TWI473721B - Optical film adhesive structure and its making method - Google Patents

Description

光學膜黏貼結構及其製作方法

本發明是有關於一種光學膜黏貼結構及其製作方法，尤指一種可有效地提升初黏力並可同時保持改善造成Mura缺陷情形之能力之光學膜黏貼結構及其製作方法。

顯示器之Mura缺陷係指顯示器之亮度不均勻而造成之各種瑕疵。Mura缺陷之種類眾多，例如有注入口Mura、週邊Mura、液晶氣泡Mura、環狀Mura等等種類。而Mura缺陷之造成原因不盡相同，比如顯示器之偏光板受熱後，因其材料收縮而造成Mura缺陷，前述情況即為諸多造成Mura缺陷原因中之其一。

為了有效改善偏光板受熱後，材料收縮而造成Mura缺陷之情形，現有技術係提高偏光板所採用之黏著劑之硬度，以改善造成Mura缺陷之情形。然而，提高黏著劑之硬度後，黏著劑之初黏力(Ball Tack)卻反而下降，進一步衍生出了偏光板之偏貼問題，例如移位或氣泡問題；若單純添加黏著助劑於黏著劑中以增加初黏力，則易降低黏著層整體之硬度，使Mura缺陷之改善情況不盡理想。前述皆為有待解決之技術課題。

有鑑於習知技術之各項問題，本發明人基於多年研究開發與諸多實務經驗，提出一種光學膜黏貼結構及其製作方法，以作為改善上述缺點之實現方式與依據。

本發明之其一目的在於，提供一黏著層係由黏著劑層以及含黏著助劑之黏著劑層所構成之光學膜黏貼結構及其製作方法。

本發明之另一目的在於，提供一可有效地提升黏著層之初黏力之光學膜黏貼結構及其製作方法。

本發明之再一目的在於，提供一可同時保持黏著層其改善造成Mura缺陷情形之能力之光學膜黏貼結構及其製作方法。

依據本發明之上述目的，本發明提供一種光學膜黏貼結構，包括基材、黏著層以及光學膜。黏著層係由黏著劑層以及含黏著助劑之黏著劑層所構成。該基材位於該黏著層之一側，該光學膜位於該黏著層之對應於基材之另一側，使得該黏著層位於該基材及該光學膜之間。

依據本發明之上述目的，本發明再提供一種光學膜黏貼結構之製作方法，包括下列步驟：塗佈黏著劑於離型膜；烘乾該黏著劑，以形成一黏著劑層；塗佈黏著助劑於基材，以形成黏著助劑層；令塗佈於離型膜之黏著劑層與塗佈於基材之黏著助劑層彼此貼合，使黏著助劑層經由轉印滲透至黏著劑層而形成一含黏著助 劑之黏著劑層；分離離型膜與黏著劑層；以及提供光學膜，令分離後之黏著劑層與光學膜彼此貼合，以構成光學膜黏貼結構。

本發明之黏著層係由黏著劑層以及含黏著助劑之黏著劑層所構成。由於添加了黏著助劑，使得該含黏著助劑之黏著劑層具備了高初黏力，因此可有效地提升黏著層之初黏力，可進一步避免產生光學膜之偏貼問題。此外，由於黏著劑層本身具備了足以改善Mura缺陷之硬度，因此可同時保持黏著層其改善造成Mura缺陷情形之能力。

茲為使貴審查委員對本發明之技術特徵及所達到之功效有更進一步之瞭解與認識，謹佐以較佳之實施例及配合詳細之說明如後。

1‧‧‧光學膜黏貼結構

11‧‧‧基材

12‧‧‧黏著層

121‧‧‧黏著劑層

122‧‧‧含黏著助劑之黏著劑層

13‧‧‧光學膜

2‧‧‧製作設備

21‧‧‧第一單元

211‧‧‧滾輪

212‧‧‧第一貼合輪

213‧‧‧第一塗佈噴頭

214‧‧‧烘乾區域

215‧‧‧離型膜

22‧‧‧第二單元

221‧‧‧第二貼合輪

222‧‧‧第三貼合輪

223‧‧‧滾輪

224‧‧‧第二塗佈噴頭

225‧‧‧第一放捲輪

23‧‧‧第三單元

231‧‧‧第四貼合輪

232‧‧‧光學膜放捲輪

233‧‧‧光學膜收捲輪

100~600‧‧‧步驟

A‧‧‧第一方向

B‧‧‧第二方向

C‧‧‧第一儲存模數曲線

D‧‧‧第二儲存模數曲線

E‧‧‧第三儲存模數曲線

F‧‧‧第四儲存模數曲線

第1圖係為本發明光學膜黏貼結構之較佳實施例之剖面側視圖；第2圖係為本發明光學膜黏貼結構之製作方法之示意圖；第3圖係為本發明光學膜黏貼結構製作方法之一實施例所採用之設備之示意圖；以及第4圖係為本發明光學膜黏貼結構之含黏著助劑之黏著劑層以及現有黏著層之儲存模數測試結果圖。

以下將參照相關圖示，說明本發明之光學膜黏貼結構及其製作方法，為使便於理解，下述實施例中之相同元件係以相同之符號標示來說明。

首先，請參閱第1圖所示，其係繪示本發明光學膜黏貼結構之較佳實施例之剖面側視圖。本發明之光學膜黏貼結構1包括基材11、黏著層12以及光學膜13。基材11位於黏著層12之一側，光學膜13位於黏著層12對應於基材11之另一側，使得黏著層12位於基材11及光學膜13之間。前述光學膜13例如為偏光板、抗反射膜、抗眩膜、硬鍍膜、增亮膜、擴散膜或補償膜。前述基材11例如為離型膜、面板、偏光板、抗反射膜、抗眩膜、硬鍍膜、增亮膜、擴散膜或補償膜。

黏著層12係由黏著劑層121以及含黏著助劑之黏著劑層122所構成。黏著劑層121貼合於光學膜13。含黏著助劑之黏著劑層122貼合於基材11。前述黏著劑層121例如為含異氰酸酯及環氧樹酯之壓克力系黏著劑層。前述黏著助劑可選自阻聚劑或增黏劑(Tackifier)。前述黏著劑層121於25℃之儲存模數係介於4x10⁵至9x10⁵。前述含黏著助劑之黏著劑層122於25℃之儲存模數係介於1x10⁴至4x10⁵。

請再一併參閱第2圖所示，其係繪示本發明光學膜黏貼結構之製作方法之示意圖。本發明之光學膜黏貼結構之製作方法之步驟如後所述：

步驟100：首先，塗佈黏著劑於離型膜。步驟200：接著，烘乾該黏著劑，以形成一黏著劑層。前述黏著劑層例如為含異氰酸酯及環氧樹酯之壓克力系黏著劑層。前述黏著劑層於25℃之儲存模數係介於4x10⁵至9x10⁵。

步驟300：接著，塗佈黏著助劑於基材，以形成黏著助劑層。前述黏著助劑可選自阻聚劑或增黏劑。前述基材例如為離型膜、面板、偏光板、抗反射膜、抗眩膜、硬鍍膜、增亮膜、擴散膜或補償膜。

步驟400：接著，令塗佈於離型膜之該黏著劑層與塗佈於基材之黏著助劑層彼此貼合，使黏著助劑層經由轉印滲透至黏著劑層而形成一含黏著助劑之黏著劑層。前述含黏著助劑之黏著劑層於25℃之儲存模數係介於1x10⁴至4x10⁵。前述離型膜對於黏著劑層之黏著力小於基材對於含黏著助劑之黏著劑層之黏著力。

步驟500：分離離型膜與黏著劑層。

步驟600：接著，提供光學膜，令分離後之黏著劑層與光學膜彼此貼合，以構成光學膜黏貼結構。前述光學膜例如為偏光板、抗反射膜、抗眩膜、硬鍍膜、增亮膜、擴散膜或補償膜。

請再一併參閱第3圖所示，其係繪示本發明光學膜黏貼結構製作方法之一實施例所採用之設備之示意圖。本發明所採用之製作設備2包括第一單元21、第二單元22以及第三單元23。

第一單元21具有複數個滾輪211、第一貼合輪212、第一塗佈噴頭213、烘乾區域214以及離型膜215。離型膜215環繞於該些 滾輪211以及第一貼合輪212之外，藉由滾輪211以及第一貼合輪212其本身之轉動，進一步連動離型膜215以第一方向A為作動方向而沿著該些滾輪211以及第一貼合輪212之外緣處繞動。第一塗佈噴頭213設於離型膜215之外，使得離型膜215位於第一塗佈噴頭213以及滾輪211之間。第一塗佈噴頭213可塗佈黏著劑層於離型膜215。烘乾區域214位於第一貼合輪212之旁側，且烘乾區域214位於第一貼合輪212以及第一塗佈噴頭213之間，使得離型膜215繞動時，可通過烘乾區域214。前述黏著劑例如為含異氰酸酯及環氧樹酯之壓克力系黏著劑。

第二單元22具有第二貼合輪221、第三貼合輪222、滾輪223、第二塗佈噴頭224以及第一放捲輪225。前述第二貼合輪221與第一單元21之第一貼合輪212彼此臨近面對面對應設置。第一放捲輪225放出基材11，藉由第一放捲輪225、第二貼合輪221、第三貼合輪222以及滾輪223其本身之轉動，進一步連動基材11以第二方向B為作動方向而移動。前述第二方向B與第一方向A彼此反向。第二塗佈噴頭224可塗佈黏著助劑於基材11以形成一黏著助劑層。前述黏著助劑可選自阻聚劑或增黏劑(Tackifier)。

第三單元23具有第四貼合輪231、光學膜放捲輪232以及光學膜收捲輪233。第四貼合輪231與第二單元22之第三貼合輪222彼此臨近對應面對面設置。光學膜放捲輪232放出光學膜13，藉由第四貼合輪231、光學膜放捲輪232以及光學膜收捲輪233其本身之轉動，進一步連動光學膜13以由光學膜放捲輪232朝向光學膜收 捲輪233之方向為作動方向而移動，最後被光學膜收捲輪233加以收捲。前述光學膜13例如為偏光板、抗反射膜、抗眩膜、硬鍍膜、增亮膜、擴散膜或補償膜等等光學膜。

前述第一單元21、第二單元22以及第三單元23係同步運作。第一單元21之離型膜215、第二單元22之基材11分別對應被塗佈黏著劑層121、黏著助劑層後，塗佈黏著劑層121之離型膜215便被繞動而先通過烘乾區域214再至第一貼合輪212處、塗佈黏著助劑層之基材11便被移動至第二貼合輪221處，再藉由第一貼合輪212及第二貼合輪221其本身之轉動，使得離型膜215之黏著劑層121與塗佈於基材11之黏著助劑層彼此貼合，使得該黏著助劑層經由轉印滲透至該黏著劑層121而形成一含黏著助劑之黏著劑層122。前述黏著劑121層與基材11之黏著助劑層彼此貼合後，該黏著劑層121便與離型膜215彼此分離。具有黏著劑層121與含黏著助劑之黏著劑層122之基材11，再被移動至第三貼合輪222處，最後藉由第三貼合輪222及第四貼合輪231其本身之轉動，使得基材11之黏著劑層121與移動至第四貼合輪231處之光學膜13彼此貼合。

請再一併參閱第4圖所示，其係繪示本發明光學膜黏貼結構之含黏著助劑之黏著劑層以及現有黏著層之儲存模數測試結果圖。而現有黏著層與本發明光學膜黏貼結構之黏著劑層121主要成份皆為壓克力系主膠、異氰酸酯系硬化劑及環氧樹酯系硬化劑依100：5：0.5重量比例組成。以流變儀對現有黏著層進行儲存模數 測試，可獲得第一儲存模數曲線C，其代表不同溫度下，黏著層之硬度。而對本發明光學膜黏貼結構之含黏著助劑之黏著劑層122進行儲存模數測試，當所使用之黏著助劑為阻聚劑，且該阻聚劑為水，水之重量相對本發明光學膜黏貼結構之該黏著劑層121為1%時，可獲得第二儲存模數曲線D，其代表不同溫度下，含阻聚劑之黏著劑層之硬度；同樣地，當所使用之黏著助劑為增黏劑，且該增黏劑為酚醛樹酯，酚醛樹酯之重量相對本發明光學膜黏貼結構之黏著劑層121為1%及5%時，可分別得到第三儲存模數曲線E及第四儲存模數曲線F，其代表不同溫度下，含增黏劑之黏著劑層之硬度。

由測試結果可知，在不同之溫度下，本發明光學膜黏貼結構之之含黏著助劑之黏著劑層之硬度都明顯地小於現有黏著層之硬度，亦即本發明之含黏著助劑之黏著劑層與現有之黏著層相較之下，直觀地來說較為柔軟。

當溫度為攝氏25度時，本發明光學膜黏貼結構之黏著劑層121與現有黏著層之儲存模數皆係介於4x10⁵至9x10⁵。前述含黏著助劑之黏著劑層122當黏著助劑為1%酚醛樹酯時，儲存模數係介於2x10⁴至6x10⁴；當黏著助劑為5%酚醛樹酯時，儲存模數係介於1x10⁴至4x10⁴；當黏著助劑為1%水時，儲存模數係介於1x10⁵至4x10⁵。

本發明光學膜黏貼結構之黏著層12以及現有黏著層之初黏力測試結果請參閱如下所示之表格一：

本發明光學膜黏貼結構之黏著層12以及現有黏著層進行初黏力測試，結果請參閱表格一，當本發明之含黏著助劑之黏著劑層122所使用之黏著助劑選自增黏劑(比較例1、比較例2)或阻聚劑(比較例3)時，其初黏力數值皆明顯地高於現有黏著劑層(範例1)之初黏力數值；而較大之初黏力數值亦反應於是否足以改善偏貼問題上，由測試結果顯示，比較例皆無出現移位或氣泡。

請再參閱表格一，而在改善造成Mura缺陷情形之能力表現上，由黏著劑層121以及含增黏劑所構成本發明光學膜黏貼結構之黏著層12(比較例1、比較例2)、由黏著劑層121以及含阻聚劑所構成本發明光學膜黏貼結構之黏著層12(比較例3)皆仍具備了與現有之黏著層(範例1)相同之改善能力。

綜上所述，本發明之光學膜黏貼結構及其製作方法至少具有下述之優點： 本發明光學膜黏貼結構之黏著層係由黏著劑層以及含黏著助劑之黏著劑層所構成，而黏著助劑可選自阻聚劑或增黏劑。由於添加了增黏劑或阻聚劑，使得該含黏著助劑之黏著劑層具備了高初黏力，因此可有效地提升黏著層之初黏力，可進一步避免產生光學膜之偏貼問題，例如移位或氣泡。此外，因為添加黏著助劑造成硬度變軟之情況，僅局限於表面含黏著助劑之黏著劑層，而黏著劑層本身因未與足夠之黏著助劑反應，因此仍具備了與現有黏著層相當之足以改善Mura缺陷之硬度，因此可於改善偏貼問題同時，保持黏著劑層其改善造成Mura缺陷情形之能力。

以上所述僅為舉例性，而非為限制性者。任何未脫離本發明之精神與範疇，而對其進行之等效修改或變更，均應包含於後附之申請專利範圍中。

1‧‧‧光學膜黏貼結構

11‧‧‧基材

12‧‧‧黏著層

121‧‧‧黏著劑層

122‧‧‧含黏著助劑之黏著劑層

13‧‧‧光學膜

Claims (11)

1. 一種光學膜黏貼結構，包括：一基材；一黏著層，該黏著層位於該基材之一側，且該黏著層係由一黏著劑層以及一含黏著助劑之黏著劑層所構成，該黏著劑層貼合於該光學膜，該含黏著助劑之黏著劑層貼合於該基材；以及一光學膜，該光學膜位於該黏著層對應於該基材之另一側，使得該黏著層位於該基材及該光學膜之間。
2. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜黏貼結構，其中該黏著劑層為含異氰酸酯及環氧樹酯之壓克力系黏著劑，該黏著助劑可選自阻聚劑或增黏劑。
3. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜黏貼結構，其中該黏著劑層於攝氏25度之儲存模數係介於4x10⁵至9x10⁵。
4. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜黏貼結構，其中該含黏著助劑之黏著劑層於攝氏25度之儲存模數係介於1x10⁴至4x10⁵。
5. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜黏貼結構，其中該基材為離型膜、面板、偏光板、抗反射膜、抗眩膜、硬鍍膜、增亮膜、擴散膜或補償膜。
6. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜黏貼結構，其中該光學膜為偏光板、抗反射膜、抗眩膜、硬鍍膜、增亮膜、擴散膜或補償膜。
7. 一種光學膜黏貼結構之製作方法，包括下列步驟塗佈一黏著劑於一離型膜；烘乾該黏著劑，以形成一黏著劑層； 塗佈一黏著助劑於一基材，以形成一黏著助劑層；令塗佈於該離型膜之該黏著劑層與塗佈於該基材之該黏著助劑層彼此貼合，使該黏著助劑層經由轉印滲透至該黏著劑層而形成一含黏著助劑之黏著劑層；分離該離型膜與該黏著劑層；以及提供一光學膜，令分離後之該黏著劑層與該光學膜彼此貼合，以構成一光學膜黏貼結構。
8. 如申請專利範圍第7項所述之光學膜黏貼結構之製作方法，其中該黏著劑層於攝氏25度之儲存模數係介於4x10⁵至9x10⁵。
9. 如申請專利範圍第7項所述之光學膜黏貼結構之製作方法，其中該含黏著助劑之黏著劑層於攝氏25度之儲存模數係介於1x10⁴至4x10⁵。
10. 如申請專利範圍第7項所述之光學膜黏貼結構之製作方法，其中該黏著劑層為含異氰酸酯及環氧樹酯之壓克力系黏著劑層，該黏著助劑可選自阻聚劑或增黏劑。
11. 如申請專利範圍第7項所述之光學膜黏貼結構之製作方法，其中該黏著劑層對於該離型膜之黏著力小於該含黏著助劑之黏著劑層對於該基材之黏著力。