JP6716724B2 - 防汚性フィルム - Google Patents

Description

本発明は、防汚性フィルムに関する。より詳しくは、ナノメートルサイズの凹凸構造を有する防汚性フィルムに関するものである。

反射防止性を有する光学フィルムは、種々検討されている（例えば、特許文献１〜６参照）。特に、ナノメートルサイズの凹凸構造（ナノ構造）を有する光学フィルムは、優れた反射防止性を有することが知られている。このような凹凸構造によれば、空気層から基材にかけて屈折率が連続的に変化するために、反射光を劇的に減少させることができる。

特開２０１５−１２９９４７号公報 特開２０１３−１８９１０号公報 特開２０１３−３９７１１号公報 特開２０１３−２５２６８９号公報 特許第５５７３８３６号公報 特許第５９５１１６５号公報

しかしながら、このような光学フィルムにおいては、優れた反射防止性を有する一方で、その表面の凹凸構造のために、指紋（皮脂）等の汚れが付着すると、付着した汚れが広がりやすく、更に、凸部間に入り込んだ汚れを拭き取ることが困難となることがあった。また、付着した汚れは、その反射率が光学フィルムの反射率と大きく異なるため、視認されやすかった。そのため、ナノメートルサイズの凹凸構造を表面に有し、汚れに対する拭き取り性（例えば、指紋拭き取り性）、すなわち、防汚性に優れた機能性フィルム（防汚性フィルム）が求められていた。

これに対して、本発明者らが検討したところ、光学フィルムの凹凸構造を構成する重合体層において、その構成材料を工夫することによって、防汚性に加えて種々の特性も高まった防汚性フィルムを実現することができることが分かった。具体的には、重合体層の構成材料として、フッ素系離型剤を配合すれば防汚性が高まり、その配合量を調整することで、高温／高湿の環境下におけるブリードアウトが防止され、信頼性も高まることが分かった。また、重合体層の構成材料として、単官能アミドモノマーを配合すれば、防汚性フィルムの重合体層と基材との密着性が高まることが分かった。更に、重合体層の構成材料として、エチレンオキサイド基を有する多官能アクリレートを配合すれば、耐擦性が高まることが分かった。

しかしながら、本発明者らが更に検討したところ、重合体層（凹凸構造）の表面に付着した指紋を拭き取った後、防汚性フィルムを高湿下に放置すると、拭き取った指紋の跡が浮き出して見えてしまうことが分かった。特に、重合体層の構成材料としてフッ素系離型剤を配合した場合は、付着した指紋が広がりにくいために、拭き取った指紋の跡が顕著に浮き出して見えた。

以上のように、従来の防汚性フィルムに対しては、防汚性、密着性、耐擦性、及び、信頼性を高めつつ、高湿下における指紋の浮き出しを抑制するという課題があった。しかしながら、上記課題を解決する手段は見出されていなかった。例えば、上記特許文献１〜６には、高湿下における指紋の浮き出しに関する記載がなく、改善の余地があった。

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、防汚性、密着性、耐擦性、及び、信頼性がともに優れ、高湿下における指紋の浮き出しが抑制された防汚性フィルムを提供することを目的とするものである。

本発明者らは、防汚性、密着性、耐擦性、及び、信頼性がともに優れ、高湿下における指紋の浮き出しが抑制された防汚性フィルムについて種々検討したところ、重合体層の構成材料として、エチレンオキサイド基を有する多官能アクリレート、単官能アミドモノマー、及び、フッ素系離型剤を所定の割合で用い、多官能アクリレート中のエチレンオキサイド基及び単官能アミドモノマーの合計量を所定の範囲とすることを見出した。これにより、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。

すなわち、本発明の一態様は、基材と、上記基材の表面上に配置される、複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有する重合体層とを備える防汚性フィルムであって、上記重合体層は、重合性組成物の硬化物であり、上記重合性組成物は、有効成分換算で、エチレンオキサイド基を有する多官能アクリレートを２０〜９０重量％、単官能アミドモノマーを５〜２５重量％、フッ素系離型剤を０．５〜１０重量％含有し、かつ、上記多官能アクリレート中の上記エチレンオキサイド基及び上記単官能アミドモノマーを合計で４０〜６５重量％含有する防汚性フィルムであってもよい。

上記多官能アクリレートは、エチレンオキサイド基を１官能基当たり２〜７個有する２官能の第一の多官能アクリレートと、エチレンオキサイド基を１官能基当たり１〜２個有する３〜６官能の第二の多官能アクリレートとを含み、上記重合性組成物は、有効成分換算で、上記第一の多官能アクリレートを２０〜６５重量％、上記第二の多官能アクリレートを１０〜７０重量％含有していてもよい。

上記単官能アミドモノマーは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドを含んでいてもよい。

上記フッ素系離型剤は、パーフルオロポリエーテル基を有していてもよい。

上記重合体層の表面に対して、ヘキサデカンの接触角は６０°以上であってもよい。

上記重合体層の厚みは、５．０μｍ以上、２０．０μｍ以下であってもよい。

上記複数の凸部の平均ピッチは、１００ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であってもよい。

上記複数の凸部の平均高さは、５０ｎｍ以上、６００ｎｍ以下であってもよい。

上記複数の凸部の平均アスペクト比は、０．８以上、１．５以下であってもよい。

本発明によれば、防汚性、密着性、耐擦性、及び、信頼性がともに優れ、高湿下における指紋の浮き出しが抑制された防汚性フィルムを提供することができる。

実施形態の防汚性フィルムを示す断面模式図である。 図１中の重合体層を示す平面模式図である。 実施形態の防汚性フィルムの製造方法例を説明するための断面模式図である。

以下に実施形態を掲げ、本発明について図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこの実施形態のみに限定されるものではない。また、実施形態の各構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよいし、変更されてもよい。

本明細書中、「Ｘ〜Ｙ」は、「Ｘ以上、Ｙ以下」を意味する。

［実施形態］
実施形態の防汚性フィルムについて、図１及び図２を参照して以下に説明する。図１は、実施形態の防汚性フィルムを示す断面模式図である。図２は、図１中の重合体層を示す平面模式図である。

防汚性フィルム１は、基材２と、基材２の表面上に配置される重合体層３とを備えている。

基材２の材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）等の樹脂が挙げられる。基材２は、上記材料に加えて、可塑剤等の添加剤を適宜含んでいてもよい。基材２の表面（重合体層３側の表面）には易接着処理が施されていてもよく、例えば、易接着処理が施されたトリアセチルセルロースフィルムを用いることができる。また、基材２の表面（重合体層３側の表面）にはケン化処理が施されていてもよく、例えば、ケン化処理が施されたトリアセチルセルロースフィルムを用いることができる。防汚性フィルム１が液晶表示装置等の偏光板を備える表示装置に取り付けられるものである場合、基材２は、偏光板の一部を構成するものであってもよい。

基材２の厚みは、透明性及び加工性を確保する観点から、５０μｍ以上、１００μｍ以下であることが好ましい。

重合体層３は、複数の凸部（突起）４が可視光の波長（７８０ｎｍ）以下のピッチ（隣接する凸部４の頂点間の距離）Ｐで設けられる凹凸構造、すなわち、モスアイ構造（蛾の目状の構造）を表面に有している。よって、防汚性フィルム１は、モスアイ構造による優れた反射防止性（低反射性）を示すことができる。

重合体層３の厚みＴは、後述するフッ素系離型剤中のフッ素原子を重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）に高濃度で配向させる観点から、薄いことが好ましい。具体的には、重合体層３の厚みＴは、５．０μｍ以上、２０．０μｍ以下であることが好ましく、８．０μｍ以上、１２．０μｍ以下であることがより好ましい。重合体層３の厚みＴは、図１に示すように、基材２側の表面から凸部４の頂点までの距離を指す。

凸部４の形状としては、例えば、柱状の下部と半球状の上部とによって構成される形状（釣鐘状）、錐体状（コーン状、円錐状）等の、先端に向かって細くなる形状（テーパー形状）が挙げられる。図１中、隣接する凸部４の間隙の底辺は傾斜した形状となっているが、傾斜せずに水平な形状であってもよい。

複数の凸部４の平均ピッチは、モアレ、虹ムラ等の光学現象の発生を充分に防止する観点から、１００ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であることがより好ましい。複数の凸部４の平均ピッチは、具体的には、走査型電子顕微鏡で撮影された平面写真の１μｍ角の領域内における、すべての隣接する凸部のピッチの平均値を指す。

複数の凸部４の平均高さは、後述する複数の凸部４の好ましい平均アスペクト比と両立させる観点から、５０ｎｍ以上、６００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以上、３００ｎｍ以下であることがより好ましい。複数の凸部４の平均高さは、具体的には、走査型電子顕微鏡で撮影された断面写真における、連続して並んだ１０個の凸部の高さの平均値を指す。ただし、１０個の凸部を選択する際は、欠損や変形した部分（測定用試料を準備する際に変形させてしまった部分等）がある凸部を除く。

複数の凸部４の平均アスペクト比は、０．８以上、１．５以下であることが好ましく、１．０以上、１．３以下であることがより好ましい。複数の凸部４の平均アスペクト比が０．８未満である場合、モアレ、虹ムラ等の光学現象の発生を充分に防止することができず、優れた反射防止性が得られないことがある。複数の凸部４の平均アスペクト比が１．５よりも大きい場合、凹凸構造の加工性が低下し、スティッキングが発生したり、凹凸構造を形成する際の転写具合が悪化したりする（後述する金型６が詰まったり、巻き付いてしまう、等）ことがある。複数の凸部４の平均アスペクト比は、上述した複数の凸部４の平均高さと平均ピッチとの比（高さ／ピッチ）を指す。

凸部４は、ランダムに配置されていても、規則的（周期的）に配置されていてもよい。凸部４の配置には周期性があってもよいが、その周期性に起因する不要な回折光が発生しない等の利点から、図２に示すように、凸部４の配置には周期性がない（ランダムである）ことが好ましい。

重合体層３は、重合性組成物の硬化物である。重合体層３としては、例えば、活性エネルギー線硬化性の重合性組成物の硬化物、熱硬化性の重合性組成物の硬化物等が挙げられる。ここで、活性エネルギー線は、紫外線、可視光線、赤外線、プラズマ等を指す。重合体層３は、活性エネルギー線硬化性の重合性組成物の硬化物であることが好ましく、中でも、紫外線硬化性の重合性組成物の硬化物であることがより好ましい。

重合性組成物は、有効成分換算で、エチレンオキサイド基を有する多官能アクリレート（以下、成分Ａとも言う。）を２０〜９０重量％、単官能アミドモノマー（以下、成分Ｂとも言う。）を５〜２５重量％、フッ素系離型剤（以下、成分Ｃとも言う。）を０．５〜１０重量％含有し、かつ、多官能アクリレート（成分Ａ）中のエチレンオキサイド基及び単官能アミドモノマー（成分Ｂ）を合計で４０〜６５重量％含有する。

重合性組成物の有効成分（成分Ａ〜Ｃの有効成分）は、硬化後に重合体層３の構成成分となるものを指し、硬化反応（重合反応）に寄与しない成分（例えば、溶剤）を除く。例えば、成分Ｃの有効成分は、フッ素原子を分子内に含有する化合物を指す。

重合性組成物は、成分Ａ〜Ｃを上述した割合で含有するものであれば、その他の成分を含有していてもよい。

成分Ａ〜Ｃについて、以下に説明する。

＜成分Ａ＞
成分Ａによれば、重合体層３の架橋密度が高まり、適度な硬度（弾性）が付与されるため、耐擦性が高まる。更に、エチレンオキサイド基の高い極性によって基材２との相互作用が高まるため、密着性が高まる。耐擦性は、重合体層３の架橋密度及びガラス転移温度と相関すると考えられ、架橋密度を上げ、かつ、ガラス転移温度を下げれば、耐擦性を顕著に高めることができる。例えば、重合性組成物がプロピレンオキサイド基を有する多官能アクリレートを含有すれば、エチレンオキサイド基を有する多官能アクリレートを含有する場合と比較して、ガラス転移温度が高くなってしまう。これは、プロピレンオキサイド基が有する分岐状の−ＣＨ_３によって、分子運動が束縛されるためである。また、プロピレンオキサイド基（炭化水素基も同様）はエチレンオキサイド基よりも極性が低く、基材２との相互作用が低下するため、密着性が低下してしまう。そのため、本実施形態では、耐擦性及び密着性の観点から、エチレンオキサイド基を選定している。ここで、多官能アクリレートは、アクリロイル基を１分子当たり２個以上有するアクリレートを指す。

重合性組成物中の成分Ａの含有率は、有効成分換算で、２０〜９０重量％であり、好ましくは２５〜８５重量％、より好ましくは３０〜８０重量％である。成分Ａの含有率が有効成分換算で２０重量％未満である場合、重合体層３の弾性が不足するため（ガラス転移温度が高くなるため）、耐擦性が低下する。成分Ａの含有率が有効成分換算で９０重量％よりも高い場合、重合体層３の架橋密度が低くなり過ぎてしまうため、耐擦性が低下する。重合性組成物が成分Ａを複数種類含有する場合、複数の成分Ａの含有率の合計が有効成分換算で上記範囲内であればよい。

成分Ａは、エチレンオキサイド基を１官能基当たり２〜７個有する２官能の第一の多官能アクリレートと、エチレンオキサイド基を１官能基当たり１〜２個有する３〜６官能の第二の多官能アクリレートとを含み、重合性組成物は、有効成分換算で、第一の多官能アクリレートを２０〜６５重量％、第二の多官能アクリレートを１０〜７０重量％含有することが好ましい。成分Ａとして、第一の多官能アクリレート及び第二の多官能アクリレートを組み合わせて用いれば、密着性及び耐擦性がより高まり、高湿下における指紋の浮き出しがより抑制される。ここで、多官能アクリレートの官能基数は、１分子当たりのアクリロイル基の個数を指す。また、１官能基当たりのエチレンオキサイド基の個数は、（１分子当たりのエチレンオキサイド基の個数）／（１分子当たりのアクリロイル基の個数）を指す。

第一の多官能アクリレートの含有率が有効成分換算で２０重量％未満である場合、重合性組成物の硬化収縮が抑制されず、密着性が低下することがある。第一の多官能アクリレートの含有率が有効成分換算で６５重量％よりも高い場合、重合体層３の架橋密度が高まらず、硬度が低くなり過ぎてしまうことがあるため、耐擦性が高まりにくいことがある。重合性組成物中の第一の多官能アクリレートの含有率は、有効成分換算で、より好ましくは２５〜５５重量％、更に好ましくは３０〜４５重量％である。

第二の多官能アクリレートの含有率が有効成分換算で１０重量％未満である場合、重合体層３の架橋密度が高まらず、硬度が低くなり過ぎてしまうことがあるため、耐擦性が高まりにくいことがある。第二の多官能アクリレートの含有率が有効成分換算で７０重量％よりも高い場合、重合性組成物の硬化収縮が抑制されず、密着性が低下することがある。また、重合体層３の架橋密度が低くなり過ぎてしまい（ガラス転移温度が高くなり過ぎてしまい）、耐擦性が高まりにくいことがある。重合性組成物中の第二の多官能アクリレートの含有率は、有効成分換算で、より好ましくは１５〜６５重量％、更に好ましくは２０〜６０重量％である。

第一の多官能アクリレート及び第二の多官能アクリレートにおいて、エチレンオキサイド基の個数が少な過ぎると、重合体層３の弾性が不足することがあるため、耐擦性が高まりにくいことがある。一方、エチレンオキサイド基の個数が多過ぎると、架橋点間分子量が多くなり、吸湿性が高くなり過ぎてしまうことがあるため、高湿下における指紋の浮き出しが抑制されにくいことがある。

成分Ａとしては、例えば、ポリエチレングリコールジアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールトリアクリレート、エトキシ化グリセロールトリアクリレート、アルコキシ化ジペンタエリスリトールポリアクリレート等が挙げられる。ポリエチレングリコールジアクリレートの公知例としては、新中村化学工業社製の「ＮＫエステル Ａ−２００」（官能基数：２、エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり２個、エチレンオキサイド基の重量割合：０．５７）、「ＮＫエステル Ａ−４００」（官能基数：２、エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり４．５個、エチレンオキサイド基の重量割合：０．７８）、「ＮＫエステル Ａ−６００」（官能基数：２、エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり７個、エチレンオキサイド基の重量割合：０．８７）等が挙げられる。エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレートの公知例としては、新中村化学工業社製の「ＮＫエステル ＡＴＭ−３５Ｅ」（官能基数：４、エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり８．７５個、エチレンオキサイド基の重量割合：０．８１）、「ＮＫエステル ＡＴＭ−４Ｅ」（官能基数：４、エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり１個、エチレンオキサイド基の重量割合：０．３３）等が挙げられる。エトキシ化ペンタエリスリトールトリアクリレートの公知例としては、新中村化学工業社製の「ＮＫエステル Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ」（官能基数：３、エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり１個、エチレンオキサイド基の重量割合：０．３１）等が挙げられる。エトキシ化グリセロールトリアクリレートの公知例としては、新中村化学工業社製の「ＮＫエステル Ａ−ＧＬＹ−３Ｅ」（官能基数：３、エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり１個、エチレンオキサイド基の重量割合：０．３４）等が挙げられる。アルコキシ化ジペンタエリスリトールポリアクリレートの公知例としては、日本化薬社製の「ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標） ＤＰＥＡ−１２」（官能基数：６、エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり２個、エチレンオキサイド基の重量割合：０．４８）等が挙げられる。

＜成分Ｂ＞
成分Ｂによれば、成分Ａ、Ｃの相溶性が高まるため、耐擦性が高まる。更に、重合性組成物の硬化収縮を抑制し、基材２との凝集力が高まるため、密着性が高まる。成分Ｃは長鎖構造を有していることがあり、成分Ａとの相溶性が低い。そのため、成分Ｂは、基材２との凝集力を高める役割だけではなく、成分Ａ、Ｃの反応性希釈剤（相溶化剤）の役割も担っている。ここで、単官能アミドモノマーは、アミド基を有し、かつ、アクリロイル基を１分子当たり１個有するアクリレートを指す。

重合性組成物中の成分Ｂの含有率は、有効成分換算で、５〜２５重量％であり、好ましくは７．５〜２０重量％、より好ましくは１０〜１５重量％である。すなわち、重合性組成物に対する、成分Ｂ中のアミド基の含有率は、０．５〜２．５ｍｍｏｌ／ｇであり、好ましくは０．７５〜２．０ｍｍｏｌ／ｇ、より好ましくは１．０〜１．５ｍｍｏｌ／ｇである。成分Ｂの含有率が有効成分換算で５重量％未満である場合、滑り性が低下し、その結果、耐擦性が低下する。また、重合性組成物の硬化収縮が抑制されず、密着性が低下する。成分Ｂの含有率が有効成分換算で２５重量％よりも高い場合、重合体層３の架橋密度が低くなり過ぎてしまうため（ガラス転移温度が高くなり過ぎてしまうため）、耐擦性が低下する。重合性組成物が成分Ｂを複数種類含有する場合、複数の成分Ｂの含有率の合計が有効成分換算で上記範囲内であればよい。

成分Ｂとしては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド等が挙げられる。Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドの公知例としては、ＫＪケミカルズ社製の「ＤＭＡＡ（登録商標）」等が挙げられる。Ｎ−アクリロイルモルホリンの公知例としては、ＫＪケミカルズ社製の「ＡＣＭＯ（登録商標）」等が挙げられる。Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミドの公知例としては、ＫＪケミカルズ社製の「ＤＥＡＡ（登録商標）」等が挙げられる。Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミドの公知例としては、ＫＪケミカルズ社製の「ＨＥＡＡ（登録商標）」等が挙げられる。ダイアセトンアクリルアミドの公知例としては、日本化成社製の「ＤＡＡＭ（登録商標）」等が挙げられる。Ｎ−ｎ−ブトキシメチルアクリルアミドの公知例としては、ＭＲＣユニテック社製の「ＮＢＭＡ」等が挙げられる。

成分Ｂは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドを含むことが好ましい。このような構成によれば、成分Ｂの粘度が低くなり、成分Ａ、Ｃとの相溶性がより高まる。また、基材２がトリアセチルセルロースフィルムであっても、密着性が高まる。

＜成分Ｃ＞
成分Ｃによれば、フッ素原子が重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）に配向し、重合体層３の表面自由エネルギーが低くなるため、防汚性が高まる。更に、滑り性が高まり、その結果、耐擦性が高まる。ここで、フッ素系離型剤は、フッ素原子を分子内に含有する化合物を有効成分として含むものを指す。

重合性組成物中の成分Ｃの含有率は、有効成分換算で、０．５〜１０重量％であり、好ましくは１〜５重量％、より好ましくは１．５〜３重量％である。成分Ｃの含有率が有効成分換算で０．５重量％未満である場合、重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）に配向するフッ素原子の量が少なくなり過ぎてしまうため、防汚性が低下する。また、滑り性が低下し、その結果、耐擦性が低下する。成分Ｃの含有率が有効成分換算で１０重量％よりも高い場合、成分Ａ、Ｂとの相溶性が低くなり過ぎてしまい、フッ素原子が重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）に均一に配向しないため、防汚性及び耐擦性が低下する。また、高温／高湿の環境下においてブリードアウトしやすくなり、光学特性（信頼性）が低下する。重合性組成物が成分Ｃを複数種類含有する場合、複数の成分Ｃの含有率の合計が有効成分換算で上記範囲内であればよい。

成分Ｃは、パーフルオロポリエーテル基を有していても、パーフルオロアルキル基を有していてもよいが、パーフルオロポリエーテル基を有することが好ましい。パーフルオロポリエーテル基を有する離型剤によれば、パーフルオロポリエーテル基を有さない離型剤（例えば、パーフルオロアルキル基を有する離型剤、シリコン系離型剤等）と比較して、防汚性及び耐擦性がより高まる。

成分Ｃの公知例としては、ソルベイ社製の「フォンブリン（登録商標）ＭＴ７０」、「フォンブリンＡＤ１７００」、ダイキン工業社製の「オプツール（登録商標）ＤＡＣ」、「オプツールＤＡＣ−ＨＰ」等が挙げられる。

重合性組成物は、有効成分換算で、成分Ａ中のエチレンオキサイド基及び成分Ｂを合計で４０〜６５重量％、好ましくは４５〜６０重量％、より好ましくは５０〜５５重量％含有する。成分Ａ中のエチレンオキサイド基及び成分Ｂの含有率の合計が有効成分換算で４０重量％未満である場合、密着性又は耐擦性が低下する。成分Ａ中のエチレンオキサイド基及び成分Ｂの含有率の合計が有効成分換算で６５重量％よりも高い場合、吸湿性が高くなり過ぎてしまうため、高湿下における指紋の浮き出しが抑制されない。

本発明者らは、高湿下において指紋が浮き出すメカニズムについて、下記のように考えている。まず、重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）に付着した指紋を拭き取ろうとすると、凸部４付近に付着した指紋は拭き取れるが、隣接する凸部４の間隙に入り込んだ指紋、及び、重合体層３の内部に浸透した指紋は拭き取れずに残存する。そして、防汚性フィルム１をこの状態で高湿下に放置すると、指紋が残存していない部分と指紋が残存した部分との間で吸湿性が異なるために屈折率の差が大きくなり、その結果、指紋が残存した部分が浮き出して見える。ここで、成分Ａ中のエチレンオキサイド基と成分Ｂ中のアミド基とはともに極性が高いため、吸湿性が高い。そのため、重合体層３を構成する重合性組成物が成分Ａ及び成分Ｂを含有する場合は、高湿下における指紋の浮き出しが顕著となる。これに対して、本実施形態では、成分Ａ中のエチレンオキサイド基及び成分Ｂの含有率の合計を所定の範囲とすることで、防汚性、密着性、及び、耐擦性を高めつつ、高湿下における指紋の浮き出しを抑制している。

重合性組成物は、更に、重合開始剤を含有していてもよい。これにより、重合性組成物の硬化性が高まる。

重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤、熱重合開始剤等が挙げられ、中でも、光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤は、活性エネルギー線に対して活性であり、モノマーを重合する重合反応を開始させるために添加されるものである。

光重合開始剤としては、例えば、ラジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオン重合開始剤等が挙げられる。このような光重合開始剤としては、例えば、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、２，２’−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のアセトフェノン類；ベンゾフェノン、４，４’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン等のケトン類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類；ベンジルジメチルケタール、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のベンジルケタール類；２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド類；１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン等のアルキルフェノン類、等が挙げられる。２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイドの公知例としては、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製の「ＬＵＣＩＲＩＮ（登録商標） ＴＰＯ」、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） ＴＰＯ」等が挙げられる。ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドの公知例としては、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９」等が挙げられる。１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンの公知例としては、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４」等が挙げられる。

重合性組成物は、更に、溶剤（有効成分以外の成分）を含有していてもよい。この場合、溶剤は、成分Ａ〜Ｃ中に有効成分とともに含有されていてもよく、成分Ａ〜Ｃとは別に含有されていてもよい。

溶剤としては、例えば、アルコール（炭素数１〜１０：例えば、メタノール、エタノール、ｎ−又はｉ−プロパノール、ｎ−、ｓｅｃ−、又は、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、オクタノール等）、ケトン（炭素数３〜８：例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、ジブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エステル又はエーテルエステル（炭素数４〜１０：例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等）、γ−ブチロラクトン、エチレングリコールモノメチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルアセテート、エーテル（炭素数４〜１０：例えば、ＥＧモノメチルエーテル（メチルセロソロブ）、ＥＧモノエチルエーテル（エチルセロソロブ）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソロブ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、芳香族炭化水素（炭素数６〜１０：例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、アミド（炭素数３〜１０：例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、ハロゲン化炭化水素（炭素数１〜２：例えば、メチレンジクロライド、エチレンジクロライド等）、石油系溶剤（例えば、石油エーテル、石油ナフサ等）等が挙げられる。

防汚性の観点から、重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）に対して、ヘキサデカンの接触角は６０°以上であることが好ましい。

防汚性フィルム１の用途は、その優れた防汚性を活用するものであれば特に限定されず、例えば、反射防止フィルム等の光学フィルム用途であってもよい。このような反射防止フィルムは、表示装置の内部又は外部に取り付けることで、視認性の向上に寄与する。

防汚性フィルム１の防汚性は、重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）に付着した汚れが容易に除去可能なことを意味していてもよく、重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）に汚れが付着しにくいことを意味していてもよい。また、防汚性フィルム１によれば、モスアイ構造による効果で、平坦面等の通常の表面を有する従来のフッ素含有フィルムよりも高い防汚性が得られる。

防汚性フィルム１は、例えば、以下の製造方法によって製造される。図３は、実施形態の防汚性フィルムの製造方法例を説明するための断面模式図である。

（プロセス１）
図３（ａ）に示すように、重合性組成物５を基材２の表面上に塗布する。

重合性組成物５の塗布方法としては、例えば、スプレー方式、グラビア方式、スロットダイ方式、バーコート方式等で塗布する方法が挙げられる。重合性組成物５の塗布方法としては、膜厚を均一にし、生産性を向上する観点から、グラビア方式又はスロットダイ方式で塗布する方法が好ましい。

重合性組成物５は、成分Ａ〜Ｃを上述した割合で含有するものである。ここで、重合性組成物５が溶剤（有効成分以外の成分）を更に含有する場合、重合性組成物５の塗布後に、溶剤を除去する加熱処理（乾燥処理）を行ってもよい。加熱処理は、溶剤の沸点以上の温度で行われることが好ましい。

（プロセス２）
図３（ｂ）に示すように、重合性組成物５を間に挟んだ状態で、基材２を金型６に押し当てる。その結果、凹凸構造が重合性組成物５の表面（基材２とは反対側の表面）に形成される。

（プロセス３）
凹凸構造を表面に有する重合性組成物５を硬化させる。その結果、図３（ｃ）に示すように、重合体層３が形成される。

重合性組成物５の硬化方法としては、例えば、活性エネルギー線の照射、加熱等による方法が挙げられる。重合性組成物５の硬化は、活性エネルギー線の照射によって行われることが好ましく、中でも、紫外線の照射によって行われることがより好ましい。活性エネルギー線の照射は、重合性組成物５の基材２側から行ってもよく、重合性組成物５の金型６側から行ってもよい。また、重合性組成物５に対する活性エネルギー線の照射回数は、１回のみであってもよいし、複数回であってもよい。重合性組成物５の硬化（上記プロセス３）は、重合性組成物５への凹凸構造の形成（上記プロセス２）と同じタイミングで行ってもよい。

（プロセス４）
図３（ｄ）に示すように、金型６を重合体層３から剥離する。その結果、防汚性フィルム１が完成する。

本製造方法例において、例えば、基材２をロール状にすれば、上記プロセス１〜４を連続的かつ効率的に行うことができる。

上記プロセス１、２について、本製造方法例では、重合性組成物５を基材２の表面上に塗布した後、重合性組成物５を間に挟んだ状態で、基材２を金型６に押し当てるプロセスを示したが、重合性組成物５を金型６の表面上に塗布した後、重合性組成物５を間に挟んだ状態で、基材２を金型６に押し当てるプロセスであってもよい。

金型６としては、例えば、下記の方法で作製されるものを用いることができる。まず、金型６の材料となるアルミニウムを、支持基材の表面上にスパッタリング法によって成膜する。次に、成膜されたアルミニウムの層に対して、陽極酸化及びエッチングを交互に繰り返すことによって、モスアイ構造の雌型（金型６）を作製することができる。この際、陽極酸化を行う時間、及び、エッチングを行う時間を調整することによって、金型６の凹凸構造を変化させることができる。

支持基材の材料としては、例えば、ガラス；ステンレス、ニッケル等の金属；ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、環状オレフィン系高分子（代表的には、ノルボルネン系樹脂等である、日本ゼオン社製の「ゼオノア（登録商標）」、ＪＳＲ社製の「アートン（登録商標）」）等のポリオレフィン系樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース等の樹脂、等が挙げられる。また、支持基材の表面上にアルミニウムを成膜したものの代わりに、アルミニウム製の基材を用いてもよい。

金型６の形状としては、例えば、平板状、ロール状等が挙げられる。

金型６の表面は、離型処理が施されていることが好ましい。これにより、金型６を重合体層３から容易に剥離することができる。また、金型６の表面自由エネルギーが低くなるため、上記プロセス２において、基材２を金型６に押し当てる際に、成分Ｃ中のフッ素原子を重合性組成物５の表面（基材２とは反対側の表面）に均一に配向させることができる。更に、重合性組成物５を硬化させる前に、成分Ｃ中のフッ素原子が重合性組成物５の表面（基材２とは反対側の表面）から離れてしまうことを防止することができる。その結果、防汚性フィルム１において、成分Ｃ中のフッ素原子を重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）に均一に配向させることができる。

金型６の離型処理に用いられる材料としては、例えば、フッ素系材料、シリコン系材料、リン酸エステル系材料等が挙げられる。フッ素系材料の公知例としては、ダイキン工業社製の「オプツールＤＳＸ」、「オプツールＡＥＳ４」等が挙げられる。

［実施例及び比較例］
以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。

実施例及び比較例において、防汚性フィルムを製造するために用いた材料は以下の通りである。

＜基材＞
富士フイルム社製の「ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ」を用い、その厚みは８０μｍであった。

＜金型＞
下記の方法で作製したものを用いた。まず、金型の材料となるアルミニウムを、１０ｃｍ角のガラス基板上にスパッタリング法によって成膜した。成膜されたアルミニウムの層の厚みは、１．０μｍであった。次に、成膜されたアルミニウムの層に対して、陽極酸化及びエッチングを交互に繰り返すことによって、多数の微小な穴（隣り合う穴（凹部）の底点間の距離が可視光の波長以下）が設けられた陽極酸化層を形成した。具体的には、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、及び、陽極酸化を順に行う（陽極酸化：５回、エッチング：４回）ことによって、アルミニウムの層の内部に向かって細くなる形状（テーパー形状）を有する微小な穴（凹部）を多数形成し、その結果、凹凸構造を有する金型が得られた。陽極酸化は、シュウ酸（濃度：０．０３重量％）を用いて、液温５℃、印加電圧８０Ｖの条件下で行った。１回の陽極酸化を行う時間は、２５秒とした。エッチングは、リン酸（濃度：１ｍｏｌ／ｌ）を用いて、液温３０℃の条件下で行った。１回のエッチングを行う時間は、２５分とした。金型を走査型電子顕微鏡で観察したところ、凹部の深さは２９０ｎｍであった。なお、金型の表面には、ダイキン工業社製の「オプツールＡＥＳ４」によって事前に離型処理を施した。

＜重合性組成物＞
表１〜８に示すような組成の重合性組成物Ｒ１〜Ｒ２２、及び、ｒ１〜ｒ１３を用いた。表１〜８中の数値は、各成分の配合量（単位：重量部）を示す。各成分の略称は、以下の通りである。

（多官能アクリレート）
・「ＡＴＭ−３５Ｅ」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステル ＡＴＭ−３５Ｅ」
官能基数：４
エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり８．７５個
エチレンオキサイド基の重量割合：０．８１
有効成分：１００重量％
・「Ａ−２００」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステル Ａ−２００」
官能基数：２
エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり２個
エチレンオキサイド基の重量割合：０．５７
有効成分：１００重量％
・「Ａ−４００」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステル Ａ−４００」
官能基数：２
エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり４．５個
エチレンオキサイド基の重量割合：０．７８
有効成分：１００重量％
・「Ａ−６００」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステル Ａ−６００」
官能基数：２
エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり７個
エチレンオキサイド基の重量割合：０．８７
有効成分：１００重量％
・「Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステル Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ」
官能基数：３
エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり１個
エチレンオキサイド基の重量割合：０．３１
有効成分：１００重量％
・「Ａ−ＧＬＹ−３Ｅ」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステル Ａ−ＧＬＹ−３Ｅ」
官能基数：３
エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり１個
エチレンオキサイド基の重量割合：０．３４
有効成分：１００重量％
・「ＡＴＭ−４Ｅ」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステル ＡＴＭ−４Ｅ」
官能基数：４
エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり１個
エチレンオキサイド基の重量割合：０．３３
有効成分：１００重量％
・「ＤＰＥＡ−１２」
日本化薬社製の「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＥＡ−１２」
官能基数：６
エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり２個
エチレンオキサイド基の重量割合：０．４８
有効成分：１００重量％
・「Ｕ」
新中村化学工業社製の「Ｕ−１０ＨＡ」
エチレンオキサイド基：有さない
有効成分：１００重量％
・「Ａ−ＤＰＨ」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステル Ａ−ＤＰＨ」
エチレンオキサイド基：有さない
有効成分：１００重量％
・「Ａ−ＴＭＰＴ」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステル Ａ−ＴＭＰＴ」
エチレンオキサイド基：有さない
有効成分：１００重量％
・「ＡＰＧ−４００」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステル ＡＰＧ−４００」
エチレンオキサイド基：有さない
有効成分：１００重量％
・「ＡＰＧ−７００」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステル ＡＰＧ−７００」
エチレンオキサイド基：有さない
有効成分：１００重量％
・「ＡＴＭ−４ＰＬ」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステル ＡＴＭ−４ＰＬ」
エチレンオキサイド基：有さない
有効成分：１００重量％
・「ＤＰＣＡ−６０」
日本化薬社製の「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ−６０」
エチレンオキサイド基：有さない
有効成分：１００重量％
・「ＤＰＣＡ−１２０」
日本化薬社製の「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ−１２０」
エチレンオキサイド基：有さない
有効成分：１００重量％

（単官能アミドモノマー）
・「ＤＭ」
ＫＪケミカルズ社製の「ＤＭＡＡ」
有効成分：１００重量％

（離型剤）
・「ＭＴ７０」
ソルベイ社製の「フォンブリンＭＴ７０」
パーフルオロポリエーテル基：有する（フッ素系離型剤）
有効成分：８０重量％
・「ＢＹＫ」
ビックケミー・ジャパン社製の「ＢＹＫ（登録商標）−ＵＶ３５７０」
パーフルオロポリエーテル基：有さない（シリコン系離型剤）
有効成分：７０重量％

（重合開始剤）
・「ＴＰＯ」
ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製の「ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ」
有効成分：１００重量％

下記（１）〜（４）を有効成分換算したものを、表９〜１６に示す。
（１）重合性組成物に対する成分Ａ〜Ｃの含有率（表中、「成分Ａの含有率」、「成分Ｂの含有率」、及び、「成分Ｃの含有率」）
（２）重合性組成物に対する、成分Ａ中のエチレンオキサイド基の含有率（表中、「ＥＯ基の含有率」）
（３）重合性組成物に対する、成分Ｂ中のアミド基の含有率（表中、「アミド基の含有率」）
（４）重合性組成物に対する、成分Ａ中のエチレンオキサイド基及び成分Ｂの含有率の合計（表中、「ＥＯ基及び成分Ｂの含有率の合計」）

（実施例１）
実施例１の防汚性フィルムを、以下の製造方法によって製造した。

（プロセス１）
重合性組成物Ｒ１を帯状に塗布した。重合性組成物Ｒ１の塗布は、基材２の表面上に塗布した場合（以下、仕様１とも言う。）と、金型６の端部の表面上に塗布した場合（以下、仕様２とも言う。）との２仕様で行った。その後、重合性組成物Ｒ１が塗布された状態のもの（基材２及び金型６）をオーブンに入れて、温度８０℃で１分間加熱処理し、重合性組成物Ｒ１から溶剤を揮発させた。

（プロセス２）
重合性組成物Ｒ１（溶剤揮発後）を間に挟んだ状態で、基材２を金型６にハンドローラーで押し当てた。その結果、凹凸構造が重合性組成物Ｒ１の表面（基材２とは反対側の表面）に形成された。

（プロセス３）
凹凸構造を表面に有する重合性組成物Ｒ１に、基材２側から紫外線（照射量：１Ｊ／ｃｍ^２）を照射して硬化させた。その結果、重合体層３が形成された。

（プロセス４）
金型６を重合体層３から剥離した。その結果、防汚性フィルム１が完成した。重合体層３の厚みＴは、上述した仕様１及び仕様２の両方において、９．８μｍであった。

防汚性フィルム１の表面仕様は、上述した仕様１及び仕様２の両方において、下記の通りであった。
凸部４の形状：釣鐘状
凸部４の平均ピッチ：２００ｎｍ
凸部４の平均高さ：２００ｎｍ
凸部４の平均アスペクト比：１．０

防汚性フィルム１の表面仕様の評価は、日立ハイテクノロジーズ社製の走査型電子顕微鏡「Ｓ−４７００」を用いて行われた。なお、評価時には、メイワフォーシス社製のオスミウムコーター「Ｎｅｏｃ−ＳＴ」を用いて、重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）上に和光純薬工業社製の酸化オスミウムＶＩＩＩ（厚み：５ｎｍ）が塗布されていた。

（実施例２〜２２、及び、比較例１〜１３）
表１７〜２４に示すような組成に変更したこと以外、実施例１と同様にして、各例の防汚性フィルムを製造した。

［評価］
各例の防汚性フィルムについて、以下の評価を行った。結果を表１７〜２４に示す。

＜防汚性＞
防汚性としては、上述した仕様１における各例の防汚性フィルムについて、撥水性、撥油性、及び、指紋拭き取り性を評価した。

（撥水性）
各例の防汚性フィルムの重合体層の表面（基材とは反対側の表面）に対して水を滴下し、滴下直後の接触角を測定した。

（撥油性）
各例の防汚性フィルムの重合体層の表面（基材とは反対側の表面）に対してヘキサデカンを滴下し、滴下直後の接触角を測定した。

接触角としては、協和界面科学社製のポータブル接触角計「ＰＣＡ−１」を用いて、θ／２法（θ／２＝ａｒｃｔａｎ（ｈ／ｒ）、θ：接触角、ｒ：液滴の半径、ｈ：液滴の高さ）で測定された、３箇所の接触角の平均値を示した。ここで、１箇所目の測定点としては、各例の防汚性フィルムの中央部分を選択し、２箇所目及び３箇所目の測定点としては、１箇所目の測定点から２０ｍｍ以上離れ、かつ、１箇所目の測定点に対して互いに点対称な位置にある２点を選択した。

（指紋拭き取り性）
まず、各例の防汚性フィルムに対して、基材の重合体層とは反対側の表面に、光学粘着層を介して、黒アクリル板を貼り付けた。次に、指紋を想定したものとして、伊勢久社製の人工汚染液を、旭化成せんい社製の「ベンコット（登録商標）Ｓ−２」に一旦０．１ｍｌ浸み込ませてから、ゴム手袋を着用した指に付着させた。そして、各例の防汚性フィルムの重合体層の表面（基材とは反対側の表面）に指で人工汚染液を付着させてから１０分後、旭化成せんい社製の「ベンコットＳ−２」で１０往復擦り、人工汚染液が拭き取れるかどうかを、照度１００ｌｘ（蛍光灯）の環境下で目視観察した。判定基準は、下記の通りとした。
○：人工汚染液が完全に拭き取れ、拭き残りが見えなかった。
△：人工汚染液は目立たないが、蛍光灯を映り込ませると拭き残りがわずかに見えた。
×：人工汚染液が全く拭き取れなかった。
ここで、判定が○又は△である場合を、許容可能なレベル（指紋拭き取り性が優れている）と判断した。

＜指紋の浮き出し具合＞
上述した指紋拭き取り性の評価が行われた各例の防汚性フィルムを、温度３０℃、湿度８５％の環境下で１２時間放置した。その後、指紋を想定して付着させた人工汚染液の浮き出し具合を、照度１００ｌｘ（蛍光灯）の環境下で目視観察した。判定基準は、下記の通りとした。
Ａ：人工汚染液の浮き出しが、蛍光灯を映り込ませたときも映り込ませなかったときも見えなかった。
Ｂ：人工汚染液の浮き出しが、蛍光灯を映り込ませたときにわずかに見え、映り込ませなかったときに見えなかった。
Ｃ：人工汚染液の浮き出しが、蛍光灯を映り込ませたときに見え、映り込ませなかったときに見えなかった。
Ｄ：人工汚染液の浮き出しが、蛍光灯を映り込ませたときにはっきり見え、映り込ませなかったときにわずかに見えた。
Ｅ：人工汚染液の浮き出しが、蛍光灯を映り込ませたときも映り込ませなかったときもはっきり見えた。
ここで、判定がＡ、Ｂ、又は、Ｃである場合を、許容可能なレベル（高湿下における指紋の浮き出しが抑制されている）と判断した。

＜密着性＞
密着性は、上述した仕様１及び仕様２の両方における各例の防汚性フィルムについて、以下の方法で評価された。ここで、仕様２においては、仕様１と比較して、フッ素原子が重合体層の表面（基材とは反対側の表面）に高濃度で配向しにくい、すなわち、フッ素原子が重合体層の基材側に分布する可能性がある。そのため、仕様２は、仕様１よりも密着性が低下しやすいことを想定したものである。

まず、温度２３℃、湿度５０％の環境下で、重合体層の表面（基材とは反対側の表面）に対して、カッターナイフで、碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを１ｍｍ間隔で入れて、１００個の正方形状の升目（１ｍｍ角）を刻んだ。そして、日東電工社製のポリエステル粘着テープ「Ｎｏ．３１Ｂ」を升目部分に圧着した後、粘着テープを升目部分の表面に対して９０°の方向に、１００ｍｍ／ｓの速度で剥がした。その後、基材上の重合体層の剥離状態を目視観察した。結果を、「Ｘ」（単位：個）で示した（Ｘは、基材上の重合体層が剥がれなかった升目の個数）。判定基準は、下記の通りとした。
（仕様１における密着性）
Ａ：Ｘ＝１００
Ｂ：Ｘ＝１〜９９
Ｃ：Ｘ＝０
ここで、判定がＡである場合を、許容可能なレベル（仕様１における密着性が優れている）と判断した。
（仕様２における密着性）
ａ：Ｘ＝１００
ｂ：Ｘ＝９０〜９９
ｃ：Ｘ＝０〜８９
ここで、判定がａ又はｂである場合を、許容可能なレベル（仕様２における密着性が優れている）と判断した。

仕様１における密着性及び仕様２における密着性の評価結果に基づき、密着性に対する総合評価を下記の判定基準で行った。
○：仕様１における密着性がＡであり、仕様２における密着性がａであった。
△：仕様１における密着性がＡであり、仕様２における密着性がｂであった。
×：仕様１における密着性がＢ若しくはＣであり、及び／又は、仕様２における密着性がｃであった。
ここで、総合評価が○又は△である場合を、許容可能なレベル（密着性が優れている）と判断した。

＜耐擦性＞
耐擦性としては、上述した仕様１における各例の防汚性フィルムについて、スチールウール耐性を評価した。

（スチールウール耐性）
まず、各例の防汚性フィルムの重合体層の表面（基材とは反対側の表面）を、日本スチールウール社製のスチールウール「＃００００」に荷重４００ｇを加えた状態で擦った。そして、照度１００ｌｘ（蛍光灯）の環境下で目視観察しながら、各例の防汚性フィルムの重合体層の表面（基材とは反対側の表面）に付いた傷の本数「Ｎ」（単位：本）を数えた。なお、スチールウールで擦る際、試験機として新東科学社製の表面性測定機「ＨＥＩＤＯＮ−１４ＦＷ」を用い、ストローク幅を３０ｍｍ、速度を１００ｍｍ／ｓ、擦る回数を１０往復とした。判定基準は、下記の通りとした。
◎：Ｎ＝０
○：Ｎ＝１〜３
△：Ｎ＝４〜１０
×：Ｎ＝１１〜２０
××：Ｎ≧２１
ここで、判定が◎、○、又は、△である場合を、許容可能なレベル（スチールウール耐性が優れている）と判断した。

＜信頼性＞
信頼性としては、上述した仕様１における各例の防汚性フィルムについて、ブリードアウトの発生具合を評価した。

（ブリードアウトの発生具合）
まず、各例の防汚性フィルムに対して、温度６０℃、湿度９５％の環境下で１０００時間放置する高温／高湿試験を行った。その後、各例の防汚性フィルムの重合体層の白濁具合を、照度１００ｌｘ（蛍光灯）の環境下で目視観察した。目視観察の結果、重合体層が白濁していないものについては、ブリードアウトが発生していないと判断し、信頼性がＯＫであると判定した。これに対して、重合体層が白濁していたものについては、ブリードアウトが発生していると判断し、信頼性がＮＧであると判定した。一方、目視観察による判定が困難である場合は、高温／高湿試験の前後で測定された入射角５°における正反射スペクトルを重ね合わせ、両者のスペクトルのずれの有無で判定した。具体的には、高温／高湿試験前後のスペクトルにおける反射率を比較して、両者にずれが生じていない場合を信頼性がＯＫであると判定し、両者にずれが生じている場合（高温／高湿試験後で全体的に反射率が増加している場合）を信頼性がＮＧであると判定した。なお、入射角５°における正反射スペクトルは、下記の通り測定された。まず、各例の防汚性フィルムに対して、基材の重合体層とは反対側の表面に黒アクリル板を貼り付けた。その後、各例の防汚性フィルムの重合体層の表面（基材とは反対側の表面）に対して極角５°の方位から光源の光を照射し、島津製作所社製の「ＵＶ−３１００ＰＣ」を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域で正反射スペクトルを測定した。

表１７〜２１に示すように、実施例１〜２２では、防汚性、密着性、耐擦性、及び、信頼性がともに優れ、高湿下における指紋の浮き出しが抑制された防汚性フィルムが実現されていた。中でも、実施例１、２、３、１１では、耐擦性の向上と、高湿下における指紋の浮き出しの抑制とがバランス良く実現されていた。

一方、表２２〜２４に示すように、比較例１〜１３では、防汚性、密着性、耐擦性、及び、信頼性がともに優れ、高湿下における指紋の浮き出しが抑制された防汚性フィルムが実現されていなかった。

比較例１では、重合性組成物ｒ１において、成分Ａ中のエチレンオキサイド基及び成分Ｂの含有率の合計が有効成分換算で６５重量％よりも高いため、高湿下における指紋の浮き出しが抑制されていなかった。

比較例２では、重合性組成物ｒ２において、成分Ａ中のエチレンオキサイド基及び成分Ｂの含有率の合計が有効成分換算で６５重量％よりも高いため、高湿下における指紋の浮き出しが抑制されていなかった。

比較例３では、重合性組成物ｒ３において、成分Ａ中のエチレンオキサイド基及び成分Ｂの含有率の合計が有効成分換算で４０重量％未満であるため、耐擦性が低かった。

比較例４では、重合性組成物ｒ４において、成分Ｂの含有率が有効成分換算で２５重量％よりも高いため、耐擦性が低かった。

比較例５では、重合性組成物ｒ５において、成分Ｂの含有率が有効成分換算で５重量％未満であるため、密着性が低かった。

比較例６では、重合性組成物ｒ６において、成分Ａ中のエチレンオキサイド基及び成分Ｂの含有率の合計が有効成分換算で６５重量％よりも高いため、高湿下における指紋の浮き出しが抑制されていなかった。

比較例７では、重合性組成物ｒ７において、成分Ａ中のエチレンオキサイド基及び成分Ｂの含有率の合計が有効成分換算で６５重量％よりも高いため、高湿下における指紋の浮き出しが抑制されていなかった。

比較例８では、重合性組成物ｒ８において、成分Ａ中のエチレンオキサイド基及び成分Ｂの含有率の合計が有効成分換算で６５重量％よりも高いため、高湿下における指紋の浮き出しが抑制されていなかった。

比較例９では、重合性組成物ｒ９において、成分Ｂの含有率が有効成分換算で５重量％未満であるため、密着性が低かった。

比較例１０では、重合性組成物ｒ１０において、成分Ｂの含有率が有効成分換算で５重量％未満であり、成分Ａ中のエチレンオキサイド基及び成分Ｂの含有率の合計が有効成分換算で４０重量％未満であるため、密着性及び耐擦性が低かった。

比較例１１では、重合性組成物ｒ１１において、成分Ｃの含有率が有効成分換算で１０重量％よりも高いため、信頼性がＮＧであった。

比較例１２では、重合性組成物ｒ１２において、成分Ｃが含有されていないため、防汚性及び耐擦性が低かった。

比較例１３では、重合性組成物ｒ１３において、成分Ｃが含有されておらず、代わりにシリコン系離型剤が含有されているため、防汚性が低かった。

なお、比較例１２、１３では、高湿下における指紋の浮き出しが抑制されていると判断されたが、防汚性が低く、人工汚染液（指紋を想定したもの）が拭き取れずに重合体層の表面全体に広がったために、重合体層の表面で屈折率が異なる領域が生じにくく、人工汚染液の浮き出しが外観上は判断できなかったと考えられる。

［付記］
本発明の一態様は、基材と、上記基材の表面上に配置される、複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有する重合体層とを備える防汚性フィルムであって、上記重合体層は、重合性組成物の硬化物であり、上記重合性組成物は、有効成分換算で、エチレンオキサイド基を有する多官能アクリレートを２０〜９０重量％、単官能アミドモノマーを５〜２５重量％、フッ素系離型剤を０．５〜１０重量％含有し、かつ、上記多官能アクリレート中の上記エチレンオキサイド基及び上記単官能アミドモノマーを合計で４０〜６５重量％含有する防汚性フィルムであってもよい。この態様によれば、防汚性、密着性、耐擦性、及び、信頼性がともに優れ、高湿下における指紋の浮き出しが抑制された防汚性フィルムを実現することができる。

上記多官能アクリレートは、エチレンオキサイド基を１官能基当たり２〜７個有する２官能の第一の多官能アクリレートと、エチレンオキサイド基を１官能基当たり１〜２個有する３〜６官能の第二の多官能アクリレートとを含み、上記重合性組成物は、有効成分換算で、上記第一の多官能アクリレートを２０〜６５重量％、上記第二の多官能アクリレートを１０〜７０重量％含有していてもよい。このような構成によれば、密着性及び耐擦性がより高まり、高湿下における指紋の浮き出しがより抑制される。

上記単官能アミドモノマーは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドを含んでいてもよい。このような構成によれば、上記単官能アミドモノマーの粘度が低くなり、上記多官能アクリレート及び上記フッ素系離型剤との相溶性がより高まる。また、上記基材がトリアセチルセルロースフィルムであっても、密着性が高まる。

上記フッ素系離型剤は、パーフルオロポリエーテル基を有していてもよい。このような構成によれば、パーフルオロポリエーテル基を有さない離型剤（例えば、パーフルオロアルキル基を有する離型剤、シリコン系離型剤等）と比較して、防汚性及び耐擦性がより高まる。

上記重合体層の表面に対して、ヘキサデカンの接触角は６０°以上であってもよい。このような構成によれば、防汚性が好ましく高まる。

上記重合体層の厚みは、５．０μｍ以上、２０．０μｍ以下であってもよい。このような構成によれば、上記フッ素系離型剤中のフッ素原子が、上記重合体層の表面（上記基材とは反対側の表面）により高濃度で配向する。

上記複数の凸部の平均ピッチは、１００ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であってもよい。このような構成によれば、モアレ、虹ムラ等の光学現象の発生が充分に防止される。

上記複数の凸部の平均高さは、５０ｎｍ以上、６００ｎｍ以下であってもよい。このような構成によれば、上記複数の凸部の好ましい平均アスペクト比と両立させることができる。

上記複数の凸部の平均アスペクト比は、０．８以上、１．５以下であってもよい。このような構成によれば、モアレ、虹ムラ等の光学現象の発生が充分に防止され、優れた反射防止性を実現することができる。更に、上記凹凸構造の加工性の低下による、スティッキングの発生、及び、上記凹凸構造を形成する際の転写具合の悪化が充分に防止される。

１：防汚性フィルム
２：基材
３：重合体層
４：凸部
５：重合性組成物
６：金型
Ｐ：ピッチ
Ｔ：重合体層の厚み

Claims (9)

1. 基材と、
   前記基材の表面上に配置される、複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有する重合体層とを備える防汚性フィルムであって、
   前記重合体層は、重合性組成物の硬化物であり、
   前記重合性組成物は、有効成分換算で、エチレンオキサイド基を有する多官能アクリレートを２０〜９０重量％、単官能アミドモノマーを５〜２５重量％、フッ素系離型剤を０．５〜１０重量％含有し、かつ、前記多官能アクリレート中の前記エチレンオキサイド基及び前記単官能アミドモノマーを合計で４０〜６５重量％含有することを特徴とする防汚性フィルム。
2. 前記多官能アクリレートは、エチレンオキサイド基を１官能基当たり２〜７個有する２官能の第一の多官能アクリレートと、エチレンオキサイド基を１官能基当たり１〜２個有する３〜６官能の第二の多官能アクリレートとを含み、
   前記重合性組成物は、有効成分換算で、前記第一の多官能アクリレートを２０〜６５重量％、前記第二の多官能アクリレートを１０〜７０重量％含有することを特徴とする請求項１に記載の防汚性フィルム。
3. 前記単官能アミドモノマーは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドを含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の防汚性フィルム。
4. 前記フッ素系離型剤は、パーフルオロポリエーテル基を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の防汚性フィルム。
5. 前記重合体層の表面に対して、ヘキサデカンの接触角は６０°以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の防汚性フィルム。
6. 前記重合体層の厚みは、５．０μｍ以上、２０．０μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の防汚性フィルム。
7. 前記複数の凸部の平均ピッチは、１００ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の防汚性フィルム。
8. 前記複数の凸部の平均高さは、５０ｎｍ以上、６００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の防汚性フィルム。
9. 前記複数の凸部の平均アスペクト比は、０．８以上、１．５以下であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の防汚性フィルム。

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