CN101173154A - 表面保护薄膜及带有表面保护薄膜的光学薄膜 - Google Patents

表面保护薄膜及带有表面保护薄膜的光学薄膜 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种即使使用橡胶类粘合剂也可以实现对自背面的低剥离(低开卷力)，并且对被粘物的粘接可靠性优良的表面保护薄膜，以及使用了该表面保护薄膜的带有表面保护薄膜的光学薄膜。本发明的表面保护薄膜(1)是在基材层(10)的一面层叠有粘合剂层(12)，在所述基材层(10)的另一面层叠有脱模处理层(14)的表面保护薄膜(1)，其特征是，所述粘合剂层(12)由橡胶类形成，所述脱模处理层(14)由丙烯酸硅氧烷接枝聚合物形成。

Description

表面保护薄膜及带有表面保护薄膜的光学薄膜
技术领域
本发明涉及表面保护薄膜及带有表面保护薄膜的光学薄膜。更具体来说，本发明涉及要求轻剥离的薄膜或忌讳污染的薄膜，其中特别适于构成液晶显示器(LCD)、等离子体显示器、有机EL(电致发光)、场发射显示器等的光学薄膜(光学薄片)等的表面保护薄膜及带有表面保护薄膜的光学薄膜。
背景技术
以往，在对塑料产品或金属板进行加工、搬运等之时，为了不对这些被粘物的表面造成损伤等，临时贴附表面保护薄膜而实现对被粘物的表面的保护。作为此种被粘物的表面保护薄膜，使用在基材薄膜的一面设置了粘合剂层的粘合薄膜。
迄今为止，在具有橡胶类粘合剂或聚烯烃类薄膜等熔点低的薄膜的胶带中，常使用长链烷基类脱模处理层。但是，该组合的胶带的开卷力变得非常大，贴合的操作性非常差(例如参照专利文献1、2)。所以，也正在研究脱模效果非常高的硅氧烷类的脱模处理层(例如参照专利文献3)。但是已经判明，对于迄今为止的硅氧烷类的脱模处理层，在热硬化时薄膜会暴露于高温中，如果是熔点低的薄膜，则在热硬化时就会有薄膜收缩的问题。
另外，对于以往的硅氧烷类的脱模处理层，还有容易产生低分子、容易产生污染的问题。另外，还有成本高的问题，此外，在使用了采用锡类催化剂的硅氧烷类的脱模处理剂的情况下，还有可能对操作者造成健康危害。另外，对于以往的硅氧烷类的脱模处理层，因湿度的影响，还会有脱模剂在粘合剂层侧脱落的情况。
另一方面，在以往的带有脱模层的多层挤出薄膜中，有将EVA(乙烯/乙酸乙烯酯共聚物)用于脱模层中的情况，然而该方法中，会有开卷力很大，脱模层将粘合剂表面污染，引起粘接不良的问题。
像这样，以往的技术中，尚不存在能够解决使用橡胶类粘合剂层时的轻松剥离等问题的表面保护薄膜。
[专利文献1]特开2000-345123号公报
[专利文献2]特开2006-36882号公报
[专利文献3]特开2000-26814号公报
发明内容
所以，本发明为了解决所述的问题，其目的在于，提供一种即使使用橡胶类粘合剂也可以实现对自背面的低剥离(低开卷力)、且对被粘物的粘接可靠性优良的表面保护薄膜，以及使用了它的带有表面保护薄膜的光学薄膜。
本发明人等为了实现所述的目的，进行了深入研究，结果发现，通过使用下面的表面保护薄膜，就可以实现所述目的，从而完成了本发明。
即，本发明的表面保护薄膜是在基材层的一面层叠有粘合剂层，在所述基材层的另一面层叠有脱模处理层的表面保护薄膜，其特征是，所述粘合剂层由橡胶类形成，所述脱模处理层由丙烯酸硅氧烷(acrylsilicone)接枝聚合物形成。
所述本发明的表面保护薄膜由于具有包含橡胶类粘合剂层及利用所述的丙烯酸硅氧烷接枝聚合物形成的脱模处理层的构成，因此尽管使用了橡胶类粘合剂，也可以实现对自背面的低剥离(低开卷力)，成为对被粘物的粘合可靠性优良的薄膜。特别是，由于能够使在作为贴附了保护薄膜的被粘物的卷绕体使用之时成为问题的自背面粘接力非常低，因此与以往相比可以实现操作性的大幅度的改善。
而且，本发明中的所谓表面保护薄膜包括表面保护胶带或表面保护薄片等薄膜状的其他的形态。
另外，本发明中的所谓丙烯酸硅氧烷接枝聚合物是指，在丙烯酸类聚合物的高分子链上将硅氧烷骨架接枝化的物质。
在所述表面保护薄膜中，其特征是，所述脱模处理层由丙烯酸硅氧烷接枝聚合物形成。本发明中所用的丙烯酸硅氧烷接枝聚合物由于与以往的长链烷基类剥离剂相比表面张力更小，因此可以推测，对自背面的粘接力变小，可以体现出良好开卷力。另外，由于能够容易地获得良好的开卷力，因此即使在使用了熔点低的薄膜的情况下，与将以往的硅氧烷类聚合物作为脱模处理剂使用的情况相比，可以获得与薄膜的良好的密接性。
另外，通过使用所述丙烯酸硅氧烷接枝聚合物，与使用了以往的硅氧烷类聚合物的情况相比，可以减少在生产线涂刷时的生产线的污染。另外，对于以往的PO类硅氧烷剥离衬里(liner)中所用的缩合型的硅氧烷处理剂，锡类催化剂的异臭很剧烈，对操作者的健康的影响也不小，然而通过使用所述丙烯酸硅氧烷接枝聚合物，则没有此种来源于材料的异臭。
另外，所述脱模处理层的厚度优选0.05～0.5μm。通过使用该脱模处理层，就可以更为可靠地限制开卷力以及抑制背面处理层的脱落或向粘合剂层面的转印，形成粘接可靠性优良的材料。
另外，所述粘合剂层的厚度优选2～10μm。
另外，最好所述丙烯酸硅氧烷接枝聚合物的羟值或酸值为15～70mgKOH/g，并且所述丙烯酸硅氧烷接枝聚合物的硅氧烷的接枝量为15～40重量％。通过使用该丙烯酸硅氧烷接枝聚合物，就可以更为可靠地限制开卷力以及抑制背面处理层的脱落或向粘合剂层面的转印，形成粘合可靠性优良的材料。而且，本发明中的所谓羟值是指在一定量的树脂中所含的末端羧基的量，另外，所谓羟基是表示在一定量的树脂中所含的末端羟基的量的树脂的特性值。后述的实施例中的羟值及酸值是指依照JIS K-0007-1992测定的值。
另外，在所述脱模处理层中优选含有0.3～7.0atomic％的氟。而且，所谓atomic％是指针对原子数的百分率。更具体来说，是指在脱模处理层全体中所含的元素中的氟的比例。
另外，所述脱模处理层的表面张力优选13.5～18.0mN/m。
另外，所述脱模处理层可以含有交联剂。由于通过添加交联剂，可以提高与薄膜的密接性，防止脱模处理层的脱落，并且开卷力更为稳定，另外随时间推移的开卷力也稳定，因此最好在脱模处理层中添加交联剂。
另外，在所述表面保护薄膜的在以0.3m/min剥离时的所述粘合剂层对所述脱模处理层的粘合力优选在0.4N/20mm以下。通过使用本发明的表面保护薄膜，可以将自背面粘接力限制在所述范围，可以对被粘物发挥良好的密接性。
另外，本发明的表面保护薄膜优选用于光学薄膜的表面保护中。
另一方面，本发明的带有表面保护薄膜的光学薄膜的特征是，是将所述任意一项中记载的表面保护薄膜贴合在光学薄膜，其中特别是棱镜薄片的一面或两面上而成的。由于本发明的带有表面保护薄膜的光学薄膜具备起到所述作用的表面保护薄膜，因此尽管使用了橡胶类粘合剂，也可以实现对自背面的低剥离(低开卷力)，成为与被粘物的粘接可靠性优良的薄膜。
附图说明
图1是表示本发明的表面保护薄膜的一个方式的剖面图。
图2是表示本发明的表面保护薄膜的使用状态的一个方式的剖面图。
其中，1：表面保护薄膜，10：基材层，12：粘合剂层，14：脱模处理层，2：光学薄膜
具体实施方式
下面将在参照附图的同时对本发明的实施方式进行详细说明。
本发明的表面保护薄膜1如图1所示，是在基材层10的一面层叠有粘合剂层12，在所述基材层10的另一面上层叠有脱模处理层14的表面保护薄膜1，其特征是，所述粘合剂层12由橡胶类形成，所述脱模处理层14由丙烯酸硅氧烷接枝聚合物形成。
本发明的基材层10如图1所示，在一面层叠有粘合剂层12。另外，在所述基材层10的另一面上层叠有脱模处理层14。
另外，作为所述基材层10，可以适当地使用塑料薄膜。
作为所述塑料薄膜，例如可以举出聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚苯乙烯薄膜等。另外，也包括将这些薄膜单独地含有或混合了2种以上的塑料薄膜。另外，也可以将层叠了所述薄膜的薄膜作为所述塑料薄膜使用。
所述基材层10的厚度虽然没有特别限制，但是从加工性的方面考虑，通常优选设为10～200μm，更优选设为15～100μm，特别优选设为20～70μm。当厚度过薄时，则将所述表面保护薄膜1剥离之时的强度或表面保护功能就有变得不充分的倾向。另一方面，当厚度变得过大时，则会有在处理性或成本方面变得不利的倾向。
另外，在所述基材层10中，出于防止劣化等目的，例如也可以适当地添加抗氧化剂、紫外线吸收剂、受阻胺类光稳定剂等光稳定剂、防带电剂，此外例如还可以适当地添加氧化钙、氧化镁、氧化硅、氧化锌、氧化钛等填充剂、颜料、防眼屎剂、润滑剂、防粘连剂(anti-blocking agent)、发泡剂、聚乙烯亚胺等添加剂。这些化合物既可以单独使用，也可以混合2种以上使用。
另外，在所述基材层10的表面，考虑到与粘合剂层12或脱模处理层14的密接性，例如也可以根据需要实施电晕放电处理、紫外线照射处理、火焰处理、等离子体处理或溅射腐蚀处理等以对粘合性的控制或贴附操作性等为目的的表面处理、易粘接处理或底涂处理。
另外，本发明的表面保护薄膜1是在所述基材层10的一面具有粘合剂层12的薄膜。
本发明的表面保护薄膜1例如如图1所示，在基材层10的一面具有粘合剂层12。而且，本发明的表面保护薄膜1可以以薄片状、胶带状等使用。另外，所述粘合剂层12既可以是单独的层，也可以层叠2层以上使用。
作为形成粘合剂层12的粘合剂，可以没有特别限制地使用橡胶类粘合剂。特别是对于棱镜薄片的由丙烯酸树脂形成的棱镜面来说，从抑制在棱镜面上产生外观上的缺陷的观点考虑，该橡胶类粘合剂是最佳的。
作为橡胶类粘合剂，例如可以举出天然橡胶；天然橡胶与甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸成分的共聚物；苯乙烯嵌段共聚物及其加氢物；以及苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物及其加氢物等。其中，优选使用天然橡胶与甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸成分的共聚物。它们既可以单独使用，也可以混合2种以上使用。
另外，通过控制所述粘合剂的门尼粘度，可以提高操作性或粘接可靠性。
在所述粘合剂中，也可以含有其他的公知的添加剂，例如可以根据使用的用途适当地添加交联剂·硫化剂、硅烷耦合剂、增粘剂、着色剂、颜料等的粉体、染料、表面活性剂、增塑剂、表面润滑剂、流平剂、软化剂、抗氧化剂、防老化剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、阻聚剂、无机或有机的填充剂、金属粉末、粒子状、箔状物等。另外，也可以在能够控制的范围内，采用添加还原剂的氧化还原体系。
作为增粘剂，例如可以适当地使用石油类树脂、酚醛类树脂、松香类树脂、萜烯类树脂等。它们既可以单独使用，也可以混合2种以上使用。
另外，增粘剂的配合量虽然没有特别限定，但是相对于100重量份橡胶，为1～200重量份，优选10～170重量份。
作为交联剂及硫化剂，例如可以适当地使用异氰酸酯类交联剂、秋兰姆类硫化剂、醌类硫化剂、马来酰亚胺类硫化剂等。它们既可以单独使用，也可以混合2种以上使用。
交联剂及硫化剂的配合量虽然没有特别限定，但是相对于100重量份橡胶，为0.1～20重量份，优选0.1～10重量份。
另外，对所述粘合剂层12的表面，也可以进行电晕处理、等离子体处理等易粘接处理。
另外，所述粘合剂层12的厚度优选2～10μm，更优选2～9μm，进一步优选2～6μm。当所述粘合剂层12的厚度超过10μm时，则粘合力变得过高，从而会有降低表面保护薄膜1的使用后的剥离操作性的情况。另一方面，当所述粘合剂层12的厚度小于2μm时，则无法稳定地与表面为规则的形状的棱镜面等密接，从而有贴附不上的情况。
另外，在本发明的表面保护薄膜1中，如图1所示，其特征是，在所述基材层10的与粘合剂层12侧的面不同的另一面上，层叠有脱模处理层14，所述脱模处理层14由丙烯酸硅氧烷接枝聚合物形成。
作为在形成脱模处理层14时所用的脱模处理剂，可以使用丙烯酸硅氧烷接枝聚合物。
另外，本发明中的所谓丙烯酸硅氧烷接枝聚合物是指，在丙烯酸类聚合物的高分子链上将硅氧烷骨架接枝化的聚合物。特别是作为所用的丙烯酸类聚合物，虽然没有特别限定，但是可以适当地使用市售的通用的丙烯酸类聚合物。另外，硅氧烷类聚合物(硅氧烷骨架)也可以适当地使用市售的通用的硅氧烷类聚合物。它们既可以单独使用，也可以混合2种以上使用。
另外，所述丙烯酸硅氧烷接枝聚合物中的硅氧烷骨架的接枝量优选15～40重量％，更优选18～38重量％，进一步优选20～35重量％。当所述接枝量小于15重量％时，则会有自背面粘合力变大的情况。另一方面，当所述接枝量超过40重量％时，则会有由硅氧烷向粘合剂层面上的转印造成的粘合力的降低或导致污染的情况。而且，所述接枝量可以通过用NMR等测定而算出。
另外，最好所述丙烯酸硅氧烷接枝聚合物的羟值或酸值为15～70mgKOH/g，并且所述丙烯酸硅氧烷接枝聚合物的硅氧烷的接枝量为15～40重量％。通过使用该丙烯酸硅氧烷接枝聚合物，就可以更为可靠地限制开卷力以及抑制背面处理层的脱落或向粘合剂层面的转印，形成粘接可靠性优良的材料。
而且，本发明中的所谓羟值是在一定量的树脂中所含的末端羧基的量，另外，所谓羟基是表示在一定量的树脂中所含的末端羟基的量的树脂的特性值，后述的实施例中的羟值及酸值是指依照JIS K-0007-1992测定的值。更具体来说，所谓酸值是指为了将在1mg试样中所含有的游离脂肪酸、树脂酸等中和而必需的氢氧化钾的mg数。另外，所谓羟值是指为了将在1mg试样中所含有的游离羟基中和而必需的氢氧化钾的mg数。当所述羟值或酸值小于15时，则会有背面处理剂的交联变得不充分的情况，会有产生背面处理层的脱落或转印的情况。另一方面，当所述羟值或酸值超过70时，则在丙烯酸硅氧烷接枝聚合物骨架中就会存在很多与粘合剂的相互作用大的羧基，从而会有背面处理剂的适用期变短的情况。
另外，在所述脱模处理层中优选含有0.3～7.0atomic％氟，更优选含有0.4～4.0atomic％，进一步优选含有0.5～2.0atomic％。而且，氟含量的测定是通过使用TOF-SIMS，实施所述脱模层的表面的组成分析而进行的。
另外，所述脱模处理层的表面张力优选13.5～18.0mN/m，更优选14.0～17.0mN/m，进一步优选15.0～16.0mN/m。而且，所述脱模处理层的表面张力的测定是利用实施例中所示的方法进行的。
另外，所述脱模处理层14优选含有交联剂。通过使用所述交联剂，就可以更为可靠地实现对自背面的低剥离(低开卷力)，形成与被粘物的粘接可靠性优良的材料，还有助于涂刷操作面的操作性提高。
作为所述脱模处理层14中所用的交联剂，例如可以举出异氰酸酯类交联剂、环氧类交联剂、金属螯合物类交联剂、蜜胺树脂、尿素树脂等。其中，优选使用异氰酸酯类交联剂。
所述脱模处理层14中所用的交联剂的含量为，相对于100重量份丙烯酸硅氧烷接枝聚合物使用3～50重量份左右，优选5～30重量份，更优选10～20重量份。当所述交联剂的量超过必需量时，则背面处理剂的适用期就会变短。另一方面，通过设为所述交联剂的量，就可以更为可靠地抑制粘合剂层的交联剂与脱模处理层14的官能基反应而使自背面粘接力变大的情况。
另外，所述脱模处理层14的厚度优选0.05～0.5μm，更优选0.05～0.3μm，进一步优选0.06～0.15μm。当所述脱模处理层14的厚度超过0.5μm时，则变得过厚，会有产生背面处理层14的脱落或向粘合剂层的转印的情况。另一方面，当所述脱模处理层14的厚度小于0.05μm时，则厚度变得过小，自背面粘接力难以变小，相反会有开卷力变大的情况。
另外，在所述表面保护薄膜的在以0.3m/min剥离时的所述粘合剂层对所述脱模处理层14的粘接力优选在0.4N/20mm以下，更优选在0.35N/20mm以下，进一步优选在0.3N/20mm以下，特别优选在0.2N/20mm以下。通过使用本发明的表面保护薄膜，可以将自背面粘合力限制在所述范围，可以对被粘物发挥良好的密接性。
另外，脱模剂层14的形成方法可以适当地使用涂布或转印等公知的脱模处理层14的形成方法。
另一方面，具有所述基材层10、粘合剂层12和脱模剂层14的表面保护薄膜1的制造方法没有特别限制，可以采用各种方法。例如，可以例示出将构成各层的树脂材料熔融共挤出而以叠层物成形的方法；将各层利用挤出等分别地以薄膜状成形，将它们利用粘合剂等粘接的方法等。这些方法当中，从各层间的密接性良好，另外还使得工序简化的观点考虑，优选利用共挤出成形、熔融共挤出成形的方法。
另外，本发明的带有表面保护薄膜的光学薄膜如图2所示，其特征是，是将所述任意一项中记载的表面保护薄膜1贴合在光学薄膜2，其中特别是棱镜薄片的一面或两面上而成的。本发明的带有表面保护薄膜的光学薄膜由于具备起到所述作用的表面保护薄膜1，因此尽管使用了橡胶类粘合剂，也可以实现对自背面的低剥离(低开卷力)，成为与被粘物的粘合可靠性优良的薄膜。
作为所述光学薄膜，例如可以举出偏振片或起偏镜、反射板或半透板、相位差板(包括1/2或1/4等的波长板)、视角补偿薄膜、亮度提高薄膜、棱镜薄片或透镜薄片、扩散板等成为能够用于液晶显示装置等的形成的光学层的薄膜。
[实施例]
下面，对于具体地给出本发明的构成和效果的实施例等进行说明。而且，实施例等的评价项目是如下所示地进行的。
[实施例1]
作为基材层(支撑体)，使用聚丙烯薄膜，另外在所述基材层的外侧，作为脱模处理层，将涂布厚度设为0.1μm而涂布了梳形的丙烯酸硅氧烷接枝聚合物(东亚合成公司制，サイマツクUS-270，羟值：26mgKOH/g，硅氧烷含量：20～30重量％)，干燥而形成了层。另外，作为粘合剂层，向含有30重量％聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡胶的接枝共聚物(门尼粘度：100，测定条件：MS(1+4)100℃)100重量份中，添加了30重量份增粘树脂(日本Zeon公司制，Quintone A-100)，将其溶解于稀释溶剂中，涂布并干燥，将厚度设为3μm，形成层，得到了表面保护薄膜。
[实施例2]
作为基材层(支撑体)，使用聚丙烯薄膜，另外在所述基材层的外侧，作为脱模处理层，将涂布厚度设为0.1μm而涂布了梳形的丙烯酸硅氧烷接枝聚合物(东亚合成公司制，サイマツクUS-380，酸值：65mgKOH/g，硅氧烷含量：20～30重量％)，干燥而形成了层。另外，作为粘合剂层，向含有30重量％聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡胶的接枝共聚物(门尼粘度：100，测定条件：MS(1+4)100℃)100重量份中，添加了30重量份增粘树脂(日本Zeon公司制，Quintone A-100)，将其溶解于稀释溶剂中，涂布并干燥，将厚度设为3μm，形成层，得到了表面保护薄膜。
[比较例1]
作为基材层(支撑体)，使用聚丙烯薄膜，另外在所述基材层的外侧，作为脱模处理层，将涂布厚度设为0.5μm而涂布了长链烷基类脱模剂(一方公司油脂工业公司制，ピ-ロイル1010)，干燥而形成了层。另外，作为粘合剂层，向含有30重量％聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡胶的接枝共聚物(门尼粘度：100，测定条件：MS(1+4)100℃)100重量份中，添加了30重量份增粘树脂(日本Zeon公司制，Quintone A-100)，将其溶解于稀释溶剂中，涂布并干燥，将厚度设为3μm，形成层，得到了表面保护薄膜。
[比较例2]
作为基材层(支撑体)，使用聚丙烯薄膜，另外在所述基材层的外侧，作为脱模处理层，将涂布厚度设为0.1μm而涂布了梳形的丙烯酸硅氧烷接枝聚合物(大日本油墨公司制，SG-204，酸值：9.2mgKOH/g，硅氧烷含量：2～4重量％)，干燥而形成了层。另外，作为粘合剂层，向含有30重量％聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡胶的接枝共聚物(门尼粘度：100，测定条件：MS(1+4)100℃)100重量份中，添加了30重量份增粘树脂(日本Zeon公司制，Quintone A-100)，将其溶解于稀释溶剂中，涂布并干燥，将厚度设为3μm，形成层，得到了表面保护薄膜。
[实施例3]
在基材中使用聚丙烯薄膜，在其外侧作为脱模处理剂，以0.05μm的涂布厚度涂布了将梳形的丙烯酸硅氧烷接枝聚合物(商品名：サイマツクUS-270，东亚合成公司制，羟值含量：26mgKOH/g，硅氧烷含量：20～30％)和氟硅氧烷类消泡剂(商品名：DAPPO SN-359，SAN NOPCO公司制)以100∶15混合了的脱模处理剂，干燥，制作了氟含量为0.5atomic％的薄膜。另外，作为粘合剂层，向含有30重量％聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡胶的接枝共聚物(门尼粘度：100，测定条件：MS(1+4)100℃)100重量份中，添加了30重量份增粘树脂(日本Zeon公司制，Quintone A-100)，将其溶解于稀释溶剂中，涂布并干燥，将厚度设为3μm，形成层，得到了表面保护薄膜。
[实施例4]
在基材中使用聚丙烯薄膜，在其外侧作为脱模处理剂，以0.10μm的涂布厚度涂布了将梳形的丙烯酸硅氧烷接枝聚合物(商品名：サイマツクUS-270，东亚合成公司制，羟值含量：26mgKOH/g，硅氧烷含量：20～30％)和氟硅氧烷类消泡剂(商品名：DAPPO SN-359，SAN NOPCO公司制)以100∶15混合了的脱模处理剂，干燥，制作了氟含量为1.8atomic％的薄膜。另外，作为粘合剂层，向含有30重量％聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡胶的接枝共聚物(门尼粘度：100，测定条件：MS(1+4)100℃)100重量份中，添加了30重量份增粘树脂(日本Zeon公司制，Quintone A-100)，将其溶解于稀释溶剂中，涂布并干燥，将厚度设为3μm，形成层，得到了表面保护薄膜。
[实施例5]
在基材中使用聚丙烯薄膜，在其外侧作为脱模处理剂，以0.08μm的涂布厚度涂布了将梳形的丙烯酸硅氧烷接枝聚合物(商品名：サイマツクUS-270，东亚合成公司制，羟值含量：26mgKOH/g，硅氧烷含量：20～30％)和氟硅氧烷类消泡剂(商品名：DAPPO SN-359，SAN NOPCO公司制)以100∶15混合了的脱模处理剂，干燥，制作了表面张力为15.80mN/m的薄膜。另外，作为粘合剂层，向含有30重量％聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡胶的接枝共聚物(门尼粘度：100，测定条件：MS(1+4)100℃)100重量份中，添加了30重量份增粘树脂(日本Zeon公司制，Quintone A-100)，将其溶解于稀释溶剂中，涂布并干燥，将厚度设为3μm，形成层，得到了表面保护薄膜。
[实施例6]
在基材中使用聚丙烯薄膜，在其外侧作为脱模处理剂，以0.10μm的涂布厚度涂布了将梳形的丙烯酸硅氧烷接枝聚合物(商品名：サイマツクUS-270，东亚合成公司制，羟值含量：26mgKOH/g，硅氧烷含量：20～30％)和氟硅氧烷类消泡剂(商品名：DAPPO SN-359，SAN NOPCO公司制)以100∶15混合了的脱模处理剂，干燥，制作了表面张力为15.20mN/m的薄膜。另外，作为粘合剂层，向含有30重量％聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡胶的接枝共聚物(门尼粘度：100，测定条件：MS(1+4)100℃)100重量份中，添加了30重量份增粘树脂(日本Zeon公司制，Quintone A-100)，将其溶解于稀释溶剂中，涂布并干燥，将厚度设为3μm，形成层，得到了表面保护薄膜。
[比较例3]
在基材中使用聚丙烯薄膜，在其外侧作为脱模处理剂，以0.10μm的涂布厚度涂布了将梳形的丙烯酸硅氧烷接枝聚合物(商品名：サイマツクUS-270，东亚合成公司制，羟值含量：26mgKOH/g，硅氧烷含量：20～30％)和氟硅氧烷类消泡剂(商品名：DAPPO SN-367，SAN NOPCO公司制)以100∶15混合了的脱模处理剂，干燥，制作了氟含量为0.1atomic％的薄膜。另外，作为粘合剂层，向含有30重量％聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡胶的接枝共聚物(门尼粘度：100，测定条件：MS(1+4)100℃)100重量份中，添加了30重量份增粘树脂(日本Zeon公司制，Quintone A-100)，将其溶解于稀释溶剂中，涂布并干燥，将厚度设为3μm，形成层，得到了表面保护薄膜。
[比较例4]
在基材中使用聚丙烯薄膜，在其外侧作为脱模处理剂，以0.10μm的涂布厚度涂布了将梳形的丙烯酸硅氧烷接枝聚合物(商品名：サイマツクUS-270，东亚合成公司制，羟值含量：26mgKOH/g，硅氧烷含量：20～30％)和氟硅氧烷类消泡剂(商品名：DAPPO SN-356，SAN NOPCO公司制)以100∶15混合了的脱模处理剂，干燥，制作了氟含量为9.0atomic％的薄膜。另外，作为粘合剂层，向含有30重量％聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡胶的接枝共聚物(门尼粘度：100，测定条件：MS(1+4)100℃)100重量份中，添加了30重量份增粘树脂(日本Zeon公司制，Quintone A-100)，将其溶解于稀释溶剂中，涂布并干燥，将厚度设为3μm，形成层，得到了表面保护薄膜。
[比较例5]
在基材中使用聚丙烯薄膜，在其外侧作为脱模处理剂，以0.10μm的涂布厚度涂布了将梳形的丙烯酸硅氧烷接枝聚合物(商品名：サイマツクUS-270，东亚合成公司制，羟值含量：26mgKOH/g，硅氧烷含量：20～30％)和氟硅氧烷类消泡剂(商品名：FA-630，信越Silicon公司制)以100∶10混合了的脱模处理剂，干燥，制作了氟含量为15.0atomic％的薄膜。另外，作为粘合剂层，向含有30重量％聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡胶的接枝共聚物(门尼粘度：100，测定条件：MS(1+4)100℃)100重量份中，添加了30重量份增粘树脂(日本Zeon公司制，Quintone A-100)，将其溶解于稀释溶剂中，涂布并干燥，将厚度设为3μm，形成层，得到了表面保护薄膜。
[比较例6]
在基材中使用聚丙烯薄膜，在其外侧作为脱模处理剂，以0.10μm的涂布厚度涂布了将梳形的丙烯酸硅氧烷接枝聚合物(商品名：サイマツクUS-270，东亚合成公司制，羟值含量：26mgKOH/g，硅氧烷含量：20～30％)和氟硅氧烷类消泡剂(商品名：FA-630，信越Silicon公司制)以100∶10混合了的脱模处理剂，干燥，制作了表面张力为23.6mN/m的薄膜。另外，作为粘合剂层，向含有30重量％聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡胶的接枝共聚物(门尼粘度：100，测定条件：MS(1+4)100℃)100重量份中，添加了30重量份增粘树脂(日本Zeon公司制，Quintone A-100)，将其溶解于稀释溶剂中，涂布并干燥，将厚度设为3μm，形成层，得到了表面保护薄膜。
[比较例7]
在基材中使用聚丙烯薄膜，在其外侧作为脱模处理剂，以0.10μm的涂布厚度涂布了将梳形的丙烯酸硅氧烷接枝聚合物(商品名：サイマツクUS-270，东亚合成公司制，羟值含量：26mgKOH/g，硅氧烷含量：20～30％)和氟硅氧烷类消泡剂(商品名：DAPPO SN-367，SAN NOPCO公司制)以100∶15混合了的脱模处理剂，干燥，制作了表面张力为12.8mN/m的薄膜。另外，作为粘合剂层，向含有30重量％聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡胶的接枝共聚物(门尼粘度：100，测定条件：MS(1+4)100℃)100重量份中，添加了30重量份增粘树脂(日本Zeon公司制，Quintone A-100)，将其溶解于稀释溶剂中，涂布并干燥，将厚度设为3μm，形成层，得到了表面保护薄膜。
[比较例8]
在基材中使用聚丙烯薄膜，在其外侧作为脱模处理剂，以0.10μm的涂布厚度涂布了将梳形的丙烯酸硅氧烷接枝聚合物(商品名：サイマツクUS-270，东亚合成公司制，羟值含量：26mgKOH/g，硅氧烷含量：20～30％)和氟硅氧烷类消泡剂(商品名：DAPPO SN-356，SAN NOPCO公司制)以100∶15混合了的脱模处理剂，干燥，制作了表面张力为19.1mN/m的薄膜。另外，作为粘合剂层，向含有30重量％聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡胶的接枝共聚物(门尼粘度：100，测定条件：MS(1+4)100℃)100重量份中，添加了30重量份增粘树脂(日本Zeon公司制，Quintone A-100)，将其溶解于稀释溶剂中，涂布并干燥，将厚度设为3μm，形成层，得到了表面保护薄膜。
对实施例及比较例中得到的表面保护薄膜进行了下述评价。将结果表示于表1～表3中。
(羟值及酸值的测定)
羟值及酸值的测定是依照JIS K-0070-1966进行的。而且，用将氢氧化钾溶解于乙醇中的溶液进行了滴定。
(自背面粘接力的测定)
在丙烯酸板(三菱Rayon公司制，Acrylite-L)上，贴合没有基材而使用了PET的剥离衬里的糊厚25±3μm的双面胶带，在其上贴合作为测定对象的保护薄膜，使得胶带背面在上面，继而在其背面贴合了与前面相同的保护薄膜。将该样品以线压力78N/cm、速度0.3m/min压接，切割为20mm宽，测定了在以0.3m/min和10m/min的速度，以剥离角度180度进行展开之时的阻力(粘合力)。
(氟含量的测定)
氟含量的测定是通过使用TOF-SIMS，实施所述脱模层的表面的组成分析而进行的。
(表面张力的测定)
所述脱模处理层的表面张力的测定是利用以下所示的手法进行的。
将涂布有脱模处理层的胶带或薄膜放置于滴下了数滴水的载玻片上，使得脱模处理层朝上，固定于载玻片上。接下来，使用接触角仪(协和界面公司制，CX-A型)，以N＝5测定了蒸馏水、二碘甲烷、乙二醇的各自的接触角。根据除去了这些数据的上下限值的平均值，使用Fowkes的式子算出了表面张力。
(背面涂布不均观察条件)
在32℃60％RH的环境下，以涂布速度85m/min利用舔涂方式将脱模处理剂涂布于塑料薄膜上，在80℃下干燥，通过对其在荧光灯下利用目视观察涂布外观，而进行了涂布不均的确认。
[表1]
  实施例1   实施例2   比较例1   比较例2
  硅氧烷含量(％)     20～30     20～30     0     2～4
  羟值或酸值(mgKOH/g)     27.0     65.0     0     9.2
  脱模处理层的厚度(μm)     0.10     0.10     0.10     0.10
  自背面粘接力(N/20mm)     0.3m/min     0.12     0.19     0.58     0.79
    10m/min     0.06     0.09     1.50     0.70
由表1可知，实施例1～2中制作的表面保护薄膜即使使用橡胶类粘合剂，也可以实现对自背面的低剥离(低开卷力)，是与被粘物的粘接可靠性优良的薄膜。
[表2]
   实施例3    实施例4   比较例3   比较例4     比较例5
  硅氧烷含量(％)     20～30     20～30     20～30     20～30     20～30
  羟值或酸值(mgKOH/g)     27.0     27.0     27.0     27.0     27.0
  脱模处理层的厚度(μm)     0.05     0.10     0.10     0.10     0.10
  脱模处理层的氟含量(atomic％)     0.50     1.80     0.10     9.00     15.00
  背面涂布不均     ○     ○     ×     ×     ×
[表3]
  实施例5     实施例6     比较例6   比较例7   比较例8
  硅氧烷含量(％)   20～30     20～30     20～30   20～30   20～30
  羟值或酸值(mgKOH/g)   27.0     27.0     27.0   27.0   27.0
  脱模处理层的厚度(μm)   0.08     0.10     0.10   0.10   0.10
  表面张力(mN/m)   15.80     15.20     23.60   12.80   19.10
  背面涂布不均   ○     ○     ×   ×   ×

Claims (9)

1.一种表面保护薄膜，是在基材层的一面层叠有粘合剂层，在所述基材层的另一面层叠有脱模处理层的表面保护薄膜，其特征是，所述粘合剂层由橡胶类形成，所述脱模处理层由丙烯酸硅氧烷接枝聚合物形成。
2.根据权利要求1所述的表面保护薄膜，其中，所述脱模处理层的厚度为0.05～0.5μm。
3.根据权利要求1所述的表面保护薄膜，其中，所述粘合剂层的厚度为2～10μm。
4.根据权利要求1所述的表面保护薄膜，其中，所述丙烯酸硅氧烷接枝聚合物的羟值或酸值为15～70mgKOH/g，并且所述丙烯酸硅氧烷接枝聚合物的硅氧烷的接枝量为15～40重量％。
5.根据权利要求1所述的表面保护薄膜，其中，在所述脱模处理层中含有0.3～7.0atomic％的氟。
6.根据权利要求1所述的表面保护薄膜，其中，所述脱模处理层的表面张力为13.5～18.0mN/m。
7.根据权利要求1所述的表面保护薄膜，其中，在以0.3m/min剥离时的所述粘合剂层对所述脱模处理层的粘合力在0.4N/20mm以下。
8.根据权利要求1所述的表面保护薄膜，其被用于光学薄膜的表面保护中。
9.一种带有表面保护薄膜的光学薄膜，其特征是，是将权利要求1所述的表面保护薄膜贴合在光学薄膜的一面或两面而成的。
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