JP4824408B2 - ダイアフラムダンパ、その製造方法および製造装置 - Google Patents

Description

本発明は、たとえば高圧燃料ポンプなどの脈動が生じる箇所に用いられる脈動吸収用のダイアフラムダンパ、その製造方法および製造装置に関する。

従来のこの種の脈動を吸収する装置としては、たとえば特開平１１−２８０９０４号公報に示す装置が知られている。この公報に示す装置では、燃料ポンプ体に高圧アキュムレータが組み付けられている。この高圧アキュムレータが、燃料ポンプから吐出される燃料圧の脈動を吸収し、燃料圧の脈動幅を小さくして燃料の噴射量を安定化させている。

この公報に示す高圧アキュムレータは、厚肉円板状の高圧容器であるケースと、周縁部でケースに封止支持されて協働して高圧室を形成する可撓性の薄い金属円板状のダイアフラムと、ダイアフラムの変形限界を定める円板状のプレートとを備えている。ダイアフラムはフラットなシート形状で一枚のみ使用されている。

この高圧アキュムレータを組み立てるには、ケースとダイアフラムの外周縁とを封止溶接し、その後プレートと溶接する。この組立後、ケースに設けられた気体封入口から高圧気体が封入される。気体封入口は、たとえば、気体封入口に圧入される鋼球と、鋼球に対して低圧側に溶接シールされる栓部材によって２重にシールする構造となっている。

しかし、この公報に記載の高圧アキュムレータは、部品点数が多く、構造も複雑であり、製造にあたっても、ケース、プレートおよびダイアフラムの組立溶接工程と、高圧ガスの封入工程とが別工程となっているので、工程数および溶接部分が多く生産効率が悪い。

一方、特公平７−４５１１４号公報には、加圧した窒素ガスを封入した密封リレーのシール方法が記載されている。この密封リレーのシール装置は、ワークを収納するチャンバーと、チャンバー内に配置されたワークを支持するワーク支持体と、チャンバー外に配置されチャンバー内のワークに対してレーザ光を照射するレーザ出射ユニットとを備えている。ワーク支持体は、ワークの金属ケースを収納する凹部を有し、凹部内に装着した金属ケースの開口部に設けられたフランジに金属ベースを載置し、チャンバー内に加圧した封入ガスを充填した後、ワーク支持体を回転させることにより、レーザ出射ユニットのレーザ光をフランジと金属ベースとの接触部に全周にわたって照射して溶接するようになっている。このようなレーザ溶接方法を用いれば、高圧ガスの封入と溶接が同時にできて気体封入する穴も不要となる。

しかし、この公報に示す密封リレーのシール方法では、金属ケースのフランジに金属ベースを載置するだけなので、シールすべきフランジと金属ベースの接触部にずれが生じるおそれがある。ずれが生じると、溶接部が円周方向に不均一となり、場合によっては溶け込み不足によってシール不良の原因ともなる。特に、レーザ出射ユニットがシール部位となる金属ケースのフランジよりも下方に位置し、下方からフランジに向けて斜めにレーザ光を照射しているので、金属ベースより金属ケースが張り出しているような部分では、金属ベース側に十分にレーザ光が届かず、溶け込み不足が生じやすい。その結果、内部に封入したガスが漏れやすいなどの問題がある。

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その第１の目的は、溶接とガス封入工程を同時にでき、しかもシール部位の溶接を均一に行い得るダイアフラムダンパの製造方法およびその製造装置を提供することにある。

また、本発明の第２の目的は、内部に封入したガスの漏れ検査が容易であり、しかも、封入したガスが長期間漏れにくく、信頼性に優れたダイアフラムダンパを提供することである。

上記目的を達成するために、本発明に係るダイアフラムダンパの製造方法は、
２枚のダイアフラムの各フランジが相互に溶接されて内部に高圧ガスが封入される高圧室を有するダイアフラムダンパを製造する方法であって、
それぞれの前記ダイアフラムを、薄肉金属鋼板（好ましくは磁気吸着可能）で構成し、圧力容器内に相互に向き合うように設けられた一対の治具に、各ダイアフラムを、（好ましくは磁力によって）保持させる工程と、
前記圧力容器を密封して真空置換した後に、前記圧力容器内に、ヘリウム（好ましくはヘリウム及びアルゴン）を含む混合ガスを封入して加圧し、その後、一対の前記治具を近づけて、一対の前記ダイアフラムの各フランジを密接させる工程と、
前記圧力容器内で、（好ましくは前記治具を同時に回転させて一対の前記ダイアフラムを回転させながら、）前記ダイアフラムのフランジの外周端部を全周溶接（好ましくは前記ダイアフラムの回転軸に対してほぼ直交する方向からレーザ光を照射して当該フランジを全周溶接）する工程とを有する。

本発明に係る製造方法では、封入すべきガスの雰囲気下の圧力容器の内部で溶接するため、圧力容器の内部でダイアフラムを回転させながら、レーザ光の一回の照射で、ダイアフラムダンパの組立および密封溶接（ガスの封入封止）が可能となる。また、一対のダイアフラムを、それぞれ治具で、たとえば磁力により保持し、フランジを密接させてから溶接するので、溶接されるフランジ同士の位置決めを正確に行うことができ、溶接部を円周方向に均一に形成することができる。

すなわち、本発明では、各ダイアフラムのフランジの外周端部同士を、ズレないように正確に密接させることができ、しかも、溶接とガス封入工程を同時にでき、シール部位の溶接を均一に行い得る。その結果、封入したガスが長期間漏れにくく、信頼性に優れたダイアフラムダンパを提供することができる。

さらに、本発明では、ダイアフラムのフランジの真横からフランジ外周端部を溶接することにより、上下両フランジに対してほぼ均等にレーザ光を照射することができる。その結果、両フランジ外周端部をほぼ均等に溶かして溶接部を形成することができ、溶接部によってフランジの接合面間を確実に封止することができる。

好ましくは、各ダイアフラムは、
同心円状の環状凹部および環状凸部の繰り返しパターンが形成された薄板円板状の可撓部と、
この可撓部の外周に連続して形成され、前記可撓部と組み合わされて内部に高圧室用半割空間を形成するように断面円弧状に折り曲げられた位置決め部と、
この位置決め部の外周に一体的に平板リング状に形成してある前記フランジとを有し、
これらのダイアフラムが、相互に同一形状に成形されている。

ダイアフラムダンパでは、可撓部に接触して流れる流体の圧力変動に応じて、可撓部が撓み変形し、流体の圧力変動を防止することができる。その可撓部の外周に位置決め部を形成することで、治具に対して磁力により位置決めして取り付けることが容易になり、位置決め精度が向上する。その結果、高精度にレーザ溶接することができ、不良品の発生を低減できる。なお、ダイアフラムの位置決め部は、可撓部と組み合わされて内部に高圧室用半割空間を形成するように断面円弧状に折り曲げられた部分であり、単純な構造であり、ダイアフラムの製造工程が煩雑になることもない。

また、この方法では、同一形状のダイアフラム同士を溶接して成形するので、従来の高圧アキュムータに比べて構造が格段に簡素化できる。また、従来では必要としていた封止部品が不要で部品点数も少なく、小型化を図ることができる。

好ましくは、各治具には、各ダイアフラムを、前記位置決め部で位置決めするように保持する位置決め用凹部が形成してあり、前記位置決め用凹部の中央部に、各ダイアフラムを磁力により着脱可能に吸着する磁石が配置してある。この方法では、治具の構造もシンプルであり、しかも、ダイアフラムの位置決め精度が向上する。

好ましくは、前記ヘリウムガスを含む混合ガスが、１５〜２５容積％のヘリウムガスと、７５〜８５容積％のアルゴンガスとの混合ガスである。この混合ガスは、ダイアフラムのフランジ部が溶接されて各ダイアフラムの高圧室用半割空間が組み合わされて高圧室になる時に、その高圧室の内部に封入されるガスである。

この混合ガスにおけるヘリウムガスの容積％が低すぎると、溶接後に行うガス漏れ試験の検出感度が低下し、ガス漏れの検出精度が低下する傾向にある。また、ヘリウムガスの容積％が高すぎると、ガス漏れ試験に合格したダイアフラムダンパであったとしても、高圧室に封入してあるガスが長期間の使用により漏れて圧力低下が生じ、ダイアフラムダンパとしての機能が低下する傾向にある。したがって、上記の割合の混合ガスとすることにより、内部に封入したガスの漏れ検査が容易であり、しかも、封入したガスが長期間漏れにくく、信頼性に優れたダイアフラムダンパを提供することができる。

好ましくは、前記フランジを全周溶接する際には、前記圧力容器の内部は、前記混合ガスの圧力が、ゲージ圧力で、０．１〜０．５ＭＰａの圧力である。この混合ガスの圧力が、ダイアフラムダンパの高圧室に封入される混合ガスの初期ガス圧力となる。この圧力が低すぎると、ダイアフラムダンパとしての機能（たとえば流体の脈動防止）が低下する傾向にあり、高すぎると、ダイアフラムダンパからガスが漏れやすくなる傾向にある。

本発明に係るダイアフラムダンパは、上記のいずれかに記載の方法により製造される。

本発明に係るダイアフラムダンパの製造装置は、
少なくとも一部でレーザ光を内部に導くことが可能な圧力容器と、
前記圧力容器内に回転自在でかつ回転軸方向に沿って相対的に接近および離反移動自在に設けられている一対の治具と、
前記圧力容器の外に配置され、前記治具の回転軸に対してほぼ直交する方向からレーザ光を前記フランジの外周端部に照射可能に配置してあるレーザ装置と、を備え、
各治具は、各ダイアフラムのフランジの内周側に設けられた位置決め部が当接して位置決め保持する凹部と、
各ダイアフラムを前記凹部に対して磁気吸着する磁石とを備えていることを特徴とする。

本発明に係る製造装置によれば、本発明の製造方法を容易に実現することが可能になり、本発明に係る製造方法の作用効果を容易に実現することができる。

図１Ａは本発明の一実施形態に係るダイアフラムダンパの横断面図である。 図１Ｂは図１Ａに示すダイアフラムダンパの平面図である。 図１Ｃは図１Ａに示すダイアフラムダンパの要部拡大断面図である。 図２は図１Ａ〜図１Ｃに示すダイアフラムダンパの使用例を示す概略図である。 図３Ａは図１Ａ〜図１Ｃに示すダイアフラムダンパを製造するための製造装置の一部断面図である。 図３Ｂは図３Ａの要部拡大断面図である。 図４はダイアフラムダンパに封入される混合ガスにおけるヘリウムガスの容積％と、封入圧力の経時変化と、漏れガス検出感度との関係を示すグラフである。

以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図１Ａに示すように、この実施形態に係るダイアフラムダンパ１は、一対のダイアフラム２，２を有する。これらのダイアフラム２は、薄肉で可撓性の金属板によって相互に同一形状に成形され、図１Ｂに示すように、平面図側から見て、同心円状の環状凹部および環状凸部の繰り返しパターン７が形成された薄板円板状の可撓部４を有する。

可撓部４の外周には、図１Ａに示すように、可撓部４と組み合わされて内部に高圧室用半割空間３ａを形成するように断面円弧状に折り曲げられた位置決め部５が一体的に形成してある。そして、この位置決め部５の外周には、半径方向に張り出すように、平板リング状のフランジ６が一体的に形成してある。

一対のダイアフラム２、２の各フランジ６，６が相互に突き合わされ、可撓部４，４の間で半割空間３ａが組み合わされて高圧室３が形成されるように、図１Ｃに示すように、フランジ６，６の外周縁部６ａ，６ａが全周的に溶接され溶接ビード８が形成されている。

本実施形態のダイアフラムダンパ１は、たとえば図２に示すように設置されて使用される。すなわち、ケース１１に形成された凹部１２が、凹部１２の開口部内周に嵌着される蓋体１３によって密閉されており、この密閉空間内にダイアフラムダンパ１が装着され、密閉空間を第１室Ａ１と第２室Ａ２に区分している。

ダイアフラムダンパ１は、そのフランジ６が、蓋体１３と、凹部１２の内周壁に設けられた段部１２ａとの間で挟まれて固定されている。また、蓋体１３はケース１１の上面に固定されるプレート１６によって押さえられている。

ケース１１には、第１室Ａ１に通じる入口通路１４と出口通路１５とが設けられ、入口通路１４から流入する流体の脈動圧をダイアフラムダンパ１における可撓部４の変形によって吸収し、出口通路１５に送るようになっている。すなわち、ダイアフラムダンパ１は、入口通路１４から出口通路１５を通して流れる流体の圧力脈動を吸収するように配置してある。

このような目的のために、本実施形態に係るダイアフラムダンパ１の高圧室３には、ヘリウム（Ｈｅ）ガスとアルゴン（Ａｒ）ガスとの混合ガスが所定圧力で封入してある。高圧室３への混合ガスの封入時の初期圧力Ｐ０は、特に限定されないが、ゲージ圧で、好ましくは０．１〜０．５ＭＰａである。

また、高圧室３への封入初期において、この混合ガスにおけるヘリウムガスの容積％は、１５〜２５容積％であり、アルゴンガスの容積％は、７５〜８５容積％である。この混合ガスにおけるヘリウムガスの容積％が、たとえば１５容積％よりも低すぎると、図４に示すように、図１Ｃに示す溶接ビードの溶接後に行うガス漏れ試験のヘリウム検出感度が基準感度Ｓｘがよりも低下し、ガス漏れの検出精度が低下する傾向にある。基準感度Ｓｘは、最大感度Ｓｍａｘに対して、８０％以上の値である。この基準感度Ｓｘ以下では、溶接後のガス漏れ試験の精度が低下し、不良品を判断しにくくなる。

また、図４に示すように、ヘリウムガスの容積％が２５容積％よりも高すぎると、溶接後のガス漏れ試験に合格したダイアフラムダンパであったとしても、高圧室に封入してあるガスが１０年間程度の長期間の使用により経時的に漏れて混合ガスの圧力Ｐｘが封入初期圧Ｐ０に対して基準圧Ｐｘ以下に低下してしまう傾向にある。基準圧Ｐｘは、初期圧Ｐ０に対して、７５％以上の値である。この基準圧Ｐｘ以下では、ダイアフラムダンパ１を、たとえば図２に示すように配置したとしても、圧力脈動防止効果が少なってしまう。

したがって、高圧室３に封入すべき混合ガスを、上記の割合の混合ガスとすることにより、内部に封入したガスの漏れ検査が容易であり、しかも、封入したガスが長期間漏れにくく、信頼性に優れたダイアフラムダンパを提供することができる。

次に、図１Ａに示すダイアフラムダンパ１の製造方法について説明する。まず、一対のダイアフラム２，２を準備する。各ダイアフラム２を製造するための金属板としては、厚さ０．１〜０．４ｍｍの金属薄板が用いられる。この金属薄板の材質は、磁石により吸着可能な材質であれば特に限定されないが、好ましくは磁性ステンレス（析出硬化系ステンレス鋼等）、オーステナイト系ステンレス鋼（加工硬化後）により構成してある。

この金属薄板に対して、プレス加工などを施すことにより、同心円状の環状凹部および環状凸部の繰り返しパターン７が形成された可撓部４と、半割空間３ａを形成するための位置決め部５と、フランジ６とが形成される。

次に、このようにして準備された一対のダイアフラム２を、図３Ａに示す製造装置１０に取り付ける。
この製造装置１０は、レーザ光を透過可能な圧力容器２０と、この圧力容器２０内に回転自在でかつ回転軸方向に沿って相互に相対移動自在に設けられる上下一対の第１（上側）治具３０および第２（下側）治具４０とを有する。また、圧力容器２０の外には、圧力容器２０内にレーザ光を照射するレーザ装置７０が配置してある。

圧力容器２０は、圧力室２２を取り囲む筒状の容器本体２３と、この容器本体２３の上下に取り付けられ圧力室２２の上下を密閉する上部壁２４と、底部壁２５とを備えており、容器本体２３の１カ所に窓２１が設けられている。この窓２１には、圧力室２２に面する内側の内側ガラス板２１ａと、容器本体２３の一部として固定された外側ガラス板２１ｂとが設けられている。これら外側および内側ガラス板２１ｂ，２１ａをレーザ光Ｌが透過するようになっている。内側ガラス板２１ａは着脱自在で、溶接ヒューム等の清掃を可能としている。

第１および第２治具３０，４０は共に円柱形状であり、それぞれの突き合わせ用先端側端面にダイアフラム２を位置決め保持する凹部３１，４１が形成してある。凹部３１，４１の中央底部には、それぞれ磁石３２，４２が配置してある。磁石３２，４２は、永久磁石でも電磁石でも良い。

磁石３２，４２は、図３Ｂに示すように、第１，第２治具３０，４０の両方にそれぞれ埋め込まれており、上部の第１治具３０の磁石３２の磁力は、第２治具４０の磁石４２の磁力よりも強く設定されている。磁石３２，４２の外周は磁力線を案内するヨーク３２ａ，４２ａでそれぞれ覆われ、凹部３１，４１の底面中央部に各々設けられた嵌合凹部３１ａ，４１ａに嵌合されている。嵌合凹部３１ａ，４１ａの底面にはねじ穴３１ｂ，４１ｂが設けられ、ヨーク３２ａ，４２ａに突設されたねじ軸３２ｂ，４２ｂがねじ込み固定されている。

第１，第２治具３０，４０の各凹部３１，４１には、それぞれダイアフラム２，２の可撓部４および位置決め部５が位置決めされて入り込み、磁石３２，４２により吸着保持される。各ダイアフラム２におけるフランジ６の外周縁部は、各治具３０，４０の外周からはみ出すように、各凹部３１，４１には、それぞれダイアフラム２，２の可撓部４および位置決め部５が位置決めされて保持される。

図３Ａに示すように、上部の第１治具３０は、回転軸５１の下端部に固定してある。回転軸５１は、圧力容器２０の上部壁２４に形成された軸孔２４ａに対して回転自在でかつ上下方向に摺動自在に挿入してある。回転軸５１は、不図示のモータや上下駆動機構によって駆動される。

下部の第２治具４０は、圧力容器２０の底部壁２５に形成された不図示の軸孔に回転自在に挿入される回転軸６１の下端部に装着されている。この回転軸６１は不図示のモータ等によって駆動される。

レーザ装置７０は、窓２１に対向して配置されており、出射されるレーザ光Ｌの光軸が上下に不動の下側の第２治具４０に保持されるダイアフラム２のフランジ６の外周端部６ａに対して水平（ダイアフラムの回転軸に対してほぼ直交する）方向から当たるように位置合わせされている。レーザ装置７０としては、ＹＡＧレーザ等種々のレーザ装置に適用可能である。

次に、製造装置１０の動きについて説明する。まず、圧力容器２０を開き、圧力容器２０内に設けられた上下の第１、第２治具３０，４０にそれぞれダイアフラム２，２をセットする。各ダイアフラム２，２は、それぞれ第１，第２治具３０，４０に磁気吸着される。

次に、圧力容器２０を密封し、真空置換を行う。この状態では第１治具３０と第２治具４０に保持されたダイアフラム２，２は互いに上下に離れている。

その後、圧力容器２０内に、ヘリウムガスおよびアルゴンガスを含む混合ガスを封入して加圧する。この混合ガスにおけるヘリウムガスおよびアルゴンガスの混合割合は、高圧室３の内部に封入される混合ガスの混合割合と同じである。また、この圧力容器２０の内部における混合ガスの圧力は、高圧室３の内部に封入される混合ガスの初期圧Ｐ０と同じである。

この加圧ガス雰囲気下で、回転軸５１を不図示の上下駆動機構によって下降させ、第１治具３０を第２治具４０に向けて押しつけ、ダイアフラム２，２のフランジ６，６同士を密着させる。

次に、不図示の駆動装置によって第１、第２治具３０，４０に保持されたダイアフラム２，２を回転させながら、レーザ装置７０からレーザ光Ｌを密接したダイアフラム２，２のフランジ６，６の外周端部６ａ，６ａに照射し、フランジ６，６を全周溶接して溶接ビード８を形成し、高圧室３の内部を密封する。

次いで、圧力容器２０内のガスを大気解放し、圧力容器２０を開いて密封溶接されたダイアフラムダンパ１を取り出す。

取り出したダイアフラムダンパ１について、不図示のヘリウムリーク試験機によってヘリウムガスの漏れ量を測定し、良否判定を行う。アルゴンガスの漏れ量ではなく、ヘリウムガスの漏れ量を測定するのは、ヘリウムの方がアルゴンに比較して分子量が小さく、漏れやすいからである。

良否判定の基準は、たとえば、１×１０^−８［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］以下の極めて微量な漏れ量に設定される。

最後に、製造されたダイアフラムダンパ１の全幅を計測し、予め設定されている数値に入っていれば合格とする。

なお、本発明において、ヘリウムを含む混合ガスとしては、上記の混合ガスに限定されず、ヘリウムとアルゴン（Ｈｅ＋Ａｒ）、二酸化炭素とヘリウム（ＣＯ_２＋Ｈｅ）、アルゴンと二酸化炭素とヘリウム（Ａｒ＋ＣＯ_２＋Ｈｅ）等、種々の混合ガスが適用可能である。また、ヘリウム（Ｈｅ）の含有量は、上述したような理由により、好ましくは２０±５容積％、さらに好ましくは２０±３容積％、さらに好ましくは２０±１容積％である。

実験では、真空置換を２［ｋＰａ］程度としし、アルゴン（Ａｒ）８０％、ヘリウム（Ｈｅ）２０％の混合ガスを封入し、０．３［ＭＰａ］まで加圧した。また、レーザ装置７０の設備としては、ＬＤ（レーザダイオード）励起を使用し、量産条件として２２０から２４０Ｗの範囲で連続出力とした。ただし、溶け込みの状態を正にして条件を設定しているために、溶接速度および治具構造により出力を調整する。また、連続出力ではなく、パルス出力（ＰＷ）としてもよい。溶接速度としては、１．２〜１．８［ｍ／ｍｉｎ］で実施した。

なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。

以上のように、本発明の製造方法および製造装置により得られるダイアフラムバンパは、封入したガスが長期間漏れにくく、信頼性に優れており、高圧燃料ポンプなどの脈動が生じる箇所に良好に用いることができる。

Claims (8)

1. ２枚のダイアフラムの各フランジが相互に溶接されて内部に高圧ガスが封入される高圧室を有するダイアフラムダンパを製造する方法であって、
   それぞれの前記ダイアフラムを、薄肉金属鋼板で構成し、圧力容器内に相互に向き合うように設けられた一対の治具に、各ダイアフラムを保持させる工程と、
   前記圧力容器を密封して真空置換した後に、前記圧力容器内に、１５〜２５容積％のヘリウムを含む混合ガスを封入して、ゲージ圧力で０．１〜０．５ＭＰａに加圧し、その後、一対の前記治具を近づけて、一対の前記ダイアフラムの各フランジを密接させる工程と、
   前記圧力容器内で一対の前記治具を同時に回転させて一対の前記ダイアフラムを回転させながら、前記ダイアフラムのフランジの外周端部に前記ダイアフラムの回転軸に対してほぼ直交する方向からレーザ光を照射して当該フランジを全周溶接する工程とを有し、
   各ダイアフラムは、
   薄板円板状の可撓部と、
   この可撓部の外周に連続して形成され、前記可撓部と組み合わされて内部に高圧室用半割空間を形成するように断面円弧状に折り曲げられた位置決め部と、
   この位置決め部の外周に一体的に平板リング状に形成してある前記フランジとを有し、
   一対の前記治具のそれぞれには、各ダイアフラムを、前記位置決め部で位置決めするとともに、各ダイアフラムの前記可撓部および前記位置決め部を収容するようにして各ダイアフラムを保持する位置決め用凹部が形成してあり、
   各ダイアフラムの前記可撓部および前記位置決め部が前記治具の前記位置決め用凹部に収容され、各治具を押し付けて各ダイアフラムの前記フランジ同士を密着させて、各ダイアフラムにおける前記フランジの前記外周端部が前記治具の外周から突出した状態でレーザ光が照射され当該フランジを全周溶接することを特徴とするダイアフラムダンパの製造方法。
2. 前記ダイアフラムを、磁気吸着可能な薄肉金属鋼板で構成し、前記圧力容器内に相互に向き合うように設けられた一対の前記治具に、各ダイアフラムを磁力によって保持させることを特徴とする請求項１に記載のダイアフラムダンパの製造方法。
3. 前記混合ガスが、ヘリウムガスとアルゴンガスとを含む混合ガスであり、
   前記圧力容器内から取り出した前記ダイアフラムダンパについて前記ヘリウムガスの漏れ量を測定して当該ダイアフラムダンパの良否判定を行うことを特徴とする請求項１または２に記載のダイアフラムダンパの製造方法。
4. 前記混合ガスが、さらに、７５〜８５容積％のアルゴンガスを含む請求項３に記載のダイアフラムダンパの製造方法。
5. 前記可撓部には、同心円状の環状凹部および環状凸部の繰り返しパターンが形成されており、
   各ダイアフラムが、相互に同一形状に成形されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のダイアフラムダンパの製造方法。
6. 各治具には、前記位置決め用凹部の中央部に、各ダイアフラムを磁力により着脱可能に吸着する磁石が配置してある請求項５に記載のダイアフラムダンパの製造方法。
7. 請求項１〜６のいずれかに記載の方法により製造されるダイアフラムダンパ。
8. 少なくとも一部でレーザ光を内部に導くことが可能な圧力容器と、
   前記圧力容器内に、１５〜２５容積％のヘリウムを含む混合ガスを封入して、ゲージ圧力で０．１〜０．５ＭＰａに加圧する手段と、
   前記圧力容器内に回転自在でかつ回転軸方向に沿って相対的に接近および離反移動自在に設けられている一対の治具と、
   前記圧力容器の外に配置され、前記治具の回転軸に対してほぼ直交する方向からレーザ光をフランジの外周端部に照射可能に配置してあるレーザ装置と、を備え、
   各治具は、各ダイアフラムの前記フランジの内周側に設けられた位置決め部が当接して位置決め保持し、各ダイアフラムの前記フランジの外周端部以外の部分を収容する凹部と、
   各ダイアフラムを前記凹部に対して磁気吸着する磁石とを備え、
   各治具を押し付けて各ダイアフラムの前記フランジ同士を密着させて、各ダイアフラムにおける前記フランジの前記外周端部が前記治具の外周から突出した状態でレーザ光が照射され当該フランジを全周溶接することを特徴とするダイアフラムダンパの製造装置。

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