TWI474917B - 物品、活性能量線硬化性樹脂組成物、光透射性物品活性能量線硬化性樹脂組成物以及抗反射物品 - Google Patents

物品、活性能量線硬化性樹脂組成物、光透射性物品活性能量線硬化性樹脂組成物以及抗反射物品 Download PDF

Info

Publication number
TWI474917B
TWI474917B TW102121190A TW102121190A TWI474917B TW I474917 B TWI474917 B TW I474917B TW 102121190 A TW102121190 A TW 102121190A TW 102121190 A TW102121190 A TW 102121190A TW I474917 B TWI474917 B TW I474917B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
meth
resin composition
acrylate
active energy
article
Prior art date
Application number
TW102121190A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201406527A (zh
Inventor
Go Otani
Seiichiro Mori
Masashi IKAWA
Yusuke Nakai
Keiko Yasukawa
Shinji Makino
Original Assignee
Mitsubishi Rayon Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2012138147A external-priority patent/JP2013029828A/ja
Application filed by Mitsubishi Rayon Co filed Critical Mitsubishi Rayon Co
Publication of TW201406527A publication Critical patent/TW201406527A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI474917B publication Critical patent/TWI474917B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/111Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10Esters
    • C08F222/1006Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C08F222/106Esters of polycondensation macromers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10Esters
    • C08F222/1006Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C08F222/102Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/06Polymers provided for in subclass C08G
    • C08F290/062Polyethers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F299/00Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
    • C08F299/02Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/118Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C35/00Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
    • B29C35/02Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
    • B29C35/08Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
    • B29C35/0805Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
    • B29C2035/0827Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using UV radiation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C37/00Component parts, details, accessories or auxiliary operations, not covered by group B29C33/00 or B29C35/00
    • B29C37/0067Using separating agents during or after moulding; Applying separating agents on preforms or articles, e.g. to prevent sticking to each other
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/02Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
    • B29C59/04Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing using rollers or endless belts
    • B29C59/046Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing using rollers or endless belts for layered or coated substantially flat surfaces

Description

物品、活性能量線硬化性樹脂組成物、光透射性物品活性能量線硬化性樹脂組成物以及抗反射物品
本發明是有關於一種物品及活性能量線硬化性樹脂組成物。
本申請案主張以於2012年6月15日提出申請的日本專利申請案2012-135982、於2012年6月19日提出申請的日本專利申請案2012-138147、於2012年11月27日提出申請的日本專利申請案2012-258346、及於2012年11月27日提出申請的日本專利申請案2012-245231為基礎的優先權,並將其揭示的所有內容併入至本文中。
已知表面上具有可見光的波長以下的週期性微細凹凸結構的物品藉由該微細凹凸結構的連續的折射率變化而具有抗反射性能。另外,亦已知微細凹凸結構藉由蓮花效應(Lotus effect)而表現出超撥水性能。
關於表面上具有微細凹凸結構的物品的製造方法,例如已提出了下述方法。
(i)使用表面上具有微細凹凸結構的反轉結構的壓模(stamper),於對熱塑性樹脂進行射出成形或壓製成形時,於熱塑性樹脂上轉印微細凹凸結構的方法。
(ii)於表面上具有微細凹凸結構的反轉結構的壓模與透明基材之間,填充活性能量線硬化性樹脂組成物,藉由活性能量線的照射使其硬化後,將壓模脫模而於硬化物上轉印微細凹凸結構的方法。或者於上述壓模與透明基材之間填充活性能量線硬化性樹脂組成物後,將壓模脫模而於活性能量線硬化性樹脂組成物上轉印微細凹凸結構,其後藉由活性能量線的照射使活性能量線硬化性樹脂組成物硬化的方法。
該些方法中,就微細凹凸結構的轉印性佳、物品表面的組成的自由度高、另外於壓模為帶(belt)形狀或輥(roll)形狀的情形時可連續生產、且生產性優異的觀點而言,(ii)的方法受到關注。
關於(ii)的方法中所用的活性能量線硬化性樹脂組成物,例如提出有下述組成物。
(1)含有丙烯酸胺基甲酸酯等丙烯酸酯低聚物、具有自由基聚合性官能基的丙烯酸系樹脂、脫模劑及光聚合起始劑的光硬化性樹脂組成物(專利文獻1)。
(2)含有乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸 酯、N-乙烯基吡咯烷酮等反應性稀釋劑、光聚合起始劑及氟系界面活性劑的光硬化性樹脂組成物(專利文獻2)。
(3)含有三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等多官能(甲基)丙烯酸酯、光聚合起始劑及聚醚改質矽油(silicone oil)等勻平劑的紫外線硬化性樹脂組成物(專利文獻3)。
另外,於專利文獻4中提出有一種無溶劑系的活性能量線硬化性樹脂組成物。然而,由該硬化性樹脂組成物所形成的光透射性物品於耐擦傷性的方面尚有改善的餘地。進而,提高耐擦傷性的通常方法可列舉:於硬化性樹脂組成物中調配矽油作為表面調整劑而賦予潤滑性的方法(例如專利文獻5)、使用多官能丙烯酸酯單體的方法(例如專利文獻6)等。
另外,已揭示表面上具有微細凹凸結構的物品至少具有以下兩層:透明基體、及形成於其上且藉由轉印有微細凹凸結構的活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物所形成的層(專利文獻7)。進而,為了獲得透明基體與藉由活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物所形成的層的密接性、及高硬度化等功能性,正在進行追加功能層的研究(專利文獻8)。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第4156415號公報
[專利文獻2]日本專利特開2007-84625號公報
[專利文獻3]日本專利特開2000-71290號公報
[專利文獻4]國際公開第2008/096872號
[專利文獻5]日本專利特開2000-234073號公報
[專利文獻6]日本專利第4318577號公報
[專利文獻7]日本專利特開2011-33892號公報
[專利文獻8]日本專利特開2011-856號公報
然而,(1)的光硬化性樹脂組成物有下述課題。
.容易因摩擦而受到損傷。
.硬化物的親水性不充分,故即便欲以濕布來擦拭附著於硬化物(微細凹凸結構)上的指紋等污垢,污垢亦不於水中上浮,難以擦去指紋等。
另外,(2)的光硬化性樹脂組成物有下述課題。
.硬化物的親水性不充分,故即便欲以濕布來擦拭附著於硬化物(微細凹凸結構)上的指紋等污垢,污垢亦不於水中上浮,難以擦去指紋等。
另外,(3)的紫外線硬化性樹脂組成物由於硬化物的疏水性充分高,故指紋等污垢難以附著,但有下述課題。
.由於聚合性成分為低分子量,故硬化物變得又硬又脆,容易因摩擦而受到損傷。
另外,奈米凹凸結構體具有特別的表面結構,因此難以利用與平滑面相同般的方法來賦予耐擦傷性。例如,如專利文獻5般調配矽油等表面調整劑的方法無法充分滿足所要求的耐擦傷性。而且,有時亦難以去除因表面調整劑的影響而附著的污垢。
另外,專利文獻6的使用多官能單體的環氧乙烷改質化合物的方法的情況下,有時於自模具剝離時產生裂縫等剝離不良。另外,有時亦因與硬的構件接觸而導致奈米凹凸結構的凸起彎折,抗反射性能降低。進而,若環氧乙烷過多,則有時亦產生奈米凹凸結構的凸起彼此靠近的現象,膜白濁。
另外,於如專利文獻7中所記載般設定為兩層結構、即透明基體與形成於其上且藉由轉印有微細凹凸結構的活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物所形成的層的兩層結構的情形時,有難以提高兩層間的密接性的問題,及因兩層間的折射率差而產生的界面反射導致抗反射性能降低、進而基材成本變高等問題。
於將表面上具有微細凹凸結構的膜狀的抗反射物品用於圖像顯示裝置用途中的情形時,作為透明基體而多被使用的以三乙醯纖維素(triacetyl cellulose)或丙烯酸系高分子為主成分者大多情況下相對較昂貴。另外,為了使作為膜的操作性提高,以三乙醯纖維素或丙烯酸系高分子為主成分的透明基體柔軟,因此難以藉由活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物來提高物品整體的硬度。
聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethylene Terephthalate,PET)製的膜若選擇薄者,則相對較廉價,但與玻璃或壓克力的前面板的折射率差大,作為抗反射膜用的透明基體而欠佳。進而,聚對苯二甲酸乙二酯與丙烯酸系的活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的折射率差大,故有產生界面反射而抗反射性能大幅度地降 低的問題。另一方面,丙烯酸系的活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物或黏著劑、壓克力板、玻璃板彼此的折射率差非常小。
另外,如專利文獻8中所記載般於透明基體與藉由活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物所形成的層之間追加新的功能層的方法有以下問題:由於處理步驟數增加,導致成本變高。
本發明的目的在於提供一種耐擦傷性高且指紋擦去性良好的物品、及用於製造該物品的活性能量線硬化性樹脂組成物。
本發明為以下的[1]~[19]的發明。
[1]一種物品,其於表面上具有含有樹脂組成物的硬化物的微細凹凸結構,並且上述硬化物的壓入彈性模量(X)[MPa]及蠕變變形率(creep deformation rate)(Y)[%]滿足下述式(1)及式(2),80≦X≦560 (1)
Y≦(0.00022X-0.01)×100 (2)。
[2]如[1]所記載的物品,其中上述硬化物的壓入彈性模量(X)[MPa]及蠕變變形率(Y)[%]滿足下述式(1'),120≦X≦360 (1')。
[3]如[1]或[2]所記載的物品,其中上述微細凹凸結構的相鄰凸部彼此的平均間隔為120nm~380nm,該微細凹凸結構的凸部的平均高度為100nm~300nm。
[4]如[1]至[3]中任一項所記載的物品,其中上述物品更具備基材,於該基材的至少一個表面上具備含有活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的微細凹凸結構層。
[5]如[4]所記載的物品,其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量為200以上、320以下。
[6]如[4]所記載的物品,其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量為230以上、310以下。
[7]如[4]至[6]中任一項所記載的物品,其中上述硬化物中的氧伸乙基所佔的比例為55.0質量%以上、74.0質量%以下。
[8]如[4]至[7]中任一項所記載的物品,其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物含有聚合性成分(Z)、及光聚合起始劑(D),上述聚合性成分(Z)包含:0質量%~20質量%的多官能丙烯酸酯(A1),該多官能丙烯酸酯(A1)於分子內具有3個以上的丙烯醯基,且每1個該丙烯醯基的分子量小於110;15質量%~75質量%的多官能丙烯酸酯(B1),該多官能丙烯酸酯(B1)於分子內具有3個以上的丙烯醯基,且每1個該丙烯 醯基的分子量為110以上;及20質量%~85質量%的二官能丙烯酸酯(C1),該二官能丙烯酸酯(C1)於分子內具有2個丙烯醯基,且含有分子量為300以上的聚乙二醇結構。
[9]如[4]至[7]中任一項所記載的物品,其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物含有聚合性成分(Z)及光聚合起始劑(D),上述聚合性成分(Z)包含多官能(甲基)丙烯酸酯(A2),該多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基,且每1個該(甲基)丙烯醯基的氧伸乙基數的平均值為5以上。
[10]如[9]所記載的物品,其中上述多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)為下述通式(1)所表示的化合物:
(式中,X為有機殘基,R為氫原子或甲基,m≧5,n≧3)。
[11]如[9]所記載的物品,其中上述多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)為選自由(聚)季戊四醇、(聚)甘油及(二)三羥甲基丙烷的環氧乙烷改質(聚)(甲基)丙烯酸酯所組成的組群中的一種以上的化合物。
[12]如[4]至[7]中任一項所記載的物品,上述活性能量 線硬化性樹脂組成物含有聚合性成分(Z)及光聚合起始劑(D),上述聚合性成分(Z)包含25質量%~100質量%的多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)、及0質量%~75質量%的多官能(甲基)丙烯酸酯(B2),該多官能(甲基)丙烯酸酯(B2)於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基,且每1個該(甲基)丙烯醯基的氧伸乙基數的平均值小於5。
[13]如[4]至[7]中任一項所記載的物品,其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物所含有的聚合性化合物為四官能以上的(甲基)丙烯酸系單體(A3),該四官能以上的(甲基)丙烯酸系單體(A3)的由下述式(a)所表示的(甲基)丙烯酸系單體(A3)中的聚伸烷基二醇(polyalkylene glycol)含有率(PAG)為50%以上、87%以下,PAG=M(PAG)/[M(ACR)+M(PAG)]×100 (a)
M(PAG):聚伸烷基二醇結構部分的合計化學式量
M(ACR):(甲基)丙烯醯基結構部分的合計化學式量。
[14]一種活性能量線硬化性樹脂組成物,其含有聚合性成分(Z)、及光聚合起始劑(D),上述聚合性成分(Z)包含:0質量%~20質量%的多官能丙烯酸酯(A1),該多官能丙烯 酸酯(A1)於分子內具有3個以上的丙烯醯基,且每1個該丙烯醯基的分子量小於110;15質量%~75質量%的多官能丙烯酸酯(B1),該多官能丙烯酸酯(B1)於分子內具有3個以上的丙烯醯基,且每1個該丙烯醯基的分子量為110以上;及20質量%~85質量%的二官能丙烯酸酯(C1),該二官能丙烯酸酯(C1)於分子內具有2個丙烯醯基,且含有分子量為300以上的聚乙二醇結構。
[15]一種活性能量線硬化性樹脂組成物,其含有聚合性成分(Z)及光聚合起始劑(D),上述聚合性成分(Z)包含多官能(甲基)丙烯酸酯(A2),該多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基,且每1個該(甲基)丙烯醯基的氧伸乙基數的平均值為5以上。
[16]一種光透射性物品活性能量線硬化性樹脂組成物,其含有聚合性成分(Z)及光聚合起始劑(D),上述聚合性成分(Z)包含:25質量%~100質量%的多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)、及0質量%~75質量%的多官能(甲基)丙烯酸酯(B2),該多官能(甲基)丙烯酸酯(B2)於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基,且每1個該(甲基)丙烯醯基的氧伸乙基數的平均值小於5。
[17]一種活性能量線硬化性樹脂組成物,其含有聚合性化合物,該聚合性化合物包含四官能以上的(甲基)丙烯酸系單體 (A3)、及(甲基)丙烯酸系單體(A3)以外的三官能以上的(甲基)丙烯酸系單體(B3),上述四官能以上的(甲基)丙烯酸系單體(A3)的由下述式(a)所表示的(甲基)丙烯酸系單體(A3)中的聚伸烷基二醇含有率(PAG)為50%以上、87%以下,並且上述聚合性化合物的(甲基)丙烯酸系單體(A3)及/或(甲基)丙烯酸系單體(B3)於分子中具有一個以上的聚伸烷基二醇結構,該聚伸烷基二醇結構的來源於伸烷基二醇的結構的平均重複數為5以上,PAG=M(PAG)/[M(ACR)+M(PAG)]×100 (a)
M(PAG):聚伸烷基二醇結構部分的合計化學式量
M(ACR):(甲基)丙烯醯基結構部分的合計化學式量。
[18]一種抗反射物品,其具備如[1]至[13]中任一項所記載的物品。
根據本發明,可提供一種耐擦傷性高且指紋擦去性良好的物品、及用於製造該物品的活性能量線硬化性樹脂組成物。
10‧‧‧鋁基材
12‧‧‧孔隙(微細凹凸結構的反轉結構)
14‧‧‧氧化皮膜
16‧‧‧孔隙產生點
18‧‧‧壓模
20‧‧‧輥狀壓模
22‧‧‧儲槽
24‧‧‧空氣壓缸
26‧‧‧夾輥
28‧‧‧活性能量線照射裝置
30‧‧‧剝離輥
40‧‧‧光透射性物品(物品)
42‧‧‧光透射性基材(蓋膜)
44‧‧‧微細凹凸結構層
46‧‧‧凸部
50‧‧‧光透射性基材
51‧‧‧微細凹凸結構層
52‧‧‧凸部
53‧‧‧凹部
54‧‧‧凹凸的高度
55‧‧‧凸起的寬度
圖1為表示本發明的物品的一例的剖面圖。
圖2為表示表面上具備陽極氧化氧化鋁的壓模的製造步驟的 剖面圖。
圖3為表示本發明的物品的製造裝置的一例的剖面圖。
圖4為表示本發明的光透射性物品的一例的示意性剖面圖。
圖5為表示實施例A及比較例A中的壓入彈性模量(X)與蠕變變形率(Y)的關係的圖表。
以下,對本發明的各實施形態加以說明,但本發明不限定於該些實施形態。另外,本發明的物品不限定於光透射性物品,亦可包括其他物品。
[第一實施形態]
本發明的光透射性物品於光透射性基材的至少一個表面上具備含有活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的微細凹凸結構層,並且上述微細凹凸結構層的相鄰凸部彼此的間隔為140nm~260nm,上述微細凹凸結構的凸部的縱橫比為0.7~1.4,且上述硬化物的壓入彈性模量(X)[MPa]及蠕變變形率(Y)[%]滿足下述式(1)及式(2)。
80≦X≦560 (1)
Y≦(0.00022X-0.01)×100 (2)。
本發明的抗反射物品具備本發明的光透射性物品。
根據本發明,可提供一種耐擦傷性高且指紋擦去性良好的光透射性物品。
本發明的光透射性物品中,微細凹凸結構層的耐擦傷性高,且指紋擦去性良好。另外,根據本發明的活性能量線硬化性樹脂組成物,可形成耐擦傷性高且指紋擦去性良好的硬化物。
本發明的光透射性物品所具備的微細凹凸結構層的微細凹凸結構較佳為大致圓錐形狀、棱錐形狀等的凸起(凸部)多個排列而成的所謂蛾眼結構(moth-eye structure)。已知凸起間的間隔為可見光的波長(400nm)以下的蛾眼結構由於折射率自空氣的折射率向材料的折射率連續地增大,故作為抗反射的手段而有效。
於上述微細凹凸結構層中,為了使抗反射性能與耐擦傷性並存,重要的是相鄰凸部彼此的間隔、及相鄰凸部彼此的間隔與凸部的高度之平衡即縱橫比(凸部的高度/相鄰凸部彼此的間隔)在特定的範圍內。
相鄰凸部彼此的間隔若為可見光的波長(400nm)以下,則可獲得抗反射性能。若該間隔超過400nm,則引起可見光的散射,故不適於抗反射物品等光學用途。本發明的光透射性物品所具備的微細凹凸結構層的相鄰凸部彼此的間隔為140nm~260nm,較佳為150nm~240nm,更佳為155nm~220nm,進而佳為160nm~200nm。若為140nm~260nm,則相鄰凸部彼此亦不凸起合而為一而較佳。
再者,相鄰凸部彼此的間隔為藉由電子顯微鏡(商品名:JSM7400F,日本電子製造)對相鄰凸部彼此的間隔(自凸部的中心起至鄰接凸部的中心為止的距離)測定50點,並將該等的測定值平均所得的值。
於相鄰凸部彼此的間隔在上述範圍內的情形時,光透射性物品的抗反射性能大致是由凸起的高度來決定。為了獲得良好的抗反射性能,凸部的高度較佳為120nm~250nm,更佳為150nm~220nm,進而佳為180nm~190nm。若凸部的高度為120nm以上,則反射率充分變低,且反射率的波長相依性小。若凸部的高度為250nm以下,則容易抑制凸部頂端彼此密接的現象。
再者,凸部的高度為藉由上述電子顯微鏡以30000倍的倍率進行觀察時,對凸部的最頂部與存在於凸部間的凹部的最底部之間的距離測定50點,並將該等的測定值平均所得的值。
本發明的光透射性物品所具備的微細凹凸結構層的微細凹凸結構的凸部的縱橫比(凸部的高度/相鄰凸部彼此的間隔)為0.7~1.4,較佳為0.8~1.3,更佳為0.85~1.25,進而佳為0.9~1.2。於縱橫比小於0.7的情形時,反射率未充分降低。於縱橫比超過1.4的情形時,無法獲得凸部的充分的耐擦傷性。
本發明的活性能量線硬化性樹脂組成物為藉由照射活性能量線而進行聚合反應、發生硬化的樹脂組成物。
於本發明中,活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的壓入彈性模量(X)為80MPa以上、560MPa以下,較佳為100MPa 以上、550MPa以下,更佳為120MPa以上、500MPa以下,進而佳為140MPa以上、400MPa以下,尤佳為160MPa以上、360MPa以下。於壓入彈性模量(X)小於80MPa的情形時,硬化物過於柔軟,自外部施力時硬化物被大幅度地切削、或挖去至並無微細凹凸結構的部分為止而受到損傷等,耐擦傷性降低。另一方面,於壓入彈性模量(X)超過560MPa的情形時,於因自外部施力而微細凹凸結構變形時,凸部彎折或被切削而無法恢復原狀。
於本發明中,壓入彈性模量(X)與蠕變變形率(Y)滿足上述式(2)的關係。即便於壓入彈性模量(X)在上述式(1)的範圍內的情形時,亦於蠕變變形率(Y)不滿足上述式(2)的情況下,微細凹凸結構及硬化物對自外部施加的力的追隨性低,凸起部分不可避免地彎折或被切削。
再者,壓入彈性模量(X)與蠕變變形率(Y)為藉由以下方法測定的值。
關於微細凹凸結構層,使用維氏壓頭(vickers indenter)(四面金剛石錐體)及微小硬度計(商品名:菲希爾斯高普(Fischer-Scope)HM2000XYp,菲希爾儀器(Fischer Instruments)製造),於恆溫室(溫度23℃、濕度50%)內進行測定。測定程式(program)是設定為[壓入(50mN/10s)]→[蠕變(50mN、60s)]→[卸載(unloading)(50mN/10s)]。
根據利用此種方法測定的結果,藉由分析軟體(商品名:WIN-HCU,菲希爾儀器(Fischer Instruments)公司製造)來 算出活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的壓入彈性模量(X)。
或者,亦可使用大型載玻片(slide glass)(商品名:S9213,松浪硝子工業(股)製造)作為基材,於該基材上以塗膜的厚度成為約500μm的方式來塗佈活性能量線硬化性樹脂組成物,使用高壓水銀燈以約3000mJ/cm2 對該活性能量線硬化性樹脂組成物照射紫外線,使用所得者來作為壓入彈性模量(X)及蠕變變形率(Y)的測定用樣品。
另外,上述測定程式中,將蠕變開始時的壓入深度設定為h0、蠕變結束時的壓入深度設定為h1,根據該些h0及h1由下式來求出蠕變變形率(Y)。
蠕變變形率(%)=(h0+h1)/h0×100。
活性能量線硬化性樹脂組成物可藉由調整其丙烯酸當量來將硬化物的壓入彈性模量(X)調整至適當的範圍內。所謂丙烯酸當量,是指活性(甲基)丙烯醯基數每1莫耳的分子量所表示的數值。丙烯酸當量越小,則(甲基)丙烯醯基的濃度越變大,可獲得交聯密度高的硬化物。另一方面,丙烯酸當量越大,則(甲基)丙烯醯基的濃度越變小,可獲得交聯密度低的硬化物。
本發明的活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量較佳為200以上、320以下,更佳為215以上、310以下,進而佳為230以上、285以下,尤佳為240以上、280以下。
藉由活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量為200以上,可防止由交聯密度過高所致的凸起的破損,耐擦傷性提高。另一方面,藉由活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量為320以下,可防止由交聯密度低所致的硬化物的軟化,不會發生硬化物被大幅度地切削、或挖去至並無微細凹凸結構的部分為止而受到損傷的情況,耐擦傷性提高。
使微細凹凸結構層的凸起不易彎折、與硬化物不易被切削或挖去彼此容易成為平衡(trade-off)的關係。為了設計兼具該相反的兩個特性的硬化物,重要的是將壓入彈性模量(X)調整至適當的範圍內,並且保持由來自外部的應力所致的變形與恢復的平衡。
本發明者等人進行了努力研究,結果發現,藉由將微細凹凸結構調整為特定的結構,且將活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的壓入彈性模量(X)與蠕變變形率(Y)調整至特定的範圍內,而對微細凹凸結構層賦予高的耐擦傷性。
另外,不僅利用活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量,而且使硬化物以特定的比例含有特定的結構,藉此可將壓入彈性模量(X)與蠕變變形率(Y)的值調整至上述式(1)及式(2)的範圍內。
本發明者等人進行了努力研究,結果發現,藉由使用分子中具有大量的氧伸乙基(-CH2 CH2 O-)(oxyethylene group)的單體作為活性能量線硬化性樹脂組成物中所含的單體,可實現耐 擦傷性優異的本發明的物性。具體而言,活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物中的氧伸乙基所佔的比例較佳為55.0質量%以上、74.0質量%以下,更佳為58.0質量%以上、72.0質量%以下,進而佳為60.0質量%以上、70.0質量%以下,尤佳為62.0質量%以上、68.0質量%以下。
藉由硬化物以特定的比例含有氧伸乙基,即便於交聯結構中亦保持分子的運動性,可調整微細凹凸結構的變形與恢復,結果表現出高的耐擦傷性。
<活性能量線硬化性樹脂組成物>
本發明的活性能量線硬化性樹脂組成物較佳為含有後述的聚合性成分(Z)及光聚合起始劑(D)。另外,本發明的活性能量線硬化性樹脂組成物視需要可含有紫外線吸收劑及/或抗氧化劑(E)等其他成分。
於本說明書中,所謂自由基聚合性官能基,是指(甲基)丙烯醯基、乙烯基等。另外,(甲基)丙烯醯基是指丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基。另外,(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。另外,活性能量線是指可見光線、紫外線、電子束、電漿、熱線(紅外線等)等。
(聚合性成分(Z))
聚合性成分(Z)為具有聚合性的化合物,包含特定的多官能丙烯酸酯(A1)、特定的多官能丙烯酸酯(B1)及特定的二官能丙烯酸酯(C1)。另外,聚合性成分(Z)視需要包含單官能 單體(F)、其他聚合性成分(多官能丙烯酸酯(A1)、多官能丙烯酸酯(B1)、二官能丙烯酸酯(C1)及單官能單體(F)除外)。
(多官能丙烯酸酯(A1))
多官能丙烯酸酯(A1)為於分子內具有3個以上的丙烯醯基、且每1個該丙烯醯基的分子量小於110的化合物。
所謂每1個丙烯醯基的分子量,是指將多官能丙烯酸酯(A1)的分子量除以一分子中的丙烯醯基的個數所得的值。
例如,作為具代表性的三官能丙烯酸酯的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯,其分子量為296,且丙烯醯基的個數為3,故每1個丙烯醯基的分子量為98.67。因此,三羥甲基丙烷三丙烯酸酯的每1個丙烯醯基的分子量小於110。
藉由使用分子內具有3個以上的丙烯醯基、且每1個該丙烯醯基的分子量小於110的多官能丙烯酸酯,可確保聚合性成分(Z)總體的交聯密度,提高硬化物的彈性模量或硬度。
多官能丙烯酸酯(A1)的每1個丙烯醯基的分子量小於110,較佳為小於100。另外,多官能丙烯酸酯(A1)的每1個丙烯醯基的分子量較佳為85以上。
多官能丙烯酸酯(A1)亦可不包含於聚合性成分(Z)中。多官能丙烯酸酯(A1)例如可列舉:季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四丙烯酸酯等。多官能丙烯酸酯(A1)可單獨使用一種,亦可併用兩種以上。
於將聚合性成分(Z)總體設定為100質量%的情形時,聚合性成分(Z)所含的多官能丙烯酸酯(A1)的比例為0質量%~20質量%,較佳為0質量%~15質量%,更佳為0質量%~10質量%,進而佳為0質量%~5質量%。藉由多官能丙烯酸酯(A1)的比例為20質量%以下,可將活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量調整至適當的範圍內。
(多官能丙烯酸酯(B1))
多官能丙烯酸酯(B1)為於分子內具有3個以上的丙烯醯基、且每1個該丙烯醯基的分子量為110以上的化合物。
多官能丙烯酸酯(B1)可藉由與其他成分的平衡而將活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量調整至適當的範圍內。
多官能丙烯酸酯(B1)的每1個丙烯醯基的分子量為110以上,較佳為150以上。多官能丙烯酸酯(B1)的每1個丙烯醯基的分子量較佳為300以下,更佳為200以下。另外,分子內的丙烯醯基數較佳為3個以上,更佳為4個以上,進而佳為5個以上。
另外,多官能丙烯酸酯(B1)於分子內具有氧伸乙基,藉此容易將活性能量線硬化性樹脂組成物所含的氧伸乙基的量調整至適當的範圍內。
多官能丙烯酸酯(B1)例如可列舉:環氧烷改質季戊四醇三丙烯酸酯、環氧烷改質異三聚氰酸(isocyanuric acid)三丙烯酸酯、環氧烷改質甘油三丙烯酸酯、環氧烷改質季戊四醇四丙烯 酸酯、環氧烷改質二季戊四醇五丙烯酸酯、環氧烷改質二季戊四醇六丙烯酸酯、己內酯改質季戊四醇三丙烯酸酯、己內酯改質異三聚氰酸三丙烯酸酯、己內酯改質甘油三丙烯酸酯、己內酯改質季戊四醇四丙烯酸酯、己內酯改質二季戊四醇五丙烯酸酯、己內酯改質二季戊四醇六丙烯酸酯等。此處,環氧烷改質可列舉環氧乙烷改質、環氧丙烷改質等。其中,就可賦予氧伸乙基的方面而言,較佳為環氧乙烷改質。多官能丙烯酸酯(B1)可單獨使用一種,亦可併用兩種以上。
於將聚合性成分(Z)總體設定為100質量%的情形時,聚合性成分(Z)所含的多官能丙烯酸酯(B1)的比例為15質量%以上,較佳為25質量%以上,更佳為30質量%以上,進而佳為35質量%以上。另外,聚合性成分(Z)所含的多官能丙烯酸酯(B1)的比例為75質量%以下,較佳為65質量%以下,更佳為60質量%以下,進而佳為55質量%以下。藉由多官能丙烯酸酯(B1)的比例為15質量%~75質量%,可將活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量、及其硬化物中的氧伸乙基所佔的比例調整至適當的範圍內。
(二官能丙烯酸酯(C1))
二官能丙烯酸酯(C1)為於分子內具有2個丙烯醯基、且於分子內具有氧伸乙基相連而成的聚乙二醇結構的化合物。
聚乙二醇結構部分的分子量為300以上,較佳為400以上。另外,若聚乙二醇結構部分的分子量大,則有時結晶而操作 性降低,故聚乙二醇結構部分的分子量較佳為1000以下。
於將聚合性成分(Z)總體設定為100質量%的情形時,聚合性成分(Z)所含的二官能丙烯酸酯(C1)的比例為20質量%以上,較佳為30質量%以上,更佳為35質量%以上,進而佳為40質量%以上。另外,聚合性成分(Z)所含的二官能丙烯酸酯(C1)的比例為85質量%以下,較佳為80質量%以下,更佳為75質量%以下,進而佳為70質量%以下。藉由二官能丙烯酸酯(C1)的比例為20質量%~85質量%,可將活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量、及其硬化物中的氧伸乙基所佔的比例調整至較佳的範圍內。另外,可使微細凹凸結構層的表面充分地親水化,可藉由濕布擦拭來去除指紋等油污。
(單官能單體(F))
單官能單體(F)為於分子內具有1個自由基聚合性官能基,且可與多官能丙烯酸酯(A1)、多官能丙烯酸酯(B1)及二官能丙烯酸酯(C1)共聚合的化合物。單官能單體(F)視需要而添加至聚合性成分(Z)中。
通常,使活性能量線硬化性樹脂組成物單獨硬化的情況少,而是如後述般於基材上使活性能量線硬化性樹脂組成物硬化,使其與基材一體化而使用。為了提高光透射性基材與硬化物的密接性,可添加分子量小、向光透射性基材中的浸透性高的單官能單體(F)。單官能單體(F)是根據光透射性基材的材料來適當選擇所添加的單體。
就硬化物的指紋擦去性的觀點而言,單官能單體(F)較佳為親水性的單體。所謂親水性的單體,是指於25℃的水100g中可溶解1g以上的單體。
單官能單體(F)例如可列舉:(甲基)丙烯酸烷基酯((甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸月桂酯等)、(甲基)丙烯酸苄酯、具有脂環結構的(甲基)丙烯酸酯((甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸金剛烷基酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯等)、具有胺基的(甲基)丙烯酸酯((甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基丙酯等)、具有羥基的(甲基)丙烯酸酯((甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯等)、(甲基)丙烯醯胺衍生物((甲基)丙烯醯基嗎啉、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺等)、2-乙烯基吡啶、4-乙烯基吡啶、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基甲醯胺、乙酸乙烯酯等。單官能單體(F)可單獨使用一種,亦可併用兩種以上。
就聚合反應性的觀點而言,單官能單體(F)較佳為體積不是很大的單體。另外,就防污性的觀點而言,較佳為疏水性低的單體。具體而言,單官能單體(F)較佳為丙烯醯基嗎啉、丙烯酸羥乙酯、N,N-二甲基丙烯醯胺、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基甲醯胺、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯等。於光透射性基材的材料為丙烯酸系樹脂的情形時,單官能單體(F)尤佳為丙烯酸甲酯、 丙烯酸乙酯。
於將聚合性成分(Z)總體設定為100質量%的情形時,聚合性成分(Z)中所含的單官能單體(F)的比例較佳為0質量%~15質量%,更佳為0質量%~10質量%,進而佳為0質量%~5質量%。藉由單官能單體(F)的比例為15質量%以下,而使與基材的密接性提高,活性能量線硬化性樹脂組成物充分硬化,可獲得表面具有完成了硬化的微細凹凸結構的光透射性物品。另外,於硬化物內不殘存未反應的單官能單體(F),故可防止以下情況:未反應的單官能單體(F)作為塑化劑而發揮功能,使硬化物的彈性模量降低,有損耐擦傷性。
(其他聚合性成分)
聚合性成分(Z)亦可於不損及本發明效果的範圍內,含有多官能丙烯酸酯(A1)、多官能丙烯酸酯(B1)、二官能丙烯酸酯(C1)及單官能單體(F)以外的其他聚合性成分。其他聚合性成分可列舉:多官能丙烯酸酯(A1)、多官能丙烯酸酯(B1)及二官能丙烯酸酯(C1)以外的二官能以上的單體,具有自由基聚合性官能基的低聚物或聚合物等。
其他聚合性成分例如可列舉:胺基甲酸酯低聚物、丙烯酸胺基甲酸酯、聚酯丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯、乙烯醚類等。其他聚合性成分可單獨使用一種,亦可併用兩種以上。
於將聚合性成分(Z)總體設定為100質量%的情形時,聚合性成分(Z)所含的其他聚合性成分的比例較佳為30質量% 以下,更佳為20質量%以下,進而佳為10質量%以下。
(光聚合起始劑(D))
所謂光聚合起始劑(D),是指藉由照射活性能量線而開裂,產生引發聚合反應的自由基的化合物。就裝置成本或生產性的方面而言,活性能量線較佳為紫外線。
藉由紫外線而產生自由基的光聚合起始劑(D)例如可列舉:二苯甲酮、4,4-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基二苯甲酮、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮,第三丁基蒽醌、2-乙基蒽醌,噻噸酮類(2,4-二乙基噻噸酮、異丙基噻噸酮、2,4-二氯噻噸酮等)、苯乙酮類(二乙氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、苯偶醯二甲基縮酮、1-羥基環己基-苯基酮、2-甲基-2-嗎啉基(4-硫代甲基苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮等)、安息香醚類(安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚等)、醯基膦氧化物類(2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物等)、苯甲醯基甲酸甲酯、1,7-雙吖啶基庚烷、9-苯基吖啶等。光聚合起始劑可單獨使用一種,亦可併用兩種以上。於併用的情形時,較佳為併用吸收波長不同的兩種以上。
另外,視需要亦可併用過硫酸鹽(過硫酸鉀、過硫酸銨等)、過氧化物(過氧化苯甲醯等)、偶氮系起始劑等熱聚合起始劑。
相對於聚合性成分(Z)總體100質量份,光聚合起始劑(D)的調配量較佳為0.01質量份~10質量份,更佳為0.1質量份~5質量份,進而佳為0.2質量份~3質量份。藉由光聚合起始劑(D)的比例為0.01質量份以上,活性能量線硬化性樹脂組成物充分硬化,可獲得具有充分的機械物性的光透射性物品。另外,藉由光聚合起始劑(D)的比例為10質量份以下,而不於硬化物內殘存未反應的光聚合起始劑(D),故可防止以下情況:所殘存的光聚合起始劑(D)作為塑化劑而發揮功能,使硬化物的彈性模量降低,有損耐擦傷性。另外,可抑制著色的產生。
(紫外線吸收劑及/或抗氧化劑(E))
本發明的活性能量線硬化性樹脂組成物亦可含有紫外線吸收劑及/或抗氧化劑(E)。
紫外線吸收劑例如可列舉:二苯甲酮系、苯并三唑系、受阻胺系、苯甲酸酯系、三嗪系的紫外線吸收劑。市售品可列舉:巴斯夫(BASF)公司製造的「地奴彬(Tinuvin)400」及「地奴彬(Tinuvin)479」、共同藥品(股)製造的「維索布(Viosorb)110」等。
抗氧化劑例如可列舉:受阻酚系、苯并咪唑系、磷系、硫系、受阻胺系的抗氧化劑。市售品可列舉巴斯夫(BASF)公司製造的「伊魯加諾斯(IRGANOX)」系列等。
該些紫外線吸收劑及/或抗氧化劑可單獨使用一種,亦可併用兩種以上。
相對於聚合性成分(Z)總體100質量份,紫外線吸收劑及/或抗氧化劑(E)的調配量較佳為合計為0.01質量份~5質量份。
(其他成分)
本發明的活性能量線硬化性樹脂組成物視需要亦可含有界面活性劑、脫模劑、潤滑劑、塑化劑、抗靜電劑、光穩定劑、阻燃劑、阻燃助劑、聚合抑制劑、填充劑、矽烷偶合劑、著色劑、強化劑、無機填料、耐衝擊性改質劑等公知的添加劑。
另外,本發明的活性能量線硬化性樹脂組成物視需要亦可含有不具有自由基聚合性官能基的低聚物或聚合物、微量的有機溶劑等。
就活性能量線硬化性樹脂組成物容易流入至壓模表面的微細凹凸結構中的觀點而言,活性能量線硬化性樹脂組成物的黏度較佳為不過高。具體而言,於25℃下利用旋轉式B型黏度計測定的活性能量線硬化性樹脂組成物的黏度較佳為10000mPa.s以下,更佳為5000mPa.s以下,進而佳為2000mPa.s以下。
然而,即便於活性能量線硬化性樹脂組成物的黏度超過10000mPa.s的情形時,只要可於與壓模接觸之時預先加溫而降低黏度,則並無特別問題。於該情形時,於70℃下利用旋轉式B型黏度計測定的活性能量線硬化性樹脂組成物的黏度較佳為5000mPa.s以下,更佳為2000mPa.s以下。
另一方面,若上述黏度為10mPa.s以上,則可不發生濡 濕擴散而高效地製造光透射性物品,故較佳。
以上說明的本發明的活性能量線硬化性樹脂組成物藉由以特定的比例含有特定的多官能丙烯酸酯(A1)、特定的多官能丙烯酸酯(B1)及特定的二官能丙烯酸酯(C1),而顯示出高的耐擦傷性。另外,藉由以特定的比例含有特定的二官能丙烯酸酯(C1),可獲得指紋擦去性良好的硬化物。
(光透射性物品)
本發明的光透射性物品於光透射性基材的至少一個表面上具備含有活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的微細凹凸結構層。本發明的光透射性物品的微細凹凸結構的形成方法並無特別限定,例如可藉由使活性能量線硬化性樹脂組成物與表面上具有微細凹凸結構的反轉結構的壓模接觸、硬化而形成。
圖1為表示本發明的光透射性物品的一例的剖面圖。光透射性物品40具有光透射性基材42、及形成於光透射性基材42的表面上的微細凹凸結構層44。
光透射性基材42較佳為使光透射的成形體。光透射性基材42的材料例如可列舉:丙烯酸系樹脂(聚甲基丙烯酸甲酯等)、聚碳酸酯、苯乙烯(共)聚合物、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物、二乙酸纖維素、三乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、聚酯(聚對苯二甲酸乙二酯等)、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚烯烴(聚乙烯、聚丙烯等)、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯基縮醛、聚醚酮、聚胺基甲酸酯、玻璃等。該些材料可僅使用一種,亦可 併用兩種以上。
光透射性基材42可為射出成形體,亦可為擠出成形體,亦可為澆鑄成形體。光透射性基材42的形狀可為片狀,亦可為膜狀。光透射性基材42的表面亦可實施塗佈處理、電暈處理等,以改良密接性、抗靜電性、耐擦傷性、耐候性等。
微細凹凸結構層44為含有活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的膜,於表面上具有微細凹凸結構。
於使用後述的陽極氧化氧化鋁的壓模來形成微細凹凸結構的情形時,光透射性物品40的表面的微細凹凸結構是轉印陽極氧化氧化鋁的表面的微細凹凸結構而形成。另外,微細凹凸結構層44具有含有活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的多個凸部46。
凸部的形狀較佳為與高度方向正交的方向的凸部剖面積自最表面起於深度方向上連續地增加的形狀,即凸部的高度方向的剖面形狀為三角形、梯形、吊鐘形等形狀。
微細凹凸結構層44的折射率與光透射性基材42的折射率之差較佳為0.2以下,更佳為0.1以下,進而佳為0.05以下。若折射率差為0.2以下,則可抑制微細凹凸結構層44與光透射性基材42的界面上的反射。
(壓模)
如上所述,本發明的微細凹凸結構層的微細凹凸結構例如是藉由使活性能量線硬化性樹脂組成物與表面上具有微細凹凸 結構的反轉結構的壓模接觸、硬化而形成。
壓模於表面上具有微細凹凸結構的反轉結構。壓模的材料可列舉:金屬(包括於表面上形成有氧化皮膜者)、石英、玻璃、樹脂、陶瓷等。壓模的形狀可列舉:輥狀、圓管狀、平板狀、片狀等。
壓模的製作方法例如可列舉下述方法(I-1)、方法(I-2)等。然而,就可實現大面積化、且製作簡便的觀點而言,較佳為方法(I-1)。
(I-1)於鋁基材的表面上形成具有多個孔隙(凹部)的陽極氧化氧化鋁的方法。
(I-2)於壓模基材的表面上藉由電子束微影法、雷射光干涉法等來形成微細凹凸結構的反轉結構的方法。
方法(I-1)較佳為包括下述的步驟(a)~步驟(f)的方法。
(a)將鋁基材於電解液中於恆定電壓下陽極氧化,於鋁基材的表面上形成氧化皮膜的步驟;(b)將氧化皮膜去除,於鋁基材的表面上形成陽極氧化的孔隙產生點的步驟;(c)於步驟(b)後,將鋁基材於電解液中再次陽極氧化,形成於孔隙產生點處具有孔隙的氧化皮膜的步驟;(d)於步驟(c)後,使孔隙的孔徑擴大的步驟;(e)於步驟(d)後,於電解液中再次陽極氧化的步驟; (f)重複進行步驟(d)與步驟(e)而獲得壓模的步驟,上述壓模是於鋁基材的表面上形成有具有多個孔隙的陽極氧化氧化鋁而成。
<步驟(a)>
如圖2所示,將鋁基材10陽極氧化,藉此形成具有孔隙12的氧化皮膜14。
鋁基材的形狀可列舉輥狀、圓管狀、平板狀、片狀等。對於鋁基材而言,有時於加工成既定的形狀時所用的油附著於該鋁基材上,故較佳為預先實施脫脂處理。另外,鋁基材較佳為實施電解研磨處理(蝕刻處理),以使表面狀態平滑。鋁的純度較佳為99%以上,更佳為99.5%以上,進而佳為99.8%以上。若鋁的純度低,則有時於陽極氧化時因雜質的偏析而形成使可見光散射的大小的凹凸結構,或由陽極氧化所得的孔隙的規則性降低。
電解液可列舉硫酸、草酸、磷酸等。
使用草酸作為電解液的情形:草酸的濃度較佳為0.8M以下。藉由草酸的濃度為0.8M以下,可防止電流值的上升,抑制氧化皮膜的表面變粗糙。於化成電壓為30V~100V時,可獲得具有週期為100nm~200nm的規則性高的孔隙的陽極氧化氧化鋁。無論化成電壓是高於該範圍還是低於該範圍,均有規則性降低的傾向。電解液的溫度較佳為60℃以下,更佳為45℃以下。藉由電解液的溫度為60℃以下,可防止所謂被稱為「灼燒」的現象的產生,可抑制孔隙的破損、或 表面溶解而孔隙的規則性被擾亂的情況。
使用硫酸作為電解液的情形:硫酸的濃度較佳為0.7M以下。藉由硫酸的濃度為0.7M以下,可防止電流值的上升而維持恆定電壓。於化成電壓為25V~30V時,可獲得具有週期為63nm的規則性高的孔隙的陽極氧化氧化鋁。無論化成電壓是高於該範圍還是低於該範圍,均有規則性降低的傾向。電解液的溫度較佳為30℃以下,更佳為20℃以下。藉由電解液的溫度為30℃以下,可防止所謂被稱為「灼燒」的現象的產生,可抑制孔隙的破損、或表面溶解而孔隙的規則性被擾亂的情況。
<步驟(b)>
如圖2所示,將氧化皮膜14暫且去除,並將其設定為陽極氧化的孔隙產生點16,藉此可提高孔隙的規則性。去除氧化皮膜14的方法可列舉:使氧化皮膜14溶解於不溶解鋁且可選擇性地溶解氧化皮膜14的溶液中,將氧化皮膜14去除的方法。此種溶液例如可列舉鉻酸/磷酸混合液等。
<步驟(c)>
如圖2所示,將去除了氧化皮膜14的鋁基材10再次陽極氧化,藉此形成具有圓柱狀的孔隙12的氧化皮膜14。陽極氧化可於與步驟(a)相同的條件下進行。越延長陽極氧化的時間,可獲得越深的孔隙。
<步驟(d)>
如圖2所示,進行使孔隙12的孔徑擴大的處理(以下記作孔隙徑擴大處理)。孔隙徑擴大處理為將氧化皮膜14浸漬於可溶解該氧化皮膜14的溶液中,使由陽極氧化所得的孔隙的孔徑擴大的處理。此種溶液例如可列舉5質量%左右的磷酸水溶液等。越延長孔隙徑擴大處理的時間,孔隙徑越變大。
<步驟(e)>
如圖2所示,再次進行陽極氧化,藉此進一步形成自圓柱狀的孔隙12的底部起進一步向下延伸的直徑小的圓柱狀的孔隙12。陽極氧化可於與步驟(a)相同的條件下進行。越延長陽極氧化的時間,可獲得越深的孔隙。
<步驟(f)>
如圖2所示,重複進行步驟(d)的孔隙徑擴大處理與步驟(e)的陽極氧化,藉此形成具有孔隙12的氧化皮膜14,上述孔隙12為直徑自開口部起於深度方向上連續地減小的形狀。藉此,可獲得於鋁基材10的表面上具有陽極氧化氧化鋁(鋁的多孔質的氧化皮膜(防蝕鋁(alumite)))的壓模18。最後較佳為以步驟(d)結束。重複次數較佳為合計3次以上,更佳為5次以上。藉由重複次數為3次以上,可獲得孔隙的直徑連續地減小、具有充分的降低反射率效果的蛾眼結構。
孔隙12的形狀可列舉大致圓錐形狀、棱錐形狀、圓柱形狀等。較佳為如圓錐形狀、棱錐形狀等般與深度方向正交的方向的孔隙剖面積自最表面起於深度方向上連續地減小的形狀。
孔隙12間的間隔為可見光的波長以下,即400nm以下。孔隙12間的平均間隔為140nm~260nm,較佳為150nm~240nm,更佳為155nm~220nm,進而佳為160nm~200nm。再者,孔隙12間的間隔為藉由電子顯微鏡(商品名:JSM7400F,日本電子製造)對鄰接的孔隙12間的間隔(自孔隙12的中心起至鄰接的孔隙12的中心為止的距離)測定50點,並將該等的測定值平均所得的值。
孔隙12的深度較佳為120nm~250nm,更佳為150nm~220nm,進而佳為180nm~190nm。再者,孔隙12的深度為藉由上述電子顯微鏡觀察以30000倍的倍率進行觀察時,對孔隙12的最底部、與存在於孔隙12間的凸部的最頂部之間的距離進行測定所得的值。
孔隙12的縱橫比(孔隙12的深度/孔隙12間的間隔)為0.7~1.4,較佳為0.8~1.3,更佳為0.85~1.25,進而佳為0.9~1.2。
壓模的形成有微細凹凸結構之側的表面亦可利用脫模劑進行處理。脫模劑可列舉矽酮樹脂、氟樹脂、氟化合物、磷酸酯等,較佳為磷酸酯。磷酸酯較佳為(聚)氧伸烷基烷基磷酸化合物。市售品可列舉:JP-506H(商品名,城北化學工業(股)製造)、模維茲(Moldwiz)INT-1856(商品名,艾克賽爾(Axel)公司製造),TDP-10、TDP-8、TDP-6、TDP-2、DDP-10、DDP-8、DDP-6、DDP-4、DDP-2、TLP-4、TCP-5、DLP-10(以上為商品名,日光 化學(股)製造)等。脫模劑可僅使用一種,亦可併用兩種以上。
(光透射性物品的製造方法)
本發明的具備微細凹凸結構層的光透射性物品例如是使用圖3所示的製造裝置如下述般製造。
於表面上具有微細凹凸結構的反轉結構(省略圖式)的輥狀壓模20、與沿著輥狀壓模20的表面移動的作為帶狀膜的光透射性基材42之間,自儲槽22供給活性能量線硬化性樹脂組成物。
於輥狀壓模20、與藉由空氣壓缸24調整了夾持壓力的夾輥26之間,夾持光透射性基材42及活性能量線硬化性樹脂組成物。藉此,使活性能量線硬化性樹脂組成物於光透射性基材42與輥狀壓模20之間均勻地遍布,同時填充至輥狀壓模20的微細凹凸結構的凹部內。
自設置於輥狀壓模20的下方的活性能量線照射裝置28,介隔光透射性基材42向活性能量線硬化性樹脂組成物照射活性能量線,使活性能量線硬化性樹脂組成物硬化。藉此,形成轉印有輥狀壓模20的表面的微細凹凸結構的微細凹凸結構層44。
藉由剝離輥30將表面上形成有微細凹凸結構層44的光透射性基材42自輥狀壓模20剝離,藉此獲得如圖1所示般的光透射性物品40。
活性能量線照射裝置28較佳為高壓水銀燈、金屬鹵化物燈等。光照射能量的量較佳為100mJ/cm2 ~10000mJ/cm2
光透射性基材42可使用光透射性膜。光透射性膜的材 料可列舉丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯、苯乙烯系樹脂、聚酯、纖維素系樹脂(三乙醯纖維素等)、聚烯烴、脂環式聚烯烴等。該些材料可僅使用一種,亦可併用兩種以上。
(用途)
本發明的光透射性物品可期待作為抗反射物品(抗反射薄膜、抗反射膜等)、光學物品(光波導、凸紋全息圖(relief hologram)、透鏡、偏光分離元件等)、細胞培養片的用途展開。其中,本發明的光透射性物品特別適於作為抗反射物品的用途。
抗反射物品例如可列舉:圖像顯示裝置(液晶顯示裝置、電漿顯示器面板、電致發光顯示器、陰極管顯示裝置等)、透鏡、櫥窗(show window)、眼鏡等的表面上設置的抗反射膜、抗反射膜、抗反射片等。於將抗反射物品用於圖像顯示裝置的情形時,可於圖像顯示面上直接貼附抗反射膜,亦可於構成圖像顯示面的構件的表面上直接形成抗反射膜,亦可於前面板上形成抗反射膜。
以上所說明的本發明的光透射性物品具備特定的微細凹凸結構層,故微細凹凸結構層的耐擦傷性高,指紋擦去性良好。
[第二實施形態]
凸起不易彎折、與樹脂自身不易被切削或挖去彼此容易成為平衡的關係。設計兼具該相反的兩個特性的樹脂時,重要的是所使用的單體的分子設計。
本發明者等人發現,藉由使用分子中具有大量的氧伸乙 基(-CH2 CH2 O-)的單體,可獲得耐擦傷性優異的微細凹凸結構,並繼續進行了與聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯有關的研究。而且得知,就耐擦傷性的方面而言,聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯較佳為其分子中的聚乙二醇鏈的平均分子量為300~1000左右(環氧乙烷的莫耳數為7~23左右)。
進而,本發明者等人進行了努力研究,結果成功地進行了以下操作而完成了本發明,即,藉由在活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分(Z)中使用多官能(甲基)丙烯酸酯(A2),而對微細凹凸結構賦予先前不具備的高的耐擦傷性,上述多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基,且每1個該(甲基)丙烯醯基的氧伸乙基數的平均值為5以上。
即,本發明是一種光透射性物品,其於光透射性基材的至少一個表面上具備含有活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的微細凹凸結構層,並且上述光透射性物品的特徵在於:上述活性能量線硬化性樹脂組成物含有聚合性成分(Z)及光聚合起始劑(D),上述聚合性成分(Z)包含多官能(甲基)丙烯酸酯(A2),該多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基,且每1個該(甲基)丙烯醯基的氧伸乙基數的平均值為5以上。
於本發明中,藉由使(甲基)丙烯酸酯(A2)的官能基數與每1個(甲基)丙烯醯基的環氧乙烷改質的莫耳數最適化,而成功地同時實現了以下情況:對微細凹凸結構賦予柔軟性而防止凸起 的彎折,與防止受到摩擦時硬化物自身被大幅度地破壞。另外,由於每1個(甲基)丙烯醯基的氧伸乙基數的平均值大,故可使微細凹凸結構表面充分地親水化,可藉由濕布擦拭來去除指紋等油污。
因此,根據本發明,可提供一種具備耐擦傷性高、指紋擦去性良好的微細凹凸結構層的光透射性物品。
<活性能量線硬化性樹脂組成物>
活性能量線硬化性樹脂組成物為藉由照射活性能量線而進行聚合反應、發生硬化的樹脂組成物。本發明中所用的活性能量線硬化性樹脂組成物的特徵在於含有特定的聚合性成分(Z)及光聚合起始劑(D)。
(聚合性成分(Z))
本發明中所用的聚合性成分(Z)包含特定的多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)作為必需成分,視需要亦可含有特定的多官能(甲基)丙烯酸酯(B2)、特定的二官能(甲基)丙烯酸酯(C)、單官能單體(F)及其他聚合性成分。再者,於本發明中,(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。
(多官能(甲基)丙烯酸酯(A2))
本發明中所用的多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)為分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基、且每1個該(甲基)丙烯醯基的氧伸乙基數的平均值為5以上的化合物。再者,於本發明中,(甲基)丙烯醯基是指丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基。
多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)於分子內具有3個以上的 (甲基)丙烯醯基,藉此可防止受到摩擦時硬化物自身被深深地挖去而受到破壞的情況。
就進一步提高耐擦傷性的方面而言,多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)的(甲基)丙烯醯基的個數較佳為4個以上。然而,若(甲基)丙烯醯基的個數變多,則有多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)的黏度變高的傾向。因此,於要求活性能量線硬化性樹脂組成物的黏度低的情形時,該(甲基)丙烯醯基的個數較佳為9個以下,更佳為6個以下。
藉由多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)的每1個(甲基)丙烯醯基的氧伸乙基數的平均值為5以上,可對微細凹凸結構賦予充分的柔軟性。另外,若其平均值為16以下,則不存在氧伸乙基的重複部分的結晶性變得過高而多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)成為蠟(wax)狀或固體的情況,故作為液體而操作性良好,因而較佳。 因此,多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)的每1個(甲基)丙烯醯基的氧伸乙基數的平均值較佳為5~16,更佳為7~14,尤佳為8.37~14。
所謂多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)的每1個(甲基)丙烯醯基的氧伸乙基數的平均值,具代表性的是指與(甲基)丙烯醯基鍵結的聚氧伸乙基鏈中的氧伸乙基的個數(重複單元的個數)的平均值。
另外,亦可於氧伸乙基的重複的中途加入氧伸丙基或氧伸丁基等作為共聚合成分。於該情形時,可期待結晶性的改善等。然而,氧伸丙基或氧伸丁基由於具有甲基,故有妨礙親水性的傾 向。因此,不含氧伸丙基或氧伸丁基而僅含有氧伸乙基的化合物優異。
於多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)具有氧伸乙基相連而成的結構的情形時,可由下述通式(1)來表示:
[式中,X為有機殘基,R為氫原子或甲基,m≧5,n≧3]。
式(1)中,X為有機殘基,本發明中並無特別限定。X的代表例可列舉:具有3個以上的羥基的醇化合物的羥基部分經改質的情形時的殘基、具有3個以上的異氰酸酯基的聚異氰酸酯化合物的異氰酸酯基部分經改質的情形時的殘基。m相當於多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)中的每1個(甲基)丙烯醯基的氧伸乙基數的平均值。m為5以上,較佳為5~16,更佳為7~14,尤佳為8.37~14。n相當於多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)中的(甲基)丙烯醯基的個數。n為3以上,就提高耐擦傷性的方面而言,較佳為4以上。另一方面,於要求活性能量線硬化性樹脂組成物的低黏度化的情形時,n較佳為9以下,更佳為6以下。
多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)例如可藉由對具有3個以上的羥基的醇化合物進行環氧乙烷改質,並加以(甲基)丙烯酸酯化 而獲得。具有3個以上的羥基的醇化合物例如可列舉:季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、聚季戊四醇、甘油、二甘油、聚甘油、三羥甲基丙烷、二-三羥甲基丙烷、山梨糖醇、聚乙烯醇。
進而,多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)例如是藉由使單末端具有羥基的聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、與具有3個以上的異氰酸酯基的聚異氰酸酯化合物反應而獲得。該情形的多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)為多官能(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯。
作為於單末端具有羥基的聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯例如可列舉聚乙二醇(EO重複數≒10)單丙烯酸酯(日油公司製造,產品名布蘭莫(Blemmer)系列:AE-400)。具有3個以上的異氰酸酯基的聚異氰酸酯化合物例如可列舉:六亞甲基二異氰酸酯的縮二脲(旭化成化學公司製造,產品名杜拉特(Duranate)系列:24A-100)、六亞甲基二異氰酸酯的異三聚氰酸酯(杜拉特(Duranate)TPA-100)、六亞甲基二異氰酸酯的加合物(杜拉特(Duranate)P301-75E)。再者,「EO」為環氧乙烷的簡稱。
可用作多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)的市售品例如可列舉:新中村化學工業公司製造的產品名NK系列:AT-20E(三羥甲基丙烷EO改質(20莫耳)三丙烯酸酯)、A-GLY-20E(甘油EO改質(20莫耳)三丙烯酸酯)、ATM-35E(季戊四醇EO改質(35莫耳)四丙烯酸酯)、A-PG5054E(聚甘油(七聚物)EO改質(54莫耳)聚丙烯酸酯(九官能))。
進而可列舉東邦化學工業公司製造的產品名T-200EA (三羥甲基丙烷EO改質(45莫耳)三丙烯酸酯)、S-130EA(山梨糖醇EO改質(30莫耳)六丙烯酸酯)。
進而可列舉:第一工業製藥公司製造的產品名DPEA-30(二季戊四醇EO改質(30莫耳)六丙烯酸酯)、DPEA-36(二季戊四醇EO改質(36莫耳)六丙烯酸酯)、DPEA-42(二季戊四醇EO改質(42莫耳)六丙烯酸酯)、DPEA-48(二季戊四醇EO改質(48莫耳)六丙烯酸酯)、DPEA-54(二季戊四醇EO改質(54莫耳)六丙烯酸酯)、PETA-32(季戊四醇EO改質(32莫耳)四丙烯酸酯)、PETA-36(季戊四醇EO改質(36莫耳)四丙烯酸酯)、PETA-40(季戊四醇EO改質(40莫耳)四丙烯酸酯)、PETA-48(季戊四醇EO改質(48莫耳)四丙烯酸酯)、PETA-56(季戊四醇EO改質(56莫耳)四丙烯酸酯)。
以上化合物中,多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)尤佳為選自由(聚)季戊四醇、(聚)甘油及(二)三羥甲基丙烷的環氧乙烷改質(聚)(甲基)丙烯酸酯所組成的組群中的一種以上的化合物。
多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)可單獨使用一種,亦可併用兩種以上。
於聚合性成分(Z)100質量%中,多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)的比例較佳為25質量%~100質量%,更佳為50質量%~90質量%,尤佳為60質量%~86質量%。該些範圍的下限值於耐擦傷性的方面有意義。
(多官能(甲基)丙烯酸酯(B2))
本發明中視需要而使用的多官能(甲基)丙烯酸酯(B2)為於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基、且每1個該(甲基)丙烯醯基的氧伸乙基數的平均值小於5的多官能(甲基)丙烯酸酯。
使用多官能(甲基)丙烯酸酯(B2)的主要目的在於將活性能量線硬化性樹脂組成物的(甲基)丙烯酸當量調整至最適的範圍內。具體而言,藉由將(甲基)丙烯酸當量大的多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)與(甲基)丙烯酸當量小的多官能(甲基)丙烯酸酯(B2)組合,而將(甲基)丙烯酸當量調整至最適的範圍內。由於在多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)多的情況下可獲得耐擦傷性優異的微細凹凸結構,故多官能(甲基)丙烯酸酯(B2)較佳為(甲基)丙烯酸當量小,以使使其添加量較少便可,。
因此,多官能(甲基)丙烯酸酯(B2)較佳為(甲基)丙烯酸當量為320[g/eq]以下,更佳為200[g/eq]以下,進而佳為150[g/eq]以下。
多官能(甲基)丙烯酸酯(B2)的具體例可列舉:季戊四醇(三)四丙烯酸酯、二季戊四醇(五)六丙烯酸酯、三季戊四醇聚丙烯酸酯、聚季戊四醇聚丙烯酸酯、甘油三丙烯酸酯、二甘油四丙烯酸酯、聚甘油聚丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四丙烯酸酯、山梨糖醇六丙烯酸酯、異三聚氰酸EO改質三丙烯酸酯。進而可列舉該些化合物的環氧烷改質體、己內酯改質體。進而可列舉:使該些化合物中具有羥基的化合物(例如季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯)與六亞甲基二異氰 酸酯或異佛爾酮二異氰酸酯等異氰酸酯化合物反應而合成的丙烯酸胺基甲酸酯。
其中,就丙烯酸當量特別小的方面而言,較佳為季戊四醇(三)四丙烯酸酯、二季戊四醇(五)六丙烯酸酯、三季戊四醇聚丙烯酸酯。
可用作多官能(甲基)丙烯酸酯(B2)的市售品例如可列舉東亞合成公司製造的產品名亞羅尼斯(Aronix)系列:M-309、M-310、M-321、M-350、M-360、M-313、M-315、M-327、M-306、M-305、M-451、M-450、M-408、M-403、M-400、M-402、M-404、M-406、M-405。
進而可列舉新中村化學工業公司製造的產品名NK系列:A-9300、A-9300-1CL、A-GLY-9E、A-TMM-3、A-TMM-3L、A-TMM-3LM-N、A-TMPT、AD-TMP、A-TMMT、A-9550、A-DPH、A-PG5009E、A-PG5027E。
進而可列舉大阪有機化學工業公司製造的產品名威斯克(Biscoat)系列:V#295、V#300、V#400、V#360、V#3PA、V#3PMA、V#802、V#1000、V#1020、STAR-501。
進而可列舉日本化藥公司製造的產品名卡亞拉得(Kayarad)系列:GPO-303、TMPTA、THE-330、TPA-330、PET-30、T-1420(T)、RP-1040、DPHA、DPEA-12、DPHA-2C、D-310、DPCA-20、DPCA-60。
進而可列舉共榮社化學公司製造的產品名UA-306H、 UA-306T、UA-306I、UA-510H。
多官能單體(B2)可單獨使用一種,亦可併用兩種以上。
於聚合性成分(Z)100質量%中,多官能(甲基)丙烯酸酯(B2)的比例較佳為0質量%~75質量%,更佳為5質量%~40質量%,尤佳為10質量%~30質量%。藉由多官能(甲基)丙烯酸酯(B2)的比例為0質量%~75質量%,可將活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量調整至適當的範圍內。
(二官能(甲基)丙烯酸酯(C))
本發明中視需要使用的二官能丙烯酸酯(C)為分子內具有2個(甲基)丙烯醯基、且於分子內具有氧伸乙基相連而成的聚乙二醇結構的化合物。
二官能(甲基)丙烯酸酯(C)的每1個(甲基)丙烯醯基的氧伸乙基數的平均值較佳為4~12,更佳為5~8。若以聚乙二醇結構部分的平均分子量來表示該值,則較佳為350以上、1000以下,更佳為400以上、700以下。若聚乙二醇結構部分的分子量小,則硬化物變脆而微細凹凸結構的耐擦傷性降低,故平均分子量較佳為350以上。另外,若分子量大則進行結晶而操作性劣化,故聚乙二醇部分的平均分子量較佳為1000以下。
可用作二官能(甲基)丙烯酸酯(C)的市售品例如可列舉新中村化學工業公司製造的產品名NK系列:A-400、A-600、A-1000。進而可列舉第一工業製藥公司製造的產品名新前沿(New Frontier)系列:PE-400、PE-600。二官能單體(C)可單獨使用 一種,亦可併用兩種以上。
於聚合性成分(Z)100質量%中,二官能(甲基)丙烯酸酯(C)的比例較佳為0質量%~50質量%,更佳為0質量%~35質量%。二官能(甲基)丙烯酸酯(C)可於不損及多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)所發揮的耐擦傷性的範圍內添加。因此,於耐擦傷性的方面而言,添加量以少為佳。二官能(甲基)丙烯酸酯(C)發揮以下效果:調整活性能量線硬化性樹脂組成物的黏度,或確保與添加劑等的相容性,賦予與基材膜的密接性,賦予親水性等。藉由賦予親水性,可藉由濕布擦拭來去除指紋等油污。
(單官能單體(F))
作為單官能單體(F),可將與上述第一實施形態的單官能單體(F)相同的化合物以相同的調配量來使用。
(其他聚合性成分)
其他聚合性成分可使用與上述第一實施形態中的其他聚合性成分相同的化合物。
(光聚合起始劑(D))
光聚合起始劑(D)可使用與上述第一實施形態中的光聚合起始劑(D)相同的化合物。
(紫外線吸收劑及/或抗氧化劑(E))
紫外線吸收劑及/或抗氧化劑(E)可使用與上述第一實施形態中的紫外線吸收劑及/或抗氧化劑(E)相同的化合物。
(其他成分)
活性能量線硬化性樹脂組成物視需要亦可含有界面活性劑、脫模劑、潤滑劑、塑化劑、抗靜電劑、光穩定劑、阻燃劑、阻燃助劑、聚合抑制劑、填充劑、矽烷偶合劑、著色劑、強化劑、無機填料、耐衝擊性改質劑等公知的添加劑。
另外,本發明的活性能量線硬化性樹脂組成物視需要亦可含有不具有自由基聚合性官能基的低聚物或聚合物、微量的有機溶劑等。
對於以上所說明的構成本發明的活性能量線硬化性樹脂組成物而言,由於含有多官能(甲基)丙烯酸酯(A2),故耐擦傷性高。另外,若進一步以特定的比例含有二官能(甲基)丙烯酸酯(C),則可進一步形成指紋擦去性良好的硬化物。
活性能量線硬化性樹脂組成物可藉由調整其丙烯酸當量來將硬化物的硬度調整至適當的範圍內。
所謂丙烯酸當量,是指每1個(甲基)丙烯醯基的分子量所表示的數值。丙烯酸當量越小,則(甲基)丙烯醯基的濃度越變大,可獲得交聯密度高的硬化物。反之,丙烯酸當量越大,則(甲基)丙烯醯基的濃度越變小,可獲得交聯密度低的硬化物。
關於活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量,若使用各成分的重量比[質量%]W1、W2、W3、…與各成分的分子量[g/mol]M1、M2、M3、…、各成分的官能基數F1、F2、F3、…,則是由以下的式1來表示。
丙烯酸當量[g/eq]=1/(F1×W1/M1/100+F2×W2/M2/100+…)(式1)
活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量較佳為220[g/eq]以上,更佳為220[g/eq]~320[g/eq],尤佳為230[g/eq]~300[g/eq]。
形成微細凹凸結構的活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量若過小,則交聯密度高,故凸起變脆而容易彎折或被切削,因此耐擦傷性降低。
另一方面,若丙烯酸當量過大,則交聯密度低,因此硬化物自身變得過於柔軟,硬化物被大幅度地切削或挖去至並無微細凹凸結構的部分為止而受到損傷,耐擦傷性降低,或某些微細凹凸結構的情況下凸起(凸部)彼此容易接觸而合而為一。若凸起彼此合而為一,則有時使光散射而可見表面白濁。
就容易流入至壓模表面的微細凹凸結構中的方面而言,活性能量線硬化性樹脂組成物的黏度較佳為不過高。因此,活性能量線硬化性樹脂組成物的25℃下的由旋轉式B型黏度計所得的黏度較佳為10000mPa.s以下,更佳為5000mPa.s以下,進而佳為2000mPa.s以下。
其中,即便活性能量線硬化性樹脂組成物的黏度超過10000mPa.s,亦只要可於與壓模接觸時預先加溫而降低黏度,則並無特別問題。於該情形時,活性能量線硬化性樹脂組成物的於 70℃下的由旋轉式B型黏度計所得的黏度較佳為5000mPa.s以下,更佳為2000mPa.s以下。
若黏度太過低,則有時亦濡濕擴散而妨礙製造。若為10mPa.s以上則較佳。
<光透射性物品>
本發明的光透射性物品於光透射性基材的至少一個表面上具備含有活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的微細凹凸結構層。微細凹凸結構層例如可藉由以下方式來形成:使活性能量線硬化性樹脂組成物與表面上具有微細凹凸結構的反轉結構的壓模接觸、硬化。
圖1為示意性地表示本發明的具備微細凹凸結構層的光透射性物品的一例的剖面圖。該光透射性物品40具有光透射性基材42、及形成於光透射性基材42的表面上的微細凹凸結構層44。
光透射性基材42較佳為使光透射的成形體。基材的材料可使用上文所述的第一實施形態中的材料。
光透射性基材42可為射出成形體,亦可為擠出成形體,亦可為澆鑄成形體。基材42的形狀可為片狀,亦可為膜狀。光透射性基材42的表面亦可實施塗佈處理、電暈處理等,以改良密接性、抗靜電性、耐擦傷性、耐候性等。
微細凹凸結構層44為包含活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的膜,於表面上具有微細凹凸結構。
使用後述的陽極氧化氧化鋁的壓模的情形時的光透射 性物品40的表面的微細凹凸結構是轉印陽極氧化氧化鋁的表面的微細凹凸結構而形成,具有包含活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的多個凸部46。
微細凹凸結構較佳為大致圓錐形狀、棱錐形狀等的凸起(凸部)多個排列而成的所謂蛾眼結構。已知凸起間的間隔為可見光的波長以下的蛾眼結構藉由折射率自空氣的折射率向材料的折射率連續地增大,而成為有效的抗反射手段。對於該被稱為蛾眼結構的微細凹凸結構而言,為了兼具抗反射性能與耐擦傷性,重要的是將凸部間的平均間隔與凸部的高度之平衡即凹凸的縱橫比(凸部的高度/凸部間的平均間隔)設定於特定的範圍內。
凸部間的平均間隔較佳為可見光的波長以下,即400nm以下。若平均間隔超過400nm,則引起可見光的散射,故不適於抗反射物品等的光學用途。凸部間的平均間隔更佳為120nm~380nm,尤佳為140nm~260nm以下,最佳為160nm~200nm。
凸部間的平均間隔為藉由電子顯微鏡觀察對鄰接的凸部間的間隔(自凸部的中心起至鄰接凸部的中心為止的距離)測定50點,並將該等的測定值平均所得的值。
於凸部間的平均間隔在上述較佳範圍內的情形時,抗反射性能大致是由凸起(凸部)的高度來決定。為了獲得良好的抗反射性能,凸部的平均高度較佳為100nm~300nm,更佳為120nm~250nm,尤佳為150nm~220nm,最佳為160nm~190nm。若凸部的高度為100nm以上,則反射率充分變低,且反射率的波長 相依性小。若凸部的高度為300nm以下,則容易抑制凹凸彼此接觸而合而為一的現象。
凸部的高度為藉由電子顯微鏡以30000倍的倍率觀察時,對凸部的最頂部、與存在於凸部間的凹部的最底部之間的距離進行測定所得的值。
凸部的縱橫比(凸部的高度/凸部間的平均間隔)較佳為0.7~1.4,更佳為0.8~1.2。若凸部的縱橫比為0.7以上,則反射率充分變低。若凸部的縱橫比為1.4以下,則凸部的耐擦傷性變良好。
凸部的形狀較佳為與高度方向正交的方向的凸部剖面積自最表面起於深度方向上連續地增加的形狀,即,凸部的高度方向的剖面形狀為三角形、梯形、吊鐘形等形狀。
微細凹凸結構層44的折射率與基材42的折射率之差較佳為0.2以下,更佳為0.1以下,尤佳為0.05以下。若折射率差為0.2以下,則可抑制微細凹凸結構層44與基材42的界面上的反射。
(壓模)
壓模及其製作方法可與上述第一實施形態相同。
(光透射性物品的製造方法)
光透射性物品的製造方法可與上述第一實施形態相同。
(用途)
本發明的用途可與上述第一實施形態相同。
[第三實施形態]
本發明者等人著眼於由具有(甲基)丙烯醯基結構的多官能(甲基)丙烯酸系單體的交聯結構所得的硬化物的耐擦傷性、與具有聚伸烷基二醇結構的(甲基)丙烯酸系單體的硬化物的柔軟性,發現使用以特定的比率含有該些兩種結構的單體於賦予耐擦傷性及柔軟性的方面非常有效,從而完成了本發明。
即,本發明是一種光透射性物品,其具有光透射性基材、及形成於該光透射性基材的至少一個表面上且包含活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的微細凹凸結構層,並且上述活性能量線硬化性樹脂組成物所含有的聚合性化合物包含四官能以上的(甲基)丙烯酸系單體(A3),該四官能以上的(甲基)丙烯酸系單體(A3)的由下述式(a)所表示的(甲基)丙烯酸系單體(A3)中的聚伸烷基二醇含有率(PAG)為50%以上、87%以下。
PAG=M(PAG)/[M(ACR)+M(PAG)]×100 (a)
PAG:聚伸烷基二醇含有率(%),M(PAG):聚伸烷基二醇結構部分的合計化學式量,M(ACR):(甲基)丙烯醯基結構部分的合計化學式量
另外,本發明是一種使用上述光透射性物品的抗反射物品。
根據本發明,藉由使用以特定的比率含有(甲基)丙烯醯 基結構與聚伸烷基二醇結構的特定的單體,可提供耐擦傷性及抗反射性能優異的具有微細凹凸結構層的光透射性物品。該光透射性物品於整個可見光的波長範圍內反射率低,且於鋼絲絨(steel wool)擦傷試驗中亦顯示出不會被損傷般的優異的耐擦傷性,故作為必需該性能的抗反射物品而於例如各種顯示器、透鏡、窗材等的用途中非常有用。
本發明中所用的活性能量線硬化性樹脂組成物例如為藉由照射電子束、紫外線、可見光線等活性能量線而進行聚合反應、發生硬化的樹脂組成物。該活性能量線硬化性樹脂組成物包含具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等自由基聚合性部位的聚合性化合物、引發聚合反應的聚合起始劑、及其他視需要的有機溶劑或界面活性劑等助劑。
活性能量線硬化性樹脂組成物所含有的聚合性化合物為於分子中具有一個以上的聚伸烷基二醇結構的四官能以上的(甲基)丙烯酸系單體(A3),(甲基)丙烯酸系單體(A3)中的聚伸烷基二醇含有率(PAG)為50%以上、87%以下。
此處,所謂聚伸烷基二醇結構,是指包含伸烷基二醇的分子結構的重複單元(-R-O-)[R為伸烷基]的分子結構(-R-O-)n [n為平均重複數]。聚伸烷基二醇結構(-R-O-)n 可為多個單一種類的重複單元連結而成的分子結構,亦可為多種重複單元混合存在並連結而成的分子結構。所謂平均重複數,是指於一分子中存在多個重複數不同的聚伸烷基二醇結構的情形時,將該重複數的合計值 除以聚伸烷基二醇結構的個數所得的平均值。
該(甲基)丙烯酸系單體(A3)為具有至少一個以上的(甲基)丙烯醯基、且於一分子中具有4個以上(甲基)丙烯醯基或乙烯基等自由基聚合性部位的化合物。尤佳為分子中的所有聚合性部位為(甲基)丙烯醯基,即具有4個以上的(甲基)丙烯醯基。再者,所謂「(甲基)丙烯醯基」,是指「丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基」,所謂「(甲基)丙烯酸酯」,是指「丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯」。
對於(甲基)丙烯酸系單體(A3)而言,上述式(a)所表示的PAG為50%以上、87%以下。進而,PAG較佳為55%以上、83%以下,更佳為70%以上、80%以下。藉由將PAG設定為50%以上,可表現出高的耐擦傷性。另外,若PAG為87%以下,則可良好地維持光透射性物品的由交聯密度所得的馬氏硬度(Martens' hardness)及彈性模量,進而可防止由凹凸結構的凸起彼此靠近的現象所致的白濁,提高光透射性。
(甲基)丙烯酸系單體(A3)較佳為使用所謂(甲基)丙烯酸系單體的環氧烷(alkylene oxide)改質化合物,即,(甲基)丙烯醯基經由聚伸烷基二醇結構而鍵結於具有4個以上的羥基的多元醇化合物的該羥基部分上而成的化合物。另外,亦可使用(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯的環氧烷改質化合物、環氧(甲基)丙烯酸酯的環氧烷改質化合物。(甲基)丙烯酸系單體(A3)可單獨使用一種,亦可併用兩種以上。尤其就容易藉由濕布擦拭來去除所附著的污垢的方面而言,較佳為環氧乙烷改質化合物(具有聚乙二醇結構 的化合物)。
對於(甲基)丙烯酸系單體(A3)的伸烷基二醇的分子結構的單元(-R-O-)而言,就賦予聚伸烷基二醇結構的柔軟性的方面而言,重複數較佳為5以上。就兼具交聯密度與柔軟性的觀點而言,重複數較佳為2~4。
四官能的(甲基)丙烯酸系單體(A3)的較佳具體例可列舉:季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯的EO改質化合物、PO改質化合物、EO-PO改質化合物、環氧丁烷改質化合物,二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯的EO改質化合物、PO改質化合物、EO-PO改質化合物、環氧丁烷改質化合物。五官能以上的(甲基)丙烯酸系單體(A3)的較佳具體例可列舉:二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯的EO改質化合物、PO改質化合物、EO-PO改質化合物、環氧丁烷改質化合物。再者,所謂「EO」是指「環氧乙烷」,所謂「PO」是指「環氧丙烷」。另外,所謂「EO改質化合物」,是指具有環氧乙烷單元的嵌段結構(-CH2 -CH2 -O-)n 的化合物,所謂「PO改質化合物」,是指具有環氧丙烷單元的嵌段結構(-CH2 -CH(CH3 )-O-)n 的化合物。
(甲基)丙烯酸系單體(A3)尤佳為下述式(1)所表示的化合物(二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯的EO改質化合物)及/或下述式(2)所表示的化合物(季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯的EO改質化合物)。
[式(1)中,R1 ~R6 為H或CH3 ,l~q為滿足12≦l+m+n+o+p+q≦48的整數]
[式(2)中,R7 ~R10 為H或CH3 ,r~u為滿足8≦r+s+t+u≦32的整數]
活性能量線硬化性樹脂組成物較佳為含有以上所說明的(甲基)丙烯酸系單體(A3),並且更含有(甲基)丙烯酸系單體(A3)以外的三官能以上的(甲基)丙烯酸系單體(B3)。藉由併用該(甲基)丙烯酸系單體(B3),耐擦傷性進一步提高。
該(甲基)丙烯酸系單體(B3)為(甲基)丙烯酸系單體(A3)以外的化合物,且為具有至少一個以上的(甲基)丙烯醯基、且一分子中具有3個以上的(甲基)丙烯醯基或乙烯基等自由基聚合性部位的化合物。尤佳為分子中的所有聚合性部位為(甲基)丙烯醯基, 即具有3個以上的(甲基)丙烯醯基。另外,較佳為三官能~九官能的(甲基)丙烯酸系單體。
(甲基)丙烯酸系單體(B3)較佳為使用(甲基)丙烯醯基鍵結於具有3個以上的羥基的多元醇化合物的該羥基部分上而成的(甲基)丙烯酸系單體。另外,亦可使用(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯。(甲基)丙烯酸系單體(B3)可單獨使用一種,亦可併用兩種以上。另外,亦可使用(甲基)丙烯酸系單體的環氧烷改質化合物。就良好地維持光透射性物品的由交聯密度所得的馬氏硬度及彈性模量的方面,進而就防止由凹凸結構的凸起彼此靠近的現象所致的白濁、提高光透射性的方面而言,較佳為(甲基)丙烯酸系單體(B3)的伸烷基二醇的分子結構的單元(-R-O-)不形成重複結構,即重複數為1。另一方面,就賦予聚伸烷基二醇結構的柔軟性的方面而言,(甲基)丙烯酸系單體(B3)的伸烷基二醇結構的平均重複數較佳為5以上。(甲基)丙烯酸系單體(B3)可單獨使用一種,亦可併用兩種以上。
三官能的(甲基)丙烯酸系單體(B3)的具體例可列舉:三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸三(甲基)丙烯酸酯。四官能的(甲基)丙烯酸系單體(B3)的具體例可列舉:季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯。五官能以上的(甲基)丙烯酸系單體(B3)的具體例可列舉二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。另外,亦可使用(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯,該(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯是使多元醇化合 物、異氰酸酯化合物及具有羥基的(甲基)丙烯酸酯反應所得。另外,亦可使用使三羥甲基乙烷、琥珀酸及丙烯酸以2/1/4的莫耳比反應所得的混合物。其中,就聚合反應性的方面而言,較佳為三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯及該等的EO改質化合物。
活性能量線硬化性樹脂組成物所含有的聚合性化合物100質量份中,(甲基)丙烯酸系單體(A3)的含量較佳為50質量份以上、100質量份以下,更佳為50質量份以上、95質量份以下,尤佳為55質量份以上、80質量份以下,最佳為60質量份以上、75質量份以下。若為50質量份以上,則可使光透射性物品的耐擦傷性及透明性良好。
於併用(甲基)丙烯酸系單體(B3)的情形時,活性能量線硬化性樹脂組成物所含的聚合性化合物100質量份中,(甲基)丙烯酸系單體(B3)的含量較佳為5質量份以上、50質量份以下,更佳為20質量份以上、45質量份以下,尤佳為25質量份以上、40質量份以下。若為5質量份以上,則可獲得由(甲基)丙烯酸系單體(B3)自身的硬塗(hard coating)性所引起的耐擦傷性的提高效果或聚伸烷基二醇結構的柔軟性。另外,若為50質量份以下,則維持硬化物的韌性,可防止由硬度變得過高導致的自壓模的剝離不良、或凹凸部分的凸起彎折而反射率降低的情況。
活性能量線硬化性樹脂組成物所含有的聚合性化合物 實質上包含上述(甲基)丙烯酸系單體(A3)、或(甲基)丙烯酸系單體(A3)及(甲基)丙烯酸系單體(B3)。此處,所謂實質上包含,並非是指完全不含(甲基)丙烯酸系單體(A3)及/或(甲基)丙烯酸系單體(B3)以外的成分,亦可含有幾質量份左右的其他單體成分。較佳為單獨使用(甲基)丙烯酸系單體(A3)或僅使用(甲基)丙烯酸系單體(A3)及(甲基)丙烯酸系單體(B3)兩者。
活性能量線硬化性樹脂組成物中,通常添加聚合起始劑,該聚合起始劑藉由照射活性能量線而開裂,產生引發聚合反應的自由基。活性能量線例如可列舉電子束、紫外線、可見光線。就裝置成本或生產性的方面而言,通常利用紫外線。
該聚合起始劑的種類並無特別限制。其具體例可列舉:二苯甲酮、4,4-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基二苯甲酮、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮,第三丁基蒽醌、2-乙基蒽醌,2,4-二乙基噻噸酮、異丙基噻噸酮、2,4-二氯噻噸酮等噻噸酮類,二乙氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、苯偶醯二甲基縮酮、1-羥基環己基-苯基酮、2-甲基-2-嗎啉基(4-硫代甲基苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮等苯乙酮類,安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚等安息香醚類,2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物等醯基膦氧化物類,苯甲醯基甲酸甲酯、1,7-雙吖啶基庚烷、9-苯基吖啶。
聚合起始劑可單獨使用一種,亦可併用兩種以上。尤佳為併用吸收波長不同的兩種以上。另外,視需要亦可併用過硫酸鉀、過硫酸銨等過硫酸鹽,過氧化苯甲醯等過氧化物,偶氮系起始劑等熱聚合起始劑。
相對於聚合性化合物100質量份,聚合起始劑的比例較佳為0.01質量份以上、10質量份以下,更佳為0.1質量份以上、5質量份以下,尤佳為0.2質量份以上、3質量份以下。若為0.01質量份以上,則可使樹脂組成物的硬化性及由該硬化性所引起的硬化物的機械物性良好。若為10質量份以下,則可防止殘存的未反應的起始劑對硬化物的彈性模量及耐擦傷性的影響或著色。
活性能量線硬化性樹脂組成物中,視需要亦可調配脫模劑、潤滑劑、塑化劑、抗氧化劑、抗靜電劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、阻燃劑、阻燃助劑、聚合抑制劑、填充劑、矽烷偶合劑、著色劑、強化劑、無機填料、耐衝擊性改質劑等公知的添加劑。
混合聚合性化合物與聚合起始劑、及視需要的添加劑時的混合條件並無特別限定。例如攪拌時間只要設定為1小時以上、10小時以下即可,攪拌溫度只要設定為室溫以上、80℃以下即可。
本發明的光透射性物品的微細凹凸結構層的馬氏硬度較佳為15N/mm2 以上。更佳為20N/mm2 以上,進而佳為30N/mm2 以上。若為15N/mm2 以上,則難以引起微細凹凸結構的凸起彼此靠近的現象,故光透射性物品表面看不到白化或白濁。
對於本發明的光透射性物品而言,較佳為於溫度23℃、 濕度50%Rh的環境下使用20mm見方的壓頭及鋼絲絨#0000,於負載25gf/cm2 的條件下進行對光透射性物品往返摩擦10次的耐擦傷性試驗的情形時,所產生的傷痕為0條~10條以內。若為該範圍,則可充分具備耐擦傷性。
本發明的光透射性物品於光透射性基材的至少一個表面上形成有包含以上所說明的活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的微細凹凸結構層。
光透射性基材只要使光透射即可,其材質並無特別限定。光透射性基材的材質例如可列舉:甲基丙烯酸甲酯(共)聚合物、聚碳酸酯、苯乙烯(共)聚合物、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物、二乙酸纖維素、三乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、聚酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯基縮醛、聚醚酮、聚胺基甲酸酯、玻璃。活性能量線硬化性樹脂組成物可單獨硬化,但通常是於光透射性基材上硬化,與光透射性基材一體化而使用。
基材的形狀或製造方法並無特別限定。例如可使用射出成形體、擠出成形體、澆鑄成形體。另外,形狀亦可為片狀、膜狀、其他立體形狀。進而,亦可對基材的表面實施塗佈或電暈處理,以改良密接性、抗靜電性、耐擦傷性、耐候性等特性。尤其為了使活性能量線硬化性樹脂組成物與光透射性基材的密接性良好,較佳為使用於表面設有易黏接層的光透射性基材。
圖4為示意性地表示本發明的光透射性物品的一例的剖 面圖。該圖中所示的光透射性物品具有光透射性基材50及微細凹凸結構層51,該微細凹凸結構層51是形成於上述光透射性基材50的上側的表面上,且包含活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物。於微細凹凸結構層51中,形成有尺寸為可見光的波長以下的微細的凸部52與凹部53交替重複而成的奈米凹凸結構。所謂可見光,通常是指波長為380nm~780nm的光,所謂可見光波長以下的尺寸,是指相鄰凸部52或凹部53的間隔(圖中的凸起寬度55)為380nm以下。凹凸的高度54並無特別限定,就抗反射特性的方面而言,較佳為60nm以上,更佳為90nm以上。該微細凹凸結構層51只要形成於光透射性基材50的單面或兩面的全體或一部上即可。
微細凹凸結構層的凹凸形狀並無特別限定,例如為了使折射率自空氣起連續地增大至材料表面為止而獲得兼具低反射率與低波長相依性的抗反射功能,較佳為圓錐狀、棱錐狀、吊鐘狀等經切斷時的剖面積於膜面中的佔有率連續地增大的結構。另外,亦可使更微細的凸起合而為一而形成上述微細凹凸結構層。
形成微細凹凸結構層的方法例如較佳為以下方法:於具有微細凹凸結構的壓模與光透射性基材之間配置活性能量線硬化性樹脂組成物,藉由活性能量線照射使其硬化,自其硬化物層剝離壓模,由此獲得轉印有微細凹凸結構的硬化物層(微細凹凸結構層)。
以上方法中使用的壓模的製造方法並無特別限定,例如 可使用電子束微影法、雷射光干涉法、陽極氧化法等。例如藉由在適當的支撐基板上塗佈光阻膜,並使用紫外線雷射、電子束、X射線等光進行曝光、顯影,可製作具有微細凹凸結構層的模具。亦可將該模具直接用作壓模。另外,亦可經由光阻層藉由乾式蝕刻而選擇性地蝕刻支撐基板,並將抗蝕劑(resist)層去除,由此於支撐基板表面上直接形成微細凹凸結構而加以使用。
亦可將陽極氧化多孔氧化鋁用作壓模。例如亦可將草酸、硫酸、磷酸等作為電解液,將鋁於既定的電壓下陽極氧化而形成20nm~200nm的孔隙結構,並將其用作壓模。該方法中,已知藉由將高純度鋁於恆定電壓下長時間陽極氧化,其後暫且去除氧化皮膜並再次陽極氧化,而以自組的方式形成規則性非常高的孔隙。進而於第二次進行陽極氧化的步驟中,將陽極氧化處理與孔徑擴大處理組合,由此亦可形成剖面為三角形或吊鐘形而非矩形的微細凹凸結構。
另外,亦可由具有微細凹凸結構的原模利用電鑄法等來製作複製模具,並將其用作壓模。
壓模的形狀並無特別限定,可為平板狀亦可為輥形狀。尤其輥形狀的壓模可連續地轉印微細凹凸結構層,故就生產性的方面而言較佳。
聚合、硬化時所用的活性能量線例如可列舉電子束、紫外線、可見光線。尤佳為紫外線。照射紫外線的燈例如可列舉:高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、富信(Fusion)公司製造的無電極紫 外線(Ultraviolet,UV)燈(各種燈泡)。紫外線照射量只要根據活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合起始劑的吸收波長或添加量來適當決定即可。若硬化不充分,則有時微細凹凸結構層的耐擦傷性受損。另外,若照射量過多,則有時引起硬化物的著色或光透射性基材的劣化。尤佳為以400mJ/cm2 ~4000mJ/cm2 的累計光量來硬化,更佳為以400mJ/cm2 ~2000mJ/cm2 的累計光量來硬化。照射強度亦無特別限制,較佳為抑制為不導致光透射性基材的劣化等的程度的輸出功率。
本發明的光透射性成形品例如可用於抗反射物品(抗反射薄膜、抗反射膜、抗反射片及其他抗反射構件)、光波導、凸紋全息圖、透鏡、偏光分離元件等光學物品或細胞培養片的用途中。特別適於抗反射物品的用途。抗反射物品例如可列舉:液晶顯示裝置、電漿顯示器面板、電致發光顯示器、冷陰極管顯示裝置等圖像顯示裝置、透鏡、櫥窗、眼鏡片等的表面上使用的抗反射薄膜、抗反射膜、抗反射片。於用於圖像顯示裝置中的情形時,可於最表面上貼附抗反射膜,亦可作為成為最表面的構件而成形,亦可作為前面板而成形。
[第四實施形態]
根據本發明,提供一種表面上具有微細凹凸結構的物品,其特徵在於:微細凹凸結構的相鄰凸部彼此的間隔為可見光的波長以下,物品為包含活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的膜狀的形狀,且不具有支撐體。
根據本發明的其他較佳實施方式,提供上述表面上具有微細凹凸結構的物品,其特徵在於:上述物品的厚度為40μm以上、500μm以下。
根據本發明的其他較佳實施方式,提供一種表面上具有微細凹凸結構的物品,其特徵在於:上述活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量為200以上。
根據本發明的其他較佳實施方式,提供一種表面上具有微細凹凸結構的物品,其為抗反射物品。
根據本發明的其他較佳實施方式,提供一種表面上具有微細凹凸結構的物品的製造方法,其特徵在於包括下述(步驟1)~(步驟3)。
(步驟1)於在至少一個表面上具有上述微細凹凸結構的反轉結構的壓模上配置活性能量線硬化性樹脂組成物的步驟
(步驟2)照射活性能量線而使上述活性能量線硬化性樹脂組成物硬化的步驟
(步驟3)將上述活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物自上述壓模剝離的步驟。
根據本發明的其他較佳實施方式,提供一種表面上具有微細凹凸結構的物品的製造方法,其特徵在於:其中上述(步驟1)中的壓模為輥狀。
本發明的表面上具有微細凹凸結構的物品的表面硬度高,且能以低成本來製造。
<表面上具有微細凹凸的物品的構成>
本發明的表面上具有微細凹凸結構的物品為膜狀,不具有支撐體,可單獨取出。
所謂可單獨取出,是指藉由活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物所形成的表面上具有微細凹凸結構的物品為可於並無其他支撐體的情況下進行操作的狀態。具體而言,例如根據以下情況等可判斷能單獨進行操作:確認將本發明的表面上具有微細凹凸結構的物品捲繞於剖面為直徑10mm左右的圓的圓柱狀棒上時,並未發生破裂等。
於本發明中,表面上具有微細凹凸結構的物品可單獨取出,故無需由光透射性基體等所構成的支撐體。因此,不存在由具有微細凹凸結構的活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物與支撐體的界面反射所引起的問題。另外,可更廉價地獲得表面上具有微細凹凸結構的物品。進而,活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的光學等向性優異,具有高的光透射性,故可獲得適於影像顯示裝置等的物品。
本發明的物品可為單層,亦可為多層。若為單層,則於物品內部不會引起由材料間的折射率差所引起的抗反射性能的降低,故成為具有高的光透射性的物品。
於多層的情形時,多個層均包含活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物。多層例如可藉由將多個未硬化狀態的活性能量線硬化性樹脂組成物積層後使其硬化而獲得。藉由以未硬化的狀 態積層,可使各層間的接觸部相容而確保密接性,並且將界面反射抑制於最小限度。
藉由活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物所形成的表面上具有微細凹凸結構的物品可經由黏著劑等而貼附於對象物。
另外,本發明的表面上具有微細凹凸的物品的厚度較佳為40μm以上、500μm以下,更佳為60μm以上、250μm以下。若厚度為40μm以上、500μm以下,則作為膜的操作性良好。若厚度較40μm更厚,則物品不易破損,若厚度較500μm更薄,則物品不易破裂。另外,膜厚若過厚,則就材料成本的方面而言亦欠佳。
<活性能量線硬化性樹脂組成物>
於本說明書中,所謂自由基聚合性官能基,是指(甲基)丙烯醯基、乙烯基等。另外,(甲基)丙烯醯基是指丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基。另外,(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。另外,活性能量線是指可見光線、紫外線、電子束、電漿、熱線(紅外線等)等。
所謂活性能量線硬化性樹脂組成物,是指藉由照射活性能量線而進行聚合反應、發生硬化的樹脂組成物。
本發明中可較佳地使用的活性能量線硬化性樹脂組成物以聚合性成分(Z)及光聚合起始劑(D)作為必需成分,視需要而含有紫外線吸收劑及/或抗氧化劑(E)等其他成分等。
(聚合性成分(Z))
活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分(Z)可列舉具有自由基聚合性基的單體或具有陽離子聚合性基的單體。其中,就聚合速度的方面而言,較佳為具有自由基聚合性基的單體。自由基聚合性基可列舉(甲基)丙烯醯基、乙烯基醚基、乙烯基等,就反應性高的方面或材料的選擇範圍廣的方面而言,較佳為(甲基)丙烯醯基。
此處,所謂丙烯酸當量,是指每1g活性能量線硬化性樹脂組成物中所含的(甲基)丙烯醯基數所表示的數值。丙烯酸當量越小,則(甲基)丙烯醯基的濃度越變大,可獲得交聯密度高的硬化物。反之,丙烯酸當量越大,則(甲基)丙烯醯基的濃度越變小,可獲得交聯密度低的硬化物。
活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量較佳為200以上。進而佳為200以上、400以下,尤佳為220以上、300以下。
形成微細凹凸結構的活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量若過小,則硬化收縮率變大,導致硬化物捲曲(curl),或由所產生的變形導致發生破裂。因此,硬化物的厚膜化變困難。另外,由於交聯密度高,故表面的微細凹凸結構的凸起變脆而容易彎折,耐擦傷性降低。
另一方面,若丙烯酸當量過大,則交聯密度低,因此硬化物自身變得過於柔軟,膜的硬度變低。另外,於耐擦傷性的方面而言,硬化物容易被大幅度地切削或挖去至表面上所具有的微 細凹凸結構不存在的部分為止。
然而,於在活性能量線硬化性樹脂組成物中使用聚合性成分(Z)以外的黏合聚合物或塑化劑等的情形時,必須根據該些成分的特性來使丙烯酸當量最適化,有時丙烯酸當量的最適範圍亦在上述較佳範圍外。
聚合性成分(Z)只要滿足上述丙烯酸當量,則並無特別限定,例如可列舉:下述特定的多官能單體(A)、特定的多官能單體(B)、特定的二官能單體(C)及單官能單體(F)的組合。
(多官能單體(A))
多官能單體(A)為於分子內具有3個以上的自由基聚合性官能基、且每1個該官能基的分子量小於110的化合物。
每1個官能基的分子量為將多官能單體(A)的分子量除以一分子中的自由基聚合性官能基的個數所得的值。
例如作為具代表性的三官能單體的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯的情況下,其分子量為296,自由基聚合性官能基的個數為3,故每1個官能基的分子量成為小於110的98.67。
藉由使用分子內具有3個以上的自由基聚合性官能基、且每1個該官能基的分子量小於110的多官能單體,而發揮確保聚合性成分(Z)總體的交聯密度、提高硬化物的彈性模量或硬度的作用。多官能單體(A)的每1個官能基的分子量較佳為小於110,更佳為小於100。
多官能單體(A)可列舉每1個官能基的分子量小於110 的三官能以上的(甲基)丙烯酸酯。就利用活性能量線進行硬化時的硬化速度的方面而言,丙烯酸酯優於甲基丙烯酸酯,故較佳為使用丙烯酸酯。
可用作多官能單體(A)的丙烯酸酯例如可列舉:季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四丙烯酸酯等。
多官能單體(A)可單獨使用一種,亦可併用兩種以上。
於聚合性成分(Z)100質量%中,多官能單體(A)的比例為0質量%~30質量%,較佳為0質量%~20質量%,亦可不使用該多官能單體(A)。藉由多官能單體(A)的比例為30質量%以下,可將活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量調整至適當的範圍內。
(多官能單體(B))
多官能單體(B)為於分子內具有3個以上的自由基聚合性官能基、且每1個該官能基的分子量為110以上的化合物。
該多官能單體(B)藉由與其他多官能單體的平衡而將活性能量線硬化物的丙烯酸當量調整至適當的範圍內。
多官能單體(B)的每1個官能基的分子量較佳為110以上,更佳為150以上。另外,分子內的自由基聚合性官能基數較佳為三官能以上,更佳為四官能以上,進而佳為五官能以上。
多官能單體(B)於分子內具有氧伸乙基的情況下,容 易將活性能量線硬化性樹脂組成物所含的氧伸乙基的量調整至適當的範圍內。
可用作多官能單體(B)的丙烯酸酯例如可列舉:烷氧基化季戊四醇三丙烯酸酯、烷氧基化異三聚氰酸三丙烯酸酯、烷氧基化甘油三丙烯酸酯、烷氧基化季戊四醇四丙烯酸酯、烷氧基化二季戊四醇五丙烯酸酯、烷氧基化二季戊四醇六丙烯酸酯、己內酯改質季戊四醇三丙烯酸酯、己內酯改質異三聚氰酸三丙烯酸酯、己內酯改質甘油三丙烯酸酯、己內酯改質季戊四醇四丙烯酸酯、己內酯改質二季戊四醇五丙烯酸酯、己內酯改質二季戊四醇六丙烯酸酯等。
此處,烷氧基化可列舉乙氧基化、丁氧基化等。其中,就可賦予氧伸乙基的方面而言,較佳為乙氧基化。
多官能單體(B)可單獨使用一種,亦可併用兩種以上。
於聚合性成分(Z)100質量%,多官能單體(B)的比例為15質量%~90質量%,更佳為25質量%~65質量%。藉由多官能單體(B)的比例為15質量%~90質量%,可將活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量與氧伸乙基的比例調整至適當的範圍內。
(二官能單體(C))
特定的二官能單體(C)可較佳地使用聚乙二醇二丙烯酸酯。聚乙二醇二丙烯酸酯為於分子內具有2個丙烯醯基、且於分子內具有氧伸乙基相連而成的聚乙二醇的化合物。
聚乙二醇結構部分的分子量較佳為300以上,更佳為400以上。另外,若聚乙二醇結構部分的分子量大,則進行結晶而操作性降低,故聚乙二醇部分的分子量較佳為1000以下。
於聚合性成分(Z)100質量%中,二官能單體(C)的比例為0質量%~85質量%,更佳為35質量%~75質量%。於使用聚乙二醇二丙烯酸酯作為二官能單體(C)的情形時,藉由其比例為0質量%~85質量%,可將活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量與氧伸乙基的比例調整至適當的範圍內。
另外,藉由以上述比例來使用聚乙二醇二丙烯酸酯,可使微細凹凸表面充分地親水化,可藉由濕布擦拭來去除指紋等油污。
(單官能單體(F))
作為單官能單體(F),可將與上述第一實施形態中的單官能單體(F)相同的化合物以相同的調配量來使用。
(其他聚合性成分)
聚合性成分(Z)亦可於不損及本發明效果的範圍內,含有多官能單體(A)、多官能單體(B)、二官能單體(C)及單官能單體(F)以外的其他聚合性成分。其他聚合性成分可列舉:多官能單體(A)、多官能單體(B)、二官能單體(C)及單官能單體(F)以外的單體,具有自由基聚合性官能基的低聚物或聚合物等。
於聚合性成分(Z)100質量%中,其他聚合性成分的比 例較佳為30質量%以下,進而佳為20質量%以下,尤佳為10質量%以下。即,於聚合性成分(Z)100質量%中,多官能單體(A)、多官能單體(B)、二官能單體(C)及單官能單體(F)的合計量較佳為70質量%以上。
(光聚合起始劑(D))
作為光聚合起始劑(D),可將與上述第一實施形態中的光聚合起始劑(D)相同的化合物以相同的調配量使用。
(紫外線吸收劑及/或抗氧化劑(E))
作為紫外線吸收劑及/或抗氧化劑(E),可將與上述第一實施形態中的紫外線吸收劑及/或抗氧化劑(E)相同的化合物以相同的調配量來使用。
(其他成分)
本發明的活性能量線硬化性樹脂組成物視需要亦可含有界面活性劑、脫模劑、潤滑劑、塑化劑、抗靜電劑、光穩定劑、阻燃劑、阻燃助劑、聚合抑制劑、填充劑、矽烷偶合劑、著色劑、強化劑、無機填料、耐衝擊性改質劑等公知的添加劑。
另外,本發明的活性能量線硬化性樹脂組成物視需要亦可含有不具有自由基聚合性官能基的低聚物或聚合物、微量的有機溶劑等。
就容易流入至壓模表面的微細凹凸結構中的方面而言,活性能量線硬化性樹脂組成物的黏度較佳為不過高。因此,活性能量線硬化性樹脂組成物的於25℃下的由E型黏度計所得的 黏度較佳為10000mPa.s以下,更佳為5000mPa.s以下,進而佳為2000mPa.s以下。
然而,即便活性能量線硬化性樹脂組成物的黏度超過10000mPa.s,只要可於與壓模接觸時預先加溫而降低黏度,則並無特別問題。於該情形時,活性能量線硬化性樹脂組成物的於70℃下的由旋轉式B型黏度計所得的黏度較佳為5000mPa.s以下,更佳為2000mPa.s以下。
若黏度太過低,則有時濡濕擴散而妨礙製造。若黏度為10mPa.s以上則較佳。
對於以上所說明的適合用於本發明的物品的表面的活性能量線硬化性樹脂組成物而言,由於丙烯酸當量在特定的範圍內,故即便其硬化物為不具有支撐體的膜狀的形態,亦並無捲曲或破裂而可厚膜化,且具有高的表面硬度。
另外,由於以特定的比例含有特定的多官能單體(A)、特定的多官能單體(B)及特定的二官能單體(C),故微細凹凸結構的耐擦傷性高。另外,由於以特定的比例含有特定的二官能單體(C),故可形成微細凹凸結構的指紋擦去性亦良好的硬化物。
<表面上具有微細凹凸結構的物品>
本發明的物品為藉由使活性能量線硬化性樹脂組成物與表面上具有微細凹凸結構的反轉結構的壓模接觸、硬化而形成的表面上具有微細凹凸結構的物品。
圖1為表示本發明的物品的一例的剖面圖。物品40具 有視需要而增加的蓋膜42、及微細凹凸結構層44。物品40亦可僅由微細凹凸結構層44所構成。
微細凹凸結構層44於表面上具有微細凹凸結構。
使用後述的陽極氧化氧化鋁的壓模的情形時的物品40的表面的微細凹凸結構是轉印陽極氧化氧化鋁的表面的微細凹凸結構而形成,具有包含活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的多個凸部46。
微細凹凸結構較佳為大致圓錐形狀、棱錐形狀等的凸起(凸部)多個排列而成的所謂蛾眼結構。已知凸起間的間隔為可見光的波長以下的蛾眼結構藉由折射率自空氣的折射率向材料的折射率連續地增大,而成為有效的抗反射手段。
於該被稱為蛾眼結構的微細凹凸結構中,為了兼具抗反射性能與耐擦傷性,重要的是將凸部間的平均間隔與凸部的高度之平衡即凹凸的縱橫比(凸部的高度/凸部間的平均間隔)設定於特定的範圍內。
凸部間的平均間隔較佳為可見光的波長以下,即400nm以下。若平均間隔超過400nm,則引起可見光的散射,故不適於抗反射物品等光學用途。凸部間的平均間隔更佳為140nm~260nm,尤佳為160nm~200nm。
凸部間的平均間隔為藉由電子顯微鏡觀察對鄰接的凸部間的間隔(自凸部的中心起至鄰接凸部的中心為止的距離)測定50點,並將該等的測定值平均所得的值。
於凸部間的平均間隔在上述較佳範圍內的情形時,抗反射性能大致是由凸起的高度來決定。為了獲得良好的抗反射性能,凸部的高度較佳為120nm~250nm,更佳為150nm~220nm,尤佳為180nm~190nm。若凸部的高度為120nm以上,則反射率充分變低,且反射率的波長相依性小。若凸部的高度為250nm以下,則容易抑制凸部頂端彼此密接的現象。
凸部的高度為藉由電子顯微鏡以30000倍的倍率進行觀察時,對凸部的最頂部、與存在於凸部間的凹部的最底部之間的距離進行測定所得的值。
進而,凸部的縱橫比(凸部的高度/凸部間的平均間隔)較佳為0.7~1.4,更佳為0.8~1.2。若凸部的縱橫比為0.7以上,則反射率充分變低。若凸部的縱橫比為1.4以下,則凸部的耐擦傷性變良好。
凸部的形狀較佳為與高度方向正交的方向的凸部剖面積自最表面起於深度方向上連續地增加的形狀,即,凸部的高度方向的剖面形狀為三角形、梯形、吊鐘形等形狀。
(壓模)
壓模及其製作方法可與上述第一實施形態相同。
(物品的製造方法)
表面上具有微細凹凸結構的物品是藉由包括下述(步驟1)~(步驟3)的步驟來製造。
(步驟1)於在至少一個表面上具有上述微細凹凸結構的反轉 結構的壓模上配置活性能量線硬化性樹脂組成物的步驟;(步驟2)照射活性能量線,使上述活性能量線硬化性樹脂組成物硬化的步驟;(步驟3)將上述活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物自上述壓模剝離的步驟。
進而,上述(步驟1)中的壓模較佳為輥狀。
例如,使用圖3所示的製造裝置如下述般製造。
於表面上具有微細凹凸結構的反轉結構(省略圖式)的輥狀壓模20、與沿著輥狀壓模20的表面移動的帶狀膜的蓋膜42之間,自儲槽22供給活性能量線硬化性樹脂組成物。
於輥狀壓模20與藉由空氣壓缸24調整了夾持壓力的夾輥26之間,夾持蓋膜42及活性能量線硬化性樹脂組成物,使活性能量線硬化性樹脂組成物於蓋膜42與輥狀壓模20之間均勻地遍布,同時填充至輥狀壓模20的微細凹凸結構的凹部內。
自設置於輥狀壓模20的下方的活性能量線照射裝置28,通過蓋膜42對活性能量線硬化性樹脂組成物照射活性能量線,使活性能量線硬化性樹脂組成物硬化,藉此形成轉印有輥狀壓模20的表面的微細凹凸結構的微細凹凸結構層44。
藉由剝離輥30將微細凹凸結構層44及蓋膜42自輥狀壓模20剝離,藉此獲得如圖1所示般的物品40。物品40的蓋膜42可自微細凹凸結構層44剝離,微細凹凸結構層44可單獨操作。
活性能量線照射裝置28較佳為高壓水銀燈、金屬鹵化 物燈等,該情形的光照射能量的量較佳為100mJ/cm2 ~10000mJ/cm2
蓋膜42較佳為光透射性膜。膜的材料可列舉:丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯、苯乙烯系樹脂、聚酯、纖維素系樹脂(三乙醯纖維素等)、聚烯烴、脂環式聚烯烴等。另外,該蓋膜42亦可於與微細凹凸結構層44積層的狀態下作為保護膜而發揮功能。
另外,蓋膜42並非必需的構成構件。例如可使用塗佈裝置於輥狀壓模20上直接塗佈活性能量線硬化性樹脂組成物,繼而照射活性能量線使其硬化後,將微細凹凸結構層44自輥狀壓模20剝離,藉此獲得膜狀的微細凹凸結構層44。於該情形時,活性能量線硬化性樹脂組成物較佳為於照射活性能量線時自周邊趕出氧的狀態。其方法例如可列舉:填充或流通(flow)氮氣或二氧化碳等惰性氣體而加以使用。
於輥狀壓模20上塗佈活性能量線硬化性樹脂組成物的裝置可列舉:模塗機、凹版塗佈機、反向塗佈機等。
其他製造方法例如可列舉以下方法:於金屬帶上塗佈活性能量線硬化性樹脂組成物,利用輥狀壓模20轉印形狀後,照射活性能量線而獲得微細凹凸結構層44的方法等。
(用途)
本發明的用途可與上述第一實施形態相同。
[實施例]
以下,藉由實施例A對本發明加以更詳細說明。
(耐擦傷性)
於耐擦傷性的評價中,使用磨損試驗機(商品名:海頓特里伯格(HEiDON TRIBOGEAR)型號(TYPE)-30S,新東科學(股)製造)。對放置於光透射性物品的表面上的2cm的四方的鋼絲絨(商品名:邦士達(Bonstar)#0000,日本鋼絲絨公司製造)施加400g的負載。於往返距離為30mm、頭速度(head speed)為30mm/s的條件下進行10次往返磨損。其後,評價光透射性物品的表面的外觀。進行外觀評價時,於透明的2.0mm厚的黑色壓克力板(商品名:壓克力萊特(Acrylight),三菱麗陽(股)製造)的單面上貼附該光透射性物品,於室內置於螢光燈下目測評價。評價是按以下基準來進行。
A:未確認到傷痕。
B:可確認到的傷痕小於5條,擦傷部位並未模糊泛白。
C:可確認到的傷痕為5條以上、小於20條,擦傷部位稍許模糊泛白。
D:可確認到的傷痕為20條以上,清楚地看到擦傷部位模糊泛白。
(指紋擦去性)
使用滲有1.0cc的自來水的紙巾(wiper)(商品名:愛麗爾紙巾(Elleair Prowipe),大王製紙(股)製造),將表面上附著有指紋的光透射性物品的表面朝一個方向擦拭。其後,評價該光透射性物品的表面的外觀。評價是按以下基準來進行。
A:2次以下的擦拭可將指紋完全去除。
B:3次以上、小於10次的擦拭可將指紋完全去除。
C:即便擦拭10次後,指紋亦殘留。
(耐水性)
進行與上述指紋擦去性相同的試驗,並按以下基準進行評價。
A:維持了良好的抗反射性能及透明性。
B:自傾斜方向照射白色發光二極體(Light Emitting Diode,LED)光源時,膜稍許模糊泛白。
C:膜明顯白濁。
(相鄰凸部彼此的間隔及凸部的高度的測定)
相鄰凸部彼此的間隔是設定為藉由電子顯微鏡(商品名:JSM7400F,日本電子製造)對相鄰凸部彼此的間隔(自凸部的中心起至鄰接的凸部的中心為止的距離)測定50點,並將該等的測定值平均所得的值。另外,凸部的高度是設定為藉由上述電子顯微鏡以30000倍的倍率進行觀察時,對凸部的最頂部、與存在於凸部間的凹部的最底部之間的距離測定50點,並將該等的測定值平均所得的值。
(壓入彈性模量(X)、蠕變變形率(Y)的測定)
使用大型載玻片(商品名:S9213,松浪硝子工業(股)製造)作為基材。於該基材上以塗膜的厚度成為約500μm的方式塗佈活性能量線硬化性樹脂組成物,使用高壓水銀燈以約3000 mJ/cm2 對該活性能量線硬化性樹脂組成物照射紫外線。將其用作壓入彈性模量(X)及蠕變變形率(Y)的評價用樣品。
使用維氏壓頭(四面金剛石錐體)及微小硬度計(商品名:菲希爾斯高普(Fischer-Scope)HM2000XYp、菲希爾儀器(Fischer Instruments)製造)來進行塗膜的物性評價。評價是於恆溫室(溫度23℃、濕度50%)內進行。評價程式是設定為[壓入(50mN/10s)]→[蠕變(50mN、60s)]→[卸載(50mN/10s)]。
根據利用此種方法進行測定的結果,藉由分析軟體(商品名:WIN-HCU,菲希爾儀器(Fischer Instruments)公司製造)來算出活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的壓入彈性模量(X)。
另外,於上述評價程式中,將蠕變開始時的壓入深度設定為h0、蠕變結束時的壓入深度設定為h1,根據該些h0及h1由下式來求出蠕變變形率(Y)。
蠕變變形率(%)=(h0+h1)/h0×100。
(壓模的製造)
使用純度為99.99質量%、經電解研磨的厚度為2mm的φ 65mm鋁圓盤作為鋁基材。將0.3M草酸水溶液調整為15℃,浸漬該鋁基材。反覆進行直流穩定裝置的電源的開/關(ON/OFF),藉此對鋁基材間歇地流通電流而進行陽極氧化。每隔30秒鐘施加 80V的恆定電壓5秒鐘,將該操作重複60次。藉此於該鋁基材上形成具有孔隙的氧化皮膜。
繼而,將形成有氧化皮膜的鋁基材於將6質量%的磷酸與1.8質量%的鉻酸混合而成的70℃的水溶液中浸漬6小時。藉此將氧化皮膜溶解去除。
將溶解去除了氧化皮膜的鋁基材浸漬於經調整為16℃的0.05M的草酸水溶液中,於80V下實施7秒鐘陽極氧化。進而,於經調整為32℃的5質量%的磷酸水溶液中浸漬20分鐘,實施擴大氧化皮膜的孔隙的孔隙徑擴大處理。如此般交替反覆進行陽極氧化與孔隙徑擴大處理,各實施合計5次。
將所得的模具於TDP-8(商品名,日光化學(股)製造)的0.1質量%水溶液中浸漬10分鐘。將其提起並風乾一夜,藉此對模具實施脫模處理。藉由以上操作來製造壓模。
(聚合性成分(Z))
使用表1中所示的化合物作為聚合性成分(Z)。
(光聚合起始劑(D))
相對於聚合性成分(Z)100質量%,使用1.0質量%的伊魯卡(IRGACURE)184(巴斯夫(BASF)公司製造)及0.5質量%的伊魯卡(IRGACURE)819(巴斯夫(BASF)公司製造)來作為光聚合起始劑(D)。
[實施例A1]
將70質量%的DPHA-12E與30質量%的14EGDA混合,製備聚合性成分(Z)。相對於該聚合性成分(Z)100質量%, 混合1.0質量%的伊魯卡(IRGACURE)184及0.5質量%的伊魯卡(IRGACURE)819來作為光聚合起始劑(D),製備活性能量線硬化性樹脂組成物。
將上述活性能量線硬化性樹脂組成物於上述壓模的表面上滴落幾滴。一面利用厚度為80μm的三乙醯纖維素膜(商品名:TD80ULM,富士軟片(股)製造,以下亦表示膜)將上述活性能量線硬化性樹脂組成物擴展開,一面於膜上被覆上述活性能量線硬化性樹脂組成物。其後,自膜側使用高壓水銀燈以2000mJ/cm2 的能量照射紫外線,使上述活性能量線硬化性樹脂組成物硬化。將壓模自活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物脫模,獲得具備相鄰凸部彼此的間隔為180nm、凸部的高度為180nm(縱橫比:1.0)的微細凹凸結構層的光透射性物品。將耐擦傷性、指紋擦去性及耐水性的評價結果示於表2中。
[實施例A2~實施例A12、比較例A1~比較例A12]
除了將活性能量線硬化性樹脂組成物的組成變更為表2及表3所示的組成以外,與實施例A1同樣地獲得具備微細凹凸結構層的光透射性物品。將評價結果示於表2及表3中。
再者,於表2及表3中,實施例1~實施例12及比較例1~比較例12分別表示實施例A1~實施例A12及比較例B1~比較例B12。
由表2及圖5的圖表的結果表明,實施例A1~實施例A12中所得的光透射性物品由於壓入彈性模量(X)與蠕變變形率(Y)的值滿足上述式(1)及上述式(2),故顯示出良好的耐擦傷性、指紋擦去性、耐水性。另外,丙烯酸當量在215[g/eq]~300[g/eq]的範圍內,氧伸乙基所佔的比例亦在55.0質量%~74.0質量%的範圍內。
另一方面,由表3及圖5的圖表的結果表明,比較例A1~比較例A12中所得的光透射性物品的壓入彈性模量(X)與蠕變變形率(Y)的值在上述式(1)及/或上述式(2)的範圍外。因此,無法獲得良好的耐擦傷性。
具體而言,壓入彈性模量(X)小於100[MPa]的比較例A2、比較例A6及比較例A9中,由於硬化物過於柔軟,故於耐擦傷性評價中,以樹脂自身被鋼絲絨挖去的方式受到損傷。另外,由於微細凹凸結構層的凸起過於柔軟,故於耐水性評價中,於濕布擦拭後確認到凸起彼此合而為一的現象,成為總體模糊般的外觀,耐水性低。
另一方面,壓入彈性模量(X)大於560[MPa]的比較例A1、比較例A3、比較例A7、比較例A8及比較例A12中,由於硬化物過硬,故於耐擦傷性評價中確認到微細凹凸結構層的凸起自中途開始彎折、或被削去的現象。
另外,比較例A4、比較例A5、比較例A10及比較例A11中,雖然壓入彈性模量(X)在80[MPa]≦X≦560[MPa]的範圍內,但蠕變變形率(Y)在上述式(2)的範圍外,故於耐擦傷性評價中確認到微細凹凸結構層的凸起自中途開始彎折、或被削去的現象。
另外,以下藉由實施例B對本發明加以更詳細說明。以下的記載中,「份」表示質量份。
(耐擦傷性:耐鋼絲絨)
使用磨損試驗機(新東科學公司製造,產品名海頓特里伯格(HEiDON TRIBOGEAR)型號(TYPE)-30S),對放置於物品表面的經切割為2cm2 的鋼絲絨(日本鋼絲絨公司製造,產品名邦士達(Bonstar)#0000)施加400g(100gf/cm2 )及1kg(250gf/cm2 )的負載,於往返距離為30mm、頭速度平均為100mm/s的條件下往返10次,評價物品表面的外觀。進行外觀評價時,於2.0mm厚的黑色壓克力板(三菱麗陽公司製造,產品名壓克力萊特(Acrylight))的單面上貼附物品,於室內置於螢光燈下目測評價。
.「AA」:無法確認到傷痕。
.「A」:可確認到的傷痕小於10條。
.「B」:可確認到的傷痕為10條以上、小於30條。
.「C」:可確認到的傷痕為30條以上。
.「D」:於擦傷部分的50%以上的面積中喪失抗反射性能。
(指紋擦去性)
使用滲有1.0cc的自來水的紙巾(大王製紙公司製造,產品名愛麗爾紙巾(Elleair Prowipe)),將表面上附著有指紋的物品的表面朝一個方向擦拭後,對物品表面的外觀進行評價。
.「A」:2次以下的擦拭可完全去除指紋。
.「B」:3次以上、10次以下的擦拭可完全去除指紋。
.「C」:即便擦拭10次後,指紋亦殘留。
(耐水性)
使用滲有1.0cc的自來水的紙巾(大王製紙公司製造, 產品名愛麗爾紙巾(Elleair Prowipe)),對表面上附著有指紋的物品的表面朝一個方向擦拭後,評價物品表面的外觀。利用電子顯微鏡來觀察經擦拭的部分白濁的樣品,結果任一樣品均確認到微細凹凸結構的凸起彼此合而為一。
.「A」:維持了良好的抗反射性能與透明性。
.「B」:經擦拭的部分白濁。
(壓入彈性模量(X)、蠕變變形率(Y)的測定)
藉由與上述相同的方法來進行壓入彈性模量(X)、蠕變變形率(Y)的測定。
(壓模的製造)
使用純度為99.99質量%、經電解研磨的厚度為2mm的φ 65mm鋁圓盤作為鋁基材。
將0.3M草酸水溶液調整為15℃,浸漬鋁基材,反覆進行直流穩定裝置的電源的開/關(ON/OFF),藉此對鋁基材間歇地流通電流而進行陽極氧化。每隔30秒鐘施加80V的恆定電壓5秒鐘,將該操作重複60次,形成具有孔隙的氧化皮膜。
繼而,將形成有氧化皮膜的鋁基材於將6質量%的磷酸與1.8質量%的鉻酸混合而成的70℃的水溶液中浸漬6小時,將氧化皮膜溶解去除。
將溶解去除了氧化皮膜的鋁基材浸漬於經調整為16℃的0.05M的草酸水溶液中,於80V下實施7秒鐘陽極氧化。繼而,於經調整為32℃的5質量%的磷酸水溶液中浸漬20分鐘,實 施擴大氧化皮膜的孔隙的孔徑擴大處理。如此般交替重複進行陽極氧化與孔徑擴大處理,各實施合計5次。
將所得的模具於TDP-8(日光化學公司製造)的0.1質量%水溶液中浸漬10分鐘,將其提起並風乾一夜,藉此實施脫模處理。
[實施例B1]
於聚合性成分(Z)中,使用作為成分(A2)的甘油EO改質三丙烯酸酯(氧伸乙基=約20莫耳,新中村化學工業公司製造,產品名NK Ester A-GLY-20E)80份、及作為成分(B2)的季戊四醇(三)四丙烯酸酯(第一工業製藥公司製造,產品名新前沿(New Frontier)PET-3)20份,並且相對於聚合性成分(Z)100份,混合作為光聚合起始劑(D)的巴斯夫(BASF)公司製造的伊魯卡(IRGACURE)184(產品名)1.0份及伊魯卡(IRGACURE)819(產品名)0.5份、作為脫模劑的日光化學公司製造的尼克爾(NIKKOL)TDP-2(產品名)0.1份,獲得活性能量線硬化性樹脂組成物。
將該活性能量線硬化性樹脂組成物於壓模的表面上滴落幾滴,利用厚度為80μm的三乙醯纖維素膜(富士軟片公司製造,產品名TD80ULM)一面擴展開一面被覆,繼而自膜側使用高壓水銀燈以1000mJ/cm2 的能量照射紫外線而使其硬化。將壓模自膜脫模,獲得表面上具有凸部的平均間隔為180nm、高度為180nm的微細凹凸結構的光透射性物品。將評價結果示於表4中。
[實施例B2~實施例B19、比較例B1~比較例B6]
除了如表4~表6所示般變更活性能量線硬化性樹脂組成物的組成及模具以外,與實施例B1同樣地獲得表面上具有微細凹凸結構的光透射性物品。將評價結果示於表4~表6中。
再者,於表4~表6中,實施例1~實施例19及比較例1~比較例6分別表示實施例B1~實施例B19及比較例B1~比較例B6。
另外,將各成分的氧伸乙基的莫耳數、每1個(甲基)丙烯醯基的氧伸乙基數的平均值、丙烯酸當量示於表7中。
[評價]
實施例B1~實施例B19中,由於含有多官能(甲基)丙烯酸酯(A2),故可獲得良好的耐鋼絲絨擦傷性。尤其於實施例B6、實施例B8、實施例B9、實施例B16、實施例B17、實施例B18、實施例B19中,耐鋼絲絨擦傷性的試驗結果於100gf/cm2 的情況下為AA(無傷痕),於250gf/cm2 的情況下為A(可確認到的傷痕小於10條),具有特別高的耐擦傷性。
然而,實施例B9由於模具的間距為100nm,故縱橫比變大而確認到凸起彼此合而為一的現象,因此成為耐水性差的結果。
於比較例B1~比較例B6中,由於不含多官能(甲基)丙烯酸酯(A2),故耐鋼絲絨擦傷性較實施例差。於比較例B2中,由於丙烯酸當量大,故硬化物柔軟,耐水性差。於比較例B3中,由於每1個(甲基)丙烯醯基的氧伸乙基數的平均值小,故無法獲得充分的耐擦傷性,親水性亦不充分且指紋擦去性亦欠佳。
另外,以下藉由實施例C對本發明加以更詳細說明。以下的記載中,「份」是指「質量份」。另外,各物性的評價是依照以下方法來實施。
<耐擦傷性:鋼絲絨試驗>
使用往返磨損試驗機(新東科學公司製造,設備名稱海頓(HEIDON)型號(Type):30S),於20mm見方的壓頭上安裝鋼絲絨(#0000),於溫度23℃、濕度50%Rh的環境下於負載為25gf/cm2 的條件下對光透射性物品往返摩擦10次。其後,於光透射性物品的背面放置黑紙,對光透射性物品中產生的傷痕數進行確認,按以下基準目測進行評價。於評價為A的情形時,判斷為耐擦傷性充分,於評價為B的情形時,判斷為耐擦傷性良好。
「A」:傷痕為0條~10條以內。
「B」:傷痕超過10條且為20條以內。
「C」:在壓頭接觸的整個面上有傷痕,或整個面模糊泛白(亦包括傷痕以外的光透射性降低等外觀變化)。
<抗反射性:反射率>
對貼附於透明壓克力樹脂板上的光透射性物品使用日 立公司製造的分光光度計U-3300,於入射角為5°的條件下測定波長380nm~780nm之間的相對反射率,按以下基準來評價波長550nm的反射率。
「A」:4.9%以下。
「B」:超過4.9%。
<指紋擦去性:濕布擦拭>
將微細凹凸結構層的微細凹凸結構面(表面)的相反側的面經由光學黏著層而貼附於黑色壓克力樹脂板(三菱麗陽股份有限公司製造,壓克力萊特(Acrylight)EX#502,50mm×60mm)上,製作於微細凹凸結構面上附著有人工指紋液(日本專利第3799025號中記載的評價用分散液)的物品。
一面以指尖施加約1kgf/cm2 的力,一面使滲有1.0cc的自來水的紙巾(日本製紙克萊西爾(Nippon Paper Crecia)股份有限公司,凱德萊紙巾(Kaydry wiper)132-S)於微細凹凸結構面上往返10次後,評價物品表面的外觀。
A:指紋被完全去除。
B:指紋幾乎不顯眼,但置於螢光燈下時的色調稍許不同(指紋無法完全去除)。
C:指紋清晰地殘留。
<指紋擦去性:乾擦>
將微細凹凸結構層的微細凹凸結構面(表面)的相反側的面經由光學黏著層而貼附於黑色壓克力樹脂板(三菱麗陽股份 有限公司製造,壓克力萊特(Acrylight)EX#502,50mm×60mm)上,製作於微細凹凸結構面上附著有人工指紋液(日本專利第3799025號中記載的評價用分散液)的物品。
一面以指尖施力(約3kgf/cm2 ),一面利用乾燥的紙巾(日本製紙克萊西爾股份有限公司,凱德萊紙巾(Kaydry wiper)132-S)於微細凹凸結構面上往返40次後,評價物品表面的外觀。
A:指紋被完全去除。
B:指紋幾乎不顯眼,但置於螢光燈下時的色調稍許不同(指紋無法完全去除)。
C:指紋清晰地殘留。
<外觀:透明性(白濁)>
將微細凹凸結構層的微細凹凸結構面(表面)的相反側的面經由光學黏著層而貼附於黑色壓克力樹脂板(三菱麗陽股份有限公司製造,壓克力萊特(Acrylight)EX#502,50mm×60mm)上,如以下所記載般評價物品的外觀。
A:於自傾斜方向照射白色LED光源的情形時,表面均勻,確認不到稍許的白化或白濁等。
B:於室內的螢光燈下,表面均勻且確認不到白濁,但於自傾斜方向照射白色LED光源的情形時,確認到白化或白濁。
C:於室內的螢光燈下亦確認到白化或白濁。
<樹脂物性:馬氏硬度及彈性模量>
由插入有厚度為約200μm的間隔件的2片載玻片(76 mm×52mm,厚度為約1mm)來夾持實施例C及比較例C中所用的樹脂組成物,使用高壓水銀燈以累計光量為1200mJ/cm2 的能量照射紫外線而進行硬化。將單面的載玻片剝離,使用超微小硬度試驗裝置(菲希爾儀器(Fischer Instruments)公司,商品名:菲希爾斯高普(Fischer-Scope)HM2000),藉由依據國際標準化組織(International Standardization Organization,ISO)-14577-1的方法,於以下所記載的測定條件下測定經硬化的樹脂表面的馬氏硬度及彈性模量。
壓頭形狀:維氏壓頭(a=136°),測定環境:溫度23℃、相對濕度50%,最大試驗負載:100mN,負載速度:100mN/10s,最大負載蠕變時間:10s,卸載速度:100mN/10s。
<樹脂組成物的PAG含有率>
PAG含有率[%]=[P(單體1)×PAG(單體1)+P(單體2)×PAG(單體2)+…+P(單體n)×PAG(單體n)]/100,PAG含有率:聚伸烷基二醇含有率(%),PAG(單體1):單體1的PAG(%),P(單體1):組成中的單體1的質量分率(%)。
(其中,單體1、單體2…單體n為構成含有(甲基)丙烯酸系單體(A3)及(甲基)丙烯酸系單體(B3)、以及其他單體的樹脂組成物的所有單體)。
<壓入彈性模量(X)、蠕變變形率(Y)的測定>
藉由與上述相同的方法來進行壓入彈性模量(X)、蠕變變形率(Y)的測定。
(壓模的製作)
對純度為99.99%的鋁進行拋光研磨及過氯酸/乙醇混合溶液(1/4體積比)中的電解研磨而鏡面化。
(a)步驟:
將該鋁板於0.3M草酸水溶液中於直流40V、溫度16℃的條件進行30分鐘陽極氧化。
(b)步驟:
將於上述步驟中形成有氧化皮膜的鋁板於6質量%的磷酸/1.8質量%的鉻酸混合水溶液中浸漬6小時,去除氧化皮膜。
(c)步驟:
將該鋁板於0.3M草酸水溶液中於直流40V、溫度16℃的條件下進行30秒鐘陽極氧化。
(d)步驟:
將於上述步驟中形成有氧化皮膜的鋁板於32℃的5質量%磷酸中浸漬8分鐘,進行孔隙徑擴大處理。
(e)步驟:
將上述(c)步驟及(d)步驟重複合計5次,獲得具有週期為100nm、深度為180nm的大致圓錐形狀的孔隙的陽極氧化多孔氧化鋁。
所得的陽極氧化多孔氧化鋁是利用去離子水加以清洗,繼而藉由鼓風(air blow)將表面的水分去除,於利用稀釋劑(哈維斯(Harves)公司製造,商品名HD-ZV)以固體成分成為0.1質量%的方式將氟系剝離材(大金(Daikin)工業公司製造,商品名奧普次爾(Optool)DSX)稀釋所得的溶液中浸漬10分鐘,風乾20小時,獲得於表面上形成有孔隙的壓模。
<參考例1>
製備活性能量線硬化性樹脂組成物,該活性能量線硬化性樹脂組成物包含作為(A3)成分的二季戊四醇六丙烯酸酯的EO改質化合物[第一工業製藥(股)製造,商品名DPHA-12EO]70份、作為(B3)成分的乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯(新中村化學工業(股)製造,商品名NK Ester ATM-4E)30份、作為聚合起始劑的1-羥基-環己基-苯基-酮(日本汽巴(Ciba Japan)(股)製造,商品名伊魯卡(IRGACURE)184)1.0份及雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物(日本汽巴(Ciba Japan)(股)製造,商品名伊魯卡(IRGACURE)819)0.5份、以及脫模劑(巴工業(股)製造,商品名模維茲(Moldwiz)INT-1856)0.1份。
此處使用的(A3)成分中的聚伸烷基二醇結構(-C2 H4 O-)n 部分的合計化學式量(M(PAG))為44×12=528,丙烯醯基結構 (CH2 =CHCO-)部分的合計化學式量(M(ACR))為55×6=330,其聚伸烷基二醇含有率(PAG)為528/(330+528)×100≒61.5(%)。
將以上的活性能量線硬化性樹脂組成物於壓模上滴落幾滴,利用厚度為188μm的聚對苯二甲酸乙二酯膜(東洋紡績(股)製造,商品名A-4300)一面擴展開一面被覆表面。繼而,自膜側使用高壓水銀燈以1200mJ/cm2 的能量照射紫外線而進行硬化。繼而,將膜與壓模剝離,獲得具有相鄰凸部或凹部的間隔為100nm、高度為180nm的微細凹凸結構層的光透射性物品。
<實施例C1~實施例C10、比較例C1~比較例C4、參考例2~參考例10>
使用表8及表9所示的化合物作為聚合性化合物,除此以外,與實施例C1同樣地製造光透射性物品。
將以上的各實施例、比較例及參考例的評價結果示於表8及表9中。
再者,於表8及表9中,實施例1~實施例10及比較例1~比較例4分別表示實施例C1~實施例C10及比較例C1~比較例C4。
表中的簡稱如下。
.「a」:丙烯醯基的個數,.「n」:來源於伸烷基二醇的結構的平均重複數,.「PAG」:聚伸烷基二醇含有率(%),.「DPHA-12EO」:二季戊四醇六丙烯酸酯的EO改質化合物[第一工業製藥(股)製造,商品名DPHA-12EO改質,通式(1)的R1 ~R6 全部為H、且乙二醇的分子結構的重複單元的總數(l+m+n+o+p+q)為12的化合物,聚乙二醇結構的平均重複數為2(=12/6)],.「DPHA-18EO」:二季戊四醇六丙烯酸酯的EO改質化合物[第一工業製藥(股)製造,商品名DPHA-18EO改質,通式(1)的R1 ~R6 全部為H且乙二醇的分子結構的重複單元的總數(l+m+n+o+p+q)為18的化合物,聚乙二醇結構的平均重複數為3(=18/6)],.「DPHA-24EO」:二季戊四醇六丙烯酸酯的EO改質化合物[第一工業製藥(股)製造,商品名DPHA-24EO改質,通式(1)的R1 ~R6 全部為H且乙二醇的分子結構的重複單元的總數(l+m+n+o+p+q)為24的化合物,聚乙二醇結構的平均重複數為4(=24/6)],.「DPHA-30EO」:二季戊四醇六丙烯酸酯的EO改質化合物[第一工業製藥(股)製造,商品名DPHA-30EO改質,通式(1)的R1 ~R6 全部為H且乙二醇的分子結構的重複單元的總數 (l+m+n+o+p+q)為30的化合物,聚乙二醇結構的平均重複數為5(=30/6)],.「ATM-4E」:乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯(新中村化學工業(股)製造,商品名ATM-4E),.「DPHA」:二季戊四醇六丙烯酸酯(東亞合成(股)製造),.「A-TMPT-6EO」:三羥甲基丙烷三丙烯酸酯的EO改質化合物(新中村化學工業(股)製造,聚乙二醇結構的平均重複數=2),.「PE-4A」:季戊四醇四丙烯酸酯(共榮社化學(股)製造,商品名:萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)PE-4A),.「ATM-35E」:乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯(新中村化學工業(股)製造,乙二醇的分子結構的重複單元的總數為35的化合物,聚乙二醇結構的平均重複數=8.75(=35/4)),.「A-GLY-20E」:乙氧基化甘油三丙烯酸酯(新中村化學工業(股)製造,乙二醇的分子結構的重複單元的總數為20的化合物,聚乙二醇結構的平均重複數=6.67(20/3)),.「M260」:聚乙二醇(n=約13)二丙烯酸酯(東亞合成(股)製造),.「A-1000」:聚乙二醇(n=23)二丙烯酸酯(新中村化學工業(股)製造,商品名:NK-Ester A-1000),.「9EG-A」:聚乙二醇(n=9)二丙烯酸酯(共榮社化學 (股)製造,商品名:萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)9EG-A),.「HEA」:丙烯酸羥乙酯,.「A-SA」:琥珀酸-2-丙烯醯氧基乙酯(新中村化學工業(股)製造)。
<評價>
由表8的結果表明,參考例1~參考例7、實施例C1~實施例C3、實施例C5、實施例C8~實施例C10的光透射性物品具有良好的耐擦傷性及低反射率。另外,馬氏硬度小於15N/mm2 的實施例C4、實施例C7、實施例C8的光透射性物品由於耐擦傷性試驗而於試驗部分的一部分中產生了目測並不顯眼的程度的20條以內的微細傷痕。另一方面,不含(甲基)丙烯酸系單體(A3)的參考例8的光透射性物品由於耐擦傷性試驗而產生了超過20條的傷痕,耐擦傷性試驗部分的整個面模糊泛白。同樣地不含(甲基)丙烯酸系單體(A3)的比較例C1、比較例C3、比較例C4及參考例9、參考例10、含有(甲基)丙烯酸系單體(A3)成分及(甲基)丙烯酸系單體(B3)以外的成分的比較例C2、PAG含有率小於50%的比較例C3、及(甲基)丙烯酸系單體(B3)的官能基數為3的比較例C4的光透射性物品中,於壓頭接觸的整個面上產生了多條傷痕。
另外,僅含有來源於伸烷基二醇的結構的平均重複數少的(甲基)丙烯酸系單體(B3)的比較例C3及比較例C4的光透射性物品無法藉由濕布擦拭來去除指紋。
另外,馬氏硬度相對較柔軟的實施例C4~實施例C7中,雖然耐擦傷性良好,但觀察到了由微細凹凸結構的凸起彼此靠近的現象所致的白濁。
另外,實施例C1~實施例C10及參考例1~參考例7的光透射性物品於濕布擦拭及乾擦時均未產生傷痕,能以不顯眼的水準將指紋去除。參考例8、參考例10及比較例C1~比較例C4的光透射性物品雖然耐擦傷性差,但乾擦或濕布擦拭時能以不顯眼的水準將指紋去除。
另外,以下藉由實施例D對本發明加以更詳細說明。
(耐擦傷性)
使用磨損試驗機(新東科學公司製造,「海頓特里伯格(HEIDON TRIBOGEAR)型號(TYPE)-30S」),對放置於物品表面的2cm的四方的鋼絲絨(日本鋼絲絨公司製造,邦士達(Bonstar)#0000)施加400g的負載,於往返距離為30mm、頭速度為30mm/s的條件下往返10次,評價物品表面的外觀。進行外觀評價時,於透明的2.0mm厚的黑色壓克力板(三菱麗陽公司製造,壓克力萊特(Acrylight))的單面上經由黏著劑而貼附物品,於室內置於螢光燈下進行目測評價。
A:無法確認到傷痕。
B:可確認到的傷痕小於5條,且擦傷部位並不模糊泛白。
C:可確認到的傷痕為5條以上、小於20條,且擦傷部位稍許模糊泛白。
D:可確認到的傷痕為20條以上,清楚地看到擦傷部位模糊泛白。
(指紋擦去性)
使用滲有1.0cc的自來水的紙巾(大王製紙股份有限公司製造,愛麗爾紙巾(Elleair Prowipe)),將表面上附著有指紋的物品的表面朝一個方向擦拭後,評價物品表面的外觀。
A:2次以下的擦拭可將指紋完全去除。
B:3次以上、小於10次的擦拭可將指紋完全去除。
C:擦拭10次後,指紋亦殘留。
(耐水性)
使用滲有1.0cc的自來水的紙巾(大王製紙股份有限公司製造,愛麗爾紙巾(Elleair Prowipe)),將表面上附著有指紋的物品的表面朝一個方向擦拭後,評價物品表面的外觀。
A:維持了良好的抗反射性能與透明性。
B:自傾斜方向照射白色LED光源時,膜稍許模糊泛白。
C:膜明顯白濁。
(鉛筆硬度)
根據日本工業標準(Japanese Industrial Standards,JIS)K5600-5-4(1999)來實施鉛筆硬度試驗。鉛筆是使用三菱鉛筆(股)製造的尤尼(UNI)系列,負載是設定為500g。判定時,以肉眼看不到包含壓痕的傷痕為界限。
(壓模的製造)
使用純度為99.99質量%、經電解研磨的厚度2mm的φ 65mm鋁圓盤作為鋁基材。
將0.3M草酸水溶液調整為15℃,浸漬鋁基材,反覆進行直流穩定裝置的電源的開/關(ON/OFF),由此對鋁基材間歇地流通電流而進行陽極氧化。每隔30秒鐘施加80V的恆定電壓5秒鐘,將該操作重複60次,形成具有孔隙的氧化皮膜。
繼而,將形成有氧化皮膜的鋁基材於將6質量%的磷酸與1.8質量%的鉻酸混合而成的70℃的水溶液中浸漬6小時,將氧化皮膜溶解去除。
將溶解去除了氧化皮膜的鋁基材浸漬於經調整為16℃的0.05M的草酸水溶液中,於80V下實施7秒鐘陽極氧化。繼而,於經調整為32℃的5質量%的磷酸水溶液中浸漬20分鐘,實施擴大氧化皮膜的孔隙的孔徑擴大處理。如此般交替重複進行陽極氧化與孔徑擴大處理,各實施合計5次。
將所得的模具於TDP-8(日光化學股份有限公司製造)的0.1質量%水溶液中浸漬10分鐘,將其提起並風乾一夜,藉此實施脫模處理。
(聚合性成分(Z))
實施例D中所用的聚合性成分(Z)如下。
DPHA-12EO:乙氧基化二季戊四醇六丙烯酸酯(氧伸乙基:12莫耳),14EGDA:聚乙二醇二丙烯酸酯(聚乙二醇的分子量=600,氧伸乙基:約14莫耳)。
(光聚合起始劑(D))
關於實施例D及比較例D中所用的光聚合起始劑(D),相對於聚合性成分(Z)100質量%,添加1.0質量%的伊魯卡(IRGACURE)184(巴斯夫(BASF)公司製造)及0.5質量%的伊魯卡(IRGACURE)819(巴斯夫(BASF)公司製造)。
[實施例D1]
將50質量%的DPHA-12EO、50質量%的14EGDA、1.0質量%的伊魯卡(IRGACURE)184及0.5質量%的伊魯卡(IRGACURE)819混合,製備活性能量線硬化性樹脂組成物。該活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的彈性模量(X)為220MPa,蠕變變形率(Y)為2.9%。
將活性能量線硬化性樹脂組成物於壓模的表面上滴落1.0cc左右,夾持厚度為100μm的墊片帶(shim tape)作為間隔件,利用作為蓋膜的厚度為38μm的PET膜(三菱樹脂(股)製造:T600)一面擴展開一面被覆後,自蓋膜側使用高壓水銀燈以1000mJ/cm2 的能量照射紫外線而進行硬化。將蓋膜剝離,繼而將硬化物層自壓模脫模,獲得表面上具有凸部的平均間隔為180nm、高度為180nm的微細凹凸結構且硬化物的厚度為100μm的膜狀的物品。另外,將所得的物品捲繞於剖面為直徑10mm的圓的圓柱狀棒上,確認到未產生破裂。獲得了可單獨取出的膜狀的物品。評價結果為耐擦傷性為A,指紋擦去性為A,耐水性為A,鉛筆硬度為2H。
[實施例D2]
除了將間隔件的厚度設定為200μm以外,與實施例D1同樣地獲得具有微細凹凸結構的物品。所得的物品是於表面上具有凸部的平均間隔為180nm、高度為180nm的微細凹凸結構,且硬化物的厚度為200μm的膜狀。另外,將所得的物品捲繞於剖面為直徑10mm的圓的圓柱狀棒上,確認到未產生破裂。評價結果為耐擦傷性為A,指紋擦去性為A,耐水性為A,鉛筆硬度為2H。
[產業上之可利用性]
本發明的光透射性物品維持優異的光學性能,並且具有高的耐擦傷性,且亦具有良好的指紋擦去性,故可用於電視、行動電話、可攜式遊戲機等的各種顯示器,於工業上有用。
另外,本發明的光透射性物品兼具作為奈米凹凸結構體的優異抗反射性能與高的耐擦傷性能,故可用於能在室外使用的各種顯示器面板、透鏡、櫥窗、汽車儀錶面罩(meter cover)、自焦透鏡陣列(rod lens array)、傳真機(Facsimile,FAX)、影印機、掃描儀(scanner)等的影像感測器(image sensor)的蓋玻璃(cover glass)、影印機的放置原稿的接觸玻璃(contact glass)、眼鏡片或提昇太陽電池的光取出率的構件等光學用途,工業上極為有用。另外,亦可用於因水滴附著而視認性變差的鏡子或窗材等。
40‧‧‧光透射性物品(物品)
42‧‧‧光透射性基材(蓋膜)
44‧‧‧微細凹凸結構層
46‧‧‧凸部

Claims (15)

  1. 一種物品,其含有包含具有氧伸乙基的(甲基)丙烯酸酯的樹脂組成物的硬化物,且於表面上包括微細凹凸結構,並且上述硬化物的壓入彈性模量(X)[MPa]及蠕變變形率(Y)[%]滿足下述式(1)及式(2):80≦X≦560 (1),Y≦(0.00022X-0.01)×100 (2)。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的物品,其中上述硬化物的壓入彈性模量(X)[MPa]及蠕變變形率(Y)[%]滿足下述式(1'):120≦X≦360 (1')。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的物品,其中上述微細凹凸結構的相鄰凸部彼此的平均間隔為120nm~380nm,上述微細凹凸結構的凸部的平均高度為100nm~300nm。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的物品,其中上述物品更包括基材,且於上述基材的至少一個表面上具備微細凹凸結構層,上述微細凹凸結構層包含活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的物品,其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量為200以上、320以下。
  6. 如申請專利範圍第4項所述的物品,其中上述活性能量線 硬化性樹脂組成物的丙烯酸當量為230以上、310以下。
  7. 如申請專利範圍第4項所述的物品,其中上述硬化物中的氧伸乙基結構所佔的比例為55.0質量%以上、74.0質量%以下。
  8. 如申請專利範圍第4項所述的物品,其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物含有聚合性成分(Z)以及光聚合起始劑(D),上述聚合性成分(Z)包含:0質量%~20質量%的多官能丙烯酸酯(A1),此多官能丙烯酸酯(A1)於分子內具有3個以上的丙烯醯基,且每1個丙烯醯基的此分子量小於110;15質量%~75質量%的多官能丙烯酸酯(B1),此多官能丙烯酸酯(B1)於分子內具有3個以上的丙烯醯基,且每1個丙烯醯基的此分子量為110以上;以及20質量%~85質量%的二官能丙烯酸酯(C1),此二官能丙烯酸酯(C1)於分子內具有2個丙烯醯基,且含有分子量為300以上的聚乙二醇結構。
  9. 如申請專利範圍第4項所述的物品,其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物含有聚合性成分(Z)以及光聚合起始劑(D),上述聚合性成分(Z)包含多官能(甲基)丙烯酸酯(A2),此多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基,且具有氧伸乙基結構,其中每1個(甲基)丙烯醯基的氧伸乙基重複數的平均值為5以上。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的物品,其中上述多官能(甲 基)丙烯酸酯(A2)為下述式(1)所表示的化合物: (式中,X為有機殘基,R為氫原子或甲基,m≧5,n≧3)。
  11. 如申請專利範圍第9項所述的物品,其中上述多官能(甲基)丙烯酸酯(A2)為選自由(聚)季戊四醇、(聚)甘油以及(二)三羥甲基丙烷的環氧乙烷改質(聚)(甲基)丙烯酸酯所組成的組群中的一種以上的化合物。
  12. 如申請專利範圍第4項所述的物品,其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物含有聚合性成分(Z)以及光聚合起始劑(D),上述聚合性成分(Z)包含:25質量%~100質量%的多官能(甲基)丙烯酸酯(A2);以及0質量%~75質量%的多官能(甲基)丙烯酸酯(B2),此多官能(甲基)丙烯酸酯(B2)於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基,且具有氧伸乙基結構,其中每1個(甲基)丙烯醯基的氧伸乙基重複數的平均值小於5。
  13. 如申請專利範圍第4項所述的物品,其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物所含有的聚合性化合物為四官能以上的(甲基)丙烯酸系單體(A3),此四官能以上的(甲基)丙烯酸系單體(A3) 含有聚伸烷基二醇結構,此聚伸烷基二醇由下述式(a)所表示的(甲基)丙烯酸系單體(A3)中的含有率(PAG)為50%以上、87%以下,PAG=M(PAG)/[M(ACR)+M(PAG)]×100 (a)M(PAG):聚伸烷基二醇結構部分的合計化學式量;M(ACR):(甲基)丙烯醯基結構部分的合計化學式量。
  14. 一種抗反射物品,其包括如申請專利範圍第1項所述的物品。
  15. 一種抗反射物品,其包括如申請專利範圍第4項所述的物品。
TW102121190A 2012-06-15 2013-06-14 物品、活性能量線硬化性樹脂組成物、光透射性物品活性能量線硬化性樹脂組成物以及抗反射物品 TWI474917B (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012135982 2012-06-15
JP2012138147A JP2013029828A (ja) 2011-06-21 2012-06-19 光透過性成形体及びそれを用いた反射防止物品
JP2012245231 2012-11-07
JP2012258346 2012-11-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201406527A TW201406527A (zh) 2014-02-16
TWI474917B true TWI474917B (zh) 2015-03-01

Family

ID=49758341

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW103141169A TW201509962A (zh) 2012-06-15 2013-06-14 活性能量線硬化性樹脂組成物以及光透射性物品活性能量線硬化性樹脂組成物
TW102121190A TWI474917B (zh) 2012-06-15 2013-06-14 物品、活性能量線硬化性樹脂組成物、光透射性物品活性能量線硬化性樹脂組成物以及抗反射物品

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW103141169A TW201509962A (zh) 2012-06-15 2013-06-14 活性能量線硬化性樹脂組成物以及光透射性物品活性能量線硬化性樹脂組成物

Country Status (8)

Country Link
US (1) US9718910B2 (zh)
EP (1) EP2863245A4 (zh)
JP (2) JP5954329B2 (zh)
KR (2) KR20150023753A (zh)
CN (1) CN104364677B (zh)
BR (1) BR112014031230A2 (zh)
TW (2) TW201509962A (zh)
WO (1) WO2013187528A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI739790B (zh) * 2016-01-15 2021-09-21 日商大賽璐股份有限公司 防止反射之材料

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104487179A (zh) * 2012-07-19 2015-04-01 日产化学工业株式会社 具有防污性的、具有凹凸形状表面的结构体及其制造方法
CN105377543B (zh) * 2013-03-29 2017-08-01 三菱化学株式会社 表面具备微细凹凸结构层的物品
JP6152762B2 (ja) * 2013-09-18 2017-06-28 三菱ケミカル株式会社 活性エネルギー線硬化型金属用含水被覆材組成物及び積層品
JP2015120860A (ja) * 2013-12-25 2015-07-02 Dic株式会社 活性エネルギー線硬化性組成物、その硬化塗膜、及び該硬化塗膜を有する物品
JP6364867B2 (ja) * 2014-03-27 2018-08-01 大日本印刷株式会社 反射防止物品、及び画像表示装置
JP6357006B2 (ja) 2014-04-18 2018-07-11 東京応化工業株式会社 細胞培養基材形成用の感光性樹脂組成物
JPWO2016006627A1 (ja) * 2014-07-11 2017-04-27 三菱レイヨン株式会社 微細凹凸構造体
JP6696114B2 (ja) * 2014-07-18 2020-05-20 大日本印刷株式会社 低反射シート
JP6458481B2 (ja) * 2014-12-16 2019-01-30 大日本印刷株式会社 反射防止物品及び美術品展示体
JP2016133704A (ja) * 2015-01-21 2016-07-25 三菱レイヨン株式会社 ロッドレンズアレイ及びロッドレンズアレイを用いた等倍結像光学装置
JP6753038B2 (ja) * 2015-04-07 2020-09-09 三菱ケミカル株式会社 光硬化性組成物
GB201512122D0 (en) * 2015-07-10 2015-08-19 Rue De Int Ltd Methods and apparatus for forming non-diffractive light control structures in or on a surface of a polymer substrate
KR20170129195A (ko) * 2015-07-24 2017-11-24 후아웨이 테크놀러지 컴퍼니 리미티드 카메라 모듈 및 단말기
JP6903418B2 (ja) * 2015-11-16 2021-07-14 デクセリアルズ株式会社 光学体、原盤、及び光学体の製造方法
WO2017145881A1 (ja) * 2016-02-22 2017-08-31 シャープ株式会社 光学部材の製造方法、及び、光学部材
JP6711683B2 (ja) * 2016-04-28 2020-06-17 シャープ株式会社 光学部材の製造方法、及び、光学部材
JP6600414B2 (ja) * 2016-08-25 2019-10-30 シャープ株式会社 防汚性フィルム
TWI596144B (zh) * 2016-10-27 2017-08-21 國立中興大學 高分子薄膜、其製造方法及其應用之抗反射元件與感測元件
JP6716724B2 (ja) 2017-01-18 2020-07-01 シャープ株式会社 防汚性フィルム
JP6919255B2 (ja) * 2017-03-22 2021-08-18 東洋インキScホールディングス株式会社 活性エネルギー線硬化型組成物
JP6915333B2 (ja) * 2017-03-22 2021-08-04 東洋インキScホールディングス株式会社 活性エネルギー線硬化型組成物
JP6375531B1 (ja) * 2017-08-29 2018-08-22 ナトコ株式会社 防曇剤組成物
KR20200135488A (ko) * 2018-03-28 2020-12-02 바스프 코팅스 게엠베하 엠보싱 구조를 코팅 수단의 표면으로 전사시키는 방법 및 엠보싱 다이로서 사용가능한 화합물 구조
CA3093570A1 (en) * 2018-03-28 2019-10-03 Basf Coatings Gmbh Method for transferring an embossed structure to the surface of a coating, and composite comprising said coating
WO2020008937A1 (ja) * 2018-07-05 2020-01-09 日産化学株式会社 フレキシブルコーティング用硬化性組成物
US11583388B2 (en) 2019-04-05 2023-02-21 Amo Groningen B.V. Systems and methods for spectacle independence using refractive index writing with an intraocular lens
US11944574B2 (en) 2019-04-05 2024-04-02 Amo Groningen B.V. Systems and methods for multiple layer intraocular lens and using refractive index writing
US11583389B2 (en) 2019-04-05 2023-02-21 Amo Groningen B.V. Systems and methods for correcting photic phenomenon from an intraocular lens and using refractive index writing
US11529230B2 (en) 2019-04-05 2022-12-20 Amo Groningen B.V. Systems and methods for correcting power of an intraocular lens using refractive index writing
US11678975B2 (en) 2019-04-05 2023-06-20 Amo Groningen B.V. Systems and methods for treating ocular disease with an intraocular lens and refractive index writing
US11564839B2 (en) 2019-04-05 2023-01-31 Amo Groningen B.V. Systems and methods for vergence matching of an intraocular lens with refractive index writing
MX2022003250A (es) * 2019-09-19 2022-04-27 Henkel Ag & Co Kgaa Composiciones de (met)acrilato fotocurables.
JP2023037702A (ja) * 2021-09-06 2023-03-16 デクセリアルズ株式会社 電子デバイスの製造方法、および、カバーガラス

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011198434A (ja) * 2010-03-23 2011-10-06 Nippon Shokubai Co Ltd 光記録媒体用硬化性樹脂組成物、硬化物及び光記録媒体
TW201139120A (en) * 2010-03-25 2011-11-16 Mitsubishi Rayon Co Active energy beam-curable resin composition and method of manufacturing product having micro protrusion and recess face structure on surface thereof

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04156415A (ja) 1990-10-19 1992-05-28 Ricoh Co Ltd 光走査装置
JPH04318577A (ja) 1991-04-17 1992-11-10 Canon Inc 転写装置
JP2000071290A (ja) 1998-08-28 2000-03-07 Teijin Ltd 反射防止物品の製造方法
JP2000234073A (ja) 1998-12-14 2000-08-29 Sumitomo Chem Co Ltd ハードコート基材の製造方法
JP3799025B2 (ja) 2003-03-18 2006-07-19 Tdk株式会社 光情報媒体の評価方法
JP4156415B2 (ja) 2003-03-20 2008-09-24 大日本印刷株式会社 賦型方法、賦型フィルム、及び射出成形品
WO2005008299A1 (ja) * 2003-07-22 2005-01-27 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. レンズシート用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物及びレンズシート
JP4318577B2 (ja) 2004-03-30 2009-08-26 株式会社巴川製紙所 低反射部材
JP4783296B2 (ja) * 2004-10-15 2011-09-28 三菱レイヨン株式会社 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物およびシート状光学物品
JP2007084602A (ja) * 2005-09-20 2007-04-05 Dainippon Ink & Chem Inc 活性エネルギー線硬化性組成物及び該組成物の硬化被膜で被覆されたアクリル樹脂成形物
JP4770354B2 (ja) 2005-09-20 2011-09-14 日立化成工業株式会社 光硬化性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法
US8034434B2 (en) * 2007-02-09 2011-10-11 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Transparent molded body and antireflective member using the same
JP4661906B2 (ja) * 2008-05-30 2011-03-30 オムロン株式会社 光学部品の製造方法
JP5616036B2 (ja) 2009-06-22 2014-10-29 株式会社Dnpファインケミカル 基材、中間膜及び微細凹凸構造膜を積層してなる積層体
JP5625278B2 (ja) 2009-08-03 2014-11-19 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム、偏光板、および表示装置
WO2011115162A1 (ja) 2010-03-17 2011-09-22 三菱レイヨン株式会社 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物および微細凹凸構造を表面に有する物品
WO2011155499A1 (ja) 2010-06-07 2011-12-15 三菱レイヨン株式会社 微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法、金型の離型処理方法、および金型表面離型処理用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011198434A (ja) * 2010-03-23 2011-10-06 Nippon Shokubai Co Ltd 光記録媒体用硬化性樹脂組成物、硬化物及び光記録媒体
TW201139120A (en) * 2010-03-25 2011-11-16 Mitsubishi Rayon Co Active energy beam-curable resin composition and method of manufacturing product having micro protrusion and recess face structure on surface thereof

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI739790B (zh) * 2016-01-15 2021-09-21 日商大賽璐股份有限公司 防止反射之材料

Also Published As

Publication number Publication date
CN104364677A (zh) 2015-02-18
CN104364677B (zh) 2017-04-05
BR112014031230A2 (pt) 2017-06-27
TW201509962A (zh) 2015-03-16
JPWO2013187528A1 (ja) 2016-02-08
JP2015129947A (ja) 2015-07-16
JP5954329B2 (ja) 2016-07-20
US20150166704A1 (en) 2015-06-18
EP2863245A4 (en) 2015-07-08
KR101756048B1 (ko) 2017-07-07
EP2863245A1 (en) 2015-04-22
KR20150023753A (ko) 2015-03-05
WO2013187528A1 (ja) 2013-12-19
US9718910B2 (en) 2017-08-01
TW201406527A (zh) 2014-02-16
KR20160087399A (ko) 2016-07-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI474917B (zh) 物品、活性能量線硬化性樹脂組成物、光透射性物品活性能量線硬化性樹脂組成物以及抗反射物品
TWI495955B (zh) 活性能量線硬化性樹脂組成物以及表面具有細微凹凸構造的物品
JP5716868B2 (ja) 積層構造体およびその製造方法と、物品
JP5352020B2 (ja) 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、微細凹凸構造体及び微細凹凸構造体の製造方法
JP6044544B2 (ja) 積層体の製造方法
TW201422439A (zh) 積層結構體及其製造方法與物品
TWI623427B (zh) 物品以及抗反射物品
TWI433882B (zh) 活性能量線硬化性樹脂組成物與使用該組成物之奈米凹凸構造體及其製造方法、以及具備奈米凹凸構造體的撥水性物品
TW201305257A (zh) 表面具有微細凹凸結構的物品及具備該物品的視訊顯示裝置
JP2013029828A (ja) 光透過性成形体及びそれを用いた反射防止物品
JP5876977B2 (ja) 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、及びそれを用いたナノ凹凸構造体とその製造方法、及びナノ凹凸構造体を備えた撥水性物品
JP2013241503A (ja) 多官能ウレタン(メタ)アクリレート、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物及び微細凹凸構造を表面に有する物品
JP2012224709A (ja) 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、及びそれを用いたナノ凹凸構造体と撥水性物品