WO2012090753A1 - 成膜装置 - Google Patents

成膜装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2012090753A1
WO2012090753A1 PCT/JP2011/079329 JP2011079329W WO2012090753A1 WO 2012090753 A1 WO2012090753 A1 WO 2012090753A1 JP 2011079329 W JP2011079329 W JP 2011079329W WO 2012090753 A1 WO2012090753 A1 WO 2012090753A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
base portion
film forming
mask
fixed base
substrate
Prior art date
Application number
PCT/JP2011/079329
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
三之 田島
内田　敬自
正直 藤塚
悌二 ▲高▼橋
Original Assignee
トッキ株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by トッキ株式会社 filed Critical トッキ株式会社
Priority to CN2011800635466A priority Critical patent/CN103339281A/zh
Publication of WO2012090753A1 publication Critical patent/WO2012090753A1/ja

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks

Definitions

  • the present invention relates to a film forming apparatus.
  • the transport method in an organic EL display panel manufacturing apparatus has a substrate size of, for example, a fourth-generation half-cut size or less, and the glass substrate is not bent due to gravity. ing.
  • the size of the substrate will increase in the future (beyond the fourth generation).
  • the installation space of the apparatus increases as the size of the substrate increases.
  • the alignment accuracy does not change and the difficulty of relative positioning increases. Furthermore, in horizontal conveyance, there is a concern that a problem may occur in the alignment between the substrate and the mask due to the deflection of the substrate.
  • Patent Document 1 a vertical transport system that transports the substrate in a vertical state (upright state). Has been proposed.
  • the alignment unit for alignment projects in the plane direction and increases the installation space.
  • the chamber deposition chamber
  • the deformation of the chamber acts as an overload on the internal LM (Linear Motion) guide, and the amount of the LM guide increases accordingly. Reduce lifespan. Further, if the strength of the chamber is increased so as to reduce the deformation, the weight becomes heavier, resulting in cost and transportation problems.
  • the organic EL vapor deposition material is very expensive, it is desired to use the vapor deposition material efficiently without waste. That is, in a normal vapor deposition apparatus, the vapor deposition source continues to eject the vapor deposition material after the completion of vapor deposition until the next substrate setting is completed, and this amount is wasted, and the use efficiency of the vapor deposition material is reduced accordingly. Further, when the substrate and the evaporation source are brought close to each other, the use efficiency is improved.
  • the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and while realizing space saving, the influence of deformation of the chamber is reduced as much as possible, and the alignment accuracy can be ensured, and the use of materials is possible. It is an object of the present invention to provide an extremely practical film forming apparatus that can cope with a large substrate of the fourth generation or higher, such as improving efficiency.
  • a film forming apparatus including a film forming chamber 1 for forming a film by attaching a film forming material to a substrate 2 held in an upright state via a mask 3, wherein the mask 3 is placed in the film forming chamber 1.
  • An alignment driving mechanism for aligning the mask 3 and the substrate 2 so as to be in an appropriate position relative to the substrate 2, and the substrate 2 or the substrate 2 movable along the transport direction of the mask 3;
  • the mask 3 and the substrate 2 can be aligned by the alignment drive mechanism at another film formation position while film formation is performed by the evaporation source 100 at one film formation position.
  • the film forming apparatus includes a film forming chamber 1 for forming a film by attaching a film forming material to the substrate 2 held in an upright state via a mask 3, and the mask is provided in the film forming chamber 1.
  • the alignment frame 4 attached in an upright state is adjusted and moved with respect to the substrate 2 so that the mask 3 and the substrate 2 are aligned so that the mask 3 is in an appropriate position with respect to the substrate 2.
  • a mask transport mechanism and a substrate transport mechanism for transporting the substrate 2 and the mask 3 in an upright state are provided at a plurality of film formation positions facing the evaporation source 100, respectively, and the alignment drive mechanism is placed at the plurality of film formation positions. husband And the mask 3 and the substrate 2 can be aligned by the alignment drive mechanism at another film formation position while film formation is performed by the evaporation source 100 at one film formation position.
  • the present invention relates to a film forming apparatus characterized by the following.
  • the film forming apparatus further comprising a deformation absorbing mechanism that absorbs deformation of the film forming chamber 1 between the evaporation source guide mechanism and an inner wall surface of the film forming chamber 1. It is concerned.
  • the deposition apparatus according to claim 2, further comprising an evaporation source cooling mechanism that prevents heat radiation from the evaporation source 100 to the substrate 2.
  • the film forming apparatus further comprising an evaporation source cooling mechanism for preventing heat dissipation from the evaporation source 100 to the substrate 2.
  • a mask cooling mechanism for cooling the mask 3 is provided on the evaporation source 100 side of the mask 3 and a substrate for cooling the substrate 2 on the back surface side opposite to the surface on which the mask 3 of the substrate 2 is provided.
  • a mask cooling mechanism for cooling the mask 3 is provided on the evaporation source 100 side of the mask 3 and a substrate for cooling the substrate 2 on the back surface side opposite to the surface on which the mask 3 of the substrate 2 is provided. 4.
  • a mask cooling mechanism for cooling the mask 3 is provided on the evaporation source 100 side of the mask 3 and a substrate for cooling the substrate 2 on the back surface side opposite to the surface on which the mask 3 of the substrate 2 is provided. 5.
  • a mask cooling mechanism for cooling the mask 3 is provided on the evaporation source 100 side of the mask 3 and a substrate for cooling the substrate 2 on the back surface side opposite to the surface on which the mask 3 of the substrate 2 is provided. 6.
  • the film forming apparatus further comprising a crucible exchanging mechanism for exchanging a crucible 104 in which the film forming material of the evaporation source 100 is stored in the film forming chamber.
  • the film forming apparatus further comprising a crucible exchanging mechanism for exchanging the crucible 104 in which the film forming material of the evaporation source 100 is stored in the film forming chamber. .
  • the film forming apparatus further comprising a crucible exchanging mechanism for exchanging a crucible 104 in which the film forming material of the evaporation source 100 is stored in the film forming chamber. .
  • the film forming apparatus further comprising a crucible exchanging mechanism for exchanging the crucible 104 in which the film forming material of the evaporation source 100 is stored in the film forming chamber. .
  • the film forming apparatus further comprising a crucible exchanging mechanism for exchanging a crucible 104 in which the film forming material of the evaporation source 100 is stored in the film forming chamber. .
  • the alignment driving mechanism includes an upper fixed base 5 provided outside the film forming chamber 1 and fixed to the upper side of the film forming chamber 1, and a mask surface with respect to the upper fixed base 5.
  • An upper side moving base portion 6 movable in the X direction and the Y direction parallel to each other, and one end supported by the upper side moving base portion 6 so as to be rotatable in the ⁇ direction, which is a rotation direction on the mask surface, and the other end
  • an upper drive mechanism comprising an upper connecting body 8 connected to the upper portion of the alignment frame 4 in the film forming chamber 1 through an upper through hole 7 provided in the upper portion of the film forming chamber 1 or the film forming method.
  • a lower fixed base portion 9 provided outside the chamber 1 and fixed to the lower side of the film forming chamber 1, and movable in the X and Y directions parallel to the mask surface with respect to the lower fixed base portion 9
  • a lower moving base 10 and one end of the mass The other end of the film forming chamber 1 is supported by the lower moving base portion 10 so as to be rotatable in the ⁇ direction, which is the rotation direction on the surface of the film, and the other end is formed in the film forming chamber 1 through a lower through hole 11 provided in the lower portion of the film forming chamber 1.
  • the lower-side drive mechanism includes a lower-side coupling body 12 coupled to the lower portion of the alignment frame 4, and the upper-side coupling body 8 and the lower-side coupling body 12 are connected to the alignment frame 4 at the upper portion.
  • the film forming chamber according to any one of claims 2 to 17, wherein the through-hole 7 and the lower through-hole 11 are provided in the film forming chamber 1 via bellows 34 and 35 that are sealed in an airtight state, respectively. This relates to the film forming apparatus.
  • the alignment driving mechanism includes an upper fixed base 5 provided outside the film forming chamber 1 and fixed to the upper side of the film forming chamber 1, and a mask surface with respect to the upper fixed base 5.
  • An upper side moving base portion 6 movable in the X direction and the Y direction parallel to each other, and one end supported by the upper side moving base portion 6 so as to be rotatable in the ⁇ direction, which is a rotation direction on the mask surface, and the other end
  • An upper drive mechanism comprising an upper connecting body 8 connected to the upper portion of the alignment frame 4 in the film forming chamber 1 through an upper through-hole 7 provided in the upper portion of the film forming chamber 1, and the film forming chamber 1 and is fixed to the lower side of the film forming chamber 1, and is movable in the X and Y directions parallel to the mask surface with respect to the lower fixed base 9.
  • the other end of the alignment frame in the film forming chamber 1 is supported by the lower moving base portion 10 so as to be rotatable in the ⁇ direction, and the other end is provided in the lower through hole 11 provided in the lower portion of the film forming chamber 1.
  • 4 and a lower drive mechanism comprising a lower connecting member 12 connected to the lower portion of the upper connecting member 4.
  • the connecting portion of the upper connecting member 8 and the lower connecting member 12 with the alignment frame 4 is the upper through hole.
  • the film forming chamber according to any one of claims 2 to 17, wherein the film forming chamber 1 and the lower through-hole 11 are provided in the film forming chamber 1 via bellows 34 and 35, which are sealed in an airtight state, respectively.
  • the present invention relates to a membrane device.
  • the alignment driving mechanism includes an upper fixed base 5 provided outside the film forming chamber 1 and fixed to the upper side of the film forming chamber 1, and a mask surface with respect to the upper fixed base 5.
  • An upper side moving base portion 6 movable in the X direction and the Y direction parallel to each other, and one end supported by the upper side moving base portion 6 so as to be rotatable in the ⁇ direction, which is a rotation direction on the mask surface, and the other end
  • an upper drive mechanism comprising an upper connecting body 8 connected to the upper portion of the alignment frame 4 in the film forming chamber 1 through an upper through hole 7 provided in the upper portion of the film forming chamber 1 or the film forming method.
  • a lower fixed base portion 9 provided outside the chamber 1 and fixed to the lower side of the film forming chamber 1, and movable in the X and Y directions parallel to the mask surface with respect to the lower fixed base portion 9
  • a lower moving base 10 and one end of the mass The other end of the film forming chamber 1 is supported by the lower moving base portion 10 so as to be rotatable in the ⁇ direction, which is the rotation direction on the surface of the film, and the other end is formed in the film forming chamber 1 through a lower through hole 11 provided in the lower portion of the film forming chamber 1.
  • a lower side drive mechanism comprising a lower side coupling body 12 connected to the lower part of the alignment frame 4, and the upper side drive mechanism or the lower side drive mechanism includes an X direction drive device or a Y direction drive device, Both of them are provided, and the upper-side moving base portion 6 or the lower-side moving base portion 10 is moved to the upper-side fixed base portion 5 or the lower-side fixed base portion 9 by the X-direction drive device and the Y-direction drive device.
  • the alignment frame 4 By moving in the X direction and the Y direction, the alignment frame 4 can be adjusted and moved in the X, Y, and ⁇ directions via the upper side connecting body 8 or the lower side connecting body 12, Side station The connecting portion of the body 8 and the lower side connecting body 12 with the alignment frame 4 is formed through the bellows 34 and 35 for sealing the upper through hole 7 and the lower through hole 11 in an airtight state, respectively.
  • the film forming apparatus according to claim 2 wherein the film forming apparatus is provided in the film forming apparatus.
  • the alignment driving mechanism includes an upper fixed base 5 provided outside the film forming chamber 1 and fixed to the upper side of the film forming chamber 1, and a mask surface with respect to the upper fixed base 5.
  • An upper side moving base portion 6 movable in the X direction and the Y direction parallel to each other, and one end supported by the upper side moving base portion 6 so as to be rotatable in the ⁇ direction, which is a rotation direction on the mask surface, and the other end
  • An upper drive mechanism comprising an upper connecting body 8 connected to the upper portion of the alignment frame 4 in the film forming chamber 1 through an upper through-hole 7 provided in the upper portion of the film forming chamber 1, and the film forming chamber 1 and is fixed to the lower side of the film forming chamber 1, and is movable in the X and Y directions parallel to the mask surface with respect to the lower fixed base 9.
  • Lower side moving base 10 and one end on the mask surface The other end of the alignment frame in the film forming chamber 1 is supported by the lower moving base portion 10 so as to be rotatable in the ⁇ direction, and the other end is provided in the lower through hole 11 provided in the lower portion of the film forming chamber 1. 4 and a lower-side drive body 12 connected to the lower part of the X-direction drive mechanism.
  • the X-direction drive apparatus or the Y-direction drive apparatus Both the X-direction drive device and the Y-direction drive device are provided so that the upper-side moving base portion 6 and the lower-side moving base portion 10 are made to X with respect to the upper-side fixed base portion 5 and the lower-side fixed base portion 9.
  • the alignment frame 4 can be adjusted and moved in the X, Y, and ⁇ directions via the upper side connecting body 8 and the lower side connecting body 12 by moving in the direction and the Y direction.
  • Connecting body 8 and the lower part The connecting portion of the connecting body 12 to the alignment frame 4 is provided in the film forming chamber 1 via bellows 34 and 35 that seal the upper through hole 7 and the lower through hole 11 in an airtight state, respectively.
  • the alignment driving mechanism includes an upper fixed base 5 provided outside the film forming chamber 1 and fixed to the upper side of the film forming chamber 1, and a mask surface with respect to the upper fixed base 5.
  • An upper side moving base portion 6 movable in the X direction and the Y direction parallel to each other, and one end supported by the upper side moving base portion 6 so as to be rotatable in the ⁇ direction, which is a rotation direction on the mask surface, and the other end
  • An upper drive mechanism comprising an upper connecting body 8 connected to the upper portion of the alignment frame 4 in the film forming chamber 1 through an upper through-hole 7 provided in the upper portion of the film forming chamber 1, and the film forming chamber 1 and is fixed to the lower side of the film forming chamber 1, and is movable in the X and Y directions parallel to the mask surface with respect to the lower fixed base 9.
  • Lower side moving base 10 and one end on the mask surface The other end of the alignment frame in the film forming chamber 1 is supported by the lower moving base portion 10 so as to be rotatable in the ⁇ direction, and the other end is provided in the lower through hole 11 provided in the lower portion of the film forming chamber 1. 4 and a lower-side drive body 12 connected to the lower part of the X-direction drive mechanism.
  • the X-direction drive apparatus or the Y-direction drive apparatus Both the X-direction drive device and the Y-direction drive device are provided so that the upper-side moving base portion 6 and the lower-side moving base portion 10 are made to X with respect to the upper-side fixed base portion 5 and the lower-side fixed base portion 9.
  • the alignment frame 4 can be adjusted and moved in the X, Y, and ⁇ directions via the upper side connecting body 8 and the lower side connecting body 12 by moving in the direction and the Y direction.
  • Connecting body 8 and the lower part The connecting portion of the connecting body 12 to the alignment frame 4 is provided in the film forming chamber 1 via bellows 34 and 35 that seal the upper through hole 7 and the lower through hole 11 in an airtight state, respectively.
  • 20. The film forming apparatus according to claim 19, wherein the film forming apparatus is characterized in that:
  • the alignment driving mechanism includes an upper fixed base 5 provided outside the film forming chamber 1 and fixed to the upper side of the film forming chamber 1, and a mask surface with respect to the upper fixed base 5.
  • An upper side moving base portion 6 movable in the X direction and the Y direction parallel to each other, and one end supported by the upper side moving base portion 6 so as to be rotatable in the ⁇ direction, which is a rotation direction on the mask surface, and the other end
  • An upper drive mechanism comprising an upper connecting body 8 connected to the upper portion of the alignment frame 4 in the film forming chamber 1 through an upper through-hole 7 provided in the upper portion of the film forming chamber 1, and the film forming chamber 1 and is fixed to the lower side of the film forming chamber 1, and is movable in the X and Y directions parallel to the mask surface with respect to the lower fixed base 9.
  • Lower side moving base 10 and one end on the mask surface The other end of the alignment frame in the film forming chamber 1 is supported by the lower moving base portion 10 so as to be rotatable in the ⁇ direction, and the other end is provided in the lower through hole 11 provided in the lower portion of the film forming chamber 1. 4 and a lower-side drive body 12 connected to the lower part of the X-direction drive mechanism.
  • the X-direction drive apparatus or the Y-direction drive apparatus Both the X-direction drive device and the Y-direction drive device are provided so that the upper-side moving base portion 6 and the lower-side moving base portion 10 are made to X with respect to the upper-side fixed base portion 5 and the lower-side fixed base portion 9.
  • the alignment frame 4 can be adjusted and moved in the X, Y, and ⁇ directions via the upper side connecting body 8 and the lower side connecting body 12 by moving in the direction and the Y direction.
  • Connecting body 8 and the lower part The connecting portion of the connecting body 12 to the alignment frame 4 is provided in the film forming chamber 1 via bellows 34 and 35 that seal the upper through hole 7 and the lower through hole 11 in an airtight state, respectively.
  • the Y-direction drive device provided in the lower-side drive mechanism that moves the lower-side movement base portion 10 in the Y-direction that is the vertical direction parallel to the mask surface includes the lower-side movement base portions 10. 24.
  • the Y-direction drive device provided in the lower-side drive mechanism that moves the lower-side movement base portion 10 in the Y-direction that is the vertical direction parallel to the mask surface includes the lower-side movement base portions 10. 23.
  • the Y-direction drive device provided in the lower-side drive mechanism that moves the lower-side movement base portion 10 in the Y-direction that is the vertical direction parallel to the mask surface includes the lower-side movement base portions 10. 24.
  • the Y-direction drive device provided in the upper-side drive mechanism that moves the upper-side movement base portion 6 in the Y direction, which is the vertical direction parallel to the mask surface, includes the upper-side movement base portions 6. 22.
  • the Y-direction drive device provided in the upper-side drive mechanism that moves the upper-side movement base portion 6 in the Y direction, which is the vertical direction parallel to the mask surface, includes the upper-side movement base portions 6. 23.
  • the Y-direction drive device provided in the upper-side drive mechanism that moves the upper-side movement base portion 6 in the Y direction, which is the vertical direction parallel to the mask surface, includes the upper-side movement base portions 6. 24.
  • the upper-side moving base portion 6 is connected to the upper-side fixed base portion 5 via a linear motion guide portion that guides the upper-side moving base portion 6 in the X direction and the Y direction with respect to the upper-side fixed base portion 5.
  • the upper-side connecting body 8 is connected to each upper-side moving base portion 6 via a rotation guide portion that guides the upper-side connecting body 8 in the ⁇ direction with respect to each upper-side moving base portion 6.
  • the lower-side moving base portion 10 is connected to the lower-side fixed base portion via a linear motion guide portion that guides the lower-side moving base portion 10 in the X and Y directions with respect to the lower-side fixed base portion 9.
  • the upper-side moving base portion 6 is connected to the upper-side fixed base portion 5 via a linear motion guide portion that guides the upper-side moving base portion 6 in the X direction and the Y direction with respect to the upper-side fixed base portion 5.
  • the upper-side connecting body 8 is connected to each upper-side moving base portion 6 via a rotation guide portion that guides the upper-side connecting body 8 in the ⁇ direction with respect to each upper-side moving base portion 6.
  • the lower-side moving base portion 10 is connected to the lower-side fixed base portion via a linear motion guide portion that guides the lower-side moving base portion 10 in the X and Y directions with respect to the lower-side fixed base portion 9.
  • the upper-side moving base portion 6 is connected to the upper-side fixed base portion 5 via a linear motion guide portion that guides the upper-side moving base portion 6 in the X direction and the Y direction with respect to the upper-side fixed base portion 5.
  • the upper-side connecting body 8 is connected to each upper-side moving base portion 6 via a rotation guide portion that guides the upper-side connecting body 8 in the ⁇ direction with respect to each upper-side moving base portion 6.
  • the lower-side moving base portion 10 is connected to the lower-side fixed base portion via a linear motion guide portion that guides the lower-side moving base portion 10 in the X and Y directions with respect to the lower-side fixed base portion 9.
  • the upper-side moving base portion 6 is connected to the upper-side fixed base portion 5 via a linear motion guide portion that guides the upper-side moving base portion 6 in the X direction and the Y direction with respect to the upper-side fixed base portion 5.
  • the upper-side connecting body 8 is connected to each upper-side moving base portion 6 via a rotation guide portion that guides the upper-side connecting body 8 in the ⁇ direction with respect to each upper-side moving base portion 6.
  • the lower-side moving base portion 10 is connected to the lower-side fixed base portion via a linear motion guide portion that guides the lower-side moving base portion 10 in the X and Y directions with respect to the lower-side fixed base portion 9.
  • the upper-side moving base portion 6 is connected to the upper-side fixed base portion 5 via a linear motion guide portion that guides the upper-side moving base portion 6 in the X direction and the Y direction with respect to the upper-side fixed base portion 5.
  • the upper-side connecting body 8 is connected to each upper-side moving base portion 6 via a rotation guide portion that guides the upper-side connecting body 8 in the ⁇ direction with respect to each upper-side moving base portion 6.
  • the lower-side moving base portion 10 is connected to the lower-side fixed base portion via a linear motion guide portion that guides the lower-side moving base portion 10 in the X and Y directions with respect to the lower-side fixed base portion 9.
  • the upper-side moving base portion 6 is connected to the upper-side fixed base portion 5 via a linear motion guide portion that guides the upper-side moving base portion 6 in the X direction and the Y direction with respect to the upper-side fixed base portion 5.
  • the upper-side connecting body 8 is connected to each upper-side moving base portion 6 via a rotation guide portion that guides the upper-side connecting body 8 in the ⁇ direction with respect to each upper-side moving base portion 6.
  • the lower-side moving base portion 10 is connected to the lower-side fixed base portion via a linear motion guide portion that guides the lower-side moving base portion 10 in the X and Y directions with respect to the lower-side fixed base portion 9.
  • the upper-side moving base portion 6 is connected to the upper-side fixed base portion 5 via a linear motion guide portion that guides the upper-side moving base portion 6 in the X direction and the Y direction with respect to the upper-side fixed base portion 5.
  • the upper-side connecting body 8 is connected to each upper-side moving base portion 6 via a rotation guide portion that guides the upper-side connecting body 8 in the ⁇ direction with respect to each upper-side moving base portion 6.
  • the lower-side moving base portion 10 is connected to the lower-side fixed base portion via a linear motion guide portion that guides the lower-side moving base portion 10 in the X and Y directions with respect to the lower-side fixed base portion 9.
  • the upper-side moving base portion 6 is connected to the upper-side fixed base portion 5 via a linear motion guide portion that guides the upper-side moving base portion 6 in the X direction and the Y direction with respect to the upper-side fixed base portion 5.
  • the upper-side connecting body 8 is connected to each upper-side moving base portion 6 via a rotation guide portion that guides the upper-side connecting body 8 in the ⁇ direction with respect to each upper-side moving base portion 6.
  • the lower-side moving base portion 10 is connected to the lower-side fixed base portion via a linear motion guide portion that guides the lower-side moving base portion 10 in the X and Y directions with respect to the lower-side fixed base portion 9.
  • the upper-side moving base portion 6 is connected to the upper-side fixed base portion 5 via a linear motion guide portion that guides the upper-side moving base portion 6 in the X direction and the Y direction with respect to the upper-side fixed base portion 5.
  • the upper-side connecting body 8 is connected to each upper-side moving base portion 6 via a rotation guide portion that guides the upper-side connecting body 8 in the ⁇ direction with respect to each upper-side moving base portion 6.
  • the lower-side moving base portion 10 is connected to the lower-side fixed base portion via a linear motion guide portion that guides the lower-side moving base portion 10 in the X and Y directions with respect to the lower-side fixed base portion 9.
  • the present invention is configured as described above, the effect of deformation of the chamber is reduced as much as possible while realizing space saving, the alignment accuracy can be ensured, and the use efficiency of the material can be improved.
  • the film forming apparatus is extremely practical and compatible with large substrates of the fourth generation or higher.
  • the mask 3 and the substrate 2 held in an upright state by the mask transport mechanism and the substrate transport mechanism are transported to a predetermined film formation position in a film formation chamber 1 (chamber) composed of a vacuum chamber, and the mask is used by using an alignment driving mechanism. 3 and the substrate 2 are aligned, and a film forming material from the evaporation source 100 is attached to the substrate 2 through the mask 3 to form a film.
  • the substrate transport mechanism and the substrate transport mechanism can transport the substrate 2 and the mask 3 to a plurality of film deposition positions facing the evaporation source 100 in an upright state. While the film is formed by the evaporation source 100, the substrate 2 and the mask 3 transferred to the other film forming positions can be aligned.
  • the evaporation source is immediately obtained after film formation at the one film forming position is completed.
  • 100 can be moved to start film formation at another film formation position, and the time during which the film formation material is unnecessarily taken out from the evaporation source 100 can be shortened as much as possible.
  • the present invention it is possible to suppress the increase in the installation space of the apparatus by transporting the substrate 2 in an upright state, and to reduce the deflection of the substrate due to gravity. It can be used.
  • a deformation absorption mechanism that absorbs deformation of the film forming chamber 1 is provided between the evaporation source guide mechanism and the inner wall surface of the film forming chamber 1, evaporation due to deformation of the film forming chamber 1.
  • the influence on the source guide mechanism can be reduced as much as possible, and the lifetime of the evaporation source guide mechanism inside the chamber can be extended without increasing the chamber strength.
  • an evaporation source cooling mechanism that prevents heat radiation from the evaporation source 100 to the substrate 2
  • a mask cooling mechanism that cools the mask 3 on the evaporation source 100 side of the mask 3
  • the mask 3 of the substrate 2 By providing a substrate cooling mechanism for cooling the substrate 2 on the back side opposite to the surface on which the substrate is provided, the distance between the substrate 2 and the mask 3 and the evaporation source 100 is reduced in order to reduce the film forming material scattered outside the substrate.
  • the evaporation source cooling mechanism, the mask cooling mechanism and the substrate cooling mechanism which will be described later, can suppress the deformation of the mask 3 due to heat from the evaporation source 100, and the film forming material while suppressing the pattern deviation due to heat. It is possible to increase the use efficiency of the.
  • the alignment drive mechanism according to any one of claims 18 to 29 is employed, the alignment of the substrate 2 and the mask 3 conveyed in an upright state in the film forming chamber is performed by the upper side moving base unit 6 or the lower side.
  • the side moving base portion 10 is moved with respect to the upper and lower fixed base portions 5 and 9, respectively, and the alignment frame 4 is interposed via the upper side connecting body 8 or the lower side connecting body 12 provided on each of the moving base portions 6 and 10.
  • the mask 3 attached so as to move integrally with the alignment frame 4 is adjusted and moved in the X, Y, and ⁇ directions with respect to the substrate 2, the upper part is arranged outside or above the film forming chamber.
  • the upper side moving base part 6 or the lower side moving base part 10 is driven with respect to the upper side fixed base part 5 or the lower side fixed base part 9 of the side drive mechanism or the lower side drive mechanism. Since the mask 3 and the substrate 2 are aligned by being moved using a driving device, the alignment driving mechanism is not projected in the direction perpendicular to the transport direction and the horizontal direction as in the prior art. It becomes possible to arrange compactly above or below or both, and the installation space on the planar layout can be made as small as possible.
  • each fixed base part 5 and 9 is provided in the chamber as a rigid body, sufficient alignment accuracy can be ensured. Further, the central space can be enlarged, and installation of a substrate cooling mechanism, a mask cooling mechanism, a mask suction mechanism, or the like is facilitated accordingly. Further, the holding moment of the mask 3 is reduced, the influence on the alignment accuracy can be reduced, and the increase in the substrate size can be dealt with. Accordingly, the drive mechanism can be made as compact as possible, and the distance between the drive mechanism and the connecting portion between each of the connecting bodies 8 and 12 can be shortened, so that precise alignment adjustment movement is possible.
  • a driving device for moving the upper and lower moving base units 6 and 10 can be divided and provided in the upper part and the lower part of the film forming chamber 1, for example, a pair (2) provided at predetermined intervals.
  • the ball screw device (one axis) for moving the lower side moving base portion 10 in the X direction relative to the lower side fixed base portion 9 and the ball screw device for moving in the Y direction (two axes in total for each moving base portion) ) May be provided on the lower side
  • a ball screw mechanism (one axis) for moving the upper side moving base portion 6 in the X direction with respect to the upper side fixed base portion 5 may be provided on the upper side (each upper side movement). Since the base portion 6 and the lower side moving base portion 10 are connected by the upper side connecting body 8 and the lower side connecting body 12, they move in conjunction with each other).
  • the alignment frame 4 can be adjusted and moved freely in the X, Y, and ⁇ directions, and the upper driving device can be reduced.
  • an alignment driving mechanism can be provided in the film forming chamber more stably.
  • the Y-direction drive device provided in the lower-side drive mechanism that moves the lower-side movement base portion 10 in the Y-direction, which is the vertical direction parallel to the mask surface, is provided for each lower-side movement base portion 10 independently.
  • Each upper moving base portion 6 is configured to be independently movable, and the lower side driving mechanism is not provided with the Y-direction driving device, so that the deformation of the film forming chamber 1 can be absorbed. Therefore, the influence on the alignment driving mechanism due to the deformation of the film forming chamber 1 can be reduced as much as possible.
  • the connecting portions of the connecting bodies 8 and 12 to the alignment frame 4 are arranged in the film forming chamber 1 (vacuum side), and all the frictional contact portions of the alignment driving mechanism are outside the film forming chamber 1. Since it is provided on the (atmosphere side), the inside of the film forming chamber 1 can be maintained in a clean atmosphere as much, and the thin film to be formed can be of higher quality.
  • a substrate transport mechanism for transporting the substrate 2 and the mask 3 in a vertically upright state standing vertically with respect to the horizontal direction (vertical transport) and a film forming apparatus (vacuum deposition apparatus) provided with the mask transport mechanism.
  • the present invention is applied to a film formation chamber.
  • the present embodiment is a film forming apparatus including a film forming chamber 1 for forming a film by attaching a film forming material to a substrate 2 held in an upright state via a mask 3.
  • a film forming chamber 1 for forming a film by attaching a film forming material to a substrate 2 held in an upright state via a mask 3.
  • the alignment frame 4 with the mask 3 attached in an upright state is adjusted and moved with respect to the substrate 2, so that the mask 3 and the substrate 2 are in an appropriate position with respect to the substrate 2.
  • the alignment drive mechanism of the present embodiment is provided outside the film forming chamber 1 and fixed to the upper side of the film forming chamber 1.
  • the upper-side moving base portion 6 is movable in the X and Y directions parallel to the mask surface, and one end is supported by the upper-side moving base portion 6 so as to be rotatable in the ⁇ direction, which is the rotation direction on the mask surface.
  • An upper-side drive mechanism comprising an upper-side connecting body 8 whose other end is connected to the upper portion of the alignment frame 4 in the film-forming chamber 1 through an upper through-hole 7 provided in the upper portion of the film-forming chamber 1;
  • a lower-side fixed base portion 9 provided outside the film-forming chamber 1 and fixed to the lower side of the film-forming chamber 1, and an X-direction and a Y-direction parallel to the mask surface with respect to the lower-side fixed base portion 9
  • a movable lower side moving base 10 and one end of the mask The other end of the film forming chamber 1 is supported by the lower moving base 10 so as to be rotatable in the ⁇ direction, which is the rotation direction on the surface, and the other end is provided through the lower through hole 11 provided in the lower portion of the film forming chamber 1.
  • the lower side drive mechanism which consists of the lower side connection body 12 connected with the lower part of the alignment frame 4 is comprised,
  • the connection part with the said alignment frame 4 of the said upper side connection body 8 and the said lower side connection body 12 is said upper part.
  • the through-hole 7 and the lower through-hole 11 are provided in the film forming chamber 1 through bellows 34 and 35 for sealing in an airtight state, respectively.
  • the film formation chamber 1 (chamber) is connected to the load lock chamber 101 for loading and unloading the substrate 2 and the mask 3 through a gate valve 102 so as to maintain an airtight state. .
  • the film forming chamber 1 and the load lock chamber 101 are respectively provided with vacuum pumps 103 (for example, cryopumps) as pressure reducing mechanisms (the load lock chamber 101 side is not shown).
  • vacuum pumps 103 for example, cryopumps
  • reference numeral 108 in the figure is a gate valve between the load lock chamber 101 and the atmosphere side.
  • an evaporation source 100 facing the film forming surface of the substrate 2 is provided.
  • the evaporation source 100 includes a heating crucible 104 for heating and vaporizing the stored (filled) film forming material, and a film forming material reservoir for filling the vaporized film forming material.
  • the nozzles 107 of each spraying mechanism are provided in a large number of lines in a substantially straight line so that the film forming material can be sprayed evenly over the entire height direction of the substrate 2 in the substrate height direction (vertical direction).
  • the deposition material can be sprayed over the entire surface of the substrate by moving the evaporation source 100 provided with at least one spraying mechanism for the host material and one for the dopant material in parallel with the substrate transport direction.
  • a total of three spraying mechanisms including a second host or dopant material spraying mechanism are provided so that either a host material spraying mechanism or a dopant material spraying mechanism can be provided. ing. Therefore, in this embodiment, the host material and the dopant material can be sprayed onto the substrate 2 from each of the maximum three nozzle rows.
  • the evaporation source 100 is provided with an evaporation source cooling mechanism for cooling at least a front portion of the evaporation source 100 facing the substrate 2.
  • This evaporation source cooling mechanism is composed of a metal plate body 113 in which the nozzle hole portion of each nozzle that is appropriately cooled by a coolant such as water is opened.
  • the evaporation source 100 having three nozzle rows can move in parallel with the substrate transport direction so that the film forming material can be sprayed onto the substrate at each film forming position (for example, positions ⁇ and ⁇ in FIG. 1). It is configured.
  • the film forming chamber 1 is provided with an evaporation source guide mechanism 121 for moving the evaporation source 100 in a reciprocating manner along the transport direction of the substrate 2 and the mask 3.
  • the evaporation source guide mechanism 121 is configured to move the evaporation source 100 through an atmosphere chamber 111 and a support member 112 that form an atmosphere region isolated from the vacuum region of the film forming chamber 1.
  • Reference numeral 106 in the figure forms an atmospheric region that is isolated from the vacuum region of the film forming chamber 1, and has a tip portion communicating with the air chamber 111 and a base end portion outside the film forming chamber 1. It is an atmospheric arm having a joint portion set in an introduction portion 125 for introducing a power source of a motor for driving a pinion, which will be described later.
  • the evaporation source guide mechanism 121 includes a rack 122, a pinion 123 (gear), a pinion driving motor, a rail 114, and an LM guide made up of a block 115, each extending in parallel with the transport direction.
  • the rack 122 of the evaporation source guide mechanism 121 is provided on the side of the rail 114, and the rail 114 is deformed to absorb the deformation of the film forming chamber 1 on the inner wall surface (upper surface and lower surface) of the film forming chamber 1.
  • An absorption mechanism 116 is provided.
  • two rails 114 are provided side by side, and the blocks 115 are provided correspondingly to each other (the rack 122 is provided on the side of one rail 114).
  • the blocks 115 are respectively provided on the upper and lower surfaces of the atmospheric chamber 111 via the block mounting portion 127.
  • the motor for driving the pinion is provided in the atmospheric chamber 111, and is configured to rotate the synchronous shaft 124 provided in the atmospheric chamber 111 and provided with the pinion 123 at the upper and lower ends, respectively. Etc. are connected.
  • the deformation absorbing mechanism 116 is fixedly provided on the upper and lower wall surfaces of the film forming chamber 1 and is inserted into the insertion hole of the fixing portion 128, and is relatively movable in the vertical direction (vertical direction).
  • reference numeral 130 denotes an O-ring for maintaining airtightness
  • 131 is a guide bush for absorbing displacement
  • 132 is a gap between the opposing surfaces of the fixing portion 128 and the insertion portion 129 that widen and narrow according to deformation of the film forming chamber 1. Therefore, even if the film forming chamber 1 is deformed, the deformation is absorbed by the gap 132 between the fixed portion 128 and the insertion portion 129, and the LM guide is not affected.
  • two fixing portions 128 and two insertion portions 129 are provided, and the attachment portion 126 is provided between the insertion portions 129 so as to better absorb the deformation of the upper and lower wall surfaces of the film forming chamber 1. It is configured to be able to.
  • the introduction portion 125 of the atmospheric arm 106 is inserted and disposed in the insertion hole portion 133 provided in the side wall of the film forming chamber 1 so as to be relatively movable in the left-right direction (horizontal direction).
  • a peripheral member 135 provided at the opening end of the insertion hole 133 is disposed in the small-diameter portion 134 provided in the outer peripheral portion of the portion 125, and the formation length of the small-diameter portion 134 is longer than the thickness of the peripheral member 135.
  • reference numeral 136 denotes an airtight holding O-ring
  • 137 denotes a displacement absorbing guide bush.
  • a shutter 117 that partitions the substrate 2 (each film formation position) and the evaporation source 100 is provided between the substrate 2 and each evaporation source 100.
  • a crystal monitor 110 is used as a film thickness meter. Specifically, a multipoint crystal monitor 110 equipped with a chopper is employed so that the crystal replacement period can be extended as much as possible.
  • the crucible exchanging mechanism for exchanging the material-used crucible 104 with the material-filled crucible 104 is provided in the film forming chamber 1.
  • a spare evaporation source 109 is provided in the film forming chamber 1 (in this embodiment, provided in two places), the evaporation source 100 is configured to be exchangeable with the spare evaporation source 109, and the crucible is replaced.
  • the mechanism transports the crucible 104 (the material used) of the evaporation source 109 which becomes the next preliminary by this exchange to the material filling chamber 118 connected to the film forming chamber 1, and the film forming material in the material filling chamber 118 Is attached to the evaporation source 109 at the standby position of the film forming chamber 1.
  • reference numeral 119 denotes a gate valve between the film forming chamber 1 and the material filling chamber 118
  • 120 denotes a gate valve between the material filling chamber 118 and the atmosphere side.
  • the multi-point crystal monitor 110 and the crucible exchange mechanism extend the interval for opening the chamber for crystal exchange and material supply, thereby shortening the stop time of the apparatus and improving the operation efficiency.
  • the glass substrate 2 is attached to the substrate tray 41, the mask 3 is attached to a frame-like mask frame (not shown), and the mask frame is frame-shaped. (When the substrate size is 5th generation or 5.5th generation).
  • a cooling plate as a mask cooling mechanism for cooling the mask tray 42 is provided on the surface of the frame-shaped mask tray 42 on the evaporation source 100 side.
  • a mask with the mask 3 attached to the mask frame may be employed depending on the substrate size (for example, in the case of the sixth generation).
  • an upper guide body 43 having a substantially U-shaped cross section is provided on the upper portion of the mask tray.
  • a round bar-shaped lower guide body 45 is provided below the mask tray 42.
  • the mask 3 is conveyed by the lower guide body 45 while being guided by a conveyance roller 46 (V roller) provided on the inner lower surface side of the vacuum chamber (load lock chamber 101 and film formation chamber 1). Specifically, the transport roller 46 is erected on the bottom surface of the film forming chamber 1. An insertion hole 39 is provided in the bottom surface of the lower guide body 45, and the mask 3 can be fixed at the time of alignment by inserting a positioning pin 38 to be described later.
  • V roller conveyance roller 46
  • An insertion hole 39 is provided in the bottom surface of the lower guide body 45, and the mask 3 can be fixed at the time of alignment by inserting a positioning pin 38 to be described later.
  • the substrate tray 41 is provided with an upper guide body 48 that is substantially U-shaped in cross-section, with which the guide roller 47 abuts, and a lower guide body 50 that is transported while being guided by the transport roller 49 (V roller). Yes.
  • the bottom surface of the upper guide body 48 and the bottom surface of the lower guide body 50 are provided with insertion holes into which the substrate tray lock pins are inserted.
  • a mask transport mechanism is configured by the guide rollers 40 and 44 and the transport roller 46 that are linearly arranged in the load lock chamber 101 and the film forming chamber 1, and the substrate transport mechanism is configured by the guide roller 47 and the transport roller 49. Composed.
  • a cooling plate and a mask 3 (made of a magnetic material such as Invar) as a substrate cooling mechanism for cooling the substrate tray 41 are provided on the opposite side (back surface) of the substrate tray 41 to which the substrate 2 is clamped and fixed.
  • a recess is provided for providing a plate body 51 having a magnet plate that closely contacts the substrate 2.
  • alignment marks are respectively provided on the front side corners of the substrate 2 and the back side corners of the mask 3 (a pair of corners at diagonal positions).
  • This alignment mark is configured to be visible by an alignment camera 54 comprising a CCD camera, a lens and illumination through alignment mark visualizing holes 52 and 53 provided in the substrate tray 41 and the plate 51.
  • the alignment is performed by controlling the alignment drive mechanism based on the image from the alignment camera 54.
  • the alignment camera 54 is specifically provided outside the film forming chamber 1 through a glass plate 138 as shown in FIG.
  • reference numeral 139 denotes an airtight O-ring.
  • the alignment drive mechanism will be described in detail.
  • the upper-side moving base portion 6 is connected to the upper-side fixed base portion 5 via a linear motion guide portion that guides the upper-side moving base portion 6 in the X and Y directions with respect to the upper-side fixed base portion 5.
  • the upper-side connecting body 8 is connected to each upper-side moving base portion 6 via a rotation guide portion that guides the upper-side connecting body in the ⁇ direction with respect to each upper-side moving base portion 6.
  • the lower-side moving base portion 10 is connected to the lower-side fixed base portion 5 via a linear motion guide portion that guides the lower-side moving base portion 10 in the X and Y directions with respect to the lower-side fixed base portion 9.
  • the lower-side connecting body 12 is connected to the lower-side moving base portions 10 via a rotation guide portion that guides the lower-side connecting body 12 in the ⁇ direction with respect to the lower-side moving base portions 10. ing.
  • the upper fixed base portion 5 is provided in a fixed state outside the upper wall surface of the film forming chamber 1.
  • a guide block 16 having a U-shaped cross section in a rail 15 extending in the X direction (left and right direction) on the mounting surface parallel to the mask surface of the upper side fixed base portion 5.
  • a plate-like upper side X-direction moving base 14 is provided via two LM guides formed by fitting the upper side X-direction moving base 14 on the mounting surface parallel to the mask surface of the upper side X-direction.
  • a plate-like upper side Y-direction moving base 17 is provided via two LM guides formed by fitting a guide block 19 to a rail 18 extending to the upper side moving base portion 6.
  • the surface facing the mounting surface of the upper side fixed base portion 5 of the upper side X-direction moving base 14 is set to a surface parallel to the mask surface, and the mounting flat surface of the guide block 16 is mounted and fixed on this surface. Further, the surface of the upper side Y-direction moving base 17 facing the mounting surface of the upper side X-direction moving base 14 is set to a surface parallel to the mask surface, and the mounting flat surface of the guide block 19 is attached and fixed to this surface.
  • the lower side fixed base portion 9 is provided in a fixed state outside the lower wall surface of the film forming chamber 1.
  • a movable base 20 is provided, and two LM guides are formed by fitting a guide block 25 to a rail 24 extending in the X direction on a mounting surface parallel to the mask surface of the lower Y-direction movable base 20.
  • a plate-like lower side X-direction moving base 23 is provided to constitute the lower side moving base portion 10.
  • the surface facing the mounting surface of the lower side fixed base portion 9 of the lower side Y-direction moving base 20 is set to a surface parallel to the mask surface, and the mounting flat surface of the guide block 22 is fixedly mounted on this surface. Further, the lower surface of the lower X direction moving base 23 and the mounting surface of the lower Y direction moving base 20 facing the mounting surface are set parallel to the mask surface, and the mounting flat surface of the guide block 25 is fixedly mounted on this surface.
  • the vertical arrangement relationship between the X-direction movement base and the Y-direction movement base is reversed by the upper and lower drive mechanisms in consideration of balance, but they may be matched.
  • the upper side moving base part 6 and the lower side moving base part 10 are provided in pairs (two each) on the left and right sides.
  • each upper side moving base portion 6 On the mounting surface parallel to the mask surface of each upper side moving base portion 6, a cross-sectional bearing L-shaped plate member of the upper side connecting body 8 is provided via a cross roller bearing 13 provided so that the outer ring can turn with respect to the inner ring.
  • a vertical surface of one base portion 27 is provided, and the base portion 27 is provided on each upper moving base portion 6 in a erected state.
  • a cross-sectional view of the lower coupling body 12 is provided on the mounting surface parallel to the mask surface of each lower side moving base portion 10 via a cross roller bearing 26 provided so that the outer ring can turn with respect to the inner ring.
  • a vertical surface of one base portion 29 made of an L-shaped plate material is provided, and this base portion 29 is provided on each lower-side moving base portion 10 in an erected state.
  • the mask 3 is attached in an upright state to the left and right ends (positions corresponding to the cross roller bearings 13) of the horizontal plane orthogonal to the vertical surface of the base portion 27 of the upper side connecting body 8 provided on the upper side moving base portion 6, respectively.
  • a connecting cylinder 28 connected to the alignment frame 4 is erected.
  • each connecting cylinder 28 is introduced into the film forming chamber 1 through the upper through-hole 7 of the film forming chamber 1, and a guide roller 44 (in the mask positioning and fixing position) for guiding the mask conveyance is provided at the leading end.
  • a horizontal plate 30 provided and connected to the alignment frame 4 is connected in an erected state.
  • the guide roller 44 includes a roller body 70 that contacts the inner bottom surface of the upper guide body 43, a roller body 71 that contacts the inner surface, and the roller bodies 70 and 71 are rotatable.
  • the roller holder 72 is held, and a pair of slide bushes 73 that support the roller holder 72 so as to be movable toward and away from the surface of the horizontal plate 30.
  • the roller holder 72 is biased in a direction away from the horizontal plate 30 by a biasing mechanism such as a spring.
  • the horizontal plate 30 is provided with a positioning pin 36 having a fitting portion to be fitted into the fitting hole 37 of the mask 3 at the tip.
  • the positioning pin 36 is provided between the slide bushes 73 of the guide roller 44, and the tip thereof is provided so as to protrude from an insertion hole provided at the center of the roller holder 72 of the guide roller 44.
  • the insertion portion at the tip of the positioning pin 36 is normally configured not to protrude from the roller bodies 70 and 71.
  • the roller holding body 72 is pushed up against the urging force of the urging mechanism, the roller body It is configured so as to protrude (exposure) from 70 and 71 and be fitted into the fitting hole 37 of the upper guide body 43.
  • the mask 3 (mask tray 42) is pushed upward by a positioning pin 38, which will be described later, and the roller holder 72 is pushed up by the upper guide body 43 via the roller body 70, the fitting portion at the tip of the positioning pin 36 is exposed. Then, it is inserted into the insertion hole 37 of the upper guide body 43.
  • a metal bellows 34 (expandable tube) is provided so as to cover the connecting cylinder 28.
  • One end of the bellows 34 is disposed at the peripheral edge of the upper through hole 7, and the other end is disposed on the upper surface side of the horizontal plate 30, whereby the upper through hole 7 is sealed in an airtight state.
  • the lower side is provided with masks 3 at left and right end portions (positions corresponding to the cross roller bearings 26) of the horizontal plane orthogonal to the vertical surface of the base portion 29 of the lower side connecting body 12 provided on the lower side moving base portion 10, respectively.
  • a connecting cylinder 31 connected to the alignment frame 4 attached in an upright state is erected.
  • each connecting cylinder 31 is introduced into the film forming chamber 1 through the lower through hole 11 of the film forming chamber 1, and a horizontal plate 33 connected to the alignment frame 4 is connected to the leading end portion in a erected state. Is done.
  • the connecting cylinder 31 has a leading end that passes through the horizontal plate 33 (in a state where airtightness without gaps can be maintained) and protrudes upward, and is inserted into the connecting cylinder 31 from the leading end of the connecting cylinder 31.
  • a cylindrical body 60 that protrudes in a state that can maintain airtightness without a gap is provided, and a positioning pin 38 can be protruded and retracted from the tip by an appropriate protruding and retracting drive mechanism 61 such as an eccentric cam mechanism inside the cylindrical body 60. Is provided.
  • the protruding amount of the positioning pin 38 is pushed up so that at least the lower guide body 50 of the mask tray 42 is separated from the conveying roller 46 by being inserted into the insertion hole 39, and the roller body 70 is driven by the upper guide body 43 of the mask tray 42.
  • the roller holding body 72 is pushed up through the position so that the insertion portion at the tip of the positioning pin 36 can be exposed.
  • outer peripheral surface of the positioning pin 38 and the inner peripheral surface of the tip of the cylindrical body 60 are configured to be able to slide in and out while maintaining airtightness.
  • the positioning pin 38 protrudes from the tip of the cylindrical body 60 and is inserted into the insertion hole 39 of the mask 3, and the mask 3 (mask tray 42) is pushed up and the roller holding body 72 is pushed up by the upper guide body 43.
  • the mask 3 can be positioned and fixed with respect to the upper connection body 8 and the lower connection body 12 by inserting the exposed insertion portion of the exposed positioning pin 36 into the insertion hole 37, and the mask 3 is aligned with the alignment frame 4. Can be fixed together.
  • a metal bellows 35 is provided so as to cover the connecting cylinder 31.
  • One end of the bellows 35 is disposed on the peripheral edge of the lower through hole 11, and the other end is disposed on the lower surface side of the horizontal plate 33, whereby the lower through hole 11 is sealed in an airtight state.
  • the alignment frame 4 is connected to the horizontal plates 30 and 33, respectively. Therefore, the alignment frame 4 and the coupling bodies 8 and 12 move together. That is, the alignment frame 4 is moved in the X, Y, and ⁇ directions together with the coupling bodies 8 and 12 that move in the X, Y, and ⁇ directions under the influence of the movement of the left and right moving base portions 6 and 10. Moving.
  • the alignment frame 4 is provided with a cooling mechanism for cooling the mask.
  • the upper side drive mechanism and the lower side drive mechanism are each provided with an X-direction drive device and / or a Y-direction drive device, and the X-direction drive device and the Y-direction drive device provide the upper part.
  • the upper side connecting body 8 and the lower side moving base portion 10 are moved.
  • the alignment frame 4 can be adjusted and moved in the X, Y, and ⁇ directions via the side coupling body 12.
  • the Y-direction drive device provided in the lower-side drive mechanism that moves the lower-side movement base portion 10 in the Y-direction, which is the vertical direction parallel to the mask surface, is independent of each lower-side movement base portion 10.
  • the apparatus is configured such that each upper-side moving base portion 6 can be moved independently, and the lower-side driving mechanism is not provided with the Y-direction driving device.
  • the ball screw device includes a motor 55 that can rotate forward and backward, and a ball screw 56 (fixed portion) that is rotated by the motor 55, and an axial direction of the ball screw 56 that is engaged with the ball screw 56 and rotated by the ball screw 56. And a nut 57 (moving part) that moves to
  • a motor 55 and a ball screw 56 are provided at the left and right ends of the lower fixed base portion 9 (attachment surface), and the ball screw 56 extends in the Y direction.
  • the lower-side fixed base 20 of the lower-side Y-direction moving base 20 of the lower-side moving base 10 provided at the left and right ends of the lower-side fixed base 9 is fixed between the two rails 21 in parallel.
  • a nut 57 that is screwed with the ball screw 56 is attached to the surface facing the base portion 9, and is driven in the Y direction.
  • a motor 55 and a ball screw 56 are placed on the lower side Y-direction moving base 20 of the lower side moving base portion 10 provided at the right end, and the ball screw 56 extends between the rails 24 extending in the X direction.
  • a nut 57 that is screwed with the ball screw 56 is attached to the surface of the lower side X-direction moving base 23 that faces the lower side Y-direction moving base 20 and is driven in the X direction. It is configured as follows.
  • a motor 55 and a ball screw 56 are provided at one end (right end) of the upper side fixed base portion 5 (attachment surface thereof), and the rail is provided between the rails 15 where the ball screw 56 extends in the X direction.
  • 15 is fixed to be parallel to the upper side fixed base portion 5, and the upper side moving base portion 6 provided at the right end of the upper side fixed base portion 5 is opposed to the upper side fixed base portion 5 of the upper side X-direction moving base 14.
  • a nut 57 to be screwed with the ball screw 56 is attached and configured to be driven in the X direction.
  • the upper side connecting body 8 and the lower side connecting body 12 and the alignment frame 4 move together, the above four ball screw devices (hereinafter, the lower side X direction driving device is referred to as A, lower left side Y direction).
  • the lower side X direction driving device is referred to as A, lower left side Y direction.
  • the lower side X-direction moving base 23 is sent leftward by A
  • the upper side X-direction moving base 14 is sent rightward by D
  • the lower side Y-direction moving base left is sent by B.
  • the alignment frame 4 (mask 3) can also be rotated via the cross roller bearing by feeding 20 upward and feeding the lower Y side moving base 20 on the right side downward by C.
  • the mask 3 can be precisely aligned with the substrate 2 based on the alignment mark.
  • the mass is canceled by supplying air pressure corresponding to the load, and the Y-axis drive load A balancer cylinder 62 for reducing the above is provided.
  • the connecting portion with the lower drive mechanism is connected via an LM guide 63 so as not to limit the alignment operation.
  • the lock mechanism of the substrate 2 and the reciprocating mechanism with respect to the mask 3 are configured as follows.
  • the locking mechanism of the substrate 2 includes an eccentric cam 32 for raising the substrate 2 (substrate tray 41), and a bottom surface of the lower guide body 50 of the substrate tray 41 raised by the eccentric cam 32.
  • a substrate tray lock pin (moves back and forth with respect to the mask 3 together with the eccentric cam 32) to be inserted into the insertion hole, and a guide roller to be inserted into a V-shaped groove provided on the bottom surface of the upper guide body 48 when the substrate tray 41 is raised. It consists of 47 tapered roller bodies.
  • the reciprocating mechanism with respect to the mask 3 includes a support 66 that supports the eccentric cam 32, a support 69 that supports the guide roller 47, and these supports 66 and 69.
  • the LM guide 67 is slidably supported with respect to the film chamber 1 in a direction perpendicular to the surface direction of the mask 3 and the horizontal direction, and a slide moving mechanism 75 is slidably moved between the supports 66 and 69.
  • the slide moving mechanism 75 includes a servo motor and a ball screw unit driven by the servo motor, and a moving base 78 that moves in the direction perpendicular to the surface direction of the mask 3 along the LM guide 76 by the ball screw unit. And a connecting portion 74 that connects the moving base 78 and the supports 66 and 69.
  • reference numeral 64 is a rotating shaft for rotating the eccentric cam 32
  • 65 is a drive motor for driving the rotating shaft 64
  • 68 is a reciprocating mechanism for preventing excessive adhesion when the substrate 2 is pressed against the mask 3.
  • the spring 77 is a bellows.
  • the mask 3 and the substrate 2 are transferred to the film forming chamber 1 by a mask transfer mechanism and a substrate transfer mechanism (transfer roller and guide roller), respectively.
  • these transport rollers and guide rollers are arranged in parallel in two rows, one for mask transport and one for substrate transport, in a direction perpendicular to the transport direction and the horizontal direction. Of course, three or more rows may be juxtaposed.
  • the positioning pins 36 and 38 and the substrate tray lock pin are inserted into the insertion holes by a pre-alignment mechanism that mechanically temporarily positions the mask 3 and the substrate 2 transferred to the film forming chamber 1 with an arm or the like, respectively. Adjust and move to a position where it can be inserted into.
  • a pre-alignment mechanism that mechanically temporarily positions the mask 3 and the substrate 2 transferred to the film forming chamber 1 with an arm or the like, respectively. Adjust and move to a position where it can be inserted into.
  • two pre-alignment mechanisms and alignment drive mechanisms having the same configuration are provided in the direction parallel to the transport direction of the mask 3 or the substrate 2 so as to correspond to the film forming positions ⁇ and ⁇ . If three or more film positions are provided, the same number is provided.
  • the positioning pins 36 and 38 are inserted into the insertion holes 37 and 39 of the pre-aligned mask 3, and the mask 3 (mask tray 42) is fixed to the coupling bodies 8 and 12.
  • the substrate tray 41 is raised by the rotation of a part of the eccentric cam 32 of the transport roller, and the alignment position (the position where the alignment mark of the mask 3 and the substrate 2 overlaps to some extent).
  • the upper part of the substrate tray is fixed to the upper roller guide.
  • the substrate tray lock pin is inserted into the insertion hole at the lower part of the substrate tray and fixed to the film forming chamber 1. Then, it is slid to the mask side and moved to the measurement position.
  • the substrate 2 is moved to the measurement position, the position information of the alignment mark is acquired by the CCD camera, and the position correction amount of the mask tray 42 is calculated in the drive control device based on the acquired position information of the alignment mark.
  • the amount of movement of the alignment frame 4 and the mask 3 is calculated from the position correction amount, and each drive device is driven based on the calculated movement amount for alignment.
  • Part alignment of the mask 3 with respect to the substrate 2 is performed. The alignment is performed after the substrate 2 is slightly moved back from the measurement position (in a direction away from the mask).
  • the substrate 2 is moved to the deposition position by a reciprocating mechanism so as to be close to the mask 3 (FIG. 8), the substrate 2 and the mask 3 are brought into close contact, and a cooling plate and a magnet plate are placed in the concave portion of the substrate tray 41.
  • the position information of the alignment mark is obtained by the CCD camera, the drive control device determines whether the alignment is within the reference dimension, and the alignment mark is within the reference dimension. Then, the film formation is started as it is, and if it is not within the reference dimension, the position correction amount and the movement amount are calculated, and the alignment is repeatedly performed until it is within the reference dimension.
  • the substrate transfer path is opened, so that another substrate 2 is transferred through the back of the substrate 2 adjacent to the mask 3.
  • the guide roller 47 and the transport roller 49 are arranged side by side at an interval at which the substrate 2 is not cantilevered even if the eccentric cam 32 is removed from the substrate transport path).
  • the other substrate 2 can be transferred to the film formation position ⁇ side through the back of the substrate 2 at the film formation position ⁇ .
  • the other substrate 2 can be aligned at the film formation position ⁇ .
  • the alignment is performed by moving the mask 3 side, but it may be configured similarly so as to move the substrate 2 side.
  • the upper side drive mechanism and the lower side drive mechanism are provided above and below the film formation chamber 1, respectively, but the upper side drive provided with the X direction drive device and the Y direction drive device. Only a mechanism or a lower drive mechanism may be provided.
  • the mask 3 and the substrate 2 held in an upright state by the mask transport mechanism and the substrate transport mechanism, respectively, are subjected to predetermined film deposition in a film deposition chamber 1 (chamber) composed of a vacuum chamber.
  • a film deposition chamber 1 chamber
  • the alignment between the mask 3 and the substrate 2 is performed using the alignment drive mechanism, and the film forming material from the evaporation source 100 is attached to the substrate 2 through the mask 3,
  • the substrate 2 and the mask 3 transferred to the other film formation positions can be aligned while film formation is performed by the evaporation source 100.
  • the evaporation source is immediately obtained after film formation at the one film forming position is completed.
  • 100 can be moved to start film formation at another film formation position, and the time during which the film formation material is unnecessarily taken out from the evaporation source 100 can be shortened as much as possible.
  • a deformation absorbing mechanism that absorbs deformation of the film forming chamber 1 is provided between the evaporation source guide mechanism and the inner wall surface of the film forming chamber 1, The influence can be reduced as much as possible, and the lifetime of the evaporation source guide mechanism inside the chamber can be extended without increasing the chamber strength.
  • the alignment of the substrate 2 and the mask 3 conveyed in an upright state in the film forming chamber is performed with respect to the upper and lower fixed base portions 5 and 9 with respect to the upper and lower movable base portions 6 and 10, respectively.
  • the alignment frame 4 and the mask 3 attached so as to move integrally with the alignment frame 4 via the upper side connection body 8 and the lower side connection body 12 provided on the upper and lower movement base portions 6 and 10 are moved. Since it is performed by adjusting and moving in the X, Y, and ⁇ directions with respect to the substrate 2, the alignment drive mechanism can be moved up and down in the film forming chamber 1 without protruding in the direction perpendicular to the transport direction and the horizontal direction as in the prior art. It becomes possible to divide and arrange in a compact manner, and the installation space on the planar layout can be made as small as possible.
  • each fixed base part 5 and 9 is provided in the chamber as a rigid body, sufficient alignment accuracy can be ensured.
  • the central space can be enlarged, and installation of a mask cooling mechanism, a substrate suction mechanism, and the like is facilitated accordingly.
  • the holding moment of the mask 3 is reduced, the influence on the alignment accuracy can be reduced, and the increase in the substrate size can be dealt with. Therefore, the drive mechanism can be divided into upper and lower parts, and the distance between the drive mechanism and the connecting portion between the connecting bodies 8 and 12 can be shortened. Is possible.
  • a driving device for moving the upper and lower moving base units 6 and 10 can be divided and provided at the upper and lower portions of the film forming chamber 1, and a pair (two) provided at predetermined intervals.
  • a ball screw mechanism (one axis) that is provided on the lower side and moves the upper side moving base portion 6 in the X direction with respect to the upper side fixed base portion 5 is provided on the upper side, and the amount of movement of each moving base portion by each driving device
  • the alignment frame 4 can be adjusted and moved freely in the X, Y, and ⁇ directions, and the upper-side drive device is reduced, and the vacuum chamber is provided with an alignment drive mechanism more stably. It becomes possible.
  • the Y-direction drive device provided in the lower-side drive mechanism for moving the lower-side movement base portion 10 in the Y-direction, which is the vertical direction parallel to the mask surface, is provided for each lower-side movement base portion 10 independently. Since the upper drive mechanism is configured not to be provided with a Y-direction drive device, the deformation of the film forming chamber 1 can be absorbed. Therefore, an alignment drive mechanism (deformation of the film forming chamber 1) ( LM guide) can be reduced as much as possible.
  • connection parts of the respective connecting bodies 8 and 12 with the alignment frame 4 are arranged in the vacuum chamber (vacuum side), and all the frictional contact portions of the alignment drive mechanism are outside the vacuum chamber (atmosphere side). Therefore, the inside of the film forming chamber 1 can be kept in a clean atmosphere as much, and the thin film to be formed can be of higher quality.
  • the present embodiment achieves space saving while ensuring alignment accuracy, and is extremely practical in that it can be applied to a large substrate of the fourth generation or higher.

Abstract

　第４世代以上の大型基板にも対応可能な極めて実用性に秀れた成膜装置の提供。直立状態に保持された基板２にマスク３を介して成膜材料を付着せしめて成膜を行う成膜室１を備えた成膜装置であって、成膜室１に、マスク３が基板２に対して適正位置となるようにマスク３と基板２との位置合わせを行うアライメント駆動機構と、基板２若しくはマスク３の搬送方向に沿って移動可能な蒸発源100と、蒸発源100と対向する複数の成膜位置に基板２及びマスク３を夫々直立状態で搬送するマスク搬送機構及び基板搬送機構とを設け、一の成膜位置において蒸発源100により成膜を行いながら他の成膜位置においてアライメント駆動機構によりマスク３と基板２との位置合わせを行えるように構成する。

Description

成膜装置
　本発明は、成膜装置に関するものである。
　現在、有機ＥＬ表示パネルの製造装置における搬送方式は、基板サイズが例えば第４世代のハーフカットサイズ以下で、重力によるガラス基板のたわみが小さく問題にならないため、フェースダウンの水平搬送が主流となっている。
　ところで、将来、基板サイズが大きくなる（第４世代以上となる）のは明らかであり、基板を水平搬送する場合には、基板が大型化するとそれに伴い装置の設置スペースが増大する。
　また、基板サイズが大きくなってもアライメントの精度は変わらず、相対的な位置合わせの困難さが増加する。更に、水平搬送では基板のたわみにより、基板とマスクとの位置合わせに問題が生じることが懸念される。
　そこで、装置の設置スペースの増大を抑制するため、また、重力による基板のたわみを軽減するため、例えば特許文献１に開示されるように、基板を垂直状態（直立状態）で搬送する垂直搬送方式が提案されている。
　また、位置合わせのためのアライメントユニットが平面方向に張り出し、設置スペースを増大させる可能性がある。
　また、基板の大型化に伴いチャンバ（成膜室）も大型化し、これによりチャンバの変形が増大するため、チャンバの変形が内部のＬＭ（Linear Motion）ガイドに過負荷として働き、それだけＬＭガイドの寿命を短縮させる。また、変形を小さくするようにチャンバの強度を上げると重量が重くなり、それだけコスト及び運搬の問題が生じる。
　また、有機ＥＬの蒸着素材は非常に高価であるため、蒸着材料を無駄なく効率よく使用することが要望されている。即ち、通常の蒸着装置では、蒸着完了後、次の基板のセッティングが完了するまで蒸発源は蒸着材料を噴出し続けるため、その分が無駄となり、それだけ蒸着材料の使用効率が低下している。また、基板と蒸発源とを近づけると使用効率は向上するが、基板、マスクが温度上昇し蒸着パターンがずれる問題がある。
特開２００５－３４０４２５号公報
　本発明は、上述のような問題を解決すべくなされたもので、省スペースを実現しつつ、チャンバの変形の影響を可及的に軽減し、また、アライメント精度を確保可能で、材料の使用効率の向上も図れるなど、第４世代以上の大型基板にも対応可能な極めて実用性に秀れた成膜装置を提供するものである。
　添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。
　直立状態に保持された基板２にマスク３を介して成膜材料を付着せしめて成膜を行う成膜室１を備えた成膜装置であって、前記成膜室１に、前記マスク３が前記基板２に対して適正位置となるように前記マスク３と前記基板２との位置合わせを行うアライメント駆動機構と、前記基板２若しくは前記マスク３の搬送方向に沿って移動可能な前記基板２に前記成膜材料を付着せしめる蒸発源100と、前記蒸発源100と対向する複数の成膜位置に前記基板２及び前記マスク３を夫々直立状態で搬送するマスク搬送機構及び基板搬送機構とを設け、一の前記成膜位置において前記蒸発源100により成膜を行いながら他の前記成膜位置において前記アライメント駆動機構により前記マスク３と前記基板２との位置合わせを行えるように構成したことを特徴とする成膜装置に係るものである。
　また、直立状態に保持された基板２にマスク３を介して成膜材料を付着せしめて成膜を行う成膜室１を備えた成膜装置であって、前記成膜室１に、前記マスク３を直立状態に取り付けたアライメント枠４を前記基板２に対して調整移動して、前記マスク３が前記基板２に対して適正位置となるように前記マスク３と前記基板２との位置合わせを行うアライメント駆動機構と、前記基板２に前記成膜材料を付着せしめる蒸発源100と、この蒸発源100を前記基板２若しくは前記マスク３の搬送方向に沿って往復ガイド移動させる蒸発源ガイド機構と、前記蒸発源100と対向する複数の成膜位置に前記基板２及び前記マスク３を夫々直立状態で搬送するマスク搬送機構及び基板搬送機構とを設け、前記アライメント駆動機構を前記複数の成膜位置に夫々設けて、一の前記成膜位置において前記蒸発源100により成膜を行いながら他の前記成膜位置において前記アライメント駆動機構により前記マスク３と前記基板２との位置合わせを行えるように構成したことを特徴とする成膜装置に係るものである。
　また、前記蒸発源ガイド機構と前記成膜室１の内壁面との間に、成膜室１の変形を吸収する変形吸収機構を設けたことを特徴とする請求項２記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記蒸発源100からの前記基板２への放熱を防止する蒸発源冷却機構を備えたことを特徴とする請求項２記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記蒸発源100からの前記基板２への放熱を防止する蒸発源冷却機構を備えたことを特徴とする請求項３記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記マスク３の前記蒸発源100側にこのマスク３を冷却するマスク冷却機構を設けると共に、前記基板２のマスク３が設けられる表面とは反対側の裏面側にこの基板２を冷却する基板冷却機構を設けたことを特徴とする請求項２記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記マスク３の前記蒸発源100側にこのマスク３を冷却するマスク冷却機構を設けると共に、前記基板２のマスク３が設けられる表面とは反対側の裏面側にこの基板２を冷却する基板冷却機構を設けたことを特徴とする請求項３記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記マスク３の前記蒸発源100側にこのマスク３を冷却するマスク冷却機構を設けると共に、前記基板２のマスク３が設けられる表面とは反対側の裏面側にこの基板２を冷却する基板冷却機構を設けたことを特徴とする請求項４記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記マスク３の前記蒸発源100側にこのマスク３を冷却するマスク冷却機構を設けると共に、前記基板２のマスク３が設けられる表面とは反対側の裏面側にこの基板２を冷却する基板冷却機構を設けたことを特徴とする請求項５記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記成膜室１に前記蒸発源100の前記成膜材料が収納される坩堝104を交換する坩堝交換機構を設けたことを特徴とする請求項２記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記成膜室１に前記蒸発源100の前記成膜材料が収納される坩堝104を交換する坩堝交換機構を設けたことを特徴とする請求項３記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記成膜室１に前記蒸発源100の前記成膜材料が収納される坩堝104を交換する坩堝交換機構を設けたことを特徴とする請求項４記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記成膜室１に前記蒸発源100の前記成膜材料が収納される坩堝104を交換する坩堝交換機構を設けたことを特徴とする請求項５記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記成膜室１に前記蒸発源100の前記成膜材料が収納される坩堝104を交換する坩堝交換機構を設けたことを特徴とする請求項６記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記成膜室１に前記蒸発源100の前記成膜材料が収納される坩堝104を交換する坩堝交換機構を設けたことを特徴とする請求項７記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記成膜室１に前記蒸発源100の前記成膜材料が収納される坩堝104を交換する坩堝交換機構を設けたことを特徴とする請求項８記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記成膜室１に前記蒸発源100の前記成膜材料が収納される坩堝104を交換する坩堝交換機構を設けたことを特徴とする請求項９記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記アライメント駆動機構は、前記成膜室１の外部に設けられこの成膜室１の上部側に固定される上部側固定ベース部５と、この上部側固定ベース部５に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な上部側移動ベース部６と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記上部側移動ベース部６に支持され、他端が前記成膜室１の上部に設けた上部貫通孔７を通じて前記成膜室１内の前記アライメント枠４の上部に連結する上部側連結体８とから成る上部側駆動機構か若しくは、前記成膜室１の外部に設けられこの成膜室１の下部側に固定される下部側固定ベース部９と、この下部側固定ベース部９に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な下部側移動ベース部10と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記下部側移動ベース部10に支持され、他端が前記成膜室１の下部に設けた下部貫通孔11を通じて前記成膜室１内の前記アライメント枠４の下部に連結する下部側連結体12とから成る下部側駆動機構で構成し、前記上部側連結体８及び前記下部側連結体12の前記アライメント枠４との連結部は前記上部貫通孔７及び前記下部貫通孔11を夫々気密状態で封止するベローズ34，35を介して前記成膜室１内に設けたことを特徴とする請求項２～１７のいずれか１項に記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記アライメント駆動機構は、前記成膜室１の外部に設けられこの成膜室１の上部側に固定される上部側固定ベース部５と、この上部側固定ベース部５に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な上部側移動ベース部６と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記上部側移動ベース部６に支持され、他端が前記成膜室１の上部に設けた上部貫通孔７を通じて前記成膜室１内の前記アライメント枠４の上部に連結する上部側連結体８とから成る上部側駆動機構と、前記成膜室１の外部に設けられこの成膜室１の下部側に固定される下部側固定ベース部９と、この下部側固定ベース部９に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な下部側移動ベース部10と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記下部側移動ベース部10に支持され、他端が前記成膜室１の下部に設けた下部貫通孔11を通じて前記成膜室１内の前記アライメント枠４の下部に連結する下部側連結体12とから成る下部側駆動機構とで構成し、前記上部側連結体８及び前記下部側連結体12の前記アライメント枠４との連結部は前記上部貫通孔７及び前記下部貫通孔11を夫々気密状態で封止するベローズ34，35を介して前記成膜室１内に設けたことを特徴とする請求項２～１７のいずれか１項に記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記アライメント駆動機構は、前記成膜室１の外部に設けられこの成膜室１の上部側に固定される上部側固定ベース部５と、この上部側固定ベース部５に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な上部側移動ベース部６と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記上部側移動ベース部６に支持され、他端が前記成膜室１の上部に設けた上部貫通孔７を通じて前記成膜室１内の前記アライメント枠４の上部に連結する上部側連結体８とから成る上部側駆動機構か若しくは、前記成膜室１の外部に設けられこの成膜室１の下部側に固定される下部側固定ベース部９と、この下部側固定ベース部９に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な下部側移動ベース部10と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記下部側移動ベース部10に支持され、他端が前記成膜室１の下部に設けた下部貫通孔11を通じて前記成膜室１内の前記アライメント枠４の下部に連結する下部側連結体12とから成る下部側駆動機構で構成し、前記上部側駆動機構若しくは前記下部側駆動機構に、Ｘ方向用駆動装置若しくはＹ方向用駆動装置またはその双方を設け、このＸ方向用駆動装置及びＹ方向用駆動装置により前記上部側移動ベース部６若しくは前記下部側移動ベース部10を上部側固定ベース部５若しくは下部側固定ベース部９に対してＸ方向及びＹ方向に移動せしめることで、前記上部側連結体８若しくは前記下部側連結体12を介して前記アライメント枠４をＸ，Ｙ及びθ方向に調整移動し得るように構成し、前記上部側連結体８及び前記下部側連結体12の前記アライメント枠４との連結部は前記上部貫通孔７及び前記下部貫通孔11を夫々気密状態で封止するベローズ34，35を介して前記成膜室１内に設けたことを特徴とする請求項２～１７のいずれか１項に記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記アライメント駆動機構は、前記成膜室１の外部に設けられこの成膜室１の上部側に固定される上部側固定ベース部５と、この上部側固定ベース部５に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な上部側移動ベース部６と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記上部側移動ベース部６に支持され、他端が前記成膜室１の上部に設けた上部貫通孔７を通じて前記成膜室１内の前記アライメント枠４の上部に連結する上部側連結体８とから成る上部側駆動機構と、前記成膜室１の外部に設けられこの成膜室１の下部側に固定される下部側固定ベース部９と、この下部側固定ベース部９に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な下部側移動ベース部10と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記下部側移動ベース部10に支持され、他端が前記成膜室１の下部に設けた下部貫通孔11を通じて前記成膜室１内の前記アライメント枠４の下部に連結する下部側連結体12とから成る下部側駆動機構とで構成し、前記上部側駆動機構及び前記下部側駆動機構に、夫々Ｘ方向用駆動装置若しくはＹ方向用駆動装置またはその双方を設け、このＸ方向用駆動装置及びＹ方向用駆動装置により前記上部側移動ベース部６及び前記下部側移動ベース部10を上部側固定ベース部５及び下部側固定ベース部９に対してＸ方向及びＹ方向に移動せしめることで、前記上部側連結体８及び前記下部側連結体12を介して前記アライメント枠４をＸ，Ｙ及びθ方向に調整移動し得るように構成し、前記上部側連結体８及び前記下部側連結体12の前記アライメント枠４との連結部は前記上部貫通孔７及び前記下部貫通孔11を夫々気密状態で封止するベローズ34，35を介して前記成膜室１内に設けたことを特徴とする請求項１８記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記アライメント駆動機構は、前記成膜室１の外部に設けられこの成膜室１の上部側に固定される上部側固定ベース部５と、この上部側固定ベース部５に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な上部側移動ベース部６と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記上部側移動ベース部６に支持され、他端が前記成膜室１の上部に設けた上部貫通孔７を通じて前記成膜室１内の前記アライメント枠４の上部に連結する上部側連結体８とから成る上部側駆動機構と、前記成膜室１の外部に設けられこの成膜室１の下部側に固定される下部側固定ベース部９と、この下部側固定ベース部９に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な下部側移動ベース部10と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記下部側移動ベース部10に支持され、他端が前記成膜室１の下部に設けた下部貫通孔11を通じて前記成膜室１内の前記アライメント枠４の下部に連結する下部側連結体12とから成る下部側駆動機構とで構成し、前記上部側駆動機構及び前記下部側駆動機構に、夫々Ｘ方向用駆動装置若しくはＹ方向用駆動装置またはその双方を設け、このＸ方向用駆動装置及びＹ方向用駆動装置により前記上部側移動ベース部６及び前記下部側移動ベース部10を上部側固定ベース部５及び下部側固定ベース部９に対してＸ方向及びＹ方向に移動せしめることで、前記上部側連結体８及び前記下部側連結体12を介して前記アライメント枠４をＸ，Ｙ及びθ方向に調整移動し得るように構成し、前記上部側連結体８及び前記下部側連結体12の前記アライメント枠４との連結部は前記上部貫通孔７及び前記下部貫通孔11を夫々気密状態で封止するベローズ34，35を介して前記成膜室１内に設けたことを特徴とする請求項１９記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記アライメント駆動機構は、前記成膜室１の外部に設けられこの成膜室１の上部側に固定される上部側固定ベース部５と、この上部側固定ベース部５に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な上部側移動ベース部６と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記上部側移動ベース部６に支持され、他端が前記成膜室１の上部に設けた上部貫通孔７を通じて前記成膜室１内の前記アライメント枠４の上部に連結する上部側連結体８とから成る上部側駆動機構と、前記成膜室１の外部に設けられこの成膜室１の下部側に固定される下部側固定ベース部９と、この下部側固定ベース部９に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な下部側移動ベース部10と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記下部側移動ベース部10に支持され、他端が前記成膜室１の下部に設けた下部貫通孔11を通じて前記成膜室１内の前記アライメント枠４の下部に連結する下部側連結体12とから成る下部側駆動機構とで構成し、前記上部側駆動機構及び前記下部側駆動機構に、夫々Ｘ方向用駆動装置若しくはＹ方向用駆動装置またはその双方を設け、このＸ方向用駆動装置及びＹ方向用駆動装置により前記上部側移動ベース部６及び前記下部側移動ベース部10を上部側固定ベース部５及び下部側固定ベース部９に対してＸ方向及びＹ方向に移動せしめることで、前記上部側連結体８及び前記下部側連結体12を介して前記アライメント枠４をＸ，Ｙ及びθ方向に調整移動し得るように構成し、前記上部側連結体８及び前記下部側連結体12の前記アライメント枠４との連結部は前記上部貫通孔７及び前記下部貫通孔11を夫々気密状態で封止するベローズ34，35を介して前記成膜室１内に設けたことを特徴とする請求項２０記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記マスク表面に平行な上下方向であるＹ方向に前記下部側移動ベース部10を移動せしめる前記下部側駆動機構に設けられる前記Ｙ方向用駆動装置は、前記各下部側移動ベース部10を夫々独立して移動可能に構成し、前記上部側駆動機構には前記Ｙ方向用駆動装置を設けないことを特徴とする請求項２１記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記マスク表面に平行な上下方向であるＹ方向に前記下部側移動ベース部10を移動せしめる前記下部側駆動機構に設けられる前記Ｙ方向用駆動装置は、前記各下部側移動ベース部10を夫々独立して移動可能に構成し、前記上部側駆動機構には前記Ｙ方向用駆動装置を設けないことを特徴とする請求項２２記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記マスク表面に平行な上下方向であるＹ方向に前記下部側移動ベース部10を移動せしめる前記下部側駆動機構に設けられる前記Ｙ方向用駆動装置は、前記各下部側移動ベース部10を夫々独立して移動可能に構成し、前記上部側駆動機構には前記Ｙ方向用駆動装置を設けないことを特徴とする請求項２３記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記マスク表面に平行な上下方向であるＹ方向に前記上部側移動ベース部６を移動せしめる前記上部側駆動機構に設けられる前記Ｙ方向用駆動装置は、前記各上部側移動ベース部６を夫々独立して移動可能に構成し、前記下部側駆動機構には前記Ｙ方向用駆動装置を設けないことを特徴とする請求項２１記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記マスク表面に平行な上下方向であるＹ方向に前記上部側移動ベース部６を移動せしめる前記上部側駆動機構に設けられる前記Ｙ方向用駆動装置は、前記各上部側移動ベース部６を夫々独立して移動可能に構成し、前記下部側駆動機構には前記Ｙ方向用駆動装置を設けないことを特徴とする請求項２２記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記マスク表面に平行な上下方向であるＹ方向に前記上部側移動ベース部６を移動せしめる前記上部側駆動機構に設けられる前記Ｙ方向用駆動装置は、前記各上部側移動ベース部６を夫々独立して移動可能に構成し、前記下部側駆動機構には前記Ｙ方向用駆動装置を設けないことを特徴とする請求項２３記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記上部側移動ベース部６は、前記上部側固定ベース部５に対し前記上部側移動ベース部６をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記上部側固定ベース部５に連結し、前記上部側連結体８は、前記各上部側移動ベース部６に対し前記上部側連結体８をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各上部側移動ベース部６に連結し、前記下部側移動ベース部10は、前記下部側固定ベース部９に対し前記下部側移動ベース部10をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記下部側固定ベース部９に連結し、前記下部側連結体12は、前記各下部側移動ベース部10に対し前記下部側連結体12をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各下部側移動ベース部10に連結したことを特徴とする請求項２１記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記上部側移動ベース部６は、前記上部側固定ベース部５に対し前記上部側移動ベース部６をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記上部側固定ベース部５に連結し、前記上部側連結体８は、前記各上部側移動ベース部６に対し前記上部側連結体８をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各上部側移動ベース部６に連結し、前記下部側移動ベース部10は、前記下部側固定ベース部９に対し前記下部側移動ベース部10をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記下部側固定ベース部９に連結し、前記下部側連結体12は、前記各下部側移動ベース部10に対し前記下部側連結体12をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各下部側移動ベース部10に連結したことを特徴とする請求項２２記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記上部側移動ベース部６は、前記上部側固定ベース部５に対し前記上部側移動ベース部６をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記上部側固定ベース部５に連結し、前記上部側連結体８は、前記各上部側移動ベース部６に対し前記上部側連結体８をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各上部側移動ベース部６に連結し、前記下部側移動ベース部10は、前記下部側固定ベース部９に対し前記下部側移動ベース部10をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記下部側固定ベース部９に連結し、前記下部側連結体12は、前記各下部側移動ベース部10に対し前記下部側連結体12をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各下部側移動ベース部10に連結したことを特徴とする請求項２３記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記上部側移動ベース部６は、前記上部側固定ベース部５に対し前記上部側移動ベース部６をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記上部側固定ベース部５に連結し、前記上部側連結体８は、前記各上部側移動ベース部６に対し前記上部側連結体８をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各上部側移動ベース部６に連結し、前記下部側移動ベース部10は、前記下部側固定ベース部９に対し前記下部側移動ベース部10をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記下部側固定ベース部９に連結し、前記下部側連結体12は、前記各下部側移動ベース部10に対し前記下部側連結体12をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各下部側移動ベース部10に連結したことを特徴とする請求項２４記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記上部側移動ベース部６は、前記上部側固定ベース部５に対し前記上部側移動ベース部６をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記上部側固定ベース部５に連結し、前記上部側連結体８は、前記各上部側移動ベース部６に対し前記上部側連結体８をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各上部側移動ベース部６に連結し、前記下部側移動ベース部10は、前記下部側固定ベース部９に対し前記下部側移動ベース部10をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記下部側固定ベース部９に連結し、前記下部側連結体12は、前記各下部側移動ベース部10に対し前記下部側連結体12をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各下部側移動ベース部10に連結したことを特徴とする請求項２５記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記上部側移動ベース部６は、前記上部側固定ベース部５に対し前記上部側移動ベース部６をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記上部側固定ベース部５に連結し、前記上部側連結体８は、前記各上部側移動ベース部６に対し前記上部側連結体８をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各上部側移動ベース部６に連結し、前記下部側移動ベース部10は、前記下部側固定ベース部９に対し前記下部側移動ベース部10をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記下部側固定ベース部９に連結し、前記下部側連結体12は、前記各下部側移動ベース部10に対し前記下部側連結体12をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各下部側移動ベース部10に連結したことを特徴とする請求項２６記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記上部側移動ベース部６は、前記上部側固定ベース部５に対し前記上部側移動ベース部６をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記上部側固定ベース部５に連結し、前記上部側連結体８は、前記各上部側移動ベース部６に対し前記上部側連結体８をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各上部側移動ベース部６に連結し、前記下部側移動ベース部10は、前記下部側固定ベース部９に対し前記下部側移動ベース部10をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記下部側固定ベース部９に連結し、前記下部側連結体12は、前記各下部側移動ベース部10に対し前記下部側連結体12をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各下部側移動ベース部10に連結したことを特徴とする請求項２７記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記上部側移動ベース部６は、前記上部側固定ベース部５に対し前記上部側移動ベース部６をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記上部側固定ベース部５に連結し、前記上部側連結体８は、前記各上部側移動ベース部６に対し前記上部側連結体８をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各上部側移動ベース部６に連結し、前記下部側移動ベース部10は、前記下部側固定ベース部９に対し前記下部側移動ベース部10をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記下部側固定ベース部９に連結し、前記下部側連結体12は、前記各下部側移動ベース部10に対し前記下部側連結体12をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各下部側移動ベース部10に連結したことを特徴とする請求項２８記載の成膜装置に係るものである。
　また、前記上部側移動ベース部６は、前記上部側固定ベース部５に対し前記上部側移動ベース部６をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記上部側固定ベース部５に連結し、前記上部側連結体８は、前記各上部側移動ベース部６に対し前記上部側連結体８をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各上部側移動ベース部６に連結し、前記下部側移動ベース部10は、前記下部側固定ベース部９に対し前記下部側移動ベース部10をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記下部側固定ベース部９に連結し、前記下部側連結体12は、前記各下部側移動ベース部10に対し前記下部側連結体12をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各下部側移動ベース部10に連結したことを特徴とする請求項２９記載の成膜装置に係るものである。
　本発明は上述のように構成したから、省スペースを実現しつつ、チャンバの変形の影響を可及的に軽減し、また、アライメント精度を確保可能で、材料の使用効率の向上も図れるなど、第４世代以上の大型基板にも対応可能な極めて実用性に秀れた成膜装置となる。
本実施例の構成概略説明図である。 本実施例の構成概略説明断面図である。 本実施例の変形吸収機構の拡大説明側面図である。 本実施例の導入部の拡大説明断面である。 本実施例の要部の概略説明斜視図である。 本実施例の要部の概略説明正面図である。 本実施例の要部の概略説明断面図である。 本実施例の要部の概略説明断面図である。 本実施例のガイドローラの拡大概略説明図である。 本実施例の上部側駆動機構及び下部側駆動機構の概略説明図である。 本実施例のアライメント操作例を示す概略説明図である。 本実施例のカメラ配置例を示す概略説明図である。
　好適と考える本発明の実施形態を、図面に基づいて本発明の作用を示して簡単に説明する。
　マスク搬送機構及び基板搬送機構により夫々直立状態に保持されたマスク３及び基板２を真空槽から成る成膜室１（チャンバ）内の所定の成膜位置へ搬送し、アライメント駆動機構を用いてマスク３と基板２との位置合わせを行い、基板２にマスク３を介して蒸発源100からの成膜材料を付着せしめて成膜を行う。
　この際、マスク搬送機構及び基板搬送機構により、蒸発源100と対向する複数の成膜位置に前記基板２及び前記マスク３を夫々直立状態で搬送することができるから、一の前記成膜位置において前記蒸発源100により成膜を行いながら他の前記成膜位置に搬送された基板２及びマスク３の位置合わせを行えることになる。
　従って、一の成膜位置における成膜中に他の成膜位置において予めマスク３と基板２との位置合わせを行っておくことで、一の成膜位置における成膜終了後、即座に蒸発源100を移動させて他の成膜位置において成膜を開始でき、蒸発源100から無駄に成膜材料を出し続ける時間を可及的に短くすることが可能となる。
　よって、本発明は、基板２を直立状態で搬送することで、装置の設置スペースの増大を抑制でき、また、重力による基板のたわみを軽減できるのは勿論、成膜材料を無駄なく効率的に使用できることになる。
　また、例えば、前記蒸発源ガイド機構と前記成膜室１の内壁面との間に、成膜室１の変形を吸収する変形吸収機構を設けた場合には、成膜室１の変形による蒸発源ガイド機構への影響を可及的に低減でき、チャンバ強度を上げることなくチャンバ内部の蒸発源ガイド機構の長寿命化を図ることが可能となる。
　また、例えば、前記蒸発源100からの前記基板２への放熱を防止する蒸発源冷却機構、前記マスク３の前記蒸発源100側にこのマスク３を冷却するマスク冷却機構及び前記基板２のマスク３が設けられる表面とは反対側の裏面側にこの基板２を冷却する基板冷却機構を設けることで、基板外に飛散する成膜材料を低減させるべく基板２及びマスク３と蒸発源100との距離を短くしても、この蒸発源冷却機構と後述するマスク冷却機構及び基板冷却機構とにより、マスク３の蒸発源100からの熱による変形を抑制でき、熱によるパターンずれを抑制しつつ成膜材料の使用効率を高めることが可能となる。
　また、例えば請求項１８乃至２９に記載のアライメント駆動機構を採用した場合には、成膜室内に直立状態で搬送される基板２とマスク３との位置合わせを、上部側移動ベース部６若しくは下部側移動ベース部10を夫々上下の各固定ベース部５，９に対して移動せしめ、この各移動ベース部６，10に設けられる上部側連結体８若しくは下部側連結体12を介してアライメント枠４及びこのアライメント枠４と一体に移動するように取り付けられるマスク３を基板２に対してＸ，Ｙ及びθ方向に調整移動する際、成膜室の外部にして上部側若しくは下部側に配置した上部側駆動機構若しくは下部側駆動機構の上部側固定ベース部５若しくは下部側固定ベース部９に対して上部側移動ベース部６若しくは下部側移動ベース部10を、これらを駆動させる駆動装置を用いて移動させることでマスク３と基板２との位置合わせを行うため、従来のようにアライメント駆動機構を搬送方向と水平方向に直交する方向に突出させることなく、成膜室１の上方若しくは下方またはその双方にコンパクトに配置することが可能となり、それだけ平面レイアウト上の設置スペースを可及的に小さくすることが可能となる。
　また、剛体としてのチャンバに各固定ベース部５，９を設けるため、位置合わせ精度も十分確保することができる。また、中央の空間部分を大きくすることができ、基板冷却機構、マスク冷却機構若しくはマスク吸着機構等の設置がそれだけ容易となる。更に、マスク３の保持モーメントが小さくなり、位置合わせ精度に対する影響を少なくでき、それだけ基板サイズの大型化に対応できるものとなる。従って、駆動機構をそれだけコンパクトにでき、また、この駆動機構と各連結体８，12のアライメント枠４との連結部との距離を短くできるため、それだけ精密な位置合わせ調整移動が可能となる。
　また、上下の各移動ベース部６，10を移動させるための駆動装置を、成膜室１の上部及び下部に夫々分割して設けることができ、例えば、所定間隔をおいて設けた一対（２つ）の下部側移動ベース部10を下部側固定ベース部９に対してＸ方向に移動させるボールねじ装置（１軸）及びＹ方向に移動させるボールねじ装置（各移動ベース部に夫々計２軸）を下部側に設け、上部側移動ベース部６を上部側固定ベース部５に対してＸ方向に移動させるボールねじ機構（１軸）を上部側に設けるなどすることもできる（各上部側移動ベース部６及び下部側移動ベース部10は、上部側連結体８及び下部側連結体12により連結されるため、連動して移動する）。
　これにより、各駆動装置による各移動ベース部の移動量を調整設定することで、アライメント枠４をＸ，Ｙ及びθ方向に自在に調整移動させることができ、しかも、上部側の駆動装置を少なくしてより安定的に成膜室にアライメント駆動機構を設けることなどが可能となる。
　特に、前記マスク表面に平行な上下方向であるＹ方向に下部側移動ベース部10を移動せしめる下部側駆動機構に設けられるＹ方向用駆動装置を、各下部側移動ベース部10を夫々独立して移動可能に構成し、上部側駆動機構にはＹ方向用駆動装置を設けないか、若しくは、前記Ｙ方向に上部側移動ベース部６を移動せしめる上部側駆動機構に設けられるＹ方向用駆動装置を、各上部側移動ベース部６を夫々独立して移動可能に構成し、下部側駆動機構にはＹ方向用駆動装置を設けない構成とすることで、成膜室１の変形を吸収できることになり、よって、成膜室１の変形によるアライメント駆動機構への影響を可及的に低減できることになる。
　更に、成膜室１内（真空側）に配置されるのは各連結体８，12のアライメント枠４との連結部のみであり、アライメント駆動機構の摩擦接触部位が全て成膜室１の外部（大気側）に設けられるため、それだけ成膜室１の内部を清浄な雰囲気に保持することができ、成膜される薄膜をより高品質なものとすることが可能となる。
　本発明の具体的な実施例について図面に基づいて説明する。
　本実施例は、水平方向に対して垂直に立てた垂直直立状態で基板２及びマスク３を搬送（縦型搬送）する基板搬送機構及びマスク搬送機構を備えた成膜装置（真空蒸着装置）の成膜室に本発明を適用したものである。
　即ち、本実施例は、直立状態に保持された基板２にマスク３を介して成膜材料を付着せしめて成膜を行う成膜室１を備えた成膜装置であって、前記成膜室１に、前記マスク３を直立状態に取り付けたアライメント枠４を前記基板２に対して調整移動して、前記マスク３が前記基板２に対して適正位置となるように前記マスク３と前記基板２との位置合わせを行うアライメント駆動機構と、前記基板２に前記成膜材料を付着せしめる蒸発源100と、この蒸発源100を前記基板２若しくは前記マスク３の搬送方向に沿って往復ガイド移動させる蒸発源ガイド機構と、前記蒸発源100と対向する複数の成膜位置に前記基板２及び前記マスク３を夫々直立状態で搬送するマスク搬送機構及び基板搬送機構とを設け、前記アライメント駆動機構を前記複数の成膜位置に夫々設けて、一の前記成膜位置において前記蒸発源100により成膜を行いながら他の前記成膜位置において前記アライメント駆動機構により前記マスク３と前記基板２との位置合わせを行えるように構成したものである。
　また、本実施例のアライメント駆動機構は、前記成膜室１の外部に設けられこの成膜室１の上部側に固定される上部側固定ベース部５と、この上部側固定ベース部５に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な上部側移動ベース部６と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記上部側移動ベース部６に支持され、他端が前記成膜室１の上部に設けた上部貫通孔７を通じて前記成膜室１内の前記アライメント枠４の上部に連結する上部側連結体８とから成る上部側駆動機構と、前記成膜室１の外部に設けられこの成膜室１の下部側に固定される下部側固定ベース部９と、この下部側固定ベース部９に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な下部側移動ベース部10と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記下部側移動ベース部10に支持され、他端が前記成膜室１の下部に設けた下部貫通孔11を通じて前記成膜室１内の前記アライメント枠４の下部に連結する下部側連結体12とから成る下部側駆動機構とで構成し、前記上部側連結体８及び前記下部側連結体12の前記アライメント枠４との連結部は前記上部貫通孔７及び前記下部貫通孔11を夫々気密状態で封止するベローズ34，35を介して前記成膜室１内に設けたものである。
　各部を具体的に説明する。
　成膜室１（チャンバ）は、図１に図示したように、基板２及びマスク３の搬入出用のロードロック室101と気密状態を保持するようにゲートバルブ102を介して連設されている。
　この成膜室１及びロードロック室101には、夫々減圧機構としての真空ポンプ103（例えばクライオポンプ等）が夫々設けられている（ロードロック室101側は図示省略）。尚、図中符合108は、ロードロック室101と大気側との間のゲートバルブである。
　また、成膜室１には、基板２の成膜面と対向する蒸発源100が設けられている。
　この蒸発源100は、図２に図示したように、収納（充填）された成膜材料を加熱して気化せしめる加熱用の坩堝104と、この気化した成膜材料が満たされる成膜材料溜め部105と、前記成膜材料溜め部105に溜められた気化した成膜材料を成膜室１内に噴射するノズル107とで構成されるホスト材料用の吹付機構及びドーパント材料用の吹付機構とを少なくとも一対備えた構成としている。
　この各吹付機構のノズル107は、夫々基板高さ方向（垂直方向）に基板２の高さ方向全体に満遍なく成膜材料を吹き付けられるように略一直線状に多数並設状態に設けられている。
　従って、このホスト材料用の吹付機構及びドーパント材料用の吹付機構を少なくとも１つずつ備えた蒸発源100を基板搬送方向と平行に移動させることで、基板全面に成膜材料を吹き付けることができる。また、本実施例ではホスト材料用の吹付機構若しくはドーパント材料用の吹付機構のいずれかを２つ設けられるように２つ目のホスト若しくはドーパント材料用の吹付機構を含み計３つの吹付機構を設けている。よって、本実施例では最大３つの各ノズル列から夫々ホスト材料とドーパント材料とを基板２に吹き付けることができる。
　また、蒸発源100には、蒸発源100の少なくとも基板２と対向する正面部を冷却する蒸発源冷却機構が設けられている。この蒸発源冷却機構は、水等の冷媒によって適宜冷却される前記各ノズルのノズル孔部分が開口する金属製の板体113で構成されている。
　従って、基板外に飛散する成膜材料を低減させるべく基板２及びマスク３と蒸発源100との距離を短くしても、この蒸発源冷却機構と後述するマスク冷却機構及び基板冷却機構とにより、マスク３の蒸発源100からの熱による変形を抑制でき、熱によるパターンずれを抑制しつつ成膜材料の使用効率を高めることが可能となる。
　また、３つのノズル列を有する蒸発源100は、夫々各成膜位置（例えば図１中α及びβの位置）において成膜材料を基板に吹き付けられるように基板搬送方向と平行に移動できるように構成されている。
　具体的には、成膜室１には、蒸発源100を基板２及びマスク３の搬送方向に沿って往復ガイド移動させるための蒸発源ガイド機構121が設けられている。この蒸発源ガイド機構121は、成膜室１の真空領域とは隔離される大気領域を形成する大気室111及び支持部材112を介して蒸発源100を移動させるように構成されている。図中符合106は、成膜室１の真空領域とは隔離される大気領域を形成するものであって、先端部が大気室111内に連通し、基端部が成膜室１の外部と連通し後述するピニオン駆動用のモーターの電源等を導入するための導入部125に設定される関節部を有する大気アームである。
　蒸発源ガイド機構121は、夫々搬送方向と平行に延設されるラック122とピニオン123（ギア）とピニオン駆動用のモーターとレール114及びブロック115から成るＬＭガイドとで構成されている。この蒸発源ガイド機構121のラック122はレール114の側部に設けられており、このレール114は、成膜室１の内壁面（上面及び下面）にこの成膜室１の変形を吸収する変形吸収機構116を介して設けられている。尚、本実施例においては、レール114は２つ並設され、ブロック115は夫々に対応して設けられる（ラック122は一方のレール114の側部に設けられる。）。また、ブロック115はブロック取付部127を介して大気室111の上下面に夫々設けられている。また、ピニオン駆動用のモーターは大気室111内に設けられ、この大気室111内に設けられ上下端部に夫々ピニオン123が設けられる同期軸124を回転させるように構成され、大気アーム106を通じて電源等が接続される。
　この変形吸収機構116は、成膜室１の上下壁面に夫々固定状態に設けられる固定部128と、この固定部128の挿通孔に挿通配設され、上下方向（垂直方向）に相対移動可能な挿通部129と、成膜室１の壁面（上面若しくは下面）との対向面側にこの挿通部129が立設状態に取り付けられ、大気室111との対向面側にレール114が取り付けられる取付部126とで構成されている。図中符合130は気密保持用のＯリング、131は変位吸収用のガイドブッシュ、132は成膜室１の変形に応じて広狭する固定部128と挿通部129の対向面間の隙間である。従って、成膜室１が変形しても固定部128と挿通部129との間の隙間132の分だけその変形が吸収され、ＬＭガイドに影響が生じないことになる。本実施例においては固定部128及び挿通部129は２つずつ設けられており、取付部126を挿通部129間に架設状態に設けることで一層良好に成膜室１の上下壁面の変形を吸収できるように構成している。
　また、本実施例においては、大気アーム106の導入部125は、成膜室１の側壁に設けた挿通孔部133に左右方向（水平方向）に相対移動可能に挿通配設せしめられ、この導入部125の外周部に設けた径小部134に挿通孔部133の開口端に設けられる周設部材135が配設され、この径小部134の形成長さを周設部材135の厚さより長く設定することで、成膜室１の側壁が変形した際の変形を吸収できるように構成している。図中符合136は気密保持用のＯリング、137は変位吸収用のガイドブッシュである。
　従って、成膜室１の変形によるＬＭガイドへの影響は最小限に抑えられることになる。
　また、基板２と各蒸発源100との間には、基板２（各成膜位置）と蒸発源100とを仕切るシャッター117が設けられている。
　また、本実施例においては、膜厚計として水晶モニター110を採用している。具体的には可及的に水晶の交換期間を延長できるように、チョッパを備えた多点式の水晶モニター110を採用している。
　また、本実施例においては、成膜室１に材料使用済みの坩堝104を材料充填済みの坩堝104と交換するための坩堝交換機構を設けている。本実施例においては、成膜室１内に予備の蒸発源109を設け（本実施例においては２ヶ所に設け）、蒸発源100を予備の蒸発源109と交換できるように構成し、坩堝交換機構は、この交換によって次の予備となる蒸発源109の（材料使用済みの）坩堝104を、成膜室１に連設した材料充填室118に搬送し、この材料充填室118において成膜材料が充填された坩堝104を、成膜室１の待機位置の蒸発源109へ取り付けるように構成されている。本実施例においては、予備の蒸発源109を２ヶ所に設けるようにすることで、一方の坩堝104が交換中であっても他方を使用可能となり、連続成膜により適した構成となる。尚、図中符合119は成膜室１と材料充填室118との間のゲートバルブ、120は材料充填室118と大気側との間のゲートバルブである。
　従って、前記多点式の水晶モニター110と坩堝交換機構により、水晶交換及び材料供給のためにチャンバを開放するインターバルが伸び、それだけ装置の停止時間が短くなり運転効率が向上することになる。
　また、本実施例においては、図５に図示したようにガラス基板２は基板トレイ41に取り付けられており、マスク３は枠状のマスクフレーム（図示省略）に取り付けられ、このマスクフレームは枠状のマスクトレイ42に取り付けられている（基板サイズが第５世代、第５．５世代の場合）。この枠状のマスクトレイ42の蒸発源100側の面には、このマスクトレイ42を冷却するマスク冷却機構としての冷却板が設けられている。
　尚、基板サイズによっては（例えば第６世代の場合）、マスク３をマスクフレームに取り付けたもの（マスクトレイなしのもの）を採用しても良い。
　図５～８に図示したように、マスクトレイ42の上部には断面視略Ｕ字状の上部ガイド体43が設けられている。
　この上部ガイド体43の内部には、真空槽（ロードロック室101及び成膜室１）の内部上面側に設けられるガイドローラ40，44が当接する。また、上部ガイド体43の底面には嵌入孔37が設けられ、後述する位置決めピン36を嵌入することで、アライメント時にマスク３を固定できるように構成している。
　マスクトレイ42の下部には丸棒状の下部ガイド体45が設けられている。
　この下部ガイド体45によりマスク３は真空槽（ロードロック室101及び成膜室１）の内部下面側に設けられる搬送ローラ46（Ｖローラ）にガイドされつつ搬送される。具体的には搬送ローラ46は成膜室１の底面に立設される。下部ガイド体45の底面には嵌入孔39が設けられ、後述する位置決めピン38を嵌入することで、アライメント時にマスク３を固定できるように構成している。
　また、基板トレイ41にも同様にガイドローラ47が当接する断面視略Ｕ字状の上部ガイド体48と、搬送ローラ49（Ｖローラ）にガイドされつつ搬送される下部ガイド体50が設けられている。この上部ガイド体48の底面及び下部ガイド体50の底面には、基板トレイロックピンが嵌入する嵌入孔が設けられている。
　従って、ロードロック室101及び成膜室１に直線状に並設される上記ガイドローラ40，44及び搬送ローラ46によりマスク搬送機構が構成され、上記ガイドローラ47及び搬送ローラ49により基板搬送機構が構成される。
　また、基板トレイ41の基板２がクランプ固定されるクランプ固定面の反対側（裏面）には、基板トレイ41を冷却する基板冷却機構としての冷却板及びマスク３（インバーなどの磁性材料からなる）と基板２とを密着させるマグネット板を備えた板体51を設けるための凹部が形成されている。
　また、基板２の表面側角部及びマスク３の裏面側角部（対角位置の一対の角部）には、アライメントマークが夫々設けられている。
　このアライメントマークは、基板トレイ41及び板体51に設けたアライメントマーク視認用穴52，53を通じてＣＣＤカメラ、レンズ及び照明から成るアライメントカメラ54により視認できるように構成している。アライメントは、このアライメントカメラ54からの映像を元にアライメント駆動機構を制御して行う。尚、アライメントカメラ54は具体的には図１２に図示したように成膜室１の外部にガラス板138を介して設ける。図中符合139は気密保持用のＯリングである。
　アライメント駆動機構について詳述する。
　前記上部側移動ベース部６は、前記上部側固定ベース部５に対し前記上部側移動ベース部６をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記上部側固定ベース部５に連結し、前記上部側連結体８は、前記各上部側移動ベース部６に対し前記上部側連結体をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各上部側移動ベース部６に連結し、前記下部側移動ベース部10は、前記下部側固定ベース部９に対し前記下部側移動ベース部10をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記下部側固定ベース部５に連結し、前記下部側連結体12は、前記各下部側移動ベース部10に対し前記下部側連結体12をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各下部側移動ベース部10に連結している。
　本実施例においては、上部側固定ベース部５を成膜室１の上壁面外側に固定状態に設けている。
　図１０，１１に図示したように、この上部側固定ベース部５のマスク表面と平行な取付面に、Ｘ方向（左右方向）に延設されるレール15に断面視コ字状のガイドブロック16を被嵌して成る２つのＬＭガイドを介して板状の上部側Ｘ方向移動ベース14を設け、この上部側Ｘ方向移動ベース14のマスク表面と平行な取付面に、Ｙ方向（上下方向）に延設されるレール18にガイドブロック19を被嵌して成る２つのＬＭガイドを介して板状の上部側Ｙ方向移動ベース17を設けて上部側移動ベース部６を構成している。
　上部側Ｘ方向移動ベース14の上部側固定ベース部５の前記取付面との対向面はマスク表面と平行な面に設定され、この面にガイドブロック16の取付平坦面が取付固定される。また、上部側Ｙ方向移動ベース17の上部側Ｘ方向移動ベース14の前記取付面との対向面はマスク表面と平行な面に設定され、この面にガイドブロック19の取付平坦面が取付固定される。
　下部側も同様に、下部側固定ベース部９を成膜室１の下壁面外側に固定状態に設けている。
　この下部側固定ベース部９のマスク表面と平行な取付面に、Ｙ方向に延設されるレール21にガイドブロック22を被嵌して成る２つのＬＭガイドを介して板状の下部側Ｙ方向移動ベース20を設け、この下部側Ｙ方向移動ベース20のマスク表面と平行な取付面に、Ｘ方向に延設されるレール24にガイドブロック25を被嵌して成る２つのＬＭガイドを介して板状の下部側Ｘ方向移動ベース23を設けて下部側移動ベース部10を構成している。
　下部側Ｙ方向移動ベース20の下部側固定ベース部９の前記取付面との対向面はマスク表面と平行な面に設定され、この面にガイドブロック22の取付平坦面が取付固定される。また、下部側Ｘ方向移動ベース23の下部側Ｙ方向移動ベース20の前記取付面との対向面はマスク表面と平行な面に設定され、この面にガイドブロック25の取付平坦面が取付固定される。
　尚、本実施例においては、バランスを考慮して、上下の駆動機構でＸ方向移動ベースとＹ方向移動ベースの上下配置関係を逆にしているが、一致させても良い。
　また、上部側移動ベース部６及び下部側移動ベース部10は夫々、左右一対ずつ（２つずつ）設けている。
　この各上部側移動ベース部６のマスク表面と平行な取付面には、内輪に対して外輪を旋回可能に設けたクロスローラベアリング13を介して上部側連結体８の断面視Ｌ字状の板材から成る１つの基部27の垂直面を夫々設け、この基部27は各上部側移動ベース部６に架設状態に設けている。
　下部側も同様に、各下部側移動ベース部10のマスク表面と平行な取付面には、内輪に対して外輪を旋回可能に設けたクロスローラベアリング26を介して下部側連結体12の断面視Ｌ字状の板材から成る１つの基部29の垂直面を夫々設けて、この基部29を各下部側移動ベース部10に架設状態に設けている。
　上部側移動ベース部６に設けた上部側連結体８の基部27の前記垂直面と直交する水平面の左右端部（クロスローラベアリング13に対応する位置）には夫々、マスク３を直立状態で取り付けるアライメント枠４に連結される連結筒体28を立設している。
　この各連結筒体28の先端部は成膜室１の上部貫通孔７を通じて成膜室１内に導入され、この先端部にはマスク搬送ガイド用の（マスク位置決め固定位置における）ガイドローラ44が設けられアライメント枠４と連結される水平板体30が架設状態に連結される。このガイドローラ44は、図９に図示したように、上部ガイド体43の内底面に当接するローラ体70と、内側面に当接するローラ体71と、これらのローラ体70，71が回転自在に保持されるローラ保持体72と、ローラ保持体72を水平板体30の表面に対して接離動自在に支持する一対のスライドブッシュ73とで構成されている。また、このローラ保持体72はスプリング等の付勢機構により水平板体30から離反する方向に付勢されている。
　また、水平板体30には、先端にマスク３の嵌入孔37に嵌入される嵌入部を有する位置決めピン36が設けられている。この位置決めピン36は、ガイドローラ44のスライドブッシュ73間に設けられ、また、その先端部がガイドローラ44のローラ保持体72の中央部に設けられる挿通孔から突出するように設けられる。また、位置決めピン36の先端の嵌入部は、常態ではローラ体70，71より突出しないように構成され、ローラ保持体72が付勢機構による付勢力に抗して押し上げられた場合にはローラ体70，71より突出して（露出して）上部ガイド体43の嵌入孔37に嵌入できるように構成されている。
　従って、後述する位置決めピン38によりマスク３（マスクトレイ42）が上方に押し上げられ、上部ガイド体43によりローラ体70を介してローラ保持体72が押し上げられると位置決めピン36の先端の嵌入部が露出し、上部ガイド体43の嵌入孔37に嵌入されることになる。
　また、この連結筒体28を覆うように金属製のベローズ34（伸縮管）が設けられる。ベローズ34の一端は上部貫通孔７の周縁部に配置され、他端は水平板体30の上面側に配置され、これにより上部貫通孔７は気密状態で封止される。
　下部側は、下部側移動ベース部10に設けた下部側連結体12の基部29の前記垂直面と直交する水平面の左右端部（クロスローラベアリング26に対応する位置）には夫々、マスク３を直立状態で取り付けるアライメント枠４に連結される連結筒体31を立設している。
　この各連結筒体31の先端部は成膜室１の下部貫通孔11を通じて成膜室１内に導入され、この先端部にはアライメント枠４と連結される水平板体33が架設状態に連結される。
　この連結筒体31の先端部は水平板体33を（隙間がない気密を保持できる状態で）貫通して上方に突出するように設け、この連結筒体31内に連結筒体31の先端から隙間がない気密を保持できる状態で突出する筒状体60を設け、この筒状体60の内部には位置決めピン38が偏心カム機構等の適宜な突没駆動機構61により先端から突没動自在に設けられている。また、位置決めピン38の突出量は、嵌入孔39に嵌入して少なくともマスクトレイ42の下部ガイド体50が搬送ローラ46から離反するように押し上げられ、マスクトレイ42の上部ガイド体43によりローラ体70を介してローラ保持体72を押し上げて位置決めピン36の先端の嵌入部が露出し得る程度に設定する。
　尚、位置決めピン38の外周面と筒状体60の先端内周面とは気密を保持した状態で突没摺動し得るように構成している。
　従って、この位置決めピン38を筒状体60の先端から突出せしめてマスク３の嵌入孔39に嵌入すると共に、マスク３（マスクトレイ42）を押し上げて上部ガイド体43によりローラ保持体72を押し上げて露出した位置決めピン36の先端の嵌入部を嵌入孔37に嵌入することで、マスク３を上部側連結体８及び下部側連結体12に対して位置決め固定することができ、マスク３をアライメント枠４と一体に固定することができる。
　また、この連結筒体31を覆うように金属製のベローズ35が設けられる。ベローズ35の一端は下部貫通孔11の周縁部に配置され、他端は水平板体33の下面側に配置され、これにより下部貫通孔11は気密状態で封止される。
　また、アライメント枠４はその上下端部が夫々水平板体30，33に連結されている。従って、アライメント枠４と各連結体８，12とは一体で移動することになる。即ち、アライメント枠４は、左右の移動ベース部６，10夫々の移動の影響を受けてＸ，Ｙ及びθの各方向へ移動する各連結体８，12と共にＸ，Ｙ及びθの各方向へ移動する。尚、アライメント枠４にはマスク冷却用の冷却機構が設けられている。
　各移動ベース部６，10を移動させる駆動機構について詳述する。
　本実施例においては、上部側駆動機構及び下部側駆動機構に、夫々Ｘ方向用駆動装置若しくはＹ方向用駆動装置またはその双方を設け、このＸ方向用駆動装置及びＹ方向用駆動装置により前記上部側移動ベース部６及び前記下部側移動ベース部10を上部側固定ベース部５及び下部側固定ベース部９に対してＸ方向及びＹ方向に移動せしめることで、前記上部側連結体８及び前記下部側連結体12を介して前記アライメント枠４をＸ，Ｙ及びθ方向に調整移動し得るように構成している。
　具体的には、マスク表面に平行な上下方向であるＹ方向に下部側移動ベース部10を移動せしめる下部側駆動機構に設けられるＹ方向用駆動装置を、各下部側移動ベース部10を夫々独立して移動可能に構成し、上部側駆動機構にはＹ方向用駆動装置を設けないか、若しくは、前記Ｙ方向に上部側移動ベース部６を移動せしめる上部側駆動機構に設けられるＹ方向用駆動装置を、各上部側移動ベース部６を夫々独立して移動可能に構成し、下部側駆動機構には前記Ｙ方向用駆動装置を設けない構成とする。
　更に具体的に説明すると、Ｘ方向用駆動装置及びＹ方向用駆動装置としては公知のボールねじ装置を採用している。ボールねじ装置は、正逆回転自在のモーター55及びモーター55により回動するボールねじ56（固定部）と、ボールねじ56に螺合してこのボールねじ56の回動によりボールねじ56の軸方向に移動するナット57（移動部）とで構成される。
　本実施例においては、図１０に図示したように、下部側固定ベース部９（の取付面）の左右端部にモーター55及びボールねじ56を、このボールねじ56が前記Ｙ方向に延設されるレール21同士の間に該レール21と平行となるように固定し、下部側固定ベース部９の左右端部に設けた下部側移動ベース部10の下部側Ｙ方向移動ベース20の下部側固定ベース部９との対向面に夫々前記ボールねじ56と螺合するナット57を取り付けて、Ｙ方向に駆動せしめるように構成している。
　また、右端部に設けた下部側移動ベース部10の下部側Ｙ方向移動ベース20にモーター55及びボールねじ56を、このボールねじ56が前記Ｘ方向に延設されるレール24同士の間に該レール24と平行となるように固定し、下部側Ｘ方向移動ベース23の下部側Ｙ方向移動ベース20との対向面に前記ボールねじ56と螺合するナット57を取り付けて、Ｘ方向に駆動せしめるように構成している。
　また、上部側固定ベース部５（の取付面）の一端部（右端部）にモーター55及びボールねじ56を、このボールねじ56が前記Ｘ方向に延設されるレール15同士の間に該レール15と平行となるように固定し、上部側固定ベース部５の右端部に設けた上部側移動ベース部６の上部側Ｘ方向移動ベース14の上部側固定ベース部５との対向面に夫々前記ボールねじ56と螺合するナット57を取り付けて、Ｘ方向に駆動せしめるように構成している。
　従って、上部側連結体８及び下部側連結体12とアライメント枠４とは一体に移動することから、上記４つのボールねじ装置（以下、下部側Ｘ方向用駆動装置をＡ，下部左側Ｙ方向用駆動装置をＢ，下部右側Ｙ方向用駆動装置をＣ，上部側Ｘ方向駆動用装置をＤとする。）による各移動ベースの移動量を調整することで、上部側連結体８及び下部側連結体12とアライメント枠４とをＸ，Ｙ及びθ方向に自在に移動させることができる。
　例えば、図１１に図示したように、Ａにより下部側Ｘ方向移動ベース23を左方向に送り、Ｄにより上部側Ｘ方向移動ベース14を右方向に送り、Ｂにより左側の下部側Ｙ方向移動ベース20を上方向に送り、Ｃにより右側の下部側Ｙ方向移動ベース20を下方向に送ることで、クロスローラベアリングを介してアライメント枠４（マスク３）を回転させることもでき、これらＡ～Ｄによる送り方向及び送り量を夫々独立して制御することで、アライメントマークに基づいてマスク３を精密に基板２に対する位置合わせを行うことが可能となる。
　また、本実施例においては、下部側駆動機構でアライメント枠４及びマスク３の質量を支持する必要があるため、負荷に見合ったエアー圧を供給することで質量をキャンセルしてＹ軸の駆動負荷を低減させるバランサーシリンダ62を設けている。尚、下部側駆動機構との結合部はアライメント動作を制限しないようにＬＭガイド63を介して結合している。
　また、本実施例において、基板２のロック機構及びマスク３に対する往復移動機構は、以下のように構成している。
　基板２のロック機構は、図７，８に図示したように、基板２（基板トレイ41）を上昇させる偏心カム32と、偏心カム32により上昇させた基板トレイ41の下部ガイド体50の底面の嵌入孔に嵌入する基板トレイロックピン（偏心カム32と共にマスク３に対して往復移動する）と、基板トレイ41が上昇した際、上部ガイド体48の底面に設けたＶ字溝に嵌入するガイドローラ47のテーパ状ローラ体とで構成している。
　また、マスク３に対する往復移動機構は、図７，８に図示したように、偏心カム32を支持する支持体66と、ガイドローラ47を支持する支持体69と、これら支持体66，69を成膜室１に対してマスク３の面方向と水平方向に直交する方向にスライド自在に支持するＬＭガイド67と、これら支持体66，69をスライド移動させるスライド移動機構75とで構成している。このスライド移動機構75は、サーボモーター及びこのサーボモーターにより駆動するボールねじユニットと、このボールねじユニットによりＬＭガイド76に沿ってマスク３の面方向と水平方向に直交する方向に移動する移動ベース78と、この移動ベース78と支持体66，69とを連結する連結部74とで構成している。
　図中、符号64は偏心カム32を回転させる回転軸、65は回転軸64を駆動する駆動モーター、68は往復移動機構によりマスク３に対して基板２を押し付けた際の過度の密着を防止するためのスプリング、77はベローズである。
　以上の構成の本実施例によるアライメント動作を説明する。
　成膜室１にマスク３及び基板２をマスク搬送機構及び基板搬送機構（搬送ローラ及びガイドローラ）により夫々搬送する。尚、本実施例においてはこれらの搬送ローラ及びガイドローラを搬送方向と水平方向に直交する方向にマスク搬送用及び基板搬送用として１列ずつ計２列並設している。勿論３列以上並設しても良い。
　成膜室１に搬送されたマスク３及び基板２を夫々、マスク３及び基板２をアーム等で機械的に仮位置決めするプリアライメント機構により、位置決めピン36，38及び基板トレイロックピンが夫々嵌入孔に嵌入し得る位置に調整移動する。尚、本実施例においては、成膜位置α及びβに対応するように、プリアライメント機構及びアライメント駆動機構はマスク３若しくは基板２の搬送方向と平行方向に同構成のものを２つ設ける（成膜位置を３つ以上設ける場合にはそれと同数だけ設ける。）。
　プリアライメントされたマスク３の嵌入孔37，39に、位置決めピン36，38を嵌入せしめ、マスク３（マスクトレイ42）を各連結体８，12に対して固定する。
　また、基板２については基板トレイロックピンを上昇させつつ搬送ローラのうちの一部の偏心カム32の回転により基板トレイ41を上昇させてアライメント位置（マスク３と基板２のアライメントマークがある程度重なる位置）に移動せしめ（図７。この際、基板トレイ上部は上部ローラガイドに固定。）、このアライメント位置で基板トレイロックピンを基板トレイ下部の嵌入孔に嵌入せしめ、成膜室１に対して固定し、その後、マスク側へスライド移動せしめて計測位置に移動させる。
　基板２を計測位置に移動させ、ＣＣＤカメラにてアライメントマークの位置情報を取得し、取得したアライメントマークの位置情報をもとに駆動制御装置内でマスクトレイ42の位置補正量を算出し、この位置補正量からアライメント枠４及びマスク３の移動量（各Ｘ方向用駆動装置及びＹ方向用駆動装置による送り量）を算出し、この算出した移動量を元に各駆動装置を駆動せしめてアライメント（マスク３の基板２に対する位置合わせ）を行う。尚、アライメントは、基板２を計測位置から（マスクから離反する方向に）少し戻り移動させた後に行う。
　アライメント終了後、基板２をマスク３に近接するように往復移動機構により蒸着位置に移動せしめ（図８）、基板２とマスク３とを密着させて基板トレイ41の凹部に冷却板及びマグネット板を備えた板体51を設け、この状態でＣＣＤカメラにてアライメントマークの位置情報を取得し、位置合わせが基準寸法内に収まっているかを駆動制御装置で判定し、アライメントマークのズレが基準寸法内であればそのまま成膜を開始し、基準寸法内でなければ前記位置補正量及び前記移動量を算出して基準寸法内になるまで繰り返しアライメントを行う。
　ここで、基板２をマスク３に近接するように往復移動機構により移動せしめると、基板搬送経路が開放されるため、このマスク３と近接する基板２の背後を通って他の基板２を搬送することが可能となる（従って、ガイドローラ47及び搬送ローラ49は偏心カム32が基板搬送経路から外れても、基板２が片持ち状態とならない間隔で並設する。）。
　即ち、例えばまず成膜位置αでアライメントを行って成膜を開始した際、成膜位置αの基板２の背後を通って他の基板２を成膜位置β側へ搬送することができ、成膜位置αにおける成膜中に成膜位置βにて他の基板２のアライメントを行えることになる。
　尚、本実施例においては、マスク３側を動かすことでアライメントを行っているが、基板２側を動かすように同様に構成しても良い。また、本実施例においては、成膜室１の上下に夫々上部側駆動機構及び下部側駆動機構を設けた構成であるが、Ｘ方向用駆動装置及びＹ方向用駆動装置を備えた上部側駆動機構若しくは下部側駆動機構のみを設ける構成としても良い。
　本実施例は上述のように構成したから、マスク搬送機構及び基板搬送機構により夫々直立状態に保持されたマスク３及び基板２を真空槽から成る成膜室１（チャンバ）内の所定の成膜位置へ搬送し、アライメント駆動機構を用いてマスク３と基板２との位置合わせを行い、基板２にマスク３を介して蒸発源100からの成膜材料を付着せしめて成膜を行う際、一の前記成膜位置において前記蒸発源100により成膜を行いながら他の前記成膜位置に搬送された基板２及びマスク３の位置合わせを行えることになる。
　従って、一の成膜位置における成膜中に他の成膜位置において予めマスク３と基板２との位置合わせを行っておくことで、一の成膜位置における成膜終了後、即座に蒸発源100を移動させて他の成膜位置において成膜を開始でき、蒸発源100から無駄に成膜材料を出し続ける時間を可及的に短くすることが可能となる。
　よって、基板２を直立状態で搬送することで、装置の設置スペースの増大を抑制でき、また、重力による基板のたわみを軽減できるのは勿論、成膜材料を無駄なく効率的に使用できることになる。
　また、前記蒸発源ガイド機構と前記成膜室１の内壁面との間に、成膜室１の変形を吸収する変形吸収機構を設けたから、成膜室１の変形による蒸発源ガイド機構への影響を可及的に低減でき、チャンバ強度を上げることなくチャンバ内部の蒸発源ガイド機構の長寿命化を図ることが可能となる。
　また、成膜室内に直立状態で搬送される基板２とマスク３との位置合わせを、上部側移動ベース部６及び下部側移動ベース部10を夫々上下の各固定ベース部５，９に対して移動せしめ、この上下の各移動ベース部６，10に設けられる上部側連結体８及び下部側連結体12を介してアライメント枠４及びこのアライメント枠４と一体に移動するように取り付けられるマスク３を基板２に対してＸ，Ｙ及びθ方向に調整移動することで行うため、従来のようにアライメント駆動機構を搬送方向と水平方向に直交する方向に突出させることなく、成膜室１の上下にコンパクトに分割配置することが可能となり、それだけ平面レイアウト上の設置スペースを可及的に小さくすることができる。
　また、剛体としてのチャンバに各固定ベース部５，９を設けるため、位置合わせ精度も十分確保することができる。また、中央の空間部分を大きくすることができ、マスク冷却機構や基板吸着機構等の設置がそれだけ容易となる。更に、マスク３の保持モーメントが小さくなり、位置合わせ精度に対する影響を少なくでき、それだけ基板サイズの大型化に対応できるものとなる。従って、駆動機構を上下に分割してそれだけコンパクトにでき、また、この駆動機構と各連結体８，12のアライメント枠４との連結部との距離を短くできるため、それだけ精密な位置合わせ調整移動が可能となる。
　また、上下の各移動ベース部６，10を移動させるための駆動装置を、成膜室１の上部及び下部に夫々分割して設けることができ、所定間隔をおいて設けた一対（２つ）の下部側移動ベース部10を下部側固定ベース部９に対してＸ方向に移動させるボールねじ装置（１軸）及びＹ方向に移動させるボールねじ装置（各移動ベース部に夫々計２軸）を下部側に設け、上部側移動ベース部６を上部側固定ベース部５に対してＸ方向に移動させるボールねじ機構（１軸）を上部側に設け、各駆動装置による各移動ベース部の移動量を調整設定することで、アライメント枠４をＸ，Ｙ及びθ方向に自在に調整移動させることができ、しかも、上部側の駆動装置を少なくしてより安定的に真空槽にアライメント駆動機構を設けることなどが可能となる。
　また、前記マスク表面に平行な上下方向であるＹ方向に下部側移動ベース部10を移動せしめる下部側駆動機構に設けられるＹ方向用駆動装置を、各下部側移動ベース部10を夫々独立して移動可能に構成し、上部側駆動機構にはＹ方向用駆動装置を設けない構成としたから、成膜室１の変形を吸収できることになり、よって、成膜室１の変形によるアライメント駆動機構（のＬＭガイド）への影響を可及的に低減できることになる。
　更に、真空槽内（真空側）に配置されるのは各連結体８，12のアライメント枠４との連結部のみであり、アライメント駆動機構の摩擦接触部位が全て真空槽の外部（大気側）に設けられるため、それだけ成膜室１の内部を清浄な雰囲気に保持することができ、成膜される薄膜をより高品質なものとすることが可能となる。
　よって、本実施例は、位置合わせ精度を確保しつつ省スペースを実現し、第四世代以上の大型基板にも対応可能な極めて実用性に秀れたものとなる。

Claims (38)

  1. 　直立状態に保持された基板にマスクを介して成膜材料を付着せしめて成膜を行う成膜室を備えた成膜装置であって、前記成膜室に、前記マスクが前記基板に対して適正位置となるように前記マスクと前記基板との位置合わせを行うアライメント駆動機構と、前記基板若しくは前記マスクの搬送方向に沿って移動可能な前記基板に前記成膜材料を付着せしめる蒸発源と、前記蒸発源と対向する複数の成膜位置に前記基板及び前記マスクを夫々直立状態で搬送するマスク搬送機構及び基板搬送機構とを設け、一の前記成膜位置において前記蒸発源により成膜を行いながら他の前記成膜位置において前記アライメント駆動機構により前記マスクと前記基板との位置合わせを行えるように構成したことを特徴とする成膜装置。
  2. 　直立状態に保持された基板にマスクを介して成膜材料を付着せしめて成膜を行う成膜室を備えた成膜装置であって、前記成膜室に、前記マスクを直立状態に取り付けたアライメント枠を前記基板に対して調整移動して、前記マスクが前記基板に対して適正位置となるように前記マスクと前記基板との位置合わせを行うアライメント駆動機構と、前記基板に前記成膜材料を付着せしめる蒸発源と、この蒸発源を前記基板若しくは前記マスクの搬送方向に沿って往復ガイド移動させる蒸発源ガイド機構と、前記蒸発源と対向する複数の成膜位置に前記基板及び前記マスクを夫々直立状態で搬送するマスク搬送機構及び基板搬送機構とを設け、前記アライメント駆動機構を前記複数の成膜位置に夫々設けて、一の前記成膜位置において前記蒸発源により成膜を行いながら他の前記成膜位置において前記アライメント駆動機構により前記マスクと前記基板との位置合わせを行えるように構成したことを特徴とする成膜装置。
  3. 　前記蒸発源ガイド機構と前記成膜室の内壁面との間に、成膜室の変形を吸収する変形吸収機構を設けたことを特徴とする請求項２記載の成膜装置。
  4. 　前記蒸発源からの前記基板への放熱を防止する蒸発源冷却機構を備えたことを特徴とする請求項２記載の成膜装置。
  5. 　前記蒸発源からの前記基板への放熱を防止する蒸発源冷却機構を備えたことを特徴とする請求項３記載の成膜装置。
  6. 　前記マスクの前記蒸発源側にこのマスクを冷却するマスク冷却機構を設けると共に、前記基板のマスクが設けられる表面とは反対側の裏面側にこの基板を冷却する基板冷却機構を設けたことを特徴とする請求項２記載の成膜装置。
  7. 　前記マスクの前記蒸発源側にこのマスクを冷却するマスク冷却機構を設けると共に、前記基板のマスクが設けられる表面とは反対側の裏面側にこの基板を冷却する基板冷却機構を設けたことを特徴とする請求項３記載の成膜装置。
  8. 　前記マスクの前記蒸発源側にこのマスクを冷却するマスク冷却機構を設けると共に、前記基板のマスクが設けられる表面とは反対側の裏面側にこの基板を冷却する基板冷却機構を設けたことを特徴とする請求項４記載の成膜装置。
  9. 　前記マスクの前記蒸発源側にこのマスクを冷却するマスク冷却機構を設けると共に、前記基板のマスクが設けられる表面とは反対側の裏面側にこの基板を冷却する基板冷却機構を設けたことを特徴とする請求項５記載の成膜装置。
  10. 　前記成膜室に前記蒸発源の前記成膜材料が収納される坩堝を交換する坩堝交換機構を設けたことを特徴とする請求項２記載の成膜装置。
  11. 　前記成膜室に前記蒸発源の前記成膜材料が収納される坩堝を交換する坩堝交換機構を設けたことを特徴とする請求項３記載の成膜装置。
  12. 　前記成膜室に前記蒸発源の前記成膜材料が収納される坩堝を交換する坩堝交換機構を設けたことを特徴とする請求項４記載の成膜装置。
  13. 　前記成膜室に前記蒸発源の前記成膜材料が収納される坩堝を交換する坩堝交換機構を設けたことを特徴とする請求項５記載の成膜装置。
  14. 　前記成膜室に前記蒸発源の前記成膜材料が収納される坩堝を交換する坩堝交換機構を設けたことを特徴とする請求項６記載の成膜装置。
  15. 　前記成膜室に前記蒸発源の前記成膜材料が収納される坩堝を交換する坩堝交換機構を設けたことを特徴とする請求項７記載の成膜装置。
  16. 　前記成膜室に前記蒸発源の前記成膜材料が収納される坩堝を交換する坩堝交換機構を設けたことを特徴とする請求項８記載の成膜装置。
  17. 　前記成膜室に前記蒸発源の前記成膜材料が収納される坩堝を交換する坩堝交換機構を設けたことを特徴とする請求項９記載の成膜装置。
  18. 　前記アライメント駆動機構は、前記成膜室の外部に設けられこの成膜室の上部側に固定される上部側固定ベース部と、この上部側固定ベース部に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な上部側移動ベース部と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記上部側移動ベース部に支持され、他端が前記成膜室の上部に設けた上部貫通孔を通じて前記成膜室内の前記アライメント枠の上部に連結する上部側連結体とから成る上部側駆動機構か若しくは、前記成膜室の外部に設けられこの成膜室の下部側に固定される下部側固定ベース部と、この下部側固定ベース部に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な下部側移動ベース部と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記下部側移動ベース部に支持され、他端が前記成膜室の下部に設けた下部貫通孔を通じて前記成膜室内の前記アライメント枠の下部に連結する下部側連結体とから成る下部側駆動機構で構成し、前記上部側連結体及び前記下部側連結体の前記アライメント枠との連結部は前記上部貫通孔及び前記下部貫通孔を夫々気密状態で封止するベローズを介して前記成膜室内に設けたことを特徴とする請求項２～１７のいずれか１項に記載の成膜装置。
  19. 　前記アライメント駆動機構は、前記成膜室の外部に設けられこの成膜室の上部側に固定される上部側固定ベース部と、この上部側固定ベース部に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な上部側移動ベース部と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記上部側移動ベース部に支持され、他端が前記成膜室の上部に設けた上部貫通孔を通じて前記成膜室内の前記アライメント枠の上部に連結する上部側連結体とから成る上部側駆動機構と、前記成膜室の外部に設けられこの成膜室の下部側に固定される下部側固定ベース部と、この下部側固定ベース部に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な下部側移動ベース部と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記下部側移動ベース部に支持され、他端が前記成膜室の下部に設けた下部貫通孔を通じて前記成膜室内の前記アライメント枠の下部に連結する下部側連結体とから成る下部側駆動機構とで構成し、前記上部側連結体及び前記下部側連結体の前記アライメント枠との連結部は前記上部貫通孔及び前記下部貫通孔を夫々気密状態で封止するベローズを介して前記成膜室内に設けたことを特徴とする請求項２～１７のいずれか１項に記載の成膜装置。
  20. 　前記アライメント駆動機構は、前記成膜室の外部に設けられこの成膜室の上部側に固定される上部側固定ベース部と、この上部側固定ベース部に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な上部側移動ベース部と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記上部側移動ベース部に支持され、他端が前記成膜室の上部に設けた上部貫通孔を通じて前記成膜室内の前記アライメント枠の上部に連結する上部側連結体とから成る上部側駆動機構か若しくは、前記成膜室の外部に設けられこの成膜室の下部側に固定される下部側固定ベース部と、この下部側固定ベース部に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な下部側移動ベース部と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記下部側移動ベース部に支持され、他端が前記成膜室の下部に設けた下部貫通孔を通じて前記成膜室内の前記アライメント枠の下部に連結する下部側連結体とから成る下部側駆動機構で構成し、前記上部側駆動機構若しくは前記下部側駆動機構に、Ｘ方向用駆動装置若しくはＹ方向用駆動装置またはその双方を設け、このＸ方向用駆動装置及びＹ方向用駆動装置により前記上部側移動ベース部若しくは前記下部側移動ベース部を上部側固定ベース部若しくは下部側固定ベース部に対してＸ方向及びＹ方向に移動せしめることで、前記上部側連結体若しくは前記下部側連結体を介して前記アライメント枠をＸ，Ｙ及びθ方向に調整移動し得るように構成し、前記上部側連結体及び前記下部側連結体の前記アライメント枠との連結部は前記上部貫通孔及び前記下部貫通孔を夫々気密状態で封止するベローズを介して前記成膜室内に設けたことを特徴とする請求項２～１７のいずれか１項に記載の成膜装置。
  21. 　前記アライメント駆動機構は、前記成膜室の外部に設けられこの成膜室の上部側に固定される上部側固定ベース部と、この上部側固定ベース部に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な上部側移動ベース部と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記上部側移動ベース部に支持され、他端が前記成膜室の上部に設けた上部貫通孔を通じて前記成膜室内の前記アライメント枠の上部に連結する上部側連結体とから成る上部側駆動機構と、前記成膜室の外部に設けられこの成膜室の下部側に固定される下部側固定ベース部と、この下部側固定ベース部に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な下部側移動ベース部と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記下部側移動ベース部に支持され、他端が前記成膜室の下部に設けた下部貫通孔を通じて前記成膜室内の前記アライメント枠の下部に連結する下部側連結体とから成る下部側駆動機構とで構成し、前記上部側駆動機構及び前記下部側駆動機構に、夫々Ｘ方向用駆動装置若しくはＹ方向用駆動装置またはその双方を設け、このＸ方向用駆動装置及びＹ方向用駆動装置により前記上部側移動ベース部及び前記下部側移動ベース部を上部側固定ベース部及び下部側固定ベース部に対してＸ方向及びＹ方向に移動せしめることで、前記上部側連結体及び前記下部側連結体を介して前記アライメント枠をＸ，Ｙ及びθ方向に調整移動し得るように構成し、前記上部側連結体及び前記下部側連結体の前記アライメント枠との連結部は前記上部貫通孔及び前記下部貫通孔を夫々気密状態で封止するベローズを介して前記成膜室内に設けたことを特徴とする請求項１８記載の成膜装置。
  22. 　前記アライメント駆動機構は、前記成膜室の外部に設けられこの成膜室の上部側に固定される上部側固定ベース部と、この上部側固定ベース部に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な上部側移動ベース部と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記上部側移動ベース部に支持され、他端が前記成膜室の上部に設けた上部貫通孔を通じて前記成膜室内の前記アライメント枠の上部に連結する上部側連結体とから成る上部側駆動機構と、前記成膜室の外部に設けられこの成膜室の下部側に固定される下部側固定ベース部と、この下部側固定ベース部に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な下部側移動ベース部と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記下部側移動ベース部に支持され、他端が前記成膜室の下部に設けた下部貫通孔を通じて前記成膜室内の前記アライメント枠の下部に連結する下部側連結体とから成る下部側駆動機構とで構成し、前記上部側駆動機構及び前記下部側駆動機構に、夫々Ｘ方向用駆動装置若しくはＹ方向用駆動装置またはその双方を設け、このＸ方向用駆動装置及びＹ方向用駆動装置により前記上部側移動ベース部及び前記下部側移動ベース部を上部側固定ベース部及び下部側固定ベース部に対してＸ方向及びＹ方向に移動せしめることで、前記上部側連結体及び前記下部側連結体を介して前記アライメント枠をＸ，Ｙ及びθ方向に調整移動し得るように構成し、前記上部側連結体及び前記下部側連結体の前記アライメント枠との連結部は前記上部貫通孔及び前記下部貫通孔を夫々気密状態で封止するベローズを介して前記成膜室内に設けたことを特徴とする請求項１９記載の成膜装置。
  23. 　前記アライメント駆動機構は、前記成膜室の外部に設けられこの成膜室の上部側に固定される上部側固定ベース部と、この上部側固定ベース部に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な上部側移動ベース部と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記上部側移動ベース部に支持され、他端が前記成膜室の上部に設けた上部貫通孔を通じて前記成膜室内の前記アライメント枠の上部に連結する上部側連結体とから成る上部側駆動機構と、前記成膜室の外部に設けられこの成膜室の下部側に固定される下部側固定ベース部と、この下部側固定ベース部に対してマスク表面に平行なＸ方向及びＹ方向に移動可能な下部側移動ベース部と、一端が前記マスク表面上の回転方向であるθ方向に回転自在に前記下部側移動ベース部に支持され、他端が前記成膜室の下部に設けた下部貫通孔を通じて前記成膜室内の前記アライメント枠の下部に連結する下部側連結体とから成る下部側駆動機構とで構成し、前記上部側駆動機構及び前記下部側駆動機構に、夫々Ｘ方向用駆動装置若しくはＹ方向用駆動装置またはその双方を設け、このＸ方向用駆動装置及びＹ方向用駆動装置により前記上部側移動ベース部及び前記下部側移動ベース部を上部側固定ベース部及び下部側固定ベース部に対してＸ方向及びＹ方向に移動せしめることで、前記上部側連結体及び前記下部側連結体を介して前記アライメント枠をＸ，Ｙ及びθ方向に調整移動し得るように構成し、前記上部側連結体及び前記下部側連結体の前記アライメント枠との連結部は前記上部貫通孔及び前記下部貫通孔を夫々気密状態で封止するベローズを介して前記成膜室内に設けたことを特徴とする請求項２０記載の成膜装置。
  24. 　前記マスク表面に平行な上下方向であるＹ方向に前記下部側移動ベース部を移動せしめる前記下部側駆動機構に設けられる前記Ｙ方向用駆動装置は、前記各下部側移動ベース部を夫々独立して移動可能に構成し、前記上部側駆動機構には前記Ｙ方向用駆動装置を設けないことを特徴とする請求項２１記載の成膜装置。
  25. 　前記マスク表面に平行な上下方向であるＹ方向に前記下部側移動ベース部を移動せしめる前記下部側駆動機構に設けられる前記Ｙ方向用駆動装置は、前記各下部側移動ベース部を夫々独立して移動可能に構成し、前記上部側駆動機構には前記Ｙ方向用駆動装置を設けないことを特徴とする請求項２２記載の成膜装置。
  26. 　前記マスク表面に平行な上下方向であるＹ方向に前記下部側移動ベース部を移動せしめる前記下部側駆動機構に設けられる前記Ｙ方向用駆動装置は、前記各下部側移動ベース部を夫々独立して移動可能に構成し、前記上部側駆動機構には前記Ｙ方向用駆動装置を設けないことを特徴とする請求項２３記載の成膜装置。
  27. 　前記マスク表面に平行な上下方向であるＹ方向に前記上部側移動ベース部を移動せしめる前記上部側駆動機構に設けられる前記Ｙ方向用駆動装置は、前記各上部側移動ベース部を夫々独立して移動可能に構成し、前記下部側駆動機構には前記Ｙ方向用駆動装置を設けないことを特徴とする請求項２１記載の成膜装置。
  28. 　前記マスク表面に平行な上下方向であるＹ方向に前記上部側移動ベース部を移動せしめる前記上部側駆動機構に設けられる前記Ｙ方向用駆動装置は、前記各上部側移動ベース部を夫々独立して移動可能に構成し、前記下部側駆動機構には前記Ｙ方向用駆動装置を設けないことを特徴とする請求項２２記載の成膜装置。
  29. 　前記マスク表面に平行な上下方向であるＹ方向に前記上部側移動ベース部を移動せしめる前記上部側駆動機構に設けられる前記Ｙ方向用駆動装置は、前記各上部側移動ベース部を夫々独立して移動可能に構成し、前記下部側駆動機構には前記Ｙ方向用駆動装置を設けないことを特徴とする請求項２３記載の成膜装置。
  30. 　前記上部側移動ベース部は、前記上部側固定ベース部に対し前記上部側移動ベース部をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記上部側固定ベース部に連結し、前記上部側連結体は、前記各上部側移動ベース部に対し前記上部側連結体をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各上部側移動ベース部に連結し、前記下部側移動ベース部は、前記下部側固定ベース部に対し前記下部側移動ベース部をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記下部側固定ベース部に連結し、前記下部側連結体は、前記各下部側移動ベース部に対し前記下部側連結体をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各下部側移動ベース部に連結したことを特徴とする請求項２１記載の成膜装置。
  31. 　前記上部側移動ベース部は、前記上部側固定ベース部に対し前記上部側移動ベース部をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記上部側固定ベース部に連結し、前記上部側連結体は、前記各上部側移動ベース部に対し前記上部側連結体をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各上部側移動ベース部に連結し、前記下部側移動ベース部は、前記下部側固定ベース部に対し前記下部側移動ベース部をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記下部側固定ベース部に連結し、前記下部側連結体は、前記各下部側移動ベース部に対し前記下部側連結体をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各下部側移動ベース部に連結したことを特徴とする請求項２２記載の成膜装置。
  32. 　前記上部側移動ベース部は、前記上部側固定ベース部に対し前記上部側移動ベース部をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記上部側固定ベース部に連結し、前記上部側連結体は、前記各上部側移動ベース部に対し前記上部側連結体をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各上部側移動ベース部に連結し、前記下部側移動ベース部は、前記下部側固定ベース部に対し前記下部側移動ベース部をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記下部側固定ベース部に連結し、前記下部側連結体は、前記各下部側移動ベース部に対し前記下部側連結体をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各下部側移動ベース部に連結したことを特徴とする請求項２３記載の成膜装置。
  33. 　前記上部側移動ベース部は、前記上部側固定ベース部に対し前記上部側移動ベース部をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記上部側固定ベース部に連結し、前記上部側連結体は、前記各上部側移動ベース部に対し前記上部側連結体をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各上部側移動ベース部に連結し、前記下部側移動ベース部は、前記下部側固定ベース部に対し前記下部側移動ベース部をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記下部側固定ベース部に連結し、前記下部側連結体は、前記各下部側移動ベース部に対し前記下部側連結体をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各下部側移動ベース部に連結したことを特徴とする請求項２４記載の成膜装置。
  34. 　前記上部側移動ベース部は、前記上部側固定ベース部に対し前記上部側移動ベース部をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記上部側固定ベース部に連結し、前記上部側連結体は、前記各上部側移動ベース部に対し前記上部側連結体をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各上部側移動ベース部に連結し、前記下部側移動ベース部は、前記下部側固定ベース部に対し前記下部側移動ベース部をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記下部側固定ベース部に連結し、前記下部側連結体は、前記各下部側移動ベース部に対し前記下部側連結体をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各下部側移動ベース部に連結したことを特徴とする請求項２５記載の成膜装置。
  35. 　前記上部側移動ベース部は、前記上部側固定ベース部に対し前記上部側移動ベース部をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記上部側固定ベース部に連結し、前記上部側連結体は、前記各上部側移動ベース部に対し前記上部側連結体をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各上部側移動ベース部に連結し、前記下部側移動ベース部は、前記下部側固定ベース部に対し前記下部側移動ベース部をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記下部側固定ベース部に連結し、前記下部側連結体は、前記各下部側移動ベース部に対し前記下部側連結体をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各下部側移動ベース部に連結したことを特徴とする請求項２６記載の成膜装置。
  36. 　前記上部側移動ベース部は、前記上部側固定ベース部に対し前記上部側移動ベース部をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記上部側固定ベース部に連結し、前記上部側連結体は、前記各上部側移動ベース部に対し前記上部側連結体をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各上部側移動ベース部に連結し、前記下部側移動ベース部は、前記下部側固定ベース部に対し前記下部側移動ベース部をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記下部側固定ベース部に連結し、前記下部側連結体は、前記各下部側移動ベース部に対し前記下部側連結体をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各下部側移動ベース部に連結したことを特徴とする請求項２７記載の成膜装置。
  37. 　前記上部側移動ベース部は、前記上部側固定ベース部に対し前記上部側移動ベース部をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記上部側固定ベース部に連結し、前記上部側連結体は、前記各上部側移動ベース部に対し前記上部側連結体をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各上部側移動ベース部に連結し、前記下部側移動ベース部は、前記下部側固定ベース部に対し前記下部側移動ベース部をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記下部側固定ベース部に連結し、前記下部側連結体は、前記各下部側移動ベース部に対し前記下部側連結体をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各下部側移動ベース部に連結したことを特徴とする請求項２８記載の成膜装置。
  38. 　前記上部側移動ベース部は、前記上部側固定ベース部に対し前記上部側移動ベース部をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記上部側固定ベース部に連結し、前記上部側連結体は、前記各上部側移動ベース部に対し前記上部側連結体をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各上部側移動ベース部に連結し、前記下部側移動ベース部は、前記下部側固定ベース部に対し前記下部側移動ベース部をＸ方向及びＹ方向に案内する直動案内部を介して前記下部側固定ベース部に連結し、前記下部側連結体は、前記各下部側移動ベース部に対し前記下部側連結体をθ方向に案内する回動案内部を介して前記各下部側移動ベース部に連結したことを特徴とする請求項２９記載の成膜装置。
PCT/JP2011/079329 2010-12-28 2011-12-19 成膜装置 WO2012090753A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2011800635466A CN103339281A (zh) 2010-12-28 2011-12-19 成膜装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010-293492 2010-12-28
JP2010293492A JP2012140671A (ja) 2010-12-28 2010-12-28 成膜装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2012090753A1 true WO2012090753A1 (ja) 2012-07-05

Family

ID=46382864

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2011/079329 WO2012090753A1 (ja) 2010-12-28 2011-12-19 成膜装置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2012140671A (ja)
CN (1) CN103339281A (ja)
TW (1) TW201241206A (ja)
WO (1) WO2012090753A1 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013171811A (ja) * 2012-02-23 2013-09-02 Hitachi High-Technologies Corp 成膜装置
CN103290364A (zh) * 2013-05-23 2013-09-11 深圳市生波尔机电设备有限公司 连续式真空蒸发镀膜装置
WO2014017307A1 (ja) * 2012-07-25 2014-01-30 キヤノントッキ株式会社 蒸着装置
WO2018153481A1 (en) * 2017-02-24 2018-08-30 Applied Materials, Inc. Apparatus for vacuum processing
WO2019192678A1 (en) * 2018-04-03 2019-10-10 Applied Materials, Inc. Apparatus and vacuum system for carrier alignment in a vacuum chamber, and method of aligning a carrier
WO2019192679A1 (en) * 2018-04-03 2019-10-10 Applied Materials, Inc. Apparatus and vacuum system for carrier alignment in a vacuum chamber, and method of aligning a carrier
WO2019192677A1 (en) * 2018-04-03 2019-10-10 Applied Materials, Inc. Carrier for supporting a substrate or a mask
JP2020518122A (ja) * 2018-04-03 2020-06-18 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ 真空チャンバ内でキャリアを操作するための装置、真空堆積システム、および真空チャンバ内でキャリアを操作する方法

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5832985B2 (ja) * 2012-11-09 2015-12-16 住友重機械工業株式会社 成膜装置
JP6095405B2 (ja) * 2013-02-19 2017-03-15 株式会社アルバック アラインメント方法
CN105280842B (zh) * 2014-07-25 2017-07-25 上海和辉光电有限公司 用于在oled制程中量测子像素偏移量的方法
JP6582059B2 (ja) * 2015-04-01 2019-09-25 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ アライナ構造及びアライン方法
CN104862664B (zh) * 2015-05-19 2017-12-01 南通大学 一种图形化的氧化铝超薄薄膜的制备方法
TW201732997A (zh) * 2016-01-18 2017-09-16 Ｈｏｙａ股份有限公司 基板保持裝置、描繪裝置、光罩檢查裝置、及光罩之製造方法
KR20180100563A (ko) * 2017-02-03 2018-09-11 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 나란히 있는 기판들을 갖는 연속적인 증발을 위한 장치 및 방법
CN109563608A (zh) * 2017-02-24 2019-04-02 应用材料公司 用于基板载体和掩模载体的定位配置、用于基板载体和掩模载体的传送系统及其方法
WO2018166636A1 (en) * 2017-03-17 2018-09-20 Applied Materials, Inc. Apparatus for vacuum processing of a substrate, system for vacuum processing of a substrate, and method for transportation of a substrate carrier and a mask carrier in a vacuum chamber
JP6461235B2 (ja) * 2017-05-22 2019-01-30 キヤノントッキ株式会社 基板載置装置、成膜装置、基板載置方法、成膜方法、および電子デバイスの製造方法
CN109563610A (zh) * 2017-07-24 2019-04-02 应用材料公司 用于真空腔室内处理基板的设备和系统、及用于使基板载体相对于掩模载体对准的方法
CN109563609B (zh) * 2017-07-24 2021-04-13 应用材料公司 用于在真空腔室中处理基板的设备与系统和在真空腔室中运输载体的方法
KR101952521B1 (ko) * 2017-10-31 2019-02-26 캐논 톡키 가부시키가이샤 성막장치, 성막방법, 및 전자 디바이스 제조방법
KR20210033529A (ko) * 2018-08-07 2021-03-26 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 재료 증착 장치, 진공 증착 시스템, 및 대면적 기판을 프로세싱하는 방법
JP7379072B2 (ja) 2019-01-11 2023-11-14 キヤノントッキ株式会社 成膜装置、電子デバイスの製造装置、成膜方法及び電子デバイスの製造装置
KR102179271B1 (ko) * 2019-01-11 2020-11-16 캐논 톡키 가부시키가이샤 성막장치, 전자 디바이스 제조장치, 성막방법, 및 전자 디바이스 제조방법
JP7170016B2 (ja) * 2020-10-06 2022-11-11 キヤノントッキ株式会社 成膜装置
JP7379396B2 (ja) 2021-01-08 2023-11-14 キヤノントッキ株式会社 成膜装置、搬送方法、成膜方法及び電子デバイス製造方法

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003347047A (ja) * 2002-05-28 2003-12-05 Sony Corp 有機膜形成装置
JP2004079349A (ja) * 2002-08-19 2004-03-11 Sony Corp 薄膜形成装置
JP2004091913A (ja) * 2002-07-10 2004-03-25 Sony Corp 成膜装置および成膜方法
JP2005120476A (ja) * 2003-10-15 2005-05-12 Samsung Sdi Co Ltd 有機電界発光素子の垂直蒸着方法，その装置，及びそれに使用される蒸着源
JP2005154903A (ja) * 2003-11-26 2005-06-16 Samsung Sdi Co Ltd 蒸着膜形成方法及び蒸着膜形成装置
JP2006188754A (ja) * 2005-01-05 2006-07-20 Samsung Sdi Co Ltd 蒸着システム用蒸着源の駆動軸及びこれを具備した蒸着システム
JP2007177319A (ja) * 2005-12-28 2007-07-12 Samsung Sdi Co Ltd 蒸発源及びそれを用いた薄膜蒸着方法
JP2007332458A (ja) * 2006-05-18 2007-12-27 Sony Corp 蒸着装置および蒸着源ならびに表示装置の製造方法
JP2008010504A (ja) * 2006-06-27 2008-01-17 Tokki Corp アライメント装置及び方法
JP2010086956A (ja) * 2008-09-04 2010-04-15 Hitachi High-Technologies Corp 有機ｅｌデバイス製造装置及び同製造方法並びに成膜装置及び成膜方法
JP2010209459A (ja) * 2009-02-13 2010-09-24 Hitachi High-Technologies Corp 有機ｅｌデバイス製造装置及び成膜装置並びに有機ｅｌデバイス製造方法及び成膜方法
JP2011105962A (ja) * 2009-11-12 2011-06-02 Hitachi High-Technologies Corp 真空蒸着装置、真空蒸着方法、および、有機ｅｌ表示装置の製造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3257056B2 (ja) * 1992-09-04 2002-02-18 石川島播磨重工業株式会社 真空蒸着装置
TW490714B (en) * 1999-12-27 2002-06-11 Semiconductor Energy Lab Film formation apparatus and method for forming a film
JP2001270691A (ja) * 2000-03-28 2001-10-02 Shin Meiwa Ind Co Ltd 物体移送装置
KR101190106B1 (ko) * 2005-08-25 2012-10-11 히다치 조센 가부시키가이샤 진공 증착용 얼라인먼트 장치
TWI401832B (zh) * 2008-12-15 2013-07-11 Hitachi High Tech Corp Organic electroluminescent light making device, film forming apparatus and film forming method, liquid crystal display substrate manufacturing apparatus, and calibration apparatus and calibration method
JP5074368B2 (ja) * 2008-12-15 2012-11-14 株式会社日立ハイテクノロジーズ 成膜装置
JP5277060B2 (ja) * 2009-04-16 2013-08-28 株式会社日立ハイテクノロジーズ 真空蒸着装置

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003347047A (ja) * 2002-05-28 2003-12-05 Sony Corp 有機膜形成装置
JP2004091913A (ja) * 2002-07-10 2004-03-25 Sony Corp 成膜装置および成膜方法
JP2004079349A (ja) * 2002-08-19 2004-03-11 Sony Corp 薄膜形成装置
JP2005120476A (ja) * 2003-10-15 2005-05-12 Samsung Sdi Co Ltd 有機電界発光素子の垂直蒸着方法，その装置，及びそれに使用される蒸着源
JP2005154903A (ja) * 2003-11-26 2005-06-16 Samsung Sdi Co Ltd 蒸着膜形成方法及び蒸着膜形成装置
JP2006188754A (ja) * 2005-01-05 2006-07-20 Samsung Sdi Co Ltd 蒸着システム用蒸着源の駆動軸及びこれを具備した蒸着システム
JP2007177319A (ja) * 2005-12-28 2007-07-12 Samsung Sdi Co Ltd 蒸発源及びそれを用いた薄膜蒸着方法
JP2007332458A (ja) * 2006-05-18 2007-12-27 Sony Corp 蒸着装置および蒸着源ならびに表示装置の製造方法
JP2008010504A (ja) * 2006-06-27 2008-01-17 Tokki Corp アライメント装置及び方法
JP2010086956A (ja) * 2008-09-04 2010-04-15 Hitachi High-Technologies Corp 有機ｅｌデバイス製造装置及び同製造方法並びに成膜装置及び成膜方法
JP2010209459A (ja) * 2009-02-13 2010-09-24 Hitachi High-Technologies Corp 有機ｅｌデバイス製造装置及び成膜装置並びに有機ｅｌデバイス製造方法及び成膜方法
JP2011105962A (ja) * 2009-11-12 2011-06-02 Hitachi High-Technologies Corp 真空蒸着装置、真空蒸着方法、および、有機ｅｌ表示装置の製造方法

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013171811A (ja) * 2012-02-23 2013-09-02 Hitachi High-Technologies Corp 成膜装置
WO2014017307A1 (ja) * 2012-07-25 2014-01-30 キヤノントッキ株式会社 蒸着装置
CN103290364A (zh) * 2013-05-23 2013-09-11 深圳市生波尔机电设备有限公司 连续式真空蒸发镀膜装置
WO2018153481A1 (en) * 2017-02-24 2018-08-30 Applied Materials, Inc. Apparatus for vacuum processing
WO2019192678A1 (en) * 2018-04-03 2019-10-10 Applied Materials, Inc. Apparatus and vacuum system for carrier alignment in a vacuum chamber, and method of aligning a carrier
WO2019192679A1 (en) * 2018-04-03 2019-10-10 Applied Materials, Inc. Apparatus and vacuum system for carrier alignment in a vacuum chamber, and method of aligning a carrier
WO2019192677A1 (en) * 2018-04-03 2019-10-10 Applied Materials, Inc. Carrier for supporting a substrate or a mask
CN110557955A (zh) * 2018-04-03 2019-12-10 应用材料公司 用于支撑基板或掩模的载体
JP2020518122A (ja) * 2018-04-03 2020-06-18 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ 真空チャンバ内でキャリアを操作するための装置、真空堆積システム、および真空チャンバ内でキャリアを操作する方法
JP2020517815A (ja) * 2018-04-03 2020-06-18 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ 基板又はマスクを支持するためのキャリア
JP2020518121A (ja) * 2018-04-03 2020-06-18 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ 真空チャンバ内でキャリアをアライメントするための装置、真空システム、ならびに真空チャンバ内でキャリアをアライメントする方法
JP2020518123A (ja) * 2018-04-03 2020-06-18 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ 真空チャンバ内でキャリアを位置合わせするための装置および真空システム、ならびにキャリアを位置合わせする方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012140671A (ja) 2012-07-26
CN103339281A (zh) 2013-10-02
TW201241206A (en) 2012-10-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2012090753A1 (ja) 成膜装置
JP2012140671A5 (ja)
JP5639431B2 (ja) 成膜装置
US8916237B2 (en) Thin film deposition apparatus and method of depositing thin film
WO2007023553A1 (ja) 真空蒸着用アライメント装置
US10276797B2 (en) Vapor deposition device, vapor deposition method, and method for manufacturing organic electroluminescence element
JP4624236B2 (ja) 真空蒸着用アライメント装置
JP6093091B2 (ja) Ｘｙステージ、アライメント装置、蒸着装置
JP2009098052A (ja) 基板搬送装置用基板把持機構
KR20140139360A (ko) 증착용 기판이동부, 이를 포함하는 증착장치, 이를 이용한 유기발광 디스플레이 장치 제조방법 및 유기발광 디스플레이 장치
KR20140125180A (ko) 패터닝 슬릿 시트, 이를 구비하는 증착장치, 이를 이용한 유기발광 디스플레이 장치 제조방법 및 유기발광 디스플레이 장치
JP7290988B2 (ja) アライメント装置、成膜装置、アライメント方法、成膜方法および電子デバイスの製造方法
JP7113861B2 (ja) マスク取付装置、成膜装置、マスク取付方法、成膜方法、電子デバイスの製造方法
TW201444992A (zh) 沉積設備、製造有機發光顯示設備的方法、以及有機發光顯示設備
JP2019526701A (ja) 真空チャンバ内で基板を処理するための装置及びシステム、並びに真空チャンバ内でキャリアを搬送する方法
US9534288B2 (en) Deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using same, and organic light-emitting display apparatus manufactured by using deposition apparatus
JP5176631B2 (ja) 基板搬送装置及び基板検査装置
JP2013179223A (ja) 分割逐次近接露光装置及び分割逐次近接露光方法
KR102086550B1 (ko) 증착장치, 이를 이용한 유기발광 디스플레이 장치 제조 방법 및 유기발광 디스플레이 장치
JP5232112B2 (ja) 成膜装置
KR101800765B1 (ko) 테이블 장치 및 반송 장치
KR20120004071A (ko) Ｏｌｅｄ 제조용 박막 증착 장치
JP2022115267A (ja) アライメント装置、成膜装置および調整方法
JP2020518123A (ja) 真空チャンバ内でキャリアを位置合わせするための装置および真空システム、ならびにキャリアを位置合わせする方法
KR20100044446A (ko) 노광장비의 레티클 이송용 로봇

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 11853042

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

DPE1 Request for preliminary examination filed after expiration of 19th month from priority date (pct application filed from 20040101)
NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 11853042

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1