CN101431008B - 基板处理装置和涂敷装置以及涂敷方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种基板处理装置和涂敷装置和涂敷方法，其特征在于：在悬浮载物台上将矩形的被处理基板以简易的结构保持为适合处理的一定的姿势并稳定地进行悬浮搬送。第一(左侧)和第二(右侧)的搬送部(84L、84R)中的第一和第二保持部(106L、106R)，具有：分别通过真空吸附力结合在基板G的左侧两个角落的背面(下表面)和右侧两个角落的背面(下表面)的两个吸附垫(108L、108R)；沿着搬送方向(X方向)在隔开规定间隔的两个位置限制各吸附垫(108L、108R)在铅垂方向的位移并进行支撑的一对垫支撑部(110L、110R)；使上述一对垫支撑部(110L、110R)分别独立地进行升降移动或者升降位移的一对的垫致动器(112L、112R)。

Description

基板处理装置和涂敷装置以及涂敷方法
技术领域
本发明涉及悬浮搬送方式的基板处理装置，特别涉及使被处理基板在载物台上悬浮地进行搬送，并在基板上涂敷处理液的涂敷装置和涂敷方法。
背景技术
在LCD等平板显示器(FPD)的制造工艺的光刻工序中，大多使用将具有隙状的排出口的长条形的抗蚀剂喷嘴相对扫描并在被处理基板上涂敷抗蚀剂液的无旋转的涂敷方法。
作为这样的无旋转的涂敷方法的一种形式，共知有如下的悬浮搬送方式，例如如专利文献1所公开那样，用于支持FPD用的矩形的被处理基板(例如玻璃基板)的载物台构成为悬浮式，在悬浮载物台上使基板保持浮在空中的状态向水平的一个方向(载物台的长度方向)搬送，在搬送途中的规定位置上设置于悬浮载物台上方的长条形的抗蚀剂喷嘴朝向通过其正下方的基板带状地排出抗蚀剂液，由此，从基板上的一端至另一端涂敷抗蚀剂液。
此外，在这样的悬浮搬送方式中，公知有如下的无旋转的涂敷方法，例如如专利文献2所公开那样，在悬浮载物台上，第一搬送部保持基板的左右一方的侧面边缘部位从搬入位置经过涂敷位置将基板搬送到设置于涂敷位置与搬出位置之间的第一位置，第二搬送部保持基板的左右另一方的侧面边缘部分，将基板从设置在与搬入位置之间的第二位置经过涂敷位置搬送到搬出位置，由此，可以缩短节拍时间(tacttime)。
现有的此类抗蚀剂涂敷装置，为了在悬浮式的载物台上对基板进行悬浮搬送，而具备配置在载物台的左右两侧的一对导轨、沿着该导轨直线移动的左右一对的滑块、在基板的左右两边部分以一定间隔可装卸地进行吸附的的左右一列的吸附垫、使该左右一列的吸附垫分别与左右的滑块连接并且随着基板的悬浮高度上下改位移置的板簧等连接部件。
悬浮搬送式的现有的抗蚀剂涂敷方法，如上所述，通过悬浮载物台给予基板的气体压力对基板的悬浮高度进行可变控制，令保持基板的一列吸附垫乃至连接部材随着基板的悬浮高度上下改位移置。但是，悬浮搬送中基板的前端部和后端部上下振动抖动，或者基板在与搬送方向正交的方向弯曲成山形的时候，保持基板的吸附垫和连接部件也随着基板一起振动或上下改位移置，不能将基板保持或者矫正为适合涂敷处理的一定的姿势，使抗蚀剂涂敷膜的膜厚度发生改变，容易产生涂敷斑。
专利文献1：日本特开2005-244155
专利文献2：日本特开2006-237482
发明内容
本发明鉴于上述以往技术的问题，其目的在于，提供一种基板处理装置，其能够在悬浮载物台上将矩形的被处理基板以简易的结构保持为适合处理的一定的姿势并稳定地进行悬浮搬送。
本发明的另一个目的在于，提供一种悬浮搬送方式的涂敷装置和涂敷方法，其着眼于对保持矩形的被处理基板的机构进行改善从而提高涂敷品质和缩短生产节拍时间。
为了达成上述目的，本发明的基板处理装置具有：载物台，以气体的压力使矩形的被处理基板悬浮；以及搬送部，其具有可离合地保持悬浮在所述载物台上的状态的所述基板的保持部，并为了在所述载物台上在规定的搬送方向悬浮搬送所述基板，而使所述基板与所述保持部一体地在所述搬送方向移动，所述保持部具有局部保持相对于所述基板的搬送方向在左右一侧的两个角落的、实际上不弯曲的保持部件；和用于使所述保持部件升降移动或者位移的升降部。
在上述结构中，由于搬送部中具备的保持部或者保持部件对基板的左右一侧的两个角落实际上不弯曲地进行保持，搬送部在载物台上对矩形的基板进行悬浮搬送的时候，即使由载物台一侧所受的悬浮压力出现变化，也能够通过保持部或者保持部件的刚性的保持力或者拘束力对基板的前端部或者后端部的抖动进行抑制，基板在与搬送方向正交的方向弯曲成山形的情况下，也能够通过保持部的刚性的保持力或者拘束力将基板在同方向进行水平矫正。
根据本发明的一个最佳的方式，保持部件具有能够分别吸附在基板左右一侧的两个角落的背面的两个吸附垫、在沿着搬送方向隔开规定间隔的两个位置分别限制铅垂方向的位移并对各个吸附垫进行支撑的垫支撑部。升降部具有对第一和第二垫支撑部分别独立地进行升降驱动的第一和第二致动器、对上述第一和第二致动器的驱动动作进行统一控制的升降控制部。在此情况下，为了吸收第一和第二垫支撑部之间的升降误差，优选具有第一和第二垫支撑部的双方使吸附垫在铅垂面内能够绕该轴进行旋转位移的水平旋转轴、和具有第一和第二垫支撑部的一方使吸附垫在水平方向能够直动位移的直动轴的结构。此外，作为优选的一个方式，升降部具有对第一和第二垫支撑部分别独立地进行升降驱动的第一和第二致动器、和对第一和第二致动器的驱动动作进行统一控制的升降控制部。在此，致动器可以具有马达、和将该马达的旋转驱动力变换为垫支撑部的铅垂方向的直线运动的传送机构。此外，升降控制部，包含为了检测出马达的旋转角的编码器，为了控制垫支撑部的升降移动距离可以将编码器的输出信号作为反馈信号对马达的旋转量进行控制。
像这样在使各吸附垫通过两轴支撑或者升降移动并吸附结合在基板的左右一侧的两个角落的结构中，能够将吸附垫乃至基板前端部和后端部容易且稳定地设定或者调节为任意倾斜姿势或者水平度。
此外，作为另一种最佳方式，保持部件可以具有能够分别吸附在基板的左右一侧的两个角落的背面的两个吸附垫、和对各个吸附垫限制其铅垂方向的位移并进行支撑的单一的垫支撑部；升降部可以具有对垫支撑部进行升降驱动的致动器、和对致动器的驱动动作进行控制的升降控制部。在此情况下，优选保持部具有为了调整相对于搬送方向的水平线的吸附垫的角度的第一垫姿势调整部。像这样即使在将吸附垫通过一轴(单一)的垫支撑部支撑的结构中，也能够具有与如上所述将吸附垫通过一对(两轴)的垫支撑部支撑的情况相同的基板保持功能和基板姿势矫正功能。
此外，作为更加适当的一种方式，也可以具有为了调整相对于与搬送方向正交的水平线的吸附垫的吸附面的角度的第二垫姿势调整部。
在本发明的一最佳方式中，具备在悬浮搬送中防止基板相对于保持部在水平面内的旋转位移的旋转位移防止单元。作为该旋转位移防止单元，例如，设置有在吸附垫的上表面一体形成的、并在比基板的上表面低的位置卡合在基板的角落部分的正交的两侧面上的突出部。或者，作为一种最佳方式，使用在悬浮搬送减速时卡止在基板的搬送方向的前部的侧面上从而防止基板向前方旋转位移的卡止部件、或者在悬浮搬送加速时卡止在基板的搬送方向的后部的侧面上从而防止基板向后方旋转位移的卡止部件。或者，作为另一种最佳方式，使用在由保持部件保持的基板的一侧两个角落之间吸附在基板侧面边缘部的背面从而防止基板的旋转位移的中间垫部件。
本发明的涂敷装置包括：载物台，以气体的压力使矩形的被处理基板悬浮；第一搬送部，其具有可离合地保持在所述载物台上悬浮的所述基板的相对于搬送方向在左右一方的边缘部的第一保持部，并为了在所述载物台上悬浮搬送所述基板而使所述基板与所述第一保持部一体地沿搬送方向移动；第二搬送部，其具有可离河地保持在所述载物台上悬浮的所述基板的相对于搬送方向在左右另一方的边缘部的第二保持部，并为了在所述载物台上悬浮搬送所述基板而使所述基板与所述第二保持部一体地沿搬送方向移动；以及处理液供给部，其具有配置在所述载物台上方的长条形的喷嘴，并为了在所述基板上形成处理液的涂敷膜，而从所述喷嘴面向以所述悬浮搬送通过所述喷嘴正下方的所述基板排出处理液，所述第一保持部具有局部保持相对于所述基板的搬送方向在左右一方的两个角落的实际上不弯曲的第一保持部件、和用于使所述第一保持部件升降移动或者位移的第一升降部，所述第二保持部具有局部保持相对于所述基板的搬送方向在左右另一方的两个角落的实际上不弯曲的第二保持部件、和用于使所述第一保持部件升降移动或者位移的第二升降部。
此外，本发明的涂敷方法，在悬浮载物台上沿着搬送方向将搬入位置、涂敷开始位置、涂敷结束位置和搬出位置设定为一列，在所述悬浮载物台上通过气体的压力使矩形的被处理基板悬浮在需要的高度，在所述悬浮载物台上，在从所述搬入位置至所述涂敷开始位置的第一区间内，用实际上不弯曲的能够升降的保持部件局部保持相对于所述基板的搬送方向在左右一方的两个角落，在从所述涂敷开始位置至所述涂敷结束位置的第二区间内，利用实际上不弯曲的能够升降的保持部件局部保持所述基板的四个角落，在从所述涂敷结束位置至所述搬出位置的第三区间内，用实际上不弯曲的能够升降的保持部件局部保持相对于所述基板的搬送方向在左右另一方的两个角落，将所述基板向所述搬送方向搬送，当上述基板移动到上述第二区间的时候在上述基板的上表面涂敷处理液。
在本发明的涂敷装置或者涂敷方法中，在涂敷处理以外的悬浮搬送中，第一或者第二保持部对左右一侧的两个角落进行保持实行单轴搬送，在涂敷处理时的悬浮搬送中，第一或者第二保持部对基板左右两侧的两个角落同时进行保持实行二轴搬送。单轴搬送的时候，能够和本发明的基板处理装置相同，在悬浮载物台上对矩形的被处理基板保持一定的姿势进行悬浮搬送。此外，二轴搬送的时候，能够将基板保持或者矫正为更加适合涂敷处理的姿势(通常为水平姿势)进行悬浮搬送。由于第一和第二搬送部二者协动进行二轴搬送的区间限于涂敷位置的附近，其他各分区间(搬入侧区间、搬出侧区间)的搬送乃至移动动作都单独个别实行，能够缩短生产节拍时间。
根据本发明的基板处理装置，通过上述结构和作用，能够在悬浮载物台上将矩形的被处理基板以简易的结构保持为适合处理的一定的姿势并稳定地进行悬浮搬送。
此外，根据本发明的涂敷装置和涂敷方法，通过上述结构和作用，能够对在悬浮搬送方式中保持矩形的被处理基板的机构进行改善，提高涂敷品质，并缩短生产节拍时间。
附图说明
图1是表示本发明能够适用的涂敷显像处理系统的结构的俯视图。
图2是表示实施方式的涂敷显像处理系统中的处理顺序的流程图。
图3是表示实施方式中抗蚀剂涂敷单元的全体结构的大致俯视图。
图4是表示实施方式中抗蚀剂涂敷单元的全体结构的立体图。
图5是表示实施方式中抗蚀剂涂敷单元的全体结构的大致主视图。
图6是表示实施方式的抗蚀剂涂敷单元中的搬送部的结构的部分截面大致侧视图。
图7是表示实施方式的抗蚀剂涂敷单元中的保持部的构成例的放大截面图。
图8是表示实施方式的抗蚀剂涂敷单元中的保持部的构成例的立体图。
图9是表示在上述保持部中，垫支撑部支撑吸附垫的一个最佳构成例的立体图。
图10是表示实施方式的抗蚀剂涂敷单元中控制类的结构的框图。
图11是用于说明实施方式的抗蚀剂涂敷单元中的涂敷处理动作的时序图。
图12A是表示实施方式的抗蚀剂涂敷单元中涂敷处理动作的一个阶段的大致俯视图。
图12B是表示实施方式的抗蚀剂涂敷单元中涂敷处理动作的一个阶段的大致俯视图。
图12C是表示实施方式的抗蚀剂涂敷单元中涂敷处理动作的一个阶段的大致俯视图。
图12D是表示实施方式的抗蚀剂涂敷单元中涂敷处理动作的一个阶段的大致俯视图。
图12E是表示实施方式的抗蚀剂涂敷单元中涂敷处理动作的一个阶段的大致俯视图。
图12F是表示实施方式的抗蚀剂涂敷单元中涂敷处理动作的一个阶段的大致俯视图。
图12G是表示实施方式的抗蚀剂涂敷单元中涂敷处理动作的一个阶段的大致俯视图。
图12H是表示实施方式的抗蚀剂涂敷单元中涂敷处理动作的一个阶段的大致俯视图。
图12I是表示实施方式的抗蚀剂涂敷单元中涂敷处理动作的一个阶段的大致俯视图。
图13是表示悬浮搬送中的基板弯曲的情况的大致立体图。
图14是表示在实施方式中为了将基板的弯曲矫正为水平的结构和方法的大致侧视图。
图15是表示在实施方式中为了将基板的弯曲矫正为水平的结构和方法的大致立体图。
图16是表示实施方式中保持部的一个变形例的结构的侧视图。
图17是表示实施方式中保持部的其他的变形例的结构的立体图。
图18是表示实施方式中旋转位移防止单元的一个构成例的立体图。
图19是表示实施方式中旋转位移防止单元的其他构成例的立体图。
图20是表示实施方式中旋转位移防止单元的其他构成例的立体图。
图21是表示实施方式中旋转位移防止单元的其他构成例的立体图。
图22是表示实施方式中旋转位移防止单元的其他构成例的立体图。
图23是用于说明图22的旋转位移防止单元的作用的大致俯视图。
符号说明
44  抗蚀剂涂敷单元(COT)
80  载物台
82  抗蚀剂喷嘴
84L 第一(左侧)搬送部
84R 第二(右侧)搬送部
84  排出口
88  吸引口
100L，100R  第一和第二导轨
102L，102R  第一和第二滑块
104L，104R  第一和第二搬送驱动部
106L，106R  第一和第二保持部
108L，108R  第一和第二吸附垫
110L，110R  第一和第二垫支撑部
112L，112R  第一和第二垫致动器
118L，118R  第一和第二垫吸附控制部
136 载物台基板悬浮部
138 控制器
M1  搬入区域
M2  涂敷区域
M3  搬出区域
174 L  形突出部
176，186  卡止部件
184，188，190  致动器
192  旋转位移防止单元
194  中间吸附垫
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的最佳实施方式进行说明。
图1中表示了作为能够适用本发明的基板处理装置、涂敷装置和涂敷方法的一个构成例的涂敷显像处理系统。该涂敷显像处理系统10设置在清洁室内，例如将矩形的玻璃基板作为被处理基板G，在LCD制造工艺中实行光刻工序中的清洁、抗蚀剂涂敷、预焙、显像和后焙等一系列处理。曝光处理由与该系统相邻设置的外部的曝光装置12实行。
该涂敷显像处理系统10，在中心部位配置有横长的加工站(P/S)16，在其长度方向(X方向)的两端部配置有盒站(C/S)14和接口站(I/F)18。
盒站(C/S)14为系统10的盒搬入搬出口，具备可以将能够多层重叠地收容多块基板G的盒C在水平的一个方向(Y方向)并排载置达到4个的盒载物台20、和对该载物台20上的盒C实行基板G的搬出搬入的搬送机构22。搬送机构22具有能够以一块为单位或者两块为单位保持基板G的搬送臂22a，能够在X，Y，Z，θ四轴上动作，实行与相邻的加工站(P/S)16侧的基板G的交接。
加工站(P/S)16在沿水平的系统长度方向(X方向)延伸的平行且反向的一对线A、B上将各处理部按照工艺流程或者工序的顺序配置。
具体而言，在从盒站(C/S)14侧向接口站(I/F)18侧的上游部的工艺线A上，搬入单元(IN PASS)24、清洁工艺部26、第一热处理部28、涂敷工艺部30、第二热处理部32沿着第一平流搬送通路34从上游侧开始按照该顺序配置为一列。
更具体而言，搬入单元(IN PASS)24构成为从盒站(C/S)14的搬送机构22处以一块为单位或者两块为单位接收未处理的基板G，以规定的生产节拍逐块地投入第一平流搬送通路34。清洁工艺部26沿着第一平流搬送通路34从上游侧开始按照顺序设置有激发物(excimer)UV照射单元(E-UV)36和洗涤(scrubber)清洁单元(SCR)38。第一热处理器28由上游侧开始按照顺序设置有粘附(adhesion)单元(AD)40和冷却单元(COL)42。
涂敷工艺部30由上游侧开始按照顺序设置有分类机单元(SORTER)43、抗蚀剂涂敷单元(COT)44、分类机单元(SORTER)45和减压干燥单元(VD)46。从第一热处理部28以平流搬送来的基板G，经由分类机单元(SORTER)43以平流搬入到抗蚀剂涂敷单元(COT)44。而后，在抗蚀剂涂敷单元(COT)44中完成抗蚀剂涂敷处理的基板G，经由分类机单元(SORTER)45以平流被送入减压干燥单元(VD)46。减压干燥单元(VD)46具有，对基板G进行收容，并且能够减压的腔室和在该腔室中以平流搬入搬出基板G的搬送机构。
第二热处理部32，由上游侧开始按照顺序设置有预焙单元(PRE-BAKE)48和冷却单元(COL)50。在位于第二热处理部32的下游侧旁边的第一平流搬送通路34的终点设置有通路单元(PASS)52。在第一平流搬送通路34上以平流被搬送的基板G，由该终点的通路单元(PASS)52被送到接口站(I/F)18。
另一方面，在从接口站(I/F)18一侧向盒站(C/S)14侧的下游部的工艺线B上，显像单元(DEV)54、后焙单元(POST-BAKE)56、冷却单元(COL)58、检查单元(AP)60和搬出单元(OUT-PASS)62沿着第二平流搬送通路64从上游侧开始按照该顺序配置为一列。在这里，后焙单元(POST-BAKE)56和冷却单元(COL)58构成了第三热处理部66。搬出单元(OUT PASS)62构成为，从第二平流搬送通路64逐块接收处理后的基板G，并以一块为单位或者两块为单位交给盒站(C/S)14的搬送机构22。
在两条工艺线A和B之间设置有辅助搬送空间68。此外，也可以通过驱动机构(未图示)在工艺线方向(X方向)上双方向可以移动能够以一块为单位水平载置基板G的梭(未图示)。
接口站(I/F)18，具有用于与上述第一和第二平流搬送通路34、64或相邻的曝光装置12进行基板G的交换的搬送装置72，在该搬送装置72的周围配置有旋转载物台(R/S)74和周边装置76。旋转载物台(R/S)74为使基板G在水平面内旋转的载物台，用于与曝光装置12交接时变换长方形的基板G的方向。周边装置76在第二平流搬送通路64上的台阶上设置有例如字幕机(TITLER)和周边曝光装置(EE)等。虽然没有图示，但在周边装置76下方，设置有从搬送装置72接收基板G并装载到第二平流搬送通路64的起点的通路单元(PASS)。
在图2中，表示了对于该涂敷显像处理系统中一块基板G的全过程的处理顺序。首先，在盒站(C/S)14中，搬送机构22从载物台20上的任意一个盒C中取出一块或者两块基板G，将该取出的基板G搬入加工站(P/S)16的工艺线A侧的搬入单元(IN PASS)24(步骤S1)。基板G以规定的生产节拍从搬入单元(IN PASS)24逐块移载或者投入第一平流搬送通路34上。
投入到第一平流搬送通路34的基板G，首先在清洁工艺部26中通过激发物UV照射单元(E-UV)36和洗涤清洁单元(SCR)38顺次被实施紫外线清洁处理和洗涤清洁处理(步骤S2、S3)。洗涤清洁单元(SCR)38对于在平流搬送通路34上水平移动的基板G，通过施加洗刷清洁和吹风清洁从基板表面除去粒子状的污垢，然后施加冲洗处理，最后使用吹拂器等对基板G进行干燥。在洗涤清洁单元(SCR)38中一系列的清洁处理结束后，基板G保持当时状态在第一平流搬送通路34下行通过第一热处理部28。
在第一热处理部28中，基板G首先在粘附单元(AD)40中被施加使用蒸汽状的HMDS的粘附处理，使被处理面防水化(步骤S4)。该粘附处理结束后，基板G在冷却单元(COL)42被冷却至规定的基板温度(步骤S5)。之后，基板G在第一平流搬送通路34下行被搬送至涂敷工艺部30。
进入涂敷工艺部30后，基板G从分类机单元(SORTER)43被搬入抗蚀剂涂敷单元(COT)44，通过使用长尺形的隙状喷嘴的悬浮搬送的无旋转法在基板的上表面(被处理面)上涂敷抗蚀剂液。而后，经由分类机单元(SORTER)45被送入减压干燥单元(VD)46，在这里接受通过减压的常温的干燥处理(步骤S6)。
离开涂敷工艺部30的基板G在第一平流搬送通路34下行通过第二热处理部32。在第二热处理部32中，基板G首先在预焙单元(PRE-BAKE)48作为抗蚀剂涂敷后的热处理或者曝光前的热处理接受预焙(步骤S7)。通过该预焙，基板G上的抗蚀剂膜中残留的溶剂被蒸发除去，强化了对于基板的抗蚀剂膜的密合性。而后，基板G在冷却单元(COL)50被冷却至规定的基板温度(步骤S8)。之后，基板G从第一平流搬送通路34的终点的通路单元(PASS)52被取入接口站(I/F)18的搬送装置72中。
在接口站(I/F)18中，基板G在旋转载物台74接受例如90度的方向变换，被搬入周边装置76的周边曝光装置(EE)，接受用于将附着在基板G周边部分的抗蚀剂在显像时除去的曝光之后，被送入相邻的曝光装置12(步骤S9)。
在曝光装置12中在基板G上的抗蚀剂上曝光出规定的电路图案。而后，完成了图案曝光的基板G，从曝光装置12被返回至接口站(I/F)18后(步骤S9)，首先被搬入周边装置76的字幕机，在基板上的规定的部位记下规定信息(步骤S10)。之后，基板G通过搬送装置72被搬入敷设在加工站(P/S)16的工艺线B侧的第二平流搬送通路64的起点通路单元(PASS)。
这样，基板G在第二平流搬送通路64上被搬送向工艺线B的下游侧。在第一个显像单元(DEV)54中，基板G在以平流被搬送的期间，被施加显像、冲洗、干燥等一系列的显像处理(步骤S11)。
在显像单元(DEV)54中结束一系列显像处理的基板G，原样地并保持装载在第二平流搬送通路64上的状态顺次通过第三热处理部66和检查单元(AP)60。在第三热处理部66中，基板G首先在后焙单元(POST-BAKE)56中作为显像处理后的热处理接受后焙(步骤S12)。通过该后焙，将基板G上的抗蚀剂膜上残留的显像液和清洁液蒸发除去，强化了对于基板的抗蚀剂图案的密合性。而后，基板G在冷却单元(COL)58中被冷却至规定的基板温度(步骤S13)。在检查单元(AP)60中，对于基板G上的抗蚀剂图案实行非接触的线宽检查和膜质、膜厚检查等(步骤S14)。
搬出单元(OUT PASS)62从第二平流搬送通路64逐块接收已经结束所有工序处理的基板G，以一块位单位或者两块为单位送至盒站(C/S)14的搬送机构22。在盒站(C/S)14一侧，搬送机构22将以一块为单位或者两块为单位从搬出单元(OUT PASS)62处接收的处理后的基板G收容至任意一个(通常为原来的)盒C中(步骤S1)。
在该涂敷显像处理系统10中，在涂敷工艺部30内的抗蚀剂涂敷单元(COT)44中能够应用本发明。以下，根据图3至图23，对本发明应用于抗蚀剂涂敷单元(COT)44的一个实施方式进行详细说明。
图3至图5表示了在该实施方式中抗蚀剂液涂敷单元(COT)44的全体结构，图3为大致俯视图，图4为立体图，图5为大致主视图。
如图3所示，抗蚀剂涂敷单元(COT)44具有沿第一平流搬送通路34(图1)的搬送方向(X方向)较长地延伸的载物台80。需要接受涂敷处理的基板G，通过分类机单元(SORTER)43如箭头FA所示被搬入载物台80的搬送上游端的区域(搬入区域M1)。而后，通过载物台80上的如箭头FB所示的悬浮搬送接受无旋转法的抗蚀剂涂敷处理的基板G，从载物台80的搬送下游端的区域(搬出区域M3)如箭头FC所示被取出至分类机单元(SORTER)45。在载物台80的长度方向中心部分的区域(涂敷区域M2)的上方，配置有用于对基板G供给抗蚀剂液的长条形的抗蚀剂喷嘴82。
此外，虽然省略了图示，搬入侧的分类机单元(SORTER)43具有敷设在第一平流搬送通路34(图1)的搬送方向(X方向)的滚轮(koro)搬送通路、和对于该滚轮搬送通路上的基板能够真空吸附/脱离基板背面的边缘部的多个吸附垫、以及使该吸附垫与搬送方向平行地在双方向上移动的基板搬送机构。将在上游侧的第一热处理部28内结束热处理的基板以平流收取到该滚轮搬送通路后，吸附垫上升吸附在该基板的背面边缘部，借助对基板进行吸附保持的吸附垫，基板搬送机构将基板移送至载物台80的搬入区域M1。并且，将基板搬入搬入区域M1后，吸附垫从基板分离，接着基板搬送机构和吸附垫返回到原来位置。
搬出侧的分类机单元(SORTER)45，也同样具有敷设在第一平流搬送通路34(图1)的搬送方向(X方向)的滚轮搬送通路、对于该滚轮搬送通路上的基板能够真空吸附/脱离基板背面的边缘部的多个吸附垫、以及使该吸附垫与搬送方向平行地在双方向上移动的基板搬送机构。当在抗蚀剂涂敷单元(COT)44的载物台80上结束抗蚀剂涂敷处理的基板到达搬出区域M3时，吸附垫上升吸附在该基板的背面边缘部，借助吸附保持基板的吸附垫，基板搬送机构将基板向下游一侧相邻的减压干燥单元(VD)46搬送。并且，将基板送至减压干燥单元(VD)46内的搬送部后，吸附垫从基板处分离，接着基板搬送机构和吸附垫返回到原来位置。
如图4所示，载物台80构成为使基板G以气体压力的力量悬浮在空中的悬浮载物台，在其上表面整个面上形成有排出规定的气体(通常为大气)的多个排出口84。并且，配置在载物台80的左右两侧的直线运动型的第一(左侧)和第二(右侧)搬送部84L、84R分别单独或者二者协动，使悬浮在载物台80上的基板G保持为可装卸，并沿载物台长度方向(X方向)搬送基板G。在载物台80上基板G采取其一对的边与搬送方向(X方向)平行，另一对的边与搬送方向正交的水平姿势，被悬浮搬送。
载物台80沿着其长度方向(X方向)被划分成多个、例如3个区域M1、M2、M3(图5)。一端的区域为搬入区域，根据图3，如上所述应接受涂敷处理的新的基板G从分类机单元(SORTER)43以平流被搬入该搬入区域M1。
搬入区域M1也是基板G的悬浮搬送开始的区域，在该区域内的载物台上表面，以一定的密度设置了多个为了使基板G以搬入用的悬浮高度Ha悬浮而排出高压或者正压的压缩空气的排出口84。在此，搬入区域M1中的基板G的悬浮高度Ha不需要特别高的精度，保持在例如250～350μm的范围内即可。此外，在搬送方向(X方向)，优选搬入区域M1的尺寸超过基板G的尺寸。进而，在搬入区域M1中，还可以设置用于将基板G定位在载物台80上的校准部85(图10)。
设定在载物台80的长度方向的中心部的区域M2为抗蚀剂液供给区域或者涂敷区域，基板G在通过该涂敷区域M2时接受从上方的抗蚀剂喷嘴82供给的抗蚀剂液R。在涂敷区域M2中的基板悬浮高度Hb规定了抗蚀剂液喷嘴82的下端(排出口)82a和基板上表面(被处理面)之间的涂敷间隙S(例如200μm)。该涂敷间隙S为左右抗蚀剂涂敷膜的膜厚和抗蚀剂耗费量的重要参数，需要以高精度维持恒定。因此，在涂敷区域M2的载物台上表面，以规定的排列图案，混合设置有为了使基板G以要求的悬浮高度Hb稳定悬浮而排出高压或正压的压缩空气的排出口84和通过负压吸取空气的吸引口88。并且，对于位于基板G的涂敷区域M2内的部分，从排出口84施加通过压缩空气而得到的垂直向上的力的同时，从吸引口88施加通过负压吸引力而得到的垂直向下的力，控制互相对抗的双方向的力量的平衡，由此，将涂敷用的悬浮高度Hb维持在设定值(例如30～50μm)附近。
在搬送方向(X方向)的涂敷区域M2的尺寸，只要具有使抗蚀剂喷嘴82的正下方能够稳定地形成上述那样的狭窄的涂敷间隙S程度的余量即可，通常比基板G的尺寸小，例如1/3～1/4左右即可。此外，在图示的例子中，涂敷区域M2的上表面比其他区域M1、M3的上表面只高出相当于悬浮高度差(例如200～300μm)，基板G在保持水平姿势的状态下能够在搬送方向上通过M1、M2、M3三个区域。
位于涂敷区域M2的下游侧的载物台80的另一端的区域M3为搬出区域。在抗蚀剂涂敷单元(COT)44接受涂敷处理的基板G，由该搬出区域M3通过平流经由分类机单元(SORTER)45向下游侧的减压干燥单元(VD)46(图1)移送。在该搬送区域M3中，在载物台上表面以一定的密度设置了多个用于使基板G以搬出用的悬浮高度Hc(例如250～350μm)悬浮的排出口84。
抗蚀剂喷嘴82，在其长度方向(Y方向)具有能将载物台80上的基板G由一端至另一端覆盖的隙状排出口82a，被安装在门形或者反コ字形的框94(图3)上，能够通过例如具有滚珠螺栓机构的喷嘴升降部95(图10)的驱动进行升降移动，并与抗蚀剂液供给部96(图10)的抗蚀剂液供给管98(图4)连接。
如图3、图4、图6和图7所示，第一(左侧)和第二(右侧)的搬送部84L、84R分别具有：平行配置在载物台80左右两侧的第一和第二导轨100L、100R；在该导轨100L、100R上安装为能够向搬送方向(X方向)移动的第一和第二滑块102L、102R；在两个导轨100L、100R上使两个滑块102L、102R同时或者个别直线前进移动的第一和第二搬送驱动部104L、104R；为了可装卸保持基板G而搭载在两个滑块102L、102R上的第一和第二保持部106L、106R。各搬送驱动部104L、104R由直线前进型的驱动机构例如直线电动机构成。
如图3、图4、图7～图9所示，第一(左侧)保持部106L具有：分别通过真空吸附力结合在基板G的左侧两个角落的背面(下表面)的两个吸附垫108L；支撑各吸附垫108L并沿着搬送方向(X方向)在隔开一定间隔的两个位置限制铅垂方向的位移的一对垫支撑部110L；使上述一对垫支撑部110L分别独立地升降移动或者升降位移的一对垫致动器112L。
第二(右侧)保持部106R具有：分别通过真空吸附力结合在基板G的右侧两个角落的背面(下表面)的两个吸附垫108R；支撑各吸附垫108R并沿着搬送方向(X方向)在隔开一定间隔的两个位置限制铅垂方向的位移的一对垫支撑部110R；使上述一对垫支撑部110R分别独立地升降移动或者升降位移的一对垫致动器112R。
如图8和图9所示，左右两侧的各个吸附垫108L、108R在例如由不锈钢(SUS)组成的长方体形状的垫主体的上表面设置多个吸引口114。左侧吸附垫108L的各个吸引口114经由垫主体内的真空通路连接至外部左侧的真空管116L，右侧吸附垫108R的各个吸引口114经由垫主体内的真空通路连接至外部右侧的真空管116R(图7)。两侧的真空管116L、116R分别与第一和第二垫吸附控制部118L、118R(图10)的真空源(未图示)连通。
各垫支撑部110L(R)为例如由不锈钢(SUS)组成的L字形的刚体棒，其下端部(基端部)沿铅垂方向延伸并分别与垫致动器112L(R)结合，其上端部沿水平方向延伸并分别与相应的吸附垫108L(R)结合。
在此，各吸附垫108L(R)和支撑其的前后一对的两个垫支撑部110L(R)的结合关系为，优选两个垫支撑部110L(R)之间的升降误差能够在吸附垫108L(R)一侧吸收的结构。为此，优选两个垫支撑部110L(R)的双方具有使吸附垫108L(R)在其周围的铅垂面内能够旋转位移的水平旋转轴，和两个垫支撑部110L(R)的一方具有能够使吸附垫108L(R)在水平方向能够直动位移的直动轴的结构。在该实施方式中，例如如图9所示，在吸附垫108L(R)的前部经由垫吸附控制部118L(R)安装前部轴承120L(R)的同时，在吸附垫108L(R)的后部经由X方向的直动导轨122L(R)安装后部轴承124L(R)，在前部轴承120L(R)和后部轴承124L(R)上分别与前后两个垫支撑部110L(R)的沿水平方向上延伸的上端部结合。
各垫致动器112L(R)具有：例如伺服马达126L(R)；和将该伺服马达126L(R)的旋转驱动力变换为前部垫支撑部110L(R)的铅垂方向的直线前进运动的例如由直动导轨一体型的滚珠螺栓机构组成的传动机构128L(R)。在各伺服马达126L(R)上安装有用于检测各自的旋转角的旋转编码器(未图示)。通过将该旋转编码器的输出信号作为反馈信号分别对两个伺服马达126L(R)的旋转量进行控制，能够使前部和后部垫支撑部110L(R)的升降移动距离大致准确一致。
进而，在该实施方式中，为了进一步提高如上述的控制各垫支撑部110L(R)升降移动的精度，如图7和图8所示，设置有对各垫支撑部110L(R)的升降位置或者升降移动位置分别进行实测并反馈的直线标尺130L(R)。各直线标尺130L(R)具有安装在滑块102L(R)上的向Z方向延伸的刻度部132L(R)、和为了光学地读取该刻度部132L(R)的刻度而安装在各垫支撑部110L(R)的刻度读取部134L(R)。
如上所述，因为经由实际上不弯曲的刚性的前后一对的垫支撑部110L(R)通过前后一对的垫致动器112L(R)以两轴升降驱动各吸附垫108L(R)，因此该实施方式的保持部106L(R)能够保持一定的姿势(水平姿势或者倾斜姿势)稳定地升降移动各吸附垫108L(R)。
此外，在第一和第二搬送部84L、84R中，将搭载在可动的滑块102L、102R的各部和定置的控制部或用力供给源结合起来的电气配线或配管等全部被收容在可弯曲性的电缆支座(未图示)中。
此外，虽然省略了详细的图解，但通过在载物台80的上表面形成的多个排出口84和对其供给产生悬浮力用的压缩空气的压缩空气供给机构(未图示)、以及在载物台80的涂敷区域M2内与排出口84混合存在形成的多个吸引口88和对其供给真空压力的真空机构(未图示)，构成了用于在搬入区域M1或搬出区域M3中使基板G以适于搬入搬出和高速搬送的悬浮高度Ha、Hc悬浮，并在涂敷区域M2中使基板G稳定并且适于正确的涂敷扫描的悬浮高度Hb悬浮的载物台基板悬浮部136(图10)。
在图10中，表示了该实施方式的抗蚀剂涂敷单元(COT)44中的控制类的结构。控制器138由微型计算机组成，对单元内的各部，特别是载物台基板悬浮部136、抗蚀剂液供给部96、喷嘴升降部95、第一(左侧)搬送部84L(第一搬送驱动部104L、第一垫吸附控制部118L、第一垫致动器112L)、第二(右侧)搬送部84R(第二搬送驱动部104R、第二垫吸附控制部118R、第二垫致动器112R)等各个动作以及全体动作(序列)进行控制。
下面，根据图11、图12A～图12I，对该实施方式的抗蚀剂涂敷单元(COL)44中的涂敷处理动作进行说明。图11通过时序图表示了在涂敷处理动作的一个周期中单元(COT)44内的各部的位置或者状态。图12A～12I通过大致俯视图表示了在一个周期的各个时间点主要的可动部的位置或者状态。
控制器138，例如将存储在光盘等存储介质的抗蚀剂涂敷处理程序取得至主存储器中并执行，对编为程序的一系列的涂敷处理动作进行控制。
图12A表示了对应于图11的时间点T0，通过分类机单元(SORTER)43(图1)将未处理的新的基板Gi搬入载物台80的搬入区域之后的状态。此时，第一(左侧)搬送部84L刚刚将第一滑块102L返回与搬入区域M1内的搬入位置相对应的搬送起点位置Pa。第一垫吸附控制部118L在这个时间点开始向第一吸附垫108L供给真空。并且，第一垫致动器112L使第一吸附垫108L下降到原来位置(回避位置)。另一方面，第二(右侧)搬送部84R，刚刚将在载物台80上结束涂敷处理的前一个基板Gi-1送至搬出区域M3。第二滑块102R到达了与搬出区域M3内的搬出位置相对应的搬送终点位置Pb，第二垫吸附控制部118R由第二吸附垫108R解除真空吸附力。
而后，在搬入区域M1使校准部85动作，在悬浮状态的基板Gi上从四个方向如箭头所示对按压部件(未图示)进行按压，将基板Gi在载物台80上定位(图12B、图11的时间点t1)。第二搬送部84R将基板Gi-1交给分类机单元(SORTER)45之后，使第二滑块102R从搬送终点位置Pb以高速度V1返回至与涂敷开始位置相对应的搬送停止位置Pc。分类机单元(SORTER)45将接收的基板Gi-1从载物台80的搬出区域M3通过平流取出而搬出(图12B、图11的时间点t1)。此外，涂敷开始位置，设定在搬入区域M1内的搬入位置和抗蚀剂喷嘴82正下方位置即抗蚀剂液供给位置Ps之间。
在搬入区域M1中基板Gi的校准结束后，立刻在第一搬送部84L中启动第一垫致动器112L，使第一吸附垫108L从原来位置(回避位置)上升(UP)至往动位置(结合位置)。第一吸附垫108L在其之前打开真空，与悬浮状态的基板Gi的左右的一侧(左侧)的两个角落一接触就立刻以真空吸附力结合(图12C、图11的时间点t2)。第二搬送部84R在搬送停止位置Pc使第二滑块102R待机的同时，开始对第二吸附垫108R供给真空(图12C、图11的时间点t2)。
而后，第一搬送部84L在保持部106L保持基板Gi的左侧两个角落的状态下使第一滑块102L从搬送起点位置Pa向基板搬送方向(X方向)以相对高速的一定的速度V2直线前进移动，到达与载物台80上的涂敷开始位置相对应的上游侧的搬送停止位置Pc后，在那里暂时停止(图12D、图11的时间点t3)。在涂敷开始位置，基板Gi上的抗蚀剂涂敷区域的前端(涂敷开始线)位于抗蚀剂喷嘴82的正下方。此外，在从搬送起点位置Pa至上游一侧搬送停止位置Pc的基板搬送中，虽然基板Gi的右侧边缘部(特别是右侧的两个角落)为自由端，但是因载物台基板悬浮部136的悬浮力被约束了高度位置，以与第一搬送部84L的第一保持部106L结合的基板Gi的左侧两个角落几乎相同的高度移动。并且，即使基板Gi的右侧边缘部与基板Gi的左侧边缘部的高度有若干不同，由于是涂敷处理前的悬浮搬送，不存在特别的障碍。
如上所述，当第一搬送部84L的第一滑块102L到达上游侧的搬送停止位置Pc后，在那里待机的第二搬送部84R的第二垫致动器112R启动，使第二吸附垫108R从原来位置(回避位置)向往动位置(结合位置)上升。第二吸附垫108R，由于打开了真空，与基板Gi的左右的另一方(右侧)的两个角落一接触就立刻以真空吸附力结合。由此，在与载物台80上的涂敷开始位置相对应的搬送停止位置Pc，第一和第二搬送部84L、84R夹着悬浮状态的基板Gi相对，成为分别保持基板Gi的左右的两个角落(全部为四个角落)(图12E、图11的时间点t4)的状态。另一方面，虽然省略了图示，但启动喷嘴升降部95降下抗蚀剂喷嘴82，使抗蚀剂喷嘴82的排出口82a和基板Gi之间的间隙S同设定值(例如200μm)一致。
而后，第一和第二搬送部84L、84R同时使滑块102L、102R从搬送停止位置Pc向基板搬送方向(X方向)以相对低速的一定的速度V3直线前进移动(图11的时间点t5)。另一方面，在抗蚀剂液供给部96中从抗蚀剂液喷嘴82开始排出抗蚀剂液R。由此，向沿X方向以一定的速度V3通过抗蚀剂喷嘴82正下方的抗蚀剂液供给位置Ps的基板Gi的上表面，从沿Y方向延伸的长条形抗蚀剂喷嘴82以一定流量排出的带状的抗蚀剂液R，从基板Gi的前端向后端形成抗蚀剂液的涂敷膜RM(图12F、图11的时间点t6)。
基板Gi的后端部(涂敷结束线)到达抗蚀剂喷嘴82正下方的抗蚀剂液供给位置Ps后，在该时刻结束涂敷处理，抗蚀剂液供给部96结束从抗蚀剂喷嘴82排出抗蚀剂液R的同时，第一和第二搬送部84L、84R使各自的滑块102L、102R在搬送终点位置Pb的稍前的位置(下游侧搬送停止位置)Pd同时停止(图12G、图11的时间点t7)。
在第一搬送部84L中，第一滑块102L一到达搬送停止位置Pd，第一垫吸附控制部118L立刻停止对于第一吸附垫108L的真空供给，与此同时第一垫致动器112L使第一吸附垫108L从往动位置(结合位置)下降至原来位置(回避位置)，从基板Gi的左侧端部分离第一吸附垫108L(图12H、图11的时间点t8)。此时，第一垫吸附控制部118L对第一吸附垫108L供给正压(压缩空气)，加速从基板Gi的分离。而后，使第一滑块102L以高速度V5向与基板搬送方向相反的方向移动，返回搬送起点位置Pa(图12H、图11的时间点t9)。
另一方面，在第二搬送部84R中，由第二保持部106R保持基板Gi的右侧两个角落的状态下，使第二滑块102R从下游侧搬送停止位置Pd至搬送终点位置Pb以相对高速的一定的速度V4向基板搬送方向(X方向)移动(图12H、图11的时间点t9)。此时，虽然基板Gi的左侧边缘部(特别是左侧两个角落)为自由端，但是通过载物台基板悬浮部136的悬浮力而被约束了高度位置，以与基板Gi的右侧两个角落几乎相同的高度移动。并且，即使基板Gi的左侧边缘部分与基板Gi的右侧边缘部分的高度有若干不同，由于是涂敷处理后的悬浮搬送，不存在特别的障碍。
而后，滑块102R一到达搬送终点位置Pb后，垫吸附控制部118R立刻对于吸附垫108R停止真空的供给，与此同时垫致动器112R使吸附垫108R由往动位置(结合位置)下降至原来位置(回避位置)，使吸附垫108R从基板Gi的右侧两个角落分离。此时，垫吸附控制部118B对吸附垫108R供给正压(压缩空气)，加速由基板Gi的分离(图12H、图12I、图11的时间点t10)。
此外，在载物台80上。基板G的端部或者边缘部也可以超出载物台。特别是，在搬入区域M1中，搬入侧分类机单元(SORTER)43使吸附垫保持吸附在基板G的后端部的背面，即基板G的后端部为超出载物台的状态下，将基板G搬入载物台80上即可。此外，在搬出区域M3中，基板G的前端部超出载物台的状态下，即搬出侧分类机单元(SORTER)45在吸附垫容易吸附在基板G的前端部的背面的状态下，将基板G由载物台80交给分类机单元(SORTER)45。
如上所述，在该实施方式中，在载物台80上分别设置有搬入区域M1、涂敷区域M2、搬出区域M3，在各区域中顺次传送基板，在各区域独立或者并行实行基板搬入动作、抗蚀剂液供给动作、基板搬出动作。通过如上所述的流水线方式，对于一块基板G与合计搬入载物台80上的动作所需要的时间(TIN)、在载物台80上由搬入区域M1至搬出区域M3搬送所需要的时间(TC)、和由搬出区域M3搬出所需要的时间(TOUT)的涂敷处理一个周期所需要的时间(TC+TIN+TOUT)相比，能够大幅度缩短生产节拍时间。
而后，为了在载物台80上搬送基板Gi，配置在载物台80的左右两侧的第一和第二搬送部84L、84R一边分别保持基板的左侧两个角落或者右侧两个角落的任意一方一边向基板搬送方向移动。在此，第一搬送部84L从搬入区域M1内的搬入位置通过长条形抗蚀剂喷嘴82正下方的涂敷位置直至设定在涂敷位置和搬出区域M3内的搬出位置之间的涂敷结束位置对载物台80上悬浮的基板进行保持和搬送。另一方面，第二搬送部84R，从设定在搬入位置和涂敷位置之间的涂敷开始位置通过涂敷位置直至搬出位置对载物台80上悬浮的基板进行保持和搬送。
第一和第二搬送部84L、84R一起对基板进行保持搬送的区间并不是由搬入位置至搬出位置的全部搬送区间，而是从涂敷开始位置至涂敷结束位置的中间区间。基板Gi被搬送至涂敷结束位置后，第一搬送部84L即在该处结束对该基板Gi的搬送任务，之后立刻返回搬入位置开始对后续的新的基板Gi+1的搬送。另一方面，第二搬送部84R，从涂敷结束位置至搬出位置单独搬送基板Gi，而后返回到从搬入位置起即将开始涂敷位置处，在该位置处，等待第一搬送部84L单独搬送来下一块基板Gi+1即可。
此外，该实施方式采用了如下的结构，即，在第一和第二搬送部84L、84R中，分别用两个吸附垫108L(R)上局部保持在载物台80上保持悬浮状态的基板G的左侧两个角落或者右侧两个角落，并通过实际上不弯曲的刚性的垫支撑部110L(R)支撑各吸附垫108L(R)，并且通过垫致动器112L(R)的升降驱动力向需要的高度位置升降移动或者升降位移。并且，由于通过各一对的垫支撑部110L(R)和各一对的垫致动器112L(R)以两轴进行升降驱动、并且以伺服进行控制，因此能够使各吸附垫108L(R)对于搬送方向(X方向)的水平线保持一定的姿势或者角度稳定地升降移动或者升降位移。
根据如上所述的第一和第二搬送部84L、84R的结构，在载物台80上对基板G悬浮搬送当中，基板G的前端大致完全覆盖载物台上表面的各列或者各个别的排出口84或者吸引口88的瞬间，或者基板G的后端将各列或者各个别的排出口84或者吸引口88向大气开放的瞬间，即使从载物台80一侧受到的悬浮压力急剧变动，也能够通过保持部106L、106R的刚性的保持力或者拘束力抑制基板G的前端部分或者后端部分的抖动。
此外，根据载物台80的悬浮特性和基板G的尺寸、厚度等，也有在载物台80上被悬浮搬送的基板G(特别是其前端部分或者后端部分)在与搬送方向正交的方向(Y方向)如图13所示弯曲成山形的情况。当基板G以弯曲成山形的姿势通过抗蚀剂喷嘴82的正下方时，基板G上形成的抗蚀剂液涂敷膜的膜厚以追随弯曲形状的轮廓变动。
对于该问题，在各保持部106L、106R中使各吸附垫108L、108R如图14和图15所示的对于搬送方向(X方向)的水平线稍微倾斜，成为有效的解决方法。即，前部的吸附垫108L、108R向搬送方向(X方向)的前方采取规定角度的向上的倾斜姿势，后部的吸附垫108L、108R向搬送方向(X方向)的后方采取规定角度的向上的倾斜姿势。由此，基板G的前端部和后端部均模仿吸附垫108L、108R的倾斜姿势在搬送方向(X方向)以相同角度采取倾斜姿势，在与搬送方向正交的方向(Y方向)去掉了山形的弯曲矫正为水平。从而，基板G对于抗蚀剂喷嘴82的线状或者隙状排出口82a由基板的一端至另一端保持平行状态通过其正下方，在与搬送方向正交的方向(Y方向)，在基板G上形成均一膜厚的抗蚀剂涂敷膜。
另一方面，在搬送方向(X方向)，伴随吸附垫108L、108R的倾斜姿势，虽然在基板G的前端部和后端部处在抗蚀剂涂敷膜的膜厚上显现出变动，但其是仅限于产品区域的周边部的膜厚变动，不影响涂敷工艺的品质(产品区域的膜厚均一性)。
在该实施方式中，由于在各保持部106L(R)中使各吸附垫108L(R)通过两轴的垫支撑部110L(R)和垫致动器112L(R)支撑和升降移动，因此更容易实现如上所述对于搬送方向(X方向)的水平线各吸附垫108L(R)以任意角度倾斜的姿势。
作为一个变形例，如图16所示，采取使各保持部106L(R)的各吸附垫108L(R)通过一轴(单一)的垫支撑部110L(R)和垫致动器112L(R)支撑和升降移动的结构，并且还可以采取使吸附垫108L(R)对于搬送方向(X方向)的水平线以任意角度倾斜的结构。
图16的构成例，具有上表面上安装有吸附垫108L(R)的上部支撑块140、和水平固定在垫支撑部110L(R)的上端的基块142，通过搬送方向(X方向)的一端部经由轴144使上部支撑块140能够旋转位移地结合在基块142上的同时，通过另一端部经由压缩螺旋弹簧146和差动螺栓148能够调整上部支撑块140相对于基块142的倾斜角。
差动螺栓148，在与上部支撑块140的螺孔相螺合的具有较大螺旋线导程P1的大口径的筒形螺栓150的内侧，螺合有固定在基块142的具有较大的螺旋线导程P2的细口径的螺栓152。旋转大口径的螺栓150时，通过相当于两螺旋线导程的差(P1-P2)的螺旋线导程使大口径的螺栓150经由固定螺母154与上部支撑块140一起在铅垂方向移动(位移)，从而能够调整吸附垫108L(R)的倾斜角或者水平度。压缩螺旋弹簧146以防止差动螺栓148的后退的方式起作用。
图17中，表示了与吸附垫108L(R)相关的另一个变形例。该构成例为，在X-Y面内(水平面内)，在采用L字形的形状的L形块160的X轴前端部一体设置有吸附垫108L(R)，在L形块的X轴延长部162和Y轴延长部164的各自的中间部形成切口166、168，通过X轴差动螺栓170和Y轴差动轴172使切口166、168的宽度分别独立可变，从而能够任意调整吸附垫108L(R)相对于X轴和Y轴的水平线的倾斜角或者水平度。
在图18～图23中，表示用于在该实施方式中第一和第二搬送部84L、84R单独搬送(单轴搬送)基板G的时，完全防止因力矩的力使基板G脱离吸附垫108L(R)(水平面内旋转位移)的机构。
图18所示的旋转位移防止单元，在吸附垫108L(R)的上表面设置有L形的突出部或者台阶部174。该L形突出部174，通过卡合在吸附垫108L(R)的上表面保持的基板G的角落部的正交的两个侧面，能够防止因力矩产生的基板G的旋转位移。但是，必须使L形突出部174的上表面不超出基板G的上表面，以使得在涂敷处理中L形突出部174补抵接或者滑动接触抗蚀剂喷嘴82的下端，使突出高度为令。
图19所示的旋转位移防止单元，具备在悬浮搬送加速时卡止于在基板G的搬送方向(X方向)后部的侧面GB防止向基板G的后方旋转位移的卡止部件176。该卡止部件176，例如形成为经由铅垂的支撑轴180能够旋转地安装在水平方向延伸的棒状的支撑体178的一端部的圆锥体。水平支撑体178的另一端经由铅垂的支撑轴182与直动型的致动器184相结合。致动器184安装在滑块102L(R)上。
悬浮搬送中加速基板G时，在此之前，致动器184往动使卡止部件176从下方的回避位置(复动位置)如图所示上升至卡止于基板G的后部侧面GB的高度位置(往动位置)。例如，在第二(右侧)搬送部84R进行的单轴搬送中，加速基板G时，基板G被施加由上方观察向左旋转(逆时针旋转)的力矩，因该力矩的力使基板G与两个角落的第二保持部106R的第二吸附垫108R的吸附力相对抗向后方旋转位移。但是，由于卡止部件176卡止在基板G的后部侧面GB防止了向基板G的后方旋转位移，因此能够使基板G在X-Y面内不破坏姿势向搬送方向(X方向)移动。此外，加速运动结束时，可以使卡止部件176迅速地向复动位置回避。
如上所述的卡止型的旋转位移防止单元，能够如图20和图21所示进行变形。图20的旋转位移防止单元，构成为将棒状的卡止部件186的基端部分与马达等旋转型致动器188结合，在卡止部件186的前端部卡止在基板G的后部侧面GB的往动位置和回避至比基板G更靠下方的复动位置之间使卡止部件186转动。此外，致动器188可以安装在滑块102L(R)上。图21的旋转位移防止单元，构成为使用直动型致动器190，在搬送方向(X方向)上，在卡止部件186的前端部卡止在基板G的后部侧面GB的往动位置和回避至比基板G更加靠后方的位置(复动位置)之间使棒状卡止部件186进行直线移动。
图19～图21的旋转位移防止单元都是在悬浮搬送加速时，卡止于基板G的搬送方向(X方向)后部的侧面GB防止向基板G的后方旋转位移的部件。虽然省略了图示，但载悬浮搬送减速时，为了卡止于基板G的搬送方向(X方向)前部侧面防止向基板G的前方旋转位移的旋转位移防止单元，也能够采取与上述同样的结构。
如图22所示，旋转位移防止单元192，具备在保持基板G的一侧两个角落的两个保持部106L(R)的中间吸附在基板G的侧面边缘部的背面、对基板G进行局部保持的中间吸附垫194。图22的构成例，在垂直支撑部件196上经由轴198安装为能够旋转的水平支撑部件200的一端部上一体形成或者安装有中间吸附垫194。通过使用一对的直动型致动器202、204使水平支撑部件196转动，由此，能够在使中间吸附垫194的吸引口206结合于基板G的侧面边缘部背面的往动位置和中间吸附垫194的吸引口206从基板G的侧面边缘部的背面回避到下方的复动位置之间使中间吸附垫194移动。
如图23所示，在由第二(右侧)搬送部84R进行的单轴搬送中，在基板G加速时，对基板G施加由上方观察如虚线的箭头J所示向左旋转(逆时针旋转)的力矩，因该力矩的力使基板G与两个角落的第二保持部106R的第二吸附垫108R的吸附力相对抗向后方旋转位移。但是，由于旋转位移防止单元192的中间吸附垫材194吸附在基板G的侧面边缘部背面阻挡了向基板G后方的旋转位移，能够使基板G在X-Y面内不破坏姿势而向搬送方向(X方向)移动。此外，基板G减速时，对基板G施加由上方观察如点划线的箭头K所示向右旋转(顺时针旋转)的力矩，因该力矩的力使基板G与两个角落的第二保持部106R的第二吸附垫108R的吸附力相对抗向前方旋转位移。但是，在这个情况下，由于旋转位移防止单元192的中间吸附垫材194吸附在基板G的侧面边缘部背面阻挡了向基板G的前方的旋转位移，能够使基板G在X-Y面内不破坏姿势而向搬送方向(X方向)移动。
此外，由于旋转位移防止单元192的中间吸附垫材194距离保持部106R(L)的吸附垫108R(L)足够远，不会产生妨害例如如图14和图15所示的保持部106R(L)的基板姿势矫正功能之类的影响。
以上，对本发明的最佳实施方式进行了说明，本发明并不仅限于上述实施方式，在其技术思想的范围内能够进行各种变形。
上述实施方式虽然涉及LCD制造的涂敷显像处理系统中抗蚀剂涂敷装置和抗蚀剂涂敷方法，但本发明也可以适用于使用悬浮载物台的悬浮搬送方式的任意的基板处理装置和应用。本发明中作为处理液，在抗蚀剂液以外，也可以为层间绝缘材料、电介质材料、配线材料等涂敷液，还可以为显像液和漂洗液等。本发明中的被处理基板不仅限于LCD基板，还可以为其他的平板显示器用基板、半导体晶片、CD基板、玻璃基板、光掩膜、印刷基板等。

Claims (14)

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：
载物台，以气体的压力使矩形的被处理基板悬浮；以及
搬送部，其具有可离合地保持悬浮在所述载物台上的状态的所述基板的保持部，并为了在所述载物台上在规定的搬送方向悬浮搬送所述基板，而使所述基板与所述保持部一体地在所述搬送方向移动；
所述保持部具有局部保持相对于所述基板的搬送方向在左右一侧的两个角落的、实际上不弯曲的保持部件；和用于使所述保持部件升降移动或者位移的升降部，
所述保持部件具有能够分别吸附在所述基板的左右一侧的两个角落的背面的两个吸附垫、和支撑各个所述吸附垫并在沿着所述搬送方向隔开规定间隔的两个位置分别限制其铅垂方向的位移的第一和第二垫支撑部，
所述升降部具有分别独立地驱动所述第一和第二垫支撑部升降的第一和第二致动器、和统一控制所述第一和第二致动器的驱动动作的升降控制部。
2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述第一和第二垫支撑部的双方具有使所述吸附垫在铅垂面内能够绕着该轴进行旋转位移的水平旋转轴、所述第一和第二垫支撑部的一方具有使所述吸附垫在水平方向能够直动位移的直动轴。
3.一种基板处理装置，其特征在于，包括：载物台，以气体的压力使矩形的被处理基板悬浮；以及
搬送部，其具有可离合地保持悬浮在所述载物台上的状态的所述基板的保持部，并为了在所述载物台上在规定的搬送方向悬浮搬送所述基板，而使所述基板与所述保持部一体地在所述搬送方向移动；
所述保持部具有局部保持相对于所述基板的搬送方向在左右一侧的两个角落的、实际上不弯曲的保持部件；和用于使所述保持部件升降移动或者位移的升降部，
所述保持部件具有能够分别吸附在所述基板的左右一侧的两个角落的背面的两个吸附垫、和支撑各个所述吸附垫并限制其铅垂方向的位移的单一的垫支撑部，
所述升降部具有驱动所述垫支撑部升降的致动器、和控制所述致动器的驱动动作的升降控制部，
所述保持部具有用于调整所述吸附垫的吸附面相对于搬送方向的水平线的角度的第一垫姿势调整部。
4.如权利要求1～3的任意一项所述的基板处理装置，其特征在于：
所述保持部具有用于调整所述吸附垫的吸附面相对于与搬送方向正交的水平线的角度的第二垫姿势调整部。
5.如权利要求1～3的任意一项所述的基板处理装置，其特征在于：
所述致动器具有马达、和将所述马达的旋转驱动力变换为所述垫支撑部的铅垂方向的直线运动的传动机构；
所述升降控制部，包含用于检测所述马达的旋转角的编码器，为了控制所述垫支撑部的升降移动距离，而将所述编码器的输出信号作为反馈信号来控制所述马达的旋转量。
6.如权利要求1～3的任意一项所述的基板处理装置，其特征在于：
所述保持部具有旋转位移防止单元，用于在悬浮搬送中防止所述基板相对于所述保持部的水平面内的旋转位移。
7.如权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于：
所述旋转位移防止单元具有突出部，该突出部在所述吸附垫的上表面一体形成，并在比所述基板的上表面低的位置与所述基板的角落部的互相正交的两侧面卡合。
8.如权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于：
所述旋转位移防止单元具有卡止部件，在悬浮搬送减速时，该卡止部件卡止在所述基板的搬送方向的前部的侧面，从而防止所述基板向前方旋转位移。
9.如权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于：
所述旋转位移防止单元具有卡止部件，悬浮搬送加速时，该卡止部件卡止在所述基板的搬送方向的后部的侧面，从而防止所述基板向后方旋转位移。
10.如权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于：
所述旋转位移防止单元具有中间垫部件，该中间垫部件在通过所述保持部件保持的所述基板的一侧两个角落之间吸附在基板侧边部的背面从而防止所述基板的旋转位移。
11.一种涂敷装置，其特征在于，包括：
载物台，以气体的压力使矩形的被处理基板悬浮；
第一搬送部，其具有可离合地保持在所述载物台上悬浮的所述基板的相对于搬送方向在左右一方的边缘部的第一保持部，并为了在所述载物台上悬浮搬送所述基板而使所述基板与所述第一保持部一体地沿搬送方向移动；
第二搬送部，其具有可离合地保持在所述载物台上悬浮的所述基板的相对于搬送方向在左右另一方的边缘部的第二保持部，并为了在所述载物台上悬浮搬送所述基板而使所述基板与所述第二保持部一体地沿搬送方向移动；以及
处理液供给部，其具有配置在所述载物台上方的长条形的喷嘴，并为了在所述基板上形成处理液的涂敷膜，而从所述喷嘴面向以所述悬浮搬送通过所述喷嘴正下方的所述基板排出处理液，
所述第一保持部具有局部保持相对于所述基板的搬送方向在左右一方的两个角落的实际上不弯曲的第一保持部件、和用于使所述第一保持部件升降移动或者位移的第一升降部，
所述第二保持部具有局部保持相对于所述基板的搬送方向在左右另一方的两个角落的实际上不弯曲的第二保持部件、和用于使所述第一保持部件升降移动或者位移的第二升降部，
所述第一保持部件具有能够分别吸附在所述基板的左右一侧的两个角落的背面的两个吸附垫、和支撑各个所述吸附垫并在沿着所述搬送方向隔开规定间隔的两个位置分别限制其铅垂方向的位移的第一和第二垫支撑部，
所述第一升降部具有分别独立地驱动所述第一和第二垫支撑部升降的第一和第二致动器、和统一控制所述第一和第二致动器的驱动动作的第一升降控制部，
所述第二保持部件具有能够分别吸附在所述基板的左右一侧的两个角落的背面的两个吸附垫、和支撑各个所述吸附垫并在沿着所述搬送方向隔开规定间隔的两个位置分别限制其铅垂方向的位移的第三和第四垫支撑部，
所述第二升降部具有分别独立地驱动所述第三和第四垫支撑部升降的第三和第四致动器、和统一控制所述第三和第四致动器的驱动动作的第二升降控制部。
12.一种涂敷装置，其特征在于，包括：
载物台，以气体的压力使矩形的被处理基板悬浮；
第一搬送部，其具有可离合地保持在所述载物台上悬浮的所述基板的相对于搬送方向在左右一方的边缘部的第一保持部，并为了在所述载物台上悬浮搬送所述基板而使所述基板与所述第一保持部一体地沿搬送方向移动；
第二搬送部，其具有可离合地保持在所述载物台上悬浮的所述基板的相对于搬送方向在左右另一方的边缘部的第二保持部，并为了在所述载物台上悬浮搬送所述基板而使所述基板与所述第二保持部一体地沿搬送方向移动；以及
处理液供给部，其具有配置在所述载物台上方的长条形的喷嘴，并为了在所述基板上形成处理液的涂敷膜，而从所述喷嘴面向以所述悬浮搬送通过所述喷嘴正下方的所述基板排出处理液，
所述第一保持部具有局部保持相对于所述基板的搬送方向在左右一方的两个角落的实际上不弯曲的第一保持部件、和用于使所述第一保持部件升降移动或者位移的第一升降部，
所述第二保持部具有局部保持相对于所述基板的搬送方向在左右另一方的两个角落的实际上不弯曲的第二保持部件、和用于使所述第一保持部件升降移动或者位移的第二升降部，
所述第一保持部件具有能够分别吸附在所述基板的左右一侧的两个角落的背面的两个吸附垫、和支撑各个所述吸附垫并限制其铅垂方向的位移的第一单一垫支撑部，
所述第一升降部具有驱动所述第一单一垫支撑部升降的第一致动器、和控制所述第一致动器的驱动动作的第一升降控制部，
所述第二保持部件具有能够分别吸附在所述基板的左右一侧的两个角落的背面的两个吸附垫、和支撑各个所述吸附垫并限制其铅垂方向的位移的第二单一垫支撑部，
所述第二升降部具有驱动所述第二单一垫支撑部升降的第二致动器、和控制所述第二致动器的驱动动作的第二升降控制部。
13.如权利要求11或12所述的涂敷装置，其特征在于：
具有用于在设置于所述载物台的一端部的搬入位置搬入所述基板的搬入部、并具有用于从设置于所述载物台的另一端部的搬出位置搬出所述基板的搬出部，
所述第一搬送部从所述搬入位置通过涂敷位置直至设定在所述涂敷位置和所述搬出位置之间的第一位置，在所述载物台上悬浮搬送所述基板，
所述第二搬送部从设定在所述搬入位置和所述涂敷位置之间的第二位置通过所述涂敷位置直至所述搬出位置，在所述载物台上悬浮搬送所述基板。
14.一种涂敷方法，使用权利要求1～10中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：
在悬浮载物台上沿着搬送方向将搬入位置、涂敷开始位置、涂敷结束位置和搬出位置设定为一列，
在所述悬浮载物台上通过气体的压力使矩形的被处理基板悬浮在需要的高度，
在所述悬浮载物台上，在从所述搬入位置至所述涂敷开始位置的第一区间内，用实际上不弯曲的能够升降的保持部件局部保持相对于所述基板的搬送方向在左右一方的两个角落，在从所述涂敷开始位置至所述涂敷结束位置的第二区间内，利用实际上不弯曲的能够升降的保持部件局部保持所述基板的四个角落，在从所述涂敷结束位置至所述搬出位置的第三区间内，用实际上不弯曲的能够升降的保持部件局部保持相对于所述基板的搬送方向在左右另一方的两个角落，将所述基板向所述搬送方向搬送，
所述基板在所述第二区间内移动期间，在所述基板的上表面涂敷处理液。
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