JP2003186219A - 電子写真感光体及びその製造方法、プロセスカートリッジ、並びに電子写真装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 接触帯電装置と共に用いた場合であってもカ
ブリ等の画質欠陥を生じることなく良好な画像品質を得
ることが可能な電子写真感光体及びその製造方法、並び
にその電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジ及
び電子写真装置を提供すること。 【解決手段】 本発明の電子写真感光体は、導電性基体
１１と感光層１６との間に、金属酸化物微粒子及び結着
樹脂を含有し、２８℃、８５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍの電
場を印可したときの体積抵抗が１０⁸〜１０¹³Ω・ｃｍ
であり、１５℃、１５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍの電場を印
可したときの体積抵抗が２８℃、８５％ＲＨで１０⁶Ｖ
／ｍの電場を印可したときの体積抵抗の５００倍以下で
ある中間層１２を備えることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真感光体及
びその製造方法、プロセスカートリッジ、並びに電子写
真装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】電子写真方式は、高速で高品質の印字が
可能であることから、複写機、レーザービームプリンタ
ー等の電子写真装置において利用されている。このよう
な電子写真装置に用いられる感光体としては、近年、光
導電性の有機材料を用いた有機感光体が主流となってい
る。また、感光体の構成も、電荷発生材料と電荷輸送材
料とを別個の層（電荷発生層、電荷輸送層）に分散した
機能分離型感光体へと変遷している。

【０００３】このような機能分離型感光体の場合、基体
から感光層への電荷の注入の防止等を目的として、基体
と感光層との間に下引き層を形成する場合が多い。そし
て、感光体の繰り返し安定性や環境安定性等の特性が電
荷発生層や電荷輸送層のみならず下引き層の物性にも依
存するため、繰り返し使用による電荷蓄積性の少ない下
引き層が要求されている。また、画質欠陥の防止の点で
下引き層の役割は大きく、基体の欠陥や汚れ、あるいは
電荷発生層等上層の塗膜欠陥やむらに起因する画質欠陥
を抑制するために下引き層を設けることは非常に有効で
ある。

【０００４】ところで、近年、電子写真装置の帯電装置
としてはコロトロンに代わりオゾン発生が少ない接触帯
電方式の帯電装置が用いられるようになっているが、接
触帯電装置を用いた場合には感光体の帯電状態が不均一
となりやすい。また、感光体に局所的な劣化部が存在す
ると、接触帯電時に局所的な高電場が劣化部に加わって
電気的なピンホールを生じ、これが画質欠陥となりやす
くなる。このピンホールリークは感光層の塗膜欠陥によ
り発生する場合もあるが、それ以外に電子写真装置内か
ら発生した導電性の異物（カーボンファイバー、キャリ
ア粉等）が感光体中に接触又は感光体中に貫入して接触
帯電装置と感光体基体との導電路を形成しやすくなって
いるために生じる場合もある。

【０００５】そこで、接触帯電装置の使用に伴う上記の
現象を回避すべく、下引き層の構成材料や物性に関する
検討がなされており、様々な下引き層を備える電子写真
感光体が提案されている。例えば特開昭６１−２０４６
４１号公報には、誘電率制御剤を配合して体積抵抗と誘
電率とを所定の範囲内に設定した下引き層を備える電子
写真感光体が開示されている。また、特開平１−１１３
７５８号公報には、結着樹脂、電荷輸送物質及び導電性
微粉末を含んで構成された下引き層を備える有機感光体
が開示されている。また、特開平７−８４３９３号公報
には、針状酸化チタン微粒子の圧粉体を含有し、所定の
体積抵抗値を示す下引き層を備える電子写真感光体が開
示されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の電子写真感光体であっても、接触帯電装置と共に用
いた場合には十分な画像品質を得ることが非常に困難で
あった。すなわち、ピンホール等の発生による電荷のリ
ーク防止性（以下、単に「リーク防止性」という）の観
点からは下引き層の膜厚が厚いこと（例えば１０〜３０
μｍ程度）が望ましいが、十分な電気特性を得るために
は下引き層の厚膜化に伴いその抵抗を低減する必要があ
り、その結果、基体から感光層への電荷の注入を防止す
るブロッキング性が弱くなってカブリが発生しやすくな
る。

【０００７】本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑
みてなされたものであり、リーク防止性と電気特性とが
高水準で両立されており、接触帯電装置と共に用いた場
合であってもカブリ等の画質欠陥を生じることなく良好
な画像品質を得ることが可能な電子写真感光体及びその
製造方法、並びにその電子写真感光体を用いたプロセス
カートリッジ及び電子写真装置を提供することを目的と
する。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、電子写真感光体の
導電性基体と感光層との間に、金属酸化物微粒子及び結
着樹脂を含有し、所定の条件下での体積抵抗及びその環
境依存性が特定範囲内である中間層を形成することによ
って上記課題が解決されることを見出し、本発明を完成
するに至った。

【０００９】すなわち、本発明の電子写真感光体は、導
電性基体と、該基体上に形成された中間層と、該中間層
上に形成された感光層とを備える電子写真感光体であっ
て、中間層が、金属酸化物微粒子及び結着樹脂を含有
し、２８℃、８５％ＲＨで１０ ⁶Ｖ／ｍの電場を印可し
たときの体積抵抗が１０⁸〜１０¹³Ω・ｃｍであり、且
つ１５℃、１５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍの電場を印可した
ときの体積抵抗が２８℃、８５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍの
電場を印可したときの体積抵抗の５００倍以下であるこ
とを特徴とするものである。

【００１０】本発明では、電子写真感光体の基体と感光
層との間に、金属酸化物微粒子及び結着樹脂を含有し、
体積抵抗及びその環境依存性が上記の条件を満たす中間
層を形成することによって、リーク防止性と電気特性と
の双方が十分に高められるので、接触帯電装置と共に用
いた場合であってもかぶり等の画質欠陥を生じることな
く良好な画像品質を得ることが可能となる。

【００１１】本発明においては、金属酸化物微粒子が、
シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤及
びアルミネート系カップリング剤からなる群より選ばれ
る少なくとも１種のカップリング剤で被覆処理された
後、１８０℃以上で熱処理されたものであることが好ま
しい。かかるカップリング剤による被覆処理及び熱処理
が施された金属酸化物微粒子を用いることによって、金
属酸化物微粒子の結着樹脂中への分散性が高められるの
で、中間層の体積抵抗及びその環境依存性を容易に且つ
確実に制御することができ、リーク防止性と電気特性と
の双方をより向上させることができる。

【００１２】また、本発明においては、金属酸化物微粒
子が、シランカップリング剤、チタネート系カップリン
グ剤及びアルミネート系カップリング剤からなる群より
選ばれる少なくとも１種のカップリング剤及び所定の溶
媒を含む処理液で被覆処理された後、第１の熱処理温度
で熱処理され、さらに第２の熱処理温度で熱処理された
ものであることが好ましい。かかるカップリング剤によ
る被覆処理及び熱処理が施された金属酸化物微粒子を用
いることによっても、金属酸化物微粒子の結着樹脂中へ
の分散性が高められ、中間層の体積抵抗及びその環境依
存性を容易に且つ確実に制御することができ、その結
果、リーク防止性と電気特性との双方をより向上させる
ことができる。このとき、第１の熱処理温度は溶媒の沸
点以上であり、第２の熱処理温度が１８０℃以上である
ことが好ましい。

【００１３】また、本発明においてカップリング剤を使
用する場合、当該カップリング剤がアミノ基を有する化
合物であることが好ましい。アミノ基を有するカップリ
ング剤を用いると、当該カップリング剤による被覆処理
を効率よく且つ確実に行うことができる。

【００１４】また、本発明の電子写真感光体は、帯電露
光のみを１００ｋｃｙｃｌｅ以上繰り返したときにその
残留電位の変動が２５０Ｖ以下であることが好ましい。

【００１５】また、本発明の電子写真感光体の第１の製
造方法は、導電性基体上に、中間層と、感光層とを形成
する電子写真感光体の製造方法であって、金属酸化物微
粒子をシランカップリング剤、チタネート系カップリン
グ剤及びアルミネート系カップリング剤からなる群より
選ばれる少なくとも１種のカップリング剤で被覆処理し
た後、１８０℃以上で熱処理する金属酸化物微粒子被覆
工程と；金属酸化物被覆被覆工程で得られた金属酸化物
酸化物微粒子と結着樹脂とを所定の溶媒に加えて得られ
る塗布液を、導電性支持体上に塗布し、乾燥させて、２
８℃、８５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍの電場を印可したとき
の体積抵抗が１０⁸〜１０¹³Ω・ｃｍであり、且つ１５
℃、１５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍの電場を印可したときの
体積抵抗が２８℃、８５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍの電場を
印可したときの体積抵抗の５００倍以下である中間層を
得る中間層形成工程と、を含むことを特徴とするもので
ある。

【００１６】また、本発明の電子写真感光体の第２の製
造方法は、導電性基体上に、中間層と、感光層とを形成
する電子写真感光体の製造方法であって、金属酸化物微
粒子をシランカップリング剤、チタネート系カップリン
グ剤及びアルミネート系カップリング剤からなる群より
選ばれる少なくとも１種のカップリング剤及び所定の溶
剤を含む処理液で被覆処理した後、第１の熱処理温度で
熱処理し、さらに第２の熱処理温度で熱処理する金属酸
化物微粒子被覆工程と；金属酸化物被覆被覆工程で得ら
れた金属酸化物酸化物微粒子と結着樹脂とを所定の溶媒
に加えて得られる塗布液を、導電性支持体上に塗布し、
乾燥させて、２８℃、８５％ＲＨで１０ ⁶Ｖ／ｍの電場
を印可したときの体積抵抗が１０⁸〜１０¹³Ω・ｃｍで
あり、且つ１５℃、１５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍの電場を
印可したときの体積抵抗が２８℃、８５％ＲＨで１０⁶
Ｖ／ｍの電場を印可したときの体積抵抗の５００倍以下
である中間層を得る中間層形成工程と、を含むことを特
徴とする。

【００１７】上記第１及び第２の製造方法によれば、そ
れぞれ所定のカップリング剤を用いた被覆処理及び熱処
理が施された金属酸化物微粒子を用いて中間層を形成す
ることによって、体積抵抗及びその環境依存性が上記の
条件を満たす中間層を容易に且つ確実に形成することが
できる。その結果、得られる感光体におけるリーク防止
性と電気特性との双方が十分に高められるので、当該感
光体を接触帯電装置と共に用いた場合であってもかぶり
等の画質欠陥を生じることなく良好な画像品質を得るこ
とができる。

【００１８】上記第２の製造方法においては、第１の熱
処理温度が溶剤の沸点以上であり、第２の熱処理温度が
１８０℃以上であることが好ましい。第１及び第２の熱
処理温度がそれぞれ前記の条件を満たすと、得られる感
光体におけるリーク防止性と電気特性との双方が一層高
められる傾向にある。

【００１９】また、本発明のプロセスカートリッジは、
上記本発明の電子写真感光体と、感光体表面に接触して
当該感光体を帯電させる接触帯電手段と、を備えること
を特徴とするものである。

【００２０】また、本発明のプロセスカートリッジは、
上記本発明の電子写真感光体と、感光体表面上のトナー
像を転写材に転写する中間転写方式の転写装置と、を備
えることを特徴としてもよい。

【００２１】また、本発明の電子写真装置は、上記本発
明の電子写真感光体と、感光体表面に接触して当該感光
体を帯電させる接触帯電手段と、感光体表面を露光して
静電潜像を形成する露光手段と、静電潜像をトナーによ
り現像する現像手段と、現像されたトナー像を被転写媒
体に転写する転写手段と、転写後の感光体表面に残存す
るトナーを除去するクリーニング手段と、を備えること
を特徴とするものである。

【００２２】また、本発明の電子写真装置は、上記本発
明の電子写真感光体と、感光体表面に接触して当該感光
体を帯電させる接触帯電手段と、感光体表面を露光して
静電潜像を形成する露光手段と、静電潜像をトナーによ
り現像する現像手段と、現像されたトナー像を中間転写
体に転写する中間転写手段と、中間転写体に転写された
トナー像を被転写媒体に転写する転写手段と、転写後の
感光体表面に残存するトナーを除去するクリーニング手
段と、を備えることを特徴としてもよい。

【００２３】本発明のプロセスカートリッジ及び電子写
真装置はそれぞれ接触帯電手段を備えるものであるが、
当該接触帯電手段と上記本発明の電子写真感光体とを組
み合わせて使用することによって、リーク防止性と電気
特性とが高水準で両立されるので、接触帯電装置を用い
た従来のプロセスカートリッジ及び電子写真装置では達
成が非常に困難であった、かぶり等の画質欠陥を生じる
ことなく良好な画像品質が得られるといった効果が奏さ
れる。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の好
適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、
同一または相当部分には同一符号を付し、重複する説明
は省略する。

【００２５】図１は本発明の電子写真感光体にかかる第
１実施形態を示す模式断面図である。図１に示した電子
写真感光体１においては、導電性基体１１上に中間層１
２が形成されており、さらに中間層１２上に電荷発生層
１３、電荷輸送層１４、保護層１５が形成されて感光層
１６を構成している。

【００２６】導電性基体１１はアルミニウムを円筒状
（ドラム状）に成形したものである。なお、基体１１の
材料としては、アルミニウムの他、ステンレス、ニッケ
ル等の金属材料；高分子材料（ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレン、
ナイロン、ポリスチレン、フェノール樹脂等）又は硬質
紙等の絶縁材料に導電物質（カーボンブラック、酸化イ
ンジウム、酸化スズ、酸化アンチモン、金属、ヨウ化銅
等）を分散させて導電処理したもの；上記の絶縁材料に
金属泊を積層したもの；上記の絶縁材料に金属の蒸着膜
を形成したもの、等を用いることができる。また、基体
１１の形状は、シート状、プレート状等であってもよ
い。

【００２７】また、導電性基体として金属パイプを用い
る場合、当該基体は素管のまま用いてもよく、また、予
め鏡面研削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレ
ス研削、サンドブラスト、ウェットホーニング等の処理
を施してもよい。

【００２８】中間層１２は、金属酸化物微粒子及び結着
樹脂を含んで構成されるものである。また、中間層１２
の体積抵抗は、２８℃、８５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍの電
場を印可したときに１０⁸〜１０¹³Ω・ｃｍ（好ましく
は１０⁸〜１０¹¹Ω・ｃｍ）の範囲内となるように、且
つ１５℃、１５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍの電場を印可した
ときの体積抵抗が２８℃、８５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍの
電場を印可したときの体積抵抗の５００倍以下となるよ
うに設定されている。このように中間層１２の体積抵抗
及びその環境依存性が上記の条件を満たすように制御す
ることによって、リーク防止性と電気特性とを高水準で
両立することができる。

【００２９】また、中間層１２としては、２８℃、８５
％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍの電場を印可したときの体積抵抗
が２８℃、８５％ＲＨで１０⁷Ｖ／ｍの電場を印可した
ときの体積抵抗の１０００倍以下であるという条件を満
たすものであることが好ましい。かかる体積抵抗の比が
１０００倍を超えると、中間層に異物が混入して局所的
に大きな電場が印可されるときにリークが発生しやすく
なる傾向にある。

【００３０】中間層１２においては、金属酸化物微粒子
及び結着樹脂の種類とその配合量を適宜選定し、さらに
は金属酸化物微粒子の結着樹脂中への分散性を高めるこ
とによって、その体積抵抗及びその環境依存性が上記の
条件を満たすように制御することができる。かかる金属
酸化物微粒子の好ましい例としては、具体的には、酸化
スズ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム等が挙
げられる。

【００３１】これらの金属酸化物微粒子の粉体抵抗値は
１０²〜１０¹¹Ω・ｃｍ（より好ましくは１０⁴〜１０¹⁰
Ω・ｃｍ）であることが好ましい。金属酸化物微粒子の
粉体抵抗値が前記下限値未満であると十分なリーク防止
性が得られない傾向にあり、他方、当該粉体抵抗値が前
記上限値を超えると電子写真プロセスおいて残留電位の
上昇が起こりやすくなる傾向にある。

【００３２】また、金属酸化物微粒子の平均一次粒径
は、１００ｎｍ以下であることが好ましく、１０〜９０
ｎｍであることがより好ましい。金属酸化物微粒子の平
均一次粒径が１００ｎｍを超えると、結着樹脂中への分
散性が低下し、その結果、リーク防止性と電気特性との
両立が困難となる傾向にある。

【００３３】これらの金属酸化物微粒子は従来の製造方
法によって得ることができる。例えば酸化亜鉛の場合
は、ＪＩＳ Ｋ１４１０に記載されている間接法（フラ
ンス法）、直接法（アメリカ法）、湿式法等；酸化チタ
ンは、硫酸法、塩素法、フッ酸法、塩化チタンカリウム
法、四塩化チタン水溶液法等が挙げられる。また、後述
するアークプラズマ法により金属酸化物微粒子を得るこ
ともできる。

【００３４】間接法は、金属亜鉛を加熱し（通常１００
０℃程度）、亜鉛蒸気を熱空気によって酸化させて酸化
亜鉛とし、冷却後に粒子の大きさによって分別するもの
である。また、直説法は、亜鉛鉱石を培焼することによ
って得られる酸化亜鉛を石炭等で還元し、生じた亜鉛蒸
気を熱空気によって酸化させるか、又は亜鉛鉱石を硫酸
で浸出して得られる鉱滓にコークス等を加え、その混合
物を加熱して溶融した亜鉛を熱空気によって酸化させる
ものである。

【００３５】硫酸法は、鉱石と硫酸との反応による硫酸
塩溶液の調製、溶液の清澄、加水分解による含水酸化チ
タンの沈殿、洗浄、焼成、粉砕、表面処理といった工程
により酸化チタン微粒子を得るものである。また、塩素
法は、鉱石の塩素化により四塩化チタン溶液を調製し、
精留、燃焼により得られる酸化チタンを粉砕、後処理す
るものである。

【００３６】アークプラズマ法としては、直流アークプ
ラズマ法、プラズマジェット法、高周波プラズマ法等が
挙げられる。例えば、直流アークプラズマ法において
は、金属原料を消費アノード電極とし、カソード電極か
らプラズマフレームを発生させて金属原料を加熱し蒸発
させて、金属蒸気を酸化させ、冷却することによって金
属酸化物微粒子が得られる。プラズマフレームを発生さ
せるに際し、アーク放電はアルゴン等の単原子分子ガス
や水素、窒素、酸素等の２原子分子ガス中で行われる
が、２原子分子の熱解離により生じるプラズマは単原子
分子ガス由来のプラズマ（アルゴンプラズマ等）に比べ
て反応性に富んでいるので、反応性アークプラズマと呼
ばれる。

【００３７】本発明においては、上記製造方法の中でも
アークプラズマ法により得られる金属酸化物微粒子を用
いると、従来法で得られるものとは異なる形状、粒径
（例えば１００ｎｍ以下）、諸物性の金属酸化物微粒子
が得られ、光電特性、分散性及び耐リーク性が向上する
ので好ましい。

【００３８】なお、例えばアークプラズマ法により金属
酸化物微粒子を製造するに際し、金属酸化物微粒子中に
微量の金属微粒子が混入する場合があるが、中間層の体
積抵抗及びその環境依存性が上記の条件を満たす限りに
おいて、当該金属微粒子を除去せずに用いてもよい。

【００３９】また、これらの金属酸化物微粒子につい
て、シランカップリング剤、チタネート系カップリング
剤及びアルミネート系カップリング剤からなる群より選
ばれる少なくとも１種のカップリング剤で被覆処理した
後、１８０℃以上で熱処理することが好ましい。かかる
カップリング剤による被覆処理及び熱処理が施された金
属酸化物微粒子を用いることによって、金属酸化物微粒
子の結着樹脂中への分散性が高められるので、中間層の
体積抵抗及びその環境依存性を容易に且つ確実に制御す
ることができ、リーク防止性と電気特性との双方をより
向上させることができる。

【００４０】本発明において用いられるシランカップリ
ング剤としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタ
クリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキ
シ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）
エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ
−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチ
ル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β
−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキ
シシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ
−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロ
ピルトリメトキシシラン等；チタネート系カップリング
剤としては、イソプロピルトリイソステアロイルチタネ
ート、ビス（ジオクチルピロホフェート）、イソプロピ
ルトリ（Ｎ−アミノエチル−アミノエチル）チタネート
等；アルミネート系カップリング剤としてはアセトアル
コキシアルミニウムジイソプロピレート等が挙げられ、
これらの１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合
わせて用いてもよい。これらの中でも、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（ア
ミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラ
ン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリ（Ｎ
−アミノエチル）チタネート等のアミノ基を有するカッ
プリング剤を用いると、当該カップリング剤による被覆
処理を効率よく且つ確実に行うことができるので好まし
く、特に、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−
γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン等の２個のア
ミノ基を有するカップリング剤を用いることがより好ま
しい。

【００４１】これらのカップリング剤を用いた被覆処理
は、実質的にカップリング剤と反応しない溶媒中にカッ
プリング剤を溶解させ、この溶液（処理液）に金属酸化
物微粒子を分散させることにより行うことができる。溶
媒としては、トルエン、エチルベンゼン、テトラヒドロ
フラン、酢酸エチル、酢酸ブチル、塩化メチレン、クロ
ロホルム、クロルベンゼン、アセトン、メチルエチルケ
トン等が挙げらるが、中でもトルエン等の高沸点溶媒を
用いることが好ましい。処理液を調製する際には、撹
拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等
を用いてカップリング剤を溶媒中に分散することができ
る。また、処理温度は室温から溶媒の沸点の範囲で任意
に設定可能である。

【００４２】また、金属酸化物微粒子に対する溶媒量は
任意に設定可能であるが、金属酸化物微粒子と溶媒との
重量比は、好ましくは１：１〜１：１０、より好ましく
は１：２〜１：４の範囲内である。溶媒の重量が金属酸
化物微粒子の重量の１倍未満であると、攪拌しにくくな
る上にゲル化する場合もあり均一な処理が困難となる傾
向にある。また、溶媒の重量が金属酸化物微粒子の重量
の１０倍を超えると、未反応のカップリング剤が残存し
やすくなる傾向にある。また、カップリング剤の量は、
電気特性、画質維持性、成膜性等の点から、金属酸化物
微粒子に対して１０重量％以下が好ましく、０．１〜
５．０重量％がより好ましい。

【００４３】かかる被覆処理は撹拌下で行われるが、カ
ップリング剤による被覆をより均一に行うためには、シ
リカゲル、アルミナ、ジルコニア等の分散メディア（好
ましくはメディア径が０．５〜５０ｍｍのもの）を用い
ることが好ましい。さらに、被覆処理後の混合物から溶
媒を除去したときに金属酸化物微粒子が凝集した場合に
は、熱処理の前に予め粉砕することが好ましい。また、
被覆処理後に溶媒を速やかに除去するために、所定の圧
力条件下（好ましくは０．１〜７６０ｍｍＨｇ）で蒸留
を行うことが好ましい。なお、ろ過により溶媒を除去す
ることも可能であるが、未反応のカップリング剤が流出
しやすく、所望の特性を得るために必要なカップリング
剤量の制御が困難となるため好ましくない。

【００４４】また、被覆処理後の金属酸化物微粒子にお
ける表面被覆率は７〜２０％であることが好ましい。表
面被覆率が前記下限値未満であると、金属酸化物微粒子
の抵抗値を十分に高めることができず、中間層のブロッ
キング性が低下して画質が悪化する傾向にある。また、
表面被覆率が前記上限値を超えると、電子写真感光体の
繰り返し使用に伴い残留電位が上昇しやすくなり、ま
た、体積抵抗の環境変動が増大する傾向にある。なお、
ここでいう表面被覆率とは、カップリング剤によって被
覆された金属酸化物微粒子表面の割合［％］をいい、被
覆処理前の金属酸化物微粒子のＢＥＴ比表面積及びカッ
プリング剤の配合量に基づいて求められるものである。
すなわち、表面被覆率１００％とするのに必要なカップ
リング剤の重量は次式： （表面被覆率１００％とするのに必要なカップリング剤
の重量［ｇ］）＝｛（金属酸化物微粒子の重量［ｇ］）
×（金属酸化物のＢＥＴ比表面積［ｍ²／ｇ］）｝／
（カップリング剤の最小被覆面積［ｍ²／ｇ］） で与えられ（式中、カップリング剤の最小被覆面積と
は、カップリング剤１ｇが単分子膜を形成したときに被
覆可能な最小面積を意味する）、表面被覆率は次式： （表面被覆率［％］）＝１００×（被覆処理に使用した
カップリング剤の重量［ｇ］）／（表面被覆率１００％
とするのに必要なカップリング剤の重量［ｇ］） により求めることができる。

【００４５】このようにして被覆処理された金属酸化物
微粒子について所定の熱処理を施すことによって、カッ
プリング剤の反応による被膜の形成をより完全なものと
することができる。ここで、熱処理温度は、前述の通り
１８０℃以上であることが好ましく、２００〜３００℃
であることがより好ましく、２００〜２５０℃であるこ
とがさらに好ましい。熱処理温度が１８０℃未満である
と、残存する吸着水やカップリング剤が十分に除去され
ず、暗減衰等の電気特性が不十分となる傾向にある。ま
た、熱処理温度が３００℃を超えると、カップリング剤
により形成された被膜の分解や金属酸化物微粒子表面の
酸化により、電荷のトラップサイトが発現して残留電位
が上昇しやすくなる傾向にある。熱処理時間は、カップ
リング剤の種類及び熱処理温度に応じて適宜選定される
が、通常、１０分〜１００時間程度である。

【００４６】また、被覆処理された金属酸化物微粒子を
熱処理する際には、異なる熱処理温度で２段階の加熱を
行うことが好ましい。このとき、１段階目の加熱は処理
液の沸点以上、２段階目の加熱は１８０℃以上（より好
ましくは２００〜３００℃、さらに好ましくは２００〜
２５０℃）であることが好ましい。

【００４７】中間層１２の結着樹脂としては、ポリビニ
ルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコー
ル樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、
ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタ
クリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ
ビニルアセテート樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マ
レイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン-アルキッ
ド樹脂、フェノール樹脂、フェノール-ホルムアルデヒ
ド樹脂、メラミン樹脂等の高分子樹脂化合物等が挙げら
れる。

【００４８】中間層１２は、上記の金属酸化物微粒子及
び結着樹脂のみからなるものであってもよく、また、体
積抵抗及びその環境依存性が上記の条件を満たす限りに
おいて、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のた
めの添加物を含有してもよい。かかる添加物としては、
クロラニルキノン、ブロモアニルキノン、アントラキノ
ン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化
合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，
５，７−テトラニトロ-9-フルオレノン等のフルオレノ
ン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブ
チルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，
５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾ
ール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−
１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系
化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，
３‘，５，５’−テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等
のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質、多環縮合
系、アゾ系等の電子輸送性顔料、シランカップリング
剤、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート
化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアル
コキシド化合物、有機チタニウム化合物等が挙げられ
る。

【００４９】シランカップリング剤としては、ビニルト
リメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−ト
リス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−
エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニル
トリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−ア
ミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β
−ヒドロキシエチル）−γ-アミノプロピルトリエトキ
シシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が
挙げられる。

【００５０】ジルコニウムキレート化合物としては、ジ
ルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチ
ル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセ
トネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジ
ルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジル
コニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジル
コニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフ
テン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステア
リン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、
メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレート
ジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウ
ムブトキシド等が挙げられる。

【００５１】チタニウムキレート化合物としては、テト
ライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタ
ネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチ
ルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネー
ト、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレ
ングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チ
タンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チ
タントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタン
ステアレート等が挙げられる。

【００５２】アルミニウムキレート化合物としては、ア
ルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウ
ムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエ
チルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレー
ト、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等
が挙げられる。これらの化合物は単独にあるいは複数の
化合物の混合物あるいは重縮合物として用いることがで
きる。

【００５３】中間層１２は、例えば金属酸化物微粒子と
結着樹脂とを所定の溶媒に混合／分散して中間層形成用
塗布液を調製し、この中間層形成用塗布液を導電性基体
１１上に塗布し、乾燥することによって形成することが
できる。かかる塗布液を調製する際の混合／分散方法と
しては、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトラ
イター、超音波等による方法が適用可能である。また、
塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、
マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング
法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エア
ーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等が
挙げられる。また、塗布液には塗膜の平滑性向上のため
のレベリング剤としてシリコーンオイルを微量添加する
こともできる。

【００５４】このようにして得られる中間層１２の膜厚
は３〜５０μｍであることが好ましく、１５〜５０μｍ
であることがより好ましく、１５〜３０μｍであること
がさらに好ましい。中間層の膜厚が３μｍ未満であると
十分なリーク防止性が得られない傾向にある。また、中
間層の膜厚の増加に伴いリーク防止性は向上するが、膜
厚が５０μｍを超えると成膜が困難となり、また、残留
電位の上昇による画質低下が生じやすくなる傾向にあ
る。また、中間層１２のビッカース強度は３５以上であ
ることが好ましい。

【００５５】電荷発生層１３は、電荷発生材料、並びに
必要に応じて結着樹脂を含んで構成されるものである。
かかる電荷発生材料としては特に制限されないが、フタ
ロシアニン系顔料を用いることが好ましい。フタロシア
ニン系顔料を用いることによって、高感度且つ繰り返し
安定性に優れる電子写真感光体を得ることができる。な
お、フタロシアニン系顔料には数種の結晶型が存在する
が、目的にあった感度が得られる顔料であるならば、そ
の結晶型は特に制限されない。特に好ましく用いられる
電荷発生材料の具体例を以下に示す。

【００５６】本発明において好ましく用いられる電荷発
生物質は、公知の方法で製造される顔料結晶を、自動乳
鉢、遊星ミル、振動ミル、ＣＦミル、ローラーミル、サ
ンドミル、ニーダー等で機械的に乾式粉砕するか、乾式
粉砕後、溶剤と共にボールミル、乳鉢、サンドミル、ニ
ーダー等を用いて湿式粉砕処理を行うことによって製造
することができる。

【００５７】湿式粉砕処理において使用される溶剤は、
芳香族類（トルエン、クロロベンゼン等）、アミド類
（ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、
脂肪族アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノ
ール等）、脂肪族多価アルコール類（エチレングリコー
ル、グリセリン、ポリエチレングリコール等）、芳香族
アルコール類（ベンジルアルコール、フェネチルアルコ
ール等）、エステル類（酢酸エステル、酢酸ブチル
等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、
ジメチルスルホキシド、エーテル類（ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン等）、又はこれらの数種の混合
系、あるいは水とこれら有機溶剤との混合系が挙げられ
る。溶剤の使用量は、顔料結晶１重量部に対して１〜２
００重量部、好ましくは１０〜１００重量部が望まし
い。また、湿式粉砕処理における処理温度は、０℃〜溶
剤の沸点以下、好ましくは１０〜６０ ℃が望ましい。
また、粉砕の際に食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を用いるこ
ともできる。磨砕助剤は顔料に対して０．５〜２０倍、
好ましくは１〜１０倍（いずれも重量換算値）用いれば
よい。

【００５８】また、公知の方法で製造される顔料結晶に
ついて、アシッドペースティング、あるいはアシッドペ
ースティングと前述したような乾式粉砕又は湿式粉砕と
の組み合わせによって結晶制御することもできる。アシ
ッドペースティングに用いる酸としては、硫酸が好まし
く、濃度７０〜１００％、好ましくは９５〜１００％の
ものが使用され、濃硫酸の量は、顔料結晶の重量に対し
て、１〜１００倍、好ましくは３〜５０倍（いずれも重
量換算値）の範囲に設定される。また、溶解温度は、−
２０〜１００℃、好ましくは０〜６０ ℃の範囲に設定
される。結晶を酸から析出させる際の溶剤としては、
水、あるいは水と有機溶剤の混合溶剤が任意の量で用い
られる。析出させる温度については特に制限はないが、
発熱を防ぐために、氷等で冷却することが好ましい。

【００５９】これらの電荷発生材料は、加水分解性基を
有する有機金属化合物又はシランカップリング剤で被覆
処理してもよい。かかる被覆処理によって電荷発生材料
の分散性や電荷発生層用塗布液の塗布性が向上し、平滑
で分散均一性の高い電荷発生層を容易に且つ確実に成膜
することができ、その結果、カブリやゴースト等の画質
欠陥が防止され、画質維持性を向上させることができ
る。また、電荷発生層用塗布液の保存性も著しく向上す
るので、ポットライフ（ｐｏｔ ｌｉｆｅ）の延長の点
でも効果的であり、感光体のコストダウンも可能とな
る。

【００６０】加水分解性基を有する有機金属化合物又は
シランカップリング剤は、下記一般式（１）： Ｒ_p−Ｍ−Ｙ_q （１） （式中、Ｒは有機基を表し、Ｍはアルカリ金属以外の金
属原子又はケイ素原子を表し、Ｙは加水分解性基を表
し、ｐ及びｑはそれぞれ１〜４の整数であり、ｐとｑと
の和はＭの原子価に相当する）で表される化合物であ
る。

【００６１】一般式（１）中、Ｒで表される有機基とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オ
クチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基等のアル
ケニル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フ
ェニル基、ナフチル基等のアリール基、トリル基等のア
ルカリール基、ベンジル基、フェニルエチル基等のアリ
ールアルキル基、スチリル基等のアリールアルケニル
基、フリル基、チエニル基、ピロリジニル基、ピリジル
基、イミダゾリル基等の複素環残基等が挙げられる。こ
れらの有機基は１または２種以上の各種の置換基を有し
ていてもよい。

【００６２】また、一般式（１）中、Ｙで表される加水
分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキ
シ基、ベンジロキシ基等のエーテル基、アセトキシ基、
プロピオニルオキシ基、アクリロキシ基、メタクリロキ
シ基、ベンゾイルオキシ基、メタンスルホニルオキシ
基、ベンゼンスルホニルオキシ基、ベンジロキシカルボ
ニル基等のエステル基、塩素原子等のハロゲン原子等が
挙げられる。

【００６３】また、一般式（１）中、Ｍはアルカリ金属
以外であれば特に制限されるものではないが、好ましく
はチタン原子、アルミニウム原子、ジルコニウム原子又
はケイ素原子である。すなわち、本発明においては、上
記の有機基や加水分解性の官能基を置換した有機チタン
化合物、有機アルミニウム化合物、有機ジルコニウム化
合物、さらにはシランカップリング剤が好ましく用いら
れる。

【００６４】シランカップリング剤の例としてはビニル
トリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−
トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４
−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−
アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス
（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン
等である。これらの中でも、ビニルトリエトキシシラ
ン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４
−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラ
ン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルト
リメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシ
ランがより好ましい。

【００６５】また、上記の有機金属化合物及びシランカ
ップリング剤の加水分解生成物も使用することができ
る。この加水分解生成物としては、前記一般式で示され
る有機金属化合物のＭ（アルカリ金属以外の金属原子又
はケイ素原子）に結合するＹ（加水分解性基）やＲ（有
機基）に置換する加水分解性基が加水分解したものが挙
げられる。なお。有機金属化合物及びシランカップリン
グ剤が加水分解基を複数含有する場合は、必ずしも全て
の官能基を加水分解する必要はなく部分的に加水分解さ
れた生成物であってもよい。 また、これらの有機金属
化合物及びシランカップリング剤は、１種を単独で使用
してもよく、２種以上混合して使用してもよい。

【００６６】加水分解性基を有する有機金属化合物及び
／又はシランカップリング剤（以下、単に「有機金属化
合物」という）を用いてフタロシアニン顔料を被覆処理
する方法としては、フタロシアニン顔料の結晶を整える
過程で該フタロシアニン顔料を被覆処理する方法、フタ
ロシアニン顔料を結着樹脂に分散する前に被覆処理する
方法、フタロシアニン顔料の結着樹脂への分散時に有機
金属化合物を混合処理する方法、フタロシアニン顔料の
結着樹脂への分散後に有機金属化合物で更に分散処理す
る方法等が挙げられる。

【００６７】より具体的には、顔料の結晶を整える過程
で予め被覆処理する方法としては、有機金属化合物と結
晶が整う前のフタロシアニン顔料とを混合した後加熱す
る方法、有機金属化合物を結晶が整う前のフタロシアニ
ン顔料に混合し機械的に乾式粉砕する方法、有機金属化
合物の水または有機溶剤中の混合液を結晶が整う前のフ
タロシアニン顔料に混合し湿式粉砕処理方法等が挙げら
れる。

【００６８】また、フタロシアニン顔料を結着樹脂に分
散する前に被覆処理する方法としては、有機金属化合
物、水又は水と有機溶剤との混合液、並びにフタロシア
ニン顔料を混合して加熱する方法、有機金属化合物をフ
タロシアニン顔料に直接噴霧する方法、有機金属化合物
をフタロシアニン顔料と混合しミリングする方法等があ
る。

【００６９】また、分散時に混合処理する方法として
は、分散溶剤に有機金属化合物、フタロシアニン顔料、
結着樹脂を順次添加しながら混合する方法、これらの電
荷発生層形成成分を同時に添加し混合する方法等が挙げ
られる。

【００７０】また、フタロシアニン顔料を結着樹脂中に
分散した後に有機金属化合物で更に分散処理する方法と
しては、例えば溶剤で希釈した有機金属化合物を分散液
に添加し攪拌しながら分散する方法が挙げられる。ま
た、かかる分散処理の際、より強固にフタロシアニン顔
料に付着させるために、触媒として硫酸、塩酸、トリフ
ルオロ酢酸等の酸を添加してもよい。

【００７１】これらの中でも、フタロシアニン顔料の結
晶を整える過程で予め被覆処理する方法、又はフタロシ
アニン顔料を結着樹脂に分散する前に被覆処理する方法
が好ましい。

【００７２】電荷発生層１３に用いる結着樹脂として
は、広範な絶縁性樹脂から選択することができる、ま
た、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアント
ラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電
性ポリマーから選択することもできる。好ましい結着樹
脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアリレー
ト樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、
ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ
樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹
脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニ
ルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポ
キシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ
ビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂等が挙げられ、中
でもポリビニルアセタール樹脂が特に好ましい。これら
の結着樹脂は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組
み合わせて用いてもよい。電荷発生層１３における電荷
発生物質と結着樹脂との配合比(重量比)は、１０：１〜
１：１０の範囲が好ましい。

【００７３】電荷発生層１３は、電荷発生材料の真空蒸
着、あるいは電荷発生材料及び結着樹脂を含む塗布液の
塗布により形成される。塗布液の溶媒としては、結着樹
脂を溶解することが可能であれば特に制限されず、例え
ばアルコール、芳香族化合物、ハロゲン化炭化水素、ケ
トン、ケトンアルコール、エーテル、エステル等から任
意で選択することができ、より具体的には、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノ
ール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセ
ルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メ
チレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、ト
ルエン等が挙げられる。これらの溶剤は１種を単独で用
いてもよく、２種以上混合して用いてもよい。

【００７４】電荷発生材料及び結着樹脂を溶媒に分散さ
せる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボー
ルミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペ
イントシェーカー等の方法を用いることができる。この
分散の際、電荷発生材料を０．５μｍ以下、好ましくは
０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下の
粒子サイズにすることが有効である。また、この電荷発
生層用塗布液には電気特性向上、画質向上等のために、
中間層１２の説明において例示された添加剤を配合する
こともできる。また、かかる塗布液の塗布方法として
は、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティン
グ法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、
ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、
カーテンコーティング法等が挙げられる。また、塗布液
には塗膜の平滑性向上のためのレベリング剤としてシリ
コーンオイルを微量添加することもできる。このように
して得られる電荷発生層１３の膜厚は、好ましくは０．
０５〜５μｍ、より好ましくは０．１〜２．０μｍであ
る。

【００７５】電荷輸送層１４は、電荷輸送材料及び結着
樹脂を含んで構成されるものである。かかる電荷輸送材
料としては、具体的には、２，５−ビス（ｐ−ジエチル
アミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等の
オキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル-
ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）−］−３−（ｐ−
ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノ
スチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェ
ニルアミン、トリ（ｐ−メチル）フェニルアミン、Ｎ，
Ｎ’−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−
４−アミン、ジベンジルアニリン、９，９−ジメチル−
Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−トリル）フルオレノン−２−アミン
等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ‘−ジフェニル
−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１−
ビフェニル］−４，４‘−ジアミン等の芳香族第３級ジ
アミノ化合物、３−（４’ジメチルアミノフェニル）−
５，６−ジ−（４’−メトキシフェニル）−１，２，４
−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−
ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニル
ヒドラゾン、４−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−
１，１−ジフェニルヒドラゾン、［ｐ−（ジエチルアミ
ノ）フェニル］（１−ナフチル）フェニルヒドラゾン等
のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キ
ナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，
３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−ベンゾフラン等のベ
ンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）
−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘
導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカ
ルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよ
びその誘導体等の正孔輸送物質；クロラニルキノン、ブ
ロモアニルキノン、アントラキノン等のキノン系化合
物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−
トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニト
ロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−
（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）
−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−
ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−
ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オ
キサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサン
トン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’
−テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノ
ン化合物等の電子輸送物質；あるいは上記した化合物か
ら水素原子等を除いた残基を主鎖又は側鎖に有する重合
体等が挙げられる。これらの電荷輸送材料は、１種を単
独で用いてもよく、２種以上を組み合せて用いてもよ
い。

【００７６】電荷輸送層１４の結着樹脂は特に制限され
ないが、フィルム形成可能な電気絶縁性の樹脂が好まし
い。このような結着樹脂としては、具体的には、ポリカ
ーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、
アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデ
ン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹
脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−
アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重
合体、シリコン樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェ
ノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド
樹脂、ポリ−Ｎ−カルバゾール、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルフォルマール、ポリスルホン、カゼイ
ン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロー
ス、フェノール樹脂、ポリアミド、カルボキシ−メチル
セルロース、塩化ビニリデン系ポリマーワックス、ポリ
ウレタン等が挙げられるが、中でもポリカーボネート樹
脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂
は電荷輸送材料との相溶性、溶剤への溶解性、強度の点
で優れており好ましく用いられる。これらの結着樹脂は
１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用
いてもよい。

【００７７】電荷輸送層１４は、上記の電荷輸送材料及
び結着樹脂を所定の溶媒に混合／分散した塗布液を用い
て形成することができる。塗布液に用いる溶媒としては
電荷発生層用塗布液の説明において例示された溶媒が使
用できるが、電荷発生層１３の結着樹脂に対する溶解性
が低いものを選定することが好ましい。また、電荷輸送
材料と結着樹脂との配合比(重量比)は、好ましくは３：
７〜６：４である。当該配合比が前記の範囲外の場合に
は、電気特性又は膜強度の少なくとも一方が低下する傾
向にある。また、塗布液には塗膜の平滑性向上のための
レベリング剤としてシリコーンオイルを微量添加するこ
ともできる。塗布液を調製する際の分散方法及び塗布液
の塗布方法としては、電荷発生層１３の場合と同様の方
法が適用可能であり、得られる電荷輸送層１３の膜厚は
５〜５０μｍ、好ましくは１０〜３５μｍが適当であ
る。

【００７８】保護層１５は、帯電工程の際の電荷輸送層
１４等の化学的変化を防止したり、感光層１６の機械的
強度をさらに高めるためのものであり、導電性材料を適
当な結着樹脂中に含有させて形成される。かかる導電性
材料としては、Ｎ，Ｎ’−ジメチルフェロセン等のメタ
ロセン化合物、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス
（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，
４’−ジアミン等の芳香族アミン化合物、酸化モリブデ
ン、酸化タングステン、酸化アンチモン、酸化スズ、酸
化チタン、酸化インジウム、酸化スズとアンチモンもし
くは酸化アンチモンとの固溶体、又はこれらの混合物、
あるいは単一粒子中にこれらの金属酸化物を混合又は被
覆したものが挙げられる。

【００７９】また、保護層１５の結着樹脂としては、ポ
リアミド樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタ
ン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルケトン樹脂、
ポリスチレン樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリイミ
ド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等が挙げられ、これらは
必要に応じて架橋させて使用することもできる。

【００８０】保護層１５は、上記の導電性物質及び結着
樹脂を所定の溶媒に混合／分散した塗布液を用い、電荷
発生層１３等と同様にして形成することができる。な
お、塗布液に用いられる溶媒は、下層（図１では電荷輸
送層１４）の結着樹脂に対する溶解性ができるだけ低い
ものであることが好ましい。また、保護層１５の膜厚は
１〜２０μｍ、好ましくは２〜１０μｍが適当である。

【００８１】また、電子写真装置中で発生するオゾンや
酸化性ガス、あるいは光・熱による感光体の劣化を防止
する目的で、感光層１６（電荷発生層１３、電荷輸送層
１４等）中に酸化防止剤・光安定剤・熱安定剤等の添加
剤を添加することができる。

【００８２】酸化防止剤としては、ヒンダードフェノー
ル、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリ
ールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピ
ロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有
機燐化合物等が挙げられる。

【００８３】より具体的には、フェノール系酸化防止剤
としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノ
ール、スチレン化フェノール、ｎ−オクタデシル−３−
（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェ
ニル）−プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−
（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−ｔ−
ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’
−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレ
ート、４，４’−ブチリデン−ビス−（３−メチル−６
−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオ−ビス−
（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，
５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６
−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、テトラキス−
［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］−メタン、
３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−
１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ［５，５］ウンデカン等が挙げられる。

【００８４】また、ヒンダードアミン系化合物として
は、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−｛３
−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシ｝エチル］−４−［３−（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−
３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］
ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、コハク酸ジ
メチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキ
シ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合
物、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイミ
ル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，３，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、２−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ
−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チル−４−ピペリジル）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノ
プロピル）エチレンジアミン−２，４−ビス［Ｎ−ブチ
ルＮ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ
リジル）アミノ］−６−クロロ−１，３，５−トリアジ
ン縮合物等が挙げられる。

【００８５】また、有機イオウ系酸化防止剤としては、
ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリ
スチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリ
ル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリ
トール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネ
ート）、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネー
ト、２−メルカプトベンズイミダゾール等が挙げられ
る。

【００８６】また、有機燐系酸化防止剤としてトリスノ
ニルフェニルフォスフィート、トリフェニル フォスフ
ィート、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フ
ォスフィート等が挙げられる。

【００８７】上記の酸化防止剤のうち、有機硫黄系およ
び有機燐系酸化防止剤は２次酸化防止剤と呼ばれ、フェ
ノール系又はアミン系酸化防止剤等の１次酸化防止剤と
併用することにより相乗効果を得ることができる。

【００８８】また、光安定剤としては、ベンゾフェノン
系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テ
トラメチルピペリジン系等の誘導体が挙げられる。

【００８９】より具体的には、ベンゾフェノン系光安定
剤としては、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェ
ノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノ
ン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェ
ノン等が挙げられる。

【００９０】また、ベンゾトリアゾール系系光安定剤と
しては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニ
ル）−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−
３’−(３”，４”，５”，６”−テトラヒドロフタル
イミドメチル)−５’−メチルフェニル］−ベンゾトリ
アゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル
−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾ
ール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−
５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ル、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔ−ブチル
フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキ
シ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ア
ミルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。そ
の他、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−
ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、ニッ
ケル ジブチル−ジチオカルバメート等を用いてもよ
い。

【００９１】また、感度の向上、残留電位の低減、繰り
返し使用時の疲労低減等を目的として、感光層１６（電
荷発生層１３、電荷輸送層１４等）に少なくとも１種の
電子受容性物質を含有せしめることができる。かかる電
子受容性物質としては、無水コハク酸、無水マレイン
酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブ
ロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシア
ノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロ
ベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリ
ニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香
酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等が挙げられる。こ
れらのうち、フルオレノン系又はキノン系化合物や、−
Ｃｌ、−ＣＮ、−ＮＯ₂等の電子吸引性置換基を有する
ベンゼン誘導体が特に好ましい。

【００９２】このように第１実施形態では、導電性基体
１１と感光層１６との間に、金属酸化物微粒子及び結着
樹脂を含有し、体積抵抗及びその環境依存性が上記特定
の条件を満たす中間層１３を形成することによって、リ
ーク防止性と電気特性との双方が十分に高められるの
で、接触帯電装置と共に用いた場合であってもかぶり等
の画質欠陥を生じることなく良好な画像品質を得ること
が可能となる。

【００９３】図２は本発明の電子写真感光体にかかる第
２実施形態を示す模式断面図である。図２に示した電子
写真感光体においては、導電性基体１１上に中間層１２
が形成されており、さらに中間層１２上に下引き層１
７、電荷発生層１３、電荷輸送層１４、保護層１５が形
成されて感光層１６を構成している。

【００９４】下引き層１７は所定の樹脂及び／又は有機
金属化合物を含んで構成される。かかる樹脂としては、
ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニル
アルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロー
ス樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹
脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹
脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニ
ル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン-
アルキッド樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、
メラミン樹脂等が挙げられる。

【００９５】また、有機金属化合物としては、ジルコニ
ウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、シリコン
原子等を含有する有機金属化合物、より具体的には、ビ
ニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピ
ル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）
−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−
ビス（β-ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルト
リエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシ
ラン等の有機シリコン化合物； ジルコニウムブトキシ
ド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリ
エタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウム
ブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシ
ド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレー
ト、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネー
ト、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウ
ム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウ
ム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジ
ルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブト
キシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等の
有機ジルコニウム化合物；テトライソプロピルチタネー
ト、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネー
トダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネー
ト、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチル
アセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタン
ラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタン
ラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミ
ネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等の有機チ
タン化合物；並びにアルミニウムイソプロピレート、モ
ノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニ
ウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウ
ムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルア
セトアセテート）等の有機アルミニウム化合物、が挙げ
られる。中でも、ジルコニウムもしくはもしくはシリコ
ンを含有する有機金属化合物は残留電位が低く環境によ
る電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変
化が少ない等性能上優れており、特に、ビニルトリエト
キシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラ
ン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２
−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメト
キシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）
−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−
アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプ
ロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメ
トキシシラン等のシランカップリング剤が好ましく用い
られる。

【００９６】下引き層１７は、上記の樹脂及び／又は有
機金属化合物を所定の溶媒に混合／分散した塗布液を用
い、中間層１２と同様の方法により形成することができ
る。かかる溶媒としては中間層１２の塗布液の説明にお
いて例示されたものを用いることができるが、中間層１
２に対する溶解性の低いものを選定することが好まし
い。また、下引き層１７の膜厚は０．１〜３μｍである
ことが好ましい。下引き層の膜厚が３μｍを超えると、
電気的な障壁が過剰に大きくなり、減感や繰り返し使用
による電位の上昇が起こりやすくなる傾向にある。

【００９７】このように第２実施形態では、中間層１２
と感光層１６との間に下引き層１７を設けた点が第１実
施形態と異なるだけで、体積抵抗及びその環境依存性が
特定の条件を満たす中間層１２を設けたことによってリ
ーク防止性と電気特性との双方が十分に高められ、接触
帯電装置と共に用いた場合であってもかぶり等の画質欠
陥を生じることなく良好な画像品質を得ることが可能と
なるといった効果が得られる点については第１実施形態
と同様である。さらに、上記の構成を有する下引き層１
７を中間層１２と感光層１６との間に設けることによっ
て、電気特性、画質、画質維持性、感光層と中間層との
接着性等の特性を向上させることができる。

【００９８】なお、本発明の電子写真感光体は上記の実
施形態に限られるものではない。例えば図１、２に示し
た電子写真感光体は保護層１５を備えるものであるが、
電荷輸送層１４等が十分に高い機械的強度を有している
場合にはかかる保護層を設けなくてもよい。

【００９９】また、図１、２に示した電子写真感光体に
おいては、基体１１から近い順に電荷発生層１３、電荷
輸送層１４が積層されているが、これらの層の順序は逆
であってもよい。

【０１００】また、図１、２に示した電子写真感光体は
電荷発生層１３と電荷輸送層１４とが別個に設けられた
機能分離型の感光層１６を備えるものであるが、電荷発
生材料と電荷輸送材料との双方を含有する単層型感光層
を備えるものであってもよい。

【０１０１】次に、本発明の電子写真装置について説明
する。

【０１０２】図３は本発明の電子写真装置にかかる第３
実施形態を示す概略構成図である。図３に示した装置に
おいては、図１に示した構成を有する電子写真感光体１
が支持体９によって支持されており、支持体９を中心と
して矢印の方向に所定の回転速度で回転可能となってい
る。そして、電子写真感光体１の回転方向に沿って、接
触帯電装置２、露光装置３、現像装置４、転写装置５、
クリーニング手段７がこの順で配置されている。また、
当該装置は像定着装置６を備えており、被転写媒体Ｐは
転写装置５を経て像定着装置６へと搬送される。

【０１０３】接触帯電装置２は、ローラー状の接触帯電
部材を備えるもので、当該接触帯電部材を感光体１の表
面に接触するように配置して電圧を印可することによっ
て、感光体１表面を所定の電位に印可することができ
る。かかる接触帯電部材の材料としては、アルミニウ
ム、鉄、銅等の金属、ポリアセチレン、ポリピロール、
ポリチオフェン等の導電性高分子材料、ポリウレタンゴ
ム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、エチレ
ンプロピレンゴム、アクリルゴム、フッソゴム、スチレ
ンーブタジエンゴム、ブタジエンゴム等のエラストマー
材料にカーボンブラック、沃化銅、沃化銀、硫化亜鉛、
炭化けい素、金属酸化物等の金属酸化物微粒子を分散し
たもの等を用いることができる。金属酸化物の例として
はＺｎＯ、ＳｎＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＭｏＯ₃、又
はこれらの複合酸化物が挙げられる。また、エラストマ
ー材料中に過塩素酸塩を含有させて導電性を付与しても
よい。

【０１０４】また、接触帯電部材の表面に被覆層を設け
ることもできる。この被覆層を形成する材料としては、
Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、セルロース樹脂、ビ
ニルピリジン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、ポ
リビニルブチラール、メラミン等が挙げられ、これらは
１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用
いてもよい。また、エマルジョン樹脂系材料、例えばア
クリル樹脂エマルジョン、ポリエステル樹脂エマルジョ
ン、ポリウレタン、特にソープフリーのエマルジョン重
合により合成されたエマルジョン樹脂を用いることもで
きる。これらの樹脂には、さらに抵抗率を調整するため
に導電剤粒子を分散してもよいし、劣化を防止するため
に酸化防止剤を含有させることもできる。また、被覆層
を形成するときの成膜性を向上させるために、エマルジ
ョン樹脂にレベリング剤または界面活性剤を含有させる
こともできる。

【０１０５】接触帯電部材の抵抗は、好ましくは１０⁰
〜１０¹⁴Ωcm、より好ましくは１０²〜１０¹²Ω・ｃｍ
である。また、この接触帯電用部材に電圧を印可する場
合、当該印加電圧は、直流、交流のいずれも用いること
ができ、さらには直流電圧と交流電圧とを重畳したもの
を用いることもできる。

【０１０６】なお、図３に示した装置において、接触帯
電装置２が有する接触帯電部材はローラー状であるが、
かかる接触帯電部材の形状は、ブレード状、ベルト状、
ブラシ状、等であってもよい。

【０１０７】また、露光装置３としては、電子写真感光
体１表面に、半導体レーザー、ＬＥＤ（ｌｉｇｈｔ ｅ
ｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ）、液晶シャッター等の光
源を所望の像様に露光できる光学系装置等を用いること
ができる。これらの中でも、非干渉光を露光可能な露光
装置を用いると、電子写真感光体１の支持体（基体）と
感光層との間での干渉縞を防止することができる。

【０１０８】また、現像装置４としては、一成分系、ニ
成分系等の正規または反転現像剤を用いた従来より公知
の現像装置等を用いることができる。また、使用される
トナーの形状は特に制限されず、例えば粉砕法による不
定形トナーや重合法による球形トナーが好適に使用され
る。

【０１０９】また、転写装置５としては、ベルト、ロー
ラー、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯
電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器や
コロトロン転写帯電器等、が挙げられる。

【０１１０】また、クリーニング装置７は、転写工程後
の電子写真感光体１の表面に付着する残存トナーを除去
するためのもので、これにより清浄面化された電子写真
感光体１は上記の画像形成プロセスに繰り返し供され
る。クリーニング装置７としては、クリーニングブレー
ド、ブラシクリーニング、ロールクリーニング等を用い
ることができるが、これらの中でもクリーニングブレー
ドを用いることが好ましい。また、クリーニングブレー
ドの材質としてはウレタンゴム、ネオプレンゴム、シリ
コーンゴム等が挙げられる。

【０１１１】このように第３実施形態では、電子写真感
光体１の回転工程において、帯電、露光、現像、転写、
クリーニングの各工程を順次行うことによって画像形成
が繰り返し行われる。ここで、電子写真感光体１は、導
電性基体と感光層との間に上記所定の中間層が形成され
たものであり、リーク防止性と電気特性との双方が十分
に高水準で達成されたものであるため、接触帯電装置２
と共に用いた場合であってもかぶり等の画質欠陥を生じ
ることなく良好な画像品質を得ることが可能となる。従
って、本実施形態により、良好な画像品質を長期にわた
って安定的に得ることが可能な電子写真装置が実現され
る。

【０１１２】図４は本発明の第４実施形態にかかる電子
写真装置を示す断面図である。図４に示す電子写真装置
２２０は中間転写方式の電子写真装置であり、ハウジン
グ４００内において４つの電子写真感光体４０１ａ〜４
０１ｄが中間転写ベルト４０９に沿って相互に並列に配
置されている。

【０１１３】ここで、電子写真装置２２０に搭載されて
いる電子写真感光体４０１ａから４０１ｄは、それぞれ
本発明の電子写真感光体であり、例えば図１に示した電
子写真感光体が搭載される。

【０１１４】電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄのそれ
ぞれは所定の方向（紙面上では反時計回り）に回転可能
であり、その回転方向に沿って帯電ロール４０２ａ〜４
０２ｄ、現像装置４０４ａ〜４０４ｄ、１次転写ロール
４１０ａ〜４１０ｄ、クリーニングブレード４１５ａ〜
４１５ｄがそれぞれ配置されている。現像装置４０４ａ
〜４０４ｄのそれぞれにおいては、トナーカートリッジ
４０５ａ〜４０５ｄに収容されたイエロー（Ｙ）、マゼ
ンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、ブラック（Ｋ）の４色のト
ナーが供給可能となっており、また、１次転写ロール４
１０ａ〜４１０ｄはそれぞれ中間転写体４０９を介して
電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄに当接している。

【０１１５】さらに、ハウジング４００内の所定の位置
にはレーザ光源（露光手段）４０３が配置されており、
レーザ光源４０３から出射されたレーザ光を帯電後の電
子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの表面に照射すること
が可能となっている。これにより、電子写真感光体４０
１ａ〜４０１ｄの回転工程において帯電、露光、現像、
１次転写、クリーニングの各工程が順次行われ、各色の
トナー像が中間転写ベルト４０９条に重ねて転写され
る。

【０１１６】中間転写ベルト４０９は以下の手順で製造
することができる。すなわち、略等モルのテトラカルボ
ン酸二無水物或いはその誘導体とジアミンとを所定の溶
媒中で重合反応させてポリアミド酸溶液を得る。このポ
リアミド酸溶液を円筒状金型に供給・展開して膜（層）
形成を行った後、さらにイミド転化を行うことによっ
て、ポリイミド樹脂からなる中間転写ベルト４０９を得
ることができる。

【０１１７】かかるテトラカルボン酸二無水物として
は、例えば、下記一般式（１）：

【０１１８】

【化１】

【０１１９】（式中、Ｒは脂肪族鎖式炭化水素基、脂肪
族環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基、並びにこれら
の炭化水素基に置換基が結合した基からなる群より選ば
れる４価の有機基を表す）で表される化合物が挙げら
れ、より具体的には、ピロメリット酸二無水物、３，
３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン
酸二無水物、２，３，３’，４−ビフェニルテトラカル
ボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカ
ルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラ
カルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテト
ラカルボン酸二無水物、２，２’−ビス（３，４−ジカ
ルボキシフェニル）スルホン酸二無水物、ペリレン−
３，４，９，１０−テトラカルボン酸二無水物、ビス
（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、
エチレンテトラカルボン酸二無水物などが例示される。

【０１２０】また、ジアミンの具体例としては、４，
４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミ
ノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメ
タン、３，３’−ジクロロベンジジン、４，４’−ジア
ミノジフェニルスルフィド、３，３’−ジアミノジフェ
ニルスルフォン、１，５−ジアミノナフタレン、ｍ−フ
ェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、３，３’
−ジメチル４，４’−ビフェニルジアミン、ベンジジ
ン、３，３’−ジメチルベンジジン、３，３’−ジメト
キシベンジジン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフ
ォン、４，４’−ジアミノジフェニルプロパン、２，４
−ビス（β−アミノ第三ブチル）トルエン、ビス（ｐ−
β−アミノ−第三ブチルフェニル）エーテル、ビス（ｐ
−β−メチル−δ−アミノフェニル）ベンゼン、ビス−
ｐ−（１，１−ジメチル−５−アミノ−ベンチル）ベン
ゼン、１−イソプロピル−２，４−ｍ−フェニレンジア
ミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミ
ン、ジ（ｐ−アミノシクロヘキシル）メタン、ヘキサメ
チレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチ
レンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジ
アミン、ジアミノプロピルテトラメチレン、３−メチル
ヘプタメチレンジアミン、４，４−ジメチルヘプタメチ
レンジアミン、２，１１−ジアミノドデカン、１，２−
ビス−３−アミノプロボキシエタン、２，２−ジメチル
プロピレンジアミン、３−メトキシヘキサメチレンジア
ミン、２，５−ジメチルヘプタメチレンジアミン、３−
メチルヘプタメチレンジアミン、５−メチルノナメチレ
ンジアミン、２，１７−ジアミノエイコサデカン、１，
４−ジアミノシクロヘキサン、１，１０−ジアミノ−
１，１０−ジメチルデカン、１２−ジアミノオクタデカ
ン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェ
ニル］プロパン、ピペラジン、Ｈ₂Ｎ（ＣＨ₂）₃Ｏ（Ｃ
Ｈ₂）₂Ｏ（ＣＨ₂）ＮＨ₂、Ｈ₂Ｎ（ＣＨ₂）₃Ｓ（ＣＨ₂）
₃ＮＨ₂、Ｈ₂Ｎ（ＣＨ₂） ₃Ｎ（ＣＨ₃）₂（ＣＨ₂）₃ＮＨ₂
などが挙げられる。

【０１２１】テトラカルボン酸二無水物とジアミンを重
合反応させる際の溶媒としては、溶解性等の点から極性
溶媒が好ましい。極性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジアルキ
ルアミド類が好ましく、中でもＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエ
チルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルメトキシアセトアミド、ジメチルスル
ホキシド、ヘキサメチルホスホルトリアミド、Ｎ−メチ
ル−２−ピロリドン、ピリジン、テトラメチレンスルホ
ン、ジメチルテトラメチレンスルホン等の低分子量のも
のがより好ましい。これらは１種を単独で用いてもよ
く、２種以上を併用してもよい。

【０１２２】本発明では、中間転写ベルト４０９の膜抵
抗を調整するために、ポリイミド樹脂中にカーボンを分
散してもよい。カーボンの種類は特に限定されないが、
カーボンブラックの酸化処理によりその表面に酸素含有
官能基（カルボキシル基、キノン基、ラクトン基、水酸
基等）が形成された酸化処理カーボンブラックを用いる
ことが好ましい。ポリイミド樹脂中に酸化処理カーボン
ブラックを分散すると、電圧を印可したときに酸化処理
カーボンブラックに過剰な電流が流れるため、ポリイミ
ド樹脂が繰返しの電圧印加による酸化の影響を受けにく
くなる。また、酸化処理カーボンブラックはその表面に
形成された酸素含有官能基によりポリイミド樹脂中への
分散性が高いので、抵抗バラツキを小さくすることがで
きると共に電界依存性も小さくなり、転写電圧による電
界集中が起こりにくくなる。従って、転写電圧による抵
抗低下を防止し、電気抵抗の均一性を改善し、電界依存
性が少なく、さらに環境による抵抗の変化の少ない、用
紙走行部が白く抜けること等の画質欠陥の発生が抑制さ
れた高画質を得ることができる中間転写ベルトを得るこ
とができる。

【０１２３】酸化処理カーボンブラックは、カーボンブ
ラックを高温雰囲気下で空気と接触、反応させる空気酸
化法、常温下で窒素酸化物やオゾン等と反応させる方
法、高温下での空気酸化後、低温下でオゾン酸化する方
法などにより得ることができる。また、酸化処理カーボ
ンとして、三菱化学製のＭＡ１００(ｐＨ３．５、揮発
分１．５％)、同，ＭＡ１００Ｒ（ｐＨ３．５、揮発分
１．５％）、同ＭＡ１００Ｓ（ｐＨ３．５、揮発分１．
５％）、同＃９７０（ｐＨ３．５、揮発分３．０％）、
同ＭＡ１１（ｐＨ３．５、揮発分２．０％）、同＃１０
００（ｐＨ３．５、揮発分３．０％）、同＃２２００
（ｐＨ３．５，揮発分３．５％）、同ＭＡ２３０（ｐＨ
３．０、揮発分１．５％）、同ＭＡ２２０（ｐＨ３．
０、揮発分１．０％）、同＃２６５０（ｐＨ３．０、揮
発分８．０％）、同ＭＡ７（ｐＨ３．０、揮発分３．０
％）、同ＭＡ８（ｐＨ３．０、揮発分３．０％）、同Ｏ
ＩＬ７Ｂ(ｐＨ３．０、揮発分６．０％)、同ＭＡ７７
（ｐＨ２．５、揮発分３．０％）、同＃２３５０(ｐＨ
２．５、揮発分７．５％)、同＃２７００（ｐＨ２．
５、揮発分１０．０％）、同＃２４００（ｐＨ２．５、
揮発分９．０％）；デグサ社製のプリンテックス１５０
Ｔ（ｐＨ４．５、揮発分１０．０％）、同スペシャルブ
ラック３５０（ｐＨ３．５、揮発分２．２％）、同スペ
シャルブラック１００（ｐＨ３．３、揮発分２．２
％）、同スペシャルブラック２５０（ｐＨ３．１、揮発
分２．０％）、同スペシャルブラック５（ｐＨ３．０、
揮発分１５．０％）、同スペシャルブラック４（ｐＨ
３．０、揮発分１４．０％）、同スペシャルブラック４
Ａ（ｐＨ３．０、揮発分１４．０％）、同スペシャルブ
ラック５５０（ｐＨ２．８、揮発分２．５％）、同スペ
シャルブラック６（ｐＨ２．５、揮発分１８．０％）、
同カラーブラックＦＷ２００（ｐＨ２．５、揮発分２
０．０％）、同カラーブラックＦＷ２（ｐＨ２．５、揮
発分１６．５％）、同カラーブラックＦＷ２Ｖ（ｐＨ
２．５、揮発分１６．５％）；キャボット社製ＭＯＮＡ
ＲＣＨ１０００（ｐＨ２．５、揮発分９．５％）、同Ｍ
ＯＮＡＲＣＨ１３００（ｐＨ２．５、揮発分９．５
％）、同ＭＯＮＡＲＣＨ１４００（ｐＨ２．５、揮発分
９．０％）、同ＭＯＧＵＬ-Ｌ（ｐＨ２．５、揮発分
５．０％）、同ＲＥＧＡＬ４００Ｒ（ｐＨ４．０、揮発
分３．５％）、などの市販品を用いてもよい。

【０１２４】上記の酸化処理カーボンは、例えば酸化処
理の度合い、ＤＢＰ吸油量、窒素吸着を利用したＢＥＴ
法による比表面積等の物性の相違により導電性が異なる
がこれらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用
してもよいが、実質的に導電性の異なるものを２種以上
組み合わせて用いることが好ましい。このように物性の
異なる２種類以上のカーボンブラックを添加する場合、
例えば高い導電性を発現するカーボンブラックを優先的
に添加した後、導電率の低いカーボンブラックを添加し
て表面抵抗率を調整すること等が可能である。

【０１２５】これら酸化処理カーボンブラックの含有量
は、ポリイミド樹脂に対して１０〜５０重量％が好まし
く、より好ましくは１２〜３０重量％である。当該含有
量が１０重量％未満であると、電気抵抗の均一性が低下
し、耐久使用時の表面抵抗率の低下が大きくなる場合が
あり、一方、５０重量％を超えると、所望の抵抗値が得
られにくく、また、成型物として脆くなるため好ましく
ない。

【０１２６】２種類以上の酸化処理カーボンブラックを
分散させたポリアミド酸溶液の製造方法としては、溶媒
中に２種類以上の酸化処理カーボンブラックを予め分散
した分散液中に上記酸二無水物成分及びジアミン成分を
溶解・重合する方法、２種類以上の酸化処理カーボンブ
ラックを各々溶媒中に分散させ２種類以上のカーボンブ
ラック分散液を作製し、この分散液に酸無水物成分及び
ジアミン成分を溶解・重合させた後、各々のポリアミド
酸溶液を混合する方法、などが挙げられる。

【０１２７】中間転写ベルト４０９は、このようにして
得られたポリアミド酸溶液を円筒状金型内面に供給・展
開して被膜とし、加熱によりポリアミド酸をイミド転化
させることにより得られる。かかるイミド転化の際に
は、所定の温度で０．５時間以上保持することによっ
て、良好な平面度を有する中間転写ベルトを得ることが
できる。

【０１２８】ポリアミド酸溶液を円筒状金型内面に供給
する際の供給方法としては、ディスペンサーによる方
法、ダイスによる方法などが挙げられる。ここで、円筒
上金型としては、その内周面が鏡面仕上げされたものを
用いることが好ましい。

【０１２９】また、金型に供給されたポリアミド酸溶液
から被膜を形成するとしては、加熱しながら遠心成形す
る方法、弾丸状走行体を用いて成形する方法、回転成形
する方法などが挙げられ、これらの方法により均一な膜
厚の被膜が形成される。

【０１３０】このようにして形成された被膜をイミド転
化させて中間転写ベルトを成形する方法としては、
（ｉ）金型ごと乾燥機中に入れ、イミド転化の反応温度
まで昇温する方法、（ｉｉ）ベルトとして形状を保持で
きるまで溶媒の除去を行った後、金型内面から被膜を剥
離して金属製シリンダ外面に差し替えた後、このシリン
ダごと加熱してイミド転化を行う方法などが挙げられ
る。本発明においては、得られる中間転写ベルトの表面
のダイナミック硬度が上記の条件を満たせば上記
（ｉ）、（ｉｉ）のいずれの方法でイミド転化を行って
もよいが、方法（ｉｉ）によりイミド転化を行うと、平
面度及び外表面精度が良好な中間転写体を効率よく且つ
確実に得ることができるので好ましい。以下、方法（ｉ
ｉ）について詳述する。

【０１３１】方法（ｉｉ）において、溶媒を除去する際
の加熱条件は、溶媒を除去できれば特に制限されない
が、加熱温度は８０〜２００℃であることが好ましく、
加熱時間は０．５〜５時間であることが好ましい。この
ようにしてベルトとしてそれ自身形状を保持することが
できるようになった成形物は金型内周面から剥離される
が、かかる剥離の際に金型内周面に離型処理を施しても
よい。

【０１３２】次いで、ベルト形状として保持できるまで
加熱・硬化させた成形物を、金属製シリンダ外面に差し
替え、差し替えたシリンダごと加熱することにより、ポ
リアミド酸のイミド転化反応を進行させる。かかる金属
製シリンダとしては、線膨張係数がポリイミド樹脂より
も大きいものが好ましく、また、シリンダの外径をポリ
イミド成形物の内径より所定量小さくすることで、ヒー
トセットを行うことができ均一な膜厚でムラのない無端
ベルトを得ることができる。また、金属製シリンダ外面
の表面粗度（Ｒａ）は、１．２〜２．０μｍであること
が好ましい。金属製シリンダ外面の表面粗度（Ｒａ）が
１．２μｍ未満であると、金属製シリンダ自身が平滑過
ぎるため、得られる中間転写ベルトにおいてベルトの軸
方向に対する収縮による滑りが発生しないため、延伸が
この工程で行われ、膜厚のバラツキや平面度の精度の低
下が発生する傾向にある。また、金属製シリンダ外面の
表面粗度（Ｒａ）が２．０μｍを超えると、金属製シリ
ンダ外面がベルト状中間転写体の内面に転写し、さらに
は外面に凹凸を発生させ、これにより画像不良が発生し
やすくなる傾向にある。なお、本発明でいう表面粗度と
はＪＩＳ Ｂ６０１に準じて測定されるＲａをいう。

【０１３３】また、イミド転化の際の加熱条件として
は、ポリイミド樹脂の組成にもよるが、加熱温度が２２
０〜２８０℃、加熱時間０．５〜２時間であることが好
ましい。このような加熱条件でイミド転化を行うと、ポ
リイミド樹脂の収縮量がより大きくなるため、ベルトの
軸方向についての収縮を緩やかに行うことにより、膜厚
バラツキや平面度の精度の低下を防ぐことができる。

【０１３４】このようにして得られたポリイミド樹脂か
らなる中間転写ベルトの外面の表面粗度（Ｒａ）は、
１．５μｍ以下であることが好ましい。中間転写体の表
面粗度（Ｒａ）が１．５μｍを超えるとがさつき等の画
像欠陥が発生しやすくなる傾向にある。なお、がさつき
の発生は、転写の際に印加される電圧や剥離放電による
電界がベルト表面の凸部に局所的に集中して凸部表面が
変質することによって、新たな導電経路の発現により抵
抗が低下し、その結果得られる画像の濃度低下が起こる
ことに起因すると本発明者らは推察する。

【０１３５】このようにして得られる中間転写ベルト４
０９はシームレスベルトであることが好ましい。このシ
ームレスベルトの場合、中間転写ベルト４０９の厚さは
その使用目的に応じて適宜決定しうるが、強度や柔軟性
等の機械的特性の点から、２０〜５００μｍが好まし
く、５０〜２００μｍがより好ましい。また、中間転写
ベルト９の表面抵抗は、その表面抵抗率（Ω／□）の常
用対数値が８〜１５（ｌｏｇΩ／□）であることが好ま
しく、１１〜１３（ｌｏｇΩ／□）であることがより好
ましい。なお、ここでいう表面抵抗率とは、２２℃、５
５％ＲＨ環境下で１００Ｖの電圧を印加し、電圧印可開
始時から１０秒後に測定される電流値に基づいて得られ
る値をいう。

【０１３６】中間転写ベルト４０９は駆動ロール４０
６、バックアップロール４０８及びテンションロール４
０７により所定の張力をもって指示されており、これら
のロールの回転によりたわみを生じることなく回転可能
となっている。また、２次転写ロール４１３は、中間転
写ベルト４０９を介してバックアップロール４０８と当
接するように配置されている。バックアップロール４０
８と２次転写ロール４１３との間を通った中間転写ベル
ト４０９はクリーニングブレード４１６により清浄面化
された後、次の画像形成プロセスに繰り返し供される。

【０１３７】また、ハウジング４００内の所定の位置に
はトレイ（被転写媒体トレイ）４１１が設けられてお
り、トレイ４１１内の紙などの被転写媒体が移送ロール
４１２により中間転写ベルト４０９と２次転写ロール４
１３との間、さらには相互に当接する２個の定着ロール
４１４の間に順次移送された後、ハウジング４００の外
部に排紙される。

【０１３８】このように第４実施形態では、カラー画像
形成用の電子写真装置２２０において、電子写真感光体
４０１ａ〜４０１ｄとして本発明の電子写真感光体を用
いることによって、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄ
のそれぞれの画像形成プロセスにおいてリーク防止性と
電気特性との双方が十分に高水準で達成され、接触帯電
装置２と共に用いた場合であってもかぶり等の画質欠陥
を生じることなく良好な画像品質を得ることが可能とな
る。従って、本実施形態のような中間転写体を用いたカ
ラー画像形成用電子写真装置においても、良好な画像品
質を長期にわたって安定的に得ることが可能な電子写真
装置が実現される。

【０１３９】なお、本発明は上記実施形態に限定される
ものではない。例えば、図３、４に示した装置は、電子
写真感光体１（又は４０１ａ〜４０１ｄ）と帯電装置２
（又は４０２ａ〜４０２ｄ）とを含んで構成されるプロ
セスカートリッジを備えるものであってもよい。かかる
プロセスカートリッジを用いることによって、メンテナ
ンスをより簡便に行うことができる。

【０１４０】また、本実施形態では、接触帯電装置２
（又は４０２ａ〜４０２ｄ）の代わりにコロトロン帯電
器等の非接触帯電方式の帯電装置を用いても十分に良好
な画像品質を得ることができる。しかしながら、オゾン
発生防止の観点から接触帯電装置を用いることが好まし
い。

【０１４１】また、図３に示した装置は電子写真感光体
１表面に形成されたトナー像を被転写媒体Ｐに直接転写
するものであるが、本発明の電子写真装置は中間転写体
をさらに備えるものであってもよい。これにより、電子
写真感光体１表面のトナー像を中間転写体に転写した
後、中間転写体から被転写媒体Ｐに転写することができ
る。かかる中間転写体としては、導電性支持体上にゴ
ム、エラストマー、樹脂等を含む弾性層と少なくとも１
層の被覆層とが積層された構造を有するものを使用する
ことができる。

【０１４２】また、本発明の電子写真装置はイレース光
照射装置等の除電装置をさらに備えていてもよい。これ
により、電子写真感光体が繰り返し使用される場合に、
電子写真感光体の残留電位が次のサイクルに持ち込まれ
る現象が防止されるので、画像品質をより高めることが
できる。

【０１４３】また、第１実施形態にかかる電子写真感光
体の代わりに第２実施形態にかかる電子写真感光体を用
いた場合にも同様の効果が得られることは言うまでもな
い。

【０１４４】

【実施例】以下、実施例及び比較例に基づいて本発明を
さらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何
ら限定されるものではない。

【０１４５】（金属酸化物微粒子Ａの調製）酸化亜鉛
（Ｎａｎｏ Ｔｅｋ ＺｎＯ、シーアイ化成株式会社
製）１００重量部、カップリング剤としてのＮ−β−
（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシ
ランを１０重量％含有するトルエン溶液１０重量部、並
びにトルエン２００重量部を混合し、撹拌しながら２時
間還流を行った。その後、系を１０ｍｍＨｇに減圧して
トルエンを留去し、１３５℃で２時間熱処理を行って金
属酸化物微粒子Ａを得た。

【０１４６】得られた金属酸化物微粒子ＡについてＢＥ
Ｔ比表面積を測定し、ＢＥＴ批評面積の測定値、金属酸
化物微粒子の重量、並びにカップリング剤が表面を被覆
できる最良被覆面積から表面被覆率を求めた。得られた
結果を表１に示す。

【０１４７】（金属酸化物微粒子Ｂ〜Ｊの調製）金属酸
化物及びカップリング剤の種類、並びにカップリング剤
含有トルエン溶液の使用量を表１に示す通りとしたこと
以外は金属酸化物微粒子Ａと同様の被覆処理及び熱処理
を行い、金属酸化物微粒子Ｂ〜Ｊを得た。なお、使用し
たカップリング剤溶液はいずれもカップリング剤を１０
重量％含有するトルエン溶液である。得られた金属酸化
物微粒子Ｂ〜Ｊの表面被覆率を表１に示す。

【０１４８】（金属酸化物微粒子Ｋの調製）金属酸化物
微粒子Ａを２００℃で１時間熱処理して金属酸化物微粒
子Ｋを得た。得られた金属酸化物微粒子Ｋの表面被覆率
を表１に示す。

【０１４９】

【表１】

【０１５０】実施例１ （電子写真感光体の作製）金属酸化物微粒子Ａ３３重量
部、ブロック化イソシアネート（スミジュール３１７
５、住友バイエルンウレタン社製）６重量部及びメチル
エチルケトン２５重量部を３０分間混合した後、ブチラ
ール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）５重量部、シリコ
ーンボール（トスパール１２０、東芝シリコーン社製）
３重量部及びレベリング剤（シリコーンオイルＳＨ２９
ＰＡ、東レダウコーニングシリコーン社製）０．０１重
量部を上記の混合液に添加し、サンドミルにて２時間の
分散処理を行い、中間層用塗布液を得た。さらに、浸漬
塗布法により、直径３０ｍｍ、長さ４０４ｍｍ、肉厚１
ｍｍの円筒状アルミニウム基体の外周面に上記の塗布液
を塗布し、１５０℃、３０分の乾燥硬化を行って膜厚２
０μｍの中間層を形成した。

【０１５１】次に、電荷発生物質としてのＣｕＫα線を
用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度(２θ±０．
２°)が少なくとも７．４゜，１６．６゜，２５．５
゜，２８．３゜の位置に回折ピークを有する塩化ガリウ
ムフタロシアニン１５重量部、結着樹脂としての塩化ビ
ニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカ
ー社製）１０重量部、ｎ−ブチルアルコール３００重量
部からなる混合物をサンドミルにて４時間分散し、電荷
発生層用塗布液を得た。この塗布液を中間層上に浸漬塗
布し、乾燥して、膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成し
た。

【０１５２】さらに、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’
−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニ
ル−４，４’−ジアミン４重量部及びビスフェノールＺ
ポリカーボネート樹脂（分子量：４万）６重量部をクロ
ルベンゼン８０重量部に加えて溶解して電荷輸送層用塗
布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、１３
０℃、４０分の乾燥を行って膜厚２５μｍの電荷輸送層
を形成し、目的の電子写真感光体を得た。

【０１５３】（中間層の体積抵抗の測定）上記の中間層
用塗布液をアルミ基板上に浸漬塗布し、１５０℃で３０
分乾燥硬化を行って中間層（膜厚：２０μｍ）の形成を
行った。この中間層について、対抗電極としてφ１ｍｍ
の金電極を用い、１０⁷Ｖ／ｍ又は１０⁶Ｖ／ｍの電場を
印可したときの体積抵抗を測定した。測定は、高温高湿
（２８℃、８５％ＲＨ）、低温低湿（１０℃、１５％Ｒ
Ｈ）の２条件で行った。得られた結果を表２に示す。な
お、表２中、ρ¹〜ρ³はそれぞれ以下の条件で測定され
た体積抵抗を意味し、表２にはρ²／ρ¹、ρ¹／ρ³の値
も示してある。

【０１５４】ρ¹：２８℃、８５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍの
電場を印可したときの体積抵抗 ρ²：１５℃、１５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍの電場を印可し
たときの体積抵抗 ρ³：２８℃、８５％ＲＨで１０⁷Ｖ／ｍの電場を印可し
たときの体積抵抗。

【０１５５】（電子写真装置の作製及び連続プリント試
験１）得られた感光体を用いて電子写真装置を作製し
た。なお、電子写真装置の構成は、富士ゼロックス社製
フルカラープリンターＤｏｃｕ Ｐｒｉｎｔ Ｃ２２２
０（接触帯電装置、中間転写装置を有する）と同様の構
成とした。

【０１５６】この電子写真装置を用いて５万枚連続プリ
ント試験を行った。本試験で得られた初期、２万５千枚
目、５万枚目の画質評価結果を表２に示す。

【０１５７】実施例２〜１０ 実施例２〜１０においては、それぞれ金属酸化物微粒子
Ａの代わりに金属酸化物微粒子Ｂ〜Ｅ、Ｋ、Ｆ〜Ｉを用
いたこと以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を
作製し、中間層の体積抵抗を測定した。得られた結果を
表２に示す。

【０１５８】また、各電子写真感光体を用い、実施例１
と同様にして電子写真装置を作製し、５万枚連続プリン
ト試験を行った。得られた画質評価結果を表２に示す。

【０１５９】比較例１ 金属酸化物微粒子Ａの代わりに酸化亜鉛（Ｎａｎｏ Ｔ
ｅｋ ＺｎＯ、シーアイ化成株式会社製）を表面処理せ
ずにそのまま用いたこと以外は実施例１と同様にして、
電子写真感光体及び電子写真装置を作製し、中間層の体
積抵抗の測定及び５万枚連続プリント試験を行った。得
られた結果を表２に示す。

【０１６０】比較例２ 金属酸化物微粒子Ａの代わりに金属酸化物微粒子Ｊを用
いたこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体
及び電子写真装置を作製し、中間層の体積抵抗の測定及
び５万枚連続プリント試験を行った。得られた結果を表
２に示す。

【０１６１】比較例３ 金属酸化物微粒子Ａの代わりに酸化亜鉛（ＭＺ−３０
０、テイカ株式会社製）を表面処理せずにそのまま用い
たこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体及
び電子写真装置を作製し、中間層の体積抵抗の測定及び
５万枚連続プリント試験を行った。得られた結果を表２
に示す。

【０１６２】比較例４ 金属酸化物微粒子Ａの代わりに酸化チタン（ＴＡＦ−５
００Ｊ、富士チタン株式会社製）を表面処理せずにその
まま用いたこと以外は実施例１と同様にして、電子写真
感光体及び電子写真装置を作製し、中間層の体積抵抗の
測定及び５万枚連続プリント試験を行った。得られた結
果を表２に示す。

【０１６３】比較例５ 金属酸化物微粒子Ａの代わりに酸化スズ（Ｓ１、三菱マ
テリアル株式会社製）を表面処理せずにそのまま用いた
こと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体及び
電子写真装置を作製し、中間層の体積抵抗の測定及び５
万枚連続プリント試験を行った。得られた結果を表２に
示す。

【０１６４】

【表２】

【０１６５】表２に示したように、実施例１〜１０にお
いては、カブリや濃度低下等の画質欠陥を十分に防止す
ることができ、良好な画像品質を長期にわたって安定的
に得ることができた。これに対して、比較例１〜５にお
いては、カブリやリークの発生、画像濃度の低下といっ
た画質欠陥が比較的早期から見られ、２万５千枚の連続
プリントに耐え得るものではなかった。

【０１６６】実施例１１ 酸化スズ（Ｓ１、三菱マテリアル社製、比表面積：５０
ｍ²／ｇ）１００重量部をトルエン５００重量部と撹拌
混合し、シランカップリング剤（Ａ１１００、日本ユニ
カー製）１５重量部を添加して５時間撹拌した。その
後、減圧蒸留によりトルエンを留去し、得られた固形物
を１２０℃で２時間熱処理（焼き付け）を行った。かか
る熱処理の後の固形物に凝集が見られたので、ピンミル
にてこれを粉砕し、さらに１９０℃で２時間熱処理を行
い、被覆処理が施された酸化スズを得た。

【０１６７】次に、被覆処理が施された酸化スズ３５重
量部、硬化剤としてのブロック化イソシアネート（スミ
ジュール３１７５、住友バイエルウレタン社製）１５重
量部、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）６重
量部、及びメチルエチルケトン４４重量部を混合し、１
ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルで２時間の分
散処理を行い分散液を得た。さらに、得られた分散液
に、触媒としてのジオクチルスズジラウレート０．００
５重量部、シリコーンオイル（ＳＨ２９ＰＡ、東レダウ
コーニングシリコーン社製）０．０１重量部を添加して
中間層用塗布液を得た。この塗布液をアルミニウム基体
（直径：３０ｍｍ、長手方向の長さ：３４０ｍｍ、肉厚
１ｍｍ：１ｍｍ）の外周面に浸漬塗布法により塗布し、
１６０℃で１００分の乾燥硬化を行った。このようにし
て膜厚２０μｍの中間層を形成した。この中間層の体積
抵抗ρ¹〜ρ³、ρ²／ρ¹、ρ¹／ρ³を表３に示す。

【０１６８】次に、電荷発生物質としてのＣｕＫα線を
用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度(２θ±０．
２°)が少なくとも７．４゜，１６．６゜，２５．５
゜，２８．３゜の位置に回折ピークを有する塩化ガリウ
ムフタロシアニン１５重量部、結着樹脂としての塩化ビ
ニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカ
ー社製）１０重量部、ｎ−ブチルアルコール３００重量
部からなる混合物を１ｍｍφのガラスビーズを用いてサ
ンドミルにて４時間分散し、電荷発生層用塗布液を得
た。この塗布液を中間層上に浸漬塗布し、乾燥して、膜
厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。

【０１６９】さらに、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’
−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニ
ル−４，４’−ジアミン４重量部及びビスフェノールＺ
ポリカーボネート樹脂（分子量：４万）６重量部をクロ
ルベンゼン８０重量部に加えて溶解して電荷輸送層用塗
布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、１３
０℃、４０分の乾燥を行って膜厚２５μｍの電荷輸送層
を形成し、目的の電子写真感光体を得た。

【０１７０】比較例６ 酸化スズを被覆処理する際に１９０℃で２時間の熱処理
（２段階目の熱処理）を行わなかったこと以外は実施例
１１と同様にして、中間層、電荷発生層、電荷輸送層の
形成を行い、電子写真感光体を作製した。

【０１７１】実施例１２ 酸化チタン（ＴＡＦ５００Ｊ、富士チタン社製、比表面
積：１８ｍ²／ｇ）１００重量部をミキサ中で撹拌しな
がら、シランカップリング剤（ＫＢＭ５０３、信越化学
社製）２重量部及びトルエン１０重量部の混合液を添加
して１０分間撹拌した。その後、混合物を１３０℃で２
時間熱処理して固形物を得た。得られた固形物に凝集が
見られたので、ピンミルにて１時間これを粉砕し、さら
に１８０℃で１時間熱処理を行い、被覆処理が施された
酸化チタンを得た。

【０１７２】次に、被覆処理が施された酸化チタン５０
重量部、硬化剤としてのブロック化イソシアネート（ス
ミジュール３１７５、住友バイエルウレタン社製）１５
重量部、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）６
重量部、及びメチルエチルケトン６０重量部を混合し、
１ｍｍφのカラスビーズを用いてサンドミルで４時間分
散処理を行い分散液を得た。さらに、得られた分散液
に、触媒としてのジオクチルスズジラウレート０．００
５重量部、シリコーンオイル（ＳＨ２９ＰＡ、東レダウ
コーニングシリコーン社製）０．０１重量部を添加し
て、中間層用塗布液を得た。

【０１７３】このようにして得られた中間層用塗布液を
用いたこと以外は実施例１１と同様にして中間層、電荷
発生層、電荷輸送層を形成し、目的の電子写真感光体を
得た。中間層の体積抵抗ρ¹〜ρ³、ρ²／ρ¹、ρ¹／ρ³
を表３に示す。

【０１７４】比較例７ 酸化チタンを被覆処理する際に１８０℃で１時間の熱処
理（２段階目の熱処理）を行わなかったこと以外は実施
例１２と同様にして、中間層、電荷発生層、電荷輸送層
の形成を行い、電子写真感光体を作製した。

【０１７５】実施例１３ 酸化亜鉛（テイカ社製、比表面積：１５ｍ²／ｇ、平均
粒子径７０μｍ）１００重量部をトルエン５００重量部
と撹拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ６０３、
信越化学社製）１．５重量部を添加して２時間撹拌し
た。その後、減圧蒸留によりトルエンを留去し、得られ
た固形物を１５０℃で２時間熱処理した。かかる熱処理
後の固形物に凝集が見られたのでピンミルにて２時間粉
砕し、さらに２００℃で２時間熱処理を行い、被覆処理
が施された酸化亜鉛を得た。

【０１７６】次に、被覆処理が施された酸化亜鉛６０重
量部、硬化剤としてのブロック化イソシアネート（スミ
ジュール３１７５、住友バイエルウレタン社製）１５重
量部、メチルエチルケトン２５重量部、並びにブチラー
ル樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）１５重量部をメチル
エチルケトン８５重量部に溶解した溶液３８重量部を混
合し、１ｍｍφのカラスビーズを用いてサンドミルで２
時間分散処理を行い分散液を得た。さらに、得られた分
散液に、触媒としてのジオクチルスズジラウレート０．
００５重量部、シリコーンオイル（ＳＨ２９ＰＡ、東レ
ダウコーニングシリコーン社製）０．０１重量部を添加
して、中間層用塗布液を得た。

【０１７７】このようにして得られた中間層用塗布液を
用いたこと以外は実施例１１と同様にして中間層を形成
した。中間層の体積抵抗ρ¹〜ρ³、ρ²／ρ¹、ρ¹／ρ³
を表３に示す。

【０１７８】さらに、電荷発生物質としてのＣｕＫα線
を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度(２θ±
０．２°)が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．
９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキ
シガリウムフタロシアニン１５重量部、結着樹脂として
の塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日
本ユニカー社製）１０重量部、ｎ−ブチルアルコール３
００重量部からなる混合物を、１ｍｍφのガラスビーズ
を用いてサンドミルにて４時間分散し、電荷発生層用塗
布液を得た。この塗布液を中間層上に浸漬塗布し、乾燥
して、膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。

【０１７９】さらに、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’
−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニ
ル−４，４’−ジアミン４重量部及びビスフェノールＺ
ポリカーボネート樹脂（分子量：４万）６重量部をクロ
ルベンゼン８０重量部に加えて溶解して電荷輸送層用塗
布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、１３
０℃、４０分の乾燥を行って膜厚２５μｍの電荷輸送層
を形成し、目的の電子写真感光体を得た。

【０１８０】比較例８ 酸化亜鉛を被覆処理する際に２００℃で２時間の熱処理
（２段階目の熱処理）を行わなかったこと以外は実施例
１３と同様にして、中間層、電荷発生層、電荷輸送層の
形成を行い、電子写真感光体を作製した。

【０１８１】

【表３】

【０１８２】（残留電位及び帯電電位の変動抑制性の評
価）実施例１１〜１３及び比較例６〜８の電子写真感光
体を用い、常温常湿下（２０℃、４０％ＲＨ）で下記工
程（Ａ）〜（Ｃ）： （Ａ）：グリッド印加電圧−７００Ｖのスコロトロン帯
電器で電子写真感光体を帯電させる帯電工程、（Ｂ）：
（Ａ）の１秒後に波長７８０ｎｍの半導体レーザを用い
て１０．０ｅｒｇ／ｃｍ²の光を照射して放電させる露
光工程、（Ｃ）：工程（Ａ）の３秒後に５０．０ｅｒｇ
／ｃｍ²の赤色ＬＥＤ光を照射して除電する除電工程を
行った。このとき、レーザープリンター改造スキャナー
（富士ゼロックス製ＸＰ−１５を改造したもの）を用い
て、（Ａ）での電位Ｖ_H、（Ｂ）での電位Ｖ_L及び（Ｃ）
での電位Ｖ_RPを測定した。初期及び１万回繰り返し後の
Ｖ_H、Ｖ_L及びＶ _RPを表４に示す。

【０１８３】また、低温低湿下（１０℃、１５％ＲＨ）
及び高温高湿下（２８℃、８５％ＲＨ）として同様の試
験を行い、常温常湿下でのＶ_H、Ｖ_L及びＶ_RPからの変動
量ΔＶ_H、ΔＶ_L及びΔＶ_RPを求めて環境安定性を評価し
た。

【０１８４】さらに、上記（Ａ）、（Ｂ）のみを１００
ｋｃｙｃｌｅ繰り返し、１ｃｙｃｌｅのときのＶ_H、Ｖ_L
及びＶ_RPからの変動量ΔＶ_H、ΔＶ_L及びΔＶ_RPを求め
た。

【０１８５】上記試験で得られた結果を表４に示す。な
お、表４中、Ｖ_Hの値が大きいことは、電子写真感光体
の受容電位が高く、コントラストを高くとれることを意
味する。また、Ｖ_Lの値が小さいことは電子写真感光体
が高感度であることを意味する。また、Ｖ_RPの値が小さ
いことは、電子写真感光体における残留電位が少なく、
画像メモリーやカブリが少ないことを意味する。

【０１８６】（電子写真装置の作製及び連続プリント試
験２）実施例１１〜１３及び比較例６〜８の電子写真感
光体を用いて電子写真装置を作製した。なお、電子写真
装置の構成は、富士ゼロックス社製フルカラープリンタ
ーＤｏｃｕ Ｐｒｉｎｔ Ｃ２２２０（接触帯電装置、
中間転写装置を有する）と同様の構成とした。

【０１８７】この電子写真装置を用いて１万枚連続プリ
ント試験を行った。本試験で得られた１万枚目の画質評
価結果を表４に示す。

【０１８８】

【表４】

【０１８９】表４に示したように、本発明にかかる実施
例１１〜１３の電子写真感光体は残留電位及び帯電電位
の変動抑制性を示すものであり、帯電及び露光を１００
ｋｃｙｃｌｅ繰り返したときの残留電位はいずれも２５
０Ｖ以下であった。また、実施例１１〜１３の電子写真
感光体を用いた電子写真装置では、１万枚プリント後で
あっても良好な画像を得ることができた。

【０１９０】

【発明の効果】以上説明した通り、本発明の電子写真感
光体においては、導電性基体と感光層との間に、金属酸
化物微粒子及び結着樹脂を含有し、体積抵抗及びその環
境依存性が特定の条件を満たす中間層を形成することに
よって、リーク防止性と電気特性との双方が十分に高め
られるので、接触帯電装置と共に用いた場合であっても
かぶり等の画質欠陥を生じることなく良好な画像品質を
得ることが可能となる。

【０１９１】また、本発明の電子写真感光体の製造方法
では、所定のカップリング剤を用いた被覆処理及び熱処
理が施された金属酸化物微粒子を用いて中間層を形成す
ることによって、体積抵抗及びその環境依存性が上記特
定の条件を満たす中間層を容易に且つ確実に形成するこ
とができる。その結果、得られる感光体におけるリーク
防止性と電気特性との双方が十分に高められるので、当
該感光体を接触帯電装置と共に用いた場合であってもか
ぶり等の画質欠陥を生じることなく良好な画像品質を得
ることができる。

【０１９２】また、本発明のプロセスカートリッジ及び
電子写真装置はそれぞれ接触帯電手段を備えるものであ
るが、当該接触帯電手段と上記本発明の電子写真感光体
とを組み合わせて使用することによって、リーク防止性
と電気特性とが高水準で両立されるので、接触帯電装置
を用いた従来のプロセスカートリッジ及び電子写真装置
では達成が非常に困難であった、かぶり等の画質欠陥を
生じることなく良好な画像品質が得られるといった効果
が奏される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態にかかる電子写真感光体
を示す模式断面図である。

【図２】本発明の第２実施形態にかかる電子写真感光体
を示す模式断面図である。

【図３】本発明の第３実施形態にかかる電子写真装置を
示す模式断面図である。

【図４】本発明の第４実施形態にかかる電子写真装置を
示す模式断面図である。

【符号の説明】

１、４０１ａ〜４０１ｄ…電子写真感光体、１１…導電
性基体、１２…中間層、１３…電荷発生層、１４…電荷
輸送層、１５…保護層、１６…感光層、１７…下引き
層、２、４０２ａ〜４０２ｄ…接触帯電装置、３、４０
３…露光装置、４、４０４ａ〜４０４ｄ…現像装置、５
…転写装置、６…像定着装置、７、４１５ａ〜４１５
ｄ、４１６…クリーニング装置、４００…ハウジング、
４０５ａ〜４０５ｄ…トナーカートリッジ、４０６…駆
動ロール、４０７…テンションロール、４０８…バック
アップロール、４０９…中間転写ベルト、４１０ａ〜４
１０ｄ…１次転写ロール、４１１…被転写媒体トレイ、
４１２…移送ロール、４１３…２次転写ロール、４１４
…定着ロール。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 額田 秀美 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 岩崎 真宏 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 相田 美智子 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 上條 由紀子 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 宮本 昌彦 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 江角 鉄也 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 山田 貴史 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 坂東 浩二 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 Ｆターム(参考） 2H068 AA44 AA45 AA48 BA57 BA58 CA22 EA07 EA16 FA01 FA27 2H200 GA12 GA16 GA23 GA33 GA34 GA44 GA45 GA46 GA47 GA58 GA59 GB12 GB13 GB15 GB22 GB25 GB44 HA02 HA28 HB03 HB07 HB12 HB13 HB14 HB28 HB43 HB45 HB46 HB48 JA02 JC03 JC04 JC07 JC12 JC13 JC15 JC16 JC17 LA40 LB02 LB09 LB13 LC03 LC09 LC10 MA04 MA11 MA12 MA13 MA14 MA17 MA20 MB04 MB05 MC06 NA02 NA03 NA06

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性基体と、該基体上に形成された中
   間層と、該中間層上に形成された感光層とを備える電子
   写真感光体であって、 前記中間層が、金属酸化物微粒子及び結着樹脂を含有
   し、２８℃、８５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍの電場を印可し
   たときの体積抵抗が１０⁸〜１０¹³Ω・ｃｍであり、且
   つ１５℃、１５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍの電場を印可した
   ときの体積抵抗が２８℃、８５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍの
   電場を印可したときの体積抵抗の５００倍以下であるこ
   とを特徴とする電子写真感光体。
2. 【請求項２】 前記金属酸化物微粒子が、シランカップ
   リング剤、チタネート系カップリング剤及びアルミネー
   ト系カップリング剤からなる群より選ばれる少なくとも
   １種のカップリング剤で被覆処理された後、１８０℃以
   上で熱処理されたものであることを特徴とする、請求項
   １に記載の電子写真感光体。
3. 【請求項３】 前記金属酸化物微粒子が、シランカップ
   リング剤、チタネート系カップリング剤及びアルミネー
   ト系カップリング剤からなる群より選ばれる少なくとも
   １種のカップリング剤及び所定の溶媒を含む処理液で被
   覆処理された後、第１の熱処理温度で熱処理され、さら
   に第２の熱処理温度で熱処理されたものであることを特
   徴とする、請求項１に記載の電子写真感光体。
4. 【請求項４】 前記第１の熱処理温度が溶媒の沸点以上
   であり、前記第２の熱処理温度が１８０℃以上であるこ
   とを特徴とする、請求項３に記載の電子写真感光体。
5. 【請求項５】 前記カップリング剤がアミノ基を有する
   化合物であることを特徴とする、請求項２〜４のうちの
   いずれか一項に記載の電子写真感光体。
6. 【請求項６】 帯電露光のみを１００ｋｃｙｃｌｅ以上
   繰り返したときにその残留電位の変動が２５０Ｖ以下で
   あることを特徴とする、請求項２〜５のうちのいずれか
   一項に記載の電子写真感光体。
7. 【請求項７】 導電性基体上に、中間層と、感光層とを
   形成する電子写真感光体の製造方法であって、金属酸化
   物微粒子をシランカップリング剤、チタネート系カップ
   リング剤及びアルミネート系カップリング剤からなる群
   より選ばれる少なくとも１種のカップリング剤で被覆処
   理した後、１８０℃以上で熱処理する金属酸化物微粒子
   被覆工程と、前記金属酸化物被覆被覆工程で得られた金
   属酸化物酸化物微粒子と結着樹脂とを所定の溶媒に加え
   て得られる塗布液を、導電性支持体上に塗布し、乾燥さ
   せて、２８℃、８５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍの電場を印可
   したときの体積抵抗が１０⁸〜１０¹³Ω・ｃｍであり、
   且つ１５℃、１５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍの電場を印可し
   たときの体積抵抗が２８℃、８５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍ
   の電場を印可したときの体積抵抗の５００倍以下である
   中間層を得る中間層形成工程と、を含むことを特徴とす
   る電子写真感光体の製造方法。
8. 【請求項８】 導電性基体上に、中間層と、感光層とを
   形成する電子写真感光体の製造方法であって、金属酸化
   物微粒子をシランカップリング剤、チタネート系カップ
   リング剤及びアルミネート系カップリング剤からなる群
   より選ばれる少なくとも１種のカップリング剤及び所定
   の溶媒を含む処理液で被覆処理した後、第１の熱処理温
   度で熱処理し、さらに第２の熱処理温度で熱処理する金
   属酸化物微粒子被覆工程と、前記金属酸化物被覆被覆工
   程で得られた金属酸化物酸化物微粒子と結着樹脂とを所
   定の溶媒に加えて得られる塗布液を、導電性支持体上に
   塗布し、乾燥させて、２８℃、８５％ＲＨで１０⁶Ｖ／
   ｍの電場を印可したときの体積抵抗が１０⁸〜１０¹³Ω
   ・ｃｍであり、且つ１５℃、１５％ＲＨで１０⁶Ｖ／ｍ
   の電場を印可したときの体積抵抗が２８℃、８５％ＲＨ
   で１０⁶Ｖ／ｍの電場を印可したときの体積抵抗の５０
   ０倍以下である中間層を得る中間層形成工程と、を含む
   ことを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
9. 【請求項９】 前記第１の熱処理温度が前記溶媒の沸点
   以上であり、前記第２の熱処理温度が１８０℃以上であ
   ることを特徴とする、請求項８に記載の電子写真感光体
   の製造方法。
10. 【請求項１０】 請求項１〜６のうちのいずれか一項に
    記載の電子写真感光体と、前記感光体表面に接触して当
    該感光体を帯電させる接触帯電手段と、を備えることを
    特徴とするプロセスカートリッジ。
11. 【請求項１１】 請求項１〜６のうちのいずれか一項に
    記載の電子写真感光体と、前記感光体表面上のトナー像
    を転写材に転写する中間転写方式の転写装置と、を備え
    ることを特徴とするプロセスカートリッジ。
12. 【請求項１２】 請求項１〜６のうちのいずれか一項に
    記載の電子写真感光体と、前記感光体表面に接触して当
    該感光体を帯電させる接触帯電手段と、前記感光体表面
    を露光して静電潜像を形成する露光手段と、前記静電潜
    像をトナーにより現像する現像手段と、現像されたトナ
    ー像を被転写媒体に転写する転写手段と、転写後の前記
    感光体表面に残存するトナーを除去するクリーニング手
    段と、を備えることを特徴とする電子写真装置。
13. 【請求項１３】 請求項１〜６のうちのいずれか一項に
    記載の電子写真感光体と、前記感光体表面に接触して当
    該感光体を帯電させる接触帯電手段と、前記感光体表面
    を露光して静電潜像を形成する露光手段と、前記静電潜
    像をトナーにより現像する現像手段と、現像されたトナ
    ー像を中間転写体に転写する中間転写手段と、前記中間
    転写体に転写されたトナー像を被転写媒体に転写する転
    写手段と、転写後の前記感光体表面に残存するトナーを
    除去するクリーニング手段と、を備えることを特徴とす
    る電子写真装置。