CN103430104A - 电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备以及电子照相感光构件的制造方法 - Google Patents

电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备以及电子照相感光构件的制造方法 Download PDF

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Abstract

提供不容易发生泄漏的电子照相感光构件、各自包含所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备以及所述电子照相感光构件的制造方法。所述电子照相感光构件包括包含用掺杂有杂元素的氧化锡涂布的氧化钛颗粒的导电层。当将在进行施加包含直流电压的-1.0kV到导电层的试验的情况中流过导电层的最大电流量的绝对值定义为Ia，并将在每分钟的电流量的减少率首次达到1%以下的情况中流过导电层的电流量的绝对值定义为Ib时，满足Ia≤6000和10≤Ib的关系。试验前的导电层的体积电阻率为1.0×108Ω·cm至5.0×1012Ω·cm。

Description

电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备以及电子照相感光构件的制造方法
技术领域
本发明涉及电子照相感光构件、各自包括电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备以及电子照相感光构件的制造方法。
背景技术
近年来已深入研究开发了使用有机光导电性材料(有机电子照相感光构件)的电子照相感光构件。
电子照相感光构件基本上包括支承体和形成于支承体上的感光层。然而，实事上，为了例如覆盖支承体表面的缺陷、防止感光层被电破坏、增强带电性和改善从支承体向感光层的电荷注入阻止性的目的，在许多情况中在支承体和感光层之间设置各种层。
在支承体和感光层之间设置的层中，作为为了覆盖支承体表面的缺陷的目的而设置的层，已知包含金属氧化物颗粒的层。包含金属氧化物颗粒的层与不包含金属氧化物颗粒的层相比通常具有高导电性(例如，体积电阻率为1.0×108至5.0×1012Ω·cm)，并且甚至当层的厚度增加时，也难以增加形成图像时的残余电位。因此，包含金属氧化物颗粒的层容易地覆盖支承体表面的缺陷。当在支承体和感光层之间设置具有高导电性的该层(以下，称为“导电层”)以覆盖支承体表面的缺陷时，扩大了支承体表面的缺陷的容许范围。结果，扩大了使用的支承体的容许范围。因此，提供增加电子照相感光构件的生产性的优点。
专利文献1公开了包括在支承体和光导电层之间的中间层中使用掺杂有磷的氧化锡颗粒的技术。此外，专利文献2公开了包括在感光层上的保护层中使用掺杂有钨的氧化锡颗粒的技术。此外，专利文献3公开了包括在支承体和感光层之间的导电层中使用用缺氧型氧化锡涂布的氧化钛颗粒的技术。此外，专利文献4公开了包括在支承体和感光层之间的中间层中使用用氧化锡覆盖的硫酸钡颗粒的技术。
引文列表
专利文献
专利文献1：日本专利申请特开H06-222600号公报
专利文献2：日本专利申请特开第2003-316059号公报
专利文献3：日本专利申请特开第2007-47736号公报
专利文献4：日本专利申请特开H06-208238号公报
发明内容
发明要解决的问题
然而，作为本发明的发明人进行研究的结果，发现当使用采用包含金属氧化物颗粒的层作为导电层的电子照相感光构件，在低温低湿环境下反复形成图像时，在电子照相感光构件中易于发生泄漏。泄漏指在电子照相感光构件的局部发生绝缘击穿，并且过量的电流流过该局部的现象。当发生泄漏时，电子照相感光构件不能充分地充电，导致图像缺陷，例如黑点、白色横向条纹和黑色横向条纹。
本发明涉及甚至当电子照相感光构件采用包含金属氧化物颗粒的层作为导电层时也不容易发生泄漏的电子照相感光构件，各自包括电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备，以及电子照相感光构件的制造方法。
用于解决问题的方案
根据本发明的一方面，提供电子照相感光构件，其包括：圆筒状支承体；形成于圆筒状支承体上的包含粘结剂材料和金属氧化物颗粒的导电层；和形成于导电层的感光层，其中金属氧化物颗粒为用掺杂有杂元素的氧化锡涂布的氧化钛颗粒；当在进行连续施加仅包含直流电压的-1.0kV电压到导电层的试验的情况中流过导电层的最大电流量的绝对值定义为Ia[μA]，和在每一分钟流过导电层的电流量的减少率首次达到1%以下的情况中流过导电层的电流量的绝对值定义为Ib[μA]时，Ia和Ib满足以下关系(i)和(ii)；
Ia≤6000    (i)；且
10≤Ib    (ii)，
进行试验前的导电层的体积电阻率为1.0×108至5.0×1012Ω·cm。
本发明的另一方面，提供可拆卸地安装至电子照相设备的主体的处理盒，其中所述处理盒一体化地支承：上述电子照相感光构件；和选自由充电装置、显影装置、转印装置与清洁装置组成的组的至少一种装置。
本发明的进一步的方面，提供一种电子照相设备，其包括：上述电子照相感光构件、充电装置、曝光装置、显影装置和转印装置。
根据本发明更进一步的方面，提供电子照相感光构件的制造方法，所述方法包括：在圆筒状支承体上形成具有1.0×108Ω·cm以上且5.0×1012Ω·cm以下体积电阻率的导电层的步骤；和在导电层上形成感光层的步骤，其中，形成导电层的步骤包括：通过使用溶剂、粘结剂材料和具有1.0×103至1.0×105Ω·cm的粉末电阻率的金属氧化物颗粒制备导电层用涂布液，和通过使用导电层用涂布液形成导电层；导电层用涂布液中金属氧化物颗粒(P)与粘结剂材料(B)的质量比(P/B)为1.5/1.0至3.5/1.0；和金属氧化物颗粒为用掺杂有磷的氧化锡涂布的氧化钛颗粒。
发明的效果
根据本发明，可以提供甚至当电子照相感光构件采用包含金属氧化物颗粒的层作为导电层时也不容易发生泄漏的电子照相感光构件，各自包括电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备，以及电子照相感光构件的制造方法。
参考附图，从示例性实施方案的以下描述中，本发明的进一步特征将变得显而易见。
附图说明
图1为说明包括具有电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备示意性构造的实例的图。
图2为说明导电层的体积电阻率的测量方法的图(俯视图)。
图3为说明导电层的体积电阻率的测量方法的图(截面图)。
图4为说明针耐压试验装置(needle-withstanding test apparatus)的图。
图5为说明连续施加仅包含直流分量的-1.0kV电压到导电层的试验的图。
图6为说明导电辊的示意性构造的图。
图7为说明导电层的电阻的测量方法的图。
图8为说明Ia[μA]和Ib[μA]的图。
具体实施方式
本发明的电子照相感光构件包括圆筒状支承体(以下，也简称为“支承体”)、形成于圆筒状支承体上的导电层和形成于导电层上的感光层。感光层可以是在单一层中包含电荷产生物质和电荷输送物质的单层型感光层或者可以是将包含电荷产生物质的电荷产生层和包含电荷输送物质的电荷输送层层压的层压型感光层。此外，如果需要，在形成于圆筒状支承体上的导电层和感光层之间可设置底涂层。
支承体优选为导电性(导电性支承体)的，并可以使用由金属如铝、铝合金和不锈钢制成的支承体。在使用铝或铝合金的情况中，可使用通过包括挤出和拉伸的生产方法生产的铝管或通过包括挤出和减薄拉伸(ironing)的生产方法生产的铝管。该铝管在没有表面的切削的情况下提供令人满意的尺寸精度和表面平滑性，因此在成本方面也是有利的。然而，在铝管未切削的表面上，易于发生毛刺状突出缺陷。因此，设置导电层是特别有效的。
本发明中，为了覆盖支承体表面的缺陷的目的，在支承体上设置具有1.0×108Ω·cm以上且5.0×1012Ω·cm以下的体积电阻率的导电层。应当注意，在进行稍后所述的直流电压连续施加试验的情况中，导电层的体积电阻率指进行直流电压连续施加试验前测量的体积导电率。当在支承体上设置作为用于覆盖支承体表面的缺陷的层的具有超过5.0×1012Ω·cm的体积电阻率的层时，在图像形成时易于破坏电荷的流动并易于增加残余电位。另一方面，当导电层的体积电阻率小于1.0×108Ω·cm时，流过导电层的电荷量过度增加，并易于发生泄漏。
参考图2和3描述电子照相感光构件的导电层的体积电阻率的测量方法。图2为说明导电层的体积电阻率的测量方法的俯视图，图3为说明导电层的体积电阻率的测量方法的截面图。
在常温常湿(23℃/50%RH)环境下测量导电层的体积电阻率。铜带203(由Sumitomo 3M Limited制造的型号No.1181)贴附于导电层202表面，并用作导电层202正面侧上的电极。此外，支承体201用作导电层202背面侧上的电极。分别设置用于在铜带203和支承体201之间施加电压的电源206和用于测量铜带203和支承体201之间流动的电流的电流测量装置207。此外，为了施加电压到铜带203，铜配线204置于铜带203上，并从铜配线204上面贴附类似于铜带203的铜带205，从而铜配线204不突出到铜带203，由此使铜配线204固定到铜带203。通过铜配线204将电压施加到铜带203。
当在铜带203和支承体201之间不施加电压的情况下获得的背景电流值定义为I0[A]，在施加仅包含直流电压(直流分量)的–1V电压的情况下获得的电流值定义为I[A]，导电层202的厚度定义为d[cm]，和导电层202正面侧上的电极的面积(铜带203)定义为S[cm2]时，将由下列数学式(1)表示的值定义为导电层202的体积电阻率ρ[Ω·cm]。
ρ=1/(I-I0)×S/d[Ω·cm]    (1)
该测量中，测量绝对值为1×10-6A以下的微小电流值，因此，优选使用能够测量微小电流的装置作为电流测量装置207。该装置的实例为由Hewlett-Packard Japan,Ltd.制造的pA仪(商品名：4140B)。
应当注意，在仅导电层形成于支承体上的状态下测量的导电层的体积电阻率基本上与在导电层上的各层(例如，感光层)从电子照相感光构件剥离以仅留支承体上的导电层的状态下测量的导电层的体积电阻率相同。
导电层可使用利用溶剂、粘结剂材料和金属氧化物颗粒制备的导电层用涂布液来形成。此外，本发明中，作为金属氧化物颗粒，使用用掺杂有杂元素的氧化钛涂布的氧化钛颗粒(以下，也称为“用氧化锡涂布的氧化钛颗粒”)。用掺杂有杂元素的氧化锡涂布的氧化钛颗粒中，优选使用用掺杂有磷(P)的氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒。
导电层用涂布液可通过将金属氧化物颗粒(用氧化锡涂布的氧化钛颗粒)与粘结剂材料一起分散于溶剂中而制备。作为分散方法，给出例如使用油漆搅拌器、砂磨机、球磨机和液体碰撞型高速分散机的方法。导电层可通过用如上所述制备的导电层用涂布液来涂布支承体，并将导电层用涂布液的涂膜干燥和/或固化来形成。
此外，从增强耐泄漏性和抑制残余电位增加的观点，当在进行连续施加仅包含直流电压(直流分量)的-1.0kV电压到导电层的试验(也称为“直流电压连续施加试验”)的情况中流过导电层的最大电流量的绝对值定义为Ia[μA]，和在每分钟流过导电层的电流量的减少率首次达到1%以下的情况中流过导电层的电流量的绝对值规定为Ib[μA]时，优选Ia和Ib满足以下关系(i)和(ii)。稍后描述直流电压连续施加试验的细节。
Ia≤6000    (i)
10≤Ib    (ii)
以下，Ia(最大电流量的绝对值)也称为“电流的最大量Ia”，Ib(电流量的绝对值)也称为“电流的量Ib”。
当流过导电层的最大电流量Ia超过6,000μA时，易于降低电子照相感光构件的耐泄漏性。认为在其最大电流量Ia超过6,000μA的导电层中，易于局部流过过量电流，并易于发生引起泄漏的绝缘击穿。为了进一步增强耐泄漏性，优选最大电流量Ia为5,000μA以下(Ia≤5000    (iii))。
另一方面，当流过导电层的电流量Ib小于10μA时，在图像形成时电子照相感光构件的残余电位易于增加。认为其电流量Ib小于10μA的导电层中破坏电荷的流动，引起残余电位增加。为了进一步抑制残余电位增加，优选电流量Ib为20μA以上(20≤Ib    (iv))。
此外，从增强耐泄漏性和设定最大电流量Ia为6,000μA以下的观点，优选导电层中作为金属氧化物颗粒使用的用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的粉末电阻率为1.0×103Ω·cm以上。
当用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的粉末电阻率小于1.0×103Ω·cm时，电子照相感光构件的耐泄漏性易于降低。这大概因为在由用氧化锡涂布的氧化钛颗粒形成的导电层中的导电路径的状态根据用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的粉末电阻率而变化。当用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的粉末电阻率小于1.0×103Ω·cm时，流过各用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的电荷量趋于增加，另一方面，当用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的粉末电阻率为1.0×103Ω·cm以上时，流过各用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的电荷量趋于降低。具体地，认为不管导电层是使用粉末电阻率小于1.0×103Ω·cm的用氧化锡涂布的氧化钛颗粒形成的导电层，还是使用粉末电阻率为1.0×103Ω·cm以上的用氧化锡涂布的氧化钛颗粒形成的导电层，当两种导电层的体积电阻率相同时，流过导电层之一的总电荷量与另一导电层的总电荷量相同。当流过导电层的总电荷量相同时，流过各用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的电荷量在粉末电阻率小于1.0×103Ω·cm的用氧化锡涂布的氧化钛颗粒和粉末电阻率为1.0×103Ω·cm以上的用氧化锡涂布的氧化钛颗粒之间变化。
这意味着在使用粉末电阻率小于1.0×103Ω·cm的用氧化锡涂布的氧化钛颗粒形成的导电层和使用粉末电阻率为1.0×103Ω·cm以上的用氧化锡涂布的氧化钛颗粒形成的导电层之间，导电层中的导电路径数发生变化。具体地，推测在使用粉末电阻率为1.0×103Ω·cm以上的用氧化锡涂布的氧化钛颗粒形成的导电层中比在使用粉末电阻率小于1.0×103Ω·cm的用氧化锡涂布的氧化钛颗粒形成的导电层中的导电层中的导电路径数大。
因此，认为在使用粉末电阻率为1.0×103Ω·cm以上的用氧化锡涂布的氧化钛颗粒形成导电层的情况中，在导电层中的每一导电路径流动的电荷量变得相对小，并抑制在各导电路径中局部流动过量电流，这导致电子照相感光构件的耐泄漏性增强。为了进一步增加耐泄漏性，优选导电层中作为金属氧化物颗粒使用的用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的粉末电阻率为3.0×103Ω·cm以上。
此外，从抑制残余电位增加和设定电流量Ib为10μA以上的观点，优选导电层中作为金属氧化物颗粒使用的用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的粉末电阻率为1.0×105Ω·cm以下。
当用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的粉末电阻率超过1.0×105Ω·cm时，在图像形成时电子照相感光构件的残余电位易于增加。此外，变得难以调节导电层的体积电阻率至5.0×1012Ω·cm以下。为了进一步抑制残余电位增加，优选导电层中作为金属氧化物颗粒使用的用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的粉末电阻率为5.0×104Ω·cm以下。
由于这些原因，导电层中作为金属氧化物使用的用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的粉末电阻率优选为1.0×103Ω·cm以上且1.0×105Ω·cm以下，更优选3.0×103Ω·cm以上且5.0×104Ω·cm以下。
用氧化锡涂布的氧化钛颗粒与用缺氧型氧化锡涂布(SnO2)的氧化钛(TiO2)颗粒(以下，也称为“用缺氧型氧化锡涂布的氧化钛颗粒”)相比，不仅具有大的增强电子照相感光构件的耐泄漏性的效果，而且还具有大的抑制图像形成时残余电位增加的效果。用氧化锡涂布的氧化钛颗粒之所以具有大的增强耐泄漏性效果的原因认为如下所述。即，使用作为金属氧化物颗粒的用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的导电层与使用用缺氧型氧化锡涂布的氧化钛颗粒的导电层相比具有小的最大电流量Ia和高的耐压性。此外，用氧化锡涂布的氧化钛颗粒之所以具有大的抑制图像形成时残余电位增加的效果的原因认为如下所述。即，用缺氧型氧化锡涂布的氧化钛颗粒在氧存在下被氧化，从而在氧化锡(SnO2)中的氧缺陷部位消失，颗粒的电阻增加，导电层中的电荷的流动易于被破坏，而用氧化锡涂布的氧化钛颗粒难以引起该现象。
优选用氧化锡涂布的氧化钛颗粒中氧化锡(SnO2)的比例(覆盖率)为10至60质量%。为了控制氧化锡(SnO2)的覆盖率，需要在生产用氧化锡涂布的氧化钛颗粒时共混生成氧化锡(SnO2)所需的锡原料。例如，在使用作为锡原料的的氯化锡(SnCl4)的情况中，需要考虑由氯化锡(SnCl4)所生成的氧化锡(SnO2)的量来共混氯化锡。应当注意，在该情况中的覆盖率为在不考虑氧化锡(SnO2)所掺杂的杂元素(例如，磷(P))的质量的情况下由基于氧化锡(SnO2)和氧化钛(TiO2)的总质量的氧化锡(SnO2)的质量。当氧化锡(SnO2)的覆盖率小于10质量%时，变得难以将用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的粉末电阻率调节至1.0×105Ω·cm以下。当覆盖率大于60质量%时，用氧化锡(SnO2)涂布氧化钛(TiO2)颗粒易于为非均匀的，引起高成本，并难以将用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的粉末电阻率调节至1.0×103Ω·cm以上。
此外，优选氧化锡(SnO2)掺杂的杂元素(例如，磷(P))的量相对于氧化锡(SnO2)(不包含杂元素(例如，磷(P)的质量)为0.1至10质量%。当氧化锡(SnO2)掺杂的杂元素(例如，磷(P))的量小于0.1质量%时，变得难以将用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的粉末电阻率调节至1.0×105Ω·cm以下。当氧化锡(SnO2)掺杂的杂元素(例如，磷(P))的量大于10质量%时，氧化锡(SnO2)的结晶性降低，并变得难以将用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的粉末电阻率调节至1.0×103Ω·cm以上(1.0×105Ω·cm以下)。通常，通过氧化锡(SnO2)掺杂有杂元素(例如，磷(P))与不掺杂杂元素的情况相比可实现颗粒的粉末电阻率更小。
应当注意，用掺杂有磷(P)的氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛颗粒的生产方法还公开于日本专利申请特开H06-207118和2004-349167中。
金属氧化物颗粒例如用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的粉末电阻率的测量方法如下。
金属氧化物颗粒的粉末电阻率在常温常湿(23℃/50%RH)的环境下测量。本发明中，作为测量设备，使用由Mitsubishi Chemical Corporation制造的电阻率计(商品名：Loresta GP)。要测量的金属氧化物颗粒在500kg/cm2的压力下造粒从而获得测量用颗粒样品。要施加的电压为100V。
本发明中，作为导电层中的金属氧化物颗粒之所以使用具有核颗粒(氧化钛颗粒(TiO2))的用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的原因是增强在导电层用涂布液中金属氧化物颗粒的分散性。在使用仅由掺杂有杂元素(例如，磷(P)的氧化锡(SnO2)形成的颗粒的情况中，导电层用涂布液中各金属氧化物颗粒的粒径易于增加，结果，在导电层表面中可能发生突出的斑点状缺陷，可能降低耐泄漏性，并可能降低导电层用涂布液的稳定性。
此外，作为核颗粒之所以使用氧化钛(TiO2)颗粒的原因如下所述。即，氧化钛颗粒可容易地增强耐泄漏性，并因为作为金属氧化物颗粒的所述颗粒透明性低可容易地覆盖支承体表面的缺陷。相比之下，例如，在使用作为核颗粒的硫酸钡颗粒的情况中，流过导电层的电荷量易于增加，这使得难以增强耐泄漏性。此外，作为金属氧化物颗粒的硫酸钡颗粒透明性高，因此可能需要单独地用于覆盖支承体表面的缺陷的材料。
此外，作为金属氧化物颗粒之所以使用用掺杂有杂元素(例如，磷(P))的氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒代替非涂布的氧化钛(TiO2)颗粒的原因是在非涂布的氧化钛(TiO2)颗粒中，形成图像时电荷的流动易于受到破坏，并且残余电位易于增加。
用于制备导电层用涂布液的粘结剂材料的实例包括树脂例如酚醛树脂、聚氨酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酰胺-亚胺、聚乙烯醇缩醛、环氧树脂、丙烯酸类树脂、三聚氰胺树脂和聚酯。树脂可单独或以其两种以上的组合使用。此外，这些树脂中，从例如抑制迁移(转移)入另外的层、与支承体的粘合性、用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的分散性和分散稳定性以及层形成后的耐溶剂性的观点，优选固化性树脂，更优选热固性树脂。此外，热固性树脂中，优选热固性酚醛树脂和热固性聚氨酯。在作为导电层中的粘结剂材料使用热固性树脂的情况中，导电层用涂布液中包含的粘结剂材料为热固性树脂的单体和/或低聚物。
用于导电层用涂布液的溶剂的实例包括醇类例如甲醇、乙醇和异丙醇，酮类例如丙酮、甲乙酮和环己酮，醚类例如四氢呋喃、二噁烷、乙二醇单甲醚和丙二醇单甲醚，酯类例如乙酸甲酯和乙酸乙酯，和芳族烃类例如甲苯和二甲苯。
此外，本发明中，优选导电层用涂布液中金属氧化物颗粒(用氧化锡涂布的氧化钛颗粒)(P)与粘结剂材料(B)的质量比(P/B)为1.5/1.0以上且3.5/1.0以下。当质量比(P/B)小于1.5/1.0时，在形成图像时电荷流动易于被破坏，并且残余电位易于增加。此外，变得难以将导电层的体积电阻率调节至5.0×1012Ω·cm以下。当质量比(P/B)大于3.5/1.0时，变得难以将导电层的体积电阻率调节至1.0×108Ω·cm以上。此外，变得难以粘结金属氧化物颗粒(用氧化锡涂布的氧化钛颗粒)，在导电层中易于发生裂纹，并几乎不增强耐泄漏性。
从覆盖支承体表面的缺陷的观点，导电层的厚度优选为10μm以上且40μm以下，更优选15μm以上且35μm以下。应当注意，本发明中，作为测量包含导电层的电子照相感光构件的各层的厚度的设备，使用FischerInstruments K.K.制造的FISCHERSCOPE MMS。
此外，导电层用涂布液中用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的平均粒径优选为0.10μm以上且0.45μm以下，更优选0.15μm以上且0.40μm以下。当平均粒径小于0.10μm时，在制备导电层用涂布液后用氧化锡涂布的氧化钛颗粒再次聚集，导电层用涂布液的稳定性可能劣化，并在导电层的表面可能发生裂纹。当平均粒径大于0.45μm时，导电层的表面粗糙化，感光层中易于局部地电荷注入，并且输出图像的白底上的黑点可能变得显著。
导电层用涂布液中的金属氧化物颗粒例如用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的平均粒径可通过如下所述的液相沉降法来测量。
首先，将导电层用涂布液用用于其制备的溶剂稀释从而使透过率落入0.8和1.0的范围内。然后，通过使用超速离心自动粒径分布分析仪制备金属氧化物的平均粒径(体积标准：D50)和粒径分布的柱状图。本发明中，作为超速离心自动粒径分布分析仪，使用由Horiba,Ltd.制造的超速离心自动粒径分布分析仪(商品名：CAPA 700)，并在3,000rpm的旋转数的条件下进行测量。
此外，为了防止在输出图像上产生由于在导电层表面上反射的光的干涉引起的干涉条纹，导电层用涂布液可包含用于使导电层表面粗糙化的表面粗糙赋予剂。作为表面粗糙赋予剂，优选各自具有1μm以上且5μm以下的平均粒径的树脂颗粒。树脂颗粒的实例包括固化性树脂例如固化性橡胶、聚氨酯、环氧树脂、醇酸树脂、酚醛树脂、聚酯、硅酮树脂和丙烯基-三聚氰胺树脂的颗粒。其中，优选难以聚集的硅酮树脂的颗粒。由于树脂颗粒的的比重(0.5至2)小于用氧化锡涂布的氧化钛颗粒的比重(4至7)，因此在形成导电层时导电层的表面可有效地被粗糙化。应当注意，随着导电层中的表面粗糙赋予剂的含量变大，导电层的体积电阻率趋于增加。因此，为了将导电层的体积电阻率调节至5.0×1012Ω·cm以下，优选导电层用涂布液中的表面粗糙赋予剂的含量相对于导电层用涂布液中的粘结剂材料为1至80质量%。
此外，导电层用涂布液可包含用于增强导电层的表面性质的流平剂。此外，导电层用涂布液可包含用于增强导电层的覆盖性的颜料颗粒。
为了防止电荷从导电层注入到感光层，可在导电层和感光层之间设置具有电阻挡性(electric barrier property)的底涂层(阻挡层)。
底涂层可通过将导电层用包含树脂(粘结剂树脂)的底涂层用涂布液涂布并将底涂层用涂布液的涂膜干燥来形成。
用于底涂层的树脂(粘结剂树脂)的实例包括聚乙烯醇、聚乙烯甲醚、聚丙烯酸、甲基纤维素、乙基纤维素、聚谷氨酸、酪蛋白、淀粉及其它水溶性树脂，聚酰胺、聚酰亚胺、聚酰胺-亚胺、聚酰胺酸、三聚氰胺树脂、环氧树脂、聚氨酯和聚谷氨酸酯。其中，优选有效地表现底涂层的电阻挡性的热塑性树脂。热塑性树脂中，优选热塑性聚酰胺。优选聚酰胺为共聚合的尼龙。
底涂层的厚度优选为0.1μm以上且2.0μm以下。
另外，电子输送物质(电子接受物质例如受体)可包含于底涂层中以防止底涂层中电荷的流动被破坏。电子输送物质的实例包括吸电子物质例如2,4,7-三硝基芴酮、2,4,5,7-四硝基芴酮、氯醌和四氰基醌二甲烷(tetracyanoquinodimethane)，和那些吸电子物质的聚合物。
在导电层(底涂层)上设置感光层。
用于感光层中的电荷产生物质的实例包括：例如单偶氮、双偶氮和三偶氮等的偶氮颜料类；酞菁颜料类例如金属酞菁和非金属酞菁；靛蓝颜料类例如靛蓝和硫靛；苝颜料类例如苝酸酐和苝酸酰亚胺；多环醌颜料类例如蒽醌和芘醌(pyrenequinone)；方酸菁(squarylium)染料类；吡喃鎓(pyrylium)盐类和噻喃鎓(thiapyrylium)盐类；三苯甲烷染料类；喹吖啶酮颜料类；薁鎓(azulenium)盐颜料类；花青染料；呫吨染料类；醌亚胺染料类和苯乙烯基染料类。其中，优选金属酞菁类例如氧钛酞菁、羟基镓酞菁和氯镓酞菁。
当感光层为层压型感光层时，电荷产生层可通过施涂电荷产生层用涂布液(其通过将电荷产生物质与粘结剂树脂一起分散到溶剂中来制备)，然后将电荷产生层用涂布液的涂膜干燥来形成。作为分散方法，给出例如，使用均化器、超声波、球磨机、砂磨机、磨耗机和辊磨机的方法。
用于电荷产生层的粘结剂树脂的实例包括聚碳酸酯、聚酯、多芳基化合物、丁缩醛树脂、聚苯乙烯、聚乙烯醇缩醛、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸类树脂、乙酸乙烯酯树脂、酚醛树脂、硅酮树脂、聚砜、苯乙烯-丁二烯共聚物、醇酸树脂、环氧树脂、脲醛树脂和氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物。这些粘结树脂可单独或作为其两种以上的混合物或共聚物使用。
电荷产生物质与粘结剂树脂之比(电荷产生物质：粘结剂树脂)落入优选10:1至1:10(质量比)，更优选5:1至1:1(质量比)的范围内。
用于电荷产生层用涂布液中的溶剂的实例包括醇、亚砜、酮、醚、酯、脂族卤代烃和芳族化合物。
电荷产生层的厚度优选为5μm以下，更优选0.1μm以上且2μm以下。
此外，如果需要，可将任意的各种敏化剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂和增塑剂等添加到电荷产生层。此外，在电荷产生层中可包含电子输送物质(电子接受物质例如受体)从而防止电荷产生层中的电荷的流动被破坏。电子输送物质的实例包括吸电子物质例如2,4,7-三硝基芴酮、2,4,5,7-四硝基芴酮、氯醌和四氰基醌二甲烷，和那些吸电子物质的聚合物。
用于感光层中的电荷输送物质的实例包括三芳胺化合物、腙化合物、苯乙烯基化合物、芪化合物、吡唑啉化合物、噁唑化合物、噻唑化合物和三烯丙基甲烷化合物。
当感光层为层压型感光层时，电荷输送层可通过施涂电荷输送层用涂布液(其通过将电荷输送物质和粘结剂树脂溶解于溶剂中制备)，然后将电荷输送层用涂布液的涂膜干燥来形成。
用于电荷输送层的粘结剂树脂的实例包括丙烯酸类树脂、苯乙烯树脂、聚酯、聚碳酸酯、多芳基化合物、聚砜、聚苯醚、环氧树脂、聚氨酯、醇酸树脂和不饱和树脂。这些粘合剂树脂可单独或作为其两种以上的混合物或共聚物使用。
电荷输送物质与粘结剂树脂之比(电荷输送物质:粘结剂树脂)优选落入2:1至1:2(质量比)的范围内。
用于电荷输送层用涂布液的溶剂的实例包括：酮类例如丙酮和甲乙酮；酯类例如乙酸甲酯和乙酸乙酯；醚类例如二甲氧基甲烷和二甲氧基乙烷；芳族烃类例如甲苯和二甲苯；和各自被卤原子取代的烃类，例如氯苯、氯仿和四氯化碳。
从充电均匀性和图像再现性的观点，电荷输送层的厚度优选为3μm以上且40μm以下，更优选4μm以上且30μm以下。
此外，如果需要，可将抗氧化剂、紫外线吸收剂或增塑剂添加到电荷输送层。
当感光层为单层型感光层时，单层型感光层可通过施涂包含电荷产生物质、电荷输送物质、粘结剂树脂和溶剂的单层型感光层用涂布液，然后将单层型感光层用涂布液的涂膜干燥来形成。作为电荷产生物质、电荷输送物质、粘结剂树脂和溶剂，例如可使用上述各种类型的那些。
此外，可在感光层上形成保护层以保护感光层。
保护层可通过施涂包含树脂(粘结剂树脂)的保护层用涂布液，然后将保护层用涂布液的涂膜干燥和/或固化来形成。
保护层的厚度优选为0.5μm以上且10μm以下，更优选1μm以上且8μm以下。
在施涂对应于各层的各涂布液时，可采用如浸涂法(浸渍涂布法)、喷涂、旋涂、辊涂、迈耶棒涂布(Meyer bar coating)和刮涂等施涂方法。
图1说明包括具有电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示意性构造的实例。
图1中，具有鼓状(圆筒状)的电子照相感光构件1可围绕轴2沿箭头所示的方向以预定圆周速度驱动旋转。
使驱动旋转的电子照相感光构件1的周面通过充电装置(例如一次充电装置或充电辊)3均匀地充电于正或负的预定电位，然后接收从曝光装置(未示出)例如狭缝曝光或激光束扫描曝光发射的曝光光(图像曝光光)4。由此，对应于各目标图像的静电潜像被连续地形成于电子照相感光构件1的周面上。施加到充电装置3的电压可以仅为直流电压，或可以是叠加有交流电压的直流电压。
形成于电子照相感光构件1的周面上的静电潜像通过显影装置5的调色剂显影从而形成调色剂图像。随后，形成于电子照相感光构件1的周面上的调色剂图像通过来自转印装置(例如转印辊)6的转印偏压转印到转印材料(例如纸)P。将转印材料P与电子照相感光构件1的旋转同步由转印材料供给装置(未示出)供给到电子照相感光构件1和转印设备6之间的部分(抵接部)。
将转印调色剂图像的转印材料P与电子照相感光构件1的周面分离，导入到定影装置8，进行图像定影，然后作为图像形成物(打印件或复印件)打印到设备外。
在调色剂图像转印后电子照相感光构件1的周面通过清洁装置(例如清洁刮板)7进行转印后残留的调色剂的除去。此外，电子照相感光构件1的周面用来自预曝光装置(未示出)的预曝光光11进行中和处理，然后重复用于图像形成。应当注意，当充电装置为使用充电辊的接触充电装置时，并不总是需要预曝光。
电子照相感光构件1和选自充电装置3、显影装置5、转印装置6和清洁装置7等的至少一种组件等可容纳于容器中，然后一体化地支承为处理盒。另外，处理盒可以可拆卸地安装于电子照相设备的主体。图1中，电子照相感光构件1以及充电装置3、显影装置5和清洁装置7一体化地支承以形成盒9，其使用电子照相设备主体中的导向装置10例如轨道来可拆卸地安装到电子照相设备的主体。此外，电子照相设备可包括电子照相感光构件1、充电装置3、曝光装置、显影装置5和转印装置6。
接下来，参考图5和6描述直流电压连续施加试验。
在常温常湿(23℃/50%RH)的环境下进行直流电压连续施加试验。
图5为说明直流电压连续施加试验的图。
首先，使通过在支承体201上仅形成导电层202或通过从电子照相感光构件剥离导电层202上的各层以在支承体201上仅离下导电层202获得的样品(以下，称为“试样”)200与包括芯轴301、弹性层302和表面层303的导电性辊300抵接从而使试样和导电性辊两者的轴彼此平行。此时，通过弹簧403在导电性辊300的芯轴301两端施加500g负荷。将导电性辊300的芯轴301连接到直流电源401，并将试样200的支承体201连接到地线(ground)402。将仅包含直流电压(直流分量)的-1.0kV恒定电压连续地施加到导电性辊300直至每分钟流过导电层的电流量的减少率首次达到1%以下。由此，将仅包含直流电压的-1.0kV电压连续地施加到导电层202。图5中，设置电阻器404(100kΩ)和电流计405。通常，在电压施加后即刻电流量的绝对值达到最大电流量Ia。之后，电流量的绝对值降低，并且降低的程度逐渐变缓并最终达到饱和区域(每一分钟流过导电层的电流量的减少率为1%以下)。此外，电压施加后的预定时间定义为t[min]，t[min]后一分钟定义为t+1[min]，在t[min]处的电流量的绝对值定义为It[μA]和在t+1[min]处的电流量的绝对值定义为It+1[μA]。在这种情况下，当{(It-It+1)/It}×100首次达到1以下时，t+1对应于“每一分钟流过导电层的电流量的减少率首次达到1%以下时”的时间。这示于图8中。
图6说明用于试验的导电性辊300的示意性构造。
导电性辊300包括具有用于控制导电性辊300的电阻的中等电阻的表面层303、具有形成相对于试样200的表面的均匀辊隙所需的弹性的导电性弹性层302以及芯轴301。
为了将仅包含直流分量的-1.0kV电压稳定和连续地施加到试样200的导电层202，需要保持试样200和导电性辊300之间的辊隙恒定。为了保持所述辊隙恒定，导电性辊300的弹性层302的硬度和弹簧403的强度必须适当调节。另外，可设置用于调节辊隙的机构。
如下所述生产导电性辊300。以下“份”指“质量份”。
作为芯轴301，使用具有6mm直径的不锈钢芯轴。
接下来，通过以下方法在芯轴301上形成导电层302。
将以下材料用调节为50℃的封闭型混合机捏合10分钟以制备原料配混物。
表氯醇橡胶三元共聚物(表氯醇:氧化乙烯:烯丙基缩水甘油醚=40mol%:56mol%:4mol%)：100份
碳酸钙(轻质碳酸钙)：30份
脂族聚酯(增塑剂)：5份
硬脂酸锌：1份
2-巯苯并咪唑(抗氧化剂)：0.5份
氧化锌：5份
由下式表示的季铵盐：2份
Figure BDA00003766589400191
炭黑(表面未处理物，平均粒径：0.2μm，粉末电阻率：0.1Ω·cm)：5份
相对于100份作为原料橡胶的表氯醇橡胶三元共聚物，向该配混物添加1份作为硫化剂的硫磺、1份作为硫化促进剂的硫化二苯并噻唑和0.5份单硫化四甲基秋兰姆，并将混合物用冷却至20℃的双辊磨机捏合10分钟。
机将通过捏合获得的配混物借助于挤出成型于芯轴301上从而具有15mm外径的辊状。将配混物在加热蒸汽下硫化然后研磨从而具有10mm的外径，由此获得具有在芯轴301上形成的弹性层302的弹性辊。此时，作为研磨方法采用宽范围的研磨。弹性辊的长度设定至232mm。
接下来，通过以下方法来用表面层303覆盖弹性层302。
使用以下材料在玻璃瓶容器中制备混合溶液。
己内酯改性的丙烯酸多元醇(acryl polyol)溶液：100份
甲基异丁基酮：250份
导电性氧化锡(SnO2)(三氟丙基三甲氧基硅烷处理物，平均粒径：0.05μm，粉末电阻率：1×103Ω·cm)：250份
疏水二氧化硅(二甲聚硅氧烷处理物，平均粒径:0.02μm，粉末电阻率；1×1016Ω·cm)：3份
改性的二甲基硅油：0.08份
交联的PMMA颗粒(平均粒径：4.98μm)：80份
在油漆搅拌器分散机中放入混合的溶液，并填充各自具有0.8mm平均粒径的玻璃珠作为分散介质以使填充率为80%。所得溶液分散18小时以制备分散液。
将1,6-己二异氰酸酯(HDI)和异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)的丁酮肟嵌段产物的1:1混合物添加到分散液以实现NCO/OH=1.0从而制备表面层用涂布液。
通过浸涂法用表面层用涂布液涂布弹性辊的弹性层302两次，随后用风干然后在160℃下干燥1小时以形成表面层303。
由此，生产包含芯轴301、弹性层302和表面层303的导电性辊300。如下所述测量由此生产的导电性辊的电阻并发现为1.0×105Ω。
图7为说明测量导电性辊的电阻的图。
在常温常湿(23℃/50%RH)的环境下测量导电性辊的电阻。使不锈钢制圆筒电极515与导电性辊300抵接以使圆筒电极和导电性辊两者的轴彼此平行。此时，导电性辊的芯轴(未示出)的两端施加有500g的负荷。作为圆筒电极515，选择使用具有与试样外径相同的外径的电极。抵接下，圆筒电极515以200rpm的旋转数旋转，并且导电性辊300以与圆筒电极的旋转一致的相同速度驱动旋转，并从外部电源53施加-200V电压至圆筒电极515。由此时流过导电性辊300的电流的值计算的电阻定义为导电性辊300的电阻。应当注意，图7中，设置电阻器516和记录仪517。
实施例
以下，通过具体实施例更详细地描述本发明。应当注意，本发明不局限于此。在实施例中“份”指“质量份”。在用于实施例和比较例的用氧化锡涂布的各种氧化钛颗粒中的全部氧化钛(TiO2)颗粒(核颗粒)为通过硫酸法生产的纯度为97.7%和Bet值为7.7m2/g的球状颗粒。
<导电层用涂布液的制备例>
(导电层用涂布液1的制备例)
在使用450份各自具有0.8mm直径的玻璃珠的砂磨机中，放入207份作为金属氧化物颗粒的用掺杂有磷(P)的氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒(粉末电阻率：1.0×103Ω·cm，平均一次粒径：220nm)、144份酚醛树脂(酚醛树脂单体/低聚物)(商品名：Priohphen J-325，由Dainippon Ink&Chemicals，Inc.制造，树脂固成分：60质量%)作为粘结剂材料和98份1-甲氧基-2-丙醇作为溶剂，并在2,000rpm旋转数、3小时分散时间和设定冷却水的温度为18℃的条件下分散这些材料，从而获得分散液。
将玻璃珠用筛从分散液除去，之后，将13.8份硅酮树脂颗粒(商品名：Tospal 120，由Momentive Performance Materials Inc.制造，平均粒径：2μm)作为表面粗糙赋予剂、0.014份硅油(商品名：SH28PA，由Dow Corning TorayCo.,Ltd.制造)作为流平剂、6份甲醇和6份1-甲氧基-2-丙醇添加到分散液，随后搅拌，从而制备导电层用涂布液。
导电层用涂布液1中金属氧化物颗粒(用掺杂有磷(P)的氧化锡(SnO2)涂布的氧化钛(TiO2)颗粒)的平均粒径为0.28μm。
(导电层用涂布液2至17和C1至C24的制备例)
除了将用于制备导电层用涂布液的金属氧化物颗粒的种类、粉末电阻率和量(份)，作为粘结剂材料的酚醛树脂(酚醛树脂单体/低聚物)的量(份)以及分散时间分别设定为如表1和2所示以外，通过与导电层用涂布液1的制备例相同的步骤来制备导电层用涂布液2至17和C1至C24。表1和2分散示出导电层用涂布液2至17和C1至C24中的金属氧化物颗粒的平均粒径。表1和2中氧化锡为“SnO2”和氧化钛为“TiO2”。
表1
Figure BDA00003766589400221
表2
Figure BDA00003766589400231
<电子照相感光构件的生产例>
(电子照相感光构件1的生产例)
使用通过包括挤出和拉伸的生产方法生产的具有246mm长度和24mm直径的铝筒(JIS-A3003，铝合金)作为支承体。
在常温常湿(23℃/50%RH)环境下用导电层用涂布液1浸涂支承体，并在140℃下干燥和热固化所得物30分钟以形成具有30μm厚度的导电层。通过上述方法测量导电层的体积电阻率并发现为5.0×109Ω·cm。此外，通过上述方法测量导电层的最大电流量Ia和电流量Ib。结果，发现最大电流量Ia和电流量Ib分别为5,400μA和34μA。
接下来，将4.5份N-甲氧基甲基化尼龙(商品名：Toresin EF-30T，由NagaseChemteX Corporation制造)和1.5份共聚合的尼龙树脂(商品名：AmilanCM8000，由Toray Co.,Ltd.制造)溶解于65份甲醇和30份正丁醇的混合溶剂中以制备底涂层用涂布液。用底涂层用涂布液浸涂导电层，随后在70℃下干燥6分钟，以形成具有0.85μm厚度的底涂层。
随后，将10份在CuKα-特征X射线衍射中在7.5°、9.9°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°的布拉格角(2θ±0.2°)处具有强峰的结晶性羟基镓酞菁晶体(电荷产生物质)、5份聚乙烯醇缩丁醛(商品名：S-LEX BX-1，由Sekisui Chemical,Co.,Ltd.制造)和250份环己酮放入具有直径各自为0.8mm的玻璃珠的砂磨机中并在3小时的分散时间的条件下分散。然后，将250份乙酸乙酯添加到混合物以制备电荷产生层用涂布液。用电荷产生层用涂布液浸涂底涂层，随后在100℃下干燥10分钟，以形成具有0.12μm厚度的电荷产生层。
接下来，将4.8份由下式(CT-1)表示的胺化合物(电荷输送物质)和3.2份由下式(CT-2)表示的胺化合物(电荷输送物质)以及10份聚碳酸酯(商品名：Z200，由Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation制造)溶解于30份二甲氧基甲烷和70份氯苯的混合溶剂中以制备电荷输送层用涂布液。用电荷输送层用涂布液浸涂电荷产生层，随后在110℃下干燥30分钟，以形成具有7.5μm厚度的电荷输送层。
Figure BDA00003766589400251
由此，生产包含电荷输送层作为表面层的电子照相感光构件1。
(电子照相感光构件2至17和C1至C24的生产例)
除了将作为用于电子照相感光构件的生产的导电层用涂布液的导电层用涂布液1分别变为导电层用涂布液2至17和C1至C24以外，通过与电子照相感光构件1的生产例相同的步骤来生产各自包含电荷输送层作为表面层的电子照相感光构件2至17和C1至C24。应当注意，以与电子照相感光构件1的导电层中相同的方式通过上述方法来测量电子照相感光构件2至17和C1至C24的导电层的体积电阻率、最大电流量Ia和电流量Ib。表3和4示出结果。应当注意，在电子照相感光构件1至17和C1至C24中的导电层的体积电阻率的测量时用光学显微镜观察导电层的表面，结果，在电子照相感光构件C8和C10的各导电层中观察到裂纹的发生。
表3
Figure BDA00003766589400261
表4
Figure BDA00003766589400271
(实施例1至17和比较例1至24)
将电子照相感光构件1至17和C1至C24各自安装到由Hewlett-PackardDevelopment Company，L.P.制造的激光束打印机(商品名：HP Laserjet P1505)上，并在低温和低湿(15℃/10%RH)的环境下进行通纸耐久试验，由此评价图像。在通纸耐久试验中，以间歇模式在信纸大小的片材上逐张打印印字率为2%的文本图像，并输出3,000张图像。
然后，在通纸耐久试验开始时以及在输出1,500张图像结束和在输出3,000张图像结束后，各自输出图像评价用样品(单点桂马图案的半色调图像)。
基于以下标准评价图像。表5和6示出结果。
A：观察到没有泄漏。
B：略微观察到作为小黑点的泄漏。
C：清楚地观察到作为大黑点的泄漏。
D：观察到作为大黑点和短横黑条纹的泄漏。
E：观察到作为长横黑条纹的泄漏。
此外，在通纸耐久试验开始时以及在输出3,000张图像结束后图像评价用样品输出后，测量带电电位(暗区电位)和曝光时的电位(亮区电位)。使用一张白色实心图像和一张黑色实心图像测量电位。将初始暗区电位(通纸耐久试验开始时)定义为Vd，并将初始亮区电位(通纸耐久试验开始时)定义为Vl。将在输出3,000张图像结束后的暗区电位定义为Vd′，并将在输出3,000张图像结束后的亮区电位定义为Vl′。分别测定暗区电位变化量ΔVd(|Vd′|-|Vd|)(输出3,000张图像结束后的暗区电位Vd′和初始暗区电位Vd之差)和亮区电位变化量ΔVl(=|Vl′|-|Vl|)(在输出3,000张图像结束后的亮区电位Vl′和初始亮区电位Vl之差)。表5和6示出结果。
表5
Figure BDA00003766589400291
表6
Figure BDA00003766589400301
(实施例18至34和比较例25至48)
与一组各自进行通纸耐久试验的电子照相感光构件1至17和C1至C24分开地制备另外一组电子照相感光构件1至17和C1至C24，并如下所述进行针耐压试验。表7示出结果。
图4说明针耐压试验装置。在常温常湿(23℃/50%RH)的环境下进行针耐压试验。将电子照相感光构件1401的两端固定以免在固定板1402上移动。使针电极1403的顶端与电子照相感光构件1401表面接触。将施加电压用电源1404和测量电流用电流计1405各自连接至针电极1403。将与电子照相感光构件1401的支承体接触的部分1406连接到地线。由针电极1403施加2秒的电压从0V升到10V，在与针电极1403的顶端接触的电子照相感光构件1401的内部发生泄漏，并且电流计1405的值开始提高10倍以上。将此时的电压定义为针耐压值。在电子照相感光构件1401的表面的五个位置进行测量，并将其平均值定义为测量的电子照相感光构件1401的针耐压值。
表7
Figure BDA00003766589400321
虽然参考示例性实施方案已描述了本发明，但是要理解本发明并不局限于公开的示例性实施方案。以下权利要求的范围符合最宽泛的解释从而涵盖所有此类改进和等同结构与功能。
本申请要求2011年3月3日提交的日本专利申请2011-046516、2011年9月29日提交的2011-215134以及2012年2月24日提交的2012-039023的权益，在此通过参考以其整体并入本文。

Claims (7)

1.一种电子照相感光构件，其包括：
圆筒状支承体；
形成于所述圆筒状支承体上的包含粘结剂材料和金属氧化物颗粒的导电层；和
形成于所述导电层上的感光层，其中
所述金属氧化物颗粒为用掺杂有杂元素的氧化锡涂布的氧化钛颗粒；
当将在进行连续施加仅包含直流电压的-1.0kV电压到所述导电层的试验情况中流过所述导电层的最大电流量的绝对值定义为Ia[μA]，并将在每一分钟流过所述导电层的电流量的减少率首次达到1%以下的情况中流过所述导电层的电流量的绝对值定义为Ib[μA]时，所述Ia和所述Ib满足以下关系(i)和(ii)；
Ia≤6000    (i)；且
10≤Ib    (ii)，
进行所述试验前的所述导电层的体积电阻率为1.0×108至5.0×1012Ω·cm。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述用掺杂有杂元素的氧化锡涂布的氧化钛颗粒为用掺杂有磷的氧化锡涂布的氧化钛颗粒。
3.根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件，其中所述Ia和所述Ib满足以下关系(iii)和(iv)：
Ia≤5000    (iii)；且
20≤Ib    (iv)。
4.一种处理盒，其可拆卸地安装到电子照相设备的主体，其中所述处理盒一体化地支承：
根据权利要求1至3任一项所述的电子照相感光构件；和
选自由充电装置、显影装置、转印装置和清洁装置组成的组的至少一种装置。
5.一种电子照相设备，其包括：
根据权利要求1至3任一项所述的电子照相感光构件，
充电装置，
曝光装置，
显影装置，和
转印装置。
6.一种电子照相感光构件的制造方法，
所述方法包括：
在圆筒状支承体上形成具有1.0×108Ω·cm以上且5.0×1012Ω·cm以下的体积电阻率的导电层的步骤；和
在所述导电层上形成感光层的步骤，
其中，
形成所述导电层的步骤包括：
通过使用以下物质制备导电层用涂布液：
溶剂，
粘结剂材料，和
具有1.0×103至1.0×105Ω·cm的粉末电阻率的金属氧化物颗粒，和
通过使用所述导电层用涂布液形成所述导电层；
在所述导电层用涂布液中所述金属氧化物颗粒(P)与所述粘结剂材料(B)的质量比(P/B)为1.5/1.0至3.5/1.0；且
所述金属氧化物颗粒为用掺杂有磷的氧化锡涂布的氧化钛颗粒。
7.根据权利要求6所述的电子照相感光构件的制造方法，其中所述金属氧化物颗粒的粉末电阻率为3.0×103至5.0×104Ω·cm。
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