TWI588198B - 用於封裝顯示器的組成物以及含有其的顯示器 裝置 - Google Patents
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Description
本申請案主張2014年10月29日在韓國智慧財產局提出申請的韓國專利申請案第10-2014-0148655號及2015年4月09日在韓國智慧財產局提出申請的韓國專利申請案第10-2015-0050504號的權益,所述專利申請案的全部揭示內容以引用的方式併入本文中。
本發明是有關於一種用於封裝顯示器的組成物、包括其的有機保護層、以及包括其的顯示器裝置。
通常用於光學顯示器裝置的有機電致發光元件可由於環境因素(諸如濕氣或氣體)而遭受發光特性的退化或劣化。特定言之,金屬場與有機發射層之間的介面將由於濕氣而分層。另外,將由於金屬氧化而出現高電阻,且有機材料本身將因濕氣或
氧氣而劣化。此外,有機材料及電極材料將因來自外部或內部環境的釋氣而遭遇氧化,且有機場致發光元件可具有降低的發光特性。因此,有機場致發光元件必須用封裝組成物封裝以保護其免受濕氣或氧氣的影響。
有機場致發光元件已封裝在形成有無機保護層及有機保護層的多層結構中。無機保護層可藉由電漿沈積法形成,其可導致有機保護層被電漿蝕刻。當有機保護層被蝕刻時,可損害有機保護層的封裝功能。因此,有機發光元件可遭受發光特性及可靠性的劣化。
就此方面而言,本發明的背景揭示於韓國公開專利公開案第2011-0071039 A號(LG顯示器)中。
在一個態樣中,本發明提供一種用於封裝顯示器的組成物,其獲得具有高電漿耐受性的有機保護層。
在另一個態樣中,本發明提供一種用於封裝顯示器的組成物,其獲得具有顯著低透濕性及低透氧性的有機保護層。
在又一個態樣中,本發明提供一種用於封裝顯示器的組成物,其獲得具有極好透明度的有機保護層。
在又一個態樣中,本發明提供一種用於封裝顯示器的組成物,其獲得具有低表面粗糙度以產生高表面光滑度的有機保護層。
在又一個態樣中,本發明提供一種用於封裝顯示器的組成物,其獲得有機保護層來保護裝置免受包含濕氣及氣體的環境的影響以向裝置提供時間相依可靠性。
在又一個態樣中,本發明提供一種顯示器裝置,其包含用於封裝顯示器的組成物的固化產物。
在本發明的一個態樣中,用於封裝顯示器的組成物可包含光可固化單體及光聚合起始劑,其中所述光可固化單體可包含含兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的單體;及不含芳族烴基的單體,且由所述組成物製備的固化產物可具有由方程式1表示的400奈米/分鐘或小於400奈米/分鐘的電漿蝕刻速率及2奈米或小於2奈米的表面粗糙度:[方程式1]電漿蝕刻速率(奈米/分鐘)=(T0-T1)/M
其中在方程式1中,T0為藉由噴霧將用於封裝顯示器的組成物施用於基板上且以100毫瓦/平方公分的劑量進行UV固化10秒所製備的樣品的厚度(奈米),T1為所製備的樣品在感應耦合電漿(inductively coupled plasma,ICP)功率2500瓦、射頻(radio frequency,RF)功率300瓦、直流偏壓200伏特、氬氣(Ar)流動速率50標準毫升/分鐘(sccm)以及壓力10毫托的條件下進行電漿處理1分鐘後的厚度(奈米),T0及T1各自為除去基板厚度
後的厚度,且M為電漿處理的時間(分鐘)。
在本發明的又一個態樣中,顯示器裝置可包含顯示器構件及在所述顯示器構件上形成的複合保護層,其中所述複合保護層可包含無機保護層及有機保護層,且所述有機保護層可包含由用於封裝顯示器的組成物製備的固化產物。
本發明的組成物可獲得具有高電漿耐受性的有機保護層。
本發明的組成物可獲得具有顯著低透濕性及透氧性的有機保護層。
本發明的組成物可獲得具有極好透明度的有機保護層。
本發明的組成物可獲得具有低表面粗糙度、產生高表面光滑度的有機保護層。
本發明的組成物可獲得有機保護層保護裝置避免包含濕氣及氣體的環境以向裝置提供時間依賴性可靠性。
10‧‧‧基板
20‧‧‧元件構件
30‧‧‧複合保護層
31‧‧‧無機保護層
32‧‧‧有機保護層
40‧‧‧內部空間
100、200‧‧‧顯示器裝置
圖1為根據本發明的一個實施例的顯示器裝置的截面視圖。
圖2為根據本發明的另一個實施例的顯示器裝置的截面視圖。
現在將詳細描述本發明的實施例。應瞭解,本發明不限於以下實施例且可以不同的方式體現。雖然出於描述便利性描述某一部分元件,但熟習此項技術者可易於瞭解其他部分元件。在圖式中,為清楚起見,元件的寬度及厚度可以放大形式表現且可省略一些不相關的元件。此外,本發明的精神可在不背離本發明的技術精神的情況下由熟習此項技術者以各種其他形式實施。
參照隨附圖式定義諸如「上部」及「下部」等本文所用的術語。因此,應瞭解,術語「上表面」可與術語「下表面」互換使用。術語「在......上」涵蓋一個元件「直接」安置「在」另一結構「上」,及可插入其他結構。同時,術語「直接在......上」意指未插入其他結構。
本文所用的術語「(甲基)丙烯基」係指丙烯基及/或甲基丙烯基。
除非另作說明,否則本文所用的術語「經取代」意指官能基當中的至少一個氫原子經羥基、硝基、亞胺基(=NH、=NR,其中R為C1至C10烷基)、脒基、肼基或腙基、羧基、C1至C20烷基、C6至C30芳基、C3至C30雜芳基或C2至C30雜環烷基取代。
本文所用的術語「雜原子」意指由N、O、S以及P組成的群組中選出的任何原子,且術語「雜」意指碳原子經由N、O、S以及P組成的群組中選出的任何一個原子取代。
本文所用的「電漿耐受性」可視當對封裝組成物的固化產物進行電漿處理時所進行的蝕刻的蝕刻速率而確定。蝕刻速率
愈低表示電漿耐受性愈高。
本文所用的「伸烷基」意指在(甲基)丙烯酸酯每一末端之間經由無雙鍵的飽和烴附接的烷二基。另外,伸烷基的碳原子數目意指除二(甲基)丙烯酸酯基中的碳原子以外,伸烷基本身的碳原子數目。
在本發明的一個態樣中,用於封裝顯示器的組成物可包含光可固化單體及光聚合起始劑,其中所述光可固化單體可包含不含芳族烴基的單體;及含兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的單體,且所述組成物可具有由方程式1表示的400奈米/分鐘或小於400奈米/分鐘的電漿蝕刻速率及藉由原子力顯微鏡量測的2奈米或小於2奈米的表面粗糙度:[方程式1]電漿蝕刻速率(奈米/分鐘)=(T0-T1)/M
其中在方程式1中,T0為藉由噴霧將用於封裝顯示器的組成物施用於基板上且以100毫瓦/平方公分的劑量進行UV固化10秒所製備的樣品的厚度(奈米);T1為所製備的樣品在ICP(感應耦合電漿)功率2500瓦、RF(射頻)功率300瓦、直流偏壓200伏特、氬氣(Ar)流動速率50標準毫升/分鐘以及壓力10毫托的條件下進行電漿處理1分鐘後的厚度(奈米),T0及T1各自為除去基板厚度後的厚度;且M為電漿處理的時間(分鐘)。
當在有機場致發光元件上或形成於有機場致發光元件上的無機保護層上形成有機保護層時,使用在固化後具有電漿蝕刻速率的光可固化單體可對有機保護層提供顯著低的電漿蝕刻速率,其表示由電漿處理所導致的有機保護層的損害。詳言之,電漿蝕刻速率可為約400奈米/分鐘或小於400奈米/分鐘、特定言之可為約10奈米/分鐘至約390奈米/分鐘且更特定言之可為10奈米/分鐘至385奈米/分鐘。由方程式1表示的大於約400奈米/分鐘的電漿蝕刻速率可導致有機保護層的損害增加及元件可靠性降低。
當用於封裝顯示器的組成物沈積於基板上時,表面粗糙度為沈積表面的粗糙度,是對其屈曲進行量測而得。較低表面粗糙度可有助於顯示器的光滑度。
本文中所用的粗糙度可藉由熟習此項技術者所熟知的一般方法根據粗糙度量測來確定。舉例而言,其可使用原子力顯微鏡(atomic force microscope,AFM)確定。根據本發明,使用AFM量測的表面粗糙度(沈積表面的粗糙度)可為較佳2奈米或小於2奈米且特定言之0奈米至約2奈米、0奈米至1.9奈米、0奈米至1.85奈米。根據本發明,在沈積有機保護層後,若表面粗糙度為2奈米或小於2奈米,則可提供具有光滑表面的有機保護層及具有光滑表面的無機保護層。若表面粗糙度大於2奈米,則有機保護層可具有不光滑的表面,且當無機保護層沈積於固化產物表面上時,無機保護層可容易破碎。
光可固化單體意指能夠藉由光聚合起始劑進行固化反應的光可固化單體。不含矽(Si)原子的無矽單體可用作光可固化單體。舉例而言,其可為(但不限於)由自C、H、O、N以及S選出的元素組成的單體。光可固化單體可藉由典型合成法合成或為市售產品。
光可固化單體可包含含兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的單體。特定言之,所述單體可包含由式(1)表示的結構:
其中A為具有兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的烴,或具有雜原子及兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的烴;Z1及Z2各自獨立地由式(2)表示;以及a和b分別為0至2的整數,且a+b為1至4的整數;
其中在式(2)中,*表示與A上碳原子的鏈接位點;
X為單鍵、O或S;Y為經取代或未經取代的C1至C10直鏈伸烷基或-R'O-(其中R'為經取代或未經取代的直鏈C1至C10伸烷基);R1為氫或C1至C5烷基;以及c為0或1。
在式(1)中,A為具有兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的烴,或具有雜原子及兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的烴。具有兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的烴或具有雜原子及兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的烴意指兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基未縮合而是經由單鍵、氧原子、硫原子、經取代或未經取代的C1至C5烷基、未經取代或經雜原子取代的C3至C6伸烷基、伸乙烯基、伸乙炔基或羰基鏈接的烴。舉例而言,具有兩個或多於兩個苯基的烴或具有雜原子及兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的烴可包含(但不限於)經取代或未經取代的聯苯基、經取代或未經取代的三苯甲基、經取代或未經取代的三聯苯基、經取代或未經取代的伸聯苯基、經取代或未經取代的伸三聯苯基、經取代或未經取代的伸四聯苯基、經取代或未經取代的2-苯基-2-(苯硫基)乙基、經取代或未經取代的2,2-二苯基丙基、經取代或未經取代的二苯基甲基、經取代或未經取代的枯基苯基、經取代或未經取代的雙酚F基、經取代或未經取代的雙酚A基、經取代或未經取代的聯苯氧基、經取代或未經取代的三聯苯氧基、經取代或未經取代的四聯苯氧
基、經取代或未經取代的五聯苯氧基及類似物。
含兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的單體可由單(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸酯或其混合物製備。且含兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的單體的實例包含(但不限於)4-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基二苯甲酮、(甲基)丙烯酸乙基-3,3-二苯酯、(甲基)丙烯酸苯甲醯氧基苯酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸-4-枯基苯氧基乙酯、乙氧基化雙苯基芴二丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基苯氧基乙酯、二(甲基)丙烯酸-2,2'-苯基苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基苯氧基丙酯、二(甲基)丙烯酸-2,2'-苯基苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基苯氧基丁酯、二(甲基)丙烯酸-2,2'-苯基苯氧基丁酯、(甲基)丙烯酸-2-(3-苯基苯基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(4-苯甲基苯基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基-2-(苯硫基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(三苯基甲氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸-4-(三苯基甲氧基)丁酯、(甲基)丙烯酸-3-(聯苯-2-基氧基)丁酯、(甲基)丙烯酸-2-(聯苯-2-基氧基)丁酯、(甲基)丙烯酸-4-(聯苯-2-基氧基)丙酯、(甲基)丙烯酸-3-(聯苯-2-基氧基)丙酯、(甲基)丙烯酸-2-(聯苯-2-基氧基)丙酯、(甲基)丙烯酸-4-(聯苯-2-基氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸-3-(聯苯-2-基氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(4-苯甲基苯基)乙酯、4,4'-二(丙烯醯氧基甲基)聯苯、2,2'-二(丙烯醯氧基乙氧基)聯苯、其結構異構體或其混合物。此外,本文所述的(甲基)丙烯酸酯僅作為實例構建且不限於
此,更包含與結構異構體相關的全部丙烯酸酯。舉例而言,雖然二(甲基)丙烯酸-2,2'-苯基苯氧基乙酯描述為一個實例,但本發明涵蓋與其結構異構體對應的二(甲基)丙烯酸-3,2'-苯基苯氧基乙酯、二(甲基)丙烯酸-3,3'-苯基苯氧基乙酯及類似物。
在一個實施例中,含兩個或多於兩個苯基的單體可為式(3)的單(甲基)丙烯酸酯:
其中在式(3)中:R2為氫或甲基,R3為經取代或未經取代的直鏈C1至C10伸烷基或-R'O-(其中R'為經取代或未經取代的直鏈C1至C10伸烷基),且R4為具有兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的烴或具有雜原子及兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的烴。
舉例而言,具有兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的烴或具有雜原子及兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的烴意指兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基未縮合而是經由單鍵、氧原子、硫原子、經取代或未經取代的C1至C3烷基、未經取代或經雜原子取代的C3至C6伸烷基、伸乙烯基、伸乙炔基或羰基鏈接的烴。舉例而言,具有兩個或多於兩個苯基的烴或具有雜原子及兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的烴可包含(但不限於)經取代或未經取代的聯苯基、經取代或未經取代的
三苯甲基、經取代或未經取代的三聯苯基、經取代或未經取代的伸聯苯基、經取代或未經取代的伸三聯苯基、經取代或未經取代的伸四聯苯基、經取代或未經取代的2-苯基-2-(苯硫基)乙基、經取代或未經取代的2,2-二苯基丙烷基、經取代或未經取代的二苯基甲烷基、經取代或未經取代的枯基苯基、經取代或未經取代的雙酚F基、經取代或未經取代的雙酚A基、經取代或未經取代的聯苯氧基、經取代或未經取代的三聯苯氧基、經取代或未經取代的四聯苯氧基、經取代或未經取代的五聯苯氧基及類似物。
在一個實施例中,含兩個或多於兩個苯基的單體可為式4的二(甲基)丙烯酸酯:
其中R5及R9為氫或甲基,R6及R8各自獨立地為經取代或未經取代的直鏈C1至C10伸烷基或-R'O-(其中R'為經取代或未經取代的直鏈C1至C10伸烷基),且R7為具有兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的烴或具有雜原子及兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的烴。
舉例而言,具有兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的烴或具有雜原子及兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的烴意指兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基未縮合而是經
由單鍵、氧原子、硫原子、經取代或未經取代的C1至C4烷基、未經取代或經雜原子取代的C3至C6伸烷基、伸乙烯基、伸乙炔基或羰基鏈接的烴。舉例而言,所述烴可包含(但不限於)經取代或未經取代的伸聯苯基、經取代或未經取代的三苯基亞甲基、經取代或未經取代的伸三聯苯基、經取代或未經取代的伸四聯苯基、2-苯基-2-(苯硫基)伸乙基、2,2-二苯基伸丙基、二苯基亞甲基及類似物。
在式(1)中,a及b獨立地為0至2的整數,且a+b為1至4的整數且在一個實施例中,a+b為1或2的整數。
含兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的單體的重量平均分子量可為100克/莫耳或大於100克/莫耳及1000克/莫耳或小於1000克/莫耳,特定言之可為130克/莫耳或大於130克/莫耳及700克/莫耳或小於700克/莫耳,或更特定言之可為150克/莫耳或大於150克/莫耳及600克/莫耳或小於600克/莫耳。
在此範圍內,可使得封裝物具有高電漿耐受性、低表面粗糙度以及改善的透射率。
含兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的單體可以光可固化單體的總重量計,以5wt%至45wt%且特定言之10wt%至40wt%的量存在。在此範圍內,可達到適於形成封裝物的黏度及極好電漿耐受性。
光可固化單體可包含不含芳族烴基的單體。
不含芳族烴基的單體可不含芳族烴基,且所述單體可具
有1至20個自乙烯基、丙烯基以及甲基丙烯基選出的基團作為光可固化官能基。不含芳族烴基的單體可不含芳族烴基,且可含有特定言之1至6個,例如1至3個、1至2個、1個或2個自乙烯基、丙烯基以及甲基丙烯基選出的基團作為光可固化官能基。
根據本發明,不含芳族烴基的單體的重量平均分子量可為100克/莫耳或大於100克/莫耳及500克/莫耳或小於500克/莫耳,特定言之可為130克/莫耳或大於130克/莫耳及400克/莫耳或小於400克/莫耳,且更特定言之可為200克/莫耳或大於200克/莫耳及300克/莫耳或小於300克/莫耳。在此單體的重量平均分子量範圍中,所述方法可具有有利效應。
不含芳族烴基的單體可包含單官能單體、多官能單體或其混合物,其具有光可固化官能基。
特定言之,不含芳族烴基的單體可為(甲基)丙烯酸酯單體。且不含芳族烴基的單體可包含例如具有C1至C20烷基、C3至C20環烷基、或羥基及C1至C20烷基的不飽和碳酸酯;具有C1至C20胺基烷基的不飽和碳酸酯;碳酸的C1至C20飽和或不飽和乙烯基酯;氰化乙烯化合物;不飽和醯胺化合物;一價醇或多價醇的單官能或多官能(甲基)丙烯酸酯及類似物。「多價醇」意指具有兩個或多於兩個羥基的醇,且特定言之,具有2至20個羥基、較佳為2至10個羥基且更佳為2至6個羥基的醇。
在一個實施例中,在不含芳族烴基的單體當中不含芳族烴基的(甲基)丙烯酸酯單體可為具有經取代或未經取代的C1至
C20烷基、經取代或未經取代的C1至C20烷基矽烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C1至C20伸烷基、胺基、氧化乙烯基及類似物的單(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸酯及類似物。
特定言之,其可包含(但不限於)不飽和碳酸酯,所述不飽和碳酸酯包含(甲基)丙烯酸酯,諸如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷酯、(甲基)丙烯酸十二烷酯、(甲基)丙烯酸環己酯及類似物;不飽和碳酸胺基烷基酯,諸如(甲基)丙烯酸-2-胺基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-二甲胺基乙酯及類似物;飽和或不飽和碳酸乙烯基酯,諸如乙酸乙烯酯及類似物;氰化乙烯化合物,諸如(甲基)丙烯腈及類似物;不飽和醯胺化合物,諸如(甲基)丙烯醯胺及類似物;乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、辛二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、十一烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、十二烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊
四醇六(甲基)丙烯酸酯或其混合物。
在一個實施例中,不含芳族烴基的單體可包含具有C1至C20烷基的單(甲基)丙烯酸酯、具有胺基的單(甲基)丙烯酸酯、具有經取代或未經取代的C1至C20伸烷基的二(甲基)丙烯酸酯、具有氧化乙烯基的二(甲基)丙烯酸酯以及具有氧化乙烯基的三(甲基)丙烯酸酯中的至少一者作為不具有芳族基的非芳族化合物。
具有經取代或未經取代的C1至C20烷基的單(甲基)丙烯酸酯可尤其包含(但不限於)(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸十三烷酯、(甲基)丙烯酸十四烷酯、(甲基)丙烯酸十五烷酯、(甲基)丙烯酸十六烷酯、(甲基)丙烯酸十七烷酯、(甲基)丙烯酸十八烷酯、(甲基)丙烯酸十九烷酯、(甲基)丙烯酸二十烷酯或其混合物。
具有胺基的單(甲基)丙烯酸酯可包含(但不限於)(甲基)丙烯酸-2-胺基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-二甲胺基乙酯或其混合物。
具有經取代或未經取代的C1至C20伸烷基的二(甲基)丙烯酸酯可為例如具有C1至C20伸烷基的二(甲基)丙烯酸酯或具有經取代或未經取代的長鏈伸烷基的非矽酮系二(甲基)丙烯酸酯。若封裝組成物包含具有長鏈伸烷基的非矽酮系二(甲基)丙烯酸酯,則所述組成物可用於藉由沈積等在有機發光元件上容易地形成有機障壁層或封裝有機發光元件的無機層。具有經取代或未經取代的C1至C20伸烷基的二(甲基)丙烯酸酯可包含(但不限於)例如辛二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、癸二醇二(甲基)
丙烯酸酯、十一烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、十二烷二醇二(甲基)丙烯酸酯或其混合物。若封裝組成物可包含經取代或未經取代的C1至C20伸烷基,則所述組成物可具有極好的光聚合速率及低黏度。
具有氧化乙烯基的二(甲基)丙烯酸酯或三(甲基)丙烯酸酯可尤其包含(但不限於)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯或其混合物。
以光可固化單體的總重量計,不含芳族烴基的單體可以55wt%至95wt%且特定言之60wt%至90wt%的量存在。在此範圍內,可達到用於封裝顯示器的組成物適於形成有機場致發光元件的封裝物的黏度。
光聚合起始劑可包含(但不限於)能夠進行光固化反應的典型光聚合起始劑。舉例而言,光聚合起始劑可包含三嗪、苯乙酮、二苯甲酮、噻噸酮、安息香、磷、肟或其混合物。
三嗪起始劑可包含例如2,4,6-三氯-均三嗪、2-苯基-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(3',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(4'-甲氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對甲氧苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對甲苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-聯苯-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、雙(三氯甲基)-6-苯乙烯基-均三嗪、2-(萘酚-1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2,4-三氯甲基(胡椒基)-6-三嗪、2,4-(三氯甲基(4'-甲氧基苯乙烯基)-6-三嗪或其混合物。
苯乙酮起始劑可包含例如2,2'-二乙氧基苯乙酮、2,2'-二
丁氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基苯丙酮、對第三丁基三氯苯乙酮、對第三丁基二氯苯乙酮、4-氯苯乙酮、2,2'-二氯-4-苯氧基苯乙酮、2-甲基-1-(4-(甲硫基)苯基)-2-嗎啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁-1-酮或其混合物。
二苯甲酮起始劑可包含例如二苯甲酮、苯甲醯基苯甲酸、苯甲醯基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、羥基二苯甲酮、丙烯酸化二苯甲酮、4,4'-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、4,4'-二氯二苯甲酮、3,3'-二甲基-2-甲氧基二苯甲酮或其混合物。
噻噸酮起始劑可包含例如噻噸酮、2-甲基噻噸酮、異丙基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2,4-二異丙基噻噸酮、2-氯噻噸酮或其混合物。
安息香起始劑可包含例如安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚、苯甲基二甲基縮酮或其混合物。
磷起始劑可包含例如雙苯甲醯基苯基氧化膦、苯甲醯基二苯基氧化膦或其混合物。
肟起始劑可包含例如2-(鄰苯甲醯基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛二酮及1-(鄰乙醯基肟)-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮或其混合物。
以用於封裝顯示器的組成物中的光可固化單體及光聚合起始劑的100重量份計,光聚合起始劑可以0.1重量份至20重量份的量存在。在此範圍內,可在曝光時充分地進行光固化,且
可防止由於在光固化後未反應的起始劑殘餘而降低透射率。特定言之,光聚合起始劑可以0.5重量份至10重量份且特定言之1重量份至8重量份的量存在。此外,以固體含量計,光聚合起始劑可以0.1wt%至10wt%且特定言之0.1wt%至8wt%的量存在於用於封裝顯示器的組成物中。在此範圍內,可充分地進行光固化,且可防止由於未反應的殘餘起始劑而降低透射率。
另外,可使用以下光酸產生劑或光聚合起始劑代替所述光聚合起始劑,諸如咔唑、二酮、鋶、錪、重氮、聯咪唑及類似物。
在本發明的另一個實施例中,用於封裝顯示器的組成物可更包含抗氧化劑。
抗氧化劑可改善封裝層的熱穩定性。抗氧化劑可包含(但不限於)由苯酚、醌、胺以及亞磷酸酯組成的群組中選出的至少一者。舉例而言,抗氧化劑可包含例如四[亞甲基(3,5-二第三丁基-4-羥基氫化肉桂酸酯)]甲烷、亞磷酸三(2,4-二第三丁基苯基)酯及類似物。
以用於封裝顯示器的組成物中的光可固化單體及光聚合起始劑的100重量份計,抗氧化劑可以0.01重量份至3重量份且特定言之0.01重量份至1重量份的量存在。在此範圍內,可達到極好的熱穩定性。
根據本發明的其他實施例的用於封裝顯示器的組成物可更包含熱穩定劑。因此,根據本發明的其他實施例的用於封裝
顯示器的組成物可抑制在環境溫度下的黏度變化。此外,所述組成物與不包含熱穩定劑的封裝組成物相比,可具有高透光率及光聚合速率以及低電漿蝕刻速率。除更包含熱穩定劑以外,所述組成物與根據本發明的一個實施例的用於封裝顯示器的組成物相同。在下文中,將描述熱穩定劑的詳情。
所述組成物內包含的熱穩定劑用以抑制所述組成物在環境溫度下的黏度變化,且可為通常使用的任何熱穩定劑。舉例而言,熱穩定劑可包含空間位阻酚系熱穩定劑。特定言之,熱穩定劑可包含(但不限於)聚(二環戊二烯-共-對甲苯酚)、十八烷基-3-(3,5-二第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯、2,6-二第三丁基-4-甲基苯酚、2,2'-甲橋-二(4-甲基-6-第三丁基-苯酚)、6,6'-二第三丁基-2,2'-硫代二對甲苯酚、三(4-第三丁基-3-羥基-2,6-二甲基苄基)異三聚氰酸酯、三乙二醇-雙(3-第三丁基-4-羥基-5-甲基苯基)、4,4'-硫代雙(6-第三丁基-間甲苯酚)、3,3'-雙(3,5-二第三丁基-4-羥基苯基)-N,N'-六亞甲基-二丙醯胺、季戊四醇四(3-(3,5-二第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯、硬脂醯基-3,5-二第三丁基-4-羥基苯基丙酸酯、季戊四醇四1,3,5-三(2,6-二甲基-3-羥基-4-第三苄基)異三聚氰酸酯、1,3,5-三(3,5-二第三丁基-4-羥基苄基)異三聚氰酸酯以及1,3,5-三(2-羥乙基)異三聚氰酸酯-三(3,5-二第三丁基羥基苯基丙酸酯)中的至少一者。
以固體含量計,基於用於封裝顯示器的組成物中的光可固化單體及光聚合起始劑的總重量計,熱穩定劑可以2000ppm或
小於2000ppm、例如0.01ppm至2000ppm、例如100ppm至1000ppm的量存在。在此範圍內,熱穩定劑可改善封裝組成物在液相中的儲存穩定性及可加工性。
用於封裝顯示器的組成物可以10毫瓦/平方公分至500毫瓦/平方公分的劑量進行UV固化1秒至100秒。
在包含由用於封裝顯示器的組成物形成的有機保護層的顯示器裝置中,釋氣的產生量可為2000ppm或小於2000ppm。在此範圍內,由於裝置元件具有長貯藏壽命而可增加可靠性。特定言之,所述量可為10ppm至1000ppm。
釋氣的產生量可藉由典型方法確定。舉例而言,用於封裝顯示器的組成物可施用於玻璃基板上且以100毫瓦/平方公分的劑量進行UV固化10秒以製備具有5微米厚膜的固化樣本。TD-GC/MS(TD:JTD505III,GC/MS:康利思(Clarus)600,珀金埃爾默(Perkin Elmer))儀器可用於確定特定面積(1×5平方公分)上捕獲的藉由將5微米厚的膜以10℃/min的速率自40℃加熱至320℃產生的釋氣的量。用於封裝顯示器的組成物在固化後的彩色座標YI(ASTM D1925)可為0.5或小於0.5且特定言之可為0.1至0.5。在此範圍內,顯示器的封裝物可為透明的,且透射與白光類似的光且因此施用於顯示器。
彩色座標可藉由典型方法確定。舉例而言,用於封裝顯示器的組成物可施用於玻璃基板上且以100毫瓦/平方公分的劑量進行UV固化10秒以製備具有5微米厚膜的固化樣本。紫外-可見
光分光光度計(UV-2450,島津(SHIMADZU))分析儀可用於測定5微米厚的膜在300奈米至800奈米波長下的透射率且計算彩色座標YI(ASTM D1925)。
用於封裝顯示器的組成物在固化後的總透射率可為90%或大於90%及100%或小於100%,且特定言之可為95%或大於95%及100%或小於100%,且因此,用於封裝顯示器的組成物可提供透明有機保護層。
總透射率及霧度可使用霧度計(NDH-5000,日本電色(Nippon Denshoku))在約400奈米至約700奈米的波長下根據ASTM D1003-955確定。
用於封裝顯示器的組成物可施用於發射前側,不應顯示出任何色彩且為透明的。若顯示器的封裝物顯示出任何色彩,自顯示器光源產生的光穿透置於其前側的封裝物,則導致獲得的色彩失真,因為彩色座標為有差異的。另外,若透明度較低,則發射至前側的光可具有被降低的功效,其降低顯示器的清晰度。
在本發明的一些實施例中,用於封裝顯示器的組成物可用作有機場致發光元件的封裝物。特定言之,有機場致發光元件可因周圍環境而受損,例如液體或氣體,尤其濕氣或氧氣,或製備包含有機場致發光元件的裝置的過程中所用的化學試劑。另外,為防止特性劣化,所述組成物可用作用於形成有機保護層以防止有機場致發光元件接觸周圍環境的封裝物。
在本發明的一些實施例中,用於封裝顯示器的組成物可
用作元件構件的封裝物。特定言之,元件構件可因周圍環境而受損,例如液體或氣體,尤其濕氣或氧氣,或製備包含有機場致發光元件的裝置的過程中所用的化學試劑。另外,為防止特性劣化,所述組成物可用作用於形成有機保護層以防止元件構件接觸周圍環境的封裝物。元件構件可包含例如可撓性有機場致發光元件、有機場致發光元件及類似物。
在本發明的一些實施例中,用於封裝顯示器的組成物可用於形成在有機場致發光元件上形成的有機保護層或在有機場致發光元件上形成的無機保護層上形成的有機保護層。有機保護層可藉由(但不限於)沈積、噴墨及類似方法形成。
根據本發明的又一個態樣,顯示器裝置可包含元件構件及在所述元件構件上形成的複合保護層,其中所述複合保護層可包含無機保護層及有機保護層,且所述有機保護層可由根據本發明的一些態樣的用於封裝顯示器的組成物製備。
在下文中,根據本發明的一個態樣的顯示器裝置將參照圖1進行描述。
圖1為根據本發明的一個態樣的顯示器裝置的截面視圖。根據一個態樣的顯示器裝置100可包含基板10、在基板10上形成的元件構件20以及在元件構件20上形成的包含無機保護層31及有機保護層32的複合保護層30,其中無機保護層31可與元件構件20接觸形成,且有機保護層32可由根據本發明態樣的用於封裝顯示器的組成物製備。
本文所用的顯示器意指發光二極體(light emitting diode,LED)、有機發光二極體(organic light emitting diode,OLED)、光儀器、包含OLED光儀器及LED光儀器的光儀器以及用於所屬領域的顯示器裝置。
顯示器裝置可包含(但不限於)可撓性有機場致發光元件、有機場致發光元件及類似物。
基板10不受特別限制,且可包含例如透明玻璃、塑膠膜、矽或金屬基板及類似物。
元件構件20可包含例如有機場致發光元件,且包含第一電極、第二電極、在所述第一電極與第二電極之間的有機發射層,且有機發射層可為(但不限於)電洞注入層、電洞傳輸層、發射層、電子傳輸層、電子注入層依次積層而成的層。
複合保護層30可包含無機保護層31及有機保護層32,且無機保護層31及有機保護層32可由不同組分製備且單獨用作元件構件的封裝物。
無機保護層31可具有與有機保護層32不同的組分,且補充有機保護層32的效應。無機保護層31可由具有極好透光率及濕氣及/或氧氣阻隔性的無機材料製備。舉例而言,無機保護層31可包含金屬、非金屬、金屬間化合物或合金、非金屬間化合物或合金、金屬或非金屬氧化物、金屬或非金屬氟化物、金屬或非金屬氮化物、金屬或非金屬碳化物、金屬或非金屬氮氧化物、金屬或非金屬硼化物、金屬或非金屬硼氧化物、金屬或非金屬矽化
物或其混合物。金屬可包含(但不限於)半金屬、鹼金屬、過渡金屬、鑭系元素金屬或類似物,特定言之,金屬可包含至少矽(Si)、鋁(Al)、硒(Se)、鋅(Zn)、銻(Sb)、銦(In)、鍺(Ge)、錫(Sn)、鉍(Bi)、過渡金屬、鑭系元素金屬及類似物。
特定言之,無機保護層可包含矽氧化物(SiOx)、矽氮化物(SiNx)、矽氧氮化物(SiOxNy)、ZnSe、ZnO、Sb2O3、AlOx(諸如Al2O3及類似物)、In2O3或SnO2,其中x及y各自為1至5。
無機保護層31可藉由電漿法、真空法(例如濺鍍)、化學氣相沈積、電漿增強化學氣相沈積、蒸發、昇華、電子回旋共振-電漿化學氣相沈積及其組合沈積。
無機保護層31的厚度不受特別限制,但可為約100Å至約2000Å。在此範圍內,可增強封裝效應。
有機保護層32可單獨或以組合形式藉由沈積、噴墨、網版印刷、旋塗、刮塗、固化而由根據本發明態樣的用於封裝顯示器的組成物製備。舉例而言,用於封裝顯示器的組成物可塗佈至1微米至50微米厚且以10毫瓦/平方公分至500毫瓦/平方公分的劑量進行UV固化1秒至100秒。
圖1中並未描述,有機保護層及無機保護層可交替沈積3層或大於3層。若有機保護層沈積在2個或大於2個無機保護層之間,則可確保無機保護層的光滑度,且防止無機保護層的缺陷傳遞至其他無機保護層。此外,若無機保護層沈積在2個或大於2個有機保護層之間,則可增強或增加封裝裝置的效應。
複合保護層30可交替包含無機保護層31及有機保護層32,其條件為無機保護層31及有機保護層32的總數不受限制。無機保護層31及有機保護層32的總數可視對氧氣及/或濕氣及/或水蒸氣及/或化學試劑的抗滲性水準而定。舉例而言,無機保護層31及有機保護層32的總數可為10或小於10,例如2至7。特定言之,可依次形成諸如無機保護層/有機保護層/無機保護層/有機保護層/無機保護層/有機保護層/無機保護層的七層。
顯示器裝置的釋氣產生量可為2000ppm或小於2000ppm。在此範圍內,顯示器構件可具有長貯藏壽命及高可靠性。特定言之,所述量可為10ppm至1000ppm。
在下文中,根據本發明的另一個態樣的顯示器裝置現將參照圖2進行描述。圖2為根據本發明的另一個態樣的顯示器裝置的截面視圖。
參照圖2,根據另一個態樣的顯示器裝置200可包含基板10、在基板10上形成的元件構件20、以及在元件構件20上形成的包含無機保護層31及有機保護層32的複合保護層30,其中無機保護層31可封裝容納元件構件20的內部空間40,且有機保護層32可由根據本發明態樣的用於封裝顯示器的組成物製備。根據本發明的另一個態樣的有機發光元件顯示器除了無機保護層31不與元件構件20接觸以外,實質上與根據本發明的一個態樣的顯示器相同。
在下文中,將參照一些實例更詳細地描述本發明。然
而,應瞭解,這些實例僅出於說明目的而提供且不應以任何方式視為限制本發明。為清楚起見,將省略對熟習此項技術者顯而易見的詳情的描述。
製備實例1
向配備有冷卻管及攪拌器的3000毫升燒瓶中裝入300毫升二氯甲烷(西格瑪奧德里奇(Sigma-Aldrich)),且添加200克丙烯酸4-羥基丁酯(新中村化學工業有限公司(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.))及168克三乙胺。在使燒瓶中的溫度冷卻至0℃後,在攪拌的同時逐滴添加在500毫升二氯甲烷中具有278克對甲苯磺醯氯(西格瑪奧德里奇)的溶液2小時。此後,再次攪拌溶液5小時且藉由蒸餾去除殘餘溶劑。接著,將300克獲得的化合物添加至1000毫升乙腈(西格瑪奧德里奇)中,且在80℃下在攪拌的同時添加220克碳酸鉀(西格瑪奧德里奇)及141克2-苯基苯酚(西格瑪奧德里奇)。移除殘餘溶劑及反應殘餘物,得到藉由HLPC所確定純度為93%的式(5)的化合物(分子量:296.36):
製備實例2
向配備有冷卻管及攪拌器的2000毫升燒瓶中裝入600毫升二氯甲烷(西格瑪奧德里奇),在0℃下攪拌的同時添加58.8克甲基丙烯酸羥乙酯(西格瑪奧德里奇)及52.2克三乙胺(西格瑪奧德里奇),且緩慢添加100克三苯基氯代甲烷(西格瑪奧德里奇)。在使燒瓶中的溫度升高至25℃後,攪拌溶液4小時。接著,藉由真空蒸餾移除二氯甲烷且經由矽膠管柱對溶液進行層析,獲得藉由HLPC所確定純度為97%的式(6)的化合物(124克):
製備實例3
向配備有冷卻管及攪拌器的2000毫升燒瓶中裝入800毫升乙腈(費希爾(Fisher)),在0℃下攪拌的同時添加180克碳酸鉀(奧德里奇(Aldrich))及108克丙烯酸,且緩慢添加150克4,4'-雙(氯甲基)聯苯(TCI)。在使燒瓶中的溫度升高至70℃後,攪拌溶液12小時。接著,藉由真空蒸餾移除乙腈且經由矽膠管柱對溶液進行層析,獲得藉由HLPC所確定純度為97%的式(7)的化合物(177克):
製備實例4
向配備有冷卻管及攪拌器的3000毫升燒瓶中裝入300毫升二氯甲烷(西格瑪奧德里奇),且添加200克丙烯酸羥乙酯(新中村化學工業有限公司)及168克三甲胺。在使燒瓶中的溫度降低至0℃後,在攪拌的同時逐滴添加使278克對甲苯磺醯氯(西格瑪奧德里奇)溶解於500毫升二氯甲烷中而成的溶液2小時。再次攪拌5小時後,藉由蒸餾移除剩餘溶劑。將300克獲得的化合物添加至1000毫升乙腈(西格瑪奧德里奇)中,且再次添加220克碳酸鉀(西格瑪奧德里奇)及141克2-苯基苯酚(西格瑪奧德里奇)並在80℃下攪拌。接著,移除剩餘溶劑及反應剩餘物,獲得藉由HLPC所確定純度為93%的式(8)的化合物(分子量:296.36):
製備實例5
向配備有冷卻管及攪拌器的3000毫升燒瓶中裝入300毫升二氯甲烷(西格瑪奧德里奇),添加400克丙烯酸羥乙酯(新中村化學工業有限公司)及168克三甲胺。在使燒瓶中的溫度降低至0℃後,在攪拌的同時逐滴添加使278克對甲苯磺醯氯(西格瑪奧德里奇)溶解於500毫升二氯甲烷中而成的溶液2小時。再次攪拌5小時後,藉由蒸餾移除剩餘溶劑。將300克獲得的化合物添加至1000毫升乙腈(西格瑪奧德里奇)中,且再次添加220克碳酸鉀(西格瑪奧德里奇)及141克2,2'-雙酚(西格瑪奧德里奇)並在80℃下攪拌。接著,移除剩餘溶劑及反應剩餘物,獲得藉由HLPC所確定純度為91%的式(9)的化合物(分子量:382.41):
製備實例6
向配備有冷卻管及攪拌器的1000毫升燒瓶中,在攪拌的同時將8.2克高氯酸鋅(西格瑪奧德里奇)添加至100克苯硫酚
及200毫升二氯甲烷(西格瑪奧德里奇),且逐滴緩慢添加109.05克氧化苯乙烯(西格瑪奧德里奇)以使反應在環境溫度下繼續進行。在4小時後,使用水及二氯甲烷移除無機材料,且移除剩餘溶劑以獲得192克第一產物。在0℃下,向2000毫升燒瓶中添加150克第一產物、70.31克三甲胺(西格瑪奧德里奇)以及500毫升二氯甲烷且攪拌,且逐滴緩慢添加64.84克丙烯醯氯(西格瑪奧德里奇)以使反應繼續進行。在添加後,使溫度緩慢升高至環境溫度,且再攪拌混合物4小時。在反應後,純化正已烷(大中化工及金屬公司(DaeJung Chemicals & Metals Co.))以移除鹽及雜質,且在減壓下蒸餾剩餘溶劑以獲得藉由HLPC所確定純度為85%的式(10)的化合物(分子量:284.37):
實例及比較實例中所用組分的詳情如下:
(A)不含芳族烴基的單體:
(a1)十二烷二醇二甲基丙烯酸酯(沙多瑪(Satomer))
(a2)三乙二醇二甲基丙烯酸酯(巴斯夫(BASF)SE)
(a3)三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(巴斯夫(BASF)SE)
(a4)丙烯酸-2-二甲胺基乙酯(安可樂斯(ACROS))
(B)含兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的單體:
(b1)製備實例1的單體
(b2)製備實例2的單體
(b3)製備實例3的單體
(b4)製備實例4的單體
(b5)製備實例5的單體
(b6)製備實例6的單體
(b7)CP-011(丙烯酸-4-枯基苯氧基乙酯,韓農化學股份有限公司(Hannong Chemicals,Inc.))
(b8)雙酚A二甲基丙烯酸酯(奧德里奇)
(b9)BPM-102(雙酚A乙氧基化(10)甲基丙烯酸酯,韓農化學股份有限公司)
(b10)雙酚F乙氧基化(2)二丙烯酸酯(奧德里奇)
(C)光起始劑:磷起始劑(達羅卡(Darocur)TPO,巴斯夫(BASF)SE)
實例1
向125毫升棕色聚丙烯瓶子中,裝入90重量份(a1)、10重量份(b1)以及5重量份(C),且使用震盪器攪拌3小時以製備實例1的用於封裝顯示器的組成物。
實例2至實例25以及比較實例1至比較實例15
除使用如表1至表3中所示的每一組分的類型及量以外,以與實例1中相同的方式製備組成物。
物理特性的評估
(1)電漿蝕刻速率(%):藉由噴霧將實例及比較實例的用於封裝顯示器的組成物施用在525±25微米厚的矽晶圓上來製備包含5微米厚有機保護層的樣本,且以100毫瓦/平方公分的劑量進行UV固化10秒。所製備的樣本使用ICP乾式蝕刻器(電漿實驗室系統133,牛津儀器(Oxford instruments))在以下條件下用氬氣進行電漿處理:ICP功率:2500瓦,RE功率:300瓦,直流偏壓:200伏特,Ar流量:50標準毫升/分鐘(sccm),蝕刻時間:1分鐘以及壓力:10毫托。電漿蝕刻速率藉由量測在電漿處理前有機保護層的厚度(T0)及在處理後有機保護層的厚度(T1)且根據方程式1計算電漿蝕刻速率來確定,且其結果展示於表1至表3中:[方程式1]電漿蝕刻速率(奈米/分鐘)=(T0-T1)/M
其中T0及T1為排除基板厚度的厚度,且M為電漿處理的時間(分鐘)。
(2)表面粗糙度(奈米):將如上文物理特性的評估(1)
中所述製備的樣本置於原子力顯微鏡(XE-100,派克系統(Park systems))上,且藉由將頭部模式設置成接觸模式且將PSPD顯示窗口設置成A+B→1伏特,A-B→-500毫伏特至+500毫伏特來量測表面粗糙度。
(3)彩色座標YI(ASTM D1925):在如上文物理特性的評估(1)中所述製備的樣本上使用紫外-可見光分光光度計(UV-2450,島津)分析儀在300奈米至800奈米的波長下量測透射率,隨後計算彩色座標YI(ASTM D1925)。
(4)透光率(%):根據ASTM D1003-95 5,在如上文物理特性的評估(1)中所述製備的樣本上使用霧度計(NDH-5000,日本電色)在400奈米至700奈米的波長下量測總透光率。
在表1至表3的結果中,顯示實例中的組成物具有低電漿蝕刻速率及因此顯著極好的電漿耐受性,以及2奈米或小於2奈米的表面粗糙度值及因此極好的光滑度。另外,顯然組成物具有小於0.50的彩色座標YI(ASTM D1925)及高透光率,因此用於封裝顯示器的組成物可提供透明的有機保護層。同時,相對於實例,比較實例中存在諸如高蝕刻速率及表面粗糙度的問題。
得益於上文描述中呈現的教示,熟習本發明所屬技術者
將思及許多修改及本發明的其他實施例。因此,應瞭解,本發明不限於所揭示的特定實施例且修改及其他實施例意欲包含在隨附申請專利範圍的範疇內。
10‧‧‧基板
20‧‧‧元件構件
30‧‧‧複合保護層
31‧‧‧無機保護層
32‧‧‧有機保護層
100‧‧‧顯示器裝置
Claims (15)
- 一種用於封裝顯示器的組成物,包含光可固化單體及光聚合起始劑,其中所述光可固化單體包含不含芳族烴基的單體;及含兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的單體,所述不含芳族烴基的單體包含以下中的至少一者:具有經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C1至C20烷基矽烷基、經取代或未經取代的C1至C20伸烷基、或氧化乙烯基的單(甲基)丙烯酸酯;具有經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C1至C20烷基矽烷基、經取代或未經取代的C1至C20伸烷基、或氧化乙烯基的二(甲基)丙烯酸酯;具有經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C1至C20烷基矽烷基、經取代或未經取代的C1至C20伸烷基、或氧化乙烯基的三(甲基)丙烯酸酯;以及具有經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C1至C20烷基矽烷基、經取代或未經取代的C1至C20伸烷基、或氧化乙烯基的四(甲基)丙烯酸酯,以及由所述組成物製備的固化產物具有由方程式1表示的400奈米/分鐘或小於400奈米/分鐘的電漿蝕刻速率及藉由原子力顯微鏡量測的2奈米或小於2奈米的表面粗糙度:方程式1 電漿蝕刻速率(奈米/分鐘)=(T0-T1)/M其中在方程式1中,T0為藉由噴霧將所述用於封裝顯示器的組成物施用於基板上且以100毫瓦/平方公分的劑量進行紫外線固化10秒所製備的樣品以奈米為單位的厚度;T1為所製備的樣品在感應耦合電漿功率2500瓦、射頻功率300瓦、直流偏壓200伏特、氬氣流動速率50標準毫升/分鐘以及壓力10毫托的條件下進行電漿處理1分鐘後的以奈米為單位的厚度,T0及T1各自為除去所述基板厚度後的厚度;且M為以分鐘為單位的所述電漿處理的時間。
- 如申請專利範圍第1項所述的用於封裝顯示器的組成物,其中所述含兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的單體包含由式1表示的結構:
- 如申請專利範圍第1項所述的用於封裝顯示器的組成物,其中所述含兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的單體包含以下中的至少一者:4-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基二苯甲酮、(甲基)丙烯酸乙基-3,3-二苯酯、(甲基)丙烯酸苯甲醯氧基苯酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸-4-枯基苯氧基乙酯、乙氧基化雙苯基芴二丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基苯氧基乙酯、二(甲基)丙烯酸-2,2'-苯基苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基苯氧基丙酯、二(甲基)丙烯酸-2,2'-苯基苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基苯氧基丁酯、二(甲基)丙烯酸-2,2'-苯基苯氧基丁酯、(甲基)丙烯酸-2-(3-苯基苯基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(4-苯甲基苯基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基-2-(苯硫基)乙酯、(甲基) 丙烯酸-2-(三苯基甲氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸-4-(三苯基甲氧基)丁酯、(甲基)丙烯酸-3-(聯苯-2-基氧基)丁酯、(甲基)丙烯酸-2-(聯苯-2-基氧基)丁酯、(甲基)丙烯酸-4-(聯苯-2-基氧基)丙酯、(甲基)丙烯酸-3-(聯苯-2-基氧基)丙酯、(甲基)丙烯酸-2-(聯苯-2-基氧基)丙酯、(甲基)丙烯酸-4-(聯苯-2-基氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸-3-(聯苯-2-基氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(4-苯甲基苯基)乙酯、4,4'-二(丙烯醯氧基甲基)聯苯、2,2'-二(丙烯醯氧基乙氧基)聯苯、其結構異構體或其混合物。
- 如申請專利範圍第1項所述的用於封裝顯示器的組成物,其中所述含兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的單體的重量平均分子量為100克/莫耳至1000克/莫耳。
- 如申請專利範圍第1項所述的用於封裝顯示器的組成物,其中所述不含芳族烴基的單體含有1個至20個自乙烯基、丙烯基以及甲基丙烯基中選出的基團作為光可固化官能基。
- 如申請專利範圍第1項所述的用於封裝顯示器的組成物,其中所述含兩個或多於兩個經取代或未經取代的苯基的單體以5wt%至45wt%的量存在於所述光可固化單體中。
- 如申請專利範圍第1項所述的用於封裝顯示器的組成物,其中所述不含芳族烴基的單體以55wt%至95wt%的量存在於所述光可固化單體中。
- 如申請專利範圍第1項所述的用於封裝顯示器的組成物,其中所述不含芳族烴基的單體更包含具有胺基的單(甲基)丙烯 酸酯。
- 如申請專利範圍第1項所述的用於封裝顯示器的組成物,其中所述光可固化單體為由自碳、氫、氧、氮以及硫中選出的元素組成的單體。
- 如申請專利範圍第1項所述的用於封裝顯示器的組成物,其中所述光聚合起始劑為三嗪、苯乙酮、二苯甲酮、噻噸酮、安息香、磷以及肟起始劑中的至少一者。
- 如申請專利範圍第1項所述的用於封裝顯示器的組成物,更包含熱穩定劑。
- 如申請專利範圍第11項所述的用於封裝顯示器的組成物,其中以固體含量計,所述熱穩定劑以100ppm至1000ppm的量存在於所述用於封裝顯示器的組成物中。
- 一種顯示器裝置,包含:顯示器構件;以及在所述顯示器構件上形成的複合保護層,其中所述複合保護層包含無機保護層及有機保護層,以及所述有機保護層包含由如申請專利範圍第1項至第10項中任一項所述的用於封裝顯示器的組成物製備的固化產物。
- 如申請專利範圍第13項所述的顯示器裝置,其中所述無機保護層包含自金屬、所述金屬的氧化物、所述金屬的氟化物、所述金屬的氮化物、所述金屬的碳化物、所述金屬的氮氧化物、所述金屬的硼化物、所述金屬的硼氧化物以及所述金屬的矽 化物中選出的至少一者,以及所述金屬包含自矽、鋁、硒、鋅、銻、銦、鍺、錫、鉍、過渡金屬以及鑭系元素金屬中選出的至少一者。
- 如申請專利範圍第13項所述的顯示器裝置,其中所述顯示器構件為發光二極體、有機發光二極體、有機發光二極體光儀器或發光二極體光儀器。
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