CN106520000A - 表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件,所述表面保护膜即使对表面具有凹凸的光学用膜也能够贴合,对被粘物的污染少,且对被粘物的低污染性不发生经时变化,不会经时劣化地具有优异的抗剥离静电性能。该表面保护膜(5)在由具有透明性的树脂所构成的基材膜(1)的一个面上形成有剥离剂层(2),在基材膜(1)的另一个面上形成有粘着剂层(4),剥离剂层(2)含有由碱金属盐构成的抗静电剂(3)及硅酮类剥离剂,剥离剂层(2)中所含的所述由碱金属盐构成的抗静电剂(3)的成分仅存在于粘着剂层(4)的表面。
Description
技术领域
本发明涉及一种贴合于光学部件(以下有时称作光学用膜)的表面的表面保护膜。更详细而言,提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件,所述表面保护膜对被粘物的污染少,且对被粘物的污染性不发生经时变化。此外,本发明提供一种即使替换光学部件的偏振片的构成部件(由TAC膜变更为丙烯酸膜或聚酯膜、由水性粘接剂变更为紫外线固化型粘接剂),也能将剥离表面保护膜时的剥离静电压抑制得较低的表面保护膜,以及贴合有该表面保护膜的光学部件。
此外,本发明的光学部件指偏振片、相位差板、显示器用的屏膜(lense film)等。
背景技术
在制造、搬运偏振片、相位差板、显示器用的屏膜、防反射膜、硬涂膜、触摸面板用透明导电性膜等光学用膜及使用了这些光学用膜的显示器等光学产品时,在该光学用膜的表面贴合表面保护膜,防止在后工序中的表面污垢和伤痕。为了节省剥下表面保护膜再贴合的工夫,提高作业效率,在表面保护膜贴合于光学用膜上的状态下直接进行作为产品的光学用膜的外观检查。
在传统的光学产品的制造工序中,为了防止伤痕或污垢的附着,通常使用在基材膜的单面上设有粘着剂层的表面保护膜。表面保护膜经由微粘着力的粘着剂层贴合于光学用膜上。使粘着剂层为微粘着力的原因在于,在将使用过的表面保护膜从光学用膜的表面剥离去除时,能够容易地剥离,且使粘着剂不附着残留在作为被粘物的产品的光学用膜上(即所谓的防止残胶的产生)。
近年来,在液晶显示器面板的生产工序中,虽然发生的件数少,但仍发生了由于将贴合于光学用膜上的表面保护膜剥离去除时产生的剥离静电压,引起用于控制液晶显示器的显示画面的驱动IC等电路部件遭到破坏的现象、或是液晶分子的取向受损的现象。
此外,为了降低液晶显示器面板的消耗电力,液晶材料的驱动电压降低,驱动IC的击穿电压也随之降低。在最近,要求剥离静电压在+0.7kV~-0.7kV的范围内。
此外,传统的偏振片为,在由含浸有碘的聚乙烯醇(PVA)构成的起偏镜的两侧,用水性的粘接剂粘接用于保护起偏镜的三乙酰纤维素膜(TAC膜),制造偏振片,而在近年来,作为TAC膜的替代,采用了使用有丙烯酸膜、环状聚烯烃膜或聚酯膜的偏振片,或是使用紫外线固化型粘接剂以代替水性粘接剂的偏振片。用于偏振片的构成材料变化,因此还出现了以下问题:在剥离去除表面保护膜时产生的剥离静电压比使用传统结构的偏振片时增高。
此外,近年来伴随着3D显示器(立体显示器)的普及,在偏振片等光学用膜的表面上贴合FPR(Film Patterned Retarder(薄膜式图案化相位延迟))膜。在剥离贴合于偏振片等光学用膜的表面上的表面保护膜后,贴合FPR膜。但是,偏振片等的光学用膜的表面若因用于表面保护膜的粘着剂或抗静电剂而受到污染,则存在FPR膜难以粘接的问题。因此,要求用于该用途的表面保护膜对被粘物的污染小。
另一方面,在若干液晶面板厂商中,作为表面保护膜对于被粘物的污染性评价方法,采用如下的方法:将贴合于偏振片等光学用膜的表面保护膜暂时剥离,在混入气泡的状态下进行再贴合并在规定条件下进行加热处理,然后剥离表面保护膜,观察被粘物的表面。在此评价方法中,即使被粘物的表面污染为微量,则也会在混入气泡的部分与表面保护膜的粘着剂粘接的部分之间存在被粘物的表面污染差异,作为气泡的痕迹(有时也称作气泡斑)而残留。因此,作为对被粘物的表面的污染性的评价方法,为非常严格的评价方法。近年来,寻求一种能够通过上述严格的评价方法而判定合格、且对被粘物的表面的污染极少的表面保护膜。
为了在将表面保护膜贴合于作为被粘物的光学用膜后,防止因从被粘物上将表面保护膜剥离时产生的剥离静电压高而造成的不良现象,提出了一种用于将剥离静电压抑制得较低的、使用了含有抗静电剂的粘着剂层的表面保护膜。
例如,在专利文献1中,公开了一种使用了由烷基三甲铵盐、含羟基的丙烯酸类聚合物、聚异氰酸酯构成的粘着剂的表面保护膜。
此外,在专利文献2中,公开了一种由离子液体及酸值为1.0以下的丙烯酸聚合物构成的粘着剂组合物、及使用了该组合物的粘着片类。
此外,在专利文献3中,公开了一种由经丙烯酸聚合物、聚醚多元醇化合物、阴离子吸附性化合物处理的碱金属盐构成的粘着组合物、及使用了该组合物的表面保护膜。
此外,在专利文献4中,公开了一种由离子液体、碱金属盐、玻璃化转变温度为0℃以下的聚合物构成的粘着剂组合物、及使用了该组合物的表面保护膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:特开2005-131957号公报
专利文献2:特开2005-330464号公报
专利文献3:特开2005-314476号公报
专利文献4:特开2006-152235号公报
发明内容
本发明要解决的技术问题
在上述专利文献1~4所述的表面保护膜中,粘着剂层的内部添加有抗静电剂。因此,粘着剂层的厚度越厚,或者贴合于被粘物后的经过时间越长,则对于贴合有表面保护膜的被粘物,抗静电剂从粘着剂层向被粘物转移的量有增多的倾向。此外,若抗静电剂向被粘物转移的量增多,则存在作为被粘物的光学用膜的外观品质降低、贴合FPR膜时的FPR膜的粘接性降低的可能性。
如此,为了减少抗静电剂从粘着剂层向被粘物转移的经时变化,若使粘着剂层的厚度变薄,则产生其他问题。例如,存在如下问题:在使用为了防止眩光而进行过防眩处理的偏振片等、表面上具有凹凸的光学用膜上的情况下,粘着剂层难以追随光学用膜表面的凹凸而混入气泡;因光学用膜与粘着剂层的粘接面积减小而使粘着力降低,表面保护膜在使用中浮起或剥落。
此外,为了减少抗静电剂从粘着剂层向被粘物转移的经时变化,若减少粘着剂层中添加的抗静电剂的添加量,则将表面保护膜从被粘物上剥离去除时产生的剥离静电压增高,存在产生驱动IC等电路部件受到破坏的现象、或液晶分子的取向受损的现象的危险性。
本发明是鉴于上述情况而完成的,其技术课题在于提供一种贴合于光学用膜的表面的表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件,所述表面保护膜即使对表面具有凹凸的光学用膜也能够贴合,对被粘物的污染非常少,且对被粘物的低污染性不发生经时变化、
此外,本发明的技术课题在于提供一种即使替换作为光学部件的偏振片的构成部件(由TAC膜变更为丙烯酸膜或聚酯膜、由水性粘接剂变更为紫外线固化型粘接剂),也能将剥离表面保护膜时的剥离静电压抑制得较低的表面保护膜,以及使用了该表面保护膜的光学部件。
解决技术问题的技术手段
为解决上述技术问题,本申请发明人进行了仔细研究。为了使对被粘物的污染少且使污染性的经时变化少,需要减少被推测为污染被粘物原因的抗静电剂的含量。但是,在减少抗静电剂的含量的情况下,将表面保护膜从被粘物上剥离时的剥离静电压增高。
因此,本申请发明人对不增加抗静电剂的含量、将表面保护膜从被粘物上剥离时的剥离静电压抑制得较低的方法进行了研究。
本申请发明人首先将不含抗静电剂的粘着剂组合物涂布于基材的单面并干燥,层叠粘着剂层,在基材的另一面层叠含有抗静电剂的剥离剂层,制作表面保护膜。然后,以使粘着剂层为内侧的方式将该表面保护膜卷绕成辊状,由此,该剥离剂层中所含的抗静电剂的成分被转印于该粘着剂层的表面,形成仅存在于该粘着剂层的表面的状态。发现将该表面保护膜暂时贴合于作为被粘物的光学用膜后,从被粘物上剥离时的剥离静电压被抑制地较低,且难以污染被粘物,从而完成本发明。
本发明的表面保护膜是将不含抗静电剂的粘着剂组合物涂布于基材的单面并干燥,层叠粘着剂层,在基材的另一面层叠含有抗静电剂的剥离剂层之后,以使粘着剂层为内侧的方式将该表面保护膜卷绕成辊状,由此使该剥离剂层所含的抗静电剂的成分转印于该粘着剂层的表面上。本发明的发明构思在于,在将该卷绕成辊状的状态的表面保护膜由辊状卷出回复,贴合于被粘物的情况下,将对被粘物的污染性抑制得较低,并且将表面保护膜从作为被粘物的光学用膜上剥离时的剥离静电压抑制得较低。
为了解决所述技术问题,本发明提供一种表面保护膜,其特征在于,在由具有透明性的树脂所构成的基材膜的一个面上形成有剥离剂层,在所述基材膜的另一个面上形成有粘着剂层,所述剥离剂层含有由碱金属盐构成的抗静电剂及硅酮类剥离剂,所述剥离剂层中所含的所述由碱金属盐构成的抗静电剂的成分仅存在于所述粘着剂层的表面。
此外,优选所述粘着剂层为含有经交联的(甲基)丙烯酸酯共聚物的丙烯酸类粘着剂层。
此外,优选从作为被粘物的光学用膜上剥离所述粘着剂层时的表面电位为+0.7kV~-0.7kV。
此外,优选所述基材膜以所述剥离剂层与所述粘着剂层相接的方式以所述粘着剂层为内侧卷绕成辊状。
此外,本发明提供一种光学部件,其经由所述粘着剂层,贴合所述表面保护膜而成。
发明效果
本发明的表面保护膜为贴合于光学用膜表面的表面保护膜,即使对表面具有凹凸的光学用膜也能够贴合。
此外,根据本发明,能够提供一种对被粘物的污染非常少、且对被粘物的污染性不发生经时变化的表面保护膜,以及提供一种使用了该表面保护膜的光学部件。
更进一步,根据本发明,能够提供一种即使变更光学部件的偏振片的构成部件(由TAC膜变更为丙烯酸膜、环状聚烯烃膜或聚酯膜,由水性粘接剂变更为紫外线固化型粘接剂),也能将剥离表面保护膜时的剥离静电压抑制得较低的表面保护膜,以及提供一种贴合有该表面保护膜的光学部件。
此外,本发明的卷绕成辊状的表面保护膜,是以所述剥离剂层与所述粘着剂层相接的方式以所述粘着剂层为内侧将基材膜卷绕成辊状的表面保护膜,由所述碱金属盐构成的抗静电剂的成分从所述剥离剂层转印至所述粘着剂层的表面,仅存在于所述粘着剂层的表面。
即,本发明具有以下特征:将由卷绕成辊状的表面保护膜开卷复原的表面保护膜贴合于被粘物后,从被粘物上剥离表面保护膜时的剥离静电压降低,且抗剥离静电性能的经时变化及对被粘物的污染少,因此能够预计作为被粘物的光学部件的生产性的提高以及成品率的提高。
附图说明
图1为表示本发明的卷绕成辊状状态的表面保护膜的截面示意图;
图2为表示将本发明的表面保护膜卷绕成辊状状态下的、剥离剂层与粘着剂层相接状态的截面示意图;
图3为将本发明的表面保护膜贴合于光学部件上的一个实施例的截面图。
附图标记说明
1…基材膜;2…剥离剂层;3…抗静电剂;4…粘着剂层;5…表面保护膜;6…光学部件(光学用膜);7…带有表面保护膜的光学部件;10…卷绕成辊状状态的表面保护膜。
具体实施方式
以下,根据实施方式,对本发明进行详细说明。
图1为表示本发明的卷绕成辊状状态的表面保护膜10的截面示意图。图1的右侧所示的卷绕成辊状状态的表面保护膜10是以粘着剂层4为内侧将本发明的表面保护膜5卷绕成辊状的表面保护膜(表面保护膜5的辊体)。此外,图1的左侧是将沿箭头方向从辊状开卷复原的表面保护膜5在厚度方向扩大表示的截面示意图。
该表面保护膜5在透明的基材膜1的一个面上,具有含有由碱金属盐构成的抗静电剂3的剥离剂层2,在基材膜1的另一个面上,形成有粘着剂层4。将在基材膜1的一个面上具有剥离剂层2、在基材膜1的另一个面上具有粘着剂层4的表面保护膜5,以剥离剂层2与粘着剂层4相接的方式,以粘着剂层4为内侧卷绕成辊状,由此,可得到卷绕成辊状的状态的表面保护膜10,其剥离剂层2中含有的抗静电剂3的成分转印至粘着剂层4的表面,仅存在于粘着剂层4的表面。
作为用于本发明的表面保护膜5的基材膜1,可使用由具有透明性及可挠性的树脂构成的基材膜。由此,能够在将表面保护膜5贴合于作为被粘物的光学部件的状态下,进行光学部件的外观检查。作为基材膜1而使用的具有透明性的树脂所构成的膜可适宜地使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚间苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯膜。除了聚酯膜以外,也可使用由其他树脂构成的膜,只要具有所需要的强度及具有光学适性即可。基材膜1可以是无拉伸膜,也可以是经单轴或双轴拉伸的膜。此外,拉伸膜的拉伸倍率、随拉伸膜的结晶化所形成的轴方向的取向角度可控制为特定的值。
本发明的用于表面保护膜5的基材膜1的厚度没有特别限定,例如优选12~100μm左右的厚度,若为20~75μm左右的厚度则便于操作,因此更优选。
此外,可根据需要,在基材膜1的表面上施加基于电晕放电的表面改性、涂布锚固剂等的易粘接处理。
此外,本发明的形成于表面保护膜5的剥离剂层2使用含有由碱金属盐构成的抗静电剂3的剥离剂而形成。作为剥离剂,适宜食用硅酮类剥离剂。
硅酮类剥离剂可列举出加成反应型、缩合反应型、阳离子聚合型、自由基聚合型等公知的硅酮类剥离剂。作为加成反应型硅酮类剥离剂而市售的产品中,例如可列举出KS-776A、KS-847T、KS-779H、KS-837、KS-778、KS-830(信越化学工业(株)制)、SRX-211、SRX-345、SRX-357、SD7333、SD7220、SD7223、LTC-300B、LTC-350G、LTC-310(Dow Corning Toray(株)制)等。作为缩合反应型而市售的产品中,例如可列举出SRX-290、SYLOFF-23(DowCorning Toray(株)制)等。作为阳离子聚合型而市售的产品中,例如可列举出TPR-6501、TPR-6500、UV9300、VU9315、UV9430(Momentive Performance Materials社制)、X62-7622(信越化学工业(株)制)等。作为自由基聚合型而市售的产品中,例如可列举出X62-7205(信越化学工业(株)制)等。
作为剥离剂层2中所含的抗静电剂3,优选对硅酮类剥离剂溶液的分散性良好、且不阻碍硅酮类剥离剂的固化的抗静电剂。此外,在与剥离剂层2接触的粘着剂层4的表面上,剥离剂层2中所含的抗静电剂3的成分进行转印,赋予粘着剂层4的表面抗静电的功能,因此不与硅酮类剥离剂反应的抗静电剂较好。作为这样的抗静电剂,适宜为碱金属盐。
作为碱金属盐,可列举出由锂、钠、钾构成的金属盐。具体而言,例如可适用由选自Li+、Na+、K+的阳离子与选自Cl-、Br-、I-、BF4 -、PF6 -、SCN-、ClO4 -、CF3SO3 -、(CF3SO2)2N-、(C2F5SO2)2N-、(CF3SO2)3C-的阴离子构成的金属盐。其中尤其可优选使用LiBr、LiI、LiBF4、LiPF6、LiSCN、LiClO4、LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(CF3SO2)3C等锂盐。这些碱金属盐可以单独使用,也可两种以上混合使用。为了离子物质的稳定化,也可以添加含有聚氧亚烷基结构的化合物。
抗静电剂相对于硅酮类剥离剂的添加量因抗静电剂的种类或与硅酮类剥离剂的亲和性程度而异,但可以考虑从被粘物上剥离表面保护膜时所期望的剥离静电压、对被粘物的污染性、粘着特性等而进行设定。硅酮类剥离剂与抗静电剂的混合比例(重量比)为,例如相对于硅酮类剥离剂的固体成分100,以固体成分计抗静电剂的优选值为5~100的比例,进一步优选为5~60的比例。若相对于硅酮类剥离剂的固体成分100,抗静电剂的固体成分换算的添加量小于5的比例,则抗静电剂向粘着剂层的表面的转印量变少,难以在粘着剂中发挥抗静电的功能。此外,若相对于硅酮类剥离剂的固体成分100,抗静电剂的固体成分换算的添加量超过100的比例,则硅酮类剥离剂的成分与抗静电剂同时转印至粘着剂层的表面,因此存在降低粘着剂的粘着特性的可能性。
剥离剂层2至少由硅酮类剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂构成。硅酮类剥离剂与抗静电剂的混合方法没有特别的限定。以下方法中的任意一种均可:向硅酮类剥离剂中添加抗静电剂,进行混合后,添加并混合剥离剂固化用催化剂的方法;预先用有机溶剂稀释硅酮类剥离剂,然后添加、混合抗静电剂及剥离剂固化用催化剂的方法;预先用有机溶剂稀释硅酮类剥离剂后,添加并混合催化剂,然后添加并混合抗静电剂的方法等。此外,剥离剂层2可根据需要,含有硅烷偶联剂等贴附性改善剂、含聚氧亚烷基的化合物等辅助抗静电效果的材料、纤维素类化合物等赋予印字性的材料、调整滑动性的材料等。
可用公知的方法在基材膜1的表面形成剥离剂层2。具体而言,可使用凹版涂布、迈耶棒涂布、气刀涂布等公知的涂布方法。
在本发明的形成于表面保护膜5的粘着剂层4中,剥离剂层2所含的抗静电剂3的成分不存在于粘着剂层4的内部(表面以外),仅存在于粘着剂层4的表面。由此,能够抑制表面保护膜5的抗剥离静电性能的经时变化及对被粘物的污染。
本发明的形成于表面保护膜5的粘着剂层4没有特别限定,只要是粘接于被粘物的表面、在使用后能够简单地剥离且难以污染被粘物的粘着剂层即可。若考虑寻求将本发明的表面保护膜5贴合于光学用膜后的耐久性等,则优选将交联(甲基)丙烯酸酯共聚物交联而成的丙烯酸类粘着剂层。
作为(甲基)丙烯酸酯共聚物,例如可列举出丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸异壬酯等主单体与丙烯腈、乙酸乙烯酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯等共聚用单体(comonomer)、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟丁酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、N-羟甲基甲基丙烯酰胺等官能性单体共聚而成的共聚物。(甲基)丙烯酸酯共聚物可以是主单体及其他单体均为(甲基)丙烯酸酯,也可以含有(甲基)丙烯酸酯以外的单体中的一种或两种以上作为主单体以外的单体。
此外,也可以在(甲基)丙烯酸酯共聚物中共聚或混合含有聚氧亚烷基的化合物。作为可共聚的含有聚氧亚烷基的化合物,可列举出聚乙二醇(400)单丙烯酸酯、聚乙二醇(400)单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、聚丙二醇(400)单丙烯酸酯、聚丙二醇(400)单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)甲基丙烯酸酯等。通过将这些含有聚氧亚烷基的单体与所述(甲基)丙烯酸酯共聚物的主单体、官能性单体进行共聚,能够获得由含有聚氧亚烷基的共聚物所构成的粘着剂。
作为可混合在(甲基)丙烯酸酯共聚物中的含有聚氧亚烷基的化合物,优选含有聚氧亚烷基的(甲基)丙烯酸酯共聚物,更优选含有聚氧亚烷基的(甲基)丙烯酸类单体的聚合物,例如可列举出聚乙二醇(400)单丙烯酸酯、聚乙二醇(400)单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、聚丙二醇(400)单丙烯酸酯、聚丙二醇(400)单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)甲基丙烯酸酯等聚合物。通过将这些含有聚氧亚烷基的化合物与所述(甲基)丙烯酸酯共聚物混合,能够获得添加有含有聚氧亚烷基的化合物的粘着剂。
作为添加于粘着剂层4中的固化剂,可列举出异氰酸酯化合物、环氧化合物、三聚氰胺化合物、金属螯合化合物等作为使(甲基)丙烯酸酯共聚物交联的交联剂。此外,作为增粘剂,可列举出松香类、古马隆茚类(coumarone indene)、萜类(terpene)、石油类、酚类等。
本发明的形成于表面保护膜5的粘着剂层4的厚度没有特别限定,例如优选5~40μm左右的厚度,更优选10~30μm左右的厚度。表面保护膜对被粘物表面的剥离强度(粘着力)为0.03~0.3N/25mm左右的、具有微粘着力的粘着剂层4,由于从被粘物上剥离表面保护膜时的操作性优异而优选。
在本发明的表面保护膜5的基材膜1上形成粘着剂层4的方法,只要以公知的方法进行即可,没有特别的限定。具体而言,可使用逆向涂布、逗号刮刀式(comma)涂布、凹版涂布、狭缝式模头(slot die)涂布、迈耶棒涂布、气刀涂布等公知的涂布方法。
具有上述结构的本发明的表面保护膜5,从作为被粘物的光学用膜上剥离粘着剂层4时的表面电位优选为+0.7kV~-0.7kV。更进一步,表面电位更优选为+0.5kV~-0.5kV,表面电位特别优选为+0.2kV~-0.2kV。该表面电位可通过对剥离剂层2中所含的抗静电剂3的种类、添加量等进行增减而调整。可以考虑将表面保护膜5从作为被粘物的光学用膜上剥离后的、作为被粘物的光学用膜的表面污染性,调整剥离剂层2的抗静电剂3的种类、添加量即可。
图2为表示将本发明的表面保护膜5卷绕成辊状状态下的、剥离剂层2与粘着剂层4相接状态的截面示意图。将在基材膜1的一个面上形成有含有抗静电剂3的剥离剂层2、在基材膜1的另一个面上形成有不含抗静电剂3的粘着剂层4的表面保护膜5形成以粘着剂层4为内侧卷绕成辊状状态的表面保护膜10,由此在辊体的半径方向上剥离剂层2与粘着剂层4成相接的状态。由此,在剥离剂层2中所含的抗静电剂(符号3)成分的一部分转印至粘着剂层4的表面。图3示出了将从如此获得的卷绕成辊状状态的表面保护膜10送出的表面保护膜5贴合于光学部件6的状态。与通过将抗静电剂3的成分从剥离剂层2转印至粘着剂层4的表而转印抗静电剂3的成分之前的粘着剂层4相比,表面保护膜5贴合于被粘物后,从被粘物上剥离表面保护膜5时的剥离静电压降低。此外,将图1的表面保护膜5从被粘物上剥离时的剥离静电压可通过公知的方法测定。例如,将表面保护膜5贴合于偏振片等被粘物后,使用高速剥离试验机(TESTER产业制),以每分钟40m的剥离速度剥离表面保护膜5,同时使用表面电位计(Keyence(株)制)以每10ms一次测定被粘物表面的表面电位,以此时的表面电位绝对值的最大值为剥离静电压(kV)。
本发明的卷绕成辊状状态的表面保护膜10中,将从辊状开卷复原的表面保护膜5贴合于被粘物时,转印至该粘着剂层4表面的抗静电剂3与被粘物的表面接触。由此,能够再次将表面保护膜5从被粘物上剥离时的剥离静电压抑制得较低。此外,在本发明的卷绕成辊状状态的表面保护膜10中,以剥离剂层2为外侧,以粘着剂层4为内侧,因此在辊的状态中,粘着剂层4的表面不露出并受到保护。在从辊状开卷复原表面保护膜5之后,剥离剂层2与基材膜1一体化,因此不需要除去或废弃剥离剂层2。
图3为示出带有表面保护膜的光学部件7作为将本发明的表面保护膜5贴合于光学部件的一个实施例的截面图。带有表面保护膜的光学部件7是从卷绕成辊状状态的表面保护膜10送出本发明的表面保护膜5,经由其粘着剂层4贴合于作为被粘物的光学部件6上而获得。作为光学部件6,可列举出偏振片、相位差板、屏膜、兼用作相位差板的偏振片、兼用作屏膜的偏振片等光学用膜。这样的光学部件可用作液晶显示面板等液晶显示装置、各种计量仪器类的光学类装置等的构成部件。此外,作为光学部件,还可列举出防反射膜、硬涂膜、触摸面板用透明导电性膜等光学用膜。
将本发明的表面保护膜5从卷绕成辊状状态的表面保护膜10送出,贴合于作为被粘物的光学部件(光学用膜)后,在从被粘物上剥离除去表面保护膜5时,能够充分地将剥离静电压抑制得较低。因此,不需担忧破坏驱动IC、TFT元件、栅极线驱动电路等电路部件,提高了在制造液晶显示面板等工序中的生产效率,能够保证生产工序的可靠性。
实施例
以下通过实施例,对本发明进行详细说明。
(实施例1)
(表面保护膜的制备)
将加成反应型的硅酮(Dow Corning Toray(株)制,商品名:SRX-345)5重量份、双氟磺酰亚胺锂(Lithium bis(fluorosulfonyl)imide)0.75重量份、甲苯与乙酸乙酯的1:1混合溶剂95重量份、铂催化剂(Dow Corning Toray(株)制,商品名:SRX-212)0.05重量份混合,进行搅拌混合,配制为形成实施例1的剥离剂层的涂料。
另一方面,相对于由丙烯酸2-乙基己酯90重量份、甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯7重量份、丙烯酸2-羟乙酯3重量份的共聚物构成的粘着剂的40%乙酸乙酯溶液100重量份,搅拌混合异氰酸酯类固化剂(TOSOH社制CORONATE(注册商标)HX)2重量份,制备实施例1的粘着剂组合物。
在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上,用迈耶棒以干燥后的厚度为0.2μm的方式涂布形成实施例1的剥离剂层的涂料,用120℃的热风循环式烘箱进行1分钟干燥,形成剥离剂层。然后,在聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的未形成剥离剂层的表面上,以干燥后的厚度为20μm的方式涂布所制备的粘着剂组合物,然后用100℃的热风循环式烘箱进行2分钟干燥,形成粘着剂层。然后,将所得到的在基材膜的一个面上形成有剥离剂层、另一个面上形成有粘着剂层的膜以剥离剂层与粘着剂层相接的方式,以粘着剂层为内侧卷绕成辊状。将所得到的卷绕成辊状的粘着膜在40℃的环境下保温5天,使粘着剂层固化,获得实施例1的卷绕成辊状状态的表面保护膜。
(实施例2)
除了使形成实施例1的剥离剂层的涂料在干燥后的厚度为0.1μm以外,以与实施例1相同的方式,获得实施例2的卷绕成辊状状态的表面保护膜。
(实施例3)
除了将实施例1的加成反应型的硅酮变更为Dow Corning Toray(株)制、商品名:SRX-211,并用双三氟甲烷磺酰亚胺锂代替双氟磺酰亚胺锂以外,以与实施例1相同的方式,获得实施例3的卷绕成辊状状态的表面保护膜。
(比较例1)
除了不添加作为抗静电剂的双氟磺酰亚胺锂以外,以与实施例1相同的方式,获得比较例1的卷绕成辊状状态的表面保护膜。
(比较例2)
除了在粘着剂侧添加相对于40%乙酸乙酯溶液100重量份为0.67重量份的双氟磺酰亚胺锂,来代替在剥离剂中添加双氟磺酰亚胺锂以外,以与实施例1相同的方式,获得比较例2的卷绕成辊状状态的表面保护膜。
以下,示出评价试验的方法及结果。
〈表面保护膜的展开力的测定方法〉
以2层重叠的状态切取从卷绕成辊状状态的表面保护膜开卷复原的表面保护膜的样品,剪裁为宽50mm、长150mm。在23℃×50%RH的试验环境下,用拉伸试验机测定以300mm/分钟的剥离速度在180°的方向上进行剥离时的强度,将其作为表面保护膜的展开力(N/50mm)。
(剥离剂层及粘着剂层的表面电阻率)
使用高性能高电阻率计(三菱化学Analytech社制Hiresta(注册商标)-UP),在施加电压100V、测定时间30秒的条件下,测定将由辊状开卷复原的表面保护膜的样品的剥离剂层及粘着剂层的表面电阻率(Ω/□)。
〈表面保护膜的粘着力的测定方法〉
将在起偏镜(含碘的聚乙烯醇膜)上使用紫外线固化型粘接剂贴合了丙烯酸膜的、经防眩低反射处理的偏振片(AG-LR偏振片)作为被粘物。使用贴合机,通过双面粘着带在玻璃板的表面上贴合该偏振片。然后,将剪裁成宽25mm的表面保护膜贴合于偏振片表面的丙烯酸膜上后,在23℃×50%RH的试验环境下保存1天。然后,使用拉伸试验机测定以300mm/分钟的剥离速度在180°的方向上剥离表面保护膜时的强度,将其作为粘着力(N/25mm)。
〈表面保护膜的剥离静电压的测定方法〉
将在起偏镜(含碘的聚乙烯醇膜)上使用紫外线固化型粘接剂贴合了丙烯酸膜的、经防眩低反射处理的偏振片(AG-LR偏振片)作为被粘物。使用贴合机,通过双面粘着带在玻璃板的表面上贴合该偏振片。然后,将剪裁成宽25mm的表面保护膜贴合于偏振片表面的丙烯酸膜上后,在23℃×50%RH的试验环境下保存1天。然后使用高速剥离试验机(TESTER产业制),以每分钟40m的剥离速度剥离表面保护膜,同时使用表面电位计(Keyence(株)制)每10ms一次测定所述偏振片表面的表面电位,以此时的表面电位绝对值的最大值为剥离静电压(kV)。
〈表面保护膜的表面污染性的确认方法〉
将在起偏镜(含碘的聚乙烯醇膜)上使用紫外线固化型粘接剂贴合了丙烯酸膜的、经防眩低反射处理的偏振片(AG-LR偏振片)作为被粘物。使用贴合机,通过双面粘着带在玻璃板的表面上贴合该偏振片。然后,将剪裁成宽25mm的表面保护膜贴合于偏振片表面的丙烯酸膜上后,在23℃×50%RH的试验环境下保存3天及30天。然后,剥下表面保护膜,以目视观察偏振片的表面上有无污染,确认表面污染性。作为表面污染性的判定标准,将在偏振片上没有污染转移的情况评价为(○),在偏振片上确认到污染转移的情况评价为(×)。
对于得到的实施例1~3及比较例1~2的卷绕成辊状状态的表面保护膜,将测定的测定结果示于表1。“2EHA”指丙烯酸2-乙基己酯,“HEA”指丙烯酸2-羟乙酯,“#400G”指甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯,“AS剂(1)”指双氟磺酰亚胺锂,“AS剂(2)”指双三氟甲烷磺酰亚胺锂,“SRX-345”指SRX-345,“SRX-211”指SRX-211,“SRX212”指铂催化剂SRX-212。此外,表面电阻率的“4.2E11”指4.2×1011,“超范围(Over-range)”指超越测定机的测定界限,指1.0×1013Ω/□以上。
[表1]
由表1所示的测定结果可知:
本发明的实施例1~3的卷绕成辊状状态的表面保护膜,在由辊状开卷复原而使用时,具有适度的粘着力,对被粘物的表面无污染。此外,即使被粘物为使用了丙烯酸膜的偏振片,暂时将表面保护膜贴合于被粘物后,从被粘物剥离时的剥离静电压也低。
另一方面,对于在剥离剂层中未添加抗静电剂的比较例1的卷绕成辊状状态的表面保护膜,将由辊状开卷复原的表面保护膜暂时贴合于被粘物后,从被粘物剥离时的剥离静电压增高。此外,作为使剥离剂层含有抗静电剂的替代,使粘着剂层含有抗静电剂的比较例2的卷绕成辊状状态的表面保护膜,其将由辊状开卷复原的表面保护膜暂时贴合于被粘物后,从被粘物剥离时的剥离静电压低且良好,但剥离表面保护膜后的对被粘物的污染增多。
即,比较例1~2的卷绕成辊状状态的表面保护膜难以兼顾剥离静电压的降低及对被粘物的低污染性。另一方面,对于在剥离剂层中添加抗静电剂、仅在粘着剂层的表面转印抗静电剂的成分的、实施例1~3的卷绕成辊状状态的表面保护膜,良好地兼顾了剥离静电压的降低及对被粘物的低污染性。
工业实用性
本发明的表面保护膜例如在偏振片、相位差板、屏膜、反射防止膜、硬涂膜、透明导电性膜等光学用膜及其他各种光学部件等的生产工序等中,能够贴合于该光学部件等的表面,用于保护表面。此外,本发明的表面保护膜在贴合于作为被粘物的光学部件(光学用膜)后,能够将表面保护膜从被粘物上剥离时产生的剥离静电压抑制得较低,且抗剥离静电性能的经时变化及对被粘物的污染少,可通过生产工序的成品率,工业上的利用价值大。
Claims (5)
1.一种表面保护膜,其特征在于,在由具有透明性的树脂所构成的基材膜的一个面上形成有剥离剂层,在所述基材膜的另一个面上形成有粘着剂层,
所述剥离剂层含有由碱金属盐构成的抗静电剂及硅酮类剥离剂,所述剥离剂层中所含的所述由碱金属盐构成的抗静电剂的成分仅存在于所述粘着剂层的表面。
2.根据权利要求1所述的表面保护膜,其特征在于,
所述粘着剂层为含有经交联的(甲基)丙烯酸酯共聚物的丙烯酸类粘着剂层。
3.根据权利要求1或2所述的表面保护膜,其特征在于,从作为被粘物的光学用膜上剥离所述粘着剂层时的表面电位为+0.7kV~-0.7kV。
4.根据权利要求1或2所述的表面保护膜,其特征在于,所述基材膜以所述剥离剂层与所述粘着剂层相接的方式以所述粘着剂层为内侧卷绕成辊状。
5.一种光学部件,其经由所述粘着剂层贴合权利要求1~4中任一项所述的表面保护膜而成。
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