CN107851730B - 有机发光显示器 - Google Patents

Abstract

提供了一种有机发光显示器，其包括：基板，所述基板包含发光区和非发光区，其围绕发光区外部设置；在发光区上形成的至少一个有机发光二极管；用于密封有机发光二极管的封装层；以及在非发光区上形成的坝状物，其中封装层包括其中至少一个无机层和至少一个有机层交替堆叠的结构，其中有机层由显示器密封材料组合物制成，并且其中显示器密封材料组合物包含光可固化单体和光聚合引发剂。光可固化单体包括：不具有芳烃基团的单体；和具有至少两个取代或未取代的苯基的由化学式1表示的单体，其中光可固化单体包含约5至45wt.％的具有至少两个取代或未取代的苯基的单体、以及约55至95wt.％的不具有芳烃基团的单体。

Description

有机发光显示器

技术领域

本发明涉及有机发光显示器。

背景技术

有机发光元件易受水分和/或氧气的侵害。有机发光元件由于水分可以在金属场和发光层之间的界面遭受分层。由于金属氧化，有机发光元件可以具有高电阻，并且可以由于水分和/或氧气遭受发光层中有机材料的降解。通过对有机发光元件内部或外部除气，有机发光元件可以由于发光层或金属场的氧化而遭受发光性质的劣化。因此，有机发光元件必须由能够保护有机发光元件不受水分和/或氧气影响的封装组合物封装。

有机发光元件可以由具有多层结构的封装层封装，在多层结构中，有机层和无机层在彼此上方交替堆叠。无机层可以通过等离子沉积形成。然而，可以通过等离子体蚀刻有机层。蚀刻可以劣化有机层的封装功能并对无机层的形成提供不利影响。有机层与无机层接触形成。因此，有机发光元件可能在发光性质和可靠性方面遭受劣化。

有机层可以通过沉积或喷墨形成。当有机层的角在没有保护的情况下暴露于封装层的角时，保护有机发光元件不受水分和/或氧气影响的封装性质可能劣化。另外，当通过喷墨形成有机层时，处于液态的有机层的封装组合物可能会扩散至发光区或基板之外，借此使封装层边缘变厚。

在韩国专利公开号2011-0071039中公开了本发明的背景技术。

发明内容

技术问题

本发明的一个方面是提供包含显示出高等离子体阻抗的有机层的有机发光显示装置。

本发明的另一个方面是提供包含具有显著低水蒸汽渗透性和/或氧渗透性的有机层的有机发光显示装置。

本发明的其它方面是提供包含显示出优良透明度的有机层的有机发光显示装置。

本发明的另一个方面是提供包含具有低表面粗糙度和良好表面平坦度的有机层的有机发光显示装置。

本发明的另一个方面是提供包含能够通过保护有机发光元件不受包含水分和/或氧气的外界环境的影响在经过时间内确保可靠性的有机层的有机发光显示装置。

本发明的另一个方面是提供可以抑制有机层暴露于发光区或基板之外并且可以抑制有机层边缘变厚的有机发光显示装置。

技术方案

本发明的一个方面涉及有机发光显示装置，其包含基板，所述基板包含发光区和设置在发光区之外的非发光区；在发光区上形成的至少一个有机发光元件；封装有机发光元件的封装层；和在非发光区上形成的坝状物(dam，坝，坝构件)，其中封装层具有其中至少一个无机层和至少一个有机层在彼此上方交替堆叠的结构，并且有机层包含用于封装显示装置的组合物，用于封装显示装置的组合物包含可光固化单体(photocurable monomer)和光聚合引发剂，可光固化单体包含不含芳烃的单体；和包含取代或未取代的至少两个苯基的式1的单体，可光固化单体包含约5wt％至约45wt％的包含取代或未取代的至少两个苯基的单体和约55wt％至约95wt％的不含芳烃的单体。

<式1>

(其中在式1中，A、Z¹、Z²、a和b如以下所定义)。

有益效果

本发明提供了包含显示出高等离子体阻抗的有机层的有机发光显示装置。

本发明提供了包含具有显著低水蒸汽渗透性和氧渗透性的有机层的有机发光显示装置。

本发明提供了包含显示出优良透明度的有机层的有机发光显示装置。

本发明提供了具有低表面粗糙度和优良表面平坦度的有机发光显示装置。

本发明提供了包含能够通过保护有机发光元件不受包含水分和气体的外界环境的影响在经过时间内确保可靠性的有机层的有机发光显示装置。

本发明提供了可以抑制有机层暴露于发光区或基板之外并且可以抑制有机层边缘变厚的有机发光显示装置。

附图说明

图1是根据本发明的实施方式的有机发光显示装置的示意性平面图。

图2是根据本发明的实施方式的有机发光显示装置的部分截面图。

图3是根据本发明的另一个实施方式的有机发光显示装置的部分截面图。

图4是根据本发明的另一个实施方式的有机发光显示装置的部分截面图。

图5是根据本发明的另一个实施方式的有机发光显示装置的部分截面图。

最佳模式

在下文中，本发明的实施方式将参考附图详细描述。应理解本发明不局限于以下实施方式并且可以以不同方式体现，并且提供以下实施方式以提供本发明的完全公开和提供本领域技术人员对本发明的彻底理解。应注意附图不是准确比例的并且为了清楚描述附图，夸大了一些尺寸，如宽度、长度、厚度等。此外，尽管为了描述方便，仅显示了组件的一部分，但是组件的其它部分可以对本领域技术人员是显而易见的。此外，应理解在不背离本发明的精神和范围的情况下，本领域技术人员可以以多种方式实现本发明。

如本文所使用的，空间上相对的术语，如“上”和“下”是参考附图定义的。因此，将理解“上”可以与“下”互换使用。将理解当将层称为在另一个层“之上”时，它可以直接在另一个层上形成，或者还可以存在中间层。因此，将理解当将层称为“直接在另一个层上”时，则它们之间未插入中间层。

如本文所使用的，术语“(甲基)丙烯酰基”是指丙烯酰基和/或甲基丙烯酰基。

除非在本文中另有说明，否则术语“取代的”是指官能团中至少一个氢原子被羟基、硝基、亚氨基(＝NH、＝NR，R是C1至C10烷基)、脒基、肼基、腙基、羧基、C1至C20烷基、C6至C30芳基、C3至C30杂芳基或C2至C30杂环烷基取代。

如本文所使用的，术语“杂原子”是指选自由N、O、S和P组成的组的原子，并且术语“杂”是指碳原子被选自由N、O、S和P组成的组的原子取代。

如本文所使用的，当用等离子体处理用于封装的固化组合物时，可以根据蚀刻率确定术语“等离子体阻抗”，并且低蚀刻率定义为优良的等离子体阻抗。

如本文所使用的，术语“亚烷基”是指具有不含双键的饱和烃并且具有两个键合基团的链烷二基。

如本文所使用的，术语“亚烷氧基”是指具有两个键合基团、同时R是指亚烷基的“-OR-”。

如本文所使用的，术语“封装”和“密封”表示围绕有机发光元件并且这两个术语彼此具有基本相同的含义。

本发明的有机发光显示装置可以包含基板，所述基板包含发光区和设置在发光区外部的非发光区；在发光区上形成的至少一个有机发光元件；封装有机发光元件的封装层；和在非发光区上形成的坝状物，其中封装层具有其中至少一个无机层和至少一个有机层在彼此上方交替堆叠的结构，并且有机层包含用于封装显示装置的组合物。

根据本发明的实施方式用于封装显示装置的组合物可以实现具有高等离子体阻抗和低表面粗糙度的有机层。在根据本发明的实施方式的有机发光显示装置中，有机层与无机层接触形成。因此，有机层可以使无机层变平并且防止无机层的缺陷，借此防止外部水分和氧气的渗透。并且，可以形成薄封装层。

根据本发明用于封装显示装置的组合物可以实现具有低水蒸汽渗透性和氧渗透性的有机层。因此，本发明的有机发光显示装置还可以抑制外部水分和/或氧气向有机发光元件的渗透，并改善有机发光元件在经过时间(elapsed time)的可靠性。

根据本发明的有机发光显示装置可以包含坝状物。坝状物可以防止有机层的角暴露于外部。因此，本发明的有机发光显示装置还可以抑制外部水分和/或氧气向有机发光元件的渗透，并提高有机发光元件在经过时间中的可靠性。

根据本发明的有机发光显示装置可以包含坝状物。坝状物可以抑制包含在有机层中的用于封装的组合物在有机层形成期间流向发光区或基板外部，借此抑制有机层在发光区或基板外部形成，并且还抑制了有机层边缘变厚。

例如，在本发明的有机发光显示装置中，无机层可以另外形成在坝状物上。在一个实施方式中，坝状物和无机层可以顺序在基板上形成。在另一个实施方式中，无机层可以包含第一无机层和第二无机层，并且坝状物、第一无机层和第二无机层可以顺序在基板上形成。

此外，在本发明的有机发光显示装置中，封装层可以另外形成在坝状物上。在一个实施方式中，坝状物、有机层和无机层可以顺序在基板上形成。在另一个实施方式中，无机层可以包含第一无机层和第二无机层，并且有机层可以包含第一有机层。坝状物、第一无机层、第一有机层和第二无机层可以顺序在基板上形成。

另外，在本发明的有机发光显示装置中，发光区中的第一有机层可以通过坝状物与非发光区中的第一有机层分离。

在下文中，将参考图1和图2说明根据本发明的实施方式的有机发光显示装置。图1是根据本发明的实施方式的有机发光显示装置的示意性平面图。图2是根据本发明的实施方式的有机发光显示装置的部分截面图。

参考图1，根据本发明的实施方式的有机发光显示装置(100)可以包含基板(110)、坝状物(140)和发光区(100a)。基板(110)可以包含其中形成至少一个有机发光元件的发光区(100a)和其中形成坝状物(140)并且坝状物(140)位于发光区(100a)外部的非发光区。

参考图2，根据一个实施方式的有机发光显示装置(100)可以包含基板(110)、有机发光元件(120)、封装层(130)和坝状物(140)。

基板(110)可以设置在有机发光元件(120)、封装层(130)和坝状物(140)下方以支持有机发光元件(120)、封装层(130)和坝状物(140)。基板(110)可以包含其中形成至少一个有机发光元件(120)的发光区和其中形成坝状物(140)并且坝状物(140)位于发光区外部的非发光区。

基板(110)可以是玻璃基板、石英基板或透明塑料基板。通过向有机发光显示装置提供柔性，透明塑料基板可以应用于柔性产品。透明塑料基板可以由以下至少一种形成：聚酰亚胺树脂、丙烯酸类树脂、聚丙烯酸酯树脂、聚碳酸酯树酯、聚醚树脂、包含聚对苯二甲酸乙二醇酯的聚酯树脂和磺酸树脂，但不限于它们。

有机发光元件(120)可以在基板(110)的发光区上形成以驱动有机发光显示装置(100)。有机发光元件(120)是自发射装置并且可以包括本领域技术人员所知的典型结构。

具体地，有机发光元件可以具有其中阳极、空穴传输区、发光层、电子传输区和阴极以这种顺序来顺序堆叠的结构。空穴传输区可以包含空穴注入层、空穴传输层和电子阻挡层中的至少一个。电子传输区可以包含空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层中的至少一个。在发光层中，通过阳极产生的空穴和阴极产生的电子的重组从发光层发出光。阳极、空穴传输区、发光层、电子传输区和阴极的细节对于本领域技术人员来说是熟知的。

具体地，阳极可以包含具有高逸出功(work function，功函数)的材料以允许将空穴有效注入发光层。用于阳极的材料的实例可以包括金属，如镍、铂、钒、铬、铜、锌和金、它们的金属合金、金属氧化物，如氧化锌、氧化铟、氧化铟锡和氧化铟锌、金属和金属氧化物的组合，如氧化锌和铝的组合、氧化锌和锑的组合。阴极可以包含具有低逸出功的材料以允许电子易于注入有机发光层。用于阴极的材料的实例可以包括金属，如镁、钙、钠、钾、钛、铟、钇、锂、钆、铝、银、锡、铅、铯、钡或它们的金属合金。

发光层可以包含本领域技术人员所知的材料。例如，发光层可以包含芴衍生物和金属复合物，但不限于此。

空穴传输区可以包含材料，如m-MTDATA、TDATA、2-TNATA、NPB、β-NPB、TPD、螺-TPD、螺-NPB、α-NPB、TAPC、HMTPD、PEDOTT/PSS(聚(3,4-亚乙基二氧噻吩)/聚(4-苯乙烯磺酸酯))和PANI/PSS(聚苯胺/聚(4-苯乙烯磺酸酯))，如下所示，但不限于此。

空穴阻挡层可以包含BCP和Bphen中的至少一种，如下所示，但不限于此。

电子传输层可以包含如上所示的BCP和Bphen和如下所示的Alq₃、BAlq、TAZ、NTAZ、ET1和ET2中的至少一种，但不限于此。

电子注入层可以包括LiF、NaCl、CsF、Li₂O和BaO中的至少一种，但不限于此。

封装层(130)可以直接在有机发光元件(120)上形成。封装层(130)可以封装有机发光元件(120)。如本文所使用的，表达“直接在……上形成”表示在封装层(130)和有机发光元件(120)之间未插入粘合层、粘结层和/或空气层。

封装层(130)可以具有其中至少一个无机层和至少一个有机层交替在彼此上方堆叠的多层结构。图2显示了包含封装层的有机发光显示装置，在封装层中，两个无机层和一个有机层以共计三个层交替堆叠。具体地，图2显示了包含封装层(130)的有机发光显示装置，在封装层(130)中第一无机层(131)、第一有机层(132)和第二无机层(133)交替在彼此上方堆叠。在其它实施方式中，封装层可以具有其它类型的多层结构，在所述多层结构中，无机层和有机层以总计5至15个层，具体地5至7个层交替堆叠。例如，在其中封装层包含总计5个层的结构中，封装层可以包含交替在彼此上方堆叠的第一无机层、第一有机层、第二无机层、第二有机层和第三无机层。在其中封装层包含总计7个层的结构中，封装层可以包含顺序堆叠的第一无机层、第一有机层、第二无机层、第二有机层、第三无机层、第三有机层和第四无机层。封装层(130)的无机层或有机层直接在有机发光元件上形成以封装有机发光元件。封装层(130)的最外层可以是无机层。

在下文中，将参考图2说明其中第一无机层(131)、第一有机层(132)和第二无机层(133)顺序堆叠的封装层(130)。

第一无机层(131)和第二无机层(133)的组分可以不同于第一有机层(132)的组分，并且可以补充第一有机层(132)的作用。第一无机层(131)和第二无机层(133)分别可以抑制水分和/或氧气向有机发光元件(120)的渗透。封装层(130)相对于有机发光元件(120)的最外层可以是作为第二无机层(133)的无机层。

第一无机层(131)可以直接在有机发光元件(120)上形成，并且可以封装有机发光元件(120)。第一无机层(131)可以另外形成在坝状物(140)上。

第一无机层(131)可以与有机发光元件(120)和坝状物(140)直接接触形成。“直接形成”表示在有机发光元件(120)和第一无机层(131)之间以及在坝状物(140)和第一无机层(131)之间未插入粘合层、粘结层和/或空气层。直接在有机发光元件(120)上形成的第一无机层(131)的部分和直接在坝状物(140)上形成的第一无机层(131)的部分是整体形成的。如本文所使用的，术语“整体形成”是指在一层中形成、彼此不独立分开的相应部分。因此，第一无机层(131)可以降低外部水分和/或氧气向有机发光元件(120)的渗透。

第二无机层(133)可以形成在有机发光元件(120)上以封装有机发光元件(120)。第二无机层(133)可以另外形成在坝状物(140)上。

第二无机层(133)可以直接在第一有机层(132)上形成。第一有机层(132)可以包含根据本发明的实施方式用于封装显示装置的组合物。因此，第二无机层(133)可以具有低表面粗糙度和优良的平整性以实现薄封装层(130)。

第二无机层(133)可以直接在第一无机层(131)上形成，所述第一无机层(131)在坝状物(140)上形成。因此，由于第一无机层(131)是整体形成的，因此第二无机层(133)是整体形成的。第二无机层(133)还可以抑制外部水分和/或氧气向有机发光元件(120)的渗透，并且可以减小第一无机层(131)和第二无机层(133)之间的轻微提升和/或分层。因此，根据实施方式的有机发光显示装置(100)可以具有其中坝状物(140)、第一无机层(131)和第二无机层(133)顺序在基板(110)上形成的结构。

另外，如图4所示，还可以直接在有机发光元件(120)上形成第一有机层(132)，然后在其上形成第一无机层(131)，借此实现更薄的封装层(130”)。

第一无机层(131)和第二无机层(133)中的每一个可以包含具有优良透光率的无机材料。第一无机层(131)和第二无机层(133)可以由相同或不同的无机材料形成。具体地，无机材料可以包括金属、非金属、金属间化合物或合金，非金属间化合物或合金、金属或非金属的氧化物、金属或非金属的氟化物、金属或非金属的氮化物、金属或非金属的碳化物、金属或非金属的氧氮化物、金属或非金属的硼化物、金属或非金属的氧硼化物、金属或非金属的硅化物及其混合物。金属或非金属可以包括硅(Si)、铝(Al)、硒(Se)、锌(Zn)、锑(Sb)、铟(In)、锗(Ge)、锡(Sn)、铋(Bi)、过渡金属和镧系金属，但不限于此。具体地，第一无机层和第二无机层可以分别包括硅氧化物(SiOx)、硅氮化物(SiNx)、硅氧氮化物(siliconoxynitride)(SiOxNy)、ZnSe、ZnO、Sb₂O₃、AlOx，包括Al₂O₃、In₂O₃或SnO₂。在此，x和y中的每一个在1至5的范围内。

第一无机层(131)和第二无机层(133)可以具有相同或不同的厚度。例如，第一无机层(131)和第二无机层(133)分别可以具有约40nm至约1000nm的厚度，具体地，约100nm至约1000nm的厚度。在该范围内，无机层可以防止外部水分和/或氧气的渗透。

第一有机层(132)可以直接在封装有机发光元件(120)的第一无机层(131)上形成，并且可以在第一无机层(131)和第二无机层(133)之间形成。第一有机层(132)可以封装有机发光元件(120)以抑制外部水分和/或氧气向有机发光元件(120)渗透。另外，第一有机层(132)具有低等离子体蚀刻率和低表面粗糙度，这使得能够以恒定厚度形成第二无机层(133)。

第一有机层(132)可以具有约0.2μm至约15μm，例如约1μm至约15μm的厚度。在该范围内，有机层可以使无机层变平并且防止无机层的缺陷，借此防止外部水分和氧气的渗透。

第一有机层(132)可以包含根据本发明的实施方式用于封装显示装置的组合物。

在下文中，将描述根据本发明的实施方式的用于封装显示装置的组合物。

根据本发明的实施方式用于封装显示装置的组合物可以包含可光固化单体和光聚合引发剂。

可光固化单体可以表示可以通过光聚合引发剂经历固化反应的可光固化单体。不包含硅(Si)的非硅基单体可以用作可光固化单体。例如，可光固化单体可以是仅由至少一种元素形成的单体，所述元素选自由C、H、O、N或S组成的组，但不限于此。可光固化单体可以通过常规合成方法合成，或者可以使用商业产品。

可光固化单体可以包含不含芳烃的单体(非芳香烃类单体)；和包含取代或未取代的至少两个苯基的以下式1的单体，并且可光固化单体可以包含约5wt％至约45wt％的包含取代或未取代的至少两个苯基的单体和约55wt％至约95wt％的不含芳烃的单体：

<式1>

(其中在式1中，A是包含取代或未取代的至少两个苯基的烃，或包含取代或未取代的至少两个苯基的含杂原子的烃，

Z¹和Z²分别独立地为以下式2的化合物，

a和b分别独立地为0至2的整数，并且a+b是1至4的整数：

<式2>

(其中在式2中，*是连接到式1中A的碳原子的部分，

X是单键、O或S，

Y是具有1至10个碳原子的取代或未取代的直链亚烷基基团，或具有1至20个碳原子的取代或未取代的亚烷氧基基团，

R¹是氢或具有1至5个碳原子的烷基，和

c是0或1)。

在式2中，术语“单键”是指式1的A直接连接至(Y)c，其中没有任何插入的元素。

在以上式1中，A是包含取代或未取代的至少两个苯基的烃，或包含取代或未取代的至少两个苯基的含杂原子的烃。包含取代或未取代的至少两个苯基的烃或包含取代或未取代的至少两个苯基的含杂原子的烃可以表示取代或未取代的至少两个苯基未缩合而是键合至单键、氧原子、硫原子、具有1至5的碳原子的取代或未取代的亚烷基、具有3至6个碳原子的杂原子-取代或未取代的亚烷基、亚乙烯基、亚乙炔基或羰基。包含取代或未取代的至少两个苯基的烃或包含含有至少两个苯基的取代或未取代的杂原子的烃的实例可以包括取代或未取代的联苯基基团、取代或未取代的三苯基甲基基团、取代或未取代的三联苯基基团、取代或未取代的亚联苯基基团、取代或未取代的亚三联苯基基团、取代或未取代的亚四联苯基基团、取代或未取代的2-苯基-2-(苯硫基)乙基基团、取代或未取代的2,2-二苯基丙烷基团、取代或未取代的二苯基甲烷基团、取代或未取代的枯基苯基基团、取代或未取代的双酚F基团、取代或未取代的双酚A基团、取代或未取代的联苯基氧基基团、取代或未取代的三联苯基氧基基团、取代或未取代的四联苯基氧基基团、取代或未取代的五联苯基氧基基团和它们的结构异构体，但不限于此。

包含取代或未取代的至少两个苯基的单体可以包含单(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸酯或其混合物。包含取代或未取代的至少两个苯基的单体的实例可以包含4-(甲基)丙烯酰氧基-2-羟基二苯甲酮、乙基-3,3-二苯基(甲基)丙烯酸酯、苯甲酰氧基苯基(甲基)丙烯酸酯、双酚A二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化的双酚A二(甲基)丙烯酸酯、双酚F二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化的双酚F二(甲基)丙烯酸酯、4-枯基苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化的二苯基芴二(甲基)丙烯酸酯、2-苯基苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2,2'-苯基苯氧基乙基二(甲基)丙烯酸酯、2-苯基苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、2,2'-苯基苯氧基丙基二(甲基)丙烯酸酯、2-苯基苯氧基丁基(甲基)丙烯酸酯、2,2'-苯基苯氧基丁基二(甲基)丙烯酸酯、2-(3-苯基苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(4-苄基苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-苯基-2-(苯硫基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(三苯基甲氧基)乙基(甲基)丙烯酸酯、4-(三苯基甲氧基)丁基(甲基)丙烯酸酯、3-(联苯基-2-基氧基)丁基(甲基)丙烯酸酯、2-(联苯基-2-基氧基)丁基(甲基)丙烯酸酯、4-(联苯基-2-基氧基)丙基(甲基)丙烯酸酯、3-(联苯基-2-基氧基)丙基(甲基)丙烯酸酯、2-(联苯基-2-基氧基)丙基(甲基)丙烯酸酯、4-(联苯基-2-基氧基)乙基(甲基)丙烯酸酯、3-(联苯基-2-基氧基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(4-苄基苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、4,4'-二((甲基)丙烯酰氧基甲基)二苯基、2,2'-二(2-(甲基)丙烯酰氧基乙氧基)二苯基、其结构异构体或其混合物，但不限于此。另外，在本发明中提及的(甲基)丙烯酸酯是实例，但不仅限于该实例中的那些，并且本发明还包含作为(甲基)丙烯酸酯的结构异构体的丙烯酸酯。例如，尽管作为实例提及了2,2'-苯基苯氧基乙基二(甲基)丙烯酸酯，但是本发明还可以包含3,2'-苯基苯氧基乙基二(甲基)丙烯酸酯、3,3'-苯基苯氧基乙基二(甲基)丙烯酸酯等，它们是2,2'-苯基苯氧基乙基二(甲基)丙烯酸酯的结构异构体。

在一些实施方式中，包含取代或未取代的至少两个苯基的单体可以包含以下式3的单(甲基)丙烯酸酯：

<式3>

(其中在式3中，R²是氢或甲基，R³是具有1至10个碳原子的取代或未取代的直链亚烷基或具有1至20个碳原子的取代或未取代的亚烷氧基，并且R⁴是包含取代或未取代的至少两个苯基的烃或包含取代或未取代的至少两个苯基的含杂原子的烃)。

例如，包含取代或未取代的至少两个苯基的烃或包含取代或未取代的至少两个苯基的含杂原子的烃可以表示取代或未取代的至少两个苯基未缩合而是键合至单键、氧原子、硫原子、具有1至3的碳原子的取代或未取代的亚烷基、具有3至6个碳原子的杂原子-取代或未取代的亚烷基、亚乙烯基、亚乙炔基或羰基。包含取代或未取代的至少两个苯基的烃或包含取代或未取代的至少两个苯基的含杂原子的烃的实例可以包括取代或未取代的二苯基基团、取代或未取代的三苯甲基基团、取代或未取代的三联苯基基团、取代或未取代的亚联苯基基团、取代或未取代的亚三联苯基基团、取代或未取代的亚四联苯基基团、取代或未取代的2-苯基-2-(苯硫基)亚乙基基团、取代或未取代的2,2-二苯基丙烷基团、取代或未取代的二苯甲烷基、取代或未取代的枯基苯基基团、取代或未取代的双酚F基团、取代或未取代的双酚A基团、取代或未取代的联苯基氧基基团、取代或未取代的三联苯基氧基基团、取代或未取代的四联苯基氧基基团、取代或未取代的五联苯基氧基基团等，但不限于此。

在一些实施方式中，包含取代或未取代的至少两个苯基的单体可以包含以下式4的二(甲基)丙烯酸酯：

<式4>

(其中在式4中，R⁵和R⁹分别独立地为氢或甲基，R⁶和R⁸分别独立地为具有1至10个碳原子的取代或未取代的直链亚烷基基团，或具有1至20个碳原子的取代或未取代的亚烷氧基基团，并且R⁷是包含取代或未取代的至少两个苯基的烃，或包含取代或未取代的至少两个苯基的含杂原子的烃)。

例如，包含取代或未取代的至少两个苯基的烃或包含取代或未取代的至少两个苯基的含杂原子的烃可以表示取代或未取代的至少两个苯基未缩合而是键合至单键、氧原子、硫原子、具有1至4的碳原子的取代或未取代的亚烷基、具有3至6个碳原子的杂原子-取代或未取代的亚烷基、亚乙烯基、亚乙炔基或羰基。包含取代或未取代的至少两个苯基的烃或包含取代或未取代的至少两个苯基的含杂原子的烃的实例可以包括取代或未取代的亚联苯基基团、取代或未取代的三苯基亚甲基基团、取代或未取代的亚三联苯基基团、取代或未取代的亚四联苯基基团、2-苯基-2-(苯硫基)亚乙基基团、2,2-二苯基亚丙基基团、二苯基亚甲基基团等，但不限于此。

在式1中，a和b分别独立地为0至2的整数，并且a+b为1至4的整数。在一些实施方式中，a+b是1或2。

包含取代或未取代的至少两个苯基的单体可以具有约100g/mol至约1000g/mol、约130g/mol至约700g/mol、约150g/mol至约600g/mol的分子量。在该范围内，可以提供具有优良等离子体阻抗、低表面粗糙度和优异透光性的有机层。

包含取代或未取代的至少两个苯基的单体可以以基于可光固化单体总重量的约5wt％至约45wt％，例如约10wt％至约40wt％的量存在。在该范围内，可以产生具有适合于形成有机层的粘度和优良等离子体阻抗的有机层。

不含芳烃基团的单体不包含芳烃，并且可以包含具有约1至约20，例如约1至约6个可光固化官能团的单体，可光固化官能团中的至少一个选自乙烯基、丙烯酸酯基和甲基丙烯酸酯。非芳香烃类单体可以包含约1至约3，例如约1至约2，约1或约2个可光固化官能团。

不含芳烃的单体可以具有约100g/mol至约500g/mol，约130g/mol至约400g/mol的分子量。在该范围内，就可加工性而言，可以显示出更有利的影响。

不含芳烃的单体可以包含具有可光固化官能团的单官能单体、具有可光固化官能团的多官能单体或其混合物。

不含芳烃基团的单体可以包括(甲基)丙烯酸酯单体。非芳香烃类单体的实例可以包括不饱和羧酸酯，其包含具有1至20个碳原子的烷基、具有3至20个碳原子的环烷基、羟基和具有1至20个碳原子的烷基；不饱和羧酸酯，其包含具有1至20个碳原子的氨烷基；具有1至20个碳原子的饱和或不饱和的羧酸的乙烯基酯；丙烯腈化合物；不饱和酰胺化合物；一元醇或多元醇的单官能或多官能(甲基)丙烯酸酯等。术语“多元醇”可以表示包含至少两个，例如约2至约20，具体地约2至约10，更具体地约2至约6个羟基的醇。

在一些实施方式中，不含芳烃的(甲基)丙烯酸酯单体的实例可以包括单(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸酯等，其包含取代或未取代的C1至C20烷基、取代或未取代的C1至C20烷基甲硅烷基、取代或未取代的C3至C20环烷基、取代或未取代的C1至C20亚烷基、胺基、环氧乙烷基团。

不含芳烃的(甲基)丙烯酸酯单体的实例可以包括不饱和的羧酸酯，其包括(甲基)丙烯酸酯，如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、2-羟乙基(甲基)丙烯酸酯、2-羟丁基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一酯、(甲基)丙烯酸十二酯、(甲基)丙烯酸环己酯等；不饱和羧酸氨烷基酯，如2-氨乙基(甲基)丙烯酸酯、2-二甲基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯等；饱和或不饱和的羧酸乙烯基酯，如醋酸乙烯酯等；丙烯腈化合物，如(甲基)丙烯腈；不饱和酰胺化合物，如(甲基)丙烯酰胺；乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三甘醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、辛二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、十一烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、十二烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、五(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯或其混合物，但不限于此。

在一些实施方式中，不含芳烃的单体可以是非芳香类化合物，其不包含芳基，并且不含芳烃的单体的实例可以包括以下中的至少一种：包含具有1至20个碳基团的取代或未取代的烷基的单(甲基)丙烯酸酯、包含胺基的单(甲基)丙烯酸酯、包含具有1至20个碳基团的取代或未取代的亚烷基的二(甲基)丙烯酸酯、包含环氧乙烷基团的二(甲基)丙烯酸酯、包含环氧乙烷基团的三(甲基)丙烯酸酯或三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯。

包含具有1至20个碳原子的取代或未取代的烷基的单(甲基)丙烯酸酯化合物的实例可以包括(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸十三酯、(甲基)丙烯酸十四酯、(甲基)丙烯酸十五酯、(甲基)丙烯酸十六酯、(甲基)丙烯酸十七酯、(甲基)丙烯酸十八酯、(甲基)丙烯酸十九酯、(甲基)丙烯酸二十酯或其混合物，但不限于此。

包含胺基的单(甲基)丙烯酸酯化合物的实例可以包括2-氨乙基(甲基)丙烯酸酯、2-二甲基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯或其混合物，但不限于此。

包含具有1至20个碳原子的取代或未取代的亚烷基的二(甲基)丙烯酸酯化合物的实例可以包括含具有1至20个碳原子的亚烷基的二(甲基)丙烯酸酯、包含取代或未取代的长链亚烷基的非硅基二(甲基)丙烯酸酯。当在组合物中包含含有长链亚烷基的非硅基二(甲基)丙烯酸酯时，用于封装的组合物可以容易地在有机发光元件上或者在封装有机发光元件的无机层上形成有机层。包含具有1至20个碳原子的取代或未取代的亚烷基的二(甲基)丙烯酸酯的实例可以包括辛二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、十一烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、十二烷二醇二(甲基)丙烯酸酯或其混合物，但不限于此。当包含具有1至20个碳原子的取代或未取代的亚烷基的二(甲基)丙烯酸酯包含在组合物中时，用于封装的组合物可以具有低光固化速率和低粘度。

包含环氧乙烷基团的二(甲基)丙烯酸酯化合物或包含环氧乙烷基团的三(甲基)丙烯酸酯的实例可以包括乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三甘醇二(甲基)丙烯酸酯或其混合物，但不限于此。

不含芳烃的单体可以以基于可光固化单体总重量的约55wt％至约95wt％，例如约60wt％至约90wt％的量存在。在该范围内，用于封装显示装置的组合物可以具有适合于形成有机层的粘度。

可光固化单体包含不含芳烃的单体(非芳烃类单体)和以上式1的包含取代或未取代的至少两个苯基的单体，并且可光固化单体可以基于可光固化单体和光聚合引发剂的总重量的100重量份以约80至约99.9重量份的量存在于用于封装显示装置的组合物中。在该范围内，可以实现本发明的效果。例如，可光固化单体可以以约90至约99.5重量份，具体地约92至约99重量份的量存在。

光聚合引发剂可以使不含芳烃的单体和包含取代或未取代的至少两个苯基的单体固化。

光聚合引发剂可以包含可以进行光聚合反应的典型光聚合引发剂，无限制。例如，光聚合引发剂可以包含三嗪引发剂、苯乙酮引发剂、二苯甲酮引发剂、噻吨酮引发剂、苯偶姻引发剂、磷引发剂、肟引发剂或其混合物。

三嗪引发剂的实例可以包含2,4,6-三氯-s-三嗪、2-苯基-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(3',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4'-甲氧基萘基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(p-甲氧基苯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(p-甲苯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-二苯基-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、双(三氯甲基)-6-苯乙烯基-s-三嗪、2-(萘-1-基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基萘酰-1-基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2,4-三氯甲基(胡椒基)-6-三嗪、2,4-三氯甲基(4'-甲氧基苯乙烯基)-6-三嗪或其混合物。

苯乙酮引发剂的实例可以包含2,2'-二乙氧基苯乙酮、2,2'-二丁氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基苯丙酮、p-叔丁基三氯苯乙酮、p-叔丁基二氯苯乙酮、4-氯乙酰苯、2,2'-二氯-4-苯氧乙酰基苯酮、2-甲基-1-(4-(甲硫基)苯基)-2-吗啉代丙-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉苯基)-丁-1-酮或其混合物。

二苯甲酮引发剂的实例可以包括二苯甲酮、苯甲酰基苯甲酸、甲基苯甲酰基苯甲酸酯、4-苯基二苯甲酮、羟基二苯甲酮、丙烯酸化的二苯甲酮、4,4'-双(二甲基氨基)二苯甲酮、4,4'-二氯二苯甲酮、3,3'-二甲基-2-甲氧基二苯甲酮或其混合物。

噻吨酮引发剂的实例可以包括噻吨酮、2-甲基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮或其混合物。

苯偶姻引发剂的实例可以包括苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚、苯偶姻异丁醚、苄基二甲缩酮或其混合物。

磷引发剂的实例可以包括双苯甲酰基苯基氧膦、三甲基苯甲酰基二苯基氧膦或其混合物。

肟引发剂的实例可以包括2-(o-苯甲酰基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛二酮、1-(o-乙酰基肟)-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮或其混合物。

还可以使用光致产酸剂或光聚合引发剂，如咔唑、二酮、锍、碘翁、重氮、联咪唑类化合物代替上述光聚合引发剂。

光聚合引发剂可以基于可光固化单体和光聚合引发剂的总重量的100重量份以约0.1至约20重量份的量存在于用于封装显示装置的组合物中。在该范围内，当暴露于光时，光聚合反应可以充分发生，并且可以防止在光聚合反应后由未反应的引发剂所造成的透光性劣化。在一个实施方式中，光聚合引发剂可以以约0.5至约10重量份，例如，约1至约8重量份的量存在。另外，光聚合引发剂可以以约0.1wt％至约10wt％，例如约0.1wt％至约8wt％的量存在于用于封装显示装置的组合物中。在该范围内，光聚合反应可以充分发生，并且可以防止由未反应的引发剂所造成的透光性劣化。

根据本发明的另一个实施方式用于封装显示装置的组合物可以包含可光固化单体、光聚合引发剂和抗氧化剂。除还包含抗氧化剂外，该组合物与根据本发明的实施方式的上述用于封装显示装置的组合物基本相同。

抗氧化剂可以改善封装层的热稳定性。抗氧化剂可以包括选自由以下组成的组的至少一种：苯酚、苯醌、胺和亚磷酸盐，但不限于此。例如，抗氧化剂可以包含四[亚甲基(3,5-二-叔丁基-4-羟基氢化肉桂酸酯)]甲烷、三(2,4-二-叔丁苯基)亚磷酸酯等。

抗氧化剂可以基于可光固化单体和光聚合引发剂的总重量的100重量份以约0.01至约3重量份，例如约0.01至约1重量份的量存在于用于封装显示装置的组合物中。在该范围内，有机层可以显示出优异的热稳定性。

根据本发明的另一个实施方式用于封装显示装置的组合物可以包含可光固化单体、光聚合引发剂和热稳定剂。除还包含热稳定剂外，该组合物与根据本发明的实施方式的上述用于封装显示装置的组合物基本相同。通过包含热稳定剂，可以在室温下抑制根据本发明的另一个实施方式的用于封装显示装置的组合物的粘度变化。此外，与不含热稳定剂的用于封装的组合物相比，可以提高透光率和光固化速率，并降低等离子体蚀刻率。由于除了进一步包含热稳定剂之外，该组合物与根据本发明的实施方式的用于封装显示装置的组合物基本相同，因此以下将仅说明热稳定剂。

热稳定剂可以在室温下抑制用于封装的组合物的粘度变化，并且可以无限制地使用常规热稳定剂。例如，可以使用空间位阻的酚热稳定剂。具体地，热稳定剂可以包含以下中的至少一种：聚(二环戊二烯-共-对-甲酚)、十八基-3-(3,5-二-叔丁基-4-羟苯基)丙酸酯、2,6-二-叔丁基-4-甲基苯酚、2,2'-甲烷(metano)-二(4-甲基-6-叔丁基-苯酚)、6,6'-二-叔丁基-2,2'-硫代二-对-甲酚、三(4-叔丁基-3-羟基-2,6-二甲基苄基)异氰脲酸酯、三甘醇-双(3-叔丁基-4-羟基-5-甲基苯基)、4,4'-硫代双(6-叔丁基-间甲酚)、3,3'-双(3,5-二-叔丁基-4-羟苯基)-N,N'-六亚甲基-二丙酰胺、季戊四醇四(3-(3,5-二-叔丁基-4-羟苯基)丙酸酯)、硬脂酰-3,5-二-叔丁基-4-羟苯基丙酸酯、季戊四醇四1,3,5-三(2,6-二-甲基-3-羟基-4-叔丁基-苄基)异氰脲酸酯、1,3,5-三(3,5-二-叔丁基-4-羟基苄基)异氰脲酸酯、1,3,5-三(2-羟乙基)异氰脲酸酯-三(3,5-二-叔丁基羟基苯基丙酸酯)，但不限于此。

就固体含量而言，热稳定剂可以基于可光固化单体和光聚合引发剂的总量以约2000ppm或更小，例如约0.01ppm至约2000ppm，具体地约100ppm至约1000ppm的量存在于用于封装显示装置的组合物中。在该范围内，热稳定剂可以进一步改善处于液态的封装组合物的存储可靠性和加工性。

可以通过约10mW/cm²至约500mW/cm²的紫外线辐照约1秒至约100秒使根据本发明的实施方式的用于封装显示装置的组合物固化，但不限于此。

根据本发明的实施方式用于封装显示装置的组合物可以实现具有如以下等式1所表示的约400nm/min或更小的等离子体蚀刻率和约2nm或更小的表面粗糙度的有机层：

<等式1>

等离子体蚀刻率(nm/min)＝(T0-T1)/M

(在等式1中，T0是样品厚度(单位：nm)，样品是通过将用于封装显示装置的组合物通过喷雾应用于基板上，然后以100mW/cm²进行紫外线辐照10秒并使组合物固化制备的，T1是在ICP功率2500W、RF功率300W、直流偏压200V、氩气(Ar)流速50sccm、压力10毫托的条件下用等离子体处理1分钟后上述制备样品的厚度(单位：nm)，T0和T1分别代表排除基板的厚度，并且M是等离子体处理时间(单位：min))。

在该范围内，当在有机发光元件上或者在有机发光元件上形成的无机层上形成有机层时，代表等离子体处理期间对有机层的破坏的等离子体蚀刻率大大降低，并且可以提供具有高等离子体阻抗的有机层。在一些实施方式中，等离子体蚀刻率可以为约400nm/min或更小，例如约10至约390nm/min，具体地约10至约385nm/min。当以上等式1表示的等离子体蚀刻率大于约400nm/min时，有机层的破坏可以提高以劣化有机发光元件的可靠性。

表面粗糙度是在用于封装显示装置的组合物在基板上沉积后，根据表面轮廓测量的沉积表面的粗糙度。下表面粗糙度可以有助于使显示装置表面变平。

可以通过本领域技术人员所知的一般的粗糙度测量方法测量本发明的表面粗糙度。例如，可以使用原子力显微镜(AFM)。在一些实施方式中，当通过原子力显微镜测量时，表面粗糙度(沉积表面的粗糙度)可以为约2nm或更小，例如约0nm至约2nm，约0nm至约1.9nm，约0nm至约1.85nm。当表面粗糙度为2nm或更小时，可以提供具有平坦表面的有机层，并且可以以平面轮廓沉积在有机层沉积后形成的无机保护层。当表面粗糙度大于约2nm时，有机层不平，并且在有机层表面上沉积的无机层可能会断裂。

根据本发明的实施方式用于封装显示装置的组合物可以产生除气量约2000ppm或更少的有机层。在该范围内，装置部件的耐用性可以延长以提高可靠性。具体地，除气量可以为约10ppm至约1000ppm。

可以通过常规方法测量除气量。例如，通过将用于封装显示装置的组合物应用到玻璃基板上，然后以100mW/cm²紫外线辐照10秒并使组合物固化来制备厚度5μm的样品。对于厚度5μm的样品，在40℃至320℃的温度范围内，以10℃/min的升温速度，使用设备TD-GC/MS(TD:JTD505III,GC/MS:Clarus 600,Perkin Elmer Inc.)对预定的表面积(1×5cm²)测量通过加热捕获的除气量。

当在固化后测量时，根据本发明的实施方式用于封装显示装置的组合物可以产生颜色坐标值YI为约0.5或更小(根据ASTM D1925)的有机层。在该范围内，用于显示装置的封装材料是透明的并透过接近于白光的光，这使其能够应用于显示装置。具体地，有机层可以具有约0.1至约0.5的颜色坐标值YI。

可以通过常规方法测量颜色坐标值。例如，通过将用于封装显示装置的组合物应用到玻璃基板上，然后以100mW/cm²紫外线辐照10秒并使组合物固化来制备厚度5μm的样品。对于厚度5μm的样品，使用UV-可见光分光光度计(UV-2450,SHIMADZU公司)测量300nm至800nm波长的光的透光度，并由此计算颜色坐标值YI(ASTM D1925)。

根据实施方式的用于封装显示装置的组合物具有约90％至约100％，具体地约95％至约100％的高总透光率，并且可以提供透明的有机保护层。根据ASTM D1003-95，使用雾度计(NDH-5000,Nippon Denshoku Industries Co.,Ltd.)，以400nm至700nm的波长测量总透光率和雾度。

根据本发明的实施方式的用于封装显示装置的组合物用于应用到发光装置的正面并且需要是透明的而不显示出颜色。当用于封装显示装置的材料显示出颜色时，在光从正面中的封装材料中透过后，从显示装置光源发出的光的颜色坐标可以偏移以改变颜色。另外，随着透明度降低，从显示装置正面发出的光的效率也降低，并且显示装置可能不是清楚可见的。

坝状物(140)可以在基板(110)的非发光区上形成，并且可以将发光区与非发光区分开。坝状物(140)比有机发光元件(120)厚。因此，坝状物(140)可以保护有机发光元件(120)不受外部水分和/或氧气的影响，从而赋予有机发光显示装置侧面封装功能，从而防止有机层暴露于外部。另外，坝状物(140)可以在有机层形成期间防止用于封装显示装置的组合物扩散到发光区或基板之外。坝状物(140)还可以防止封装层边缘变厚。

坝状物(140)可以阻挡外部水分和/或氧气，并且可以包含光学透明材料。具体地，坝状物(140)可以包含至少一种材料，其包含在上述空穴传输区、电子传输区和发光层中，但不限于此。坝状物(140)可以与上述材料一起形成一个层，或通过堆叠形成多个层。

尽管图1和图2中未显示，但是有机发光显示装置(100)可以包含驱动有机发光元件(120)的驱动电路部分。另外，尽管图1和图2中未显示，但是在有机发光显示装置(100)中可以在基板(110)和有机发光元件(120)之间形成TFT(薄膜晶体管)层和缓冲层。TFT层可以驱动有机发光元件(120)，并且可以包含栅极线、数据线、驱动功率电源线、基准功率源线和电容器。此外，尽管未在图1和图2中显示，有机发光显示装置(100)还可以包含粘合层，其覆盖封装层和坝状物以及粘附至粘合层的基板并且封装有机发光元件。粘合层可以是透明的粘合性膜。用于粘合层和基板的材料可以包括本领域技术人员所知的常规材料。

在下文中，将参考图3说明根据本发明的另一个实施方式的有机发光显示装置。

参考图3，根据实施方式的有机发光显示装置(200)可以包含基板(110)、有机发光元件(120)、封装层(130')和坝状物(140)。除了形成封装层(130')而不是封装层(130)，有机发光显示装置(200)与根据本发明的实施方式的上述有机发光显示装置基本相同。因此，在下文中将仅说明封装层(130')。

封装层(130')可以包含第一无机层(131)、第一有机层(132)和第二无机层(133)。封装层(130')可以封装有机发光元件(120)。封装层(130')另外在坝状物(140)上形成。因此，有机发光显示装置(200)可以具有其中坝状物(140)、第一无机层(131)、第一有机层(132)和第二无机层(133)在基板(110)上顺序堆叠的结构。因此，有机发光显示装置(200)可以免受外部水分和/或氧气的渗透。

第一有机层(132)不连续形成，并且通过坝状物(140)在发光区和非发光区中分隔。因此，有机层未直接暴露于外侧，并且可以抑制外部水分和/或氧气渗透。

在下文中，将参考图4说明根据本发明的另一个实施方式的有机发光显示装置。图4是根据本发明的另一个实施方式的有机发光显示装置的部分截面图。

参考图4，根据实施方式的有机发光显示装置(300)可以包含基板(110)、有机发光元件(120)、封装层(130”)和坝状物(140)。除了形成封装层(130”)而不是封装层(130)，有机发光显示装置(300)与根据本发明的实施方式的上述有机发光显示装置基本相同。因此，在下文中将仅说明封装层(130”)。

封装层(130”)可以包括第一无机层(131)和第一有机层(132)。

第一有机层(132)直接在有机发光元件(120)上形成。

第一无机层(131)直接在第一有机层(132)和坝状物(140)上形成。因此，根据实施方式的有机发光显示装置可以具有其中坝状物(140)和第一无机层(131)在基板(110)上顺序堆叠的结构。

直接在第一有机层(132)上形成的第一无机层(131)的一部分和直接在坝状物(140)上形成的第一无机层(131)的一部分是整体形成的。因此，可以抑制外部水分和/或氧气的渗透。

在下文中，将参考图5说明根据本发明的另一个实施方式的有机发光显示装置。图5是根据本发明的另一个实施方式的有机发光显示装置的部分截面图。

参考图5，根据实施方式的有机发光显示装置(400)可以包含基板(110)、有机发光元件(120)、封装层(130”')和坝状物(140)。除了形成封装层(130”')而不是封装层(130)，有机发光显示装置与根据本发明的实施方式的上述有机发光显示装置基本相同。因此，在下文中将仅说明封装层(130”')。

封装层(130”')可以包含第一无机层(131)和第一有机层(132)。封装层(130”')直接在有机发光元件(120)上形成，并且封装层(130”')另外在坝状物(140)上形成。

第一有机层(132)直接在有机发光元件(120)和坝状物(140)上形成。第一有机层(132)不连续形成，并通过坝状物(140)在发光区和非发光区中分隔。

第一无机层(131)直接在有机层(132)上形成。直接在第一有机层(132)上形成的第一无机层(131)的一部分和直接在坝状物(140)上形成的第一无机层(131)的一部分是整体形成的。因此，根据实施方式的有机发光显示装置(400)可以具有其中坝状物(140)、第一有机层(132)和第一无机层(131)在基板(110)上顺序堆叠的结构。因此，可以抑制外部水分和/或氧气的渗透。

在下文中，将说明生产根据本发明的实施方式的有机发光显示装置的方法。

根据实施方式的有机发光显示装置可以包括在基板上形成有机发光元件和坝状物，和在有机发光元件上形成封装层。本发明中，无机层和有机层可以在封装层中交替堆叠，并且有机层可以包含根据本发明的实施方式的用于封装显示装置的组合物。

在基板上形成有机发光元件和坝状物。首先，在基板上形成阳极。通过干法涂布，如真空沉积、溅射、等离子体电镀和离子电镀，或湿法涂布，如旋涂、浸涂和浇涂形成发光层，并且在其上形成阴极，从而在基板上产生有机发光元件。可以通过在围绕有机发光元件的区域中堆叠预定的上述材料来形成坝状物。

通过适合的真空工艺形成无机层，其包括溅射、蒸发、升华、化学气相淀积(CVD)、等离子增强的化学气相沉积(PECVD)、电子回旋共振等离子增强的化学气相沉积(ECR-PECVD)及其组合，但不限于此。可以通过气相沉积、旋涂、印刷、墨喷印刷和/或喷雾形成有机层，但不限于此。可以在形成无机层和有机层中使用掩模。

具体实施方式

在以下实施例、比较例和测试实施例中，将详细描述本发明的构造和效果。然而，实施例、比较例和测试实施例不旨在受本发明的精神和范围的限制，而是仅出于说明实施例和比较例和测试实施例的目的提供以帮助理解本发明。

制备实施例1

在配备有冷却管和搅拌器的3000ml反应器中，加入300ml二氯甲烷(SigmaAldrich Corporation)，并加入200g 4-羟丁基丙烯酸脂(Shin Nakamura Chemical Co.,Ltd.)和168g三乙胺，然后将烧瓶温度冷却至0℃，并且在2小时内，边搅拌边滴加278g溶于500ml二氯甲烷中的对-甲苯磺酰氯(Sigma-Aldrich Corporation)溶液。另外搅拌5小时后，通过蒸馏除去剩余溶剂。将所得化合物300g加入至1000ml乙腈(Sigma AldrichCorporation)，并且加入220g碳酸钾(Sigma Aldrich Corporation)和141g2-苯基苯酚，然后在80℃搅拌。除去残余溶剂和反应残余以获得式5的化合物(分子量296.36)，其纯度为93％，如通过HPLC所确定的。

<式5>

制备实施例2

在配备有冷却管和搅拌器的2000ml烧瓶中，加入600ml二氯甲烷(Sigma AldrichCorporation)，并在0℃，边搅拌边加入58.8g 2-羟基乙基甲基丙烯酸酯(Sigma AldrichCorporation)和52.2g三乙胺(Sigma Aldrich Corporation)，然后缓慢加入100g三苯基氯甲烷(Sigma Aldrich Corporation)。将温度升高至25℃，将混合物搅拌4小时。通过减压蒸馏除去二氯甲烷后，使用硅胶柱获得了124g式6的化合物，其纯度为97％，如通过HPLC所确定的。

<式6>

制备实施例3

在配备有冷却管和搅拌器的2000ml烧瓶中，加入800ml乙腈(FisherScientific)，并且在0℃，边搅拌边加入180g碳酸钾(Sigma Aldrich Corporation)和108g丙烯酸，然后缓慢加入150g 4,4'-双(氯甲基)二苯基(Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.)。在将温度升高至70℃后，将混合物搅拌12小时。通过减压蒸馏除去乙腈后，使用硅胶柱获得了177g式7的化合物，其纯度为97％，如通过HPLC所确定的。

<式7>

制备实施例4

在配备有冷却管和搅拌器的3000ml反应器中，加入300ml二氯甲烷(SigmaAldrich Corporation)，并加入200g 2-羟乙基丙烯酸脂(Shin Nakamura Chemical Co.,Ltd.)和168g三乙胺，然后将烧瓶温度冷却至0℃，并且在2小时内，边搅拌边滴加278g溶于500ml二氯甲烷中的对-甲苯磺酰氯(Sigma-Aldrich Corporation)溶液。另外搅拌5小时后，通过蒸馏除去剩余溶剂。将所得化合物300g加入至1000ml乙腈(Sigma AldrichCorporation)，并且加入220g碳酸钾(Sigma Aldrich Corporation)和141g 2-苯基苯酚，然后在80℃搅拌。除去残余溶剂和反应残余以获得式8的化合物(分子量296.36)，其纯度为93％，如通过HPLC所确定的。

<式8>

制备实施例5

在配备有冷却管和搅拌器的3000ml反应器中，加入300ml二氯甲烷(SigmaAldrich Corporation)，并加入400g 2-羟乙基丙烯酸脂(Sigma Aldrich Corporation)和168g三乙胺，然后将烧瓶温度冷却至0℃，并且在2小时内，边搅拌边滴加278g溶于500ml二氯甲烷中的对-甲苯磺酰氯(Sigma Aldrich Corporation)溶液。另外搅拌5小时后，通过蒸馏除去剩余溶剂。将所得化合物300g加入至1000ml乙腈(Sigma Aldrich Corporation)，并且加入220g碳酸钾(Sigma Aldrich Corporation)和141g 2,2'-双酚(Sigma AldrichCorporation)，然后在80℃搅拌。除去残余溶剂和反应残余以获得式9的化合物(分子量382.41)，其纯度为91％，如通过HPLC所确定的。

<式9>

制备实施例6

在配备有冷却管和搅拌器的1000ml反应器中，加入100g苯硫酚、200ml二氯甲烷(Sigma Aldrich Corporation)和8.2g高氯酸锌(Sigma Aldrich Corporation)，然后搅拌并在室温下缓慢滴加109.05g氧化苯乙烯(Sigma Aldrich Corporation)以进行反应。4小时后，使用水和二氯甲烷除去无机材料，并蒸发残余溶剂以获得第一产物192g。在2000ml反应器中，将150g第一产物、70.31g三乙胺(Sigma Aldrich Corporation)和500ml二氯甲烷在0℃搅拌，然后缓慢滴加64.84g丙烯酰氯(Sigma Aldrich Corporation)以进行反应。滴加完成后，将温度缓慢升至室温，然后另外搅拌4小时。反应完成后，用正己烷(DaejungChemicals and Metals CO.,Ltd.)除去盐和杂质来纯化混合物，然后减压蒸馏残余溶剂以获得式10的化合物(分子量284.37)，其纯度为85％，如通过HPLC所确定的。

<式10>

在实施例和比较例中使用的组分的详细信息如下所示。

(A)不含芳烃的单体：

(a1)十二烷二醇二甲基丙烯酸酯(Sartomer Company Inc.)

(a2)三甘醇二甲基丙烯酸酯(BASF Corporation)

(a3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(BASF Corporation)

(a4)2-二甲基氨基乙基丙烯酸酯(ACROS Organics)

(B)包含取代或未取代的至少两个苯基的单体：

(b1)制备实施例1的单体

(b2)制备实施例2的单体

(b3)制备实施例3的单体

(b4)制备实施例4的单体

(b5)制备实施例5的单体

(b6)制备实施例6的单体

(b7)CP-011(4-枯基苯氧基乙基丙烯酸脂，Hannong Hwasung Inc.)

(b8)双酚A二甲基丙烯酸酯(Sigma Aldrich Corporation)

(b9)BPM-102(双酚A乙氧基化(10)二甲基丙烯酸酯，Hannong Hwasung Inc.)

(b10)双酚F乙氧基化(2)二丙烯酸酯(Sigma Aldrich Corporation)

(C)光聚合引发剂：磷引发剂(Darocur TPO,BASF Corporation)

实施例1

将90重量份的(a1)、10重量份的(b1)和5重量份的(C)置于125ml棕色聚丙烯瓶中，并通过震荡器将混合物搅拌3小时以制备实施例1的用于封装显示装置的组合物。

实施例2至25和比较例1至15

除了如表1至表4中使用每种组分外，以与实施例1相同的方式制备每种用于封装显示装置的组合物。

性质评价

(1)等离子体蚀刻率(％)：通过喷雾将实施例和比较例的每个用于封装显示装置的组合物应用于525±25μm厚的硅片，然后通过以100mW/cm²紫外线辐照10秒固化以制备5μm厚的有机层样品。在ICP功率2500W、RE功率300W、直流偏压200V、Ar流量50sccm、压力10毫托的条件下，使用ICP干式蚀刻机(等离子体实验室系统(Plasma lab system)133，牛津仪器(Oxford instruments))通过氩气对所制备的样品进行等离子体处理1分钟。通过测量进行等离子体处理前的有机保护层的厚度(T0)和进行等离子体处理后的有机保护层的厚度(T1)，根据以下等式1计算等离子体蚀刻率，并且结果如表1至表4所示。厚度T0和T1分别代表基板厚度之外的厚度，并且M是等离子体处理时间(min)。

<等式1>

等离子体蚀刻率(nm/min)＝(T0-T1)/M

(2)表面粗糙度(nm)：将如以上(1)中所制备的样品置于原子力显微镜(XE-100,Park系统)下，并且在头部模式：接触模式，PSPD显示窗：A+B→1V，A-B→-500mV～+500mV的条件下测量样品的表面粗糙度。

(3)颜色坐标值YI(ASTM D1925)：使用分析设备UV-可见光分光光度计(UV-2450,SHIMADZU Corporation)在300nm至800nm波长测量如以上(1)中所制备的样品的透光度，然后计算颜色坐标值YI(ASTM D1925)。

(4)透光率(％)：根据ASTM D1003-95，使用雾度计(NDH-5000,Nippon DenshokuIndustries Co.,Ltd.)在400nm至700nm波长测量如以上(1)中所制备的样品的总透光率。

[表1]

[表2]

[表3]

[表4]

如表1至表4所示，实施例中每个样品具有低等离子体蚀刻率、优良的等离子体阻抗和优良的平整度，其表面粗糙度为2nm或更小。此外，实施例中每个样品具有0.50或更小的颜色坐标值YI(ASTM D1925)和高透光度。因此，可以提供透明有机层。另一方面，与实施例相比，比较例中每个样品具有高蚀刻率或高表面粗糙度等问题。

尽管已显示和描述了本发明的某些实施方式，但是应理解在不背离如所附权利要求所定义的本发明的精神和范围的情况下，本领域技术人员可以做出多种修改、改变、变化以及等价实施方式。应理解本领域技术人员可以在不背离本发明的精神和范围的情况下做出多种改变、变化、修改和等价的实施方式。

Claims (14)

1.一种有机发光显示装置，包括：

基板，所述基板包括发光区和设置在所述发光区的外部的非发光区；

在所述发光区上形成的至少一个有机发光元件；

封装所述有机发光元件的封装层；以及

在所述非发光区上形成的坝状物，

其中，所述封装层具有至少一个无机层和至少一个有机层交替地在彼此上方堆叠的结构，

并且，所述有机层包含用于封装显示装置的组合物，

所述用于封装显示装置的组合物包含可光固化单体和光聚合引发剂，

所述可光固化单体包括不含芳烃的单体、以及含有取代或未取代的至少两个苯基的以下式1的单体，

所述可光固化单体包括10wt％至40wt％的含有取代或未取代的至少两个苯基的所述单体和60wt％至90wt％的所述不含芳烃的单体：

式1

其中在式1中，A是含有取代或未取代的至少两个苯基的烃，或者含有取代或未取代的至少两个苯基的含杂原子的烃，

Z¹和Z²各自独立地是以下式2的化合物，

a和b各自独立地为0至2的整数，并且

a+b为1至4的整数：

式2

其中在式2中，*是连接到式1中A的碳原子的部分，

X是单键、O或S，

Y是具有1至10个碳原子的取代或未取代的直链亚烷基、或具有1至20个碳原子的取代或未取代的亚烷氧基，

R¹是氢或具有1至5个碳原子的烷基，并且

c是0或1，

所述不含芳烃的单体包括以下中的至少一种：包含具有1至20个碳基团的未取代的亚烷基基团的二(甲基)丙烯酸酯、包含环氧乙烷基团的二(甲基)丙烯酸酯、包含环氧乙烷基团的三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、或包含胺基的单(甲基)丙烯酸酯化合物，

其中，所述有机层的表面粗糙度为2nm或更小，

含有取代或未取代的至少两个苯基的式1的所述单体包括选自以下组中的一种或多种：4-枯基苯氧基乙基丙烯酸脂、双酚A二甲基丙烯酸酯、双酚A乙氧基化二甲基丙烯酸酯、双酚F乙氧基化二丙烯酸酯、式5、式6、式7、式9和式10，

式5

式6

式7

式9

式10

2.根据权利要求1所述的有机发光显示装置，其中，一个有机层具有0.2μm至15μm的厚度。

3.根据权利要求1所述的有机发光显示装置，其中所述无机层包含以下中的至少一种：硅氧化物、硅氮化物、硅氮氧化物、ZnSe、ZnO、Sb₂O₃、Al₂O₃、In₂O₃或SnO₂。

4.根据权利要求1所述的有机发光显示装置，其中，所述无机层另外形成在所述坝状物上。

5.根据权利要求4所述的有机发光显示装置，其中，所述无机层包括第一无机层和第二无机层，并且其中，所述有机发光显示装置具有所述坝状物、所述第一无机层和所述第二无机层顺序堆叠在所述基板上的结构。

6.根据权利要求4所述的有机发光显示装置，其中，所述无机层包括第一无机层，

并且其中，所述有机发光显示装置具有所述坝状物和所述第一无机层顺序堆叠在所述基板上的结构。

7.根据权利要求1所述的有机发光显示装置，其中，所述封装层另外形成在所述坝状物上。

8.根据权利要求7所述的有机发光显示装置，其中，所述无机层包括第一无机层和第二无机层，并且所述有机层包括第一有机层，

并且其中，所述有机发光显示装置具有所述坝状物、所述第一无机层、所述第一有机层和所述第二无机层顺序堆叠在所述基板上的结构。

9.根据权利要求7所述的有机发光显示装置，其中，所述无机层包括第一无机层，并且所述有机层包括第一有机层，

并且其中，所述有机发光显示装置具有所述坝状物、所述第一有机层和所述第一无机层顺序堆叠在所述基板上的结构。

10.根据权利要求8或权利要求9所述的有机发光显示装置，其中，通过所述坝状物将所述发光区中的所述第一有机层与所述非发光区中的所述第一有机层分离。

11.根据权利要求1所述的有机发光显示装置，其中，含有取代或未取代的至少两个苯基的所述单体具有100g/mol至1000g/mol的分子量。

12.根据权利要求1所述的有机发光显示装置，其中，所述可光固化单体仅由选自由C、H、O、N或S组成的组的至少一种元素形成。

13.根据权利要求1所述的有机发光显示装置，其中，所述光聚合引发剂包括选自由下述组成的组中的至少一种：三嗪引发剂、苯乙酮引发剂、二苯甲酮引发剂、噻吨酮引发剂、苯偶姻引发剂、磷引发剂、以及肟引发剂。

14.根据权利要求1所述的有机发光显示装置，其中，用于封装显示装置的所述组合物进一步包含热稳定剂。

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