WO2005026585A1

WO2005026585A1 - ダイアフラムダンパ、その製造方法および製造装置

Info

Publication number: WO2005026585A1
Application number: PCT/JP2004/013212
Authority: WO
Inventors: Takuji Matsuki; Masahide Shimada
Original assignee: Eagle Industry Co., Ltd.
Priority date: 2003-09-12
Filing date: 2004-09-10
Publication date: 2005-03-24
Also published as: US20100162553A1; JP4824408B2; EP1666774A4; EP1666774A1; JPWO2005026585A1; US20060272144A1; US8402656B2; EP1666774B1

Abstract

　２枚のダイアフラム２の各フランジ６が相互に溶接されて内部に高圧ガスが封入される高圧室３を有するダイアフラムダンパ１を製造する方法である。それぞれのダイアフラム２を、磁気吸着可能な薄肉金属鋼板で構成し、圧力容器２０内に相互に向き合うように設けられた一対の治具３０，４０に、各ダイアフラム２を磁力によって保持させる。圧力容器２０を密封して真空置換した後に、圧力容器２０内に、ヘリウムを含む混合ガスを封入して加圧し、その後、一対の治具３０，４０を近づけて、一対のダイアフラム２の各フランジ６を密接させる。圧力容器２０内で治具３０，４０を同時に回転させて一対のダイアフラム２を回転させながら、ダイアフラム２のフランジ６にレーザ光を照射して当該フランジ６を全周溶接する。

Description

明細書

ダイアフラムダンバ、その製造方法および製造装置

技術分野

[0001] 本発明は、たとえば高圧燃料ポンプなどの脈動が生じる箇所に用いられる脈動吸収用のダイアフラムダンバ、その製造方法および製造装置に関する。

背景技術

[0002] 従来のこの種の脈動を吸収する装置としては、たとえば特開平 11— 280904号公報に示す装置が知られている。この公報に示す装置では、燃料ポンプ体に高圧アキュムレータが組み付けられている。この高圧アキュムレータ力燃料ポンプから吐出される燃料圧の脈動を吸収し、燃料圧の脈動幅を小さくして燃料の噴射量を安定化させている。

[0003] この公報に示す高圧アキュムレータは、厚肉円板状の高圧容器であるケースと、周縁部でケースに封止支持されて協働して高圧室を形成する可撓性の薄い金属円板状のダイァフラムと、ダイァフラムの変形限界を定める円板状のプレートとを備えてヽる。ダイアフラムはフラットなシート形状で一枚のみ使用されている。

[0004] この高圧アキュムレータを組み立てるには、ケースとダイァフラムの外周縁とを封止溶接し、その後プレートと溶接する。この組立後、ケースに設けられた気体封入口から高圧気体が封入される。気体封入口は、たとえば、気体封入口に圧入される鋼球と、鋼球に対して低圧側に溶接シールされる栓部材によって 2重にシールする構造となっている。

[0005] しかし、この公報に記載の高圧アキュムレータは、部品点数が多ぐ構造も複雑であり、製造にあたっても、ケース、プレートおよびダイァフラムの組立溶接工程と、高圧ガスの封入工程とが別工程となっているので、工程数および溶接部分が多く生産効率が悪い。

[0006] 一方、特公平 7— 45114号公報には、加圧した窒素ガスを封入した密封リレーのシール方法が記載されている。この密封リレーのシール装置は、ワークを収納するチヤンバーと、チャンバ一内に配置されたワークを支持するワーク支持体と、チャンバ一外に配置されチャンバ一内のワークに対してレーザ光を照射するレーザ出射ユニットとを備えている。ワーク支持体は、ワークの金属ケースを収納する凹部を有し、凹部内に装着した金属ケースの開口部に設けられたフランジに金属ベースを載置し、チヤンバー内に加圧した封入ガスを充填した後、ワーク支持体を回転させることにより、レーザ出射ユニットのレーザ光をフランジと金属ベースとの接触部に全周にわたって照射して溶接するようになっている。このようなレーザ溶接方法を用いれば、高圧ガスの封入と溶接が同時にできて気体封入する穴も不要となる。

[0007] し力し、この公報に示す密封リレーのシール方法では、金属ケースのフランジに金属ベースを載置するだけなので、シールすべきフランジと金属ベースの接触部にずれが生じるおそれがある。ずれが生じると、溶接部が円周方向に不均一となり、場合によっては溶け込み不足によってシール不良の原因ともなる。特に、レーザ出射ュ- ットがシール部位となる金属ケースのフランジよりも下方に位置し、下方力フランジに向けて斜めにレーザ光を照射しているので、金属ベースより金属ケースが張り出しているような部分では、金属ベース側に十分にレーザ光が届かず、溶け込み不足が生じやすい。その結果、内部に封入したガスが漏れやすいなどの問題がある。

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0008] 本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その第 1の目的は、溶接とガス封入ェ程を同時にでき、しかもシール部位の溶接を均一に行、得るダイアフラムダンバの製造方法およびその製造装置を提供することにある。

[0009] また、本発明の第 2の目的は、内部に封入したガスの漏れ検査が容易であり、しかも、封入したガスが長期間漏れにくぐ信頼性に優れたダイアフラムダンバを提供することである。

課題を解決するための手段

[0010] 上記目的を達成するために、本発明に係るダイアフラムダンバの製造方法は、

2枚のダイァフラムの各フランジが相互に溶接されて内部に高圧ガスが封入される高圧室を有するダイアフラムダンバを製造する方法であって、

それぞれの前記ダイアフラムを、磁気吸着可能な薄肉金属鋼板で構成し、圧力容器内に相互に向き合うように設けられた一対の治具に、各ダイアフラムを磁力によって保持させる工程と、

前記圧力容器を密封して真空置換した後に、前記圧力容器内に、ヘリウムを含む混合ガスを封入して加圧し、その後、一対の前記治具を近づけて、一対の前記ダイァフラムの各フランジを密接させる工程と、

前記圧力容器内で前記治具を同時に回転させて一対の前記ダイアフラムを回転させながら、前記ダイァフラムのフランジの外周端部に前記ダイァフラムの回転軸に対してほぼ直交する方向からレーザ光を照射して当該フランジを全周溶接する工程とを有する。

[0011] 本発明に係る製造方法では、封入すべきガスの雰囲気下の圧力容器の内部でダィァフラムを回転させて溶接するため、レーザ光の一回の照射で、ダイアフラムダンパの組立および密封溶接 (ガスの封入封止）が可能となる。また、一対のダイアフラムを、それぞれ治具で磁力により保持し、フランジを密接させてカゝら溶接するので、溶接されるフランジ同士の位置決めを正確に行うことができ、溶接部を円周方向に均一に形成することができる。

[0012] すなわち、本発明では、各ダイァフラムのフランジの外周端部同士を、ズレないように正確に密接させることができ、しカゝも、溶接とガス封入工程を同時にでき、シール部位の溶接を均一に行い得る。その結果、封入したガスが長期間漏れにくぐ信頼性に優れたダイアフラムダンバを提供することができる。

[0013] さらに、本発明では、ダイァフラムのフランジの真横力もフランジ外周端部を溶接することにより、上下両フランジに対してほぼ均等にレーザ光を照射することができる。その結果、両フランジ外周端部をほぼ均等に溶力して溶接部を形成することができ、溶接部によってフランジの接合面間を確実に封止することができる。

[0014] 好ましくは、各ダイァフラムは、

同心円状の環状凹部および環状凸部の繰り返しパターンが形成された薄板円板状の可撓部と、

この可撓部の外周に連続して形成され、前記可撓部と組み合わされて内部に高圧室用半割空間を形成するように断面円弧状に折り曲げられた位置決め部と、この位置決め部の外周に一体的に平板リング状に形成してある前記フランジとを有しこれらのダイアフラムカ相互に同一形状に成形されている。

[0015] ダイアフラムダンバでは、可撓部に接触して流れる流体の圧力変動に応じて、可撓部が橈み変形し、流体の圧力変動を防止することができる。その可撓部の外周に位置決め部を形成することで、治具に対して磁力により位置決めして取り付けることが容易になり、位置決め精度が向上する。その結果、高精度にレーザ溶接することができ、不良品の発生を低減できる。なお、ダイァフラムの位置決め部は、可撓部と組み合わされて内部に高圧室用半割空間を形成するように断面円弧状に折り曲げられた部分であり、単純な構造であり、ダイァフラムの製造工程が煩雑になることもない。

[0016] また、この方法では、同一形状のダイアフラム同士を溶接して成形するので、従来の高圧アキュムータに比べて構造が格段に簡素化できる。また、従来では必要としていた封止部品が不要で部品点数も少なぐ小型化を図ることができる。

[0017] 好ましくは、各治具には、各ダイアフラムを、前記位置決め部で位置決めするように保持する位置決め用凹部が形成してあり、前記位置決め用凹部の中央部に、各ダイァフラムを磁力により着脱可能に吸着する磁石が配置してある。この方法では、治具の構造もシンプルであり、し力も、ダイァフラムの位置決め精度が向上する。

[0018] 好ましくは、前記ヘリウムガスを含む混合ガス力 15— 25容積⁰ /₀のヘリウムガスと、 75— 85容積⁰ /₀のアルゴンガスとの混合ガスである。この混合ガスは、ダイァフラムのフランジ部が溶接されて各ダイァフラムの高圧室用半割空間が組み合わされて高圧室になる時に、その高圧室の内部に封入されるガスである。

[0019] この混合ガスにおけるヘリウムガスの容積％が低すぎると、溶接後に行うガス漏れ試験の検出感度が低下し、ガス漏れの検出精度が低下する傾向にある。また、へリウムガスの容積％が高すぎると、ガス漏れ試験に合格したダイアフラムダンバであったとしても、高圧室に封入してあるガスが長期間の使用により漏れて圧力低下が生じ、ダイアフラムダンバとしての機能が低下する傾向にある。したがって、上記の割合の混合ガスとすることにより、内部に封入したガスの漏れ検査が容易であり、しカゝも、封入したガスが長期間漏れにくぐ信頼性に優れたダイアフラムダンバを提供することができる。

[0020] 好ましくは、前記フランジを全周溶接する際には、前記圧力容器の内部は、前記混合ガスの圧力力ゲージ圧力で、 0. 1—0. 5MPaの圧力である。この混合ガスの圧力が、ダイアフラムダンバの高圧室に封入される混合ガスの初期ガス圧力となる。この圧力が低すぎると、ダイアフラムダンバとしての機能 (たとえば流体の脈動防止）が低下する傾向にあり、高すぎると、ダイアフラムダンバからガスが漏れやすくなる傾向にある。

[0021] 本発明に係るダイアフラムダンパは、上記のいずれかに記載の方法により製造される。

[0022] 本発明に係るダイアフラムダンバの製造装置は、

少なくとも一部でレーザ光を内部に導くことが可能な圧力容器と、

前記圧力容器内に回転自在でかつ回転軸方向に沿って相対的に接近および離反移動自在に設けられて!/、る一対の治具と、

前記圧力容器の外に配置され、前記治具の回転軸に対してほぼ直交する方向からレーザ光を前記フランジの外周端部に照射可能に配置してあるレーザ装置と、を備え、

各治具は、各ダイァフラムのフランジの内周側に設けられた位置決め部が当接して位置決め保持する凹部と、

各ダイァフラムを前記凹部に対して磁気吸着する磁石とを備えていることを特徴とする。

[0023] 本発明に係る製造装置によれば、本発明の製造方法を容易に実現することが可能になり、本発明に係る製造方法の作用効果を容易に実現することができる。

図面の簡単な説明

[0024] [図 1A]図 1Aは本発明の一実施形態に係るダイアフラムダンバの横断面図である。

[図 1B]図 1Bは図 1Aに示すダイアフラムダンバの平面図である。

[図 1C]図 1Cは図 1 Aに示すダイアフラムダンバの要部拡大断面図である。

[図 2]図 2は図 1A—図 1Cに示すダイァフラムダンバの使用例を示す概略図である。

[図 3A]図 3Aは図 1A—図 1Cに示すダイアフラムダンバを製造するための製造装置の一部断面図である。

[図 3B]図 3Bは図 3Aの要部拡大断面図である。

[図 4]図 4はダイアフラムダンバに封入される混合ガスにおけるヘリウムガスの容積％と、封入圧力の経時変化と、漏れガス検出感度との関係を示すグラフである。

発明を実施するための最良の形態

[0025] 以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。

図 1Aに示すように、この実施形態に係るダイアフラムダンバ 1は、一対のダイアフラム 2, 2を有する。これらのダイアフラム 2は、薄肉で可撓性の金属板によって相互に同一形状に成形され、図 1Bに示すように、平面図側から見て、同心円状の環状凹部および環状凸部の繰り返しパターン 7が形成された薄板円板状の可撓部 4を有する。

[0026] 可撓部 4の外周には、図 1Aに示すように、可撓部 4と組み合わされて内部に高圧室用半割空間 3aを形成するように断面円弧状に折り曲げられた位置決め部 5がー体的に形成してある。そして、この位置決め部 5の外周には、半径方向に張り出すように、平板リング状のフランジ 6がー体的に形成してある。

[0027] 一対のダイアフラム 2、 2の各フランジ 6, 6が相互に突き合わされ、可撓部 4, 4の間で半割空間 3aが組み合わされて高圧室 3が形成されるように、図 1Cに示すように、フランジ 6, 6の外周縁部 6a, 6aが全周的に溶接され溶接ビード 8が形成されている。

[0028] 本実施形態のダイアフラムダンバ 1は、たとえば図 2に示すように設置されて使用される。すなわち、ケース 11に形成された凹部 12が、凹部 12の開口部内周に嵌着される蓋体 13によって密閉されており、この密閉空間内にダイアフラムダンバ 1が装着され、密閉空間を第 1室 A1と第 2室 A2に区分している。

[0029] ダイアフラムダンバ 1は、そのフランジ 6が、蓋体 13と、凹部 12の内周壁に設けられた段部 12aとの間で挟まれて固定されている。また、蓋体 13はケース 11の上面に固定されるプレート 16によって押さえられている。

[0030] ケース 11には、第 1室 A1に通じる入口通路 14と出口通路 15とが設けられ、入口通路 14力も流入する流体の脈動圧をダイアフラムダンバ 1における可撓部 4の変形によつて吸収し、出口通路 15に送るようになつている。すなわち、ダイアフラムダンバ 1は、入口通路 14から出口通路 15を通して流れる流体の圧力脈動を吸収するように配置してある。

[0031] このような目的のために、本実施形態に係るダイアフラムダンバ 1の高圧室 3には、ヘリウム (He)ガスとアルゴン (Ar)ガスとの混合ガスが所定圧力で封入してある。高圧室 3への混合ガスの封入時の初期圧力 POは、特に限定されないが、ゲージ圧で、好ましくは 0. 1-0. 5MPaである。

[0032] また、高圧室 3への封入初期において、この混合ガスにおけるヘリウムガスの容積 %は、 15— 25容積⁰/。であり、アルゴンガスの容積％は、 75— 85容積⁰/。である。この混合ガスにおけるヘリウムガスの容積％力たとえば 15容積％よりも低すぎると、図 4 に示すように、図 1Cに示す溶接ビードの溶接後に行うガス漏れ試験のヘリウム検出感度が基準感度 Sxがよりも低下し、ガス漏れの検出精度が低下する傾向にある。基準感度 Sxは、最大感度 Smaxに対して、 80%以上の値である。この基準感度 Sx以下では、溶接後のガス漏れ試験の精度が低下し、不良品を判断しに《なる。

[0033] また、図 4に示すように、ヘリウムガスの容積％が 25容積％よりも高すぎると、溶接後のガス漏れ試験に合格したダイアフラムダンバであったとしても、高圧室に封入してあるガスが 10年間程度の長期間の使用により経時的に漏れて混合ガスの圧力 Px が封入初期圧 POに対して基準圧 Px以下に低下してしまう傾向にある。基準圧 Pxは、初期圧 P0に対して、 75%以上の値である。この基準圧 Px以下では、ダイアフラムダンバ 1を、たとえば図 2に示すように配置したとしても、圧力脈動防止効果が少なつてしまう。

[0034] したがって、高圧室 3に封入すべき混合ガスを、上記の割合の混合ガスとすることにより、内部に封入したガスの漏れ検査が容易であり、しカゝも、封入したガスが長期間漏れにくぐ信頼性に優れたダイアフラムダンバを提供することができる。

[0035] 次に、図 1Aに示すダイアフラムダンバ 1の製造方法について説明する。まず、一対のダイアフラム 2, 2を準備する。各ダイアフラム 2を製造するための金属板としては、厚さ 0. 1-0. 4mmの金属薄板が用いられる。この金属薄板の材質は、磁石により吸着可能な材質であれば特に限定されないが、好ましくは磁性ステンレス (析出硬化系ステンレス鋼等）、オーステナイト系ステンレス鋼 (力卩工硬化後）により構成してある [0036] この金属薄板に対して、プレス加工などを施すことにより、同心円状の環状凹部および環状凸部の繰り返しパターン 7が形成された可撓部 4と、半割空間 3aを形成するための位置決め部 5と、フランジ 6とが形成される。

[0037] 次に、このようにして準備された一対のダイアフラム 2を、図 3Aに示す製造装置 10 に取り付ける。

この製造装置 10は、レーザ光を透過可能な圧力容器 20と、この圧力容器 20内に回転自在でかつ回転軸方向に沿って相互に相対移動自在に設けられる上下一対の第 1 (上側)治具 30および第 2 (下側)治具 40とを有する。また、圧力容器 20の外には、圧力容器 20内にレーザ光を照射するレーザ装置 70が配置してある。

[0038] 圧力容器 20は、圧力室 22を取り囲む筒状の容器本体 23と、この容器本体 23の上下に取り付けられ圧力室 22の上下を密閉する上部壁 24と、底部壁 25とを備えており、容器本体 23の 1力所に窓 21が設けられている。この窓 21には、圧力室 22に面する内側の内側ガラス板 21aと、容器本体 23の一部として固定された外側ガラス板 21b とが設けられている。これら外側および内側ガラス板 21b, 21aをレーザ光 Lが透過するようになっている。内側ガラス板 21aは着脱自在で、溶接ヒューム等の清掃を可能としている。

[0039] 第 1および第 2治具 30, 40は共に円柱形状であり、それぞれの突き合わせ用先端側端面にダイアフラム 2を位置決め保持する凹部 31, 41が形成してある。凹部 31 , 4 1の中央底部には、それぞれ磁石 32, 42が配置してある。磁石 32, 42は、永久磁石でも電磁石でも良い。

[0040] 磁石 32, 42は、図 3Bに示すように、第 1,第 2治具 30, 40の両方にそれぞれ埋め込まれており、上部の第 1治具 30の磁石 32の磁力は、第 2治具 40の磁石 42の磁力よりも強く設定されている。磁石 32, 42の外周は磁力線を案内するヨーク 32a, 42a でそれぞれ覆われ、凹部 31, 41の底面中央部に各々設けられた嵌合凹部 31a, 41 aに嵌合されている。嵌合凹部 31a, 41aの底面にはねじ穴 31b, 41b力設けられ、ョーク 32a, 42a〖こ突設されたねじ軸 32b, 42bがねじ込み固定されている。

[0041] 第 1,第 2治具 30, 40の各凹部 31, 41には、それぞれダイアフラム 2, 2の可撓部 4 および位置決め部 5が位置決めされて入り込み、磁石 32, 42により吸着保持される。各ダイアフラム 2におけるフランジ 6の外周縁部は、各治具 30, 40の外周からはみ出すように、各凹部 31, 41には、それぞれダイアフラム 2, 2の可撓部 4および位置決め部 5が位置決めされて保持される。

[0042] 図 3Aに示すように、上部の第 1治具 30は、回転軸 51の下端部に固定してある。回転軸 51は、圧力容器 20の上部壁 24に形成された軸孔 24aに対して回転自在でかつ上下方向に摺動自在に挿入してある。回転軸 51は、不図示のモータや上下駆動機構によって駆動される。

[0043] 下部の第 2治具 40は、圧力容器 20の底部壁 25に形成された不図示の軸孔に回転自在に挿入される回転軸 61の下端部に装着されている。この回転軸 61は不図示のモータ等によって駆動される。

[0044] レーザ装置 70は、窓 21に対向して配置されており、出射されるレーザ光 Lの光軸が上下に不動の下側の第 2治具 40に保持されるダイアフラム 2のフランジ 6の外周端部 6aに対して水平 (ダイァフラムの回転軸に対してほぼ直交する）方向から当たるように位置合わせされている。レーザ装置 70としては、 YAGレーザ等種々のレーザ装置に適用可能である。

[0045] 次に、製造装置 10の動きについて説明する。まず、圧力容器 20を開き、圧力容器 20内に設けられた上下の第 1、第 2治具 30, 40にそれぞれダイアフラム 2, 2をセットする。各ダイアフラム 2, 2は、それぞれ第 1,第 2治具 30, 40に磁気吸着される。

[0046] 次に、圧力容器 20を密封し、真空置換を行う。この状態では第 1治具 30と第 2治具 40に保持されたダイアフラム 2, 2は互いに上下に離れて!/、る。

[0047] その後、圧力容器 20内に、ヘリウムガスおよびアルゴンガスを含む混合ガスを封入して加圧する。この混合ガスにおけるヘリウムガスおよびアルゴンガスの混合割合は、高圧室 3の内部に封入される混合ガスの混合割合と同じである。また、この圧力容器 20の内部における混合ガスの圧力は、高圧室 3の内部に封入される混合ガスの初期圧 POと同じである。

[0048] この加圧ガス雰囲気下で、回転軸 51を不図示の上下駆動機構によって下降させ、第 1治具 30を第 2治具 40に向けて押しつけ、ダイアフラム 2, 2のフランジ 6, 6同士を密着させる。 [0049] 次に、不図示の駆動装置によって第 1、第 2治具 30, 40に保持されたダイアフラム 2, 2を回転させながら、レーザ装置 70からレーザ光 Lを密接したダイアフラム 2, 2のフランジ 6, 6の外周端部 6a, 6aに照射し、フランジ 6, 6を全周溶接して溶接ビード 8 を形成し、高圧室 3の内部を密封する。

[0050] 次、で、圧力容器 20内のガスを大気解放し、圧力容器 20を開ヽて密封溶接されたダイアフラムダンバ 1を取り出す。

[0051] 取り出したダイアフラムダンバ 1について、不図示のヘリウムリーク試験機によってへリウムガスの漏れ量を測定し、良否判定を行う。アルゴンガスの漏れ量ではなぐヘリゥムガスの漏れ量を測定するのは、ヘリウムの方がアルゴンに比較して分子量が小さぐ漏れやすいからである。

[0052] 良否判定の基準は、たとえば、 1 X 10— ⁸[Pa'm³Zsec]以下の極めて微量な漏れ量に設定される。

[0053] 最後に、製造されたダイアフラムダンバ 1の全幅を計測し、予め設定されている数値に入っていれば合格とする。

[0054] なお、本発明にお、て、ヘリウムを含む混合ガスとしては、上記の混合ガスに限定されず、ヘリウムとアルゴン（He +Ar)、二酸化炭素とヘリウム（CO +He)、アルゴン

2

と二酸ィ匕炭素とヘリウム (Ar+CO +He)等、種々の混合ガスが適用可能である。ま

2

た、ヘリウム (He)の含有量は、上述したような理由により、好ましくは 20± 5容積⁰ /₀、さらに好ましくは 20士 3容積⁰ /₀、さらに好ましくは 20士 1容積⁰ /₀である。

[0055] 実験では、真空置換を 2 [kPa]程度としし、アルゴン (Ar) 80%、ヘリウム (He) 20 %の混合ガスを封入し、 0. 3 [MPa]まで加圧した。また、レーザ装置 70の設備としては、 LD (レーザダイオード)励起を使用し、量産条件として 220から 240Wの範囲で連続出力とした。ただし、溶け込みの状態を正にして条件を設定しているために、溶接速度および治具構造により出力を調整する。また、連続出力ではなぐパルス出力（PW)としてもよい。溶接速度としては、 1. 2-1. 8 [mZmin]で実施した。

[0056] なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなぐ本発明の範囲内で種々に改変することができる。

産業上の利用可能性以上のように、本発明の製造方法および製造装置により得られるダイアフラムバンパは、封入したガスが長期間漏れにくぐ信頼性に優れており、高圧燃料ポンプなどの脈動が生じる箇所に良好に用いることができる。

Claims

請求の範囲

[1] 2枚のダイァフラムの各フランジが相互に溶接されて内部に高圧ガスが封入される高圧室を有するダイアフラムダンバを製造する方法であって、

前記圧力容器内で前記治具を同時に回転させて一対の前記ダイアフラムを回転させながら、前記ダイァフラムのフランジの外周端部に前記ダイァフラムの回転軸に対してほぼ直交する方向からレーザ光を照射して当該フランジを全周溶接する工程とを有する

ダイアフラムダンバの製造方法。

[2] 各ダイァフラムは、

この可撓部の外周に連続して形成され、前記可撓部と組み合わされて内部に高圧室用半割空間を形成するように断面円弧状に折り曲げられた位置決め部と、この位置決め部の外周に一体的に平板リング状に形成してある前記フランジとを有しこれらのダイァフラムが、相互に同一形状に成形されていることを特徴とする請求項 1 に記載のダイアフラムダンバの製造方法。

[3] 各治具には、各ダイアフラムを、前記位置決め部で位置決めするように保持する位置決め用凹部が形成してあり、前記位置決め用凹部の中央部に、各ダイアフラムを磁力により着脱可能に吸着する磁石が配置してある請求項 2に記載のダイアフラムダンパの製造方法。

[4] 前記ヘリウムガスを含む混合ガス力 15— 25容積⁰ /₀のヘリウムガスと、 75— 85容積⁰ /₀のアルゴンガスとの混合ガスである請求項 1一 3のいずれかに記載のダイアフラムダンバの製造方法。

[5] 前記フランジを全周溶接する際には、前記圧力容器の内部は、前記混合ガスの圧力が、ゲージ圧力で、 0. 1-0. 5MPaの圧力である請求項 1一 4のいずれかに記載のダイアフラムダンバの製造方法。

[6] 請求項 1一 5のいずれかに記載の方法により製造されるダイアフラムダンバ。

[7] 少なくとも一部でレーザ光を内部に導くことが可能な圧力容器と、

各ダイァフラムを前記凹部に対して磁気吸着する磁石とを備えていることを特徴とするダイアフラムダンバの製造装置。