CN103065998A - 处理台装置及使用该处理台装置的涂布处理装置 - Google Patents

Abstract

在本发明的处理台装置及使用该处理台装置的涂布处理装置中，缩短处理动作的节拍时间。基板搬入部包含：第一基板搬送部，可水平地搬送基板；及第一进退单元，使所述第一基板搬送部至少沿基板搬送方向在前后方向、斜上下方向及垂直上下方向的任一方向移动；所述基板处理部包含：载物台；第二基板搬送部，设置为可相对于所述载物台的载置面相对地升降，可在上升位置处水平地搬送所述基板；及第二进退单元，使所述第二基板搬送部相对于所述载物台的载置面相对地升降；所述基板搬出部包含：第三基板搬送部，可水平地搬送所述被处理基板；及第三进退单元，使所述第三基板搬送部至少沿基板搬送方向在前后方向、斜上下方向及垂直上下方向的任一方向移动。

Description

处理台装置及使用该处理台装置的涂布处理装置

技术领域

本发明涉及一种处理台装置、及使用该处理台装置的涂布处理装置，尤其是涉及一种可缩短处理动作的节拍时间的处理台装置及涂布处理装置。

背景技术

例如，在制造FPD(Flat Panel Display，平板显示器)时，通过所谓的光刻步骤来形成电路图案。

该光刻步骤中，在玻璃基板等被处理基板上成膜规定的膜后，涂布作为处理液的光致抗蚀剂(以下，称为抗蚀剂)而形成抗蚀膜(感光膜)。接下来，对应于电路图案使所述抗蚀膜曝光，并实施显影处理，而形成图案。

在这种光刻步骤中，作为在被处理基板上涂布抗蚀液而形成抗蚀膜的方法，有从狭缝状的喷嘴喷出口呈带状喷出抗蚀液，而将抗蚀剂涂布在基板上的方法。

利用图21对使用该方法的以往的抗蚀剂涂布装置进行简单说明。图21中所示的抗蚀剂涂布装置200包括在X方向上较长地延伸设置的载物台201、配备在该载物台201的上方的抗蚀剂供给喷嘴202、以及使该抗蚀剂供给喷嘴202移动的喷嘴移动单元203。

在所述载物台201的上表面设置着多个气体喷射口210和气体抽吸口211。通过从气体喷射口210喷射出的气体、或者通过由气体抽吸口211抽吸所述喷射出的气体而形成的气流，使基板G在载物台上浮起。

而且，抗蚀剂供给喷嘴202中设置着具有在基板的宽度方向上延伸的微小间隙的狭缝状的喷出口202a，将从抗蚀液供给源204供给的抗蚀液从喷出口202a喷出。

另外，在载物台201上浮起的基板G的左右两侧由一对基板搬送部205保持，基板搬送部205可沿铺设在载物台201的左右两侧的一对轨道206(在X方向上)移动。

而且，在载物台201上的基板搬入区域201a、及基板搬出区域201b内分别设置着多个(图中为4根)可升降的顶起销(lift pin)207，当将基板G向该抗蚀剂涂布装置200搬入或从该抗蚀剂涂布装置200搬出时，使基板G暂时载置在顶起销207上。

在以此方式构成的抗蚀剂涂布装置200中，以下述方式进行对基板G涂布抗蚀液的处理。

首先，在基板搬入区域201a内使顶起销207向上方突出，利用搬送机器人的手臂(未图示)将涂布处理前的基板G载置在所述顶起销207上。

接着，利用基板搬送部205保持基板G的左右缘部。这里，从气体喷射口210喷射的气体被喷附在基板G的下表面，而使基板G成为在载物台201上浮起的状态。

接下来，顶起销207下降，利用基板搬送部205使基板G移动到基板处理区域201c。

在基板处理区域201c中，基板G以规定的速度沿X方向被搬送。与此相对，配置在基板上方的抗蚀剂供给喷嘴202通过喷嘴移动单元203而沿与基板搬送方向相反的方向移动，与此同时，对基板面喷出抗蚀液。此外，在该基板处理区域201c中，从气体喷射口210喷射出的气体被气体抽吸口211抽吸而在载物台上形成规定的气流，从而基板G在该气流上以稳定的状态浮起并被搬送。

在基板上形成着抗蚀膜的基板G由基板搬送部205搬送至基板搬出区域201b，在这里使顶起销207上升，并且停止从气体喷射口210喷射气体。而且，基板G在基板搬出区域201b内由顶起销207支撑，而解除利用基板搬送部205的保持状态。

接下来，形成着抗蚀膜的基板G由搬送机器人的搬送臂(未图示)搬出到后段的处理装置。

此外，关于这种抗蚀剂涂布装置200在专利文献1中有所揭示。

[背景技术文献]

[专利文献]

专利文献1：日本专利特开2010-80983号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

如上所述，在抗蚀剂涂布装置200的构成中，当相对于载物台201将基板G搬入搬出时，使顶起销207进行升降移动，而将基板G暂时载置在顶起销207上。而且，当将基板G载置在基板搬入区域201a的顶起销207上时、及将载置在基板搬出区域201b的顶起销207上的基板G搬出时，驱动搬送机器人的手臂(未图示)，利用所述手臂来搬送基板G。

然而，在这种构成中，当将基板向基板处理区域201c搬入时、及将基板从载物台201搬出时，存在基板搬送延迟的课题。因此，需求可减少基板搬入搬出时产生的被处理基板的滞留时间，从而可缩短处理动作的节拍时间的构成。

作为解决所述课题的方法，自先前以来有如下构成：利用滚轮搬送等将被处理基板以水平的状态且沿水平方向(以下，将这种方式记作平流)搬入，一面平流搬送一面从在基板宽度方向上延伸的喷嘴喷出口向基板上喷出抗蚀液而进行涂布，且利用平流搬送向后段搬出。当为所述构成时，在基板搬入搬出时基板不会滞留，从而可缩短处理动作的节拍时间。

然而，在这种构成中，喷嘴是可沿基板搬送方向移动的构成，所以在基板搬送路径上配置进行喷嘴的维护处理(调整附着在喷嘴喷出口的抗蚀液的状态的预涂(priming)处理等)的喷嘴待机部。因此，当进行喷嘴的维护处理时，有附着在喷嘴喷出口上且已干燥的抗蚀剂的微粒等落向下方，附着在基板搬送路径上而污染被处理基板的担忧。

本发明是鉴于如上所述的以往技术的问题点而完成的，在用来对被处理基板实施规定处理的处理台装置、及使用该处理台装置的涂布处理装置中，提供一种可缩短处理动作的节拍时间的处理台部，且在将所述处理台装置应用于涂布处理装置时，提供一种可防止由喷嘴的维护处理所引起的被处理基板的污染的涂布处理装置。

[解决问题的技术手段]

为了解决所述课题，本发明的处理台装置的特征在于包括：基板处理部，对被处理基板实施规定的处理；基板搬入部，将所述基板搬入所述基板处理部；以及基板搬出部，将所述基板从所述基板处理部搬出；所述基板搬入部包含：第一基板搬送部，可水平地搬送所述基板；及第一进退单元，使所述第一基板搬送部至少沿基板搬送方向在前后方向、斜上下方向及垂直上下方向的任一方向上移动，并且可在前进位置处将所述第一基板搬送部上的被处理基板搬入所述基板处理部；所述基板处理部包含：载物台，在所述基板搬入部的基板搬送方向下游侧隔开规定距离而配置，且具有用来对所述基板实施规定处理的载置面；第二基板搬送部，设置为可相对于所述载物台的载置面相对地升降，且可在上升位置处水平地搬送所述基板；以及第二进退单元，通过使所述第二基板搬送部相对于所述载物台的载置面相对地升降，而将所述基板载置在所述第二搬送部上或所述载物台的载置面上；所述基板搬出部包含：第三基板搬送部，在所述基板处理部的基板搬送方向下游侧隔开规定距离而配置，且可水平地搬送所述被处理基板；及第三进退单元，使所述第三基板搬送部至少沿基板搬送方向在前后方向、斜上下方向及垂直上下方向的任一方向上移动，并且可在后退位置处将被处理基板从所述基板处理部搬出到所述第三基板搬送部。

此外，较理想的是在所述基板处理部中在所述载物台的载置面，设置着当通过所述第二进退单元使所述第二基板搬送部下降时可收容所述第二基板搬送部的槽部。

另外，所述第一至第三基板搬送部可分别构成为通过滚轮搬送来水平地搬送所述被处理基板。

通过以此方式构成，当将基板向所述基板处理部搬入时，所述基板搬入部的第一基板搬送部进行前进移动，将被处理基板从所述第一基板搬送部搬入基板处理部的第二基板搬送部。另一方面，当将基板从所述基板处理部搬出时，所述基板搬出部的第三基板搬送部进行后退移动，将被处理基板从基板处理部的第二基板搬送部搬出到所述第三基板搬送部。

另外，在所述基板处理部中，通过使所述第二基板搬送部相对于载物台相对地位于上升位置，而可将被处理基板搬入搬出，通过使第二基板搬送部相对于载物台相对地下降，而将被处理基板载置在载物台的载置面。

通过该构成，无需以往的在基板搬入搬出时利用顶起销等暂时地保持被处理基板的步骤、及利用搬送臂来搬送被处理基板的步骤等。结果为，可大幅度地减少相对于载物台进行搬入搬出时产生的被处理基板的滞留时间，从而可缩短处理动作的节拍时间。

另外，为了解决所述课题，本发明的涂布处理装置的特征在于：使用所述处理台装置对被处理基板涂布处理液；在所述基板处理部中，包括：喷嘴，具有在一方向上延伸的喷出口，在所述载物台的载置面上所载置的被处理基板的上方移动，并且从所述喷出口向所述基板上喷出处理液；喷嘴移动单元，使所述喷嘴移动；以及喷嘴维护单元，设置在所述基板处理部的侧方，且调整通过所述喷嘴移动单元而移动到所述基板处理部的侧方的所述喷嘴的喷出口的状态。

如上所述，调整喷嘴喷出口的状态的喷嘴待机部配置在基板处理部的侧方，因此当进行喷嘴的维护处理时，微粒等不会落在基板搬送路径上，从而可防止被处理基板的污染。

[发明的效果]

根据本发明，在用来对被处理基板实施规定处理的处理台装置、及使用该处理台装置的涂布处理装置中，可提供能缩短处理动作的节拍时间的处理台部，且在将所述处理台装置应用于涂布处理装置时，可获得能防止由喷嘴的维护处理所引起的被处理基板的污染的涂布处理装置。

附图说明

图1是表示本发明的处理台装置的整体构成的图，图1(a)是表示处理台装置的第一状态的俯视图，图1(b)是表示处理台装置的第一状态的侧视图。

图2是表示本发明的处理台装置的整体构成的图，图2(a)是表示处理台装置的第二状态的俯视图，图2(b)是表示处理台装置的第二状态的侧视图。

图3是将图1、图2的处理台装置所包含的载物台部及滚轮搬送部放大后的俯视图。

图4是图3的B-B箭视剖视图。

图5表示使用图1的处理台装置的涂布处理装置的概略构成，图5(a)是俯视图，图5(b)是该涂布处理装置的沿基板搬送方向的剖视图。

图6(a)、图6(b)是表示从图5(a)、图5(b)所示的状态转变而成的不同状态的俯视图及剖视图。

图7(a)、图7(b)是表示从图6(a)、图6(b)所示的状态转变而成的不同状态的俯视图及剖视图。

图8(a)、图8(b)是表示从图7(a)、图7(b)所示的状态转变而成的不同状态的俯视图及剖视图。

图9(a)、图9(b)是表示从图8(a)、图8(b)所示的状态转变而成的不同状态的俯视图及剖视图。

图10(a)、图10(b)是表示从图9(a)、图9(b)所示的状态转变而成的不同状态的俯视图及剖视图。

图11(a)、图11(b)是表示从图10(a)、图10(b)所示的状态转变而成的不同状态的俯视图及剖视图。

图12(a)、图12(b)是表示从图11(a)、图11(b)所示的状态转变而成的不同状态的俯视图及剖视图。

图13(a)、图13(b)是表示从图12(a)、图12(b)所示的状态转变而成的不同状态的俯视图及剖视图。

图14是表示图1的处理台装置所包含的基板处理部的变形例的俯视图。

图15是图14的B-B箭视剖视图。

图16是表示图1的处理台装置所包含的载物台部及滚轮搬送部的变形例的俯视图。

图17是将图16的局部放大表示的剖视图。

图18(a)～(e)是将图16的局部放大表示的剖视图，且是表示用来说明对准的一系列动作的状态转变的图。

图19(a)～(c)是基板搬入部及基板搬出部的变形例，且是示意性地表示所述基板搬入部及所述基板搬出部的一系列动作的剖视图。

图20(a)～(c)是示意性地表示继图19(a)～(c)之后的一系列动作的剖视图。

图21是用来说明以往的抗蚀剂涂布装置的概略构成的立体图。

[符号的说明]

1     基板处理部

2     基板搬入部

3     基板搬出部

5A    滚轮搬送部

5B    滚轮搬送部(第一基板搬送部)

6     滚轮轴

7     滚轮

8     驱动轴

9     驱动轴

10    滑动机构(第一进退单元)

15    载物台部(载物台)

15a   槽部

15c   槽部

15d   贯通孔(收容孔)

16    滚轮搬送部(第二基板搬送部)

24    框架部件(第二进退单元)

25    气缸(第二进退单元)

29    滚轮搬送部(第三基板搬送部)

30    滑动机构(第三进退单元)

41    轨道(喷嘴移动单元)

42    滑件(喷嘴移动单元)

43    喷嘴

44    喷嘴待机部(喷嘴维护单元)

50    侧滚轮

51    滚轮轴

52    升降驱动部(滚轮升降单元)

55    对准销

100  处理台装置

150  涂布处理装置

G    玻璃基板(被处理基板)

具体实施方式

以下，基于附图对本发明的处理台装置的一实施方式进行说明。图1、图2是表示本发明的处理台装置的整体构成的图，图1(a)是表示处理台装置的第一状态的俯视图，图1(b)是表示处理台装置的第一状态的侧视图。而且，图2(a)是表示处理台装置的第二状态的俯视图，图2(b)是表示处理台装置的第二状态的侧视图。

图1、图2所示的处理台装置100包括：基板处理部1，用来载置作为被处理基板的例如玻璃基板G并实施规定的处理；基板搬入部2，将玻璃基板G搬入基板处理部1；以及基板搬出部3，将玻璃基板G从基板处理部1搬出。

如图1所示，基板搬入部2和基板搬出部3分别沿基板搬送方向A相对于基板处理部1隔开规定的距离而配置。

基板搬入部2包含沿基板搬送方向配置的前段部2A和后段部2B。前段部2A和后段部2B中，分别在台座4上铺设着作为第一基板搬送部的滚轮搬送部5A、5B。滚轮搬送部5A、5B是使多根滚轮轴6旋转自如地沿基板搬送方向A并列地配置，且在各滚轮轴6上设置着多个滚轮7。在滚轮搬送部5A和滚轮搬送部5B中分别设置着与各滚轮轴6的一端侧卡合的驱动轴8、9，通过驱动轴8、9的旋转，各滚轮轴6沿搬送基板G的方向进行旋转动作。所述驱动轴8、9是以分别由驱动电动机M1、M2旋转驱动的方式构成的。

另外，后段部2B中，在台座4和滚轮搬送部5B之间设置着使滚轮搬送部5B沿基板搬送方向前后移动的滑动机构10(第一进退单元)。该滑动机构10包含沿基板搬送方向A铺设在台座4上的轨道11、设置为在轨道11上移动自如并且支撑滚轮搬送部5B的滑件12、以及使滑件12沿轨道11移动的作为驱动源的气缸(air cylinder)13。

也就是说，如图1及图2所示，通过气缸13的活塞轴13a相对于缸体13b进行进退动作，而使配置在滑件12上的滚轮搬送部5B朝向基板处理部1前后移动。具体来说，当滚轮搬送部5B位于后退位置时(图1的状态)，成为可将基板从滚轮搬送部5A向滚轮搬送部5B搬送的状态。另外，当滚轮搬送部5B位于前进位置时(图2的状态)，成为可将基板从滚轮搬送部5B向基板处理部1搬送的状态。

此外，基板搬入部2中，M1及气缸13是由未图示的控制单元以在规定时间驱动的方式进行控制。另外，本实施方式中，滚轮搬送部5B的进退动作是通过气缸13的驱动而进行的，但并不限定于此，也可以设为例如通过皮带驱动而使滚轮搬送部5B进行进退动作的构成。

基板处理部1中，在台座14上设置着用来载置基板G的载物台部15，在载物台部15的周围设置着作为第二基板搬送部的滚轮搬送部16。

进而使用图3、图4对这些载物台部15及滚轮搬送部16的构成进行说明。图3是将载物台部15及滚轮搬送部16放大后的俯视图，图4是图3的B-B箭视剖视图。

如图3所示，载物台部15在俯视时大致呈长方形，载物台部15的基板载置面(上表面)形成为可不使基板G的被处理面弯曲地进行载置的大小。另外，在载物台部15的基板载置面(上表面)的左右缘部，沿基板搬送方向A并列地形成着多个在基板宽度方向上具有规定长度的槽部15a(在附图中单侧有5个槽部15a)。该槽部15a是从载物台部15的载置面(上表面)侧及侧面侧凹设而成，且形成为可收容所述滚轮搬送部16所具有的规定长度的滚轮轴17及设置在滚轮轴17上的滚轮18的形状。

滚轮搬送部16所具有的所述滚轮轴17通过与其一端侧卡合的驱动轴19的旋转而沿搬送基板G的方向进行旋转动作，载物台部15两侧的一对驱动轴19是以分别由驱动电动机M3、M4旋转驱动的方式构成的。此外，如图4所示，载物台部15中在所述槽部15a的内部沿上下方向穿设着与载物台下表面连通的连通孔15b，利用插通该连通孔15b的支撑部件23旋转自如地支撑所述滚轮轴17的另一端侧。

另外，滚轮搬送部16中，在载物台部15的前后分别配置着与所述一对驱动轴19的任一个卡合且由所述驱动电动机M3、M4旋转驱动的滚轮轴21、及设置在滚轮轴21上的滚轮22。

另外，如图4所示，所述滚轮搬送部16由框架部件24从下方支撑着(所述支撑部件23设置在所述框架部件24上)。

所述框架部件24可通过活塞轴25b相对于缸体25a进退移动的气缸25进行升降移动。气缸25配置在载物台部15的中央部下方，且在载物台部15的左右两侧的下方分别配备着安装在所述台座14上的圆筒状引导部件26。在所述框架部件24上设置着向下方延伸且在所述圆筒状引导部件26中滑动自如的棒状部件27，使框架部件24的升降移动的动作不产生晃动而稳定地进行。此外，由所述框架部件24、气缸25构成第二进退单元。

另外，如果通过所述气缸25将滚轮搬送部16配置在上升位置，那么如图4所示那样配置在载物台部15的左右两侧的滚轮轴17相对于载物台部15上升，成为可利用滚轮18来搬送基板G的状态。

另一方面，如果将滚轮搬送部16配置在下降位置，那么所述滚轮轴17进行下降移动而收容在载物台部15的槽部15a内，成为基板G载置在载物台部15的上表面的状态。

此外，基板处理部1中，驱动电动机M3、M4及气缸25是由未图示的控制单元以在规定时间驱动的方式进行控制。

另外，基板搬出部3中，如图1、图2所示，在台座28上铺设着作为第三基板搬送部的滚轮搬送部29。滚轮搬送部29是使多根滚轮轴6旋转自如地沿基板搬送方向A并列地配置，且在各滚轮轴6上设置着多个用来搬送基板的滚轮7。各滚轮轴6通过与其一端侧卡合的驱动轴8的旋转，而沿搬送基板G的方向进行旋转动作，所述驱动轴8是以由驱动电动机M5旋转驱动的方式构成的。

另外，基板搬出部3中，在台座28和滚轮搬送部29之间设置着使滚轮搬送部29沿基板搬送方向前后移动的滑动机构30(第三进退单元)。该滑动机构30包含沿基板搬送方向A铺设在台座28上的轨道31、设置为在轨道31上移动自如并且支撑滚轮搬送部29的滑件32、以及使滑件32沿轨道31移动的作为驱动源的气缸33。

也就是说，如图1及图2所示，通过气缸33的活塞轴33a相对于缸体33b进行进退动作，而使配置在滑件32上的滚轮搬送部29朝向基板处理部1前后移动。具体来说，当滚轮搬送部29位于前进位置时(图1的状态)，成为可将基板从滚轮搬送部29向后段搬送的状态。另外，当滚轮搬送部29位于后退位置时(图2的状态)，成为可将基板从基板处理部1的滚轮搬送部16向滚轮搬送部29搬送的状态。

此外，在基板搬出部3中，驱动电动机M5及气缸33是由未图示的控制单元以在规定时间驱动的方式进行控制。另外，本实施方式中，滚轮搬送部29的进退动作是通过气缸33的驱动而进行的，但并不限定于此，也可以设为例如通过皮带驱动而使滚轮搬送部29进行进退动作的构成。

接下来，对将本发明的处理台装置100应用于对玻璃基板G涂布规定的处理液的涂布处理装置的情况进行说明。

图5表示使用处理台装置100的涂布处理装置150的概略构成，图5(a)是涂布处理装置150的俯视图，图5(b)是涂布处理装置150的沿基板搬送方向的剖视图。此外，在附图中将图1至图4中所示的细微部分的构成的一部分省略。

如图5所示，涂布处理装置150中，在基板搬入部2和基板搬出部3之间配置着涂布处理部40，在该涂布处理部40上设置着基板处理部1。

如图5(a)所示，在基板处理部1的前后铺设着在基板宽度方向上延伸的一对轨道41，且可沿该轨道41移动地设置着一对滑件42。在所述一对滑件42间架设着具有在基板搬送方向(基板G的前后方向)上延伸的狭缝状的喷出口(未图示)的喷嘴43，通过滑件42的移动，可使喷嘴43沿基板宽度方向在基板G上扫描。此外，由轨道41、滑件42构成喷嘴移动单元。

另外，如图5(a)所示，涂布处理部40中，在基板处理部1的侧方设置着用来进行调整喷嘴前端的喷出口的状态的预涂处理等维护处理的喷嘴待机部44(喷嘴维护单元)。该喷嘴待机部44中配备着：预涂处理部(未图示)，配置着用来进行预涂处理的预涂辊等；喷嘴清洗部(未图示)，以稀释剂等溶剂来清洗喷嘴前端；及溶剂环境室(未图示)，将喷嘴前端保持在暴露于溶剂环境中的状态下，以防止喷嘴前端干燥；等。

以此方式构成的涂布处理装置150中，当对多片玻璃基板G进行处理液的涂布处理时，以如下方式进行。

首先，如图5(a)、图5(b)所示，将第一片玻璃基板G1滚轮搬送到基板搬入部2中的后段部2B的滚轮搬送部5B。

接着，如图6(a)、图6(b)所示，支撑玻璃基板G1的滚轮搬送部5B前进，成为与基板处理部1的载物台部15的后侧邻接的状态。

而且，这时在基板处理部1中滚轮搬送部16相对于载物台部15配置在上升位置，成为可利用滚轮18来搬送基板的状态。

由此，玻璃基板G1被搬送到载物台部15上，然后，如图7(a)、图7(b)所示，使基板搬入部2中的后段部2B的滚轮搬送部5B后退移动(恢复为图5的状态)。而且，这时将下一片玻璃基板G2搬送到基板搬入部2中的前段部2A的滚轮搬送部5A。

如果如上所述玻璃基板G1被搬送到载物台部15上，那么如图8(a)、图8(b)所示那样滚轮搬送部16下降而收容在槽部15a内。由此，玻璃基板G1载置在载物台部15的基板载置面(上表面)。

而且，这时在基板搬入部2中前段部2A的玻璃基板G2被搬送到后段部2B。

到目前为止一直待机在喷嘴待机部44的喷嘴43在调整喷嘴前端的状态后，如图9(a)、图9(b)所示那样沿基板宽度方向在基板G1上扫描，而将处理液涂布在基板G的被处理面(上表面)。

对玻璃基板G1的涂布处理完成时，如图10(a)、图10(b)所示那样喷嘴43返回到喷嘴待机部44。另外，基板搬入部2的后段部2B的滚轮搬送部5B进行前进移动而成为与载物台部15的后侧邻接的状态。而且，基板搬出部3的滚轮搬送部29进行后退移动而成为与载物台部15的前侧邻接的状态。另外，滚轮轴17配置在上升位置，成为可搬送基板的状态。

由此，如图11(a)、图11(b)所示，结束涂布处理后的玻璃基板G1被搬送到基板搬出部3的滚轮搬送部29上，且基板搬入部2的滚轮搬送部5B上的玻璃基板G2被搬送到载物台部15上。另外，这时将新的基板G3搬送到基板搬入部2的前段部2A。

接下来，如图12(a)、图12(b)所示，使支撑玻璃基板G1的基板搬出部3的滚轮搬送部29前进移动，且使基板搬入部2的后段部2B的滚轮搬送部5B后退移动。

而且，如图13(a)、图13(b)所示，将经涂布处理的玻璃基板G1从基板搬出部3(向后段)搬送，且将玻璃基板G3从基板搬入部2的前段部2A搬送到后段部2B。另外，如果从图13所示的状态起使载物台部15的滚轮轴17下降，那么恢复为图8所示的状态，然后，重复进行图8～图13所示的一系列处理直到达到规定的处理片数为止。

如上所述，根据本发明的实施方式，相对于对作为被处理基板的玻璃基板G实施规定的处理的基板处理部1，在基板处理部1的基板搬送方向上游侧隔开规定距离而配置着基板搬入部2，在基板搬送方向下游侧隔开规定距离而配置着基板搬出部3。而且，当将基板向所述基板处理部1搬入时，所述基板搬入部2的滚轮搬送部5B进行前进移动，将玻璃基板G从滚轮搬送部5B搬入基板处理部1的滚轮搬送部16。另一方面，当将基板从所述基板处理部1搬出时，所述基板搬出部3的滚轮搬送部29进行后退移动，将玻璃基板G从基板处理部1的滚轮搬送部16搬出到滚轮搬送部29。

另外，在所述基板处理部1中，通过使所述滚轮搬送部16位于上升位置，而可将玻璃基板G搬入搬出，通过使滚轮搬送部16下降，而将玻璃基板G载置在载物台部15的基板载置面。

通过该构成，无需以往的在基板搬入搬出时利用顶起销等暂时地保持玻璃基板G的步骤、及利用搬送臂来搬送玻璃基板G的步骤等。结果为，可大幅度地减少相对于载物台部15进行搬入搬出时产生的玻璃基板G的滞留时间，从而可缩短处理动作的节拍时间。

另外，当将所述处理台装置100用于涂布处理装置150时，因为将喷嘴43的扫描(涂布)方向设为基板宽度方向，而可以将调整喷嘴43的喷出口的状态的喷嘴待机部44配置在基板处理部1的侧方，所以在进行喷嘴43的维护处理时所飞溅的微粒等不会落在基板搬送路径上，从而可防止玻璃基板G的污染。

此外，在所述实施方式中构成为在载物台部15的上方利用滚轮18(设置在滚轮搬送部16的较短的滚轮轴17上)仅支撑玻璃基板G的左右两侧缘部而进行搬送，但本发明的处理台装置并不限定于此。

例如，如图14(俯视图)、及图15(图14的B-B剖视图)所示，也可以将构成滚轮搬送部16的多根滚轮轴全部设为比基板宽度长的滚轮轴21，且将这些多根滚轮轴21沿基板搬送方向并列地设置在载物台部15上。

在此情况下，滚轮轴21通过与其一端侧卡合的驱动轴19的旋转而沿搬送基板G的方向进行旋转动作，驱动轴19是以由驱动电动机M6旋转驱动的方式构成的。

另外，在所述载物台部15的基板载置面，设置着在基板宽度方向上延伸的多个槽部15c，设置着多个滚轮22的多根滚轮轴21在通过气缸25而进行下降移动时，收容在所述槽部15c内。另外，在该构成中，因为滚轮轴21较长，所以较理想的是不仅在滚轮轴21的两端而且在载物台部15的中央附近也设置旋转自如地支撑滚轮轴21的支撑部件45。

根据这种构成，不论基板尺寸如何都能稳定地进行搬送。

另外，在所述实施方式中构成为使滚轮搬送部16相对于高度被固定的所述载物台部15进行升降移动，但本发明的处理台装置并不限定于此，也可以构成为固定滚轮搬送部16的高度，而使载物台部15相对于滚轮搬送部16进行升降移动(即，滚轮搬送部16相对于载物台部15相对地进行升降移动)。

另外，在所述实施方式中，虽关于在载物台部15载置玻璃基板G时的对准(基板位置对准)的动作并未予以表示，但优选可使用图16、图17、图18所示的构成实现高精度的对准。

以下详细地进行说明，图16是表示载物台部15及滚轮搬送部16的变形例的俯视图。图17是将图16的局部放大表示的剖视图。而且，图18是将图16的局部放大表示的剖视图，且表示用来说明对准的一系列动作的状态转变。

如图16所示，在载物台部15的上表面侧，沿基板搬送方向A在基板G的左右两侧绕铅垂轴旋转自如地设置着多个(图中单侧为4个)侧滚轮50(滚轮部件)。如图17所示，各侧滚轮50是在形成在载物台部15的上下贯通的贯通孔15d(收容孔)中插通着滚轮轴51，且在所述滚轮轴51的上端部旋转自如地设置着滚轮部件。

而且，如图16、图17所示，侧滚轮50是以滚轮面抵接于由滚轮搬送部16所搬送的玻璃基板G的侧端部的方式而配置，通过以侧滚轮50引导基板左右两侧而防止基板G的宽度方向的位置偏移。另外，虽未图示，但较理想的是在图1等所示的基板搬入部2的前段部2A、后段部2B也设置引导基板左右两侧的多个侧滚轮50，由此当向载物台部15上搬入基板时，可防止玻璃基板G的宽度方向的位置偏移。

另外，所述滚轮轴51设置为通过例如包含气缸的升降驱动部52(滚轮升降单元)可进行升降，当在载物台部15上搬送基板G时使侧滚轮50上升，而配置在基板侧方。另一方面，除此以外时，使侧滚轮50下降而收容在贯通孔15d中，配置在比载物台部15的载置面更下方。另外，在图16、图17中是设为可将侧滚轮50收容在贯通孔15d中的构成，但收容部并不限于孔，也可以构成为在载物台部设置槽部(收容槽)，将侧滚轮50收容在所述槽部中。

此外，在载物台部15的上表面侧的四角附近，分别可升降地设置着2根对准销55(即，合计8根)。如图16所示，各对准销55的侧面分别抵接于形成基板G的各角部的基板端部，由此使玻璃基板G高精度地配置在载物台部15上的规定位置。

如图18(a)所示，各对准销55具有规定直径的本体部，并且形成为前端尖锐的桩状，且插通在将载物台部15上下贯通的贯通孔15e中。而且，各对准销55通过气缸等升降驱动部56可进行升降移动，且在下降到最低的位置处前端部收容在贯通孔15e中。

这里，图示1根对准销55的动作来具体地说明利用对准销55进行的基板G的对准动作。

如图18(a)所示，如果基板G被搬送到载物台部15上的规定位置并停止，那么所有对准销55如图18(b)所示那样通过升降驱动部56进行上升移动。

因为对准销55的前端尖锐，所以如图18(b)所示，当基板端部靠近销侧时，基板端部抵接于销前端的尖锐的侧面。因此，如果对准销55进一步上升，与基板端部抵接的销前端直径扩大，那么玻璃基板G被对准销55推向侧方(载物台内侧)。而且，最终如图18(c)所示，基板端部被推着移动直到成为抵接于对准销55的本体部侧面的状态、即已位置对准的状态为止。

当通过所有对准销55的上升移动，使玻璃基板G配置在水平方向上的规定位置时，如图18(d)所示，滚轮搬送部16下降，基板G载置在载物台部15上。而且，这时较理想的是利用设置在载物台部15的抽吸机构(未图示)吸附保持已位置对准的玻璃基板G。

接着，如果玻璃基板G保持在载物台部15上，那么使所有对准销55下降移动，如图18(e)所示那样销前端收容在贯通孔15e中。

另外，在图18(a)～(e)所示的构成中，对准销55是设为前端尖锐的桩状的形状，且通过升降驱动部56仅进行升降，但并不限定于所述方式，只要是使基板侧部抵接于销侧面进行基板位置对准的构成，那么也可以是其他构成。例如，也可以构成为将对准销55形成为直棒状，使所有销在与玻璃基板G的侧部隔开的外侧的位置上升之后，向内侧水平移动，让所述销的侧面抵接于基板侧部，而进行位置对准。

另外，在载物台部15上，例如在收容滚轮轴17等的多个槽部15a的任一槽部，设置着用来检测在上方搬送的基板G的第一光学传感器及第二光学传感器(均未图示)。

所述第一光学传感器及第二光学传感器用于在上方搬送来的玻璃基板G的前端的检测。具体而言，控制单元(未图示)在第一光学传感器的检测时间使基板搬送速度减速，在第二光学传感器的检测时间使基板搬送停止。

通过以所述方式构成，可使搬送到载物台部15上的基板G停止在大致规定位置。

此外，也可以将多个对准销55中位于基板搬送方向A的最下游侧的2根对准销55A用作搬送停止部件，使所述2根对准销55A在基板G的搬送停止前上升并待机。这样，搬送来的基板G的前端抵接于所述对准销55A，而使基板G机械性地(强制性地)停止搬送，因此可防止所述光学传感器发生停止控制的故障时引起的超限等。另外，也可以不将对准销55A(55)用作所述搬送停止部件，而设置基板搬送停止用的专用升降销、或可升降的壁状的板部件等，在基板G的搬送停止前预先上升并待机。

根据以所述方式构成的载物台部15，当搬入玻璃基板G时，可以通过侧滚轮50矫正滚轮搬送的玻璃基板G的宽度方向的位置偏移。

而且，通过利用预先上升并待机的对准销55A挡住基板G的前端，使基板搬送强制性地停止，而可防止光学传感器发生停止控制的故障时引起的超限等。

此外，对于搬送停止的基板G，可通过多个对准销55上升而高精度地位置对准于规定位置，之后，通过滚轮搬送部16下降而可吸附保持在载物台上的规定位置。

另外，在所述实施方式中，在基板搬入部2的后段部2B中是设为滚轮搬送部5B仅可沿基板搬送方向在前后方向上移动的构成，在基板搬出部3中是设为滚轮搬送部29仅可沿基板搬送方向在前后方向上移动的构成。

然而，本发明并不限定于所述构成，也可以构成为使所述滚轮搬送部5B或滚轮搬送部29不仅可沿基板搬送方向在前后方向上移动，而且可在斜上下方向或垂直上下方向上移动。使用图19、图20具体地进行说明。图19(a)～(c)、图20(a)～(c)是基板搬入部2及基板搬出部3的变形例，且是示意性地表示所述基板搬入部2及所述基板搬出部3的一系列动作的剖视图。

如图19(a)所示，在基板搬入部2中，滚轮搬送部5B设置为通过气缸或皮带驱动装置等驱动装置35可在沿基板搬送方向在斜上下方向上延伸的轨道34上移动。由此，滚轮搬送部5B可在滚轮搬送部5A的前方位置与下方位置(待机位置)之间沿斜上下方向移动。也就是，当滚轮搬送部5B位于滚轮搬送部5A的前方位置时(例如图19(b)的状态)，成为可从滚轮搬送部5A经由滚轮搬送部5B向基板处理部1的滚轮搬送部16进行滚轮搬送的状态。另一方面，当滚轮搬送部5B位于滚轮搬送部5A的下方位置(待机位置)时(例如图20(a)的状态)，滚轮搬送部5A与基板处理部1隔开规定距离而分离，成为可在基板处理部1进行基板处理(涂布处理等)的状态。

另外，如图19(a)所示，在基板搬出部3中，滚轮搬送部是由滚轮搬送部29A与滚轮搬送部29B所构成。

滚轮搬送部29B是如图示那样在基板搬送路径上，与基板处理部1的滚轮搬送部16隔开规定距离而设置。

滚轮搬送部29A设置为通过气缸或皮带驱动装置等驱动装置37可在沿基板搬送方向在斜上下方向上延伸的轨道36上移动。由此，滚轮搬送部29A可在滚轮搬送部29B的后方位置与下方位置(待机位置)之间沿斜上下方向移动。也就是，当滚轮搬送部29A位于滚轮搬送部29B的后方位置时(例如图20(b)的状态)，成为可从基板处理部1的滚轮搬送部16经由滚轮搬送部29A向滚轮搬送部29B进行滚轮搬送的状态。

另一方面，当滚轮搬送部29A位于滚轮搬送部29B的下方位置时(例如图20(a)的状态)，滚轮搬送部29B与基板处理部1隔开规定距离而分离，成为可在基板处理部1进行基板处理(涂布处理等)的状态。

在这种构成中，如图19(a)所示，如果玻璃基板G被搬送到基板搬入部2的滚轮搬送部5A，那么位于待机位置(滚轮搬送部5A的下方位置)的滚轮搬送部5B如图19(b)所示那样向斜上方前进移动，而配置在滚轮搬送部5A与基板处理部1的滚轮搬送部16之间。

由此，如图19(c)所示，滚轮搬送部5A上的基板G经由滚轮搬送部5B通过滚轮搬送被搬入基板处理部1的滚轮搬送部16。

当基板被搬入基板处理部1时，滚轮搬送部5B向斜下方后退移动，而如图20(a)所示那样再次配置在待机位置。而且，这时基板处理部1成为与基板搬入部2及基板搬出部3分离的状态，可通过涂布处理部40对基板面进行涂布处理。

如果涂布处理结束，那么在基板搬出部3中位于待机位置(滚轮搬送部29B的下方位置)的滚轮搬送部29A如图20(b)所示那样向斜上方移动，而配置在滚轮搬送部29B与基板处理部1的滚轮搬送部16之间。

由此，如图20(c)所示，基板处理部1的滚轮搬送部16上的基板G经由基板搬出部3的滚轮搬送部29A通过滚轮搬送向滚轮搬送部29B搬出。另外，在基板向滚轮搬出部29B搬出之后，滚轮搬送部29A向斜下方移动，而再次配置在待机位置。

根据以上的构成，在基板搬入部2中，通过使滚轮搬送部5B配置在滚轮搬送部5A与基板处理部1的滚轮搬送部16之间而形成可进行滚轮搬送的基板搬送路径即可。而且，在基板搬出部3中，通过使滚轮搬送部29A配置在基板处理部1的滚轮搬送部16与滚轮搬送部29B之间而形成可进行滚轮搬送的基板搬送路径即可。

也就是，滚轮搬送部5B及滚轮搬送部29A各自并不需要为支撑玻璃基板G的整体的大小，可以使所述滚轮搬送部5B及所述滚轮搬送部29A的基板搬送方向的全长形成为短于基板长度。

结果为，可缩短基板搬送路径的长度(装置的长度)，从而可降低装置所花费的成本。而且，因为并无在载置着基板G的状态(基板G静止的状态)下进行搬送的机构，基板G的移动全部通过滚轮搬送而进行，所以基板搬送所花费的时间得以短缩，从而可提高整体的处理速度。

另外，可以在待机位置，利用形成在基板搬送路径的下方的规定空间，进行滚轮搬送部5B、29的维护。

另外，在图19、图20所示的构成例中，滚轮搬送部5B及滚轮搬送部29A是沿斜上下方向移动的，但也可以设为沿垂直上下方向移动的构成。

另外，在所述实施方式中，如图5所示，在涂布处理部40中是设为具有在基板搬送方向上延伸的狭缝状的喷出口的喷嘴43通过沿基板宽度方向扫描而将处理液涂布在基板G上的构成。

然而，本发明并不限定于所述构成。例如，也可以构成为沿基板宽度方向配置喷嘴43的狭缝状的喷出口，使喷嘴43沿基板搬送方向扫描。

另外，本发明的处理台装置并不限定于对被处理基板涂布处理液的涂布处理装置，而可应用于对被处理基板实施规定处理的各种处理装置。

Claims (9)

1.一种处理台装置，其特征在于包括：基板处理部，对被处理基板实施规定的处理；

基板搬入部，将所述基板搬入所述基板处理部；以及基板搬出部，将所述基板从所述基板处理部搬出；

所述基板搬入部包含：第一基板搬送部，可水平地搬送所述基板；及第一进退单元，使所述第一基板搬送部至少沿基板搬送方向在前后方向、斜上下方向及垂直上下方向的任一方向上移动，并且可在前进位置处将所述第一基板搬送部上的被处理基板搬入所述基板处理部；

所述基板处理部包含：载物台，在所述基板搬入部的基板搬送方向下游侧隔开规定距离而配置，且具有用来对所述基板实施规定处理的载置面；第二基板搬送部，设置为可相对于所述载物台的载置面相对地升降，且可在上升位置处水平地搬送所述基板；以及第二进退单元，通过使所述第二基板搬送部相对于所述载物台的载置面相对地升降，而将所述基板载置在所述第二搬送部上或所述载物台的载置面上；

所述基板搬出部包含：第三基板搬送部，在所述基板处理部的基板搬送方向下游侧隔开规定距离而配置，且可水平地搬送所述被处理基板；及第三进退单元，使所述第三基板搬送部至少沿基板搬送方向在前后方向、斜上下方向及垂直上下方向的任一方向上移动，并且可在后退位置处将被处理基板从所述基板处理部搬出到所述第三基板搬送部。

2.根据权利要求1所述的处理台装置，其特征在于：在所述基板处理部中，

在所述载物台的载置面，设置着当通过所述第二进退单元使所述第二基板搬送部下降时可收容所述第二基板搬送部的槽部。

3.根据权利要求1或2所述的处理台装置，其特征在于：在所述载物台的载置面，沿基板搬送方向设置着抵接于由所述第二基板搬送部所搬送的被处理基板的左右两侧以引导基板宽度方向的位置的多个滚轮部件。

4.根据权利要求3所述的处理台装置，其特征在于：包括使所述多个滚轮部件相对于所述载物台的载置面相对地升降的滚轮升降单元；

在所述载物台的载置面，设置着可收容所述滚轮部件的收容孔或收容槽，所述多个滚轮部件在所述基板载置在所述载物台的载置面的期间，通过所述滚轮升降单元进行下降而收容在所述收容孔或收容槽中。

5.根据权利要求1或2所述的处理台装置，其特征在于：在所述载物台的载置面的与被处理基板的角部对应的位置上，分别设置着可升降的对准销；

对于搬送到所述载物台上的被处理基板，所述对准销上升，并且所述对准销的侧面抵接于所述被处理基板的侧部，进行位置对准。

6.根据权利要求1或2所述的处理台装置，其特征在于：在所述载物台的载置面，设置着可相对于该载置面通过升降移动向上方突出或在下方收纳的搬送停止部件；

通过由所述第二基板搬送部所搬送的被处理基板的前端抵接于配置在上升位置的所述搬送停止部件，使该被处理基板的搬送停止。

7.根据权利要求1或2所述的处理台装置，其特征在于：所述第一至第三基板搬送部分别通过滚轮搬送而水平地搬送所述被处理基板。

8.一种涂布处理装置，其特征在于：使用根据权利要求1或2所述的处理台装置对被处理基板涂布处理液；

在所述基板处理部中，包括：

喷嘴，具有在一方向上延伸的喷出口，在所述载物台的载置面上所载置的被处理基板的上方移动，并且从所述喷出口向所述基板上喷出处理液；

喷嘴移动单元，使所述喷嘴移动；以及

喷嘴维护单元，设置在所述基板处理部的侧方，且调整通过所述喷嘴移动单元而移动到所述基板处理部的侧方的所述喷嘴的喷出口的状态。

9.根据权利要求8所述的涂布处理装置，其特征在于：当所述喷嘴的喷出口以在所述基板的前后方向上延伸的方式配置时，所述喷嘴移动单元使所述喷嘴沿基板宽度方向移动；

当所述喷嘴的喷出口以在基板宽度方向上延伸的方式配置时，所述喷嘴移动单元使所述喷嘴沿所述基板的前后方向移动。

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