CN107155328B - 用于显示器密封材料的组成物及含有其的显示器装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种用于显示器密封材料的组成物及含有其的显示器装置，所述组成物具有光聚合起始剂及光可固化单体，光可固化单体包含不具有芳族烃基的单体；以及具有两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体。通过固化所述组成物而获得的有机保护层具有由方程式1表示的约等于或小于400纳米/分钟的等离子体蚀刻速率及约等于或小于2纳米的表面粗糙度。本发明的组成物可获得具有高等离子体耐受性的有机保护层。[方程式1]等离子体蚀刻速率＝(T0‑T1)/MT0为将所述组成物施用于基板上且以100毫瓦/平方厘米UV固化10秒制备的样品厚度；T1为制备的样品在特定条件下以等离子体处理1分钟后的厚度；M为等离子体处理的时间。

Description

用于显示器密封材料的组成物及含有其的显示器装置
技术领域
本发明是有关于一种用于显示器密封材料的组成物、包括其的有机保护层以及包括其的显示器装置。
背景技术
通常用于光学显示器装置的有机电致发光元件可由于环境因素(诸如湿气或气体)而遭受发光特性的退化或劣化。特定言之，金属场与有机发射层之间的介面将由于湿气而分层。另外，将由于金属氧化而出现高电阻，且有机材料本身将因湿气或氧气而劣化。此外，有机材料及电极材料将因来自外部或内部环境的释气而遭遇氧化，且有机场致发光元件可具有降低的发光特性。因此，有机场致发光元件必须用封装组成物封装以保护其免受湿气或氧气的影响。
有机场致发光元件已封装在形成有无机保护层及有机保护层的多层结构中。无机保护层可通过等离子体沉积法形成，其可导致有机保护层被等离子体蚀刻。当有机保护层被蝕刻时，可损害有机保护层的封装功能。因此，有机发光元件可遭受发光特性及可靠性的劣化。
就此方面而言，本发明的背景揭示于韩国公开专利公开案第2011-0071039 A号(LG显示器)中。
发明内容
技术问题
在一个实施例中，本发明提供一种用于显示器密封材料的组成物，其获得具有高等离子体耐受性的有机保护层。
在另一个实施例中，本发明提供一种用于显示器密封材料的组成物，其获得具有显著低透湿性及低透氧性的有机保护层。
在又一个实施例中，本发明提供一种用于显示器密封材料的组成物，其获得具有极好透明度的有机保护层。
在又一个实施例中，本发明提供一种用于显示器密封材料的组成物，其获得具有低表面粗糙度以产生高表面光滑度的有机保护层。
在又一个实施例中，本发明提供一种用于显示器的组成物，其获得有机保护层来保护装置免受包含湿气及气体的环境的影响以向装置提供时间相依可靠性。
在又一个实施例中，本发明提供一种显示器装置，其包含用于显示器密封材料的组成物的固化产物。
解决问题的技术手段
在本发明的一个实施例中，用于显示器密封材料的组成物可包含光可固化单体及光聚合起始剂，其中所述光可固化单体可包含含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体；及不含芳族烃基的单体，且由所述组成物制备的固化产物可具有由方程式1表示的400纳米/分钟或小于400纳米/分钟的等离子体蚀刻速率及2纳米或小于2纳米的表面粗糙度(roughness)：
[方程式1]
等离子体蚀刻速率(纳米/分钟)＝(T0-T1)/M
其中在方程式1中，T0为通过喷雾将用于显示器密封材料的组成物施用于基板上且以100毫瓦/平方厘米的剂量进行UV固化10秒所制备的样品的厚度(纳米)，T1为所制备的样品在感应耦合等离子体ICP功率2500瓦、射频RF功率300瓦、直流偏压DC200伏特、氩气(Ar)流动速率50标准毫升/分钟以及压力10毫托的条件下进行等离子体处理1分钟后的厚度(nm)，T0及T1各自为除去基板厚度后的厚度，且M为等离子体处理的时间(min)。
在本发明的又一个实施例中，显示器装置可包含显示器构件及在所述显示器构件上形成的复合保护层，其中所述复合保护层可包含无机保护层及有机保护层，且所述有机保护层可包含由用于显示器密封材料的组成物制备的固化产物。
技术效果
本发明的组成物可获得具有高等离子体耐受性的有机保护层。
本发明的组成物可获得具有显著低透湿性及透氧性的有机保护层。
本发明的组成物可获得具有极好透明度的有机保护层。
本发明的组成物可获得具有低表面粗糙度、产生高表面光滑度的有机保护层。
本发明的组成物可获得有机保护层保护装置避免包含湿气及气体的环境以向装置提供时间依赖性可靠性。
附图说明
图1为根据本发明的一个实施例的显示器装置的截面视图。
图2为根据本发明的另一个实施例的显示器装置的截面视图。
具体实施方式
现在将详细描述本发明的实施例。应了解，本发明不限于以下实施例且可以不同的方式体现。虽然出于描述便利性描述某一部分元件，但本领域相关技术人员可易于了解其他部分元件。在附图中，为清楚起见，元件的宽度及厚度可以放大形式表现且可省略一些不相关的元件。此外，本发明的精神可在不背离本发明的技术精神的情况下由本领域相关技术人员以各种其他形式实施。
参照附图定义诸如“上部”及“下部”等本文所用的术语。因此，应了解，术语“上表面”可与术语“下表面”互换使用。术语“在……上(on)”涵盖一个元件“直接”安置“在”另一结构“上(on)”，及可插入其他结构。同时，术语“直接在……上(directly on)”意指未插入其他结构。
本文所用的术语“(甲基)丙烯基”指丙烯基(acryl)和/或甲基丙烯基(methacryl)。
除非另作说明，否则本文所用的术语“经取代”意指官能团当中的至少一个氢原子经羟基、硝基、亚胺基(＝NH、＝NR，其中R为C1至C10烷基)、脒基、肼基或腙基、羧基、C1至C20烷基、C6至C30芳基、C3至C30杂芳基或C2至C30杂环烷基取代。
本文所用的术语“杂原子”意指由N、O、S以及P组成的群组中选出的任何原子，且术语“杂”意指碳原子经由N、O、S以及P组成的群组中选出的任何一个原子取代。
本文所用的“等离子体耐受性”可视当对封装组成物的固化产物进行等离子体处理时所進行的蚀刻(etch)的蚀刻速率而确定。蚀刻速率愈低表示等离子体耐受性愈高。
本文所用的“亚烷基”意指在(甲基)丙烯酸酯每一末端之间经由无双键的饱和烃附接的烷二基(alkanediyl groups)。另外，亚烷基的碳原子数目意指除二(甲基)丙烯酸酯基中的碳原子以外，亚烷基本身的碳原子数目。
在本发明的一个实施例中，用于显示器密封材料的组成物可包含光可固化单体及光聚合起始剂，其中所述光可固化单体可包含不含芳族烃基的单体；及含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体，且所述组成物可具有由方程式1表示的400纳米/分钟或小于400纳米/分钟的等离子体蚀刻速率及通过原子力显微镜测量的2纳米或小于2纳米的表面粗糙度(roughness)：
[方程式1]
等离子体蚀刻速率(纳米/分钟)＝(T0-T1)/M
其中在方程式1中，T0为通过喷雾将用于显示器密封材料的组成物施用于基板上且以100毫瓦/平方厘米的剂量进行UV固化10秒所制备的样品的厚度(纳米)；T1为所制备的样品在ICP功率2500瓦、RF功率300瓦、直流偏压DC200伏特、氩气(Ar)流动速率50标准毫升/分钟以及压力10毫托的条件下进行等离子体处理1分钟后的厚度(nm)，T0及T1各自为除去基板厚度后的厚度；且M为等离子体处理的时间(min)。
当在有机场致发光元件上或形成于有机场致发光元件上的无机保护层上形成有机保护层时，使用在固化后具有等离子体蚀刻速率的光可固化单体可对有机保护层提供显著低的等离子体蚀刻速率，其表示由等离子体处理所导致的有机保护层的损害。详言之，等离子体蚀刻速率可为约400纳米/分钟或小于400纳米/分钟、特定言之可为约10纳米/分钟至约390纳米/分钟且更特定言之可为10纳米/分钟至385纳米/分钟。由方程式1表示的大于约400纳米/分钟的等离子体蚀刻速率可导致有机保护层的损害增加及元件可靠性降低。
当用于显示器密封材料的组成物沉积于基板上时，表面粗糙度为沉积表面的粗糙度，是对其屈曲进行测量而得。较低表面粗糙度可有助于显示器的光滑度。
本文中所用的粗糙度可通过本领域相关技术人员所熟知的一般方法根据粗糙度测量来确定。举例而言，其可使用原子力显微镜(Atomic Force Microscope，简称：AFM)确定。根据本发明，使用AFM(Atomic Force Microscope)测量的表面粗糙度(沉积表面的粗糙度)可为较佳2纳米或小于2纳米且特定言之0纳米至约2纳米、0纳米至1.9纳米、0纳米至1.85纳米。根据本发明，在沉积有机保护层后，若表面粗糙度为2纳米或小于2纳米，则可提供具有光滑表面的有机保护层及具有光滑表面的无机保护层。若表面粗糙度大于2纳米，则有机保护层可具有不光滑的表面，且当无机保护层沉积于固化产物表面上时，无机保护层可容易破碎。
光可固化单体意指能够通过光聚合起始剂进行固化反应的光可固化单体。不含硅(Si)原子的无硅单体可用作光可固化单体。举例而言，其可为(但不限于)由自C、H、O、N以及S选出的元素组成的单体。光可固化单体可通过典型合成法合成或为市售产品。
光可固化单体可包含含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体。特定言之，所述单体可包含由式1表示的结构：
<式1>
Figure GDA0001272319340000041
其中A为具有两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃，或具有杂原子及两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃；
Z1及Z2各自独立地由式2表示；以及
a和b分别为0至2的整数，且a+b为1至4的整数；
<式2>
Figure GDA0001272319340000042
其中在式2中，*表示与A上碳原子的链接位点；
X为单键、O或S；
Y为经取代或未经取代的C1至C10直链亚烷基或经取代或未经取代的C1至C20烷氧基；
R1为氢或C1至C5烷基；以及
c为0或1。
在式1中，A为具有两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃，或具有杂原子及两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃。具有两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃或具有杂原子及两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃意指两个或多于两个经取代或未经取代的苯基未缩合而是经由单键、氧原子、硫原子、经取代或未经取代的C1至C5烷基、未经取代或经杂原子取代的C3至C6亚烷基、亚乙烯基、亚乙炔基或羰基链接的烃。举例而言，具有两个或多于两个苯基的烃或具有杂原子及两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃可包含(但不限于)经取代或未经取代的联苯基、经取代或未经取代的三苯甲基、经取代或未经取代的三联苯基、经取代或未经取代的亚联苯基、经取代或未经取代的亚三联苯基、经取代或未经取代的亚四联苯基、经取代或未经取代的2-苯基-2-(苯硫基)乙基、经取代或未经取代的2，2-二苯基丙基、经取代或未经取代的二苯基甲基、经取代或未经取代的枯基苯基、经取代或未经取代的双酚F基、经取代或未经取代的双酚A基、经取代或未经取代的联苯氧基、经取代或未经取代的三联苯氧基、经取代或未经取代的四联苯氧基、经取代或未经取代的五联苯氧基及类似物。
含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体可由单(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸酯或其混合物制备。且含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体的实例包含(但不限于)4-(甲基)丙烯酰氧基-2-羟基二苯甲酮、(甲基)丙烯酸乙基-3，3-二苯酯、(甲基)丙烯酸苯甲酰氧基苯酯、双酚A二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化双酚A二(甲基)丙烯酸酯、双酚F二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化双酚F二(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸-4-枯基苯氧基乙酯、乙氧基化双苯基芴二丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基苯氧基乙酯、二(甲基)丙烯酸-2，2′-苯基苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基苯氧基丙酯、二(甲基)丙烯酸-2，2′-苯基苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基苯氧基丁酯、二(甲基)丙烯酸-2，2′-苯基苯氧基丁酯、(甲基)丙烯酸-2-(3-苯基苯基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(4-苯甲基苯基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基-2-(苯硫基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(三苯基甲氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸-4-(三苯基甲氧基)丁酯、(甲基)丙烯酸-3-(联苯-2-基氧基)丁酯、(甲基)丙烯酸-2-(联苯-2-基氧基)丁酯、(甲基)丙烯酸-4-(联苯-2-基氧基)丙酯、(甲基)丙烯酸-3-(联苯-2-基氧基)丙酯、(甲基)丙烯酸-2-(联苯-2-基氧基)丙酯、(甲基)丙烯酸-4-(联苯-2-基氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸-3-(联苯-2-基氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(4-苯甲基苯基)乙酯、4，4′-二(丙烯酰氧基甲基)联苯、2，2′-二(丙烯酰氧基乙氧基)联苯、其结构异构体或其混合物。此外，本文所述的(甲基)丙烯酸酯仅作为实例构建且不限于此，还包含与结构异构体相关的全部丙烯酸酯。举例而言，虽然二(甲基)丙烯酸-2，2′-苯基苯氧基乙酯描述为一个实例，但本发明涵盖与其结构异构体对应的二(甲基)丙烯酸-3，2′-苯基苯氧基乙酯、二(甲基)丙烯酸-3，3′-苯基苯氧基乙酯及类似物。
在一个实施例中，含两个或多于两个苯基的单体可为式3的单(甲基)丙烯酸酯：
<式3>
Figure GDA0001272319340000051
其中在式3中：R2为氢或甲基，R3为经取代或未经取代的直链C1至C10亚烷基或经取代或未经取代的C1至C20烷氧基，且R4为具有两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃或具有杂原子及两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃。
举例而言，具有两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃或具有杂原子及两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃意指两个或多于两个经取代或未经取代的苯基未缩合而是经由单键、氧原子、硫原子、经取代或未经取代的C1至C3烷基、未经取代或经杂原子取代的C3至C6亚烷基、亚乙烯基、亚乙炔基或羰基链接的烃。举例而言，具有两个或多于两个苯基的烃或具有杂原子及两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃可包含(但不限于)经取代或未经取代的联苯基、经取代或未经取代的三苯甲基、经取代或未经取代的三联苯基、经取代或未经取代的亚联苯基、经取代或未经取代的亚三联苯基、经取代或未经取代的亚四联苯基、经取代或未经取代的2-苯基-2-(苯硫基)乙基、经取代或未经取代的2，2-二苯基丙烷基、经取代或未经取代的二苯基甲烷基、经取代或未经取代的枯基苯基(cumylphenyl)、经取代或未经取代的双酚F基、经取代或未经取代的双酚A基、经取代或未经取代的联苯氧基、经取代或未经取代的三联苯氧基、经取代或未经取代的四联苯氧基、经取代或未经取代的五联苯氧基及类似物。
在一个实施例中，含两个或多于两个苯基的单体可为式4的二(甲基)丙烯酸酯：
<式4>
Figure GDA0001272319340000061
其中R5及R9为氢或甲基，R6及R8各自独立地为经取代或未经取代的直链C1至C10亚烷基或经取代或未经取代的C1至C20烷氧基，且R7为具有两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃或具有杂原子及两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃。
举例而言，具有两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃或具有杂原子及两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃意指两个或多于两个经取代或未经取代的苯基未缩合而是经由单键、氧原子、硫原子、经取代或未经取代的C1至C4烷基、未经取代或经杂原子取代的C3至C6亚烷基、亚乙烯基、亚乙炔基或羰基链接的烃。举例而言，所述烃可包含(但不限于)经取代或未经取代的亚联苯基、经取代或未经取代的三苯基亚甲基、经取代或未经取代的亚三联苯基、经取代或未经取代的亚四联苯基、2-苯基-2-(苯硫基)亚乙基、2，2-二苯基亚丙基、二苯基亚甲基及类似物。
在式1中，a及b独立地为0至2的整数，且a+b为1至4的整数且在一个实施例中，a+b为1或2的整数。
含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体的重量平均分子量可为100克/摩尔或大于100克/摩尔及1000克/摩尔或小于1000克/摩尔，特定言之可为130克/摩尔或大于130克/摩尔及700克/摩尔或小于700克/摩尔，或更特定言之可为150克/摩尔或大于150克/摩尔及600克/摩尔或小于600克/摩尔。
在此范围内，可使得封装物具有高等离子体耐受性、低表面粗糙度以及改善的透射率。
含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体可以光可固化单体的总重量计，以5wt％至45wt％且特定言之10wt％至40wt％的量存在。在此范围内，可达到适于形成封装物的粘度及极好等离子体耐受性。
光可固化单体可包含不含芳族烃基的单体。
不含芳族烃基的单体可不含芳族烃基，且所述单体可具有1至20个自乙烯基、丙烯基以及甲基丙烯基选出的基团作为光可固化官能团。不含芳族烃基的单体可不含芳族烃基，且可含有特定言之1至6个，例如1至3个、1至2个、1个或2个自乙烯基、丙烯基以及甲基丙烯基选出的基团作为光可固化官能团。
根据本发明，不含芳族烃基的单体的重量平均分子量可为100克/摩尔或大于100克/摩尔及500克/摩尔或小于500克/摩尔，特定言之可为130克/摩尔或大于130克/摩尔及400克/摩尔或小于400克/摩尔，且更特定言之可为200克/摩尔或大于200克/摩尔及300克/摩尔或小于300克/摩尔。在此单体的重量平均分子量范围中，所述方法可具有有利效应。
不含芳族烃基的单体可包含单官能单体、多官能单体或其混合物，其具有光可固化官能团。
特定言之，不含芳族烃基的单体可为(甲基)丙烯酸酯单体。且不含芳族烃基的单体可包含例如具有C1至C20烷基、C3至C20环烷基、或羟基及C1至C20烷基的不饱和碳酸酯；具有C1至C20胺基烷基的不饱和碳酸酯；碳酸的C1至C20饱和或不饱和乙烯基酯；氰化乙烯化合物；不饱和酰胺化合物；一价醇或多价醇的单官能或多官能(甲基)丙烯酸酯及类似物。“多价醇”意指具有两个或多于两个羟基的醇，且特定言之，具有2至20个羟基、较佳为2至10个羟基且更佳为2至6个羟基的醇。
在一个实施例中，在不含芳族烃基的单体当中不含芳族烃基的(甲基)丙烯酸酯单体可为具有经取代或未经取代的C1至C20烷基、经取代或未经取代的C1至C20烷基硅烷基、经取代或未经取代的C3至C20环烷基、经取代或未经取代的C1至C20亚烷基、胺基、氧化乙烯基及类似物的单(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸酯及类似物。
特定言之，其可包含(但不限于)不饱和碳酸酯，所述不饱和碳酸酯包含(甲基)丙烯酸酯，诸如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸-2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羟丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷酯、(甲基)丙烯酸十二烷酯、(甲基)丙烯酸环己酯及类似物；不饱和碳酸胺基烷基酯，诸如(甲基)丙烯酸-2-胺基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-二甲胺基乙酯及类似物；饱和或不饱和碳酸乙烯基酯，诸如乙酸乙烯酯及类似物；氰化乙烯化合物，诸如(甲基)丙烯腈及类似物；不饱和酰胺化合物，诸如(甲基)丙烯酰胺及类似物；乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、辛二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、十一烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、十二烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯或其混合物。
在一个实施例中，不含芳族烃基的单体可包含具有C1至C20烷基的单(甲基)丙烯酸酯、具有胺基的单(甲基)丙烯酸酯、具有经取代或未经取代的C1至C20亚烷基的二(甲基)丙烯酸酯、具有氧化乙烯基的二(甲基)丙烯酸酯以及具有氧化乙烯基的三(甲基)丙烯酸酯中的至少一个作为不具有芳族基的非芳族化合物。
具有经取代或未经取代的C1至C20烷基的单(甲基)丙烯酸酯可尤其包含(但不限于)(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸十三烷酯、(甲基)丙烯酸十四烷酯、(甲基)丙烯酸十五烷酯、(甲基)丙烯酸十六烷酯、(甲基)丙烯酸十七烷酯、(甲基)丙烯酸十八烷酯、(甲基)丙烯酸十九烷酯、(甲基)丙烯酸二十烷酯或其混合物。
具有胺基的单(甲基)丙烯酸酯可包含(但不限于)(甲基)丙烯酸-2-胺基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-二甲胺基乙酯或其混合物。
具有经取代或未经取代的C1至C20亚烷基的二(甲基)丙烯酸酯可为例如具有C1至C20亚烷基的二(甲基)丙烯酸酯或具有经取代或未经取代的长链亚烷基的非硅酮系二(甲基)丙烯酸酯。若封装组成物包含具有长链亚烷基的非硅酮系二(甲基)丙烯酸酯，则所述组成物可用于通过沉积等在有机发光元件上容易地形成有机障壁层或封装有机发光元件的无机层。具有经取代或未经取代的C1至C20亚烷基的二(甲基)丙烯酸酯可包含(但不限于)例如辛二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、十一烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、十二烷二醇二(甲基)丙烯酸酯或其混合物。若封装组成物可包含经取代或未经取代的C1至C20亚烷基，则所述组成物可具有极好的光聚合速率及低黏度。
具有氧化乙烯基的二(甲基)丙烯酸酯或三(甲基)丙烯酸酯可尤其包含(但不限于)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯或其混合物。
以光可固化单体的总重量计，不含芳族烃基的单体可以55wt％至95wt％且特定言之60wt％至90wt％的量存在。在此范围内，可达到用于显示器密封材料的组成物适于形成有机场致发光元件的封装物的粘度。
光聚合起始剂可包含(但不限于)能够进行光固化反应的典型光聚合起始剂。举例而言，光聚合起始剂可包含三嗪、苯乙酮、二苯甲酮、噻吨酮、安息香、磷、肟或其混合物。
三嗪起始剂可包含例如2，4，6-三氯-均三嗪、2-苯基-4，6-双(三氯甲基)-均三嗪、2-(3′，4′-二甲氧基苯乙烯基)-4，6-双(三氯甲基)-均三嗪、2-(4′-甲氧基萘基)-4，6-双(三氯甲基)-均三嗪、2-(对甲氧苯基)-4，6-双(三氯甲基)-均三嗪、2-(对甲苯基)-4，6-双(三氯甲基)-均三嗪、2-联苯-4，6-双(三氯甲基)-均三嗪、双(三氯甲基)-6-苯乙烯基-均三嗪、2-(萘酚-1-基)-4，6-双(三氯甲基)-均三嗪、2，4-三氯甲基(胡椒基)-6-三嗪、2，4-(三氯甲基(4′-甲氧基苯乙烯基)-6-三嗪或其混合物。
苯乙酮起始剂可包含例如2，2′-二乙氧基苯乙酮、2，2′-二丁氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基苯丙酮、对第三丁基三氯苯乙酮、对第三丁基二氯苯乙酮、4-氯苯乙酮、2，2′-二氯-4-苯氧基苯乙酮、2-甲基-1-(4-(甲硫基)苯基)-2-吗啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-吗啉基苯基)-丁-1-酮或其混合物。
二苯甲酮起始剂可包含例如二苯甲酮、苯甲酰基苯甲酸、苯甲酰基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、羟基二苯甲酮、丙烯酸化二苯甲酮、4，4′-双(二甲基胺基)二苯甲酮、4，4′-二氯二苯甲酮、3，3′-二甲基-2-甲氧基二苯甲酮或其混合物。
噻吨酮起始剂可包含例如噻吨酮、2-甲基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、2，4-二异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮或其混合物。
安息香起始剂可包含例如安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香异丙醚、安息香异丁醚、苯甲基二甲基缩酮或其混合物。
磷起始剂可包含例如双苯甲酰基苯基氧化膦、苯甲酰基二苯基氧化膦或其混合物。
肟起始剂可包含例如2-(邻苯甲酰基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1，2-辛二酮及1-(邻乙酰基肟)-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮或其混合物。
以用于显示器密封材料的组成物中的光可固化单体及光聚合起始剂的100重量份计，光聚合起始剂可以0.1重量份至20重量份的量存在。在此范围内，可在曝光时充分地进行光固化，且可防止由于在光固化后未反应的起始剂残余而降低透射率。特定言之，光聚合起始剂可以0.5重量份至10重量份且特定言之1重量份至8重量份的量存在。此外，以固体含量计，光聚合起始剂可以0.1wt％至10wt％且特定言之0.1wt％至8wt％的量存在于用于显示器密封材料的组成物中。在此范围内，可充分地进行光固化，且可防止由于未反应的残余起始剂而降低透射率。
另外，可使用以下光酸产生剂或光聚合起始剂代替所述光聚合起始剂，诸如咔唑、二酮、锍、錪、重氮、联咪唑及类似物。
在本发明的另一个实施例中，用于显示器密封材料的组成物可还包含抗氧化剂。
抗氧化剂可改善封装层的热稳定性。抗氧化剂可包含(但不限于)由苯酚、醌、胺以及亚磷酸酯组成的群组中选出的至少一个。举例而言，抗氧化剂可包含例如四[亚甲基(3，5-二第三丁基-4-羟基氢化肉桂酸酯)]甲烷、亚磷酸三(2，4-二第三丁基苯基)酯及类似物。
以用于显示器密封材料的组成物中的光可固化单体及光聚合起始剂的100重量份计，抗氧化剂可以0.01重量份至3重量份且特定言之0.01重量份至1重量份的量存在。在此范围内，可达到极好的热稳定性。
根据本发明的其他实施例的用于显示器密封材料的组成物可还包含热稳定剂。因此，根据本发明的其他实施例的用于显示器密封材料的组成物可抑制在环境温度下的粘度变化。此外，所述组成物与不包含热稳定剂的封装组成物相比，可具有高透光率及光聚合速率以及低等离子体蚀刻速率。除还包含热稳定剂以外，所述组成物与根据本发明的一个实施例的用于显示器密封材料的组成物相同。在下文中，将描述热稳定剂的详情。
所述组成物内包含的热稳定剂用以抑制所述组成物在环境温度下的粘度变化，且可为通常使用的任何热稳定剂。举例而言，热稳定剂可包含空间位阻(stericallyhindered)酚系热稳定剂。特定言之，热稳定剂可包含(但不限于)聚(二环戊二烯-共-对甲苯酚)、十八烷基-3-(3，5-二第三丁基-4-羟基苯基)丙酸酯、2，6-二第三丁基-4-甲基苯酚、2，2′-甲桥-二(4-甲基-6-第三丁基-苯酚)、6，6′-二第三丁基-2，2′-硫代二对甲苯酚、三(4-第三丁基-3-羟基-2，6-二甲基苄基)异三聚氰酸酯、三乙二醇-双(3-第三丁基-4-羟基-5-甲基苯基)、4，4′-硫代双(6-第三丁基-间甲苯酚)、3，3′-双(3，5-二第三丁基-4-羟基苯基)-N，N′-六亚甲基-二丙酰胺、季戊四醇四(3-(3，5-二第三丁基-4-羟基苯基)丙酸酯、硬脂酰基-3，5-二第三丁基-4-羟基苯基丙酸酯、季戊四醇四1，3，5-三(2，6-二甲基-3-羟基-4-第三苄基)异三聚氰酸酯、1，3，5-三(3，5-二第三丁基-4-羟基苄基)异三聚氰酸酯以及1，3，5-三(2-羟乙基)异三聚氰酸酯-三(3，5-二第三丁基羟基苯基丙酸酯)中的至少一个。
以固体含量计，基于用于显示器密封材料的组成物中的光可固化单体及光聚合起始剂的总重量计，热稳定剂可以2000ppm或小于2000ppm、例如0.01ppm至2000ppm、例如100ppm至1000ppm的量存在。在此范围内，热稳定剂可改善封装组成物在液相中的储存稳定性及可加工性。
用于显示器密封材料的组成物可以10毫瓦/平方厘米至500毫瓦/平方厘米的剂量进行UV固化1秒至100秒。
在包含由用于显示器密封材料的组成物形成的有机保护层的显示器装置中，释气的产生量可为2000ppm或小于2000ppm。在此范围内，由于装置元件具有长贮藏寿命而可增加可靠性。特定言之，所述量可为10ppm至1000ppm。
释气的产生量可通过典型方法确定。举例而言，用于显示器密封材料的组成物可施用于玻璃基板上且以100毫瓦/平方厘米的剂量进行UV固化10秒以制备具有5微米厚膜的固化样本。TD-GC/MS(TD：JTD505III，GC/MS：Clams600，Perkin Elmer)仪器可用于确定特定面积(1×5平方厘米)上捕获的通过将5微米厚的膜以10℃/min的速率自40℃加热至320℃产生的释气的量。用于显示器密封材料的组成物在固化后的彩色坐标YI(ASTM D1925)可为0.5或小于0.5且特定言之可为0.1至0.5。在此范围内，显示器的封装物可为透明的，且透射与白光类似的光且因此施用于显示器。
彩色坐标可通过典型方法确定。举例而言，用于显示器密封材料的组成物可施用于玻璃基板上且以100毫瓦/平方厘米的剂量进行UV固化10秒以制备具有5微米厚膜的固化样本。紫外-可见光分光光度计UV-visible spectrophotometer(UV-2450，SHIMADZU)分析仪可用于测定5微米厚的膜在300纳米至800纳米波长下的透射率Transmittance且计算彩色坐标YI(ASTM D1925)。
用于显示器密封材料的组成物在固化后的总透射率可为90％或大于90％及100％或小于100％，且特定言之可为95％或大于95％及100％或小于100％，且因此，用于封装显示器的组成物可提供透明有机保护层。
总透射率及雾度可使用雾度计(NDH-5000，Nippon Denshoku)在约400纳米至约700纳米的波长下根据ASTM D1003-95 5确定。
用于显示器密封材料的组成物可施用于发射前侧，不应显示出任何色彩且为透明的。若显示器的封装物显示出任何色彩，自显示器光源产生的光穿透置于其前侧的封装物，则导致获得的色彩失真，因为彩色坐标为有差异的。另外，若透明度较低，则发射至前侧的光可具有被降低的功效，其降低显示器的清晰度。
在本发明的一些实施例中，用于显示器密封材料的组成物可用作有机场致发光元件的封装物。特定言之，有机场致发光元件可因周围环境而受损，例如液体或气体，尤其湿气或氧气，或制备包含有机场致发光元件的装置的过程中所用的化学试剂。另外，为防止特性劣化，所述组成物可用作用于形成有机保护层以防止有机场致发光元件接触周围环境的封装物。
在本发明的一些实施例中，用于显示器密封材料的组成物可用作元件构件的封装物。特定言之，元件构件可因周围环境而受损，例如液体或气体，尤其湿气或氧气，或制备包含有机场致发光元件的装置的过程中所用的化学试剂。另外，为防止特性劣化，所述组成物可用作用于形成有机保护层以防止元件构件接触周围环境的封装物。元件构件可包含例如可挠性有机场致发光元件、有机场致发光元件及类似物。
在本发明的一些实施例中，用于显示器密封材料的组成物可用于形成在有机场致发光元件上形成的有机保护层或在有机场致发光元件上形成的无机保护层上形成的有机保护层。有机保护层可通过(但不限于)沉积、喷墨及类似方法形成。
根据本发明的又一个实施例，显示器装置可包含元件构件及在所述元件构件上形成的复合保护层，其中所述复合保护层可包含无机保护层及有机保护层，且所述有机保护层可由根据本发明的一些实施例的用于显示器密封材料的组成物制备。
在下文中，根据本发明的一个实施例的显示器装置将参照图1进行描述。
图1为根据本发明的一个实施例的显示器装置的截面视图。根据一个实施例的显示器装置(100)可包含基板(10)、在基板(10)上形成的元件构件(20)以及在元件构件(20)上形成的包含无机保护层(31)及有机保护层(32)的复合保护层(30)，其中无机保护层(31)可与元件构件(20)接触形成，且有机保护层(32)可由根据本发明实施例的用于显示器密封材料的组成物制备。
本文所用的显示器意指发光二极体(1ight emitting diode，简称：LED)、有机发光二极体(organic light emitting diode，简称：OLED)、光仪器(light instrument)、包含OLED光仪器及LED光仪器的光仪器以及用于所属领域的显示器装置。
显示器装置可包含(但不限于)可挠性有机场致发光元件、有机场致发光元件及类似物。
基板(10)不受特别限制，且可包含例如透明玻璃、塑胶膜、硅或金属基板及类似物。
元件构件(20)可包含例如有机场致发光元件，且包含第一电极、第二电极、在所述第一电极与第二电极之间的有机发射层，且有机发射层可为(但不限于)电洞注入层、电洞传输层、发射层、电子传输层、电子注入层依次积层而成的层。
复合保护层(30)可包含无机保护层(31)及有机保护层(32)，且无机保护层(31)及有机保护层(32)可由不同组分制备且单独用作元件构件的封装物。
无机保护层(31)可具有与有机保护层(32)不同的组分，且补充有机保护层(32)的效应。无机保护层(31)可由具有极好透光率及湿气和/或氧气阻隔性的无机材料制备。举例而言，无机保护层(31)可包含金属、非金属、金属间化合物或合金、非金属间化合物或合金、金属或非金属氧化物、金属或非金属氟化物、金属或非金属氮化物、金属或非金属碳化物、金属或非金属氮氧化物、金属或非金属硼化物、金属或非金属硼氧化物、金属或非金属硅化物或其混合物。金属可包含(但不限于)半金属、碱金属、过渡金属、镧系元素金属或类似物，特定言之，金属可包含至少硅(Si)、铝(Al)、硒(Se)、锌(Zn)、锑(Sb)、铟(In)、锗(Ge)、锡(Sn)、铋(Bi)、过渡金属、镧系元素金属及类似物。
特定言之，无机保护层可包含硅氧化物(SiOx)、硅氮化物(SiNx)、硅氧氮化物(SiOxNy)、ZnSe、ZnO、Sb2O3、AlOx，诸如Al2O3及类似物、In2O3或SnO2，其中x及y各自为1至5。
无机保护层(31)可通过等离子体法、例如溅镀的真空法、化学气相沉积、等离子体增强化学气相沉积、蒸发、升华、电子回旋共振-等离子体化学气相沉积及其组合沉积。
无机保护层(31)的厚度不受特别限制，但可为约
Figure GDA0001272319340000111
至约
Figure GDA0001272319340000112
在此范围内，可增强封装效应。
有机保护层(32)可单独或以组合形式通过沉积、喷墨、网版印刷、旋涂、刮涂、固化而由根据本发明实施例的用于显示器密封材料的组成物制备。举例而言，用于显示器密封材料的组成物可涂布至1微米至50微米厚且以10毫瓦/平方厘米至500毫瓦/平方厘米的剂量进行UV固化1秒至100秒。
图1中并未描述，有机保护层及无机保护层可交替沉积3层或大于3层。若有机保护层沉积在2个或大于2个无机保护层之间，则可确保无机保护层的光滑度，且防止无机保护层的缺陷传递至其他无机保护层。此外，若无机保护层沉积在2个或大于2个有机保护层之间，则可增强或增加封装装置的效应。
复合保护层(30)可交替包含无机保护层(31)及有机保护层(32)，其条件为无机保护层(31)及有机保护层(32)的总数不受限制。无机保护层(31)及有机保护层(32)的总数可视对氧气和/或湿气和/或水蒸气和/或化学试剂的抗渗性水准而定。举例而言，无机保护层(31)及有机保护层(32)的总数可为10或小于10，例如2至7。特定言之，可依次形成诸如无机保护层/有机保护层/无机保护层/有机保护层/无机保护层/有机保护层/无机保护层的七层。
显示器装置的释气产生量可为2000ppm或小于2000ppm。在此范围内，显示器构件可具有长贮藏寿命及高可靠性。特定言之，所述量可为10ppm至1000ppm。
在下文中，根据本发明的另一个实施例的显示器装置现将参照图2进行描述。图2为根据本发明的另一个实施例的显示器装置的截面视图。
参照图2，根据另一个实施例的显示器装置(200)可包含基板(10)、在基板(10)上形成的元件构件(20)、以及在元件构件(20)上形成的包含无机保护层(31)及有机保护层(32)的复合保护层(30)，其中无机保护层(31)可封装容纳元件构件(20)的内部空间(40)，且有机保护层(32)可由根据本发明实施例的用于显示器密封材料的组成物制备。根据本发明的另一个实施例的有机发光元件显示器除了无机保护层(31)不与元件构件(20)接触以外，实质上与根据本发明的一个实施例的显示器相同。
本发明的实施方式
在下文中，将参照一些实例更详细地描述本发明。然而，应了解，这些实例仅出于说明目的而提供且不应以任何方式视为限制本发明。为清楚起见，将省略对本领域相关技术人员显而易见的详情的描述。
制备实例1
向配备有冷却管及搅拌器的3000毫升烧瓶中装入300毫升二氯甲烷(dichloromethane，西格玛奥德里奇)，且添加200克丙烯酸4-羟基丁酯(4-hydroxibutylacrylate，新中村化学工业有限公司)及168克三乙胺。在使烧瓶中的温度冷却至0℃后，在搅拌的同时逐滴添加在500毫升二氯甲烷中具有278克对甲苯磺酰氯(p-toluene sulfonylchloride，西格玛奥德里奇)的溶液2小时。此后，再次搅拌溶液5小时且通过蒸馏去除残余溶剂。接着，将300克获得的化合物添加至1000毫升乙腈(acetonitrile，西格玛奥德里奇)中，且在80℃下在搅拌的同时添加220克碳酸钾(potassium carbonate，西格玛奥德里奇)及141克2-苯基苯酚(2-phenylphenol，西格玛奥德里奇)。移除残余溶剂及反应残余物，得到通过HLPC所确定纯度为93％的式5的化合物(分子量：296.36)：
<式5>
Figure GDA0001272319340000121
制备实例2
向配备有冷却管及搅拌器的2000毫升烧瓶中装入600毫升二氯甲烷(dichloromethane，西格玛奥德里奇)，在0℃下搅拌的同时添加58.8克甲基丙烯酸羟乙酯(hydroxyethyl methacrylate，西格玛奥德里奇)及52.2克三乙胺(triethylamine，西格玛奥德里奇)，且缓慢添加100克三苯基氯代甲烷(triphenyl chloromethane，西格玛奥德里奇)。在使烧瓶中的温度升高至25℃后，搅拌溶液4小时。接着，通过真空蒸馏移除二氯甲烷且经由硅胶管柱对溶液进行层析，获得通过HLPC所确定纯度为97％的124克的式6的化合物：
<式6>
Figure GDA0001272319340000122
制备实例3
向配备有冷却管及搅拌器的2000毫升烧瓶中装入800毫升乙腈(acetonitrile，Fisher社)，在0℃下搅拌的同时添加180克碳酸钾(potassium carbonate，奥德里奇)及108克丙烯酸，且缓慢添加150克4，4′-双(氯甲基)联苯(4，4′-bis(chloromethyl)biphenyl，TCI社)。在使烧瓶中的温度升高至70℃后，搅拌溶液12小时。接着，通过真空蒸馏移除乙腈且经由硅胶管柱对溶液进行层析，获得通过HLPC所确定纯度为97％的177克的式7的化合物：
<式7>
Figure GDA0001272319340000131
制备实例4
向配备有冷却管及搅拌器的3000毫升烧瓶中装入300毫升二氯甲烷(dichloromethane，西格玛奥德里奇)，且添加200克丙烯酸羟乙酯(hydroxylethylacrylate，新中村化学工业有限公司)及168克三甲胺。在使烧瓶中的温度降低至0℃后，在搅拌的同时逐滴添加使278克对甲苯磺酰氯(p-toluene sulfonylchloride，西格玛奥德里奇)溶解于500毫升二氯甲烷中而成的溶液2小时。再次搅拌5小时后，通过蒸馏移除剩余溶剂。将300克获得的化合物添加至1000毫升乙腈(acetonitrile，西格玛奥德里奇)中，且再次添加220克碳酸钾(potassium carbonate，西格玛奥德里奇)及141克2-苯基苯酚(2-phenylphonol，西格玛奥德里奇)并在80℃下搅拌。接着，移除剩余溶剂及反应剩余物，获得通过HLPC所确定纯度为93％的式8的化合物(分子量：296.36)：
<式8>
Figure GDA0001272319340000132
制备实例5
向配备有冷却管及搅拌器的3000毫升烧瓶中装入300毫升二氯甲烷(dichloromethane，西格玛奥德里奇)，添加400克丙烯酸羟乙酯(hydroxylethylacrylate，新中村化学工业有限公司)及168克三甲胺。在使烧瓶中的温度降低至0℃后，在搅拌的同时逐滴添加使278克对甲苯磺酰氯(p-toluene sulfonyl chloride，西格玛奥德里奇)溶解于500毫升二氯甲烷中而成的溶液2小时。再次搅拌5小时后，通过蒸馏移除剩余溶剂。将300克获得的化合物添加至1000毫升乙腈(acetonitrile，西格玛奥德里奇)中，且再次添加220克碳酸钾(potassium carbonate，西格玛奥德里奇)及141克2，2′-双酚(2，2’-bisphonol，西格玛奥德里奇)并在80℃下搅拌。接着，移除剩余溶剂及反应剩余物，获得通过HLPC所确定纯度为91％的式9的化合物(分子量：382.41)：
<式9>
Figure GDA0001272319340000141
制备实例6
向配备有冷却管及搅拌器的1000毫升烧瓶中，在搅拌的同时将8.2克高氯酸锌(zinc perchlorate，西格玛奥德里奇)添加至100克苯硫酚(benzene thiol)及200毫升二氯甲烷(dichloromethane，西格玛奥德里奇)，且逐滴缓慢添加109.05克氧化苯乙烯(styrene oxide，西格玛奥德里奇)以使反应在环境温度下继续进行。在4小时后，使用水及二氯甲烷移除无机材料，且移除剩余溶剂以获得192克第一产物。在0℃下，向2000毫升烧瓶中添加150克第一产物、70.31克三甲胺(trimethylamine，西格玛奥德里奇)以及500毫升二氯甲烷且搅拌，且逐滴缓慢添加64.84克丙烯酰氯(acryloyl chloride，西格玛奥德里奇)以使反应继续进行。在添加后，使温度缓慢升高至环境温度，且再搅拌混合物4小时。在反应后，纯化正已烷(n-hexane，大中化工及金属公司)以移除盐及杂质，且在减压下蒸馏剩余溶剂以获得通过HLPC所确定纯度为85％的式10的化合物(分子量：284.37)：
<式10>
Figure GDA0001272319340000142
实例及比较实例中所用组分的详情如下：
(A)不含芳族烃基的单体：
(a1)十二烷二醇二甲基丙烯酸酯(dodecanediol dimethacrylate，Satomer)
(a2)三乙二醇二甲基丙烯酸酯(triethylene glycol dimethacrylate，BASF)
(a3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(trimethylolpropane triacrylate，BASF)
(a4)丙烯酸-2-二甲胺基乙酯(2-dimethylaminoethyl acrylate，ACROS)
(B)含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体：
(b1)制备实例1的单体
(b2)制备实例2的单体
(b3)制备实例3的单体
(b4)制备实例4的单体
(b5)制备实例5的单体
(b6)制备实例6的单体
(b7)CP-011(丙烯酸-4-枯基苯氧基乙酯，韩农化学股份有限公司)
(b8)双酚A二甲基丙烯酸酯(bisphenol A dimethacrylate，Aldrich)
(b9)BPM-102(双酚A乙氧基化(10)甲基丙烯酸酯，韩农化学股份有限公司)
(b10)双酚F乙氧基化(2)二丙烯酸酯(bisphenol F ethoxylated(2)diacrylate，Aldrich)
(C)光起始剂：磷起始剂(Darocur TPO，BASF)
实例1
向125毫升棕色聚丙烯瓶子中，装入90重量份(a1)、10重量份(b1)以及5重量份(C)，且使用震荡器搅拌3小时以制备实例1的用于显示器密封材料的组成物。
实例2至实例25以及比较实例1至比较实例15
除使用如表1至表3中所示的每一组分的类型及量以外，以与实例1中相同的方式制备组成物。
物理特性的评估
(1)等离子体蚀刻速率(％)：通过喷雾将实例及比较实例的用于显示器密封材料的组成物施用在525±25微米厚的硅晶圆上来制备包含5微米厚有机保护层的样本，且以100毫瓦/平方厘米的剂量进行UV固化10秒。所制备的样本使用ICP干式蚀刻器(等离子体实验室系统133，Oxford instruments)在以下条件下用氩气进行等离子体处理：ICP功率：2500瓦，RE功率：300瓦，直流偏压DC：200伏特，Ar流量：50sccm，蚀刻时间：1分钟以及压力：10毫托。等离子体蚀刻速率通过测量在等离子体处理前有机保护层的厚度(T0)及在处理后有机保护层的厚度(T1)且根据方程式1计算等离子体蚀刻速率来确定，且其结果展示于表1至表3中：
[方程式1]
等离子体蚀刻速率(纳米/分钟)＝(T0-T1)/M
其中T0及T1为排除基板厚度的厚度，且M为等离子体处理的时间(分钟)。
(2)表面粗糙度(纳米)：将如上文物理特性的评估(1)中所述制备的样本置于原子力显微镜(XE-100，Park systems)上，且通过将头部模式Head Mode设置成接触模式contact Mode且将PSPD显示窗口设置成A+B→1伏特，A-B→-500毫伏特至+500毫伏特来测量表面粗糙度。
(3)彩色坐标YI(ASTM D1925)：在如上文物理特性的评估(1)中所述制备的样本上使用紫外-可见光分光光度计(UV-2450，SHIMADZU)分析仪在300纳米至800纳米的波长下测量透射率，随后计算彩色坐标YI(ASTM D1925)。
(4)透光率(％)：根据ASTM D1003-955，在如上文物理特性的评估(1)中所述制备的样本上使用雾度计(NDH-5000，Nippon Denshoku)在400纳米至700纳米的波长下测量总透光率。
表1
Figure GDA0001272319340000161
表2
Figure GDA0001272319340000171
表3
Figure GDA0001272319340000181
在表1至表3的结果中，显示实例中的组成物具有低等离子体蚀刻速率及因此显著极好的等离子体耐受性，以及2纳米或小于2纳米的表面粗糙度值及因此极好的光滑度。另外，显然组成物具有小于0.50的彩色坐标YI(ASTM D1925)及高透光率，因此用于显示器密封材料的组成物可提供透明的有机保护层。同时，相对于实例，比较实例中存在诸如高蚀刻速率及表面粗糙度的问题。
得益于上文描述中呈现的教示，熟习本发明所属技术者将思及许多修改及本发明的其他实施例。因此，应了解，本发明不限于所揭示的特定实施例且修改及其他实施例意欲包含在随附权利要求书的范畴内。

Claims (11)

1.一种用于显示器密封材料的组成物，包含光可固化单体及光聚合起始剂，
其中所述光可固化单体包含不含芳族烃基的单体；及含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体，其中所述含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体的量小于所述不含芳族烃基的单体的量，其中所述含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体以20 wt%至40 wt%的量存在于所述光可固化单体中，且所述不含芳族烃基的单体以60wt%至80 wt%的量存在于所述光可固化单体中，
所述不含芳族烃基的单体包含以下中的至少一者：
具有胺基的单(甲基)丙烯酸酯；
具有未经取代的C1至C20亚烷基或氧化乙烯基的二(甲基)丙烯酸酯；以及
具有经C1至C20烷基取代或未经取代的C1至C20亚烷基或氧化乙烯基的三(甲基)丙烯酸酯，以及
由所述组成物制备的固化产物具有由方程式1表示的385纳米/分钟或小于385纳米/分钟的等离子体蚀刻速率及通过原子力显微镜测量的2纳米或小于2纳米的表面粗糙度：
<方程式1>
等离子体蚀刻速率(纳米/分钟) = (T0 - T1) / M
其中在方程式1中，T0为通过喷雾将所述用于显示器密封材料的组成物施用于基板上且以100毫瓦/平方厘米的剂量进行紫外线固化10秒所制备的样品以纳米为单位的厚度；T1为所制备的样品在感应耦合等离子体功率2500瓦、射频功率300瓦、直流偏压200伏特、氩气流动速率50标准毫升/分钟以及压力10毫托的条件下进行等离子体处理1分钟后的以纳米为单位的厚度，T0及T1各自为除去所述基板厚度后的厚度；且M为以分钟为单位的所述等离子体处理的时间，
其中所述含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体包含由式3或式4表示的结构：
<式3>
Figure DEST_PATH_IMAGE002
其中在式3中，R2为氢或甲基，R3为经取代或未经取代的直链C1至C10亚烷基或经取代或未经取代的C1至C20亚烷氧基，且R4为具有两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃或具有杂原子及两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃，
<式4>
Figure DEST_PATH_IMAGE004
其中在式4中，R5及R9为氢或甲基，R6及R8各自独立地为经取代或未经取代的直链C1至C10亚烷基或经取代或未经取代的C1至C20亚烷氧基，且R7为具有两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃。
2.根据权利要求1所述的用于显示器密封材料的组成物，其中所述含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体包含以下中的至少一个：4-(甲基)丙烯酰氧基-2-羟基二苯甲酮、(甲基)丙烯酸乙基-3,3-二苯酯、(甲基)丙烯酸苯甲酰氧基苯酯、双酚A二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化双酚A二(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基苯氧基乙酯、二(甲基)丙烯酸-2,2'-苯基苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基苯氧基丙酯、二(甲基)丙烯酸-2,2'-苯基苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基苯氧基丁酯、二(甲基)丙烯酸-2,2'-苯基苯氧基丁酯、(甲基)丙烯酸-2-(3-苯基苯基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(4-苯甲基苯基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基-2-(苯硫基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(三苯基甲氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸-4-(三苯基甲氧基)丁酯、(甲基)丙烯酸-3-(联苯-2-基氧基)丁酯、(甲基)丙烯酸-2-(联苯-2-基氧基)丁酯、(甲基)丙烯酸-4-(联苯-2-基氧基)丙酯、(甲基)丙烯酸-3-(联苯-2-基氧基)丙酯、(甲基)丙烯酸-2-(联苯-2-基氧基)丙酯、(甲基)丙烯酸-4-(联苯-2-基氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸-3-(联苯-2-基氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(4-苯甲基苯基)乙酯、4,4'-二(丙烯酰氧基甲基)联苯、2,2'-二(丙烯酰氧基乙氧基)联苯、其结构异构体或其混合物。
3.根据权利要求1所述的用于显示器密封材料的组成物，其中所述含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体的重量平均分子量为100克/摩尔至1000克/摩尔或小于1000克/摩尔。
4.根据权利要求1所述的用于显示器密封材料的组成物，其中所述不含芳族烃基的单体含有1个至3个自乙烯基、丙烯基以及甲基丙烯基中选出的基团作为光可固化官能团。
5.根据权利要求1所述的用于显示器密封材料的组成物，其中所述光可固化单体为由自碳、氢、氧、氮以及硫中选出的元素组成的单体。
6.根据权利要求1所述的用于显示器密封材料的组成物，其中所述光聚合起始剂为三嗪、苯乙酮、二苯甲酮、噻吨酮、安息香、磷以及肟起始剂中的至少一个。
7.根据权利要求1所述的用于显示器密封材料的组成物，还包含热稳定剂。
8.根据权利要求7项所述的用于显示器密封材料的组成物，其中以固体含量计，所述热稳定剂以100 ppm至1000 ppm的量存在于所述用于显示器密封材料的组成物中。
9.一种显示器装置，包含：
显示器构件；以及
在所述显示器构件上形成的复合保护层，
其中所述复合保护层包含无机保护层及有机保护层，以及
所述有机保护层包含权利要求1至6中任一项所述的用于显示器密封材料的组成物制备的固化产物。
10.根据权利要求9所述的显示器装置，其中所述无机保护层包含自元素、所述元素的氧化物、所述元素的氟化物、所述元素的氮化物、所述元素的碳化物、所述元素的氮氧化物、所述元素的硼化物、所述元素的硼氧化物以及所述元素的硅化物中选出的一或多个，以及
所述元素包含自硅、铝、硒、锌、锑、铟、锗、锡、铋、过渡金属以及镧系元素金属中选出的至少一个。
11.根据权利要求9所述的显示器装置，其中所述显示器构件为发光二极体或发光二极体光仪器。
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