TWI411657B - A surface protective film and an optical film with a surface protective film - Google Patents
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Description
本發明係關於一種表面保護膜及附有表面保護膜之光學膜。更具體來說,本發明係關於一種要求輕剝離的薄膜或忌諱污染的薄膜,其中特別適於構成液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器、有機EL(電致發光)、場發射顯示器等的光學膜(光學片)等的表面保護膜及附有表面保護膜之光學膜。
以往,在對塑膠製品或金屬板進行加工、搬運等之時,為了避免對這些被黏物的表面造成損傷等,暫時貼合表面保護膜而實現被黏物的表面保護。作為此種被黏物的表面保護膜,使用在基材膜的一面設置了黏著劑層的黏著膜。
迄今為止,在具有橡膠系黏著劑或聚烯烴系膜等熔點低的膜的膠帶中,常使用長鏈烷系脫模處理層。但是,該組合的膠帶的回捲力變得非常大,貼合的作業性非常差(例如參照專利文獻1、2)。所以,也正在研究脫模效果非常高的矽酮系的脫模處理層(例如參照專利文獻3)。但是已知,迄今為止的矽酮系脫模處理層,在熱硬化時薄膜會曝露於高溫中,如果是熔點低的膜,則在熱硬化時就會有膜收縮的問題。
另外,對於以往的矽酮系的脫模處理層,還有容易產生低分子、容易產生污染的問題。另外,還有成本高的問題,此外,在使用了採用錫系催化劑之矽酮系脫模處理劑的情況下,還有可能對作業員造成健康危害。另外,對於以往的矽酮系的脫模處理層,因濕度的影響,還會有脫模劑在黏著劑層側脫落的情況。
另一方面,在以往的附有脫模層的多層擠製膜中,有將EVA(乙烯/乙酸乙烯酯共聚物)用於脫模層中的情況,然而該方法中,會有回捲力很大,脫模層將黏著劑表面污染,引起黏接不良的問題。
如前述般,以往的技術中,尚不存在能夠解決使用橡膠系黏著劑層時的輕剝離等問題的表面保護膜。
[專利文獻1]特開2000-345123號公報[專利文獻2]特開2006-36882號公報[專利文獻3]特開2000-26814號公報
所以,本發明為了解決前述的問題,其目的在於提供一種表面保護膜,即使使用橡膠系黏著劑也可以實現對自背面的低剝離(低回捲力)、且對被黏物的接著可靠性優良;並提供一種使用該表面保護膜所得之附有表面保護膜之光學膜。
本發明人等為了實現前述的目的,進行了深入研究,結果發現,藉由使用下面的表面保護膜,就可以實現前述目的,從而完成了本發明。
即,本發明的表面保護膜是在基材層的一面積層有黏著劑層,在前述基材層的另一面積層有脫模處理層的表面保護膜;其特徵在於,前述黏著劑層是由橡膠系形成,前述脫模處理層係由丙烯酸矽酮(acrylic silicone)接枝聚合物形成。
前述本發明的表面保護膜由於具有包含橡膠系黏著劑層及利用前述的丙烯酸矽酮接枝聚合物形成的脫模處理層的構成,因此儘管使用橡膠系黏著劑,也可以實現對自背面的低剝離(低回捲力),成為對被黏物的接著可靠性優良的膜。特別是,由於能夠極度降低將貼合有保護膜的被黏物作為捲繞體使用之時成為問題的自背面接著力,因此與以往相比可以實現作業性的大幅度的改善。
而且,本發明中的所謂表面保護膜包括表面保護膠帶或表面保護片等膜狀的其他形態。
另外,本發明中的所謂丙烯酸矽酮接枝聚合是指,在丙烯酸系聚合物的高分子鏈上將矽酮骨架接枝化的物質。
在前述表面保護膜中,其特徵在於,前述脫模處理層是由丙烯酸矽酮接枝聚合物形成。本發明中所用的丙烯酸矽酮接枝聚合物由於與以往的長鏈烷基系剝離劑相比表面張力更小,因此可以推測,對自背面的接著力變小,可以顯現出良好回捲力。另外,由於能夠容易獲得良好的回捲力,因此即使在使用了熔點低的膜的情況下,與將以往的矽酮系聚合物作為脫模處理劑使用的情況相比,可以獲得與膜良好的密接性。
另外,藉由使用前述丙烯酸矽酮接枝聚合物,與使用了以往的矽酮系聚合物的情況相比,可以減少在生產線塗佈時的生產線的污染。另外,對於以往的PO系矽酮剝離襯裡(liner)中所用的縮合型的矽酮處理劑,錫系催化劑的異臭很劇烈,對作業員的健康的影響也不小,然而藉由使用前述丙烯酸矽酮接枝聚合物,則沒有此種來自於材料的異臭。
另外,前述脫模處理層的厚度較佳為0.05~0.5 μm。藉由使用該脫模處理層,可以更為確實地抑制回捲力以及抑制背面處理層的脫落或向黏著劑層面的轉印,成為接著可靠性優良之物。
另外,前述黏著劑層的厚度較佳為2~10 μm。
另外,最好前述丙烯酸矽酮接枝聚合物的羥值或酸值為15~70mgKOH/g,並且前述丙烯酸矽酮接枝聚合物的矽酮的接枝量為15~40重量%。藉由使用該丙烯酸矽酮接枝聚合物,就可以更為確實地抑制回捲力以及抑制背面處理層的脫落或向黏著劑層面的轉印,成為接著可靠性優良的材料。而且,本發明中的所謂羥值是指在一定量的樹脂中所含的末端羧基的量,另外,所謂羥基是表示在一定量的樹脂中所含的末端羥基的量之樹脂的特性值。後述的實施例中的羥值及酸值是指依照JIS K-0007-1992測定的值。
另外,在前述脫模處理層中較佳為含有0.3~7.0atomic%的氟。而且,所謂atomic%是指針對原子數的百分率。更具體來說,是指在脫模處理層全體中所含的元素中的氟的比例。
另外,前述脫模處理層的表面張力較佳為13.5~18.0mN/m。
另外,前述脫模處理層可以含有交聯劑。由於藉由添加交聯劑,可以提高與膜的密接性,防止脫模處理層的脫落,並且回捲力更為穩定,另外隨時間經過的回捲力也穩定,因此最好在脫模處理層中添加交聯劑。
另外,在前述表面保護膜在以0.3m/min剝離時的前述黏著劑層對前述脫模處理層的黏著力較佳為在0.4N/20mm以下。藉由使用本發明的表面保護膜,可以將自背面接著力抑制在前述範圍,可以對被黏物發揮良好的密接性。
另外,本發明的表面保護膜較佳為用於光學膜的表面保護。
另一方面,本發明的附有表面保護膜之光學膜的特徵是將前述任一記載的表面保護膜貼合在光學膜、其中特別是稜鏡片的一面或兩面上而成者。由於本發明的附有表面保護膜之光學膜具備產生前述作用的表面保護膜,因此儘管用了橡膠系黏著劑,也可以實現對自背面的低剝離(低回捲力),成為與被黏物的接著可靠性優良的膜。
下面將在參照附圖的同時對本發明的實施方式進行詳細說明。
本發明的表面保護膜1如圖1所示,是在基材層10的一面積層有黏著劑層12,在前述基材層10的另一面上積層有脫模處理層14的表面保護膜1,其特徵在於:前述黏著劑層12由橡膠系形成,前述脫模處理層14由丙烯酸矽酮接枝聚合物形成。
本發明的基材層10如圖1所示,在一面積層有黏著劑層12。另外,在前述基材層10的另一面上積層有脫模處理層14。
另外,作為前述基材層10,可以適當地使用塑膠膜。
作為前述塑膠膜,例如可以舉出聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚酯膜、聚碳酸酯膜、聚苯乙烯膜等。另外,也包括單獨具有這些膜或混合了2種以上的塑膠膜。另外,也可將積層了前述膜的膜作為塑膠膜使用。
前述基材層10的厚度雖然沒有特別限制,但是從加工性的方面考慮,通常為10~200 μm,較佳為15~100 μm,特佳為20~70 μm。當厚度過薄時,則將前述表面保護膜1剝離之時的強度或表面保護功能就有變得不充分的傾向。另一方面,當厚度變得過大時,則會有在處理性或成本方面變得不利的傾向。
另外,在前述基材層10中,出於防止劣化等目的,例如也可以適當地添加抗氧化劑、紫外線吸收劑、受阻胺系光安定劑等光安定劑、抗靜電劑,此外例如還可以適當地添加氧化鈣、氧化鎂、氧化矽、氧化鋅、氧化鈦等填充劑、顏料、防阻塞劑、潤滑劑、抗黏附劑(anti-blocking agent)發泡劑、聚乙烯亞胺等添加劑。這些化合物既可單獨使用,也可以混合2種以上使用。
另外,在前述基材層10的表面,考慮到與黏著劑層12或脫模處理層14的密接性,例如也可根據需要實施電暈放電處理、紫外線照射處理、火焰處理、電漿處理或濺蝕處理等以黏著性的控制或貼合作業性為目的表面處理、易接著處理或底塗處理。
另外,本發明的表面保護膜1是在前述基材層10的一面具有黏著劑層12的膜。
本發明的表面保護膜1例如圖1所示,在基材層10的一面具有黏著劑層12。而且,本發明的表面保護膜1可以以片狀、膠帶狀等使用。另外,前述黏著劑層12既可以是單獨的層,也可以積層2層以上使用。
作為形成黏著劑層12的黏著劑,可以沒有特別限制地使用橡膠系黏著劑。特別是對於稜鏡片的由丙烯酸樹脂形成的稜鏡面來說,從抑制在稜鏡面上產生外觀上的缺陷的觀點考慮,該橡膠系黏著劑是最佳的。
作為橡膠系黏著劑,例如可以舉出天然橡膠;天然橡膠與甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸成分的共聚物;苯乙烯嵌段共聚物及其加氫物;以及苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚及其加氫物等。其中,較佳為使用天然橡膠與甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸成分的共聚物。它們既可以單獨使用,也可以混合2種以上使用。
另外,藉由控制前述黏著劑門尼黏度,可以提高作業性或接著可靠性。
在前述黏著劑中,也可以含有其他的公知的添加劑,例如可以根據用途適當地添加交聯劑、硬化劑、矽烷偶合劑、增黏劑、著色劑、顏料等的粉體、染料、表面活性劑、增塑劑、表面潤滑劑、平整劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光安定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機的填充劑、金屬粉末、粒子狀、箔狀物等。另外,也可以在能夠控制的範圍內,採用添加還原劑的氧化還原系。
作為增黏劑,例如可以適當地使用石油系樹脂、酚醛系樹脂、松香系樹脂、萜烯系樹脂等。它們既可以單獨使用,也可以混合2種以上使用。
另外,增黏劑的配合量雖然沒有特別限定,但是相對於橡膠100重量份,為1~200重量份,較佳為10~170重量份。
作為交聯劑及硬化劑,例如可以適當地使用異氰酸酯系交聯劑、秋蘭姆系硬化劑、苯酮二污(quinonedioxime)系硬化劑、馬來醯亞胺系硬化劑等。它們既可以單獨使用,也可以混合2種以上使用。
交聯劑及硬化劑的配合量雖然沒有特別限定,但是相對於100重量份橡膠,為0.1~20重量份,較佳為0.1~10重量份。
另外,對前述黏著劑層12的表面,也可以進行電暈處理、電漿處理等易接著處理。
另外,前述黏著劑層12的厚度較佳為2~10 μm,更佳為2~9 μm,特佳為2~6 μm。當前述黏著劑層12的厚度超過10 μm時,則黏著力變得過高,從而會有降低表面保護層膜1的使用後的剝離作業性的情況。另一方面,當前述黏合層劑12的厚度小於2 μm時,則無法穩定地與表面為規則的形狀的稜鏡面等密接,從而有不復貼合的情況。
另外,在本發明的表面保護膜1中,如圖1所示,其特徵在於,在前述基材層10的黏著劑層12側相反面上,積層有脫模處理層14,前述脫模處理層14由丙烯酸矽酮接枝聚合物形成。
作為在形成脫模處理層14時所用的脫模處理劑,係使用丙烯酸矽酮接枝聚合物。
另外,本發明中的所謂丙烯酸矽酮接枝聚合物是指在丙烯酸系聚合物的高分子鏈上將矽酮骨架接枝化的聚合物。特別是作為所用的丙烯酸系聚合物,雖然沒有特別限定,但是可以適當地使用市售的通用的丙酸系聚合物。另外,矽酮系聚合物(矽酮骨架)也可以適當地使用市售的通用的矽酮系聚合物。它們既可以單獨用,也可以混合2種以上使用。
另外,前述丙烯酸矽酮接枝聚合物中的矽酮骨架的接枝量較佳為15~40重量%,更佳為18~38重量%。特佳為20~35重量%。當前述接枝量未滿15重量%時,則會有自背面黏著力變大的情況。另一方面,當前述接枝量超過40重量%時,則會有由矽酮向黏著劑層面的轉印造成的黏著力的降低或導致污染的情況。而且,前述技枝量可以藉由用NMR等測定而算出。
另外,最好前述丙烯酸矽酮接枝聚合物的羥值或酸值為15~70mgKOH/g,並且前述丙烯酸矽酮接枝聚合物的矽酮的接枝量為15~40重量%。藉由使用該丙烯酸矽酮接枝聚合物,就可以更為確實地抑制回捲力以及抑制背面處理層的脫落或向黏著劑層面的轉印,成為接著可靠性優良之物。
而且,本發明中的所謂羥值是在一定量的樹脂中所含的末端羧基的量,另外,所謂羥基是表示在一定量的樹脂中所含的末端羥基量的樹脂特定值。更具體來說,所謂酸值是指為了將在1mg試樣中所含有的游離脂肪酸、樹脂酸等中和而必需的氫氧化鉀的mg數。另外,所謂羥值是指為了將在1mg試樣中所含的游離羥基中和而必需的氫氧化鉀的mg數。當前述羥值或酸值小於15時,則會有背面處理劑的交聯變得不充分的情況,會有產生背面處理層的脫落或轉印的情況。另一方面,當前述羥值或酸值超過70,則在丙烯酸矽酮接枝聚合物骨架中就會存在很多與黏著劑的相互作用大的羧基,從而會有背面處理劑的儲存壽命(pot life)變短的情況。
另外,在前述脫模處理層中較佳為含有0.3~7.0atomic%氟,更佳為含有0.4~4.0atomic%。特佳為含有0.5~2.0atomic%。而且,氟含量的測定是藉由使用TOF-SIMS,實施前述脫模層的表面的組成分析而進行的。
另外,前述脫模處理層的表面張力較佳為13.5~18.0mN/m,更佳為14.0~17.0mN/m,特佳為15.0~16.0mN/m。而且,前述脫模處理層的表面張力的測是定利用實施例中所示的方法進行的。
另外,前述脫模處理層14較佳為含有交聯劑。藉由使用前述交聯劑就可以更為確實地實現對自背面的低剝離(低回捲力),形成與被黏物的接著可靠性優良的材料,還有助於塗佈作業面的作業性提高。
作為前述脫模處理層14中所用的交聯劑,例如可以舉出異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、金屬螫合物系交聯劑、三聚氰胺樹脂、尿素樹脂等。其中,較佳為使用異氰酸酯系交聯劑。
前述脫模處理層14中所用的交聯劑的含量為,相對於100重量份丙烯酸矽酮接枝聚合物,使用3~50重量份左右,較佳為5~30重量份,更佳為10~20重量份。當前述交聯劑的量超過必需量時,則背面處理劑的儲存壽命就會變短。另一方面,藉由設為前述交聯劑的量,就可以更為確實地抑制黏著劑層的交聯劑與脫模處理層14的官能基反應而使自背面黏著力變大的情況。
另外,前述脫模處理層14的厚度較佳為0.05~0.5 μm,更佳為0.05~0.3 μm,特佳為0.06~0.15 μm。當前述脫模處理層14的厚度超0.5 μm時,則變得過厚,會有產生背面處理層14的脫落或向黏著劑層的轉印的情況。另一方面,當前述脫模處理層14的厚度小於0.05 μm時,則厚度變得過小,自背面黏著力難以變小,相反會有回捲力變大的情況。
另外,在前述表面保護膜以0.3m/min剝離時的前述黏著劑層對前述脫模處理層14的接著力較佳為在0.4N/20mm以下,更佳為在0.35N/20mm以下,特佳為在0.3N/20mm以下,尤佳為在0.2N/20mm以下。藉由使用本發明的表面保護膜,可以將自背面接著力抑制在前述範圍,可以對被黏物發揮良好的密接性。
另外,脫模劑層14的形成方法可以適當地使用塗佈或轉印等公知的脫模處理層14的形成方法。
另一方面,具有前述基材層10、黏著劑層12和脫模劑層14的表面保護膜1的製造方法沒有特別限制,可以採用各種方法,例如,可以例示出將構成各層的樹脂材料熔融共擠製而以積層物成形的方法;將各層利用擠製等分別地以成形為膜狀,將它們利用黏著劑等接著的方法。這些方法當中,從各層間的密接性良好,另外還使得製程簡化的觀點考慮,較佳為利用共擠製成形、熔融共擠製成形的方法。
另外,本發明的附有表面保護膜之光學膜如圖2所示,其特徵在於,將前述任一記載的表面保護膜1貼合在光學膜2,其中特別是貼合在稜鏡片的一面或兩面上而成的。本發明的附有表面保護膜之光學膜,由於具備達成前述作用的表面保護膜1,因此儘管使用了橡膠系黏著劑,也可以實現對自背面的低剝離(低回捲力),成為與被黏物的接著可靠性優良的膜。
作為前述光學膜,例如可以舉出偏光板或偏光元件、反射板或半穿透板、相位差板(包括1/2或1/4等的波長板)、視角補償膜、亮度提高膜、稜鏡片或透鏡片、擴散板等成為在液晶顯示裝置等的形成上所使用的光學層。
以下,針對具體表示本發明的構成和效果的實施例等進行說明。而且,實施例等的評估項目是以下述方式進行。
作為基材層(支持體),使用聚丙烯膜,另外在前述基材層的外側,作為脫模處理層,使得塗布厚度設為0.1 μm而塗佈成梳形的丙烯酸矽酮接枝聚合物(東亞合成公司製,賽馬克US-270,羥值:26mgKOH/g,矽酮含量:20~30重量%)進行塗佈乾燥而形成層。另外,作為黏著劑層,係對含有30重量%聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡膠的接枝共聚物(門尼黏度:100,測定條件:MS(1+4)100℃)100重量份中,添加30重量份增黏樹脂(日本捷翁公司製,奎因彤A-100),將所得之物溶解於稀釋溶劑中,塗佈並乾燥,形成厚度為3 μm之層,得到了表面保護膜。
作為基材層(支持體),使用聚丙烯膜,另外在前述基材層的外側,作為脫模處理層,使得塗布厚度設為0.1 μm而塗佈成梳形的丙烯酸矽酮接枝聚合物(東亞合成公司製,賽馬克US-380,酸值:65mgKOH/g,矽酮含量:20~30重量%)進行塗佈乾燥而形成層。另外,作為黏著劑層,係對含有30重量%聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡膠的接枝共聚物(門尼黏度:100,測定條件:MS(1+4)100℃)100重量份中,添加30重量份增黏樹脂(日本捷翁公司製,奎因彤A-100),將所得之物溶解於稀釋溶劑中,塗佈並乾燥,形成厚度為3 μm之層,得到了表面保護膜。
作為基材層(支持體),使用聚丙烯膜,另外在前述基材層的外側,作為脫模處理層,使得塗布厚度設為0.5 μm之長鏈烷基系脫模劑(一方公司油脂工業公司製,皮羅伊魯1010)進行塗佈乾燥而形成層。另外,作為黏著劑層,係對含有30重量%聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡膠的接枝共聚物(門尼黏度:100,測定條件:MS(1+4)100℃)100重量份中,添加30重量份增黏樹脂(日本捷翁公司製,奎因彤A-100),將所得之物溶解於稀釋溶劑中,塗佈並乾燥,形成厚度為3 μm之層,得到了表面保護膜。
作為基材層(支持體),使用聚丙烯膜,另外在前述基材層的外側,作為脫模處理層,使得塗布厚度設為0.1 μm而塗佈成梳形的丙烯酸矽酮接枝聚合物(大日本油墨公司製,SG-204,酸值:9.2mgKOH/g,矽酮含量:2~4重量%)進行塗佈乾燥而形成層。另外,作為黏著劑層,係對含有30重量%聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡膠的接枝共聚物(門尼黏度:100,測定條件:MS(1+4)100℃)100重量份中,添加30重量份增黏樹脂(日本捷翁公司製,奎因彤A-100),將所得之物溶解於稀釋溶劑中,塗佈並乾燥,形成厚度為3 μm之層,得到了表面保護膜。
基材使用聚丙烯膜,在其外側作為脫模處理劑,以0.05 μm的塗布厚度使得梳形的丙烯酸矽酮接枝聚合物(商品名:賽馬克US-270,東亞合成公司製,酸值含量:26mgKOH/g,矽酮含量:20~30%)和氟矽酮系消泡劑(商品名:達波SN-359,桑諾普克公司製)以100:15混合後之脫模處理劑塗佈乾燥,製作了氟含量為0.5atomic%的膜。另外,作為黏著劑層,係對含有30重量%聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡膠的接枝共聚物(門尼黏度:100,測定條件:MS(1+4)100℃)100重量份中,添加30重量份增黏樹脂(日本捷翁公司製,奎因彤A-100),將所得之物溶解於稀釋溶劑中,塗佈並乾燥,形成厚度為3 μm之層,得到了表面保護膜。
基材使用聚丙烯膜,在其外側作為脫模處理劑,以0.10 μm的塗布厚度使得梳形的丙烯酸矽酮接枝聚合物(商品名:賽馬克US-270,東亞合成公司製,羥值含量:26mgKOH/g,矽酮含量:20~30%)和氟矽酮系消泡劑(商品名:達波SN-359,桑諾普克公司製)以100:15混合後之脫模處理劑塗佈乾燥,製作了氟含量為1.8atomic%的膜。另外,作為黏著劑層,係對含有30重量%聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡膠的接枝共聚物(門尼黏度:100,測定條件:MS(1+4)100℃)100重量份中,添加30重量份增黏樹脂(日本捷翁公司製,奎因彤A-100),將所得之物溶解於稀釋溶劑中,塗佈並乾燥,形成厚度為3 μm之層,得到了表面保護膜。
基材使用聚丙烯膜,在其外側作為脫模處理劑,以0.08 μm的塗布厚度使得梳形的丙烯酸矽酮接枝聚合物(商品名:賽馬克US-270,東亞合成公司製,羥值含量:26mgKOH/g,矽酮含量:20~30%)和氟矽酮系消泡劑(商品名:達波SN-359,桑諾普克公司製)以100:15混合後之脫模處理劑塗佈乾燥,製作了表面張力為15.80mN/m的膜。另外,作為黏著劑層,係對含有30重量%聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡膠的接枝共聚物(門尼黏度:100,測定條件:MS(1+4)100℃)100重量份中,添加30重量份增黏樹脂(日本捷翁公司製,奎因彤A-100),將所得之物溶解於稀釋溶劑中,塗佈並乾燥,形成厚度為3 μm之層,得到了表面保護膜。
基材使用聚丙烯膜,在其外側作為脫模處理劑,以0.10 μm的塗布厚度使得梳形的丙烯酸矽酮接枝聚合物(商品名:賽馬克US-270,東亞合成公司製,羥值含量:26mgKOH/g,矽酮含量:20~30%)和氟矽酮系消泡劑(商品名:達波SN-359,桑諾普克公司製)以100:15混合後之脫模處理劑塗佈乾燥,製作了表面張力為15.20 mN/m的膜。另外,作為黏著劑層,係對含有30重量%聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡膠的接枝共聚物(門尼黏度:100,測定條件:MS(1+4)100℃)100重量份中,添加30重量份增黏樹脂(日本捷翁公司製,奎因彤A-100),將所得之物溶解於稀釋溶劑中,塗佈並乾燥,形成厚度為3 μm之層,得到了表面保護膜。
基材使用聚丙烯膜,在其外側作為脫模處理劑,以0.10 μm的塗布厚度使得梳形的丙烯酸矽酮接枝聚合物(商品名:賽馬克US-270,東亞合成公司製,羥值含量:26mgKOH/g,矽酮含量:20~30%)和氟矽酮系消泡劑(商品名:達波SN-367,桑諾普克公司製)以100:15混合後之脫模處理劑塗佈乾燥,製作了氟含量為0.1atomic%的膜。另外,作為黏著劑層,係對含有30重量%聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡膠的接枝共聚物(門尼黏度:100,測定條件:MS(1+4)100℃)100重量份中,添加30重量份增黏樹脂(日本捷翁公司製,奎因彤A-100),將所得之物溶解於稀釋溶劑中,塗佈並乾燥,形成厚度為3 μm之層,得到了表面保護膜。
基材使用聚丙烯膜,在其外側作為脫模處理劑,以0.10 μm的塗布厚度使得梳形的丙烯酸矽酮接枝聚合物(商品名:賽馬克US-270,東亞合成公司製,羥值含量:26mgKOH/g,矽酮含量:20~30%)和氟矽酮系消泡劑(商品名:達波SN-367,桑諾普克公司製)以100:15混合後之脫模處理劑塗佈乾燥,製作了氟含量為9.0atomic%的膜。另外,作為黏著劑層,係對含有30重量%聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡膠的接枝共聚物(門尼黏度:100,測定條件:MS(1+4)100℃)100重量份中,添加30重量份增黏樹脂(日本捷翁公司製,奎因彤A-100),將所得之物溶解於稀釋溶劑中,塗佈並乾燥,形成厚度為3 μm之層,得到了表面保護膜。
基材使用聚丙烯膜,在其外側作為脫模處理劑,以0.10 μm的塗布厚度使得梳形的丙烯酸矽酮接枝聚合物(商品名:賽馬克US-270,東亞合成公司製,羥值含量:26mgKOH/g,矽酮含量:20~30%)和氟矽酮系消泡劑(商品名:FA-630,信越矽酮公司製)以100:10混合後之脫模處理劑塗佈乾燥,製作了氟含量為15.0atomic%的膜。另外,作為黏著劑層,係對含有30重量%聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡膠的接枝共聚物(門尼黏度:100,測定條件:MS(1+4)100℃)100重量份中,添加30重量份增黏樹脂(日本捷翁公司製,奎因彤A-100),將所得之物溶解於稀釋溶劑中,塗佈並乾燥,形成厚度為3 μm之層,得到了表面保護膜。
基材使用聚丙烯膜,在其外側作為脫模處理劑,以0.10 μm的塗布厚度使得梳形的丙烯酸矽酮接枝聚合物(商品名:賽馬克US-270,東亞合成公司製,羥值含量:26mgKOH/g,矽酮含量:20~30%)和氟矽酮系消泡劑(商品名:FA-630,信越矽酮公司製)以100:10混合後之脫模處理劑塗佈乾燥,製作了表面張力為23.6mN/m的膜。另外,作為黏著劑層,係對含有30重量%聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡膠的接枝共聚物(門尼黏度:100,測定條件:MS(1+4)100℃)100重量份中,添加30重量份增黏樹脂(日本捷翁公司製,奎因彤A-100),將所得之物溶解於稀釋溶劑中,塗佈並乾燥,形成厚度為3 μm之層,得到了表面保護膜。
基材使用聚丙烯膜,在其外側作為脫模處理劑,以0.10 μm的塗布厚度使得梳形的丙烯酸矽酮接枝聚合物(商品名:賽馬克US-270,東亞合成公司製,羥值含量:26mgKOH/g,矽酮含量:20~30%)和氟矽酮系消泡劑(商品名:達波SN-367桑諾普克公司製)以100:15混合後之脫模處理劑塗佈乾燥,製作了表面張力為12.8mN/m的膜。另外,作為黏著劑層,係對含有30重量%聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡膠的接枝共聚物(門尼黏度:100,測定條件:MS(1+4)100℃)100重量份中,添加30重量份增黏樹脂(日本捷翁公司製,奎因彤A-100),將所得之物溶解於稀釋溶劑中,塗佈並乾燥,形成厚度為3 μm之層,得到了表面保護膜。
基材使用聚丙烯膜,在其外側作為脫模處理劑,以0.10 μm的塗布厚度使得梳形的丙烯酸矽酮接枝聚合物(商品名:賽馬克US-270,東亞合成公司製,羥值含量:26mgKOH/g,矽酮含量:20~30%)和氟矽酮系消泡劑(商品名:達波SN-356桑諾普克公司製)以100:15混合後之脫模處理劑塗佈乾燥,製作了表面張力為19.1mN/m的膜。另外,作為黏著劑層,係對含有30重量%聚甲基丙烯酸甲酯的天然橡膠的接枝共聚物(門尼黏度:100,測定條件:MS(1+4)100℃)100重量份中,添加30重量份增黏樹脂(日本捷翁公司製,奎因彤A-100),將所得之物溶解於稀釋溶劑中,塗佈並乾燥,形成厚度為3 μm之層,得到了表面保護膜。
對實施例及比較例中得到的表面保護膜進行了下述評估。將結果表示於表1~表3。
(羥值及酸值的測定)羥值及酸值的測定是依照JIS K-0070-1966進行的。而且,使用將氫氧化鉀溶解於乙醇中的溶液進行了滴定。
(自背面黏著力的測定)在丙烯酸板(三菱雷昂公司製,Acrylite-L)上,貼合沒有基材而使用了PET的剝離襯裡的糊厚25±3 μm的雙面膠帶,在其上以膠帶背面朝上的方式貼合作為測定對象的保護膜,進而在其背面結合了與前面相同的保護膜。將該樣品以線壓力78N/cm、速度0.3m/min壓接,裁切為20mm寬,測定以0.3m/min和10m/min的速度、剝離角度180度進行展開之時的阻力(黏著力)。
(氟含量的測定)氟含量的測定是藉由使用TOF-SIMS,實施前述脫模層的表面的組成分析而進行的。
(表面張力的測定)前述脫模處理層的表面張力的測定是利用以下所示的手法進行的。
將塗佈有脫模處理層的膠帶或膜放置於滴下了數滴水的載玻片上,使得脫模處理層朝上,固定於載玻片上。接下來,使用接觸角儀(協和界面公司製,CX-A型),以N=5測定了蒸餾水、二碘甲烷、乙二醇的各自的接觸角。根據除去了這些數據的上下限值的平均值,使用Fowkes的式子算出了表面張力。
(背面塗佈不均觀察條件)在32℃、60%RH的環境下,以塗佈速度85m/min利用輕觸(kiss)方式將脫模處理劑塗佈於塑膠膜上,在80℃下乾燥,藉由對其在螢光燈下利用目視觀察塗佈外觀,而進行了塗佈不均的確認。
由表1可知,實施例1~2製作的表面保護膜即使使用橡膠系黏著劑,也可以實現自背面的低剝離(低回捲力),是與被黏物的接著可靠性優良的膜。
1...表面保護膜
2...光學膜
10...基材層
12...黏著劑層
14...脫模處理層
圖1是表示本發明的表面保護膜的一態樣的剖面圖。
圖2是表示本發明的表面保護膜的使用狀態的一態樣的剖面圖。
1...表面保護膜
10...基材層
12...黏著劑層
14...脫模處理層
Claims (8)
- 一種表面保護膜,係在基材層的一面積層有黏著劑層,在該基材層的另一面積層有脫模處理層者;其特徵在於,該黏著劑層係由橡膠系形成,該脫模處理層係由丙烯酸矽酮接枝聚合物形成,且該丙烯酸矽酮接枝聚合物的羥值或酸值為15~70mgKOH/g,並且該丙烯酸矽酮接枝聚合物的矽酮的接枝量為15~40重量%。
- 如申請專利範圍第1項之表面保護膜,其中,該脫模處理層的厚度為0.05~0.5μm。
- 如申請專利範圍第1項之表面保護膜,其中,該黏著劑層的厚度為2~10μm。
- 如申請專利範圍第1項之表面保護膜,其中,在該脫模處理層中含有0.3~7.0atomic%的氟。
- 如申請專利範圍第1項之表面保護膜,其中,該脫模處理層的表面張力為13.5~18.0mN/m。
- 如申請專利範圍第1項之表面保護膜,其中,在以0.3m/min剝離時的該黏著劑層對該脫模處理層的黏著力在0.4N/20mm以下。
- 如申請專利範圍第1項之表面保護膜,其被用於光學膜的表面保護。
- 一種附有表面保護膜之光學膜,其特徵在於,係申請專利範圍第1項之表面保護膜黏合在光學膜的一面或兩面而成者。
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