CN101165605A - 成像设备及处理盒 - Google Patents

成像设备及处理盒 Download PDF

Info

Publication number
CN101165605A
CN101165605A CNA2007101264844A CN200710126484A CN101165605A CN 101165605 A CN101165605 A CN 101165605A CN A2007101264844 A CNA2007101264844 A CN A2007101264844A CN 200710126484 A CN200710126484 A CN 200710126484A CN 101165605 A CN101165605 A CN 101165605A
Authority
CN
China
Prior art keywords
resin
imaging device
electrophtography photosensor
compound
exposing unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA2007101264844A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101165605B (zh
Inventor
额田克己
山田涉
古城由贵子
山下敬之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Publication of CN101165605A publication Critical patent/CN101165605A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101165605B publication Critical patent/CN101165605B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G21/00—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge
    • G03G21/06—Eliminating residual charges from a reusable imaging member
    • G03G21/08—Eliminating residual charges from a reusable imaging member using optical radiation
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/75—Details relating to xerographic drum, band or plate, e.g. replacing, testing
    • G03G15/751—Details relating to xerographic drum, band or plate, e.g. replacing, testing relating to drum
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02—Charge-receiving layers
    • G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
    • G03G5/0592—Macromolecular compounds characterised by their structure or by their chemical properties, e.g. block polymers, reticulated polymers, molecular weight, acidity
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02—Charge-receiving layers
    • G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
    • G03G5/0596—Macromolecular compounds characterised by their physical properties
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02—Charge-receiving layers
    • G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/0601—Acyclic or carbocyclic compounds
    • G03G5/0605—Carbocyclic compounds
    • G03G5/0607—Carbocyclic compounds containing at least one non-six-membered ring
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02—Charge-receiving layers
    • G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/0622—Heterocyclic compounds
    • G03G5/0624—Heterocyclic compounds containing one hetero ring
    • G03G5/0625—Heterocyclic compounds containing one hetero ring being three- or four-membered
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02—Charge-receiving layers
    • G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/0622—Heterocyclic compounds
    • G03G5/0624—Heterocyclic compounds containing one hetero ring
    • G03G5/0642—Heterocyclic compounds containing one hetero ring being more than six-membered
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02—Charge-receiving layers
    • G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/0664—Dyes
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02—Charge-receiving layers
    • G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/0664—Dyes
    • G03G5/0666—Dyes containing a methine or polymethine group
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02—Charge-receiving layers
    • G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/09—Sensitisors or activators, e.g. dyestuffs
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
    • G03G5/147—Cover layers
    • G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
    • G03G5/14713—Macromolecular material
    • G03G5/14791—Macromolecular compounds characterised by their structure, e.g. block polymers, reticulated polymers, or by their chemical properties, e.g. by molecular weight or acidity
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
    • G03G5/147—Cover layers
    • G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
    • G03G5/14713—Macromolecular material
    • G03G5/14795—Macromolecular compounds characterised by their physical properties

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Discharging, Photosensitive Material Shape In Electrophotography (AREA)

Abstract

本发明提供一种成像设备及处理盒。该成像设备包括电子照相感光体，该电子照相感光体包括导电性支持体和感光层，该感光层包含能够输送电荷的最外表面层，该最外表面层离该导电性支持体最远并包含具有交联结构的树脂；对电子照相感光体进行充电的充电单元；对电子照相感光体进行曝光从而在带电的电子照相感光体上形成静电潜像的第一曝光单元；利用调色剂使静电潜像显影从而形成调色剂图像显影单元；将调色剂图像从电子照相感光体转印至被转印介质的转印单元；和对电子照相感光体进行均匀曝光的第二曝光单元，所述最外表面层吸收所述第二曝光单元的曝光光线并在所述曝光光线的全波长范围内具有约0.05以下的最大吸光度。

Description

成像设备及处理盒
技术领域
本发明涉及利用包括充电、曝光、显影和转印的电子照相法来形成图像的成像设备，本发明还涉及处理盒。
背景技术
采用电子照相方式的成像设备通常具有如下所示的构成和步骤。首先，利用充电单元对电子照相感光体(以下有时简称为“感光体”)的表面进行均匀充电使其具有预定的极性和电势，通过图像式曝光将带电后的所述感光体表面的电荷有选择地除去从而形成静电潜像。随后，使用显影单元使调色剂附着于所述静电潜像从而使所述潜像显影为调色剂图像，利用转印单元将所述调色剂图像转印至被转印介质上，并将形成的图像排出。
近年来，从可获得高速和高品质印刷的优势考虑时，电子照相感光体广泛用于复印机和激光打印机等领域。作为在这些成像设备中所使用的感光体，与采用诸如硒、硒-碲合金、硒-砷合金、硫化镉等目前的无机光电导材料的感光体相比，使用廉价且具有优异的制造性和废弃性的有机光电导材料的有机感光体占有主流地位。
作为感光体的充电单元，采用的是使用电晕放电器的电晕充电方式。然而，近年来，具有诸如低臭氧和低能耗等优点的接触充电方式已经实用化并得到广泛使用。
接触充电方式是通过使作为充电用部件的导电性充电部件与感光体的表面接触或极端靠近，并对该充电部件施加电压而对感光体表面进行充电的方式。作为对充电部件施加电压的方法，分为单独施加直流电压的直流方式，和将交流电压与直流电压叠加的交流叠加方式。然而，一方面该接触充电方式具有可使设备小型化并且很少生成诸如臭氧等有害气体的优点，另一方面却由于感光体表面的直接放电而导致感光体的劣化和磨耗易于发生。此外，在接触充电方式中，成像设备中的各种异物(如金属粉末和载体块)容易刺入感光体中或损害感光体。结果，当感光体长期反复使用时，接触充电时高电场局部施加至上述的感光体的缺陷部分，生成电针孔(针孔漏电)，从而易于发生图像缺陷。此外，由于接触充电而导致感光体的磨耗增加，结果容易促进针孔漏电。
此外，近年来，为获得高画质的图像，与粉碎的调色剂的形状相比，常常使用近似球形的所谓聚合调色剂，但是当调色剂近似球形时，在清除调色剂时所述调色剂易于穿过刮刀式清洁器，因此必须使刮刀式清洁器紧密挤压感光体，这也是加速感光体磨耗的原因。
作为转印方式，将调色剂图像直接转印至纸上的方式是主流方式，但由于被转印介质的自由度很宽，因此广泛采用利用中间转印介质进行转印的方式。然而，当使用中间转印介质时，与使用接触充电方式的上述情况类似，易于发生感光体的损坏。例如，存在于成像设备中的各种异物(如金属粉末和载体块)进入中间转印介质与感光体之间或刺入感光体中。结果，当感光体长期反复使用时，生成上述的针孔漏电，因此易于发生图像缺陷。
关于上述问题，提出可以在电子照相感光体的表面上设置保护层以提高机械强度。作为保护层，正在对下列层进行研究：例如，包含分散在酚醛树脂中的导电粉末的层(参见特许第3287678号公报)、包含有机-无机混合材料的层(参见特开2000-19749号公报)、包含通过固化不具有电荷输送性结构的自由基聚合性单体与具有电荷输送性结构的自由基聚合性化合物而获得的交联树脂的层(参见特开2005-234565号公报)、包含通过聚合或交联来固化具有链式聚合性官能团的空穴输送性化合物而获得的化合物的层(参见特开2000-66424号公报)、包含醇溶性电荷输送材料与酚醛树脂的层(参见特开2002-82469号公报)等等。
由于设置有具有电荷输送性质的交联树脂层作为保护层的电子照相感光体具有高强度和整流性质，因此可以抑制图像模糊并可以长期获得稳定的图像，另一方面电荷输送性质受到交联末端的极性基团的控制，从而易于生成残余电势，通常使用厚度为约2μm～3μm的保护层。然而，在厚度为2μm～3μm时，与不具有保护层的现有电子照相感光体相比，尽管可以延长寿命，但仍不够充分，需要加厚保护层以进一步延长寿命。
另一方面，使保护层增厚会导致感光体中的残余电势增大。由于电荷在感光体中累积并且图像的曝光区域与未曝光区域之间的累积量相异，因此在进行下一循环的充电时残余电势会造成图像的曝光区域与未曝光区域之间的静电荷不均，结果易于发生所谓的图像重影，即前一图像的图案(image pattern)残留在下一图像图案中的现象。该现象随着表面层的厚度的增加而易于发生，特别是当厚度为2μm以上时该现象极易发生。此外，在使用颜色不同的多种调色剂进行颜色处理的情况中，转印电场随调色剂层的厚度的不同而不同，易于发生由转印时的图像图案导致的所谓转印重影，这在希望获得高画质彩色图像时是尤其严重的问题。
此外，近年来，具有均一粒径的所谓聚合调色剂已经用于获得更高的画质。然而，聚合调色剂与粉碎的调色剂相比其形状接近球形，与粉碎的调色剂相比，在很多情况中必须增大转印电场，从而更容易发生转印重影。此外，较接近球形的调色剂的滚动阻力较小，易于通过诸如清洁刮刀等清洁部件，因此易于发生清洁不良。为防止调色剂通过清洁刮刀，与粉碎的调色剂的情况相比，在很多情况中将清洁刮刀的挤压力设置得较高，但是如上所述，当刮刀紧密挤压在电子照相感光体上时，刮刀与感光体的摩擦增大，导致感光体的磨耗加速和寿命易于缩短。
发明内容
本发明的目的是提供一种成像设备，即使当使用设置有具有电荷输送性质的交联树脂层的耐磨耗性优异的电子照相感光体时，所述成像设备也几乎不会发生图像重影，并能够长期稳定地形成具有良好画质的图像，本发明还提供一种处理盒。
根据本发明的一个方案，提供一种成像设备：
电子照相感光体，所述电子照相感光体包括导电性支持体和感光层，所述感光层包含能够输送电荷的最外表面层，所述最外表面层离所述导电性支持体最远并包含具有交联结构的树脂；
充电单元，所述充电单元对所述电子照相感光体进行充电；
第一曝光单元，所述第一曝光单元对所述电子照相感光体进行曝光从而在带电的所述电子照相感光体上形成静电潜像；
显影单元，所述显影单元利用调色剂使所述静电潜像显影从而形成调色剂图像；
转印单元，所述转印单元将所述调色剂图像从所述电子照相感光体转印至被转印介质；和
第二曝光单元，所述第二曝光单元对所述电子照相感光体进行均匀曝光，
所述电子照相感光体的所述最外表面层吸收所述第二曝光单元的曝光光线，并在所述第二曝光单元的曝光光线的全波长范围内具有约0.05以下的最大吸光度。
根据所述成像设备，由于所述电子照相感光体配有具有电荷输送性质并包含具有交联结构的树脂的最外表面层，因此可以确保优异的耐磨耗性，进而，即使在使用具有该最外表面层的电子照相感光体的情况中，通过提供第二曝光单元，可以充分抑制图像重影的发生，并可以长期稳定地形成具有良好画质的图像。利用第二曝光单元的曝光光线来抑制图像重影发生的机理仍不十分明确，但可以推测，第二曝光单元的曝光光线被所述电子照相感光体的最外表面层吸收，结果在所述最外表面层内产生电荷载流子，膜电阻降低因此易于释放残余电荷。
在所述成像设备中，所述最外表面层的最大吸光度优选为大于0且为约0.05以下，更优选为0.001～0.047，进而更优选为0.002～0.045。
此外，在本发明的成像设备中，所述第二曝光单元可以包括具有半导体元件的光源，利用该元件可以更为充分地抑制重影的发生，并可以长期稳定地形成具有良好画质的图像。
此外，在本发明的成像设备中，所述第二曝光单元还可以具有控制所述曝光光线的光量的控制器。通过设置该控制器，易于将曝光光线的光量控制为可生成足够的电荷载流子且膜电阻不会降得过低的最佳光量。结果，可更为充分地抑制重影的发生，并可以长期稳定地形成具有良好画质的图像。
此外，在本发明的成像设备中，所述第二曝光单元具有控制器，所述控制器对所述曝光光线的照射进行控制，从而用所述曝光光线不定期地照射所述电子照相感光体。通过设置该控制器，在成像循环前或成像循环后加入用于抑制重影的曝光循环，或者在连续成像循环中改变曝光强度，可以对重影进行最适宜的控制。结果，可更为充分地抑制重影的发生，并可以长期稳定地形成具有良好画质的图像。所述控制器同时具有控制曝光光线的光量的功能和利用曝光光线对电子照相感光体进行不定期照射的功能。
此外，在本发明的成像设备中，所述最外表面层的厚度为约2μm以上。当包含具有交联结构的树脂的所述最外表面层的厚度为约2μm以上时，在现有的成像设备中易于发生图像重影，然而，根据本发明的成像设备的一个方案，通过设置第二曝光单元，可以充分地抑制重影的发生，并可以长期稳定地形成具有良好画质的图像。此外，通过增大所述最外表面层的厚度，所述电子照相感光体的寿命可进一步延长。考虑到以高水平同时实现对重影的抑制和电子照相感光体的长寿命化，所述最外表面层的厚度更优选为约2.5μm～10μm，进而更优选为约3μm～9μm。
此外，在本发明的成像设备中，所述具有交联结构的树脂可以是包含选自由硅树脂、环氧树脂、丙烯酸树脂、酚醛树脂和三聚氰胺树脂组成的组的至少一种树脂的树脂，优选是包含选自由环氧树脂、丙烯酸树脂和酚醛树脂组成的组的至少一种树脂的树脂。由于具有该构成，可以改善所述电子照相感光体的耐磨耗性，并可以长期稳定地形成具有良好画质的图像。
所述最外表面层可包含电荷输送材料。所述电荷输送材料优选包括以下式(I)～(V)表示的至少一种化合物：
所述式(I)是：
F[-(X1)n1R1-CO2H]m1           (I)，
其中，F表示来自能够输送空穴的化合物的有机基团；R1表示亚烷基；X1表示氧原子或硫原子；m1表示1～4的整数；n1表示0或1，
所述式(II)是：
F[-(X2)n2-(R2)n3-(Z2)n4G]n5              (II)，
其中，F表示来自能够输送空穴的化合物的有机基团；X2表示氧原子或硫原子；R2表示亚烷基；Z2表示亚烷基、氧原子、硫原子、NH或COO；G表示氢原子、环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基或具有烷氧基二甲苯基的一价基团；n2、n3和n4各自表示0或1；n5表示1～4的整数，
所述式(III)是：
其中，F表示来自能够输送空穴的化合物的有机基团；T表示二价基团；Y表示氧原子或硫原子；R3、R4和R5各自独立地表示氢原子或一价有机基团；R6表示一价有机基团；m2表示0或1；n6表示1～4的整数；而且R5和R6不键合，或彼此键合以形成包含Y作为杂原子的杂环，
所述式(IV)是：
Figure A20071012648400112
其中，F表示来自能够输送空穴的化合物的有机基团；T表示二价连接基团；R7表示一价有机基团；m3表示0或1；n7表示1～4的整数，
所述式(V)是：
Figure A20071012648400121
其中，F表示来自能够输送空穴的化合物的有机基团；R8表示一价有机基团；L表示亚烷基；n8表示1～4的整数。
此外，在本发明的成像设备中，所述最外表面层可以是用酸性催化剂固化的层。这里，优选的是，所述酸性催化剂是含硫的催化剂，由此可以提高交联膜的强度并改善所述交联膜与下层的粘着性。结果，可以长期稳定地形成具有良好画质的图像。
本发明的成像设备还可以包括一种处理盒，所述处理盒一体地具有所述电子照相感光体以及选自由下列单元组成的组的至少一种单元：充电单元；第二曝光单元；显影单元；和清洁单元，所述清洁单元用于将所述电子照相感光体上残留的调色剂除去，所述处理盒能够从所述成像设备的主体上自由拆卸。根据该构成，维护变得容易。
根据本发明的一个方案，提供一种处理盒，所述处理盒包括：
电子照相感光体，所述电子照相感光体包括导电性支持体和感光层，所述感光层包含能够输送电荷的最外表面层，所述最外表面层离所述导电性支持体最远并包含具有交联结构的树脂；和
曝光单元，所述曝光单元对所述电子照相感光体进行均匀曝光，
所述电子照相感光体的所述最外表面层吸收所述曝光单元的曝光光线，并在所述曝光光线的全波长范围内具有为约0.05以下的最大吸光度。
根据所述处理盒，通过至少提供具有上述构成的电子照相感光体和所述曝光单元，当将所述处理盒安装在所述成像设备中时，可以充分地抑制重影的发生，并可以长期稳定地形成具有良好画质的图像。
附图说明
基于下列附图将对本发明的实施方式进行详细描述，其中：
图1是显示用于本发明的成像设备的电子照相感光体的示例性实施方式的截面图；
图2是显示用于本发明的成像设备的电子照相感光体的另一个示例性实施方式的截面图；
图3是显示用于本发明的成像设备的电子照相感光体的又一个示例性实施方式的截面图；
图4是显示本发明的成像设备的示例性实施方式的图；
图5是显示本发明的成像设备的另一个示例性实施方式的图；
图6是显示在第二曝光单元的曝光光线的全波长范围内的电子照相感光体的最外表面层的最大吸光度的定义的图；
图7是显示光源的波长与保护层的吸光度之间的关系的图；和
图8A～8C是显示重影的评价图形和评价基准的图；图8A显示判定A，图B显示判定B，图C显示判定C。
具体实施方式
本发明的一个方案提供一种成像设备，即使当使用设置有具有电荷输送性质的交联树脂层的耐磨耗性优异的电子照相感光体时，所述成像设备也几乎不会发生图像重影，并能够长期稳定地形成具有良好画质的图像，本发明还提供一种处理盒。
以下将参考附图对本发明的示例性实施方式进行详细说明。在附图中，相同的或相应的元件由相同的附图标记表示并省略重复的解释。
电子照相感光体
图1是显示用于本发明的成像设备的电子照相感光体的示例性实施方式的截面图。图1中所示的电子照相感光体1包括导电性支持体2和感光层3。感光层3具有包含依次层积的底涂层4、电荷产生层5、电荷输送层6和保护层7的结构。在图1所示的电子照相感光体1中，保护层7是包含具有交联结构的树脂的电荷输送性最外表面层(即，能够输送电荷的最外表面层)，所述最外表面层设置在离所述导电性支持体2最远的一侧。
图2和图3都是显示用于本发明的成像设备的电子照相感光体的其他示例性实施方式的截面图。图2所示的电子照相感光体1具有包含依次层积的导电性支持体2、底涂层4、电荷输送层6、电荷产生层5和保护层7的结构。图3所示的电子照相感光体1具有包含依次层积的导电性支持体2、底涂层4、包含电荷产生材料与电荷输送材料的单层型感光层8和保护层7的结构。在图2和图3中所示的电子照相感光体1中，保护层7也是最外表面层。
如上所述，电子照相感光体1的感光层3可以是在同一层中包含电荷产生材料与电荷输送材料的单层型感光层8，也可以是分别设置含有电荷产生材料的层(电荷产生层5)与含有电荷输送材料的层(电荷输送层6)的功能分离型感光层。在功能分离型感光层的情况中，电荷产生层5或者电荷输送层6均可以层积为上层。附带提及，在功能分离型感光层的情况中，由于功能可以分离因此各层可充分满足每一功能，从而实现更高的功能。此外，在图1～3所示的电子照相感光体中，可以不设置底涂层4。此外，在图1和图3所示的电子照相感光体中，可以不设置保护层7。当不设置保护层7时，图1中的电子照相感光体1的电荷输送层6和图3中的电子照相感光体1的单层型感光层8均为包含具有交联结构的树脂的电荷输送性最外表面层。
基于作为示例性实施方式的图1中的电子照相感光体对各要素进行描述。
作为导电性支持体2，可以举出由诸如铝、铜、锌、不锈钢、铬、镍、钼、钒、铟、金、铂等金属或其合金所形成的金属板、金属鼓和金属带。此外，作为导电性支持体2，也可以使用以诸如导电性聚合物、氧化铟等导电性化合物和诸如铝、钯、金等金属或其合金涂布、沉积或层压的纸、塑料膜和带等。
当电子照相感光体1用于激光打印机时，为防止在以激光进行照射时出现干涉条纹，可以对导电性支持体2的表面进行粗糙化处理以使其中心线平均粗糙度Ra为约0.04μm～0.5μm。当导电性支持体2的表面的Ra小于约0.04μm时，其表面近似于镜面，因而不易获得充分的防干涉效果。而当Ra大于0.5μm时，即使成膜，画质也容易不足。此外，当非干涉光用作光源时，不特别需要进行用于防止干涉条纹的粗糙化处理，可防止出现由导电性支持体2的表面凹凸所造成的缺陷，适于延长使用寿命。
作为粗糙化处理的方法，可以采用将悬浮在水中的研磨剂喷在支持体上的湿式珩磨法、将支持体压在旋转磨石上以连续进行磨削的无心磨削法和阳极氧化处理法。
作为其他的粗糙化方法，还可以使用下述方法，即将导电性或半导电性粉末分散在树脂中，在支持体的表面上成层，并利用分散在该层中的微粒而使所述表面粗糙化，但不对导电性支持2的表面进行粗糙化。
阳极氧化处理法是以铝作为阳极在电解液中进行阳极氧化，从而在铝表面上形成氧化膜的方法。作为电解液，可以举出硫酸溶液和草酸溶液。然而，通过阳极氧化而形成的多孔阳极氧化膜如果不作处理则具有化学活性并易于被污染，而且其电阻随环境的波动较大。因此，需要对该阳极氧化膜进行封孔处理，例如，通过与加压蒸汽或沸水(可以向其中加入镍盐等金属盐)进行水合作用，以使体积膨胀，从而堵塞微孔，由此将阳极氧化膜变成更稳定的水合氧化物。
阳极氧化膜的厚度优选为约0.3μm～15μm。当其厚度小于约0.3μm时，由于防止电荷载流子注入的阻隔性很差因此不能获得充分的效果。另一方面，当其厚度大于约15μm时，则会造成重复使用时残余电势增加。
可以用酸性水溶液或勃姆石处理对导电性支持体2进行处理。用包含磷酸、铬酸或氢氟酸的酸性水溶液进行的处理可以如下进行。首先制备酸处理液。酸处理液中的磷酸、铬酸和氢氟酸的比率如下所示：磷酸的范围为约10重量％～11重量％，铬酸的范围为约3重量％～5重量％，氢氟酸的范围为约0.5重量％～2重量％，这些酸的总浓度优选为约13.5重量％～18重量％。处理温度优选为约42℃～48℃，保持的温度越高，快速形成的膜越厚。所述膜的膜厚优选为约0.3μm～15μm。当厚度小于约0.3μm时，防止注入的阻隔性很差，效果易于不充分。另一方面，当厚度大于约15μm时，则会造成重复使用时残余电势增加。
勃姆石处理可以如下进行：将导电性支持体2浸渍在90℃～100℃的纯水中5分钟～60分钟，或使其与90℃～120℃的热蒸汽接触5分钟～60分钟。膜厚优选为0.1μm～15μm。也可以进一步用膜溶解能力低的电解液对支持体进行阳极氧化处理，所述电解液例如有己二酸、硼酸、硼酸盐、磷酸盐、邻苯二甲酸盐、马来酸盐、苯甲酸盐、酒石酸盐、柠檬酸盐等。
可以在导电性支持体2上形成底涂层4。底涂层4例如包括含有无机颗粒的粘合性树脂。
作为无机颗粒，优选使用粉末电阻(体积电阻率)为约1×102Ω·cm～1×1011Ω·cm的无机颗粒。这是因为底涂层4必须获得适宜的电阻以得到耐漏电性和载流子阻隔性。附带提及，当无机颗粒的粉末电阻小于所述下限值时，不能获得足够的耐漏电性，而当其超过所述上限值时，有可能导致残余电势增加。
作为具有上述电阻值的无机颗粒，可以使用诸如氧化锡、氧化钛、氧化锌、氧化锆等无机颗粒，优选使用氧化锌。
可以对这些无机颗粒进行表面处理，经不同表面处理并具有不同粒径的两种或两种以上的无机颗粒可以混合使用。
可以使用具有以BET法测定的比表面积为约10m2/g以上的无机颗粒。当所述比表面积的值小于约10m2/g时，易于发生带电性质的降低，难以获得良好的电子照相特性。
通过同时含有受体化合物与无机颗粒，底涂层4的电学性质的长期稳定性和载流子阻隔性可更为优异。作为受体化合物，可以使用任何化合物只要可以获得所需特性即可，可以举出电子输送性物质，例如醌类化合物，如氯醌、溴醌等；四氰基对苯醌二甲烷类化合物；芴酮化合物，如2，4，7-三硝基芴酮、2，4，5，7-四硝基-9-芴酮等；噁二唑类化合物如2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1，3，4-噁二唑、2，5-二(4-萘基)-1，3，4-噁二唑、2，5-二(4-二乙氨基苯基)-1，3，4-噁二唑等；氧杂蒽酮类化合物、噻吩化合物和如3，3’，5，5’-四叔丁基二苯酚合苯醌等二苯酚合苯醌化合物，并优选具有蒽醌结构的化合物。作为具有蒽醌结构的化合物，可用使用羟基蒽醌类化合物、氨基蒽醌类化合物、氨基羟基蒽醌类化合物等，特别可以举出蒽醌、1，2-二羟基蒽醌、1，4-二羟基蒽醌、蒽绛酚、红紫素等。
这些受体化合物在底涂层4中的含量可以在能够获得所需特性的范围内任意设定，但是考虑到防止电荷的累积和无机颗粒的聚集时，所述含量相对于每100重量份的无机颗粒优选为约0.01重量份～20重量份，更优选为约0.05重量份～10重量份。无机颗粒的聚集不仅会导致导电线路的形成不均和诸如反复使用时残余电势增大等维持性劣化，而且容易出现诸如黑点等图像缺陷。
受体化合物可以仅在形成底涂层4时(涂布时)加入，也可以预先使其附着于无机颗粒的表面。作为使受体化合物附着于无机颗粒表面的方法，可以举出干法和湿法。
当利用受体化合物通过干法对无机颗粒的表面进行表面处理时，在具有强剪切力的混合器中搅拌无机颗粒的同时，将受体化合物直接滴入或将其溶解在有机溶剂中再滴入，或者用干燥空气和氮气进行喷雾，从而对其进行均匀的表面处理。受体化合物的添加或喷雾优选在不高于所述溶剂沸点的温度进行。当受体化合物在高于溶剂沸点的温度喷雾时，则在所述受体化合物与溶剂均匀搅拌前溶剂蒸发，受体化合物处于局部位置而难以进行均匀处理，因而是不优选的。在添加或喷入受体化合物后，可在约100℃以上的温度再进行焙烧。只要可以获得所需的电子照相特性，则可以在任意温度和时间的范围内焙烧。
当利用受体化合物通过湿法对无机颗粒的表面进行表面处理时，在溶剂中搅拌无机颗粒、使用超声波、砂磨机、磨碎机、球磨机等进行分散、向其中加入受体化合物、搅拌或分散、然后除掉溶剂，从而进行均匀处理。关于溶剂的除去方法，可以举出通过过滤或蒸馏除去溶剂的方法。除掉溶剂后，可在约100℃以上的温度再进行焙烧。只要可以获得所需的电子照相特性，则可以在任意温度和时间的范围内焙烧。在湿法中，在添加表面处理剂之前可除去无机颗粒中含有的水分，例如，可以使用在表面处理用溶剂中加热搅拌无机颗粒以除去水分的方法和通过与溶剂共沸除去水分的方法。
在受体化合物附着无机颗粒之前，还可以对无机颗粒进行其他表面理。作为表面处理剂，只要能够获得所需的特性则可以使用任何化合物，且这些化合物可以选自各种公知的化合物。作为表面处理剂，例如可以举出硅烷偶联剂、钛酸盐偶联剂、铝偶联剂、表面活性剂等等。由于使用硅烷偶联剂可获得良好的电子照相特性，因此是优选的。此外，具有氨基的硅烷偶联剂可用于将良好的阻隔性赋予底涂层4。
作为具有氨基的硅烷偶联剂，可以使用任何化合物只要能够获得所需的电子照相感光体的特性即可。具体地说，可以举出γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-二(β-羟乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷等。具有氨基的硅烷偶联剂并不限于上述实例。
两种或两种以上的硅烷偶联剂可以作为混合物使用。可与具有氨基的硅烷偶联剂组合使用的硅烷偶联剂没有特别限定，例如可以举出乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-二(β-羟基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-氯丙基三甲氧基硅烷等。
可以使用任何公知的表面处理法，可以使用干法和湿法。利用受体化合物进行的表面处理与利用偶联剂进行的表面处理可以同时进行。
底涂层4中硅烷偶联剂相对于无机颗粒的量可任意设定只要可以获得所需的电子照相特性即可，但考虑到改善分散性时相对于100重量份的无机颗粒所述量优选为约0.5重量份～10重量份。
作为底涂层4中包含的粘合剂树脂，可以使用任何公知的粘合剂树脂只要可形成良好的膜并可获得所需的特性即可。例如，可以使用公知的高分子化合物，例如：诸如聚乙烯醇缩丁醛等缩醛树脂、聚乙烯醇树脂、酪蛋白、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酐树脂、硅酮树脂、硅酮-醇酸树脂、酚醛树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂等；和诸如具有电荷输送性基团的电荷输送性树脂、聚苯胺等导电性树脂。在这些化合物中，优选使用不溶于上层的涂布溶剂的树脂，特别是，优选使用酚醛树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂等。当这些树脂两种或两种以上组合使用时，可根据需要任意设定混合比。
底涂层4中诸如被赋予了受体性质的金属氧化物颗粒等无机颗粒与粘合剂树脂，或者无机颗粒与粘合剂树脂的含有量的比率可以在能够获得所需的电子照相感光体特性的范围内任意设定。
为了改善电学特性、环境稳定性和图像品质，可以在底涂层4中使用各种添加剂。作为所述添加剂，可以使用诸如多环缩合类和偶氮类电子输送性颜料、锆螯合物、钛螯合物、铝螯合物、钛醇盐化合物、有机钛化合物、硅烷偶联剂等公知材料。硅烷偶联剂用于金属氧化物的表面处理，但它们也可以作为添加剂加入。
这里使用的硅烷偶联剂的具体实例包括乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-二(β-羟基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-氯丙基三甲氧基硅烷等。作为锆螯合物的实例，可以举出丁氧锆、乙酰乙酸乙酯锆、三乙醇胺锆、乙酰丙酮酸丁氧锆、乙酰乙酸乙酯丁氧锆、乙酸锆、草酸锆、乳酸锆、膦酸锆、辛酸锆、环烷酸锆、月桂酸锆、硬脂酸锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸丁氧锆、硬脂酸丁氧锆、异硬脂酸丁氧锆等。
作为钛螯合物的实例，可以举出钛酸四异丙酯、钛酸四正丁酯、钛酸丁酯二聚体、四(2-乙基己基)钛酸酯、乙酰丙酮化钛、聚乙酰丙酮化钛、亚辛基羟乙酸钛、钛乳酸铵盐、乳酸钛、钛乳酸乙酯、三乙醇胺酸钛、聚硬脂酸羟基钛等。
作为铝螯合物的实例，可以举出异丙醇铝、二异丙醇一丁氧基铝、丁酸铝、二异丙醇二乙酰乙酸乙酯铝、三(乙酰乙酸乙酯)铝等。
这些化合物可以单独使用或者作为多种化合物的混合物或缩聚物使用。
底涂层4可使用含有上述各构成材料的底涂层形成用涂布液来形成。作为用于制造底涂层形成用涂布液的溶剂，可以使用任意选自公知的有机溶剂的溶剂，所述公知的有机溶剂例如包括：醇类溶剂、芳香烃类溶剂、卤代烃类溶剂、酮类溶剂、酮醇类溶剂、醚类溶剂、酯类溶剂等。更具体地说，可以使用诸如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯、甲苯等常用的有机溶剂。
这些分散用溶剂可以单独使用，或者两种或两种以上溶剂作为混合溶剂使用。当两种或两种以上溶剂混合时，可以使用能够溶解粘合剂树脂的溶剂中的任何混合溶剂。
作为分散方法，可以使用诸如辊磨机、球磨机、振动球磨机、磨碎机、砂磨机、胶体磨和涂料搅拌机等公知方法。
将由此得到的底涂层形成用涂布液涂布在导电性支持体2上并干燥除去溶剂，由此形成底涂层4。作为形成底涂层4的涂布方法，可以使用诸如刀涂法、线棒涂布法、喷涂法、浸涂法、线性喷涂法(bead coatingmethod)、气刀涂布法、幕涂法等常用方法。干燥通常在溶剂能够蒸发的温度下进行以形成膜。
由此形成的底涂层4具有的维氏硬度优选为约35以上。对底涂层4的厚度不作具体限定，只要可获得所需的特性即可，但所述厚度优选为约15μm以上，更优选为约15μm～50μm。当底涂层4的厚度小于约15μm时，难以获得足够的耐漏电性，而当所述厚度大于约50μm时，则长期使用时电势容易残留，结果导致图像浓度异常的倾向。
为防止Moiré图像，可以将底涂层4的表面粗糙度(十点平均表面粗糙度)调整为曝光时使用的激光波长λ的1/(4n)倍(n是上层的折射系数)～1/2λ倍。此外，为调整表面粗糙度，可以将树脂颗粒等加入底涂层4中。作为所述树脂颗粒，可以使用硅酮树脂颗粒和交联型PMMA树脂颗粒。
此外，为了调整表面粗糙度，可以研磨底涂层4。作为研磨方法，可以采用磨光、喷砂处理、湿珩磨、研磨处理等。
电荷产生层5包含电荷产生材料和必要时的粘合剂树脂。
作为所述电荷产生材料，可以举出诸如双偶氮颜料、三偶氮颜料等偶氮颜料、诸如二溴蒽嵌蒽醌颜料等稠环芳香族颜料、二萘嵌苯颜料、吡咯并吡咯颜料、酞菁颜料、氧化锌、三方晶系硒等。在这些材料中，对于在近红外区域的激光曝光，优选使用金属的或不含金属的酞菁颜料，并特别优选使用日本特开平5-263007号公报和特开平5-279591号公报中披露的羟基镓酞菁、特开平5-98181号公报中披露的氯化镓酞菁、特开平5-140472号公报和5-140473号公报中披露的二氯锡酞菁以及特开平4-189873号公报和特开平5-43823号公报中披露的钛氧基酞菁。此外，对于在近紫外区域的激光曝光，更优选诸如二溴蒽嵌蒽醌颜料等稠环芳香族颜料、硫靛颜料、紫菜嗪化合物、氧化锌和三方晶系硒。
用于电荷产生层5的粘合剂树脂可以选自宽范围的绝缘性树脂。所述粘合剂树脂也可以选自有机光导电性聚合物，例如聚-N-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽、聚乙烯基芘、聚硅烷等。作为优选的粘合剂树脂，可以举出：聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚芳酯树脂(如双酚与邻苯二甲酸的缩聚物)、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、苯氧树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚酰胺树脂、丙烯酸树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚乙烯基吡啶树脂、纤维素树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、酪蛋白、聚乙烯醇树脂、聚乙烯基吡咯烷酮树脂等。这些树脂可以单独使用或作为两种或两种以上组成的混合物使用。
电荷产生层5可以通过使电荷产生材料淀积，或通过涂布包含电荷产生材料与粘合剂树脂的电荷产生层形成用涂布液而形成。当电荷产生层5用电荷产生层形成用涂布液形成时，电荷产生材料与粘合剂树脂的重量比优选为约10/1～1/10。
通过将电荷产生材料与粘合剂树脂分散在预定的溶剂中可以制备电荷产生层形成用涂布液。
作为分散用溶剂，可以举出甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯、甲苯等。这些溶剂可以单独使用或作为其两种或两种以上组成的混合物使用。
作为将电荷产生材料与粘合剂树脂分散在溶剂中的方法，可以采用诸如球磨机分散法、磨碎机分散法和砂磨机分散法等常用方法。根据这些分散方法，可以防止由于分散而导致的电荷产生材料的晶型的改变。此外，分散时，有效的是，使电荷产生材料的平均粒径优选为约0.5μm以下，更优选为约0.3μm以下，进而更优选为约0.15μm以下。
当使用电荷产生层形成用涂布液来形成电荷产生层5时，可以使用诸如刀涂法、线棒涂布法、喷涂法、浸涂法、线性喷涂法、气刀涂布法、幕涂法等常用方法。
由此获得的电荷产生层5的膜厚优选为约0.1μm～5.0μm，更优选为约0.2μm～2.0μm。
电荷输送层6由电荷输送材料与粘合剂树脂，或高分子电荷输送材料形成。
电荷输送材料的实例包括电子输送性化合物：例如，诸如对苯醌、氯醌、溴醌、蒽醌等醌化合物、四氰基醌二甲烷化合物、例如2，4，7-三硝基芴酮等芴酮化合物、氧杂蒽酮化合物、二苯甲酮化合物、氰基乙烯基化合物、乙烯类化合物等；和空穴输送性化合物，例如三芳基胺化合物、联苯胺化合物、芳烷化合物、具有芳基取代基的乙烯类化合物、芪化合物、蒽化合物、腙化合物等。这些电荷输送材料可以单独使用或作为两种或两种以上组成的混合物使用，但所述电荷输送材料并不限于这些化合物。
作为电荷输送材料，考虑到迁移率，优选以下式(a-1)或(a-2)表示的化合物。
式(a-1)为：
Figure A20071012648400221
在式(a-1)中，R34表示氢原子或甲基；k10表示1或2；Ar6和Ar7各自表示具有取代基或不具有取代基的芳基、-C6H4-C(R38)＝C(R39)(R40)或-C6H4-CH＝CH-CH＝C(R41)(R42)；R38、R39、R40、R41和R42各自独立地表示氢原子、具有取代基或不具有取代基的烷基或具有取代基或不具有取代基的芳基。作为取代基的例子，可以举出卤素原子、具有1～5个碳原子的烷基、具有1～5个碳原子的烷氧基和取代有具有1～3个碳原子的烷基的取代氨基。
式(a-2)为：
Figure A20071012648400231
在式(a-2)中，R35和R35′各自独立地表示氢原子、卤素原子、具有1～5个碳原子的烷基或具有1～5个碳原子的烷氧基；R36、R36′、R37和R37′各自独立地表示卤素原子、具有1～5个碳原子的烷基、具有1～5个碳原子的烷氧基、具有包含1或2个碳原子的烷基取代基的氨基、具有取代基或不具有取代基的芳基、-C(R38)＝C(R39)(R40)或-CH＝CH-CH＝C(R41)(R42)；R38、R39、R40、R41和R42各自独立地表示氢原子、具有取代基或不具有取代基的烷基或具有取代基或不具有取代基的芳基，m4和m5各自表示0～2的整数。
在上述化合物中，特别优选具有-C6H4-CH＝CH-CH＝C(R41)(R42)的三芳基胺衍生物和具有-CH＝CH-CH＝C(R41)(R42)的联苯胺衍生物，因为它们具有优异的迁移率、与保护层的粘着性，并可抑制重影。
作为用于电荷输送层6的粘合剂树脂，可以举出聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚烯丙基树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏二氯乙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙烯醇缩乙醛树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、聚偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐共聚物、硅酮树脂、硅酮-醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂、苯乙烯-醇酸树脂、聚-N-乙烯基咔唑、聚硅烷等。此外，还可以使用诸如日本特开平8-176293号公报和特开平8-208820号公报中披露的聚酯型高分子电荷输送材料等高分子电荷输送材料。这些粘合剂树脂可以单独使用或作为两种或两种以上组成的混合物使用。电荷输送材料与粘合剂树脂的混合摩尔比优选为10/1～1/5。
高分子电荷输送材料也可以用作电荷输送材料。作为高分子电荷输送材料，可以使用诸如聚-N-乙烯基咔唑、聚硅烷等具有电荷输送性的已知化合物。特别是优选日本特开平8-176293号公报和特开平8-208820号公报中披露的聚酯型高分子电荷输送材料，这是因为它们具有很高的电荷输送性质。高分子电荷输送材料本身能够单独成膜，也可以在与前述的粘合剂树脂混合后形成膜。
电荷输送层6可以用包含上述各构成材料的电荷输送层形成用涂布液来形成。
作为在电荷输送层形成用涂布液中使用的溶剂，例如：诸如苯、甲苯、二甲苯、氯苯等芳香烃；诸如2-丁酮等酮类；诸如二氯甲烷、氯仿、氯乙烯等卤代脂肪烃；以及诸如四氢呋喃、乙醚等环状或直链醚等常用的有机溶剂可以单独使用或作为两种或两种以上组成的混合物使用。作为各构成材料的分散方法，可以使用任何公知方法。
对于将电荷输送层形成用涂布液涂布在电荷产生层5上的方法，可以使用诸如刀涂法、线棒涂布法、喷涂法、浸涂法、线性喷涂法、气刀涂布法、幕涂法等常用方法。
电荷输送层6的厚度优选为约5μm～50μm，更优选为约10μm～30μm。
保护层7是电子照相感光体1的最外表面层，设置保护层是为了使最外表面具有耐磨耗性和耐刮擦性，和提高调色剂的转印效率。
保护层7包含具有电荷输送性的交联树脂层，可以使用具有反应性的物质作为赋予电荷输送性的电荷输送材料。具体可以举出具有下列结构的化合物。
作为可用于保护层7的电荷输送材料，例如，可以举出以下式(I)～(V)中任一式表示的化合物。作为各具体结构，例如，可以举出下列结构。
所述式(I)是：
F[-(X1)n1R1-CO2H]m1           (I)
在式(I)中，F表示来自具有空穴输送性的化合物的有机基团；R1表示亚烷基；X1表示氧原子或硫原子；m1表示1～4的整数；n1表示0或1。
所述式(II)是：
F[-(X2)n2-(R2)n3-(Z2)n4G]n5        (II)
在式(II)中，F表示来自具有空穴输送性的化合物的有机基团；X2表示氧原子或硫原子；R2表示亚烷基；Z2表示亚烷基、氧原子、硫原子、NH或COO；G表示氢原子、环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基或具有烷氧基二甲苯基的一价基团；n2、n3和n4各自表示0或1；n5表示1～4的整数。
所述式(III)是：
Figure A20071012648400251
在式(III)中，F表示来自具有空穴输送性的化合物的有机基团；T表示二价基团；Y表示氧原子或硫原子；R3、R4和R5各自独立地表示氢原子或一价有机基团；R6表示一价有机基团；m2表示0或1；n6表示1～4的整数；而且R5和R6不键合，或彼此键合以形成包含Y作为杂原子的杂环。
所述式(IV)是：
Figure A20071012648400261
在式(IV)中，F表示来自具有空穴输送性的化合物的有机基团；T表示二价连接基团；R7表示一价有机基团；m3表示0或1；n7表示1～4的整数。
所述式(V)是：
Figure A20071012648400262
在式(V)中，F表示来自具有空穴输送性的化合物的有机基团；R8表示一价有机基团；L表示亚烷基；n8表示1～4的整数。
通过使所述电子照相感光体的表面层中包含使用这些化合物而获得的树脂，可以进一步提高所述电子照相感光体的电子照相特性、机械强度和电学特性。此外，以上式(I)～(V)中任一式表示的化合物中的F优选为以下式(VI)表示的基团。
Figure A20071012648400263
在式(VI)中，Ar1、Ar2、Ar3和Ar4各自独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基；Ar5表示具有取代基或不具有取代基的芳基或亚芳基，而且Ar1、Ar2、Ar3、Ar4和Ar5中的1～4个基团表示与以下部位键合的键：以上式(I)表示的化合物中由下式(VII)表示的部位、以上式(II)表示的化合物中由下式(VIII)表示的部位、以上式(III)表示的化合物中由下式(IX)表示的部位、以上式(IV)表示的化合物中由下式(X)表示的部位、或以上式(V)表示的化合物中由下式(XI)表示的部位；k表示0或1。
-(X1)n1R1-CO2H             (VII)
-(X2)n2-(R2)n3-(Z2)n4G     (VIII)
Figure A20071012648400271
-L-O-R8                    (XI)
作为以式(VI)中的Ar1、Ar2、Ar3和Ar4表示的具有取代基或不具有取代基的芳基，具体地说，优选以下式(1)～(7)中的任何一个通式表示的芳基。
表1
Figure A20071012648400281
在上式(1)～(7)中，R11表示氢原子、具有1～4个碳原子的烷基、具有1～4个碳原子的烷氧基、具有任何这些基团作为取代基的苯基、不具有取代基的苯基或具有7～10个碳原子的芳烷基；R12、R13和R14各自独立地表示氢原子、具有1～4个碳原子的烷基、具有1～4个碳原子的烷氧基、具有这些基团作为取代基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7～10个碳原子的芳烷基或卤素原子；Ar表示具有取代基或不具有取代基的亚芳基；X表示以上式(VII)～(XI)表示的结构中的任何一种；c和s各自表示0或1；t表示1～3的整数。
以式(7)表示的芳基中的Ar优选为以下式(8)或(9)表示的亚芳基。
表2
Figure A20071012648400291
在上式(8)和(9)中，R15和R16各自独立地表示氢原子、具有1～4个碳原子的烷基、具有1～4个碳原子的烷氧基、包含具有1～4个碳原子的烷氧基作为取代基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7～10个碳原子的芳烷基或卤素原子；t表示1～3的整数。
以式(7)表示的芳基中的Z’优选为以下式(10)～(17)中的任一个表示的二价连接基团。
表3
Figure A20071012648400301
在上式(10)～(17)中，R17和R18各自独立地表示氢原子、具有1～4个碳原子的烷基、具有1～4个碳原子的烷氧基、包含具有1～4个碳原子的烷氧基作为取代基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7～10个碳原子的芳烷基或卤素原子；W表示二价基团；q和r各自表示1～10的整数；t表示1～3的整数。
在上式(16)和(17)中，W表示以下式(18)～(26)中的任何一个表示的二价基团；顺便提及，式(25)中的U表示0～3的整数。
表4
Figure A20071012648400311
在式(VI)中，关于Ar5的结构，当k为0时它表示在Ar1～Ar4的说明中所例示的芳基；当k为1时，它表示消除预定氢原子而得到的亚芳基。
作为以式(I)表示的化合物的具体实例，可以举出如下所示的化合物(I-1)～(I-8)。以式(I)表示的化合物决不限于这些化合物。此外，在下列表中，没有显示取代基的键表示甲基。
表5
Figure A20071012648400321
作为以式(II)表示的化合物的具体实例，可以举出如下所示的化合物(II-1)～(II-17)。以式(II)表示的化合物决不限于这些化合物。此外，在下列表中，Me或没有显示取代基的键表示甲基，Et表示乙基。
表6
Figure A20071012648400331
表7
Figure A20071012648400341
表8
Figure A20071012648400351
作为以式(III)表示的化合物的具体实例，可以举出如下所示的化合物(III-1)～(III-18)。以式(III)表示的化合物决不限于这些化合物。此外，在下列表中，Me或没有显示取代基的键表示甲基，Et表示乙基。
表9
Figure A20071012648400361
表10
Figure A20071012648400371
表11
作为以式(IV)表示的化合物的具体实例，可以举出如下所示的化合物(IV-1)～(IV-13)。以式(IV)表示的化合物决不限于这些化合物。此外，在下列表中，Me或没有显示取代基的键表示甲基。
表12
Figure A20071012648400391
表13
Figure A20071012648400401
作为以式(V)表示的化合物的具体实例，可以举出如下所示的化合物(V-1)～(V-17)。以式(V)表示的化合物决不限于这些化合物。此外，在下列表中，Me或没有显示取代基的键表示甲基，Et表示乙基。
表14
Figure A20071012648400411
表15
Figure A20071012648400421
表16
Figure A20071012648400422
保护层7可包含选自由硅酮树脂、环氧树脂、丙烯酸树脂、酚醛树脂和三聚氰胺树脂组成的组的至少一种树脂，优选包含选自由环氧树脂、丙烯酸树脂和酚醛树脂组成的组的至少一种树脂，特别优选含有酚醛树脂的层。
当保护层7由具有苯酚结构的交联膜构成时，可以使用具有羟甲基的苯酚衍生物。
作为具有羟甲基的苯酚衍生物，可以举出单羟甲基苯酚、双羟甲基苯酚、三羟甲基苯酚、它们的混合物、它们的低聚物，以及这些单体和低聚物的混合物。该具有羟甲基的苯酚衍生物可通过使具有苯酚结构的以下化合物与甲醛、多聚甲醛等在酸催化剂或碱催化剂的存在下反应而获得，所述具有苯酚结构的化合物为例如间苯二酚、双酚等；具有一个羟基的取代苯酚，如苯酚、甲酚、二甲酚、对烷基苯酚和对苯基苯酚；具有两个羟基的取代苯酚，如邻苯二酚、间苯二酚和对苯二酚；双酚，如双酚A和双酚Z等；或联苯酚，还可以使用市售的酚醛树脂。附带提及，在说明书中，将包含约2～20个重复单元的相对较大的分子称为低聚物，而将比所述低聚物小的分子称为单体。
作为所述酸催化剂，可以使用硫酸、对甲苯磺酸、磷酸等。作为所述碱催化剂，可以使用碱金属或碱土金属的氢氧化物，例如NaOH、KOH、Ca(OH)2、Ba(OH)2等和胺催化剂。作为胺催化剂，可以举出但不限于氨、六亚甲基四胺、三甲胺、三乙胺、三乙醇胺等。
在上述树脂中，以酸催化剂合成的树脂通常称为酚醛清漆树脂，以碱催化剂合成的树脂通常称为甲阶型树脂，但由于酚醛清漆树脂的热塑性较低且难以获得具有高强度的保护层7，因此优选使用甲阶型树脂。
保护层7可以为用酸性催化剂(酸催化剂)固化的层。此外，所述酸催化剂可以为含硫的催化剂。
当使用碱性催化剂时，由于交联反应迅速进行，因此与下层的粘着性、重影和电学特性容易劣化。因而，优选的是用酸性物质中和或冲洗所述树脂，或通过与诸如硅胶等吸附剂或离子交换树脂接触而钝化，或除去酸性物质。作为酸性物质，可以举出盐酸、硫酸、乙酸、三氟乙酸、硝酸、磷酸等，这些酸可以溶解在水中，或适宜的溶剂，例如醇(如甲醇、乙醇等)中使用。此外，还可以使用固态的酸性物质，通过使用固态的酸性物质，可以控制残留的碱，此外，在以溶液状态进行搅拌和接触处理后固态的酸性物质易于通过过滤除去，因此可以确保高生产性，所以是最优选的。作为固态的酸性物质，可以举出离子交换树脂、具有与其表面键合的包含质子酸基团的基团的无机固体、包含质子酸基团的聚有机硅氧烷、杂多酸、同多酸、单金属氧化物、复合金属氧化物、粘土矿物、金属硫酸盐、金属磷酸盐和金属硝酸盐。这些固态酸性物质的具体实例如下所示。
作为离子交换树脂，可以举出Amberlite 15、Amberlite 200C和Amberlist 15(均由Rohm&Haas Co.制造)、Dowex MWC-1-H、Dowex 88和Dowex HCR-W2(均由Dow Chemical Company制造)、Lewatit SPC-100和Lewatit SPC-118(均由Bayer制造)；Diaion RCP-150H(由三菱化成社制造)；Sumikaion KC-470、Duolite C26-C、Duolite C-433和Duolite 464(均由住友化学社制造)；Nafion-H(由Du Pont Kabushiki Kaisha制造)；Purolite(由Ionex制造)。
作为具有与其表面键合的包含质子酸基团的基团的无机固体，可以举出Zr(O3PCH2CH2SO3H)2和Th(O3PCH2CH2COOH)2。作为包含质子酸基团的有机聚硅氧烷，可以举出具有磺酸基团的聚有机硅氧烷。
作为杂多酸，可以举出钴钨酸和磷钼酸。作为同多酸，可以举出铌酸、钽酸和钼酸。
作为单金属氧化物，可以举出硅胶、氧化铝、氧化铬、氧化锆、CaO和MgO。作为复合金属氧化物，可以举出二氧化硅-氧化铝、二氧化硅-氧化镁、二氧化硅-氧化锆和沸石。作为粘土矿物，可以举出酸性粘土、活性粘土、蒙脱石和高岭石。
作为金属硫酸盐，可以举出Li2SO4和MgSO4。作为金属磷酸盐，可以举出磷酸锆和磷酸镧。作为金属硝酸盐，可以举出LiNO3和Mn(NO3)2。
作为用酸性物质处理酚醛树脂的条件，以约1重量份～100重量份，优选约1重量份～10重量份的溶剂溶解1重量份酚醛树脂，并用足以中和残留的碱性物质的量(具体为在进行所需处理后能够使溶液的pH为约7.0以下的量)的酸性物质对所得溶液进行搅拌处理。为了从处理液中除去酸性物质，所述溶液还要进一步用水洗涤，或者酸性物质可仅通过过滤除去。处理时间为约1分钟～300分钟，温度为室温至约50℃。
保护层7可包含导电性颗粒以降低残余电势。作为导电性颗粒，可以举出金属、金属氧化物和炭黑，更优选金属和金属氧化物。作为金属，可以举出铝、锌、铜、铬、镍、银、不锈钢等，以及在表面上沉积有这些金属的塑料颗粒。作为金属氧化物，可以举出氧化锌、氧化钛、氧化锡、氧化锑、氧化铟、氧化铋、锡掺杂的氧化铟、锑或钽掺杂的氧化锡和锑掺杂的氧化锆。这些颗粒可以单独使用或两种或两种以上颗粒组合使用。当两种或两种以上导电性颗粒组合使用时，它们可以是简单混合或形成固溶体或熔融物。考虑到保护层7的透明性，导电性颗粒的平均粒径优选为约0.3μm以下，特别优选为约0.1μm以下。
此外，在形成保护层7时，催化剂可用于促进酚醛树脂的固化。作为所述催化剂，可以使用在室温或在加热后显示酸性的催化剂，考虑到粘着性、重影抑制和电学特性，优选有机磺酸和/或其衍生物。保护层7中的这些催化剂的存在根据XPS等可容易地确认。
作为有机磺酸和/或其衍生物，例如，可以举出对甲苯磺酸、二壬基萘磺酸(DNNSA)、二壬基萘二磺酸(DNNDSA)、十二烷基苯磺酸和苯酚磺酸。在这些化合物中，从催化能力和成膜性的观点考虑，优选对甲苯磺酸和十二烷基苯磺酸。此外，在形成保护层7时，如果有机磺酸盐在一定程度上可以解离，则它们可用于保护层形成用涂布液。
通过使用所谓的热潜性催化剂(当固化时被施加一定以上的温度时所述催化剂可提高催化性能)，催化性能在溶液的储存温度时较低而在固化时升高，因此兼具低固化温度和储存稳定性。
作为热潜性催化剂，例如，可以举出通过将有机磺酸化合物等包封在聚合物颗粒中而获得的微胶囊、通过将酸吸附在诸如沸石等多孔化合物等上而获得的材料、通过用碱封住质子酸和/或质子酸衍生物而获得的热潜性质子酸催化剂、通过用伯醇或仲醇酯化质子酸和/或质子酸衍生物而获得的材料、通过用乙烯基醚和/或乙烯基硫醚封住质子酸和/或质子酸衍生物而获得的材料、三氟化硼的一乙胺络合物、三氟化硼的吡啶络合物等。在这些热潜性催化剂中，考虑到催化性能、储存稳定性、可得性和成本时优选的是通过用碱封住质子酸和/或质子酸衍生物而获得的热潜性质子酸催化剂。
作为热潜性质子酸催化剂的质子酸的实例，可以举出硫酸、盐酸、乙酸、甲酸、硝酸、磷酸、磺酸、一元羧酸、多羧酸、丙酸、草酸、苯甲酸、丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、邻苯二甲酸、马来酸、苯磺酸、邻甲苯磺酸、间甲苯磺酸、对甲苯磺酸、对苯乙烯磺酸、二壬基萘磺酸、二壬基萘二磺酸、癸基苯磺酸、十一烷基苯磺酸、十三烷基苯磺酸、十四烷基苯磺酸和十二烷基苯磺酸。作为质子酸衍生物的实例，可以举出诸如磺酸或磷酸等质子酸的碱金属盐或碱土金属盐中和产物和其高分子链中引入质子酸骨架的高分子化合物(聚乙烯基磺酸等)。作为封锁质子酸的碱，可以举出胺类。
胺类分为伯胺、仲胺和叔胺，它们中的任一种都可用于本发明，对此不作具体限定。
作为伯胺，可以举出甲胺、乙胺、丙胺、异丙胺、正丁胺、异丁胺、叔丁胺、己胺、2-乙基己胺、仲丁基胺、烯丙胺和甲基己胺。
作为仲胺，可以举出二甲胺、二乙胺、二正丙胺、二异丙胺、二正丁胺、二异丁胺、二叔丁胺、二己胺、二(2-乙基己基)胺、N-异丙基-N-异丁胺、二仲丁胺、二烯丙基胺、N-甲基己胺、3-甲基哌啶、4-甲基哌啶、2，4-二甲基哌啶、2，6-二甲基哌啶、3，5-二甲基哌啶、吗啉和N-甲基苄胺。
作为叔胺，可以举出三甲胺、三乙胺、三正丙胺、三异丙胺、三正丁胺、三异丁胺、三叔丁胺、三己胺、三(2-乙基己基)胺、N-甲基吗啉、N，N-二甲基烯丙胺、N-甲基二烯丙胺、三烯丙胺、N，N-二甲基-烯丙胺、N，N，N′，N′-四甲基-1，2-二氨基乙烷、N，N，N′，N′-四甲基-1，3-二氨基丙烷、N，N，N′，N′-四烯丙基-1，4-二氨基丁烷、N-甲基哌啶、吡啶、4-乙基吡啶、N-丙基二烯丙基胺、3-二甲基氨基丙醇、2-乙基吡嗪、2，3-二甲基吡嗪、2，5-二甲基吡嗪、2，4-二甲基吡啶、2，5-二甲基吡啶、3，4-二甲基吡啶、3，5-二甲基吡啶、2，4，6-三甲基吡啶、2-甲基-4-乙基吡啶、2-甲基-5-乙基吡啶、N，N，N′，N′-四甲基六亚甲基二胺、N-乙基-3-羟基哌啶、3-甲基-4-乙基吡啶、3-乙基-4-甲基吡啶、4-(5-壬基)-吡啶、咪唑和N-甲基哌嗪。
作为所述热潜性催化剂的市售品，可以举出King Industries Inc.制造的“NACURE 2501”(甲苯磺酸解离，甲醇/异丙醇溶剂，pH：6.0～7.2，解离温度：80℃)、“NACURE 2107”(对甲苯磺酸解离，异丙醇溶剂，pH：8.0～9.0，解离温度：90℃)、“NACURE 2500”(对甲苯磺酸解离，异丙醇溶剂，pH：6.0～7.0，解离温度：65℃)、“NACURE 2530”(对甲苯磺酸解离，甲醇/异丙醇溶剂，pH：5.7～6.5，解离温度：65℃)、“NACURE2547”(对甲苯磺酸解离，水溶液，pH：8.0～9.0，解离温度：107℃)、“NACURE 2558”(对甲苯磺酸解离，乙二醇溶剂，pH：3.5～4.5，解离温度：80℃)、“NACURE XP-357”(对甲苯磺酸解离，甲醇溶剂，pH：2.0～4.0，解离温度：65℃)、“NACURE XP-386”(对甲苯磺酸解离，水溶液，pH：6.1～6.4，解离温度：80℃)、“NACURE XC-2211”(对甲苯磺酸解离，pH：7.2～8.5，解离温度：80℃)、“NACURE 5225”(十二烷基苯磺酸解离，异丙醇溶剂，pH：6.0～7.0，解离温度：120℃)、“NACURE5414”(十二烷基苯磺酸解离，二甲苯溶剂，解离温度：120℃)、“NACURE5528”(十二烷基苯磺酸解离，异丙醇溶剂，pH：7.0～8.0，解离温度：120℃)、“NACURE 5925”(十二烷基苯磺酸解离，pH：7.0～7.5，解离温度：130℃)、“NACURE 1323”(二壬基萘磺酸解离，二甲苯溶剂，pH：6.8～7.5，解离温度：150℃)、“NACURE 1419”(二壬基萘磺酸解离，二甲苯/甲基异丁基酮溶剂，解离温度：150℃)、“NACURE 1557”(二壬基萘磺酸解离，丁醇/2-丁氧基乙醇溶剂，pH：6.5～7.5，解离温度：150℃)、“NACURE X49-110”(二壬基萘磺酸解离，异丁醇/异丙醇溶剂，pH：6.5～7.5，解离温度：90℃)、“NACURE 3525”(二壬基萘磺酸解离，异丁醇/异丙醇溶剂，pH：7.0～8.5，解离温度：120℃)、“NACURE 383”(二壬基萘二磺酸解离，二甲苯溶剂，解离温度：120℃)、“NACURE 3327”(二壬基萘二磺酸解离，异丁醇/异丙醇溶剂，pH：6.5～7.5，解离温度：150℃)、“NACURE 4167”(磷酸解离，异丙醇/异丁醇溶剂，pH：6.8～7.3，解离温度：80℃)、“NACURE XP-297”(磷酸解离，水/异丙醇溶剂，pH：6.5～7.5，解离温度：90℃)和“NACURE 4575”(磷酸解离，pH：7.0～8.0，解离温度：110℃)。
这些热潜性催化剂可以单独使用，或者两种或两种以上组合使用。
热潜性催化剂的混和量相对于酚醛树脂溶液中的每100重量份固体成分优选为约0.01重量份～20重量份，更优选为约0.1重量份～10重量份。当添加量超过约20重量份时，焙烧处理后热潜性催化剂倾向于作为异物析出，而当所述量小于约0.01重量份时，催化活性容易降低。
保护层7中还可以包含其他偶联剂和氟化合物以调整所述膜的成膜性、可挠性、润滑性和粘着性。作为所述化合物，可以使用各种硅烷偶联剂和市售的硅酮硬涂布剂。
作为所述硅烷偶联剂，可以使用乙烯基三氯硅烷、乙烯基甲氧基硅烷、乙烯基乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷和二甲基二甲氧基硅烷。
作为市售的硅酮硬涂布剂，可以使用KP-85、X-40-9740、X-8239(均由“Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.，Silicone Division”制造)和AY42-440、AY42-441、AY49-208(均由Dow Corning制造)。
为赋予防水性，可以使用诸如(十三氟-1，1，2，2-四氢辛基)三乙氧基硅烷、(3，3，3-三氟丙基)三甲氧基硅烷、3-(七氟异丙氧基)丙基三乙氧基硅烷、1H，1H，2H，2H-全氟烷基三乙氧基硅烷、1H，1H，2H，2H-全氟癸基三乙氧基硅烷和1H，1H，2H，2H-全氟辛基三乙氧基硅烷等含氟化合物。
所述硅烷偶联剂可以以任意量使用。含氟化合物的量相对于无氟化合物优选为0.25倍以下。当使用量超过该范围时，则存在交联膜的成膜性出现问题的情况。
可以将可溶于醇溶剂中的树脂加入保护层7中以便改善对放电气体的耐受性、机械强度、耐刮擦性、颗粒分散性、粘度控制、减小扭矩、磨耗量控制和延长贮存期等。
作为可溶于醇溶剂中的树脂，可以举出聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚乙烯醇缩甲醛树脂、诸如其部分丁缩醛被甲缩醛或乙酰乙缩醛等改性的部分缩醛化的聚乙烯醇缩乙醛树脂等聚乙烯醇缩乙醛树脂(例如，Eslec B、K，由积水化学社制造)、聚酰胺树脂、纤维素树脂和聚乙烯基酚树脂。考虑到电学特性时，特别优选聚乙烯醇缩乙醛树脂和聚乙烯基酚树脂。
这些树脂的平均分子量优选为约2,000～100,000，更优选为约5,000～50,000。当树脂的分子量小于约2,000时，树脂的添加效果往往不足，而当分子量超过约100,000时，溶解度下降，因此树脂的添加量受到限制，进而在涂布时易于导致成膜不良。
树脂的添加量优选为约1重量％～40重量％，更优选为约1重量％～30重量％，进而更优选为约5重量％～20重量％。当树脂的添加量小于约1重量％时，树脂的添加效果往往不足，而当该添加量超过约40重量％时，在高温高湿环境下易于出现图像模糊。
保护层7可由包含上述各种材料与添加剂的保护层形成用涂布液来形成。保护层形成用涂布液可以在无溶剂的条件下制备，也可以根据需要使用各种溶剂而制备，所述溶剂的例子包括诸如甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等醇类；诸如丙酮、甲基乙基酮等酮类；或诸如四氢呋喃、乙醚、二噁烷等醚类。这些溶剂可以单独使用或者两种或两种以上组合使用，但优选使用具有的沸点为约100℃以下的溶剂。
溶剂的量可以任意设定。但当溶剂的量过小时，以式(I)～(V)中任一式表示的化合物容易沉淀，因此，相对于1重量份的化合物(I)、(II)、(III)、(IV)或(V)，溶剂的量优选为约0.5重量份～30重量份，更优选为约1重量份～约20重量份。
此外，包含上述各成分的保护层形成用涂布液可以通过简单混合或溶解来制备，也可以在室温至约100℃且优选约30℃～80℃，加热约10分钟～100小时且优选1小时～50小时来制备。此时，还优选进行超声波照射。通过用超声波进行照射，可能一部分反应会继续进行，涂布液变得均匀，易于得到均匀的没有涂膜缺陷的膜。
在将保护层形成用涂布液涂布在电荷输送层6上时，可以使用诸如刀涂法、线棒涂布法、喷涂法、浸涂法、线性喷涂法、气刀涂布法、幕涂法等常用方法。涂布后，将涂层干燥，由此形成保护层7。
当不能通过一次性涂布来获得所需的膜厚时，可以进行多次涂布以获得所需的膜厚。当进行多次再涂布时，可在每一次涂布后进行热处理，或在完成多次涂布操作后进行热处理。
对将保护层形成用涂布液中的固化性成分固化时的反应温度和反应时间不作具体限定，但考虑将要得到的树脂的机械强度和化学稳定性时，反应温度优选为约60℃以上，更优选为约80℃～200℃，反应时间优选为约10分钟～5小时。在希望实现有机层的特性的稳定化时，将通过固化涂布液而得到的有机层保持在高湿度条件下也是有效的。此外，得到的保护层7可以根据用途用六甲基二硅氮烷或三甲基氯硅烷进行表面处理而疏水化。
作为最外表面层的保护层7的厚度优选为约2μm以上，更优选为约2.5μm～10μm，进而更优选为约3μm～9μm。
抗氧化剂可以添加至保护层7中以防止由于诸如充电单元中生成的臭氧等氧化性气体而导致的劣化。当感光体表面的机械强度提高且感光体的寿命延长时，感光体可能与氧化性气体长期接触，因此需要比以前更强的抗氧化性。作为所述抗氧化剂，可以举出受阻酚类或受阻胺类，可以使用诸如有机硫类抗氧化剂、亚磷酸酯类抗氧化剂、二硫代氨基甲酸盐类抗氧化剂、硫脲类抗氧化剂和苯并咪唑类抗氧化剂等已知的抗氧化剂。所述抗氧化剂的添加量相对于保护层7中的固体物的总量优选为约20重量％以下，更优选为约10重量％以下。
作为受阻酚类抗氧化剂，可以举出2，6-二叔丁基-4-甲基苯酚、2，5-二叔丁基对苯二酚、N，N’-六亚甲基二(3，5-二叔丁基-4-羟基氢化肉桂酰胺)、3，5-二叔丁基-4-羟基-苯甲基膦酸-二乙酯、2，4-二[(辛基硫代)甲基]-邻甲酚、2，6-二叔丁基-4-乙基苯酚、2，2’-亚甲基二(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2’-亚甲基二(4-乙基-6-叔丁基苯酚)、4，4’-丁叉基二(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，5-二叔戊基对苯二酚、2-叔丁基-6-(3-丁基-2-羟基-5-甲基苯甲基)-4-甲基苯基丙烯酸酯、4，4’-丁叉基二(3-甲基-6-叔丁基苯酚)。
此外，为改善电子照相感光体表面的耐污染物附着性和润滑性，可以将各种颗粒加入至保护层7中。作为所述颗粒的一个例子，可以举出含硅颗粒。含硅颗粒是在构成元素中含有硅的颗粒，具体地可以举出胶态二氧化硅和硅酮颗粒。用作含硅颗粒的胶态二氧化硅选自包含体积平均粒径为约1nm～100nm，优选为约10nm～30nm的分散在酸性或碱性水性介质或诸如醇、酮或酯等有机溶剂中的二氧化硅的颗粒，也可以使用普通市售产品。尽管对保护层7中的胶态二氧化硅的固体含量不作具体限定，但从成膜性、电学特性和强度等方面考虑，其用量相对于保护层7中的固体物的总含量优选为约0.1重量％～50重量％，更优选为约0.1重量％～30重量％。
用作含硅颗粒的硅酮颗粒可以选自硅树脂颗粒、硅橡胶颗粒和表面用硅酮处理过的二氧化硅颗粒，也可使用普通市售颗粒。这些硅酮颗粒为球形，其平均粒径优选为约1nm～500nm，更优选为约10nm～100nm。所述硅酮颗粒是小粒径的化学惰性颗粒并具有在树脂中优异的分散性，而且用于获得足够特性所需的硅酮颗粒的含量很低，因此所述硅酮颗粒能够改善电子照相感光体的表面性质而不会妨碍交联反应。换言之，被引入牢固的交联结构中的硅酮颗粒可以改善电子照相感光体表面的润滑性和防水性，由此可以长期维持优异的耐磨耗性和耐污染物附着性。硅酮颗粒在保护层7中的含量相对于保护层7中的固体物的总量来说优选为约0.1重量％～30重量％，更优选为约0.5重量％～10重量％。
此外，作为其他颗粒，可以举出诸如四氟乙烯、三氯乙烯、六氟丙烯、乙烯基氟、偏二氟乙烯等的含氟颗粒；含有在第八届高分子材料论坛讲演予稿集(8th Polymer Material Forum)的第89页中所述的由氟树脂与含有羟基的单体共聚而得到的树脂的颗粒；和诸如ZnO-Al2O3、SnO2-Sb2O3、In2O3-SnO2、ZnO2-TiO2、ZnO-TiO2、MgO-Al2O3、FeO-TiO2、TiO2、SnO2、In2O3、ZnO、MgO等半导电性金属氧化物。
此外，出于相同的目的也可以添加诸如硅油等油类。作为所述硅油，可以举出诸如二甲基聚硅氧烷、二苯基聚硅氧烷、苯基甲基硅氧烷等硅油；诸如氨基改性的聚硅氧烷、环氧基改性的聚硅氧烷、羧基改性的聚硅氧烷、甲醇改性的聚硅氧烷、甲基丙烯酸改性的聚硅氧烷、巯基改性的聚硅氧烷、苯酚改性的聚硅氧烷等反应性硅油；诸如六甲基环三硅氧烷、八甲基环四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷、十二甲基环六硅氧烷等环状二甲基环硅氧烷；诸如1，3，5-三甲基-1，3，5-三苯基环三硅氧烷、1，3，5，7-四甲基-1，3，5，7-四苯基环四硅氧烷、1，3，5，7，9-五甲基-1，3，5，7，9-五苯基环五硅氧烷等环状甲基苯基环硅氧烷；诸如六苯基环三硅氧烷等环状苯基环硅氧烷；诸如3-(3，3，3-三氟丙基)甲基环三硅氧烷等含氟的环硅氧烷；诸如甲基氢化硅氧烷混合物、五甲基环五硅氧烷、苯基氢化环硅氧烷等含有氢甲硅烷基的环硅氧烷；诸如五乙烯基五甲基环五硅氧烷等含有乙烯基的环硅氧烷。
此外，作为图3中所示的电子照相感光体，当感光层3具有单层型感光层8时，单层型感光层8至少由电荷产生材料与粘合剂树脂形成。作为所述电荷产生材料，可以使用与用于功能分离型感光层中的电荷产生层5的电荷产生材料相同的材料，作为所述粘合剂树脂，可以使用与功能分离型感光层中的电荷产生层5和电荷输送层6的粘合剂树脂相同的粘合剂树脂。电荷产生材料在单层型感光层8中的含量相对于单层型感光层8中的固体物的总量来说优选为约10重量％～85重量％，更优选为约20重量％～50重量％。可以将电荷输送材料和高分子电荷输送材料添加至单层型感光层8中以改善电子照相特性等。可以使用与用于电荷输送层6的相同材料。电荷输送材料和高分子电荷输送材料的添加量相对于单层型感光层8中的固体物的总量来说优选为约5重量％～50重量％。涂布时所用的溶剂和涂布方法可以与电荷产生层5和电荷输送层6中的相同。单层型感光层8的厚度优选为约5μm～50μm，更优选为约10μm～40μm。
成像设备和处理盒
图4是显示本发明的成像设备的示例性实施方式的图。图4中所示的成像设备100包括安装在成像设备主体(未示出)上的配有电子照相感光体1的处理盒20、曝光单元30、转印单元40和中间转印介质50。在成像设备100中，第一曝光单元30配置在能够通过处理盒20的开口对电子照相感光体1进行曝光的位置，转印单元40配置在隔着中间转印介质50而与电子照相感光体1相对的位置，配置中间转印介质50使其与电子照相感光体1部分地接触。
处理盒20包括电子照相感光体1、充电单元21、显影单元25、清洁单元27和第二曝光单元29，它们通过装配轨道组合而一体化地配置在壳体中。在该壳体具有用于曝光的开口。
清洁单元27具有清洁刮刀27a(清洁部件)，配置清洁刮刀27a使其与电子照相感光体1的表面接触。此外，在成像设备100中，显示了在清洁刮刀27a的后面配置第二曝光单元29的例子，但是第二曝光单元29的位置也可以根据需要变化。此外，作为清洁单元27，显示了使用纤维状部件27b将润滑剂27c供应至感光体1的表面的例子，该部件也可以根据需要使用。附带提及，对纤维状部件27b的形状不作具体限定，例如，可以举出辊形和牙刷形等形状。
作为充电单元21，可以使用采用导电性或半导电性充电辊、充电刷、充电膜、充电橡胶刮刀和充电管等接触型充电器。另外，还可以使用在感光体1的附近使用充电辊的非接触型辊式充电器，和采用电晕放电的诸如栅网式电晕管充电器(Scorotron charger)和电晕管充电器等本身公知的充电器。
作为第一曝光单元30，例如，可以举出能够用诸如半导体激光束、LED(发光二极管)光、液晶光阀光等光线以所需的图像式曝光对感光体1的表面进行曝光的光学类设备。作为光源的波长，可以使用感光体1的光谱感光度区域内的波长。作为半导体激光束的波长，主要使用在780nm附近具有振动波长的近红外线，但是并不限于此，还可以使用在600nm处具有振动波长的激光和作为蓝色激光的在约400nm～450nm具有振动波长的激光。对于彩色成像，能够输出多光束的面发射型激光光源也是有效的。
作为第二曝光单元29，使用钨丝灯、卤素灯或冷阴极管经滤光片调整至所需波长的曝光单元，以及诸如半导体激光器、LED和有机EL等固体元件可用作光源。在这些手段中，使用半导体器件的装置可以用作光源，考虑到通断响应性、波长选择性、发光强度的控制性、小型化等时，特别优选使用LED。作为LED，例如，可以举出发光波长区域为410nm～530nm的E1L49-3B1A*-02、发光波长区域为430nm～560nm的E1L53-SC1A*-03、发光波长区域为450nm～600nm的E1L49-3G1A*-02和发光波长区域为590nm～700nm的E1L49-4ROA*-00(以上产品均由丰田合成社制造)。
在成像设备100中，感光体1的最外表面层(例如保护层7等)必须对第二曝光单元29的曝光光线有吸收。此外，在成像设备100中，在第二曝光单元29的曝光光线的全波长范围内电子照相感光体1的表面层的最大吸光度必须为约0.05以下。因此，应当确定第二曝光单元29的光源的种类和将要使用的电子照相感光体1的最外表面层的组成以满足这些条件。例如，对于具有包含上述组成的保护层7作为最外表面层的电子照相感光体1，第二曝光单元29的光源可以为能够照射约400nm～900nm的波长范围内的曝光光线的光源，更优选能够照射约400nm～800nm的波长范围内的曝光光线的光源。
这里，“在第二曝光单元的曝光光线的全波长范围内电子照相感光体的最外表面层的最大吸光度”的定义如图6中所示。即，如图6中所示，当绘制显示曝光光线的波长与最外表面层的吸光度的关系的吸光度曲线时，最大吸光度是指该曲线上的吸光度在第二曝光单元的曝光光线的波长范围内的最大值。此外，最外表面层不必在第二曝光单元的曝光光线的全波长范围内有吸收，在所述曝光光线的至少一部分波长区域内有吸收即可。
利用第二曝光单元29的曝光光线来抑制重影产生的机理仍不十分清楚，但可推测，第二曝光单元29的曝光光线被电子照相感光体1的最外表面层吸收，结果在最外表面层中产生电荷载流子，膜电阻降低因此易于释放残余电荷。因此，电子照相感光体1的最外表面层在第二曝光单元29的曝光光线的全波长范围内的最大吸光度必须为大于0且为约0.05以下，当最大吸光度过小时难以获得上述效果，而当最大吸光度过大时膜电阻过度降低，因而最大吸光度优选为0.001～0.047，更优选0.002～0.045。此外，当第二曝光单元29的光量过弱时，难以获得上述效果，而当光量过强时膜电阻过度降低，因而该光量优选为约20μW～5mW，更优选为约30μW～3mW。
第二曝光单元29的曝光可以在感光体1的成像的各循环中的恒定的条件(擦除曝光)下进行，也可以在成像循环前作为预曝光进行。此外，曝光可以在打印作业时进行，也可以任意设定，但预曝光与擦除曝光组合的曝光是特别有效的。
在进行擦除曝光时，必须在进行静电荷充电、第一曝光单元30的曝光、显影和转印后，以及在下一成像循环的静电荷充电前利用第二曝光单元29对感光体1进行曝光，更有效的是在利用清洁单元27清除残留调色剂后执行擦除曝光。
第二曝光单元29还可具有用于控制曝光光线的光量的控制器(第一控制器)。作为所述控制器，例如，可以举出根据预定条件或通过检测感光体的表面电势和循环数来控制外加电压和电流的控制器。通过设置该第一控制器，可以容易地将曝光光线的光量调整在上述范围内。
此外，第二曝光单元29可具有用于控制以曝光光线对电子照相感光体1进行不定期照射的控制器(第二控制器)。作为该控制器，例如，可以举出根据预定条件，或通过检测感光体的表面电势和循环数来控制曝光时间的控制器。通过设置该第二控制器，可对重影的产生进行最适宜的控制。
作为显影单元25，显影可以例如用通过使磁性或非磁性的单组分式显影剂或双组分式显影剂以与感光体1接触或不接触的方式进行显影的常用显影设备来进行。对所述显影单元25没有限定，只要该单元具有上述功能即可，并且所述单元可根据目的进行适宜选择。作为所述显影单元25，例如，可以举出具有利用刷或辊使单组分式显影剂或双组分式显影剂附着于感光体1的功能的公知显影设备。
用于显影单元25的调色剂如下所述。
考虑到获得高显影性、转印性和高画质时，用于成像设备100的调色剂具有的平均形状系数(ML2/A)优选为约100～150，更优选为约105～145，进而更优选为约110～140。调色剂具有的体积平均粒径优选为约3μm～12μm，更优选为约3.5μm～10μm，进而更优选为约4μm～9μm。通过使用满足所述平均形状系数和体积平均粒径条件的调色剂，可提高显影性和转印性，因此可获得所谓照片图像(picture image)的高品质图像。
在制造方法方面对调色剂不作具体限定，只要调色剂满足上述的平均形状系数和体积平均粒径即可，例如，可以使用由下列制造方法制造的调色剂：将粘合剂树脂、着色剂和防粘剂以及必要时的电荷控制剂等捏合、粉碎并分级的捏合粉碎法；利用机械冲击力或热能使由捏合粉碎法得到的颗粒改变形状的方法；将通过由粘合剂树脂的聚合性单体的乳液聚合而得到的分散液与着色剂和防粘剂以及必要时的电荷控制剂等的分散液混合、聚集并在加热下使其融合而获得调色剂颗粒的乳液聚合聚集法；将用于获得粘合剂树脂的聚合性单体与着色剂和防粘剂以及必要时的电荷控制剂等的溶液在水性溶剂中悬浮然后聚合的悬浮聚合法；和将粘合剂树脂、着色剂和防粘剂以及必要时的电荷控制剂等的溶液在水性溶剂中悬浮并造粒的溶解悬浮法。
此外，也可以使用其他公知方法，例如，使已聚集的颗粒附着于作为芯的根据上述方法得到的调色剂上，并加热使颗粒融合以使颗粒具有芯/壳结构的制造方法。附带提及，作为调色剂的制造方法，考虑到控制颗粒的形状和颗粒的粒度分布时，优选的是使用水性溶剂的悬浮聚合法、乳液聚合聚集法和溶解悬浮法，特别优选乳液聚合聚集法。
调色剂母颗粒包含粘合剂树脂、着色剂和防粘剂，以及必要时的二氧化硅和电荷控制剂。
用于调色剂母颗粒的粘合剂树脂的例子包括以下单体的均聚物和共聚物：诸如苯乙烯、氯苯乙烯等苯乙烯类；诸如乙烯、丙烯、丁烯、异丁烯等单烯烃类；诸如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、丁酸乙烯酯等乙烯基酯类；诸如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸十二烷基酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸十二烷基酯等α-亚甲基脂肪族单羧酸酯类；诸如甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、丁基乙烯基醚等乙烯基醚类；诸如甲基乙烯基酮、己基乙烯基酮、异丙烯基乙烯基酮等乙烯基酮类；以及通过二羧酸与二醇的共聚反应得到的聚酯树脂。
作为特别有代表性的树脂，还可以举出聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯酸烷基酯共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸烷基酯共聚物、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-马来酸酐共聚物、聚乙烯、聚丙烯、聚酯树脂。此外，还可以举出聚氨酯、环氧树脂、硅酮树脂、聚酰胺、改性松香、石蜡等。
作为着色剂，可以举出诸如磁铁矿、铁酸盐等磁性粉末；炭黑、苯胺蓝、Calucoyl蓝、铬黄、群青蓝、杜邦油红、喹啉黄、亚甲基蓝氯化物、酞菁蓝、孔雀绿草酸盐、灯黑、玫瑰红、C.I.颜料红48:1、C.I.颜料红122、C.I.颜料红57:1、C.I.颜料黄97、C.I.颜料黄17、C.I.颜料蓝15:1、C.I.颜料蓝15:3等典型例。
作为防粘剂，可以举出低分子量聚乙烯、低分子量聚丙烯、费托蜡(Fischer-Tropsch Wax)、褐煤蜡、巴西棕榈蜡、米蜡、小烛树蜡等典型例。
作为电荷控制剂，可以使用公知的电荷控制剂，还可以使用偶氮型金属络合物、水杨酸金属络合物和含有极性基团的树脂型电荷控制剂。当调色剂由湿法制造时，从控制离子强度和降低废水污染的角度考虑，优选使用几乎不溶于水的材料。调色剂可以是包含磁性材料的磁性调色剂或是不包含磁性材料的非磁性调色剂。
在显影单元25中使用的调色剂可以通过在亨舍尔混合机或V型混合机中将调色剂母颗粒与上述外部添加剂混合而制造。当调色剂母颗粒以湿法制造时，湿法外添也是可以的。
可以将润滑剂颗粒添加至显影单元25中使用的调色剂中。作为润滑剂颗粒，可以使用诸如石墨、二硫化钼、滑石、脂肪酸、脂肪酸的金属盐等固体润滑剂；诸如聚丙烯、聚乙烯、聚丁烯等低分子量聚烯烃；加热时显示软化点的硅酮；诸如油酰胺、芥子酰胺、蓖麻酰胺、硬脂酰胺等脂肪酰胺；诸如巴西棕榈蜡、米蜡、小烛树蜡、日本蜡、霍霍巴油等植物蜡；诸如蜂蜡等动物蜡；诸如褐煤蜡、地蜡、白地蜡、石蜡、微晶蜡、费托蜡等矿物和石油蜡；以及它们的改性产物。这些润滑剂颗粒可以单独使用或两种或两种以上组合使用。然而，优选使用体积平均粒径为约0.1μm～10μm的润滑剂颗粒，可以将具有这些化学结构的颗粒粉碎以使其粒径均匀。添加至调色剂中的润滑剂颗粒的量优选为约0.05重量％～2.0重量％，更优选为约0.1重量％～1.5重量％。
为了将电子照相感光体的表面上的附着物和劣化物除去，无机微粒、有机微粒和通过将无机微粒附着于有机微粒而得到的复合微粒可以添加至显影单元25中使用的调色剂中。
作为无机微粒，可以使用各种无机氧化物、氮化物和硼化物，例如二氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锆、钛酸钡、钛酸铝、钛酸锶、钛酸镁、氧化锌、氧化铬、氧化铈、氧化锑、氧化钨、氧化锡、氧化碲、氧化锰、氧化硼、碳化硅、碳化硼、碳化钛、氮化硅、氮化钛、氮化硼等。
此外，这些无机微粒可以用以下物质进行处理：诸如四丁基钛酸酯、四辛基钛酸酯、异丙基三异硬脂酰基钛酸酯、异丙基十三烷基苯磺酰基钛酸酯、二(二辛基焦磷酸酯)氧乙酸酯钛酸酯等钛偶联剂；和诸如γ-(2-氨基乙基)氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-(2-氨基乙基)氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(N-乙烯基苄基氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷盐酸盐、六甲基二硅氮烷、甲基三甲氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、异丁基三甲氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、邻甲基苯基三甲氧基硅烷、对甲基苯基三甲氧基硅烷等硅烷偶联剂。此外，还可以使用以硅油或诸如硬脂酸铝、硬脂酸锌、硬脂酸钙等高级脂肪酸金属盐进行了疏水化处理的无机微粒。
作为有机微粒，可以举出苯乙烯树脂颗粒、苯乙烯-丙烯酸酯树脂颗粒、聚酯树脂颗粒、聚氨酯树脂颗粒等。
这些微粒的体积平均粒径优选为约5nm～1,000nm，更优选为约5nm～800nm，进一步优选为约5nm～700nm。当体积平均粒径小于上述范围的下限值时，存在研磨能力不足的倾向，而当体积平均粒径高于上述范围的上限值时，电子照相感光体的表面易于发生损伤。还优选使上述颗粒和润滑剂颗粒的总添加量为约0.6重量％以上。
作为添加至调色剂中的其他无机氧化物，可使用初级粒径为约40nm以下的小粒径无机氧化物以控制粉末流动性、带电性质等，并优选添加粒径比所述小粒径无机氧化物大的无机氧化物以降低附着力和控制带电性质。可以使用公知的无机氧化物微粒，但优选组合使用二氧化硅与氧化钛以准确控制带电性质。通过对小粒径的无机颗粒的表面处理可以提高分散性，且粉末流动性的改善效果显著。可以使用诸如碳酸钙、碳酸镁等碳酸盐和诸如水滑石等无机矿物以除去放电精制物。
用于电子照相的彩色调色剂可以在与载体混合后使用，作为载体，可以使用铁粉、玻璃珠、铁酸盐粉末、镍粉以及在其表面上被覆有树脂的这些粉末。调色剂和载体的混合比可以适当确定。
作为转印单元40，可以举出使用诸如带、辊、膜、橡胶刮刀等的接触型转印充电器，和采用电晕放电的诸如电晕管充电器和栅网式电晕管充电器等本身公知的充电器。
作为中间转印单元50，可以使用具有半导电性的诸如聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚碳酸酯、聚芳酯、聚酯、橡胶等的带形物(中间转印带)。作为中间转印介质50的形状，除了带形物外还可以使用鼓形物。
成像设备100除了配有上述各单元以外还可以配有例如对感光体1进行光除电的光除电单元。
图5是显示本发明的成像设备的另一个示例性实施方式的图。成像设备110是安装有4个处理盒20的串联型全色成像设备。在成像设备110中，4个处理盒20在中间转印介质50上彼此并列地设置，并且成像设备110具有能够使每种颜色使用一个电子照相感光体的构成。除了成像设备110是串联型设备之外，成像设备110具有与成像设备100相同的构成。
在串联型成像设备110中，由于四个电子照相感光体1的电学特性得到稳定化，因此可以长期获得色平衡优异的画质。
实施例
以下将参考实施例和比较例对本发明进行更详细的描述，但本发明不限于这些实施例。
保护层用基底树脂1
准备酚醛树脂(PL-4852，群荣化学社制造)作为保护层用基底树脂1。
保护层用基底树脂2
准备烷基化的三聚氰胺树脂(MW-30HM，Sanwa Chemical Co.，Ltd.制造)作为保护层用基底树脂2。
保护层用基底树脂3
将500g苯酚、862g 35重量％的甲醛水溶液和5g三乙胺装入2升的烧瓶中，在氮气流下在80℃搅拌内容物6小时后，在减压下将水蒸馏除去。随后，将所得产物溶解在2,500g乙酸乙酯中，所得溶液用10ml 1N的盐酸中和，然后用水进行充分洗涤。将水层分离后，在减压下将溶剂蒸馏除去，得到775g酚醛树脂。将200g硅酮树脂(KP-854，信越化学社制造)加入300g酚醛树脂中由此获得作为保护层用基底树脂3的混合树脂。
保护层用基底树脂4
将50g双酚A环氧树脂(Epicote 828，Japan Epoxy Resin Co.，Ltd.制造)加入100g酚醛树脂(PL-4852，群荣化学社制造)中由此获得作为保护层用基底树脂4的混合树脂。
保护层用基底树脂5
准备丙烯酸树脂(KAYARAD TMPTA，日本化药社制造)作为保护层用基底树脂5。
感光体1：
底涂层的制造
将100重量份氧化锌(平均粒径：70nm，比表面积值：15m2/g，TAYCACORPORATION制造)与500重量份四氢呋喃搅拌混合，并向其中加入1.3重量份硅烷偶联剂(KBM503，信越化学社制造)，然后将反应混合物搅拌2小时。之后，在减压下将甲苯蒸馏除去，反应产物在120℃焙烧3小时，由此获得表面用硅烷偶联剂处理过的氧化锌。
使110重量份所得到的经表面处理的氧化锌与500重量份四氢呋喃搅拌混合，并向其中加入通过将0.6重量份茜素溶解在50重量份四氢呋喃中得到的溶液，将反应混合物在50℃搅拌5小时。之后，在减压下对附着有茜素的氧化锌进行过滤，并在减压下在60℃干燥，由此获得附着有茜素的氧化锌。
将60重量份附着有茜素的氧化锌、13.5重量份作为固化剂的封端异氰酸酯(Sumidule 3175，由Sumitomo Bayer Urethane Co.，Ltd.制造)和15重量份丁缩醛树脂(S-Lec BM-1，由积水化学社制造)溶解在85重量份甲基乙基酮中，将38重量份由此得到的溶液与25重量份甲基乙基酮混合，并在使用直径为1mm的玻璃珠的砂磨机中分散2小时，由此获得分散液。
将0.005重量份作为催化剂的二月桂酸二辛锡和40重量份硅酮树脂颗粒(Tospearl 145，由GE Toshiba Silicones制造)添加至所得的分散液中以获得底涂层形成用涂布液。将所述涂布液通过浸涂法涂布在直径30mm、长340mm且厚度1mm的铝基材上，并在170℃干燥40分钟从而形成厚度为18μm的底涂层。
电荷产生层的制造
将包含15重量份在其使用CuKα特征X射线的X射线衍射光谱中至少在7.3°、16.0°、24.9°和28.0°的布拉格角(2θ±0.2°)处具有衍射峰的作为电荷产生材料的羟基镓酞菁、10重量份作为粘合剂树脂的氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物树脂(VMCH，由Nippon Unicar Co.，Ltd.制造)和200重量份乙酸正丁酯的混合物在使用直径为1mm的玻璃珠的砂磨机中分散4小时。向得到的分散液中加入175重量份乙酸正丁酯和180重量份甲基乙基酮，对混合物进行搅拌以获得电荷产生层形成用涂布液。将所述涂布液通过浸涂法涂布在上述底涂层上，并在室温进行干燥，从而形成厚度为0.2μm的电荷产生层。
电荷输送层的制造
将45重量份N，N′-二苯基-N，N′-二(3-甲基苯基)-[1，1′]联苯基-4，4′-二胺和55重量份双酚Z聚碳酸酯树脂(粘均分子量：40,000)加入至800重量份氯苯中并溶解，由此获得电荷输送层形成用涂布液。将所述涂布液通过浸涂法涂布在上述电荷产生层上，并在130℃干燥45分钟，从而形成厚度为23μm的电荷输送层。
保护层的制造
将3重量份作为电荷输送材料的上面例示的化合物(III-17)、3重量份上述的基底树脂1、0.1重量份胶态二氧化硅(PL-1，扶桑化学工业社制造)、0.1重量份聚乙烯基酚树脂(PVP，重均分子量：约8,000，Aldrich制造)、5重量份异丙醇、5重量份甲基异丁基酮、0.2重量份3，5-二叔丁基-4-羟基甲苯(BHT)与0.2重量份NACURE 2500(King Industries Inc.制造)混合以制备保护层形成用涂布液。将所述涂布液通过浸涂法涂布在上述电荷输送层上，并在室温干燥30分钟，然后在150℃进行1小时加热处理以固化从而形成厚度为5μm的保护层，由此制造感光体1。
为测定该保护层的吸光度，通过重复与制备上述保护层相同的操作在玻璃制品(S-1112，Matsunami Glass Ind.，Ltd.制造)上制造厚度为50μm，即厚度为所述保护层的厚度的10倍的测定用保护层。用分光光度计(U-4000，日立社制造)测定所得到的测定用保护层在波长为400nm～800nm的范围内的吸光度，并根据保护层的实际膜厚5μm进行换算绘图。结果显示在图7中。
求得保护层对下列各光源的最大吸光度，所述光源为：作为光源1的发光波长区域为410nm～530nm的光源(E1L49-3B1A*-02，由丰田合成社制造)、作为光源2的发光波长区域为430nm～560nm的光源(E1L53-SC1A*-03，由丰田合成社制造)、作为光源3的发光波长区域为450nm～600nm的光源(E1L49-3G1A*-02，由丰田合成社制造)和作为光源4的发光波长区域为590nm～700nm的光源(E1L49-4ROA*-00，由丰田合成社制造)。结果显示在下面的表17中。
感光体2
直到制造电荷输送层为止，重复与感光体1中相同的步骤。然后，将3重量份作为电荷输送材料的例示的化合物(I-3)、3重量份上述的基底树脂2、0.3重量份聚乙烯基酚树脂(PVP，重均分子量：约8,000，Aldrich制造)、5重量份异丙醇、5重量份甲基异丁基酮、0.1重量份3，5-二叔丁基-4-羟基甲苯(BHT)与0.2重量份NACURE 2500(King Industries Inc.制造)混合以制备保护层形成用涂布液。除了使用所述涂布液之外以与感光体1的制备相同的方法形成厚度5μm的保护层并制造感光体2。以与感光体1相同的方式测定所述保护层对各光源的吸收，所得结果显示在下面的表17中。
感光体3
直到制造电荷输送层为止，重复与感光体1中相同的步骤。然后，将3重量份作为电荷输送材料的例示的化合物(II-5)、3重量份上述的基底树脂1、0.1重量份胶态二氧化硅(PL-1，扶桑化学工业社制造)、5重量份异丙醇、5重量份甲基异丁基酮与0.2重量份NACURE 2500(KingIndustries Inc.制造)混合以制备保护层形成用涂布液。除了使用所述涂布液之外以与感光体1的制备相同的方法形成厚度5μm的保护层并制造感光体3。以与感光体1相同的方式测定所述保护层对各光源的吸收，所得结果显示在下面的表17中。
感光体4
直到制造电荷输送层为止，重复与感光体1中相同的步骤。然后，将3重量份作为电荷输送材料的例示的化合物(II-13)、3重量份上述的基底树脂3、5重量份异丙醇、5重量份甲基异丁基酮与0.1重量份NACURE2500(King Industries Inc.制造)混合以制备保护层形成用涂布液。除了使用所述涂布液之外以与感光体1的制备相同的方法形成厚度4μm的保护层并制造感光体4。以与感光体1相同的方式测定所述保护层对各光源的吸收，所得结果显示在下面的表17中。
感光体5
直到制造电荷输送层为止，重复与感光体1中相同的步骤。然后，将3重量份作为电荷输送材料的例示的化合物(IV-4)、3重量份上述的基底树脂1、5重量份异丙醇、5重量份甲基异丁基酮与0.2重量份NACURE2500(King Industries Inc.制造)混合以制备保护层形成用涂布液。除了使用所述涂布液之外以与感光体1的制备相同的方法形成厚度4μm的保护层并制造感光体5。以与感光体1相同的方式测定所述保护层对各光源的吸收，所得结果显示在下面的表17中。
感光体6
直到制造电荷输送层为止，重复与感光体1中相同的步骤。然后，将3重量份作为电荷输送材料的例示的化合物(III-8)、3重量份上述的基底树脂4、5重量份异丙醇、5重量份甲基异丁基酮与0.1重量份NACURE2500(King Industries Inc.制造)混合以制备保护层形成用涂布液。除了使用所述涂布液之外以与感光体1的制备相同的方法形成厚度5μm的保护层并制造感光体6。以与感光体1相同的方式测定所述保护层对各光源的吸收，所得结果显示在下面的表17中。
感光体7
直到制造电荷输送层为止，重复与感光体1中相同的步骤。然后，将3重量份作为电荷输送材料的例示的化合物(V-4)、3重量份上述的基底树脂1、0.1重量份胶态二氧化硅(PL-1，扶桑化学工业社制造)、0.1重量份聚乙烯基酚树脂(PVP，重均分子量：约8,000，Aldrich制造)、5重量份异丙醇、5重量份甲基异丁基酮与0.2重量份NACURE 2500(KingIndustries Inc.制造)混合以制备保护层形成用涂布液。除了使用所述涂布液之外以与感光体1的制备相同的方法形成厚度6μm的保护层并制造感光体7。以与感光体1相同的方式测定所述保护层对各光源的吸收，所得结果显示在下面的表17中。
感光体8
直到制造电荷输送层为止，重复与感光体1中相同的步骤。然后，将3重量份作为电荷输送材料的例示的化合物(V-6)、3重量份上述的基底树脂4、0.2重量份胶态二氧化硅(PL-1，扶桑化学工业社制造)、5重量份异丙醇、5重量份甲基异丁基酮与0.1重量份NACURE 2500(KingIndustries Inc.制造)混合以制备保护层形成用涂布液。除了使用所述涂布液之外以与感光体1的制备相同的方法形成厚度5μm的保护层并制造感光体8。以与感光体1相同的方式测定所述保护层对各光源的吸收，所得结果显示在下面的表17中。
感光体9
直到制造电荷输送层为止，重复与感光体1中相同的步骤。然后，将3重量份上述的基底树脂5、3重量份作为电荷输送材料的例示的化合物(II-10)、0.5重量份Irgacure 184(Ciba Specialty Chemicals Inc.制造)、0.1重量份NACURE 2500(King Industries Inc.制造)、30重量份四氢呋喃与10重量份丁醇混合以制备保护层形成用涂布液。所述涂布液通过浸涂法涂布在上述电荷输送层上，在室温干燥30分钟，然后在感光体的转速为10rpm的条件下用金属卤化物灯(200W，照射距离：120mm，照射强度：650mW/cm2)固化120秒。之后，固化反应在150℃继续进行30分钟以形成厚度为4μm的保护层，由此制造感光体9。以与感光体1相同的方式测定所述保护层对各光源的吸收，所得结果显示在下面的表17中。
实施例1
将由此制造的感光体1安装在DocuCentre Color 400CP(富士施乐株式会社制造)上。作为第二曝光单元，将上述光源3(E1L49-3G1A*-02)安装在清洁单元与充电单元之间以在感光体上5mm的宽度内以200μW的曝光强度在每一成像循环中进行恒定曝光(擦除曝光，可视为曝光方法1)。因此，获得实施例1中的成像设备。
图像品质的评价：
在低温低湿(10℃和20％相对湿度)和高温高湿(30℃，85％相对湿度)环境中进行下述评价。首先，在低温低湿(10℃和20％相对湿度)环境中，进行10页连续成像测试，评价第10页图像的重影、图像浓度和条纹。之后，在同样的环境中进行10,000页的成像测试，评价第10,000页图像的重影、图像浓度、条纹和劣化，并与第10页图像进行对比。所得结果显示在下面的表18中。此外，测定10,000页成像测试后膜厚的减少量(磨耗量)。
在高温高湿(30℃，85％相对湿度)环境中进行相同的测试，评价重影、图像浓度、条纹和图像劣化。所得结果显示在下面的表18中。
重影的评价：
如图8A～8D中所示，印刷具有字母G和黑色区域的图案，目视评价字母G在黑色实心部分所显示的外观状态。
A：如图8A中所示的良好至轻微重影。
B：如图8B中所示的略为显眼。
C：如图8C中所示的明确确认。
图像浓度的评价：
图像浓度的评价如下进行：设定在第一页上能够获得浓度为20％的图像，然后目测第10页和第10,000页的图像浓度并进行判断。
A：相同浓度。
B：浓度略有下降。
C：浓度明显降低。
条纹的评价：
使用与重影评价相同的图，目视判断条纹。
A：良好。
B：部分地观察到条纹的发生。
C：图像品质中产生条纹问题。
图像劣化的评价：
使用与重影评价相同的图，目视判断图像劣化。
A：良好。
B：在连续印刷测试中没有问题，但在印刷10,000页后和放置一天(24小时)后发生图像劣化。
C：连续印刷时发生图像劣化。
实施例2
在实施例1中，在10页的初期印刷之前，在100转的过程中用第二曝光单元对感光体预先进行预曝光，之后在感光体上5mm的宽度内以200μW的曝光强度在每一成像循环中进行恒定曝光(预曝光+擦除曝光，可视为曝光方法2)。除了上述情况外以与实施例1中相同的方法获得实施例2中的成像设备。以与实施例1中相同的方式对得到的成像设备进行图像品质的评价测试。获得的结果显示在表18中。
实施例3～17和比较例1～9
以与实施例1中相同的方法制造实施例3～17和比较例1～9的成像设备并进行图像品质的评价测试，不同之处在于如表18中所示改变感光体、曝光光源、曝光强度和曝光方法的组合。获得的结果显示在表18中。
Figure A20071012648400691
提供对本发明的示例性实施方式的前述描述是为了说明和描述的目的。并非试图穷尽本发明所披露的精确形式或将本发明限制于所披露的精确形式。显然，许多改进和变化对于本领域技术人员是显而易见的。选择并描述示例性实施方式是为了能够最好地解释本发明的原理及其实际用途，由此使得本领域的其他技术人员能够理解预计适用于特定用途的本发明的各种实施方式和各种改进方案。本发明的范围由所述的权利要求及其等同物所限定。

Claims (15)

1.一种成像设备，所述成像设备包括：
电子照相感光体，所述电子照相感光体包括导电性支持体和感光层，所述感光层包含能够输送电荷的最外表面层，所述最外表面层离所述导电性支持体最远并包含具有交联结构的树脂；
充电单元，所述充电单元对所述电子照相感光体进行充电；
第一曝光单元，所述第一曝光单元对所述电子照相感光体进行曝光从而在带电的所述电子照相感光体上形成静电潜像；
显影单元，所述显影单元利用调色剂使所述静电潜像显影从而形成调色剂图像；
转印单元，所述转印单元将所述调色剂图像从所述电子照相感光体转印至被转印介质；和
第二曝光单元，所述第二曝光单元对所述电子照相感光体进行均匀曝光，
所述电子照相感光体的所述最外表面层吸收所述第二曝光单元的曝光光线，并在所述第二曝光单元的曝光光线的全波长范围内具有约0.05以下的最大吸光度。
2.如权利要求1所述的成像设备，其中，所述最大吸光度大于0且为约0.05以下。
3.如权利要求1所述的成像设备，其中，所述最大吸光度为0.001～0.047。
4.如权利要求1所述的成像设备，其中，所述最大吸光度为0.002～0.045。
5.如权利要求1所述的成像设备，其中，所述第二曝光单元包括具有半导体元件的光源。
6.如权利要求1所述的成像设备，其中，所述第二曝光单元具有控制所述曝光光线的光量的控制器。
7.如权利要求1所述的成像设备，其中，所述第二曝光单元具有控制器，所述控制器对所述曝光光线的照射进行控制，从而用所述曝光光线不定期地照射所述电子照相感光体。
8.如权利要求1所述的成像设备，其中，所述最外表面层具有约2μm以上的厚度。
9.如权利要求1所述的成像设备，其中，所述具有交联结构的树脂包含选自由硅树脂、环氧树脂、丙烯酸树脂、酚醛树脂和三聚氰胺树脂组成的组中的至少一种树脂。
10.如权利要求1所述的成像设备，其中，所述最外表面层包含电荷输送材料。
11.如权利要求10所述的成像设备，其中，所述电荷输送材料包括选自由下式(I)～(V)表示的化合物的至少一种化合物：
所述式(I)是：
F[-(X1)n1R1-CO2H]m1    (I)，
其中，F表示来自能够输送空穴的化合物的有机基团；R1表示亚烷基；X1表示氧原子或硫原子；m1表示1～4的整数；n1表示0或1，
所述式(II)是：
F[-(X2)n2-(R2)n3-(Z2)n4G]n5    (II)，
其中，F表示来自能够输送空穴的化合物的有机基团；X2表示氧原子或硫原子；R2表示亚烷基；Z2表示亚烷基、氧原子、硫原子、NH或COO；G表示氢原子、环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基或具有烷氧基二甲苯基的一价基团；n2、n3和n4各自表示0或1；n5表示1～4的整数，
所述式(III)是：
Figure A2007101264840003C1
其中，F表示来自能够输送空穴的化合物的有机基团；T表示二价基团；Y表示氧原子或硫原子；R3、R4和R5各自独立地表示氢原子或一价有机基团；R6表示一价有机基团；m2表示0或1；n6表示1～4的整数；而且R5和R6不键合，或彼此键合以形成包含Y作为杂原子的杂环，
所述式(IV)是：
Figure A2007101264840004C1
其中，F表示来自能够输送空穴的化合物的有机基团；T表示二价连接基团；R7表示一价有机基团；m3表示0或1；n7表示1～4的整数，
所述式(V)是：
Figure A2007101264840004C2
其中，F表示来自能够输送空穴的化合物的有机基团；R8表示一价有机基团；L表示亚烷基；n8表示1～4的整数。
12.如权利要求1所述的成像设备，其中，所述最外表面层是用酸性催化剂固化的层。
13.如权利要求12所述的成像设备，其中，所述酸性催化剂是含硫的催化剂。
14.如权利要求1所述的成像设备，所述成像设备还包括一种处理盒，所述处理盒一体地具有所述电子照相感光体以及选自由下列单元组成的组的至少一种单元：所述充电单元；所述第二曝光单元；所述显影单元；和清洁单元，所述清洁单元将所述电子照相感光体上残留的调色剂除去，所述处理盒能够从所述成像设备的主体上自由拆卸。
15.一种处理盒，所述处理盒包括：
电子照相感光体，所述电子照相感光体包括导电性支持体和感光层，所述感光层包含能够输送电荷的最外表面层，所述最外表面层离所述导电性支持体最远并包含具有交联结构的树脂；和
曝光单元，所述曝光单元对所述电子照相感光体进行均匀曝光，
所述电子照相感光体的所述最外表面层吸收所述曝光单元的曝光光线，并在所述曝光光线的全波长范围内具有约0.05以下的最大吸光度。
CN2007101264844A 2006-10-16 2007-06-18 成像设备及处理盒 Expired - Fee Related CN101165605B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006281791A JP2008096923A (ja) 2006-10-16 2006-10-16 画像形成装置及びプロセスカートリッジ
JP2006281791 2006-10-16
JP2006-281791 2006-10-16

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101165605A true CN101165605A (zh) 2008-04-23
CN101165605B CN101165605B (zh) 2010-06-02

Family

ID=39303219

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2007101264844A Expired - Fee Related CN101165605B (zh) 2006-10-16 2007-06-18 成像设备及处理盒

Country Status (3)

Country Link
US (1) US8055153B2 (zh)
JP (1) JP2008096923A (zh)
CN (1) CN101165605B (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101846896B (zh) * 2009-03-27 2013-04-24 富士施乐株式会社 电子照相感光体、处理盒和图像形成设备
CN107490939A (zh) * 2016-06-13 2017-12-19 富士施乐株式会社 电子照相感光体、处理盒和图像形成设备
CN110554583A (zh) * 2018-05-31 2019-12-10 佳能株式会社 处理盒和电子照相设备
US20200095457A1 (en) * 2014-03-28 2020-03-26 Swimc Llc Polyester coating compositions containing polymers derived from cyclic carbonates
US11213976B2 (en) 2016-12-22 2022-01-04 Illumina, Inc. Imprinting apparatus

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8679709B2 (en) * 2007-06-28 2014-03-25 Fuji Xerox Co., Ltd. Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, image forming apparatus, and film forming coating solution
JP4618311B2 (ja) 2008-03-19 2011-01-26 富士ゼロックス株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置
JP5428574B2 (ja) * 2009-06-26 2014-02-26 富士ゼロックス株式会社 電子写真感光体、画像形成装置、およびプロセスカートリッジ
JP2011008117A (ja) * 2009-06-26 2011-01-13 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置
US8367285B2 (en) * 2009-11-06 2013-02-05 Xerox Corporation Light shock resistant overcoat layer
US9532059B2 (en) 2010-10-05 2016-12-27 Google Technology Holdings LLC Method and apparatus for spatial scalability for video coding

Family Cites Families (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3123185B2 (ja) 1991-04-22 2001-01-09 富士ゼロックス株式会社 クロロガリウムフタロシアニンの新規な結晶、その新規な結晶よりなる光導電材料及びそれを用いた電子写真感光体
DE2220652C3 (de) * 1972-04-27 1975-04-17 Roland Offsetmaschinenfabrik Faber & Schleicher Ag, 6050 Offenbach Vorrichtung zum Befestigen von Druckplatten auf dem Plattenzylinder einer Rotationsdruckmaschine
JPH1087627A (ja) * 1990-01-08 1998-04-07 Hitachi Ltd トリフェニルアミン誘導体
JPH04189873A (ja) 1990-11-22 1992-07-08 Fuji Xerox Co Ltd オキシチタニウムフタロシアニン水和物結晶及びそれを用いた電子写真感光体
JP3166293B2 (ja) 1991-04-26 2001-05-14 富士ゼロックス株式会社 ヒドロキシガリウムフタロシアニンの新規な結晶、その新規な結晶よりなる光導電材料およびそれを用いた電子写真感光体
JP3092270B2 (ja) 1991-11-15 2000-09-25 富士ゼロックス株式会社 新規なジクロロスズフタロシアニン結晶の製造方法及びその結晶を用いた電子写真感光体
JPH0543823A (ja) 1991-08-12 1993-02-23 Fuji Resin Kogyo Kk 導電性コーテイング材
JP3123184B2 (ja) 1991-09-27 2001-01-09 富士ゼロックス株式会社 ジクロロスズフタロシアニンの新規な結晶とその製造方法、およびそれを用いた電子写真感光体
JP3166283B2 (ja) 1992-03-31 2001-05-14 富士ゼロックス株式会社 ヒドロキシガリウムフタロシアニンの新規な結晶の製造方法
DE4214394C2 (de) * 1992-04-30 1998-08-20 Asea Brown Boveri Antriebsvorrichtung für eine längswellenlose Rotationsdruckmaschine
DE4225949C2 (de) * 1992-08-06 1994-10-13 Roland Man Druckmasch Vorrichtung zum Befestigen einer biegsamen Druckplatte
JP3287678B2 (ja) 1992-12-28 2002-06-04 キヤノン株式会社 電子写真感光体、該電子写真感光体を有する電子写真装置及び装置ユニット
JP3460285B2 (ja) * 1993-12-28 2003-10-27 京セラミタ株式会社 画像形成装置
US5534980A (en) * 1994-05-31 1996-07-09 Mita Industrial Co., Ltd. Electrophotographic image forming apparatus having a charge removing means
JP3257910B2 (ja) * 1994-10-13 2002-02-18 京セラミタ株式会社 電子写真法
JP2894257B2 (ja) 1994-10-24 1999-05-24 富士ゼロックス株式会社 新規電荷輸送性ポリマー、その製造法およびそれを用いた有機電子デバイス
JP2865029B2 (ja) 1994-10-24 1999-03-08 富士ゼロックス株式会社 電荷輸送性ポリエステルを用いた有機電子デバイス
DE4440239C5 (de) * 1994-11-10 2007-11-22 Man Roland Druckmaschinen Ag Wälzelement zum Andrücken einer flexiblen Druckplatte an den Formzylinder
EP0716536B1 (en) * 1994-12-07 2001-10-24 Canon Kabushiki Kaisha Image forming apparatus and process cartridge
EP0852538B1 (de) * 1995-09-28 1999-05-19 Siemens Aktiengesellschaft Wellenlose rotationsdruckmaschine
DE29600845U1 (de) * 1996-01-19 1996-03-07 MAN Roland Druckmaschinen AG, 63075 Offenbach Vorrichtung zum Befestigen einer Bespannung auf einem Druckwerkzylinder
DE19720952C2 (de) * 1997-05-17 2001-02-01 Roland Man Druckmasch Schwenkbarer, durch einen elektrischen Einzelantrieb angetriebener Zylinder
EP0882587B1 (de) * 1997-06-02 2003-07-23 Maschinenfabrik Wifag Registerhaltige Abstimmung von Druckzylindern einer Rollenrotationsmaschine
JP4011790B2 (ja) 1998-06-12 2007-11-21 キヤノン株式会社 電子写真感光体の製造方法
JP3755856B2 (ja) 1998-06-26 2006-03-15 キヤノン株式会社 電子写真感光体
JP3740389B2 (ja) 2000-06-21 2006-02-01 キヤノン株式会社 電子写真感光体、電子写真装置およびプロセスカートリッジ
US6830858B2 (en) * 2001-06-27 2004-12-14 Ricoh Company, Ltd. Electrophotographic photosensitive member, preparation method thereof, image forming process, apparatus and process cartridge using the same
KR100503076B1 (ko) * 2002-11-28 2005-07-21 삼성전자주식회사 오버코트층 형성용 조성물 및 이를 채용한 유기감광체
US6768888B1 (en) * 2003-01-15 2004-07-27 Xerox Corporation Method and apparatus for attenuating effects of positive over-spray on photoreceptor
JP4410691B2 (ja) 2004-01-19 2010-02-03 株式会社リコー 電子写真感光体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ
JP2005284262A (ja) * 2004-03-04 2005-10-13 Fuji Xerox Co Ltd 画像形成方法および画像形成装置
JP2006010972A (ja) * 2004-06-24 2006-01-12 Ricoh Co Ltd 像担持体及びプロセスカートリッジ、並びに画像形成装置及び画像形成方法
JP2006259063A (ja) * 2005-03-16 2006-09-28 Ricoh Co Ltd 画像形成装置及び画像形成方法
JP2006267652A (ja) * 2005-03-24 2006-10-05 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置
JP2007133344A (ja) * 2005-03-28 2007-05-31 Fuji Xerox Co Ltd 電荷輸送性化合物、電子写真感光体、画像形成装置及びプロセスカートリッジ
US7764906B2 (en) * 2005-06-24 2010-07-27 Ricoh Company, Ltd. Image forming apparatus and image forming method

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101846896B (zh) * 2009-03-27 2013-04-24 富士施乐株式会社 电子照相感光体、处理盒和图像形成设备
US20200095457A1 (en) * 2014-03-28 2020-03-26 Swimc Llc Polyester coating compositions containing polymers derived from cyclic carbonates
CN107490939A (zh) * 2016-06-13 2017-12-19 富士施乐株式会社 电子照相感光体、处理盒和图像形成设备
US11213976B2 (en) 2016-12-22 2022-01-04 Illumina, Inc. Imprinting apparatus
TWI823844B (zh) * 2016-12-22 2023-12-01 美商伊路米納有限公司 壓印設備、形成工作標記之方法、及使用此類工作標記之方法
CN110554583A (zh) * 2018-05-31 2019-12-10 佳能株式会社 处理盒和电子照相设备
CN110554583B (zh) * 2018-05-31 2024-04-02 佳能株式会社 处理盒和电子照相设备

Also Published As

Publication number Publication date
JP2008096923A (ja) 2008-04-24
US8055153B2 (en) 2011-11-08
CN101165605B (zh) 2010-06-02
US20080089712A1 (en) 2008-04-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101165605B (zh) 成像设备及处理盒
CN101276163B (zh) 电子照相感光体、处理盒、成像装置和涂料组合物
CN101539727B (zh) 电子照相感光体、处理盒和成像设备
CN101334593B (zh) 电子照相感光体、处理盒、成像装置和成膜用涂布液
CN102122122B (zh) 电子照相感光体及其制造方法、处理盒和图像形成设备
JP4900413B2 (ja) 画像形成装置、及びプロセスカートリッジ
JP3937836B2 (ja) 電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置
CN101840168B (zh) 电子照相感光体、处理盒和图像形成设备
CN103105755A (zh) 成像装置
CN101846896B (zh) 电子照相感光体、处理盒和图像形成设备
JP4905228B2 (ja) 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置
JP2010122583A (ja) 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置
CN101846895A (zh) 单层型电子照相感光体和图像形成装置
CN103309182A (zh) 电子照相感光体、处理盒、图像形成设备和图像形成方法
JP2006163302A (ja) 画像形成装置及び画像形成方法
CN102707590B (zh) 电子照相感光体、图像形成设备和处理盒
CN102998920A (zh) 电子照相感光体及其制造方法、图像形成设备和处理盒
CN100495220C (zh) 电荷传输性化合物、电子照相感光体、成像设备以及处理盒
JP2005284262A (ja) 画像形成方法および画像形成装置
US7095974B2 (en) Image forming method using recycled toner
CN101211149B (zh) 成像设备
JP2007191646A (ja) コーティング剤組成物、電子写真感光体、画像形成装置及びプロセスカートリッジ
JP2007171291A (ja) 電子写真感光体及びその製造方法、画像形成装置、プロセスカートリッジ
JP2016184036A (ja) 画像形成装置
JP2010191171A (ja) 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20100602

Termination date: 20170618

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee