滑的表面,此外,当其表面层含有如硅油等光滑剂时,可能会发生对表面层的最外表面的渗出;结果,表面状态会大大地不同于表面被磨损至一定程度的感光体的表面状态。
据认为当使用清洁刮板等清洁色调剂时,适于色调剂去除的刮板接触条件随感光体的表面状态有很大的变化;并且感光体的表面状态的变化显著地不利于在从初始阶段至终结的寿命周期内保持相同的清洁性,即清洁性的保持性。
据认为当氟树脂颗粒均一地分散在表面层的最外表面中时,由初始阶段开始磨损率较低,由此具有不同状态的初始表面可保持较长时间;而当初始阶段中表面层的最外层区域中不存在氟树脂颗粒或存在少量氟树脂颗粒时,该区域将被迅速磨损并且如表面粗糙度等表面状态容易迅速稳定化。
因此,在位于由表面层的最外表面向基板侧大于或等于0.2μm且小于0.5μm的距离范围内的区域(第一区域)中氟树脂颗粒的含量(%)被设定为在整个表面层中氟树脂颗粒的含量的0.2倍以下。结果,认为因此表现出了上述效果。
在此情形中,在位于由表面层的最外表面向基板侧0μm~0.2μm的距离范围内的区域中氟树脂颗粒的含量可以大于在第一区域中的含量。然而,即使该区域含有氟树脂颗粒,该区域也会被设置有未使用的感光体的图像形成设备的初始运转所磨损或者在图像形成工序的最初始的阶段中被磨损;由此不会影响表面层的表面状态的变化,即,不会影响色调剂去除。
另一方面,在位于由表面层的最外表面向基板侧大于或等于0.5μm且小于1.5μm的距离范围内的区域(第二区域)中氟树脂颗粒的含量(%)被设定为大于在整个表面层中氟树脂颗粒的含量的0.2倍且小于或等于0.6倍。结果,认为当表面层的磨损进行到一定程度,就会开始表现出通过包含在该区域中的氟树脂颗粒而得到改善的色调剂防粘性的效果。当将该含量设定为小于或等于0.2倍时,认为效果将缓慢表现,并且易于出现清洁疲劳。另外,当将含量设定为大于0.6倍时,认为在表面层的表面状态通过摩擦而完全稳定化之前磨损率被过度降低;由此也易于出现清洁疲劳。
另外,将在位于由表面层的最外表面向基板侧1.5μm至(表面层的厚度-0.5μm)的距离范围内的区域(第三区域)中氟树脂颗粒的含量(%)设定为大于在整个表面层中氟树脂颗粒的含量的0.6倍。结果,认为在表面层的表面状态因磨损而稳定化之后,包含在该区域中的氟树脂颗粒的效果得到充分表现。
如上所述,在根据本示例性实施方式的感光体中,表面层的表面状态有很大不同的初始表面含有较少的氟树脂颗粒,由此而被迅速磨损;随着磨损的进行和表面状态被稳定化,氟树脂颗粒的量增加。结果,认为添加氟树脂颗粒的效果由此得到表现,并且获得了在从初始阶段至终结的寿命周期中的清洁性保持性。
当剩余的表面层的厚度小于0.5μm时,认为不论表面层的特性如何(例如,即便表面层的强度很高),表面层都容易剥落,并且感光体难于使用。因此,目前推定,在其剩余的表面层的厚度达到0.5μm以前可使用感光体。
因此,在位于由表面层的最外表面向基板侧大于(表面层的厚度-0.5μm)的距离范围的区域(即,位于由表面层与感光层之间的界面向表面层的最外表面小于0.5μm的距离范围内的区域)中,不需要考虑氟树脂颗粒的含量。
另外,在根据本示例性实施方式的感光体中,表面层是如上所述的单层。因此,认为不会发生例如在表面层由含有氟树脂颗粒的两层或更多层构造而成时可能发生的剥离(即伴随表面能降低而可能发生的剥离),所述剥离系由表面层的各层间界面(即,当表面层由两层构造而成时,一层与另一层之间的界面)中的含氟树脂颗粒所致。
在根据本示例性实施方式的感光体中,如上所述,残留在电子照相感光体表面上的色调剂的可去除性得到保持。因此,通过将根据本示例性实施方式的感光体应用于处理盒或图像形成设备,认为因残留的色调剂的可去除性劣化而导致的图像缺陷(例如,因图像浓度不均匀而导致的条纹)得到抑制,并且可长期形成高品质图像。
根据本示例性实施方式,例如,截面满足表达式(1)、(2)和(3)的表面层可包含下述混合物的交联组分(反应产物),所述混合物含有具有烷氧基的交联性化合物(下文有时称为“烷氧基化合物”)和具有羟基的交联性化合物(下文中有时称为“羟基化合物”)。
另外,制备其中表面层的截面满足表达式(1)、(2)和(3)的感光体的方法可以包括例如通过将感光层层压在基板上的制备层压板的工序;制备含有氟树脂颗粒、烷氧基化合物和羟基化合物的表面层形成用涂布液的工序;使用表面层形成用涂布液涂布层压板的外周表面的工序;和通过固化涂布层压板的外周表面所使用的表面层形成用涂布液而形成表面层的工序。
在此情形中,烷氧基化合物的实例包括例如具有两个以上烷氧基的化合物,而羟基化合物的实例可以包含例如两个以上羟基。
如上所述,通过使用烷氧基化合物和羟基化合物,表面层的截面满足表达式(1)、(2)和(3)。结果,可以获得其中残留在表面上的色调剂的可去除性得到保持的感光体。
原因尚不清楚,但认为如下。
据认为羟基化合物的反应(交联性反应)伴随着脱水缩合,并与水的生成和体积收缩一起进行。另外,认为羟基化合物的反应(交联性反应)由表面层的外侧(最外表面侧)向内侧(感光层侧)进行。
即,当形成表面层时,涂布层的粘度由外侧(最外表面层侧)开始增加。因此,认为存在将氟树脂颗粒作为其分散的材料移动至具有较低粘度的内部(感光层侧)的力。
然而,认为羟基化合物的反应进行得很迅速,当单独使用羟基化合物时,整个涂布液的粘度在氟树脂颗粒移动至涂布层的内部(感光层侧)和交联反应结束之前即增加。即,实际上,认为在氟树脂颗粒移动之前,表面层即形成和固定。
另一方面,认为当将与羟基化合物相比具有较低反应速率的烷氧基化合物与羟基化合物组合使用时,涂布液粘度升高的梯度得到抑制。因此,认为在氟树脂颗粒移动至涂布层的内部(感光层侧)之后,交联反应结束。即,实际上,认为表面层以氟树脂颗粒不均匀地分散于表面层的内部(感光层侧)的状态形成和固定。
因此,认为通过使用烷氧基化合物和羟基化合物,表面层的截面满足表达式(1)、(2)和(3);结果,获得了其中残留在表面上的色调剂的可去除性得到保持的感光体。
感光体的层构造
下面将描述感光体的层构造。
根据本示例性实施方式的感光体不受特别限制,只要其如上所述至少包含基板、感光层和表面层;并且表面层被设置为与感光层接触即可。例如,感光层可以由多个层构造而成,并且可以在夹在基板与感光层之间的位置再设置另一个层,如底涂层。
下面将参照图1~3描述根据本示例性实施方式的感光体的构造,但是本示例性实施方式不限于图1~3。
图1是说明根据本示例性实施方式的电子照相感光体的一个优选实例的截面示意图。图2和3是说明根据本示例性实施方式的电子照相感光体的其他实例的截面示意图。
图1所示的电子照相感光体7A是所谓的功能分离型感光体(或分层感光体),其中,底涂层1设置在基板4上;其中依次形成电荷生成层2和电荷输送层3的感光层设置于其上;并且保护层5设置于其上(第一方面)。在图1所示的电子照相感光体7A中,由电荷生成层2和电荷输送层3构成的感光层对应于所述感光层,并且保护层5对应于所述表面层。
与图1所示的电子照相感光体7A相似,图2所示的电子照相感光体7B是功能分离型感光体,其中电荷生成层2和电荷输送层3是功能分离的。在此构造中,底涂层1设置在基板4上;其中依次形成电荷输送层3和电荷生成层2的感光层设置于其上;并且保护层5设置于其上(第二方面)。在图2所示的电子照相感光体7B中,由电荷输送层3和电荷生成层2构成的感光层对应于所述感光层,并且保护层5对应于所述表面层。
如图3所示的电子照相感光体7C是功能整合型感光体,所述感光体包含位于同一层中的电荷生成层和电荷输送层(电荷生成和输送层6),并具有下述结构,其中底涂层1设置在基板4上;并且电荷生成和输送层6和保护层5依次形成于其上。电子照相感光体7C包含由电荷生成和输送层6构造而成的单层感光层(第三方面)。在图3所示的电子照相感光体7C中,电荷生成和输送层6对应于所述感光层,并且保护层5对应于所述表面层。
在图1~3中所示的电子照相感光体中,可以设置底涂层1,也可以不设置。
下面将使用图1所示的电子照相感光体7A作为代表性实例来描述各组成部分。
第一方面
如上所述,图1所示的电子照相感光体7A具有下述层构造,其中底涂层1、电荷生成层2、电荷输送层3和保护层5依次层压在基板4上。
保护层5
作为表面层的保护层5不受特别限制,只要其包含氟树脂颗粒并且截面满足如上所述的表达式(1)、(2)和(3)即可。例如,保护层可以包含含有烷氧基化合物和羟基化合物的混合物的交联组分。
保护层5的厚度如上所述大于或等于3μm,并且可以为3μm~15μm或者6μm~10μm。
整个保护层5中氟树脂颗粒的含量为例如1重量%~30重量%,并可以为3重量%~20重量%或者5重量%~12重量%。
另外,保护层5可以还含有具有氟烷基基团的共聚物。相对于100重量份氟树脂颗粒,所添加的具有氟烷基基团的共聚物的量例如为1重量份~20重量份。
特别是,从使A1、A2和A3的值满足表达式(1)、(2)和(3)方面考虑,优选的是,所添加的具有氟烷基基团的共聚物的量视氟树脂颗粒的种类和粒径以及具有氟烷基基团的共聚物的种类等而变。例如,当将平均一次粒径为0.2μm的PTFE颗粒用作氟树脂颗粒并将GF400(由TOAGOSEI CO.,LTD.制造)用作具有氟烷基基团的共聚物时,所添加的具有氟烷基基团的共聚物的量为1重量份~15重量份,并且可以为2.5重量份~10重量份或者4重量份~7重量份。
当保护层5含有混合物(其含有烷氧基化合物和羟基化合物)的交联组分时,交联组分中衍生自烷氧基化合物的组分的含量为例如衍生自羟基化合物的组分的含量的0.1倍~3.0倍,并且可以为0.2倍~1.5倍或者0.3倍~1.0倍。
具体而言,作为保护层5,例如可以使用下述固化层,所述固化层包含选自具有胍胺结构的化合物(下文中有时称为“胍胺化合物”)和具有三聚氰胺结构的化合物(下文中有时称为“三聚氰胺化合物”)中的至少一种的交联组分(下文中有时称为“特定交联组分”);以及作为烷氧基化合物的电荷输送材料和作为羟基化合物的电荷输送材料。作为形成特定交联组分的电荷输送材料,烷氧基化合物和羟基化合物可以与另一种电荷输送材料组合使用。
下文中有时将作为烷氧基化合物的电荷输送材料、作为羟基化合物的电荷输送材料和另一种电荷输送材料统一称为“电荷输送材料”。
当保护层5包含特定交联组分时,相对于特定交联组分,胍胺化合物和三聚氰胺化合物的总含量(即,相对于除氟树脂颗粒和具有氟烷基基团的共聚物之外的总固体内容物的含量)为例如0.1重量%~20重量%,并且可以为0.1重量%~5重量%或者1重量%~3重量%。
另外,相对于特定交联组分的总重,衍生自烷氧基化合物的组分的含量(即,相对于除氟树脂颗粒和具有氟烷基基团的共聚物之外的总固体内容物的含量)为例如10重量%~70重量%,并且可以为20重量%~50重量%或者25重量%~45重量%。
另一方面,相对于特定交联组分的总重,衍生自羟基化合物的组分的含量(即,相对于除氟树脂颗粒和具有氟烷基基团的共聚物之外的总固体内容物的含量)为例如30重量%~90重量%,并且可以为40重量%~75重量%或者45重量%~60重量%。
此外,相对于特定交联组分的总重,衍生自电荷输送材料(烷氧基化合物、羟基化合物和另一种电荷输送材料)的含量(即,相对于保护层5的除氟树脂颗粒和具有氟烷基基团的共聚物之外的总固体内容物的含量)为例如大于或等于80重量%,并且可以为大于或等于90重量%或者大于或等于95重量%。
下面,将详细描述作为保护层5的实例的含有特定交联组分的固化层,但保护层5不限于该固化层。
氟树脂颗粒
氟树脂颗粒不受特别限制,只要其为被构造为包含含有氟原子的树脂即可,其实例包括聚四氟乙烯(PTFE)、聚氯三氟乙烯、聚六氟丙烯、聚氟乙烯、聚偏二氟乙烯和聚二氯二氟乙烯的颗粒。作为氟树脂颗粒,这些实例可以单独使用,或者以两种以上的组合使用。
氟树脂颗粒的平均一次粒径为例如0.05μm~1μm,并且可以为0.1μm~0.5μm。
在此情形中,氟树脂颗粒的平均一次粒径表示通过使用激光衍射粒径分布分析仪LA-920(由HORIBA Ltd.制造),在折射率为1.35时测量使用与其中分散有氟树脂颗粒的分散体的溶剂相同的溶剂稀释的测量溶液而获得的值。
胍胺化合物
胍胺化合物是具有胍胺结构的化合物,其实例包括乙酰胍胺、苯并胍胺、甲酰缩胍胺、立体胍胺(steroguanamine)、螺环胍胺(spiroguanamine)和环己基胍胺。
特别是,胍胺化合物优选为选自由以下式(A)表示的化合物及其聚合物中的至少一种。在此情形中,聚合物表示通过将由式(A)表示的化合物作为结构单元聚合而获得的低聚物,并且其聚合度例如为2~200(优选为2~100)。作为由式(A)表示的化合物,上述实例可以单独使用,或者以两种以上的组合使用。
式(A)
式(A)中,R1表示具有1~10个碳原子的直链或支链烷基,具有取代基或不具有取代基的具有6~10个碳原子的苯基,或者具有取代基或不具有取代基的具有4~10个碳原子的脂环族烃基。R2~R5各自独立地表示氢、-CH2-OH或-CH2-O-R6。R6表示具有1~10个碳原子的直链或支链烷基。
式(A)中,由R1表示的烷基的碳原子数优选为1~10,更优选为1~8,且进而更优选为1~5。另外,该烷基可以是直链的或支链的。
式(A)中,由R1表示的苯基的碳原子数优选为6~10,且更优选为6~8。具有取代基的苯基的取代基的实例包括甲基、乙基和丙基。
式(A)中,由R1表示的脂环族烃基的碳原子数优选为4~10,且更优选为5~8。具有取代基的苯基的取代基的实例包括甲基、乙基和丙基。
在由式(A)的R2~R5表示的“-CH2-O-R6”中,由R6表示的烷基的碳原子数优选为1~10,更优选为1~8,且进而更优选为1~6。另外,该烷基可以是直链的或支链的。其优选实例包括甲基、乙基和丁基。
特别优选的是,由式(A)表示的化合物为下述化合物,其中R1表示具有取代基或不具有取代基的具有6~10个碳原子的苯基;并且R2~R5各自独立地表示-CH2-O-R6。另外,优选的是,R6表示甲基或正丁基。
由式(A)表示的化合物例如根据公知的方法通过使用胍胺和甲醛来合成(例如,参见Experimental Chemistry系列4,第28卷,第430页)。
下面将显示由式(A)示的化合物的具体实例,但是由式(A)表示的化合物不限于这些实例。另外,以下具体实例表示单体,并且可以是具有所述单体作为结构单元的聚合物(低聚物)。
由式(A)表示的化合物的市售产品的实例包括SUPER BECKAMINE(R)L-148-55、SUPER BECKAMINE(R)13-535、SUPER BECKAMINE(R)L-145-60和SUPER BECKAMINE(R)TD-126(均由DIC Corporation制造);和NIKALAC BL-60和NIKALAC BX-4000(均由NIPPON CARBIDEINDUSTRIES CO.,INC.制造)。
另外,在合成或购买市售产品之后,为消除残留的催化剂的作用,由式(A)表示的化合物(包括聚合物)可以被溶解在如甲苯、二甲苯或乙酸乙酯等适当溶剂中,并使用蒸馏水或离子交换水等洗涤;或者可以使用离子交换树脂处理。
三聚氰胺化合物
优选的是,三聚氰胺化合物选自由以下式(B)表示的化合物及其聚合物。在此情形中,与式(A)的情形相似,聚合物表示通过将由式(B)表示的化合物作为结构单元聚合而获得的低聚物,并且其聚合度例如为2~200(优选为2~100)。作为由式(B)表示的化合物或其聚合物,上述实例可以单独使用,或者以两种以上的组合使用。由式(B)表示的化合物可以与由式(A)表示的化合物或其组合物组合使用。
式(B)
式(B)中,R7~R12各自独立地表示氢原子、-CH2-OH、-CH2-O-R13和-O-R13;并且R13表示可以是支化的具有1~5个碳原子的烷基。烷基的实例包括甲基、乙基和丁基。
由式(B)表示的化合物例如根据公知的方法通过使用三聚氰胺和甲醛来合成(例如,以与Experimental Chemistry系列4,第28卷,第430页中所述的三聚氰胺树脂的方法相同的方法合成)。
下面将显示由式(B)示的化合物的具体实例,但是由式(B)表示的化合物不限于这些实例。另外,以下具体实例表示单体,并且可以是使用所述单体作为结构单元的聚合物(低聚物)。
由式(B)表示的化合物的市售产品的实例包括SUPER MELAMINE No.90(由NOFCORPORATION制造)、SUPER BECKAMINE(R)TD-139-60(由DIC Corporation制造)、U-VAN2020(由Mitsui Chemicals Inc.制造)、SUMITEX RESIN M-3(由Sumitomo Chemical Co.,Ltd.制造)和NIKALAC MW-30(由NIPPON CARBIDE INDUSTRIES CO.,INC.制造)。
另外,在合成或购买市售产品之后,为消除残留的催化剂的作用,由式(B)表示的化合物(包括聚合物)可以被溶解在如甲苯、二甲苯或乙酸乙酯等适当溶剂中,并使用蒸馏水或离子交换水等洗涤;或者可以使用离子交换树脂处理。
电荷输送材料
下面将描述作为烷氧基化合物的电荷输送材料、作为羟基化合物的电荷输送材料和另一种电荷输送材料(电荷输送材料)。
如上所述,作为电荷输送材料,例如可以采用同时使用烷氧基化合物和羟基化合物的实例。另外,例如,另一种电荷输送材料可以包含选自-NH2、-SH和–COOH中的至少一种取代基。
例如,电荷输送材料可以包含上述取代基中的两种以上(例如,就烷氧基化合物而言为烷氧基)或者可以包含上述取代基中的三种以上。
电荷输送材料的具体实例包括由以下式(I)表示的化合物。
F-((-R14-X)n1(R15)n3-Y)n2 (I)
式(I)中,F表示衍生自具有空穴输送功能的化合物的有机基团;R14和R15各自独立地表示具有1~5个碳原子的直链或支链亚烷基;n1表示0或1;n2表示1~4的整数;并且n3表示0或1。X表示氧原子、NH或硫原子;Y表示-OH、-OCH3、-NH2、-SH或–COOH(即,上述特定反应性官能团)。
在由式(I)中的F表示的衍生自具有空穴输送功能的化合物的有机基团中,优选将芳基胺衍生物作为具有空穴输送功能的化合物。芳基胺衍生物的实例包括三苯基胺衍生物和四苯基联苯二胺衍生物。
优选的是,由式(I)表示的化合物为由以下式(II)表示的化合物。
式(II)中,Ar1~Ar4可以彼此相同或不同,并且各自独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基;Ar5表示具有取代基或不具有取代基的芳基,或者具有取代基或不具有取代基的亚芳基;D表示-(-R14-X)n1(R15)n3-Y;c各自独立地表示0或1;k表示0或1;并且D的总和为1~4。另外,R14和R15各自独立地表示具有1~5个碳原子的直链或支链亚烷基;n1表示0或1;n3表示0或1;X表示氧原子、NH或硫原子;并且Y表示-OH、-OCH3、-NH2、-SH或-COOH。
在此情形中,D以外的具有取代基的芳基的取代基的实例包括具有1~4个碳原子的烷基;具有1~4个碳原子的烷氧基;和具有6~10个碳原子的芳基,其中所述烷基、烷氧基和芳基可以具有取代基或不具有取代基。
式(II)中,关于由D表示的“-(-R14-X)n1(R15)n3-Y”,与式(I)的情形类似,R14和R15各自独立地表示具有1~5个碳原子的直链或支链亚烷基。另外,优选n1表示1。另外,优选X表示氧原子。另外,优选Y表示羟基。
式(II)中D的总和对应于式(I)中的n2,优选为2~4,且更优选为3~4。即,在式(I)和式(II)中,在一个分子中包含优选2~4个且更优选3~4个特定反应性官能团。
式(II)中,优选的是,Ar1~Ar4为由式(1)~(7)表示的化合物中的任一种。式(1)和(7)中,也显示了可以分别连接于Ar1~Ar4的“-(D)c”。
式(1)~(7)中,R16表示选自由氢原子、具有1~4个碳原子的烷基、可取代有具有1~4个碳原子的烷基或具有1~4个碳原子的烷氧基的苯基、不具有取代基的苯基和具有7~10个碳原子的芳烷基组成的组中的一种;R17~R19各自独立地表示选自由氢原子、具有1~4个碳原子的烷基、具有1~4个碳原子的烷氧基、可取代有具有1~4个碳原子的烷氧基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7~10个碳原子的芳烷基和卤原子组成的组中的一种;Ar表示具有取代基或不具有取代基的亚芳基;D和c表示与式(II)中的D和c所表示的相同的含义;s表示0或1;并且t表示1~3的整数。
在此情形中,优选的是式(7)中的Ar由以下式(8)或(9)表示。
式(8)和(9)中,R20和R21各自独立地表示选自由氢原子、具有1~4个碳原子的烷基、具有1~4个碳原子的烷氧基、取代有具有1~4个碳原子的烷氧基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7~10个碳原子的芳烷基和卤原子组成的组中的一种;并且t1表示1~3的整数。
另外,优选的是,式(7)中的Z’表示由以下式(10)~(17)表示的化合物中的任一种。
式(10)~(17)中,R22和R23各自独立地表示选自由氢原子、具有1~4个碳原子的烷基、具有1~4个碳原子的烷氧基或取代有具有1~4个碳原子的烷氧基的苯基、不具取代基的苯基、具有7~10个碳原子的芳烷基和卤原子组成的组中的一种;W表示二价基团;q2和r2各自独立地表示1~10的整数;并且t2各自独立地表示1~3的整数。
优选的是,式(16)和(17)中的W表示由以下式(18)~(26)表示的二价基团中的任一种。在此情形中,在式(25)中,u表示0~3的整数。
另外,式(II)中,优选的是,当k为0时,Ar5表示在Ar1~Ar4的描述中被用作实例的由式(1)~(7)中的任一式表示的芳基;并且当k为1时,Ar5表示有一个氢原子从由式(1)~(7)中的任一式表示的芳基上除去的亚芳基。
由式(I)表示的化合物的具体实例包括以下化合物(I-1)~(I-34)。在此情形中,由式(I)表示的化合物不限于这些化合物。
其他组分
除氟树脂颗粒和特定交联组分之外,保护层5还可以包含其他组分。其他组分的实例包括上述具有氟烷基基团作为分散助剂的共聚物。
上述具有氟烷基基团的共聚物不受特别限制,例如可使用具有由式(A)和式(B)中的任一种表示的重复单元的氟基接枝聚合物。其具体实例包括通过例如利用包含以下的大分子单体接枝聚合而合成的树脂:丙烯酸酯化合物和甲基丙烯酸酯化合物等;和(甲基)丙烯酸全氟烷基乙酯和(甲基)丙烯酸全氟烷基酯。在此情形中,(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
结构式(A) 结构式(B)
在式(A)和(B)中,l3、m3和n3表示1以上的正数;p3、q3、r3和s3表示0或者1以上的正数;t3表示1~7的正数;R24、R25、R26和R27表示氢原子或烷基,X3表示亚烷基链、卤代亚烷基链、-S-、-O-、-NH-或单键;Y3表示亚烷基链、卤代亚烷基链、-(Cz3H2z3-1(OH))-或单键;z3表示1以上的正数;并且Q3表示-O-或-NH-。
式(A)和(B)中,由R24、R25、R26和R27表示的烷基的实例包括甲基、乙基和丙基。优选的是,R24、R25、R26和R27表示氢原子和甲基,并且更优选的是,它们表示甲基。
在具有氟烷基基团的共聚物中,式(A)与式(B)的含量比(即l3:m3)优选为1:9~9:1,且更优选为3:7~7:3。
具有氟烷基基团的共聚物的重均分子量优选为10,000~100,000,且更优选为30,000~100,000。
特别是,从使A1、A2和A3的值满足表达式(1)、(2)和(3)方面考虑,具有氟烷基基团的共聚物的种类优选视氟树脂颗粒的种类和粒径等而变。例如,当将平均一次粒径为0.2μm的PTFE颗粒用作氟树脂颗粒时,将GF400(由TOAGOSEI CO.,LTD.制造)用作具有氟烷基基团的共聚物的优选实例。
在保护层5中,作为其他组分,例如可以使用的是特定交联组分和如酚醛树脂、三聚氰胺树脂、脲树脂、醇酸树脂和苯并胍胺树脂等热固性树脂的混合物。另外,可以将如螺环乙缩醛胍胺(spiroacetal guanamine)树脂(例如,“CTU-胍胺”(由Ajinomoto FineTechno Co.,Inc.制造))等在一个分子中具有多个官能团的化合物与交联组分中的材料共聚。
另外,可以向表面保护层5添加表面活性剂。所使用的表面活性剂的优选实例包括包含氟原子以及氧化亚烷基结构和聚硅氧烷结构中的至少一种结构的表面活性剂。
可以向表面保护层5添加抗氧化剂。作为抗氧化剂,优选的是受阻酚或受阻胺抗氧化剂,并可以使用公知的抗氧化剂,如有机硫抗氧化剂、亚磷酸盐抗氧化剂、二硫代氨基甲酸盐抗氧化剂、硫脲抗氧化剂和苯并咪唑抗氧化剂。所添加的抗氧化剂的量优选小于或等于20重量%,且更优选小于或等于10重量%。
可以向保护层5添加如硅油等油。硅油的实例包括:硅油,如二甲基聚硅氧烷、二苯基聚硅氧烷和苯基甲基硅氧烷;反应性硅油,如氨基改性聚硅氧烷、环氧基改性聚硅氧烷、羧基改性聚硅氧烷、卡必醇改性聚硅氧烷、甲基丙烯酸改性聚硅氧烷、巯基改性聚硅氧烷和苯酚改性聚硅氧烷;环式二甲基环硅氧烷,如六甲基环三硅氧烷、八甲基环四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷和十二甲基环六硅氧烷;环式甲基苯基环硅氧烷,如1,3,5-三甲基-1,3,5-三苯基环三硅氧烷、1,3,5,7-四甲基-1,3,5,7-四苯基环四硅氧烷和1,3,5,7,9-五甲基-1,3,5,7,9-五苯基环五硅氧烷;环式苯基环硅氧烷,如六苯基环三硅氧烷;含氟环硅氧烷,如(3,3,3-三氟丙基)甲基环三硅氧烷;含氢甲硅烷基的环硅氧烷,如甲基氢硅氧烷混合物、五甲基环五硅氧烷、苯基氢环硅氧烷;和含乙烯基的环硅氧烷,如五乙烯基五甲基环五硅氧烷。
可以向保护层5添加促进胍胺化合物固化的固化催化剂、胍胺化合物和拟固化的特定电荷输送材料。作为固化催化剂,优选酸性催化剂。酸性催化剂的实例包括:脂肪族羧酸,如乙酸、氯乙酸、三氯乙酸、三氟乙酸、草酸、马来酸、丙二酸和乳酸;芳香族羧酸,如苯甲酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸和偏苯三酸;和脂肪族和芳香族磺酸,如甲磺酸、十二烷基磺酸、苯磺酸、十二烷基苯磺酸和萘磺酸。其中,优选含硫材料。
优选的是,作为固化剂的含硫材料在常温(例如25℃)或加热后是酸性的,并且最优选有机磺酸及其衍生物中的至少一种。利用能量色散X射线谱(EDS)或X射线光电子谱(XPS)等可以容易地检测保护层5中是否存在此类催化剂。
有机磺酸及其衍生物的实例包括对甲苯磺酸、二壬基萘磺酸(DNNSA)、二壬基萘二磺酸(DNNDSA)、十二烷基苯磺酸和苯酚磺酸。其中,优选对甲苯磺酸和十二烷基苯磺酸。另外,可以使用有机磺酸盐,只要其在固化性树脂组合物中可分离即可。
另外,可以使用所谓的潜热催化剂,其中当对其施加热量时催化本领得到提高。
潜热催化剂的实例包括:通过使用聚合物将有机砜化合物等封装为颗粒状而获得的微胶囊;其中酸等吸附于如沸石等多孔化合物的催化剂;通过使用碱对质子酸和/或质子酸衍生物封端而获得的潜热质子酸催化剂;通过质子酸和/或质子酸衍生物与伯醇或仲醇的酯化而获得的催化剂;通过使用乙烯基醚和/或乙烯基硫醚对质子酸和/或质子酸衍生物封端而获得的催化剂;三氟化硼的单乙胺络合物;和三氟化硼的吡啶络合物。
其中,优选通过使用碱对质子酸和/或质子酸衍生物封端而获得的潜热质子酸催化剂。
用于潜热质子酸催化剂的质子酸的实例包括硫酸、盐酸、乙酸、甲酸、硝酸、磷酸、磺酸、一元羧酸、多元羧酸、丙酸、草酸、苯甲酸、丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、邻苯二甲酸、马来酸、苯磺酸、邻甲苯磺酸、间甲苯磺酸、对甲苯磺酸、苯乙烯磺酸、二壬基萘磺酸、二壬基萘二磺酸、癸基苯磺酸、十一烷基苯磺酸、十三烷基苯磺酸、十四烷基苯磺酸和十二烷基苯磺酸。另外,质子酸衍生物的实例包括如磺酸和磷酸等质子酸的碱金属盐或碱土金属盐的中和物质;和质子酸结构并入了聚合物链的聚合物(例如,聚乙烯基磺酸)。对质子酸封端的碱的实例包括胺。
市售产品的实例包括:由King Industries Inc.制造的产品,如“NACURE2501”(甲苯磺酸离解物,甲醇/异丙醇溶剂,pH:6.0~7.2,离解温度:80℃)、“NACURE2107”(对甲苯磺酸离解物,异丙醇溶剂,pH:8.0~9.0,离解温度:90℃)、“NACURE2500”(对甲苯磺酸离解物,异丙醇溶剂,pH:6.0~7.0,离解温度:65℃)、“NACURE2530”(对甲苯磺酸离解物,甲醇/异丙醇溶剂,pH:5.7~6.5,离解温度:65℃)、“NACURE2547”(对甲苯磺酸离解物,水溶液,pH:8.0~9.0,离解温度:107℃)、“NACURE2558”(对甲苯磺酸离解物,乙二醇溶剂,pH:3.5~4.5,离解温度:80℃)、“NACURE XP-357”(对甲苯磺酸离解物,甲醇溶剂,pH:2.0~4.0,离解温度:65℃)、“NACURE XP-386”(对甲苯磺酸离解物,水溶液,pH:6.1~6.4,离解温度:80℃)、“NACURE XC-2211”(对甲苯磺酸离解物,pH:7.2~8.5,离解温度:80℃)、“NACURE5225”(十二烷基苯磺酸离解物,异丙醇溶剂,pH:6.0~7.0,离解温度:120℃)、“NACURE5414”(十二烷基苯磺酸离解物,二甲苯溶剂,离解温度:120℃)、“NACURE5528”(十二烷基苯磺酸离解物,异丙醇溶剂,pH:7.0~8.0,离解温度:120℃)、“NACURE5925”(十二烷基苯磺酸离解物,pH:7.0~7.5,离解温度:130℃)、“NACURE1323”(二壬基萘磺酸离解物,二甲苯溶剂,pH:6.8~7.5,离解温度:150℃)、“NACURE1419”(二壬基萘磺酸离解物,二甲苯/甲基异丁基酮溶剂,离解温度:150℃)、“NACURE1557”(二壬基萘磺酸离解物,丁醇/2-丁氧基乙醇溶剂,pH:6.5~7.5,离解温度:150℃)、“NACURE X49-110”(二壬基萘二磺酸离解物,异丁醇/异丙醇溶剂,pH:6.5~7.5,离解温度:90℃)、“NACURE3525”(二壬基萘二磺酸离解物,异丁醇/异丙醇溶剂,pH:7.0~8.5,离解温度:120℃)、“NACURE XP-383”(二壬基萘二磺酸离解物,二甲苯溶剂,离解温度:120℃)、“NACURE3327”(二壬基萘二磺酸离解物,异丁醇/异丙醇溶剂,pH:6.5~7.5,离解温度:150℃)、“NACURE4167”(磷酸离解物,异丙醇/异丁醇溶剂,pH:6.8~7.3,离解温度:80℃)、“NACURE XP-297”(磷酸离解物,水/异丙醇溶剂,pH:6.5~7.5,离解温度:90℃)和“NACURE4575”(磷酸离解物,pH:7.0~8.0,离解温度:110℃)。
作为潜热催化剂,这些实例可以单独使用,或者以两种以上的组合使用。
在此情形中,相对于除氟树脂颗粒和具有氟烷基基团的共聚物之外的涂布液的总固体含量,催化剂的混合量为例如0.1重量%~50重量%,并且可以为0.1重量%~30重量%。
形成保护层的方法
形成保护层5的方法包括例如:制备含有氟树脂颗粒、烷氧基化合物和羟基化合物的保护层形成用涂布液的工序;使用保护层形成用涂布液涂布电荷输送层3的外周表面的工序;和通过固化用于涂布电荷输送层3的外周表面的表面层形成用涂布液而形成保护层5的工序。
例如,当保护层5包含特定交联组分时,使用包含以下的保护层形成用涂布液来形成保护层5:选自氟树脂颗粒、胍胺化合物和三聚氰酸化合物中的至少一种;作为烷氧基化合物的电荷输送材料;和作为羟基化合物的电荷输送材料。将保护层5的组分可选地添加于保护层形成用涂布液。
保护层形成用涂布液可以不使用溶剂而制备,也可以使用溶剂而制备,所述溶剂例如为醇类,如甲醇、乙醇、丙醇和丁醇;酮类,如丙酮或甲基乙基酮;和醚类,如四氢呋喃、二乙基醚和二氧六环。作为溶剂,这些实例可以单独使用,或者作为两种以上的混合物使用,并且优选其沸点低于或等于100℃。
特别是,从使A1、A2和A3的值满足表达式(1)、(2)和(3)方面考虑,优选的是,溶剂的种类视氟树脂颗粒的种类和粒径、烷氧基化合物的种类和含量、羟基化合物的种类和含量和具有氟烷基基团的共聚物的种类和含量等而变。
例如,当使用由式I-26表示的化合物作为烷氧基化合物时,使用由式I-16表示的化合物作为羟基化合物,使用平均一次粒径为0.16μm的PTFE颗粒作为氟树脂颗粒,并使用GF400(由TOAGOSEI CO.,LTD.制造)作为具有氟烷基基团的共聚物,溶剂的实例包括环戊酮、环己酮、环戊基甲基醚、THF、环戊酮和环戊醇的混合溶剂,和THF和环戊醇的混合溶剂。另外,当在上述条件下使用环戊酮和环戊醇的混合溶剂时,混合溶剂中的环戊醇含量例如为10重量%~90重量%,并且可以为40重量%~60重量%。
溶剂的量不受特别限制,但当其量过小时,胍胺化合物和三聚氰胺化合物容易沉淀。因此,相对于1重量份胍胺化合物和三聚氰胺化合物,溶剂量例如为0.5重量份~30重量份,并且优选为1重量份~20重量份。
另外,当通过上述组分的反应形成涂布液时,组分可以简单地混合和溶解在溶剂中,但可以在室温(例如,25℃)~100℃加热,并优选在30℃~80℃加热10分钟~100小时(优选1小时~50小时)。另外,此时,优选对其施加超声波。
根据公知方法使用保护层形成用涂布液涂布电荷输送层3,所述方法例如为刮板涂布法、线棒涂布法、喷涂法、浸涂法、珠涂法、气刀涂布法或幕涂法,并且可选的是,之后在100℃~170℃的温度加热以固化。结果获得保护层5。
基板
作为基板4,使用导电性基板,例如获自如铝、铜、锌、不锈钢、铬、镍、钼、钒、铟、金和铂等金属或其合金的金属基板、金属鼓和金属带;和涂布、沉积或层压有如导电性聚合物和氧化铟等导电性化合物或者如铝、钯和金等金属或其合金的纸、塑料膜和带。在此情形中,“导电性”指体积电阻率小于1013Ωcm。
当根据第一方面的感光体被用于激光打印机时,优选的是,基板4的中心线平均粗糙度Ra为0.04μm~0.5μm,以使表面粗糙。然而,当将相干光用作光源时,使表面粗糙并不特别必要。
获得粗糙表面的方法的优选实例包括:将研磨粉悬浮于水中的悬浮液喷射在基板上的湿珩磨;使旋转的砂轮与基板进行接触并连续研磨基板的无心研磨;和阳极氧化。
另外,获得粗糙表面的另一优选实例包括下述方法,其中,将导电性或半导电性颗粒分散在树脂中以在基板4的表面上形成层,由此通过分散在该层中的颗粒获得粗糙表面,而不使基板4的表面粗糙。
在此情形中,利用阳极氧化的粗糙表面处理系通过使用铝作为阳极在电解质溶液中进行阳极氧化而在铝表面上形成氧化膜。电解质溶液的实例包括硫酸溶液和草酸盐溶液。然而,通过阳极氧化获得的多孔阳极氧化膜实际上是具有化学反应性的。因此,优选进行密封处理,以通过在加压蒸汽或废水(可以向其中添加如镍等金属的盐)中的水合反应所引起的体积膨胀来密封阳极氧化膜的孔和获得水合氧化物。
优选的是,阳极氧化膜的厚度为0.3μm~15μm。
另外,可以在基板4上进行使用酸的水溶液的处理或伯姆石处理。
使用含有磷酸、铬酸、氢氟酸的酸性处理液的工序如下进行。首先,制备酸性处理液。作为酸性处理液中磷酸、铬酸和氢氟酸的混合比,优选的是,将10重量%~11重量%的磷酸、3重量%~5重量%的铬酸和0.5重量%~2重量%的氢氟酸混合,并且所有这些酸的浓度为13.5重量%~18重量%。处理温度优选为42℃~48℃。涂布层的厚度优选为0.3μm~15μm。
伯姆石处理通过将基板浸入90℃~100℃的纯水中5分钟~60分钟或者通过使基板与90℃~120℃的热蒸汽接触5分钟~60分钟而进行。优选的是,涂布层的厚度为0.1μm~5μm。此外,随后可以进行使用电解质溶液的阳极氧化,该电解质溶液的涂布膜溶解度低于如己二酸、硼酸、硼酸盐、磷酸盐、邻苯二甲酸盐、马来酸盐、苯甲酸盐、酒石酸盐和柠檬酸盐等其他种类的电解质溶液。
底涂层
底涂层1被构造为含有在粘合剂树脂中的无机颗粒的层。
优选的是,无机颗粒具有102Ω·cm~1011Ω·cm的粉末电阻(体积电阻率)。
其中,作为具有上述电阻值的无机颗粒,优选的是氧化锡、氧化钛、氧化锌或氧化锆等无机颗粒(导电性金属氧化物),并且特别优选的是氧化锌的无机颗粒。
另外,无机颗粒的表面可以被处理,或者可以使用进行了不同表面处理或者具有不同粒径的两种以上无机颗粒的混合物。无机颗粒的体均粒径优选为50nm~2000nm(更优选为60nm~1000nm)。
另外,优选的是,无机颗粒的BET比表面积大于或等于10m2/g。
除无机颗粒之外,底涂层可以还包含受体化合物。可以使用任何受体化合物,其优选实例包括:电子输送材料,如醌化合物(例如,氯醌和溴醌)、四氰基苯醌二甲烷类化合物、芴酮化合物(例如,2,4,7-三硝基芴酮和2,4,5,7-四硝基-9-芴酮)、噁二唑化合物(例如,2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑、2,5-双(4-萘基)-1,3,4-噁二唑和2,5-双(4-二乙基氨基苯基)1,3,4-噁二唑)、呫吨酮化合物、噻吩化合物和联苯醌化合物(例如,3,3’,5,5’-四叔丁基联苯醌)。特别是,优选具有蒽醌结构的化合物。此外,优选具有蒽醌结构的受体化合物,如羟基蒽醌化合物、氨基蒽醌化合物和氨基羟基蒽醌化合物,并且其具体实例包括蒽醌、茜素、醌茜、蒽绛酚和红紫素。
受体化合物的含量不受限制,优选的是相对于无机颗粒为0.01重量%~20重量%。更优选的是,所述含量为0.05重量%~10重量%。
受体化合物可以在涂布底涂层1时添加,或者可以被预先附着于无机颗粒的表面。将受体化合物附着于无机颗粒的表面的实例包括干法和湿法。
当根据干法处理表面时,在使用具有大剪切力的混合器等搅拌无机颗粒的同时,将受体化合物直接或在溶解于无机溶剂中之后逐滴添加,然后与干燥的空气或氮气一起喷射。优选的是,添加或喷射在低于溶剂的沸点的温度进行。添加和喷射之后,可以随后进行在100℃以上的烘焙。烘焙的温度和时间不受特别限制。
当根据湿法处理表面时,使用超声波、砂磨机、粉碎机或球磨机等将无机颗粒在溶剂中搅拌和分散,添加并搅拌和分散受体化合物,并除去溶剂。溶剂通过过滤或蒸馏而除去。除去溶剂之后,可以随后进行在100℃以上的烘焙。烘焙的温度和时间不受特别限制。在湿法中,在添加表面处理剂之前,可以先除去无机颗粒所含的水性成分。去除方法的实例包括在用于表面处理的溶剂中搅拌和加热的同时除去水性成分的方法,和通过使用溶剂与其共沸来除去水性成分的方法。
另外,可以在添加受体化合物之前处理无机颗粒的表面。表面处理剂可以选自公知的材料。其实例包括硅烷偶联剂、钛酸酯(盐)偶联剂、铝偶联剂和表面活性剂。特别是,优选硅烷偶联剂。此外,更优选具有氨基的硅烷偶联剂。
可以使用任何具有氨基的硅烷偶联剂,其具体实例包括γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷和N,N-双(β-羟基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷。但是,具有氨基的偶联剂不限于此。
另外,可以使用两种以上硅烷偶联剂的混合物。可以与具有氨基的硅烷偶联剂组合使用的硅烷偶联剂的实例包括乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油醚氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N,N-双(β-羟基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷和γ-氯丙基三甲氧基硅烷。但是,硅烷偶联剂并不限于此。
作为表面处理方法,可以使用任何公知的方法,但优选干法或湿法。另外,受体化合物的添加和使用偶联剂的表面处理可以同时进行。
底涂层1中硅烷偶联剂相对于无机颗粒的量不受特别限制,不过相对于无机颗粒优选为0.5重量%~10重量%。
作为包含在底涂层1中的粘合剂树脂,可以使用任何公知的树脂,其实例包括:公知的聚合物树脂化合物,如缩醛树脂(例如,聚乙烯醇缩丁醛)、聚乙烯醇树脂、酪蛋白、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸类树脂、丙烯酸类树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、聚硅氧烷树脂、聚硅氧烷-醇酸树脂、酚树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂和氨基甲酸酯树脂;具有电荷输送基团的电荷输送树脂;和导电性树脂,如聚苯胺。其中,优选使用不溶于上层的涂布溶剂中的树脂,并且其特别优选的实例包括酚树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸酯树脂和环氧树脂。当将这些实例以两种以上组合使用时,其混合比可以可选地设定。
底涂层形成用涂布液中被赋予接受性的金属氧化物与粘合剂树脂的比例或者无机颗粒与粘合剂树脂的比例不受特别限制。
可以向底涂层1添加各种添加剂。作为添加剂,使用公知的材料,如电子输送颜料(例如,稠合多环颜料和偶氮颜料)、锆螯合物、钛螯合物、铝螯合物、钛醇盐化合物、有机钛化合物和硅烷偶联剂。硅烷偶联剂用于金属氧化物的表面处理,但也可以作为添加剂进一步添加至涂布液中。用作添加剂的硅烷偶联剂的具体实例包括:乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油醚氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N,N-双(β-羟基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷和γ-氯丙基三甲氧基硅烷。
锆螯合物的实例包括丁氧基锆、乙酰乙酸乙酯锆、三乙醇胺锆、乙酰丙酮酸丁氧锆、乙酰乙酸乙酯丁氧基锆、乙酸锆、草酸锆、乳酸锆、膦酸锆、辛酸锆、环烷酸锆、月桂酸锆、硬脂酸锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸丁氧基锆、硬脂酸丁氧基锆和异硬脂酸丁氧基锆。
钛螯合物化合物的实例包括钛酸四异丙酯、钛酸四正丁酯、钛酸丁酯二聚体、钛酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮酸钛、聚乙酰丙酮酸钛、辛醇酸钛(titanium octyleneglycolate)、乳酸钛铵盐、乳酸钛、乳酸乙酯钛、三乙醇胺合钛和多羟基硬脂酸钛。
铝螯合物化合物的实例包括铝异丙醇盐、单丁氧基铝二异丙醇盐、铝丁醇盐、乙酰乙酸乙酯铝二异丙醇盐和三(乙酰乙酸乙酯)铝。
这些化合物可以单独使用,或者作为多种化合物的混合物或缩聚物使用。
用于制备底涂层形成用涂布液的溶剂选自公知有机溶剂,如醇、芳香族溶剂、卤代烃、酮、酮醇、醚和酯。溶剂的实例包括公知溶剂,如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二氧六环、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯和甲苯。
另外,作为用于分散的溶剂,可以单独使用上述实例,或者可以将其以两种以上的混合物使用。当使用两种以上溶剂的混合物时,可以使用任何混合溶剂,只要粘合剂树脂可溶于其中即可。
分散方法的实例包括使用辊磨机、球磨机、振动式球磨机、磨碎机、砂磨机、胶体磨和涂料混合机的公知方法。此外,用于提供底涂层1的涂布方法的实例包括公知的涂布方法,如刮板涂布法、线棒涂布法、喷涂法、浸涂法、珠涂法、气刀涂布法和幕涂法。
使用由此获得的底涂层形成用涂布液,在基板4上形成底涂层1。
另外,优选的是,底涂层1具有35以上的维氏硬度。
此外,底涂层1的厚度不受限制,不过优选厚度大于或等于5mm,且更优选为10μm~40μm。
另外,为防止莫尔条纹,将底涂层1的表面粗糙度(十点处的平均表面粗糙度)调节至所使用的曝光激光的波长λ的0.25n倍(n表示上次的折射率)~0.5λ。为调节表面粗糙度,可以向底涂层中添加树脂等颗粒。树脂颗粒的实例包括聚硅氧烷树脂颗粒和交联聚甲基丙烯酸甲酯树脂颗粒。
另外,为调整表面粗糙度,可以抛光底涂层。抛光方法的实例包括软皮抛光(buffing)、喷砂、湿珩磨和研磨。
可以通过涂布和干燥该涂布液而获得底涂层。在此情形中,通常干燥在使溶剂蒸发从而形成层的温度进行。
电荷生成层
优选的是,电荷生成层2至少包含电荷生成材料和粘合剂树脂。
电荷生成材料的实例包括:如双偶氮和三偶氮颜料等偶氮颜料、如二溴蒽并蒽酮(dibromoantanthrone)等缩合芳香族颜料、苝颜料、吡咯并吡咯颜料、酞菁颜料、氧化锌和三方硒。其中,对于近红外范围内的曝光激光,优选金属酞菁颜料和/或无金属酞菁颜料。特别是,优选JP-A-5-263007和JP-A-5-279591中公开的羟基镓酞菁、JP-A-5-98181中公开的氯化镓酞菁、JP-A-5-140472和JP-A-5-140473中公开的二氯化锡酞菁和JP-A-4-189873和JP-A-5-43823中公开的钛氧基酞菁。另外,对于利用近紫外范围内的激光,更优选的是如二溴蒽并蒽酮等稠合芳香族颜料、硫靛颜料、紫菜嗪化合物、氧化锌和三方硒。作为电荷生成材料,当使用发射波长为380nm~500nm的曝光用光的光源时,优选无机颜料,而当使用发射波长为700nm~800nm的曝光用光的光源时,优选金属酞菁颜料和无金属酞菁颜料。
作为电荷生成材料,在波长范围为600nm~900nm的吸收光谱中,优选在810nm~839nm范围内具有最大峰值波长的羟基镓酞菁颜料。此羟基镓酞菁颜料不同于背景技术中的V型羟基镓酞菁颜料,并且在吸收光谱中具有比背景技术更偏向短波长侧的最大峰值波长。
另外,在最大峰值波长为810nm~839nm的羟基镓酞菁颜料中,优选的是,平均粒径在特定范围内并且BET比表面积在特定范围内。具体而言,平均粒径优选小于或等于0.20μm,且更优选为0.01μm~0.15μm,并且BET比表面积优选大于或等于45m2/g,更优选大于或等于50m2/g,且进而更优选为55m2/g~120m2/g。平均粒径是使用激光衍射散射型粒径分布分析仪(LA-700,由HORIBA Ltd.制造)测量的体均粒径(d50平均粒径)。另外,根据氮取代法使用BET比表面积测量设备(由Shimadzu Corporation制造,FLOWSORB II2300)来测量BET比表面积。
另外,羟基镓酞菁颜料的最大粒径(一次粒径的最大值)优选小于或等于1.2μm,更优选小于或等于1.0μm,且进而更优选小于或等于0.3μm。
此外,在羟基镓酞菁颜料中,优选的是,平均粒径小于或等于0.2μm,最大粒径小于或等于1.2μm,并且BET比表面积大于或等于45m2/g。
另外,在使用CuKα特征性X射线的X射线衍射谱中,羟基镓酞菁颜料优选在布拉格角(2θ±0.2°)为7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°处具有衍射峰。
另外,当羟基镓酞菁颜料由25℃加热至400℃时,在热重分析中的减少率优选为2.0%~4.0%,且更优选为2.5%~3.8%。
用于电荷生成层2的粘合剂树脂选自宽范围的绝缘性树脂,并可以选自有机光导电性聚合物,如聚-N-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽、聚乙烯基芘和聚硅烷。粘合树脂的优选实例包括:聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚芳酯树脂(例如,双酚和芳香族二元羧酸的缩聚物)、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、苯氧基树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚酰胺树脂、丙烯酸类树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚乙烯基吡啶树脂、纤维素树脂、氨基甲酸酯树脂、环氧树脂、酪蛋白、聚乙烯醇树脂和聚乙烯基吡咯烷酮树脂。作为粘合剂树脂,上述实例可以单独使用,或者以两种以上的混合物使用。优选的是,电荷生成材料与粘合剂树脂的混合比为10:1~1:10。在此情形中,“绝缘性”指大于或等于1013Ωcm的体积电阻率。
用例如其中电荷生成材料和粘合树脂分散在溶剂中的涂布液形成电荷生成层2。
用于分散的溶剂的实例包括甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸正丁酯、二氧六环、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯和甲苯。作为溶剂,上述实例可以单独使用,或者以两种以上的混合物使用。
另外,将电荷生成材料和粘合剂树脂分散在溶剂中的方法的实例包括公知的方法,如球磨机分散法、磨碎机分散法和砂磨机分散法。此外,对于此分散,有效的是,电荷生成材料的平均粒径优选小于或等于0.5μm,更优选小于或等于0.3μm,且进而更优选小于或等于0.15μm。
另外,电荷生成层2使用公知的方法形成,所述公知的方法例如为刮板涂布法、线棒涂布法、喷涂法、浸涂法、珠涂法、气刀涂布法或幕涂法。
由此获得的电荷生成层2的厚度优选为0.1μm~5.0μm,且更优选为0.2μm~2.0μm。
电荷输送层
电荷输送层3优选为至少包含电荷输送层和粘合剂树脂的层,或者为包含高分子电荷输送材料的层。
电荷输送材料的实例包括:电子输送化合物,如醌化合物(如对苯醌、氯醌、溴醌和蒽醌)、四氰基醌二甲烷化合物、芴酮化合物(例如,2,4,7-三硝基芴酮)、氧杂蒽酮化合物、二苯甲酮化合物、氰基乙烯基化合物和乙烯化合物;和空穴输送化合物,如三芳基胺化合物、联苯胺化合物、芳基烷烃化合物、芳基取代的乙烯化合物、芪化合物、蒽化合物或腙化合物。作为电荷输送材料,上述实例可以单独或者以两种以上的混合物使用,但电荷输送材料不限于这些材料。
从电荷迁移性方面考虑,优选的是,电荷输送材料为由以下式(a-1)表示的三芳基胺衍生物和由以下式(a-2)表示的联苯胺衍生物。
在式(a-1)中,R28表示氢原子或甲基。n4表示1或2。Ar6和Ar7各自独立地表示具有取代基的或不具有取代基的芳基、-C6H4-C(R29)=C(R30)(R31)或-C6H4-CH=CH-CH=C(R32)(R33);并且R29~R33各自独立地表示氢原子、具有取代基的或不具有取代基的烷基或者具有取代基的或不具有取代基的芳基。取代基的实例包括卤原子、具有1~5个碳原子的烷基、具有1~5个碳原子的烷氧基或者取代有具有1~3个碳原子的烷基取代基的氨基。
在式(a-2)中,R34和R34’可以彼此相同或不同,并各自独立地表示氢原子、卤原子、具有1~5个碳原子的烷基或具有1~5个碳原子的烷氧基。R35、R35’、R36和R36’可以彼此相同或不同,并各自独立地表示氢原子、卤原子、具有1~5个碳原子的烷基、具有1~5个碳原子的烷氧基、取代有具有1或2个碳原子的烷基取代基的氨基、具有取代基或不具有取代基的芳基、-C(R37)=C(R38)(R39)或-CH=CH-CH=C(R40)(R41),并且R37~R41各自独立地表示氢原子、具有取代基或不具有取代基的烷基或者具有取代基或不具有取代基的芳基。m5、m6、n5和n6各自独立地表示0~2的整数。
在此情形中,由式(a-1)表示的三芳基胺衍生物和由式(a-2)表示的联苯胺衍生物中,优选具有“-C6H4-CH=CH-CH=C(R32)(R33)”结构的三芳基胺衍生物和具有“-CH=CH-CH=C(R40)(R41)”结构的联苯胺衍生物。
用于电荷输送层3的粘合剂树脂(电荷输送层用树脂)的实例包括:聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚芳酯树脂、甲基丙烯酸类树脂、丙烯酸类树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏二氯乙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐共聚物、聚硅氧烷树脂、聚硅氧烷-醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂、苯乙烯-醇酸树脂、聚-N-乙烯基咔唑和聚硅烷。另外,如上所述,可以使用高分子电荷输送材料,如JP-A-8-176293和JP-A-8-208820中公开的聚酯类高分子电荷输送材料。作为粘合剂树脂,上述实例可以单独使用,或者以两种以上的混合物使用。优选的是,电荷输送材料与粘合剂树脂的混合比为10:1~1:5。
粘合剂树脂不受特别限制,不过优选粘均分子量为50,000~80,000的聚碳酸酯树脂和粘均分子量为50,000~80,000的聚芳酯树脂中的至少一种。
另外,作为电荷输送材料,可以使用高分子电荷输送材料。作为高分子电荷输送材料,可以使用具有电荷输送功能的公知材料,如聚-N-乙烯基咔唑和聚硅烷。特别是,优选JP-A-8-176293和JP-A-8-208820中公开的聚酯类高分子电荷输送材料。可以单独使用高分子电荷输送材料或者高分子电荷输送材料和下文所述的粘合剂树脂的混合物来形成层。
使用含有例如上述组分的电荷输送层形成用涂布液形成电荷输送层3。用于电荷输送层形成用涂布液的溶剂的实例包括公知的机溶剂,例如,芳香烃,如苯、甲苯、二甲苯或氯苯;酮,如丙酮或2-丁酮;卤代脂肪烃,如二氯甲烷、氯仿和氯乙烯;和环式或直链的醚,如四氢呋喃和乙醚。这些实例可以单独使用,或者以两种以上的混合物使用。另外,作为分散上述组分的方法,使用的是公知的方法。
使用电荷输送层形成用涂布液涂布电荷生成层2的涂布方法的实例包括公知的方法,如刮板涂布法、线棒涂布法、喷涂法、浸涂法、珠涂法、气刀涂布法和幕涂法。
电荷输送层3的厚度优选为5μm~50μm,且更优选为10μm~30μm。
在图1~3所示的电子照相感光体7A~7C中,可以向构成感光层的各层添加如抗氧化剂、光稳定剂和热稳定剂等添加剂。抗氧化剂的实例包括受阻酚、受阻胺、对苯二胺、芳基烷烃、氢醌、螺环色烷和螺环茚酮及其衍生物;有机硫化合物;和有机磷化合物。
光稳定剂的实例包括二苯甲酮、苯并三唑、二硫代氨基甲酸酯(盐)和四甲基哌啶等衍生物。
另外,感光层可以包含电子接受性材料。电子接受性材料的实例包括琥珀酸酐、马来酸酐、二溴马来酸酐、邻苯二甲酸酐、四溴邻苯二甲酸酐、四氰基乙烯、四氰基对苯醌二甲烷、邻二硝基苯、间二硝基苯、氯醌、二硝基蒽醌、三硝基芴酮、苦味酸、邻硝基苯甲酸、对硝基苯甲酸、邻苯二甲酸和用于表面层的固化性树脂。
此外,可以使用含有氟树脂的水性分散体处理图1~3所示的电子照相感光体7A~7C的表面层5。
处理盒和图像形成设备
接下来,将描述使用根据本示例性实施方式的电子照相感光体的处理盒和图像形成设备。
根据本示例性实施方式的处理盒不受特别限制,只要其使用本示例性实施方式的电子照相感光体即可。具体而言,优选的是,根据本示例性实施方式的处理盒可从图像形成设备拆卸,将通过使潜像保持部件表面上的静电潜像显影而获得的色调剂图像转印至记录介质上并在记录介质上形成图像;并包含作为潜像保持部件的根据本示例性实施方式的电子照相感光体和选自充电装置、显影装置和清洁装置中的至少一种。
例如,根据本示例性实施方式的处理盒可以包括:根据本示例性实施方式的电子照相感光体,和选自对电子照相感光体的表面充电的充电单元、在电子照相感光体的经充电的表面上形成静电潜像的潜像形成单元、通过使用色调剂使形成于电子照相感光体表面上的静电潜像显影以形成色调剂图像的显影单元、将形成于电子照相感光体表面上的色调剂图像转印至记录介质的转印单元和清洁电子照相感光体的清洁单元中的至少一个单元。
另外,根据本示例性实施方式的图像形成设备不受特别限制,只要其使用根据本示例性实施方式的电子照相感光体即可。具体而言,优选的是,根据本示例性实施方式的图像形成设备包括:根据本示例性实施方式的电子照相感光体;对电子照相感光体的表面充电的充电单元;在电子照相感光体的经充电的表面上形成静电潜像的潜像形成单元;通过使用色调剂使形成于电子照相感光体表面上的静电潜像显影以形成色调剂图像的显影单元;和将形成于电子照相感光体表面上的色调剂图像转印至记录介质的转印单元。根据本示例性实施方式的图像形成设备可以是包括对应于各种颜色的色调剂的多个感光体的所谓串联设备。在此情形中,优选的是,所有感光体都是根据本示例性实施方式的电子照相感光体。另外,可以使用中间转印部件根据中间转印法将色调剂图像转印。
图4是说明根据本示例性实施方式的图像形成设备的示意图。如图4所示,图像形成设备100包括处理盒300(其包括电子照相感光体7)、曝光装置9、转印装置40和中间转印部件50。在图像形成设备100中,曝光装置9设置在可以通过处理盒300的开口将电子照相感光体7曝光的位置;转印装置40设置在面向电子照相感光体7且二者之间夹着中间转印部件50的位置;中间转印介质50设置在可使其一部分与电子照相感光体7接触的位置。
图4中,处理盒300将电子照相感光体7、充电装置8、显影装置11和清洁装置13一体化地支撑在外壳中。清洁装置13具有清洁刮板(清洁部件)。清洁刮板131经设置与电子照相感光体7的表面接触。
另外,图中显示了使用向感光体7的表面提供润滑剂14的纤维状部件132(辊形部件)和辅助清理的纤维状部件133(平刷形部件)的实例,但也可不使用这些部件。
作为充电装置8,使用的是利用例如导电性或半导电性充电辊、充电刷、充电膜、充电橡胶刮板或充电管的接触充电器。另外,也可以使用非接触辊充电器或公知的充电器,如利用电晕放电的格栅电晕管充电器或电晕管充电器。
另外,虽然图中未示出,但可以在电子照相感光体7附近设置用于升高电子照相感光体7的温度的感光体加热部件以降低相对温度。
作为曝光装置9,例如,使用的是光学装置等,所述光学装置根据预定的图像形式,将电子照相感光体7的表面暴露于如半导体激光、LED光或液晶快门光等光。光源的波长可以设定在感光体的光谱敏感范围内。半导体激光的波长主要设定在震荡波长为780nm的近红外范围内。不过,波长并不限于此,也可以使用振荡波长为约600nm的激光或作为蓝光激光的振荡波长为400nm~450nm的激光。另外,也可以将可发射多光束的表面发射激光光源有效地用于彩色图像形成。
作为显影装置11,可以使用通过接触或不接触式的磁性或非磁性的单组分显影剂或双组分显影剂来进行显影的常用显影装置。显影装置不受特别限制,只要其具有上述功能并根据目的选择即可。例如,可以使用公知的显影单元,其具有利用刷或辊等将单组分显影剂或双组分显影剂附着于电子照相感光体7的功能。其中,优选使用其表面保持显影剂的显影辊。
作为转印装置40,例如使用公知的转印充电器,如利用带、辊、膜或橡胶刮板等的接触转印充电器;或者利用电晕放电的格栅电晕管转印充电器或电晕管转印充电器。
作为中间转印部件50,使用由聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚碳酸酯、聚芳酯、聚酯或橡胶等制成的半导电性带状部件(中间转印带)。另外,中间转印部件50除具有带状外还可以具有鼓状。
除上述装置之外,图像形成设备100可以还包括消除电子照相感光体7的电荷的光学静电消除器。
图5是说明根据本发明的另一示例性实施方式的图像形成设备的截面示意图。如图5所示,图像形成设备120是安装有四个处理盒300的串联型多色图像形成设备。在图像形成设备120中,四个处理盒300平行地设置在中间转印部件50上,并使用针对各颜色的电子照相感光体。另外,图像形成设备120具有与图像形成设备100相似的构造,不同之处在于其为串联型构造。
另外,在根据本示例性实施方式的图像形成设备(处理盒)中,优选的是,显影装置(显影单元)具有显影剂保持部件(其具有磁性材料),并使用含有磁性载体和色调剂的双组分显影剂使静电潜像显影。
实施例
下面将参照实施例和比较例更加详细地描述本示例性实施方式,但本示例性实施方式并不限于以下实施例。
实施例1
感光体1
底涂层的形成
将100重量份氧化锌(平均粒径:70nm,由TAYCA CORPORATION制造,比表面积:15m2/g)和500重量份甲苯搅拌和混合,并向其添加1.25重量份作为硅烷偶联剂的KBM603(由Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制造),随后搅拌2小时。接下来,通过减压蒸馏除去甲苯,之后在120℃烘焙3小时。结果,获得表面经硅烷偶联剂处理的氧化锌颗粒。
将100重量份表面经处理的氧化锌颗粒添加至500重量份四氢呋喃中,随后进行搅拌和混合。然后,向其添加通过将1重量份茜素溶解在50重量份四氢呋喃中而获得的溶液,随后在50℃搅拌5小时。接下来,通过减压过滤来分离带有所添加的茜素的氧化锌颗粒,随后在60℃减压干燥。结果,获得带有所添加的茜素的氧化锌。
将60重量份所获得的带有所添加的茜素的氧化锌颗粒、13.5重量份作为固化剂的封端异氰酸酯(SUMIDUR3173,由Sumitomo Bayer Urethane Co.,Ltd.制造)和15重量份缩丁醛树脂(BM-1,由SEKISUI CHEMICAL CO.LTD.制造)溶解在85重量份甲基乙基酮中以获得溶液。将38重量份所获得的溶液和25重量份甲基乙基酮混合,随后使用直径为1mm的玻璃珠利用砂磨机分散2小时。结果,获得分散体。
将0.005重量份作为催化剂的二辛基二月桂酸锡和40重量份聚硅氧烷树脂颗粒(TOSPEARL145,由GE Toshiba Silicones Co.,Ltd.制造)添加至所获得的分散体中,随后在170℃干燥和固化40分钟。结果,获得底涂层形成用涂布液。将该涂布液浸涂在直径为60mm、长度为357mm且厚度为1mm的铝基板上。结果,获得厚度为20μm的底涂层。
电荷生成层的形成
接下来,将1重量份关于CuKα特征性X射线至少在布拉格角(2θ±0.2°)为7.4°、16.6°、25.5°和28.3°处具有明显衍射峰的氯化钾酞菁晶体(作为电荷生成材料)和1重量份聚乙烯缩丁醛树脂(商品名:S-LEC BM-S,由SEKISUI CHEMICAL CO.,LTD.制造)添加至100重量份乙酸丁酯中,随后使用利用玻璃珠的涂料混合机分散1小时。将获得的涂布液浸涂在底涂层的表面上,随后在100℃干燥10分钟。结果,形成厚度为0.2μm的电荷生成层。
电荷输送层的形成
此外,将2.1重量份由下式表示的化合物1和2.9重量份由以下式1表示的高分子化合物(粘均分子量:39,000)溶解在10重量份四氢呋喃和5重量份甲苯中。结果,获得涂布液。将获得的涂布液浸涂在电荷生成层的表面上,随后在135℃热干燥35分钟。结果,形成厚度为24μm的电荷输送层。
化合物1
结构式1
保护层的形成
将10重量份作为聚四氟乙烯颗粒的LUBRON L-2(由DAIKIN INDUSTRIES Ltd.制造,平均一次粒径:0.2μm)和0.5重量份具有包含由式2表示的重复单元的氟烷基基团的共聚物(重均分子量:50,000;l3:m3=1:1;s3=1;n3=60)添加至40重量份通过以7:3混合环戊酮和环戊醇获得的混合溶剂中,随后搅拌和混合。使用安装了具有流路的贯通腔室的高压均化器(由Yoshida Kikai Co.,Ltd.制造,YSNM-1500AR)在达到700kgf/cm2的高压重复分散五次。结果,制备了聚四氟乙烯颗粒悬浮体(A)。
结构式2
接下来,将55重量份由以上式I-8表示的化合物、40重量份由以上式I-26表示的化合物、4重量份苯并胍胺树脂(NIKALAC BL-60,由SANWA CHEMICAL CO.,LTD.制造)、1重量份二甲基聚硅氧烷(GLANOL450,由KYOEISHA CHEMICAL CO.,LTD.制造)和0.1重量份NACURE5225(由King Industries Inc.制造)溶解在通过以7:3混合环戊酮和环戊醇而获得的混合溶剂中,随后在40℃搅拌6小时。结果,获得固化性膜形成用溶液(B)。
此外,将110重量份聚四氟乙烯颗粒分散体(A)和100重量份固化性膜形成用溶液(B)混合以制备保护层形成用涂布液。
根据喷墨涂布法将所获得的保护层形成用涂布液涂布在电荷输送层上,随后在155℃干燥35分钟。结果,获得其中形成有厚度为6μm的保护层的感光体1。
实施例2
感光体2
使用与感光体1相似的制备方法制备感光体2,不同之处在于,当形成保护层时,使用72重量份由式I-8表示的化合物和23重量份由式I-26表示的化合物形成固化性膜形成用溶液(B)。
实施例3
感光体3
使用与感光体1相似的制备方法制备感光体3,不同之处在于,当形成保护层时,使用60重量份由式I-8表示的化合物和35重量份由式I-26表示的化合物,此外使用环戊基甲基醚代替用于制备聚四氟乙烯颗粒悬浮体(A)的溶剂和用于制备固化性膜形成用溶液(B)的溶剂。
比较例1
感光体4
使用与感光体1相似的制备方法制备感光体4,不同之处在于,当形成保护层时,仅使用95重量份由式I-8表示的化合物,并且仅使用环戊酮代替用于制备聚四氟乙烯颗粒悬浮体(A)的溶剂和用于制备固化性膜形成用溶液(B)的溶剂。
比较例2
感光体5
使用与感光体1相似的制备方法制备感光体5,不同之处在于,当形成保护层时,使用15重量份由式I-8表示的化合物和80重量份由式I-26表示的化合物形成固化性膜形成用溶液(B)。
比较例3
感光体6
使用与感光体3相似的制备方法制备感光体3,不同之处在于,当形成保护层时,使用55重量份由式I-8表示的化合物和40重量份由式I-26表示的化合物,此外使用环戊基甲基醚代替用于制备聚四氟乙烯颗粒悬浮体(A)的溶剂和用于制备固化性膜形成用溶液(B)的溶剂。
比较例4
感光体7
使用与感光体1相似的制备方法制备感光体7,不同之处在于,当形成保护层时,使用通过以45:55混合环戊酮和环戊醇获得的混合溶剂代替用于制备聚四氟乙烯颗粒悬浮体(A)的溶剂和用于制备固化性膜形成用溶液(B)的溶剂。
比较例5
感光体8
使用与感光体1相似的制备方法制备感光体8,不同之处在于,当形成保护层时,使用75重量份由式I-8表示的化合物和20重量份由式I-26表示的化合物形成固化性膜形成用溶液(B)。
实施例4
感光体9
使用与感光体1相似的制备方法制备感光体9,不同之处在于,当形成保护层时,将聚四氟乙烯颗粒的量改变为7重量份以用于制备聚四氟乙烯颗粒悬浮体(A)。
实施例5
感光体10
使用与感光体1相似的制备方法制备感光体10,不同之处在于,当形成保护层时,将聚四氟乙烯颗粒的量改变为15重量份以用于制备聚四氟乙烯颗粒悬浮体(A)。
实施例6
感光体11
使用与感光体1相似的制备方法制备感光体11,不同之处在于,当形成保护层时,将保护层的厚度改变为3.5μm。
实施例7
感光体12
使用与感光体1相似的制备方法制备感光体12,不同之处在于,当形成保护层时,将保护层的厚度改变为10μm。
实施例8
感光体13
使用与感光体1相似的制备方法制备感光体13,不同之处在于,当形成保护层时,将由式I-8表示的化合物改变为由式I-16表示的化合物。
实施例9
感光体14
使用与感光体1相似的制备方法制备感光体14,不同之处在于,当形成保护层时,使用55重量份由式I-8表示的化合物、25重量份由式I-26表示的化合物和15重量份由式I-16表示的化合物形成固化性膜形成用溶液(B)。
感光体的评价
在所获得的感光体的保护层的截面中,根据上述方法获得A1、A2、A3和A4的值。其结果显示在表1中。
使用所获得的感光体,进行图像形成试验。具体而言,对于试验,将DocuCentre-IIC7500(由富士施乐株式会社制造)进行改造从而以150张纸/分钟打印和使用。在高温和高湿环境(28℃,80%RH)中以黑白模式以150张纸/分钟在A4大小的纸张上形成图像浓度为5%的图像。
通过以下方式评价初始阶段的清洁性和使用后的清洁性:对于第500张打印图像(初始阶段)、保护层的平均厚度被磨掉1μm时(在被磨掉1μm时)打印的图像和保护层的平均厚度被磨掉2μm时(在被磨掉2μm时)打印的图像,测量打印在整个表面上的写入浓度为50%的半色调图像的反射密度的最大值与最小值之差(ΔD)。评价标准如下,结果显示在表1中:
G1:小于0.01
G2:0.01至小于0.02
G3:0.02至小于0.03
G4:大于或等于0.03
表1
从以上结果可以看出,在将上述实施例中所获得的电子照相感光体与上述比较例中所获得的电子照相感光体比较时,初始阶段的清洁性和使用后的清洁性都更优异;残留在表面上的色调剂的可去除性保持了更长时间;并且可在更长的时期形成高品质图像。
提供对本发明的实施方式的前述描述是为了说明和描述的目的。并非试图穷尽本发明所披露的精确形式或将本发明限制于所披露的精确形式。显然,许多改进和变化对于本领域技术人员是显而易见的。选择并描述所述实施方式是为了能够最好地解释本发明的原理及其实际用途,由此使得本领域的其他技术人员能够理解适用于预计的特定用途的本发明的各种实施方式和各种改进方案。本发明的范围由下述权利要求及其等同物所限定。

Claims (13)

1.一种电子照相感光体,所述电子照相感光体包含:
基板;
感光层,所述感光层设置在所述基板上;和
表面层,所述表面层设置在所述感光层上并包含氟树脂颗粒,该表面层是厚度为3μm以上的单层,并具有满足以下表达式(1)、(2)和(3)的截面,该截面沿所述表面层的厚度方向取得:
0≤A1≤0.2×A4 表达式(1)
0.2×A4<A2≤0.6×A4 表达式(2)
0.6×A4<A3 表达式(3)
其中,
A1表示截面中所述氟树脂颗粒的面积与第一区域的总面积之比,其中所述第一区域位于由所述表面层的最外表面至所述基板侧的大于或等于0.2μm且小于0.5μm的距离范围内;
A2表示截面中所述氟树脂颗粒的面积与第二区域的总面积之比,其中所述第二区域位于由所述表面层的最外表面至所述基板侧的大于或等于0.5μm且小于1.5μm的距离范围内;
A3表示截面中所述氟树脂颗粒的面积与第三区域的总面积之比,其中所述第三区域位于由所述表面层的最外表面至所述基板侧的1.5μm~表面层的厚度-0.5μm的距离范围内;并且
A4表示所述氟树脂颗粒的面积与所述截面的总面积之比,
其中,所述表面层含有交联组分,并且所述交联组分为具有烷氧基的交联性化合物与具有羟基的交联性化合物的反应产物。
2.如权利要求1所述的电子照相感光体,其中,所述具有烷氧基的交联性化合物为具有两个或多于两个烷氧基的化合物,并且所述具有羟基的交联性化合物为具有两个或多于两个羟基的化合物。
3.如权利要求1所述的电子照相感光体,其中所述表面层的厚度为3μm~15μm。
4.如权利要求1所述的电子照相感光体,其中所述表面层的厚度为6μm~10μm。
5.如权利要求1所述的电子照相感光体,其中,所述氟树脂颗粒的含量为1重量%~30重量%。
6.如权利要求1所述的电子照相感光体,其中,所述氟树脂颗粒的平均一次粒径为0.05μm~1μm。
7.如权利要求1所述的电子照相感光体,其中,所述氟树脂选自由聚四氟乙烯、聚氯三氟乙烯、聚六氟丙烯、聚氟乙烯、聚偏二氟乙烯和聚二氯二氟乙烯组成的组。
8.如权利要求1所述的电子照相感光体,
其中,所述表面层可以满足以下表达式:
0≤A1≤0.1×A4 表达式(4)
0.3×A4<A2≤0.5×A4 表达式(5)
0.9×A4<A3 表达式(6)
其中,
A1表示截面中所述氟树脂颗粒的面积与第一区域的总面积之比,其中所述第一区域位于由所述表面层的最外表面至所述基板侧的大于或等于0.2μm且小于0.5μm的距离范围内;
A2表示截面中所述氟树脂颗粒的面积与第二区域的总面积之比,其中所述第二区域位于由所述表面层的最外表面至所述基板侧的大于或等于0.5μm且小于1.5μm的距离范围内;
A3表示截面中所述氟树脂颗粒的面积与第三区域的总面积之比,其中所述第三区域位于由所述表面层的最外表面至所述基板侧的1.5μm~表面层的厚度-0.5μm的距离范围内;并且
A4表示所述氟树脂颗粒的面积与所述截面的总面积之比。
9.如权利要求1所述的电子照相感光体,其中,所述表面层还含有具有氟烷基基团的共聚物。
10.一种图像形成设备,所述图像形成设备包括:
电子照相感光体;
充电单元,所述充电单元对所述电子照相感光体的表面充电;
潜像形成单元,所述潜像形成单元在所述电子照相感光体的经充电的表面上形成静电潜像;
显影单元,所述显影单元通过使用色调剂使形成于所述电子照相感光体表面上的所述静电潜像显影以形成色调剂图像;和
转印单元,所述转印单元将形成于所述电子照相感光体表面上的所述色调剂图像转印至记录介质上,
其中,所述电子照相感光体为权利要求1所述的电子照相感光体。
11.如权利要求10所述的图像形成设备,
其中,所述电子照相感光体的表面层满足以下表达式:
0≤A1≤0.1×A4 表达式(4)
0.3×A4<A2≤0.5×A4 表达式(5)
0.9×A4<A3 表达式(6)
其中,
A1表示截面中所述氟树脂颗粒的面积与第一区域的总面积之比,其中所述第一区域位于由所述表面层的最外表面至所述基板侧的大于或等于0.2μm且小于0.5μm的距离范围内;
A2表示截面中所述氟树脂颗粒的面积与第二区域的总面积之比,其中所述第二区域位于由所述表面层的最外表面至所述基板侧的大于或等于0.5μm且小于1.5μm的距离范围内;
A3表示截面中所述氟树脂颗粒的面积与第三区域的总面积之比,其中所述第三区域位于由所述表面层的最外表面至所述基板侧的1.5μm~表面层的厚度-0.5μm的距离范围内;并且
A4表示所述氟树脂颗粒的面积与所述截面的总面积之比。
12.一种处理盒,所述处理盒包括:
电子照相感光体;和
选自以下的至少一个单元:对所述电子照相感光体的表面充电的充电单元(A);在所述电子照相感光体的经充电的表面上形成静电潜像的潜像形成单元(B);通过使用色调剂使形成于所述电子照相感光体表面上的所述静电潜像显影以形成色调剂图像的显影单元(C);将形成于所述电子照相感光体表面上的所述色调剂图像转印至记录介质上的转印单元(D);和清洁所述电子照相感光体的清洁单元(E),
其中,所述电子照相感光体为权利要求1所述的电子照相感光体。
13.如权利要求12所述的处理盒,
其中,所述电子照相感光体的表面层满足以下表达式:
0≤A1≤0.1×A4 表达式(4)
0.3×A4<A2≤0.5×A4 表达式(5)
0.9×A4<A3 表达式(6)
其中,
A1表示截面中所述氟树脂颗粒的面积与第一区域的总面积之比,其中所述第一区域位于由所述表面层的最外表面至所述基板侧的大于或等于0.2μm且小于0.5μm的距离范围内;
A2表示截面中所述氟树脂颗粒的面积与第二区域的总面积之比,其中所述第二区域位于由所述表面层的最外表面至所述基板侧的大于或等于0.5μm且小于1.5μm的距离范围内;
A3表示截面中所述氟树脂颗粒的面积与第三区域的总面积之比,其中所述第三区域位于由所述表面层的最外表面至所述基板侧的1.5μm~表面层的厚度-0.5μm的距离范围内;并且
A4表示所述氟树脂颗粒的面积与所述截面的总面积之比。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3582012A1 (en) * 2018-06-15 2019-12-18 Fuji Xerox Co., Ltd Dispersant attached polytetrafluoroethylene particle, composition, layered material, electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus
US11066543B2 (en) 2018-06-15 2021-07-20 Fujifilm Business Innovation Corp. Dispersant attached polytetrafluoroethylene particle, composition, layered material, electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101526763A (zh) * 2008-03-05 2009-09-09 富士施乐株式会社 电子照相感光体、处理盒和成像设备
JP2009237115A (ja) * 2008-03-26 2009-10-15 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体、画像形成装置、プロセスカートリッジ及び画像形成方法
CN101846893A (zh) * 2009-03-27 2010-09-29 富士施乐株式会社 电子照相感光体、处理盒和图像形成设备
CN102122122A (zh) * 2010-01-08 2011-07-13 富士施乐株式会社 电子照相感光体及其制造方法、处理盒和图像形成设备
JP2011197443A (ja) * 2010-03-19 2011-10-06 Fuji Xerox Co Ltd 画像形成装置、およびプロセスカートリッジ
JP2012058595A (ja) * 2010-09-10 2012-03-22 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、画像形成装置およびプロセスカートリッジ

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3123185B2 (ja) 1991-04-22 2001-01-09 富士ゼロックス株式会社 クロロガリウムフタロシアニンの新規な結晶、その新規な結晶よりなる光導電材料及びそれを用いた電子写真感光体
JPS5651749A (en) 1979-10-04 1981-05-09 Canon Inc Electrophotographic receptor
JPS59223442A (ja) 1983-06-03 1984-12-15 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真用感光体
JPS63221355A (ja) 1986-03-18 1988-09-14 Canon Inc 電子写真感光体
DE3708512A1 (de) 1986-03-18 1987-10-01 Canon Kk Elektrophotographisches, lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
JP2675035B2 (ja) 1987-12-28 1997-11-12 株式会社リコー 電子写真用感光体
JPH0412365A (ja) 1990-05-01 1992-01-16 Canon Inc 電子写真感光体
JPH04189873A (ja) 1990-11-22 1992-07-08 Fuji Xerox Co Ltd オキシチタニウムフタロシアニン水和物結晶及びそれを用いた電子写真感光体
JP3100071B2 (ja) 1991-04-24 2000-10-16 キヤノン株式会社 電子写真感光体の製造方法
JP3166293B2 (ja) 1991-04-26 2001-05-14 富士ゼロックス株式会社 ヒドロキシガリウムフタロシアニンの新規な結晶、その新規な結晶よりなる光導電材料およびそれを用いた電子写真感光体
JP3092270B2 (ja) 1991-11-15 2000-09-25 富士ゼロックス株式会社 新規なジクロロスズフタロシアニン結晶の製造方法及びその結晶を用いた電子写真感光体
JPH04345167A (ja) 1991-05-23 1992-12-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子写真感光体
JPH0543823A (ja) 1991-08-12 1993-02-23 Fuji Resin Kogyo Kk 導電性コーテイング材
JP3123184B2 (ja) 1991-09-27 2001-01-09 富士ゼロックス株式会社 ジクロロスズフタロシアニンの新規な結晶とその製造方法、およびそれを用いた電子写真感光体
JP3166283B2 (ja) 1992-03-31 2001-05-14 富士ゼロックス株式会社 ヒドロキシガリウムフタロシアニンの新規な結晶の製造方法
JP2865029B2 (ja) 1994-10-24 1999-03-08 富士ゼロックス株式会社 電荷輸送性ポリエステルを用いた有機電子デバイス
JP2894257B2 (ja) 1994-10-24 1999-05-24 富士ゼロックス株式会社 新規電荷輸送性ポリマー、その製造法およびそれを用いた有機電子デバイス
JP3811201B2 (ja) 1995-04-07 2006-08-16 株式会社リコー 電子写真感光体
DE60134366D1 (de) 2000-06-21 2008-07-24 Canon Kk Elektrophotographisches photoempfindliches Element, Prozesskartusche und elektrophotographischer Apparat
JP3740389B2 (ja) 2000-06-21 2006-02-01 キヤノン株式会社 電子写真感光体、電子写真装置およびプロセスカートリッジ
JP3773868B2 (ja) 2001-03-21 2006-05-10 株式会社リコー 電子写真感光体及びこれを用いる電子写真方法、電子写真装置、電子写真装置用プロセスカートリッジ
US6677091B2 (en) 2001-03-22 2004-01-13 Ricoh Company, Ltd. Electrophotographic photoreceptor and electrophotographic apparatus
JP3831672B2 (ja) 2001-03-26 2006-10-11 株式会社リコー 電子写真感光体及び電子写真装置
JP3937836B2 (ja) 2001-12-21 2007-06-27 キヤノン株式会社 電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP5106078B2 (ja) 2007-12-12 2012-12-26 キヤノン株式会社 電子写真感光体の製造方法
JP5343380B2 (ja) * 2008-03-21 2013-11-13 富士ゼロックス株式会社 電子写真感光体、画像形成装置、プロセスカートリッジ及び画像形成方法
JP5724519B2 (ja) * 2011-03-28 2015-05-27 富士ゼロックス株式会社 電子写真感光体、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ
JP5866991B2 (ja) * 2011-11-14 2016-02-24 富士ゼロックス株式会社 画像形成装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101526763A (zh) * 2008-03-05 2009-09-09 富士施乐株式会社 电子照相感光体、处理盒和成像设备
JP2009237115A (ja) * 2008-03-26 2009-10-15 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体、画像形成装置、プロセスカートリッジ及び画像形成方法
CN101846893A (zh) * 2009-03-27 2010-09-29 富士施乐株式会社 电子照相感光体、处理盒和图像形成设备
CN102122122A (zh) * 2010-01-08 2011-07-13 富士施乐株式会社 电子照相感光体及其制造方法、处理盒和图像形成设备
JP2011197443A (ja) * 2010-03-19 2011-10-06 Fuji Xerox Co Ltd 画像形成装置、およびプロセスカートリッジ
JP2012058595A (ja) * 2010-09-10 2012-03-22 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、画像形成装置およびプロセスカートリッジ

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Publication number Publication date
JP2013200525A (ja) 2013-10-03
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