CN108700679B - 光学部件的制造方法以及光学部件 - Google Patents

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Abstract

本发明提供能够兼顾高温/高湿的环境下的基材以及聚合物层之间的紧贴性和耐磨性的光学部件的制造方法。本发明的光学部件的制造方法包括:工序(1),涂覆下层树脂以及上层树脂;工序(2),在将已涂覆的上述下层树脂以及上述上层树脂从基材侧依次层叠的状态下,从上述上层树脂侧将模具按压于上述下层树脂以及上述上层树脂,形成在表面具有凹凸构造的树脂层;以及工序(3),使上述树脂层固化,形成聚合物层,上述下层树脂中的酰胺基的浓度为1.5mmol/g以上且不足5mmol/g,测量温度范围‑50~250℃、升温速度5℃/min以及频率10Hz的条件下的动态粘弹性测量中的、上述聚合物层的储能模量E’成为最小的底部温度为110℃以上且210℃以下,并且上述聚合物层的上述储能模量E’的最小值为1×108Pa以上且1×109Pa以下。

Description

光学部件的制造方法以及光学部件
技术领域
本发明涉及光学部件的制造方法以及光学部件。更详细而言,涉及具有纳米尺寸的凹凸构造的光学部件的制造方法、以及光学部件。
背景技术
对具有防反射性的光学部件进行各种研究(例如,参照专利文献1~4)。特别是公知有具有纳米尺寸的凹凸构造(纳米构造)的光学部件具有优秀的防反射性。根据这样的凹凸构造,由于从空气层至基材,折射率连续地变化,所以能够使反射光急剧地减少。
现有技术文献
专利文件
专利文献1:国际公开第2013/005769号
专利文献2:日本特开2013-18910号公报
专利文献3:日本特开2013-252689号公报
专利文献4:日本特开2013-39711号公报
发明内容
本发明所要解决的技术问题
作为这样的光学部件,例如可举出:具有凹凸构造的聚合物层配置在基材上的结构。本发明者们进行了研究后,知道根据含有酰胺基的聚合物层,氢键力强,因此与基材(特别是极性高,且未实施表面处理的基材)的紧贴性提高。而且可知酰胺基(酰胺键)键之间的内聚力较强,因此即使利用钢丝绒等较硬的物体在聚合物层的与基材相反一侧的表面进行摩擦也难以划伤。
然而,本发明者们进行了研究后,知道若酰胺基的含量过多,则聚合物层变硬,并且导致其弹性降低。因此,若用无纺布等软的物体在聚合物层的与基材相反一侧的表面进行摩擦,则聚合物层的凸部(突起)倒下后不会起来(不恢复),从而产生光学部件看起来变白的问题。即,可知存在聚合物层的耐磨性降低的问题。特别是,可知:在高温/高湿的环境下,由于水分等的影响而使聚合物层的表面的光滑性降低,导致耐磨性显著降低,不仅如此,也存在基材与聚合物层的紧贴性降低的问题。
如以上那样,相对于现有的光学部件,存在需要兼顾高温/高湿的环境下的基材以及聚合物层之间的紧贴性和耐磨性这样的课题。然而,未发现解决上述课题的手段。
例如,上述专利文献1记载有包含三醋酸纤维素的基材与具有微小凹凸构造的活化能射线固化性树脂组成物的固化物紧贴,但没有与耐磨性的降低相关的记载,没有解决上述课题。另外,上述专利文献2~4所记载的发明也同样没有解决上述课题。
本发明是鉴于上述现状而完成的,目的在于提供能够兼顾高温/高湿的环境下的基材以及聚合物层之间的紧贴性和耐磨性的光学部件的制造方法以及光学部件。
解决问题的方法
本发明者们针对能够兼顾高温/高湿的环境下的基材以及聚合物层之间的紧贴性和耐磨性的光学部件的制造方法进行了各种研究,着眼于涂覆下层树脂以及上层树脂,并在该两层从基材侧依次层叠的状态下,在两层按压模具,形成了在表面具有纳米尺寸的凹凸构造的树脂层后,使该树脂层固化而形成聚合物层的方法。而且,发现了通过使下层树脂以规定的浓度含有酰胺基,并且使聚合物层的储能模量的最小值以及此时的底部温度成为规定的范围,从而能够兼顾高温/高湿的环境下的基材以及聚合物层之间的紧贴性和耐磨性。根据以上,想到能够令人满意地解决上述课题,得到本发明。
即,本发明的一方式是具备:基材;和与上述基材直接接触的、在表面具有多个凸部以可见光的波长以下的间距设置的凹凸构造的聚合物层的光学部件的制造方法,上述光学部件的制造方法也可以包括:工序(1),涂覆下层树脂以及上层树脂;工序(2),在将已涂覆的上述下层树脂以及上述上层树脂从上述基材侧依次层叠的状态下,从上述上层树脂侧将模具按压于上述下层树脂以及上述上层树脂,形成在表面具有上述凹凸构造的树脂层;以及工序(3),使上述树脂层固化,形成上述聚合物层,上述下层树脂含有酰胺基,上述下层树脂中的上述酰胺基的浓度为1.5mmol/g以上且5mmol/g,测量温度范围-50~250℃、升温速度5℃/min以及频率10Hz的条件下的动态粘弹性测量中、的上述聚合物层的储能模量E’成为最小的底部温度为110℃以上且210℃以下,并且上述聚合物层的上述储能模量E’的最小值为1×108Pa以上且1×109Pa以下。
本发明的其他的一方式是具备:基材;和与上述基材直接接触的、在表面具有多个凸部以可见光的波长以下的间距设置的凹凸构造的聚合物层的光学部件,光学部件也可以:上述聚合物层是在以1.5mmol/g以上且不足5mmol/g的浓度含有酰胺基的下层树脂、上层树脂从上述基材侧依次层叠的状态下,从上述上层树脂侧将模具按压于上述下层树脂以及上述上层树脂而形成的、在表面具有上述凹凸构造的树脂层的固化物,测量温度范围-50~250℃、升温速度5℃/min以及频率10Hz的条件下的动态粘弹性测量中的、上述聚合物层的储能模量E’成为最小的底部温度为110℃以上且210℃以下,并且上述聚合物层的上述储能模量E’的最小值为1×108Pa以上且1×109Pa以下。
发明效果
根据本发明,能够提供能够兼顾高温/高湿的环境下的基材以及聚合物层之间的紧贴性和耐磨性的光学部件的制造方法以及光学部件。
附图说明
图1是用于对实施方式一的光学部件的制造工序进行说明的截面示意图(工序a~d)。
图2是表示聚合物层的储能模量E’的测量例的图。
图3是表示摩擦了聚合物层后的状态的SEM照片,(a)示出底部温度以及储能模量E’的最小值为适当的范围内的情况,(b)示出储能模量E’的最小值比(a)低的情况,(c)示出底部温度以及储能模量E’的最小值中的至少一个比(a)高的情况。
图4是表示实施方式一的光学部件的截面示意图。
图5是用于对实施方式二的光学部件的制造工序进行说明的截面示意图(工序a~e)。
图6是用于对实施方式三的光学部件的制造工序进行说明的截面示意图(工序a~d)。
图7是用于对比较例十五的光学部件的制造工序进行说明的截面示意图(工序a~d)。
图8是用于对比较例十六的光学部件的制造工序进行说明的截面示意图(工序a~d)。
图9是用于对比较例十六的光学部件的制造工序进行说明的截面示意图(工序e~f)。
图10是用于对比较例十八的光学部件的制造工序进行说明的截面示意图(工序a~d)。
具体实施方式
以下列举实施方式,参照附图对本发明更详细地进行说明,本发明不只是限定于这些实施方式。另外,各实施方式的结构在不脱离本发明的主旨的范围内也可以适当地组合,也可以变更。
[实施方式一]
以下参照图1对实施方式一的光学部件的制造方法进行说明。图1是用于对实施方式一的光学部件的制造工序进行说明的截面示意图(工序a~d)。
(a)下层树脂以及上层树脂的涂覆
首先,如图1的(a)所示,将下层树脂5a涂覆在基材2上。其结果,下层树脂5a形成为与基材2直接接触。另一方面,将上层树脂5b涂覆于模具6的凹凸面上。
作为下层树脂5a以及上层树脂5b的涂覆方法,没有特别限定,例如可举出:通过喷射方式、凹版方式、狭缝模具方式等进行涂覆的方法。从膜厚能够容易地调整并且减少装置成本的观点出发,优选通过喷射方式进行涂覆的方法。其中,特别优选使用旋流喷嘴、静电喷嘴、或者超声波喷嘴进行涂覆。
(b)凹凸构造的形成
如图1的(b)所示,通过将涂覆有上层树脂5b的模具6从上层树脂5b侧向涂覆在基材2上的下层树脂5a按压,从而在下层树脂5a上层叠上层树脂5b同时形成凹凸构造。其结果,在与基材2相反一侧的表面所具有的树脂层7形成凹凸构造。树脂层7使下层树脂5a以及上层树脂5b一体化,不存在两者的界面。
(c)树脂层的固化
使形成有凹凸构造的树脂层7固化(聚合)。其结果,形成图1的(c)所示那样的聚合物层3。
树脂层7的固化优选通过活化能射线的照射来进行。本说明书中,活化能射线是指紫外线、可见光线、红外线、等离子体等。树脂层7优选通过紫外线而固化。活化能射线的照射可以从基材2侧进行,也可以从树脂层7侧进行。另外,活化能射线相对于树脂层7的照射次数没有特别限定,可以仅有一次,也可以是多次。
(d)模具的剥离
将模具6从聚合物层3剥离。其结果,图1的(d)所示那样的光学部件1完成。形成于聚合物层3的与基材2相反一侧的表面的凹凸构造同多个凸部(突起)4以可见光的波长以下的间距(相邻凸部4的顶点间的距离)P设置的构造,即相当与蛾眼构造(蛾眼状的构造)。因此,光学部件1与在表面具有蛾眼构造的防反射部件相当。由此,光学部件1能够显示出基于蛾眼构造的优秀的防反射性(低反射性)。
在上述的制造工序中,例如,若使基材2成为卷状,则能够连续地高效进行上述工序(a)~(d)。
接着,以下对制造光学部件1时所使用的各部件进行说明。
作为基材2的材料没有特别限定,例如可举出:三醋酸纤维素(TAC)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、甲基丙烯酸甲酯(MMA)等。在本实施方式中,如后述那样,下层树脂5a含有酰胺基,即,聚合物层3含有酰胺基,因此即使在基材2包含极性高的三醋酸纤维素的情况下,高温/高湿的环境下的基材2与聚合物层3的紧贴性也高。更具体而言,即使在基材2的至少聚合物层3(下层树脂5a)侧的表面存在三醋酸纤维素的情况下,高温/高湿的环境下的基材2与聚合物层3的紧贴性也较高。本说明书中,三醋酸纤维素是指酰化度为58%以上的醋酸纤维素,优选是指酰化度为61%以上的醋酸纤维素。基材2除了上述材料以外,也可以适当地包含增塑剂等添加剂。
可以在基材2的聚合物层3(下层树脂5a)侧的表面不实施表面处理,也可以实施清洗处理等表面处理。另一方面,由于基材2与聚合物层3(下层树脂5a)直接接触,所以在基材2的聚合物层3(下层树脂5a)侧的表面未配置有基于表面处理的层(例如,基于底漆处理的底漆层)。
作为基材2的形状,没有特别限定,例如可举出薄膜状、片状等。在使光学部件1成为薄膜状的情况下,使用薄膜状的基材2即可,例如优选使用三醋酸纤维素膜(TAC膜)等。另外,优选基材2构成偏光板的一部分的方式。
基材2的厚度没有特别限定,但从确保透明性以及加工性的观点出发,优选为50μm以上且100μm以下。
下层树脂5a含有酰胺基。下层树脂5a中的酰胺基的浓度为1.5mmol/g以上且不足5mmol/g。在下层树脂5a中的酰胺基的浓度不足1.5mmol/g的情况下,导致聚合物层3的基材2侧的表面的酰胺基的量过少,因此特别是在高温/高湿的环境下,基材2与聚合物层3的紧贴性降低。在下层树脂5a中的酰胺基的浓度为5mmol/g以上的情况下,聚合物层3的交联密度降低,并且键之间的内聚力过强,因此聚合物层3的硬度变高,高温/高湿的环境下的耐磨性降低。从充分提高高温/高湿的环境下的基材2、以及聚合物层3之间的紧贴性和耐磨性的观点出发,优选下层树脂5a中的酰胺基的浓度为2mmol/g以上且不足4.5mmol/g,更优选为2.5mmol/g以上且不足4mmol/g。
若使聚合物层3中的酰胺基的浓度变高,则能够提高基材2与聚合物层3的紧贴性。与此相对,如本实施方式那样,根据由下层树脂5a以及上层树脂5b形成聚合物层3的方法,下层树脂5a含有酰胺基,由此能够高效地提高聚合物层3的基材2侧的表面的酰胺基的量。因此,即使在与由单层的树脂(例如,仅下层树脂5a)形成聚合物层3的情况比较酰胺基的浓度变低,也不会有损在高温/高湿的环境下基材2与聚合物层3的紧贴性,从而能够提高耐磨性。
下层树脂5a以及上层树脂5b也可以适当地分别包含单官能酰胺单体、多官能丙烯酸酯、单官能丙烯酸酯、含氟化合物等。下层树脂5a中的酰胺基优选源自单官能酰胺单体。
作为单官能酰胺单体,例如可举出:N-丙烯酰吗啉、N,N-二甲基丙烯酰胺、N,N-二乙基丙烯酰胺、N-乙烯基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基甲基丙烯酰胺、N-甲氧基-N-甲基-3-苯基-丙烯酰胺等。作为N-丙烯酰吗啉中的公知的产品,例如可举出:KJ化工社制造的单官能酰胺单体(产品名:ACMO(注册商标))等。作为N,N-二甲基丙烯酰胺中的公知的产品,例如可举出:KJ化工社制造的单官能酰胺单体(产品名:DMAA(注册商标))等。作为N,N-二乙基丙烯酰胺中的公知的产品,例如可举出:KJ化工社制造的单官能酰胺单体(产品名:DEAA(注册商标))等。作为N-乙烯基-2-吡咯烷酮中的公知的产品,例如可举出:日本触媒社制造的单官能酰胺单体(产品名:N-乙烯基吡咯烷酮)等。作为N,N-二甲基甲基丙烯酰胺中的公知的产品,例如可举出:东京化成工业社制造的单官能酰胺单体(产品代码:D0745)等。作为N-甲氧基-N-甲基-3-苯基-丙烯酰胺中的公知的产品,例如可举出:西格玛奥德里奇社制造的单官能酰胺单体等。下层树脂5a以及上层树脂5b也可以分别包含一种单官能酰胺单体,也可以包含多种单官能酰胺单体。
作为多官能丙烯酸酯,例如可举出:聚氨酯丙烯酸酯;乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯;季戊四醇三丙烯酸酯;1,9-壬二醇二丙烯酸酯;二季戊四醇六丙烯酸酯;三季戊四醇丙烯酸酯、单和二季戊四醇丙烯酸酯以及聚季戊四醇丙烯酸酯的混合物;乙氧基化聚甘油聚丙烯酸酯;三羟甲基丙烷三丙烯酸酯;烷氧基化二季戊四醇聚丙烯酸酯;聚乙二醇200二丙烯酸酯;聚乙二醇300二丙烯酸酯;聚乙二醇400二丙烯酸酯;聚乙二醇600二丙烯酸酯;六官能聚酯丙烯酸酯;乙氧基化甘油三丙烯酸酯;1,6-己二醇二丙烯酸酯;三丙二醇二丙烯酸酯;乙氧基化(4摩尔加合物)双酚A二丙烯酸酯;二丙二醇二丙烯酸酯等。作为聚氨酯丙烯酸酯中的公知的产品,例如可举出:共荣社化学社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:UA-306H)、新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:U-10PA)等。作为乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯中的公知的产品,例如可举出:新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:ATM-35E)等。作为季戊四醇三丙烯酸酯中的公知的产品,例如可举出:新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:A-TMM-3LM-N)、新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:A-TMM-3L)、第一工业制药社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:PET-3)等。作为1,9-壬二醇二丙烯酸酯中的公知的产品,例如可举出:新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:A-NOD-N)等。作为二季戊四醇六丙烯酸酯中的公知的产品,例如可举出:共荣社化学社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:light acrylateDPE-6A)、新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:A-DPH)等。作为三季戊四醇丙烯酸酯、单和二季戊四醇丙烯酸酯以及聚季戊四醇丙烯酸酯的混合物,例如可举出:大阪有机化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:Viscoat#802)等。作为乙氧基化聚甘油聚丙烯酸酯,例如可举出:新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:NK ECONOMER(注册商标)A-PG5027E)等。作为三羟甲基丙烷三丙烯酸酯中的公知的产品,例如可举出:共荣社化学社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:light acrylateTMP-A)等。作为烷氧基化二季戊四醇聚丙烯酸酯中的公知的产品,例如可举出:日本化药社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:KAYARAD(注册商标)DPEA-12)、日本化药社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:KAYARAD DPCA-30)等。作为聚乙二醇200二丙烯酸酯中的公知的产品,例如可举出:第一工业制药社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:PE-200)等。作为聚乙二醇300二丙烯酸酯中的公知的产品,例如可举出:第一工业制药社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:PE-300)等。作为聚乙二醇400二丙烯酸酯中的公知的产品,例如可举出:新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:A-400)等。作为聚乙二醇600二丙烯酸酯中的公知的产品,例如可举出:新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:A-600)等。作为六官能聚酯丙烯酸酯中的公知的产品,例如可举出:DaicelOrneex社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:EBECRYL(注册商标)450)等。作为乙氧基化甘油三丙烯酸酯中的公知的产品,例如可举出:新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:A-GLY-9E)等。作为1,6-己二醇二丙烯酸酯中的公知的产品,例如可举出:新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:A-HD-N)等。作为三丙二醇二丙烯酸酯中的公知的产品,例如可举出:新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:APG-200)等。作为乙氧基化(4摩尔加合物)双酚A二丙烯酸酯中的公知的产品,例如可举出:新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:A-BPE-4)等。作为二丙二醇二丙烯酸酯中的公知的产品,例如可举出:新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名:APG-100)等。下层树脂5a以及上层树脂5b可以分别包含一种多官能丙烯酸酯,也可以包含多种多官能丙烯酸酯。
作为单官能丙烯酸酯,例如可举出:聚丙二醇单丙烯酸酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸4-羟基丁酯等。作为聚丙二醇单丙烯酸酯中的公知的产品,例如可举出:日油社制造的单官能丙烯酸酯(产品名:AP-550)等。作为甲基丙烯酸2-羟基乙酯中的公知的产品,例如可举出:日本触媒社制造的单官能丙烯酸酯(产品名:2HEMA)等。作为丙烯酸4-羟基丁酯中的公知的产品,例如可举出:日本化成社制造的单官能丙烯酸酯(产品名:4HBA)等。下层树脂5a以及上层树脂5b可以分别包含一种单官能丙烯酸酯,也可以包含多种单官能丙烯酸酯。
含氟化合物作为构成成分而包含含氟单体。含氟化合物也还可以包含丙烯酸酯单体等其他的单体成分。
含氟化合物优选具有反应性官能团。本说明书中,反应性官能团是指由于光、热等外部能量而与其他的成分反应的部位。作为这样的反应性官能团,例如可举出:烷氧基硅烷基、甲硅烷基醚基团、烷氧基硅烷基水解后的硅醇基、羧基、羟基、环氧基、乙烯基、烯丙基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基等。作为反应性官能团,从反应性以及操作性的观点出发,优选烷氧基硅烷基、甲硅烷基醚基团、硅醇基、环氧基、乙烯基、烯丙基、丙烯酰基或者甲基丙烯酰基,更优选为乙烯基、烯丙基、丙烯酰基或者甲基丙烯酰基,进一步优选丙烯酰基或者甲基丙烯酰基。
优选含氟化合物除了反应性官能团之外,还具有包含从氟烷基、氟氧烷基、氟烯基、氟亚烷基以及氟氧基亚烷基构成的群中选择的至少一个的部位。氟烷基、氟氧烷基、氟烯基、氟亚烷基以及氟氧基亚烷基分别是将烷基、氧烷基、烯基、亚烷基以及氧基亚烷基所具有的氢原子的至少一部分由氟原子取代了的取代基。氟烷基、氟氧烷基、氟烯基、氟亚烷基以及氟氧基亚烷基均为主要由氟原子以及碳原子构成的取代基,其构造中可以存在分支部,这些取代基也可以是多个连结。
作为含氟化合物的构成成分的含氟单体的一个例子,由下述通式(A)表示。
Rf1-R2-D1(A)
上述通式(A)中,Rf1表示包含从由氟烷基、氟氧烷基、氟烯基、氟亚烷基以及氟氧基亚烷基构成的群中选择的至少一个的部位。R2表示亚烷基、次烷基、或者从它们导出的酯结构、聚氨酯结构、醚结构、三嗪结构。D1表示反应性官能团。
作为上述通式(A)所表的含氟单体,例如可举出:2,2,2-三氟乙基丙烯酸酯,2,2,3,3,3-五氟丙基丙烯酸酯,2-全氟丁基乙基丙烯酸酯、3-全氟丁基-2-羟基丙基丙烯酸酯、2-全氟己基乙基丙烯酸酯、3-全氟己基-2-羟基丙基丙烯酸酯、2-全氟辛基乙基丙烯酸酯、3-全氟辛基-2-羟基丙基丙烯酸酯、2-全氟癸基乙基丙烯酸酯、2-全氟-3-甲基丁基乙基丙烯酸酯、3-全氟-3-甲氧基丁基-2-羟基丙基丙烯酸酯、2-全氟-5-甲基己基乙基丙烯酸酯、3-全氟-5-甲基己基-2-羟基丙基丙烯酸酯、2-全氟-7-甲基辛基-2-羟基丙基丙烯酸酯、四氟丙基丙烯酸酯、八氟戊基丙烯酸酯、十二氟庚基丙烯酸酯、十六氟壬基丙烯酸酯、六氟丁基丙烯酸酯、2,2,2-三氟乙基甲基丙烯酸酯、2,2,3,3,3-五氟丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟丁基乙基甲基丙烯酸酯、3-全氟丁基-2-羟基丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟辛基乙基甲基丙烯酸酯、3-全氟辛基-2-羟基丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟癸基乙基甲基丙烯酸酯、2-全氟-3-甲基丁基乙基甲基丙烯酸、3-全氟-3-甲基丁基-2-羟基丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟-5-甲基己基乙基甲基丙烯酸酯、3-全氟-5-甲基己基-2-羟基丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟-7-甲基辛基乙基甲基丙烯酸酯、3-全氟-7-甲基辛基乙基甲基丙烯酸酯、四氟丙基甲基丙烯酸酯、八氟戊基甲基丙烯酸酯、十二氟庚基甲基丙烯酸酯、十六氟壬基甲基丙烯酸酯、1-三氟甲基三氯乙基甲基丙烯酸酯、六氟丁基甲基丙烯酸酯、三丙烯酰-十七氟壬烯基-季戊四醇等。
作为含氟单体的优选的材料,例如可举出:具有氟聚醚部位的材料。氟聚醚部位是由氟烷基、氧氟烷基、氧氟亚烷基等构成的部位,下述是通式(B)或者(C)所代表的构造。CFn1H(3-n1)-(CFn2H(2-n2))kO-(CFn3H(2-n3))mO-(B)-(CFn4H(2-n4))pO-(CFn5H(2-n5))sO-(C)
上述通式(B)以及(C)中,n1是1~3的整数,n2~n5是1或者2,k、m、p以及s是0以上的整数。作为n1~n5的优选组合,为n1是2或者3,n2~n5是1或者2的组合,作为更优选的组合,为n1是3,n2以及n4是2,n3以及n5是1或者2的组合。
氟聚醚部位所包含的碳数优选为4以上且12以下,更优选为4以上且10以下,进一步优选为6以上且8以下。在碳数不足4的情况下,存在表面能量降低的担忧。在碳数大于12的情况下,存在向溶剂中溶解的溶解性降低的担忧。此外,含氟单体也可以每一个分子具有多个氟聚醚部位。
作为含氟化合物中的公知的产品,例如可举出:大金工业社制造的氟类添加剂(产品名:OPTOOL(注册商标)DAC-HP)、旭硝子社制造的氟类添加剂(产品名:Afluid)、DIC社制造的氟类添加剂(产品名:Megafac(注册商标)RS-76-NS)、DIC社制造的氟类添加剂(产品名:MegafacRS-90)、Neos社制造的氟类添加剂(产品名:FTERGENT(注册商标)601AD)、Neos社制造的氟类添加剂(产品名:FTERGENT650A)、油脂制品社制造的氟类添加剂(产品名:C10GACRY)、油脂制品社制造的氟类添加剂(产品名:C8HGOL)等。含氟化合物优选通过紫外线进行聚合,优选具有-OCF2-链以及/或者=NCO-链。下层树脂5a以及上层树脂5b可以分别包含一种含氟化合物,也可以包含多种含氟化合物。
下层树脂5a含有单官能酰胺单体,优选下层树脂5a中的单官能酰胺单体的含量为15重量%以上且49重量%以下。在下层树脂5a中的单官能酰胺单体的含量不足15重量%的情况下,聚合物层3的基材2侧的表面的酰胺基的量变少,特别是在高温/高湿的环境下,存在基材2与聚合物层3的紧贴性降低的担忧。在下层树脂5a中的单官能酰胺单体的含量大于49重量%的情况下,聚合物层3的交联密度降低并且键之间的内聚力变强,因此聚合物层3的硬度变高,存在高温/高湿的环境下的耐磨性降低的担忧。下层树脂5a中的单官能酰胺单体的含量更优选为20重量%以上且45重量%以下,进一步优选为20重量%以上且40重量%以下。
下层树脂5a含有单官能酰胺单体,从而能够容易地实现含有酰胺基的下层树脂5a。这种情况下,单官能酰胺单体优选包含N,N-二甲基丙烯酰胺以及N,N-二乙基丙烯酰胺中的至少一个。N,N-二甲基丙烯酰胺以及N,N-二乙基丙烯酰胺在单官能酰胺单体中分子量较多,玻璃化转变温度较低,因此即使含量少,也能够令人满意地提高高温/高湿的环境下的基材2以及聚合物层3间的紧贴性和耐磨性。
上层树脂5b含有含氟化合物,优选上层树脂5b中的含氟化合物的含量为0.1重量%以上且30重量%以下。在上层树脂5b中的含氟化合物的含量不足0.1重量%的情况下,存在聚合物层3的与基材2相反一侧的表面的光滑性降低的担忧。其结果,在摩擦其表面时,相对于凸部4的负荷变大,存在光学部件1容易看起来变白的担忧。在上层树脂5b中的含氟化合物的含量大于30重量%的情况下,上层树脂5b的粘度增加,并且与下层树脂5a之间的溶解度参数(SP值)之差变大,因此下层树脂5a与上层树脂5b难以混合,从而存在两者间的紧贴性降低的担忧。上层树脂5b中的含氟化合物的含量更优选为5重量%以上且25重量%以下,进一步优选为10重量%以上且20重量%以下。在上层树脂5b含有多种含氟化合物的情况下,优选各含氟化合物的含量的合计在上述范围内。
上层树脂5b含有含氟化合物,从而能够使氟原子在聚合物层3的与基材2相反一侧的表面高效地取向。因此,聚合物层3的与基材2相反一侧的表面的光滑性变高,从而在摩擦该表面时,能够使相对于凸部4的负荷降低。而且,聚合物层3的吸湿性降低,因此特别是能够抑制在高温/高湿的环境下基材2与聚合物层3的紧贴性的降低。另外,即使在单官能酰胺单体的含量较多、极性过高的情况下,也能够抑制在高温/高湿的环境下基材2与聚合物层3的紧贴性的降低。与此相对,若在下层树脂5a含有含氟化合物的情况下,其含量过多,则存在氟原子在聚合物层3的基材2侧的表面较多地取向的担忧。因此,导致在聚合物层3的基材2侧的表面,酰胺基的量相对变少,特别是存在在高温/高湿的环境下基材2与聚合物层3的紧贴性降低的担忧。因此,下层树脂5a优选不含有含氟化合物。
上层树脂5b含有含氟化合物,从而能够使聚合物层3的表面能量变低,通过与蛾眼构造组合,从而获得防水性优秀的光学部件1。其结果,获得相对于亲水性的污渍的防污性优秀的光学部件1。作为表示防水性的程度的指标,使用水的接触角。水的接触角越大,表示防水性越高。从获得防水性足够高的光学部件1的观点出发,水相对于聚合物层3的与基材2相反一侧的表面的接触角优选为60°以上。
含氟化合物中的氟原子的浓度优选为20重量%以上且50重量%以下,更优选为25重量%以上且45重量%以下,进一步优选为30重量%以上且40重量%以下。在含氟化合物中的氟原子的浓度不足20重量%的情况下,氟原子的量较少,氟原子难以在聚合物层3的与基材2相反一侧的表面取向,因此特别是在高温/高湿的环境下,存在基材2与聚合物层3的紧贴性降低的担忧。在含氟化合物中的氟原子的浓度大于50重量%的情况下,含氟化合物的极性过低,存在与上层树脂5b中的单官能酰胺单体的相溶性恶化,氟原子的分布不均匀的担忧。其结果,氟原子难以在聚合物层3的与基材2相反一侧的表面取向,因此特别是在高温/高湿的环境下,存在基材2与聚合物层3的紧贴性降低的担忧。
下层树脂5a以及上层树脂5b分别除了上述的单官能酰胺单体、多官能丙烯酸酯、单官能丙烯酸酯以及含氟化合物以外,也可以适当地包含脱模剂、聚合引发剂等添加剂。
在图1的(d)中,脱模剂是为了使模具6容易从聚合物层3剥离而添加的物质。作为脱模剂,例如可举出:氟类脱模剂、硅类脱模剂、磷酸酯类脱模剂等。作为氟类脱模剂,例如可举出上述的含氟化合物,作为其中公知的产品,例如可举出:大金工业社制造的氟类脱模剂(产品名:OPTOOLAES4)等。作为硅类脱模剂,例如可举出:有机硅二丙烯酸酯等,作为其中的公知的产品,例如可举出:Daicel Orneex社制造的硅类脱模剂(产品名:EBECRYL350)等。作为磷酸酯类脱模剂,例如可举出:(聚)氧乙烯烷基磷酸酯等,作为其中的公知的产品,例如可举出:日光化工社制造的磷酸酯类脱模剂(产品名:NIKKOL(注册商标)TDP-2)等。
作为聚合引发剂,例如可举出:光聚合引发剂等。光聚合引发剂是相对于活化能射线活化,且为了开始使单体聚合的聚合反应而添加的物质。作为光聚合引发剂,例如可举出:自由基聚合引发剂、阴离子聚合引发剂、阳离子聚合引发剂等。作为这样的光聚合引发剂,例如可举出:对-叔丁基三氯苯乙酮、2,2’-二乙氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮等苯乙酮类;二苯甲酮、4,4'-双二甲基氨基二苯甲酮、2-氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2-乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮等酮类;安息香、安息香甲基醚、安息香异丙基醚、安息香异丁基醚等安息香醚类;苄基二甲基缩酮、羟基环己基苯基酮等苄缩酮类等;2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-氧化膦、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基膦氧化物等酰基膦氧化物类;1-羟基-环己基-苯基-酮等烷基酚类等。作为2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-氧化膦中的公知的产品,例如可举出:BASF社制造的光聚合引发剂(产品名:IRGACURE(注册商标)TPO)等。作为双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基膦氧化物中的公知的产品,例如可举出BASF社制造的光聚合引发剂(产品名:IRGACURE 819)等。作为1-羟基-环己基-苯基-酮中的公知的产品,例如可举出:BASF社制造的光聚合引发剂(产品名:IRGACURE 184)等。
优选下层树脂5a以及上层树脂5b中的至少一个不含有溶剂。即,下层树脂5a以及上层树脂5b中的至少一个优选为无溶剂系。在下层树脂5a以及上层树脂5b中的至少一个为无溶剂系的情况下,能够减少溶剂的使用所涉及的成本以及对环境的负荷(使用时的臭气等)。而且,不需要用于使溶剂干燥而除去的装置,能够减少装置成本。另一方面,在下层树脂5a含有溶剂的情况下,若溶剂的干燥不充分,则存在基材2与聚合物层3的紧贴性降低的担忧。另外,在上层树脂5b含有溶剂的情况下,若也含有含氟化合物,则导致含氟化合物过于混杂,存在氟原子难以在聚合物层3的与基材2相反一侧的表面取向的担忧。
下层树脂5a的厚度Da没有特别限定,但优选为5μm以上且15μm以下。如图1的(a)所示,本实施方式的下层树脂5a的厚度Da是指从基材2侧的表面直至与基材2相反一侧的表面的距离。
上层树脂5b的厚度Db没有特别限定,但优选为0.5μm以上且3μm以下。如图1的(a)所示,本实施方式的上层树脂5b的厚度Db是指从与模具6的凹部的底点对应的位置直至与模具6相反一侧的表面的距离。
上层树脂5b的粘度优选低于下层树脂5a的粘度。具体而言,在25℃时,下层树脂5a的粘度优选不足200mPa·s,更优选不足150mPa·s。上层树脂5b的粘度优选不足30mPa·s,更优选不足20mPa·s。在25℃时,下层树脂5a的粘度为200mPa·s以上,且上层树脂5b的粘度为30mPa·s以上的情况下,下层树脂5a与上层树脂5b难以混合,从而存在两者间的紧贴性降低的担忧。在上层树脂5b的粘度低于下层树脂5a的粘度的情况下,若上层树脂5b含有含氟化合物,则可令人满意地确保含氟化合物的流动性。因此,在层叠有下层树脂5a以及上层树脂5b的状态下,上层树脂5b中的氟原子难以混入下层树脂5a中,容易在上层树脂5b(聚合物层3)的与基材2相反一侧的表面取向。本说明书中,粘度使用布鲁克菲尔德社制造的粘度计(产品名:DV2T)来测量。
在测量温度范围-50~250℃、升温速度5℃/min以及频率10Hz的条件下的动态粘弹性测量的聚合物层3的储能模量E’(以下,也仅称为储能模量E’。)成为最小的底部温度为110℃以上且210℃以下,并且,聚合物层3的储能模量E’的最小值为1×108Pa以上且1×109Pa以下。如本实施方式那样,在由下层树脂5a以及上层树脂5b形成聚合物层3的方法中,若使底部温度以及储能模量E’的最小值成为上述范围,则能够提高高温/高湿的环境下的耐磨性。在底部温度以及储能模量E’的最小值为上述范围外的情况下,若在高温/高湿的环境下,聚合物层3的耐磨性降低,用无纺布等柔软的物体在聚合物层3的与基材2相反一侧的表面摩擦,则凸部4倒下后未起来(不恢复),导致光学部件1看起来变白。从充分地提高高温/高湿的环境下的耐磨性的观点出发,优选底部温度为125℃以上且195℃以下,并且储能模量E’的最小值为1.5×108Pa以上且9×108Pa以下,更优选底部温度为140℃以上且180℃以下,并且储能模量E’的最小值为2×108Pa以上且8×108Pa以下。本说明书中,对于底部温度以及储能模量E’的最小值而言,作为测量机使用日立高科技社制造的粘弹性测量装置(产品名:DMA7100),根据在测量温度范围-50~250℃、升温速度5℃/min以及频率10Hz的条件下测量的储能模量E’来决定。底部温度以及储能模量E’的最小值能够通过聚合物层3的组成(具体而言,下层树脂5a的单官能酰胺单体等的组成)来调整。
以下对储能模量E’与耐磨性的关系进行说明。
图2是表示聚合物层的储能模量E’的测量例的图。如图2所示,储能模量E’随着温度变高而下降,其后转为恒定或者上升。储能模量E’转为上升是由于伴随着温度上升而聚合物层3膨胀。图2中,储能模量E’成为最小的底部温度为175℃,储能模量E’的最小值为1.5×108Pa。
图3是表示在聚合物层进行了摩擦后的状态的SEM照片,(a)示出底部温度以及储能模量E’的最小值为适当的范围内的情况,(b)示出储能模量E’的最小值低于(a)的情况,(c)示出底部温度以及储能模量E’的最小值中的至少一个高于(a)的情况。通常,储能模量E’高的区域为结晶区域,储能模量E’比结晶区域低的区域为弹性区域,更低的区域为流动区域。若用无纺布等软的物体在聚合物层3的与基材2相反一侧的表面进行摩擦,则凸部4暂时倒下。此处,在储能模量E’在流动区域内的情况下,聚合物层3(凸部4)软,弹性不足,因此如图3的(b)所示,凸部4未起来(不恢复)。另外,在储能模量E’在结晶区域内的情况下,聚合物层3(凸部4)硬,因此凸部4难以倒下,但如图3的(c)所示,与此对应也难以起来(难以恢复)。相对于这些,如本实施方式那样,在底部温度以及储能模量E’的最小值在适当的范围内的情况下,可适度地确保聚合物层3(凸部4)的弹性,因此如图3的(a)所示,凸部4起来(恢复)。即,能够实现优秀的耐磨性。另一方面,即使在储能模量E’的最小值在适当的范围内,若底部温度高于图3的(a)的状态的情况下,则也导致在聚合物层3的与基材2相反一侧的表面摩擦时的环境的温度、与底部温度相差过大,因此导致聚合物层3(凸部4)过硬,弹性不足,如图3的(c)所示,凸部4未起来(不恢复)。
一般认为耐磨性与聚合物层3的交联密度以及玻璃化转变温度(Tg)相关,但本发明者们进行了研究后知道:与底部温度以及储能模量E’的最小值更加相关。其理由认为如以下那样。交联密度n是根据式:n=E’/3RT(E’:储能模量、R:气体常量、T:绝对温度)计算的值。另外,玻璃化转变温度Tg是与表示tanδ=E”/E’(E’:储能模量,E”:损失弹性率)的温度依赖性的图的峰值对应的值(温度)。即,交联密度以及玻璃化转变温度是经由储能模量E’等而间接获得的值。与此相对,底部温度以及储能模量E’的最小值是从表示图2所例示的那样的储能模量E’的温度依赖性的图直接获得的值。因此,可认为具有相对于凸部4那样的微小的突起的恢复(耐磨性)而底部温度以及储能模量E’的最小值是更相关的特性。
聚合物层3的厚度D没有特别限定,但在上层树脂5b含有含氟化合物的情况下,从使氟原子在聚合物层3的与基材2相反一侧的表面以高浓度取向的观点出发,优选聚合物层3的厚度D较薄。具体而言,优选为5.0μm以上且20.0μm以下。如图1的(d)所示,本实施方式的聚合物层3的厚度D是指从基材2侧的表面直至凸部4的顶点的距离。
凸部4的形状没有特别限定,例如可举出:由柱状的下部和半球状的上部构成的形状(吊钟状)、锥体状(玉米状、圆锥状)等朝向前端变细的形状(锥体形状)。另外,凸部4也可以具有枝状突起的形状。枝状突起表示与在为了制造形成蛾眼构造的模具而进行阳极氧化以及蚀刻的过程中形成的、间隔不规则的部分所对应的凸部。在图1的(d)中,相邻凸部4的间隙的底边成为倾斜的形状,但也可以不倾斜而为水平的形状。
相邻凸部4之间的间距P只要是可见光的波长(780nm)以下则没有特别限定,但从充分地防止摩尔纹、彩虹状不均匀等光学现象的观点考虑,优选为100nm以上且400nm以下,更优选为100nm以上且200nm以下。本说明书中,相邻凸部间的间距是指由日立高新技术社制造的扫描式电子显微镜(产品名:S-4700)拍摄的平面照片的1μm见方的区域内的除去枝状突起的全部的相邻凸部间的距离的平均值。此外,相邻凸部间的间距在使用MeiwaForsyth社制造的锇涂覆机(产品名:Neoc-ST)而在聚合物层的凹凸构造上涂覆了和光纯药工业社制造的氧化锇VIII(厚度:5nm)的状态下测量。
凸部4的高度没有特别限定,但从兼顾后述的凸部4的优选的高宽比的观点出发,优选为50nm以上且600nm以下,更优选为100nm以上且300nm以下。本说明书中,凸部的高度表示用日立高新技术社制造的扫描式电子显微镜(产品名:S-4700)拍摄的截面照片的除去枝状突起的连续排列的10个凸部的高度的平均值。但是,选择10个凸部时,除去有缺损、变形了的部分(准备试料时变形的部分等)的凸部。作为试料,使用在光学部件的没有异常的缺陷的区域进行了取样的部分,例如在光学部件为连续制造的卷状的情况下,使用在其中央附近进行了取样的部分。此外,凸部的高度在使用Meiwa Forsyth社制造的锇涂覆机(产品名:Neoc-ST)而在聚合物层的凹凸构造上涂覆了和光纯药工业社制造的氧化锇VIII(厚度:5nm)的状态下测量。
凸部4的高宽比没有特别限定,但优选为0.8以上且1.5以下。在凸部4的高宽比为1.5以下的情况下,蛾眼构造的加工性充分提高,发生粘连、或形成蛾眼构造时的转印情况恶化(模具堵塞、或缠绕等)的担忧变低。在凸部4的高宽比为0.8以上的情况下,充分地防止摩尔纹、彩虹状不均匀等光学现象,能够实现良好的反射特性。本说明书中,凸部的高宽比是指由上述那样的方法来测量的相邻凸部间的间距与凸部的高度之比(高度/间距)。
凸部4的配置没有特别限定,可以随机配置,也可以规则地配置。从充分地防止摩尔纹的产生的观点出发,优选随机地配置。
作为模具6,例如能够使用由下述的方法制成的模具。首先,通过溅射法使成为模具6的材料的铝在支承基板上成膜。接下来,通过相对于已成膜的铝的层,交替反复进行阳极氧化以及蚀刻,从而能够制成蛾眼构造的阴模(模具6)。此时,通过调整进行阳极氧化的时间、以及进行蚀刻的时间,能够使模具6的凹凸构造变化。
作为支承基板的材料没有特别限定,例如可举出:玻璃;不锈钢、镍等金属材料;聚丙烯、聚甲基戊烯、环状烯烃系高分子(有代表性的是作为降冰片烯系树脂等的日本Zeon株式社制造的高分子(产品名:ZEONOR(注册商标))、JSR株式社制造的高分子(产品名:ARTON(注册商标)))等聚烯烃系树脂;聚碳酸酯树脂;聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、三醋酸纤维素等树脂材料等。另外,也可以取代在支承基板上使铝成膜,而使用铝制的基板。
作为模具6的形状没有特别限定,例如可举出:平板状、卷状等。
优选利用脱模剂对模具6实施表面处理。即,优选对模具6实施脱模处理。通过对模具6实施脱模处理,从而在上述工序(d)中,能够容易地使模具6从聚合物层3剥离。另外,通过对模具6实施脱模处理,从而能够使模具6的表面能量较低。因此,在上层树脂5b含有含氟化合物的情况下,在上述工序(b)中,在将模具6从上层树脂5b侧按压于下层树脂5a时,能够使氟原子在上层树脂5b的与基材2相反一侧的表面高效地取向。而且,能够防止在使树脂层7固化前,氟原子从树脂层7的与基材2相反一侧的表面离开。其结果,在光学部件1中,能够使氟原子在聚合物层3的与基材2相反一侧的表面高效地取向。
作为涂覆于模具6的脱模剂,例如可举出:氟类、硅类、磷酸酯类等脱模剂,优选使用氟类脱模剂。在上层树脂5b含有含氟化合物的情况下,若对模具6实施脱模处理时使用氟类脱模剂,则与含氟化合物的相互作用变强,从而能够使氟原子在上层树脂5b的与基材2相反一侧的表面更高效地取向。
根据以上,根据实施方式一的光学部件的制造方法,能够制造兼顾高温/高湿的环境下的基材2以及聚合物层3之间的紧贴性和耐磨性的光学部件1。
接下来,以下参照图4对实施方式一的光学部件进行说明。图4是表示实施方式一的光学部件的截面示意图。
光学部件1具备:基材2、和与基材2直接接触的聚合物层3。聚合物层3在表面具有多个凸部(突起)4以可见光的波长以下的间距(相邻凸部4的顶点间的距离)P设置的凹凸构造。因此,光学部件1与在表面具有蛾眼构造(蛾眼状的构造)的防反射部件相当。由此,光学部件1能够显示出基于蛾眼构造的优秀的防反射性(低反射性)。
聚合物层3是在以1.5mmol/g以上且不足5mmol/g的浓度含有酰胺基的下层树脂、与上层树脂在从基材2侧依次层叠的状态下,从上层树脂侧将模具按压于下层树脂以及上层树脂而形成的、在表面具有凹凸构造的树脂层的固化物。根据这样的结构,获得基材2侧的表面的酰胺基的量多的聚合物层3。在下层树脂中的酰胺基的浓度不足1.5mmol/g的情况下,聚合物层3的基材2侧的表面的酰胺基的量过少,因此特别是在高温/高湿的环境下,导致基材2与聚合物层3的紧贴性降低。在下层树脂中的酰胺基的浓度为5mmol/g以上的情况下,聚合物层3的交联密度降低,并且键之间的内聚力过强,因此聚合物层3的硬度变高,从而高温/高湿的环境下的耐磨性降低。
测量温度范围-50~250℃、升温速度5℃/min以及频率10Hz的条件下的动态粘弹性测量的、聚合物层3的储能模量E’成为最小的底部温度为110℃以上且210℃以下,并且聚合物层3的储能模量E’的最小值为1×108Pa以上且1×109Pa以下。在底部温度以及储能模量E’的最小值在上述范围外的情况下,在高温/高湿的环境下,聚合物层3的耐磨性降低,若用无纺布等软的物体在聚合物层3的与基材2相反一侧的表面进行摩擦,则凸部4倒下后未起来(不恢复),导致光学部件1看起来变白。
根据以上,根据实施方式一的光学部件,获得能够兼顾高温/高湿的环境下的基材2以及聚合物层3之间的紧贴性、与耐磨性的光学部件1。
作为实施方式一的光学部件的一个例子,可举出通过上述的实施方式一的光学部件的制造方法而制造的光学部件。
[实施方式二]
以下参照图5对实施方式二的光学部件的制造方法进行说明。图5是用于对实施方式二的光学部件的制造工序进行说明的截面示意图(工序a~e)。实施方式二的光学部件的制造方法除了将下层树脂以及上层树脂依次涂覆在基材上以外,其他与实施方式一的光学部件的制造方法相同,因此重复的点适当地省略说明。此外,实施方式二的光学部件与实施方式一的光学部件相同,因此省略说明。
(a)下层树脂的涂覆
首先,如图5的(a)所示,将下层树脂5a涂覆在基材2上。其结果,下层树脂5a以与基材2直接接触的方式形成。
(b)上层树脂的涂覆
如图5的(b)所示,在已涂覆的下层树脂5a上涂覆上层树脂5b。其结果,上层树脂5b形成于下层树脂5a的与基材2相反一侧。
(c)凹凸构造的形成
如图5的(c)所示,在已涂覆的下层树脂5a以及上层树脂5b从基材2侧依次层叠的状态下,从上层树脂5b侧将模具6按压于下层树脂5a以及上层树脂5b,形成在表面具有凹凸构造的树脂层7。
(d)树脂层的固化
使形成有凹凸构造的树脂层7固化。其结果,形成图5的(d)所示那样的聚合物层3。
(e)模具的剥离
将模具6从聚合物层3剥离。其结果,如图5的(e)所示那样的光学部件1完成。
[实施方式三]
以下参照图6对实施方式三的光学部件的制造方法进行说明。图6是用于对实施方式三的光学部件的制造工序进行说明的截面示意图(工序a~d)。实施方式三的光学部件的制造方法除了将下层树脂以及上层树脂同时涂覆在基材上以外,其他与实施方式一的光学部件的制造方法相同,因此重复的点适当地省略说明。此外,实施方式三的光学部件与实施方式一的光学部件相同,因此省略说明。
(a)下层树脂以及上层树脂的涂覆
首先,如图6的(a)所示,将下层树脂5a以及上层树脂5b同时涂覆在基材2上。其结果,上层树脂5b形成于下层树脂5a的与基材2相反一侧。作为同时涂覆下层树脂5a以及上层树脂5b的方法,例如可举出:以共挤出法进行涂覆的方法。
(b)凹凸构造的形成
如图6的(b)所示,在已涂覆的下层树脂5a以及上层树脂5b从基材2侧依次层叠的状态下,从上层树脂5b侧将模具6按压于下层树脂5a以及上层树脂5b,形成在表面具有凹凸构造的树脂层7。
(c)树脂层的固化
使形成有凹凸构造的树脂层7固化。其结果,形成有图6的(c)所示那样的聚合物层3。
(d)模具的剥离
将模具6从聚合物层3剥离。其结果,图6的(d)所示那样的光学部件1完成。
根据实施方式三的光学部件的制造方法,由于同时涂覆下层树脂5a以及上层树脂5b,所以与实施方式二的光学部件的制造方法比较,能够减少工序数。
以下,列举实施例以及比较例而对本发明更详细地进行说明,但本发明不被这些例子限定。
(组成材料)
在实施例以及比较例中,为了制造光学部件而使用的组成材料如以下那样。
(下层树脂LR-1~LR-36)
使用表1~12所示那样的组成的各种下层树脂。表1~12也示出各下层树脂中的酰胺基的浓度以及各下层树脂中的单官能酰胺单体的含量。此外,表1~12中的各材料名的记载如下述那样。
<多官能丙烯酸酯>
·“UA”:氨酯丙烯酸酯(共荣社化学社制造的“UA-306H”)
·“PA”:氨酯丙烯酸酯(新中村化学工业社制造的“U-10PA”)
·“ATM”:乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯(新中村化学工业社制造的“ATM-35E”)
·“TMM”:季戊四醇三丙烯酸酯(新中村化学工业社制造的“A-TMM-3LM-N”)
·“PET”:季戊四醇三丙烯酸酯(第一工业制药社制造的“PET-3”)
·“DPE”:二季戊四醇六丙烯酸酯(共荣社化学社制造的“light acrylateDPE-6A”)
·“#802”:三季戊四醇丙烯酸酯、单和二季戊四醇丙烯酸酯以及聚季戊四醇丙烯酸酯的混合物(大阪有机化学工业社制造的“Viscoat#802”)
·“PG”:乙氧基化聚甘油聚丙烯酸酯(新中村化学工业社制造的“NK ECONOMER A-PG5027E”)
·“DPEA”:烷氧基化二季戊四醇聚丙烯酸酯(日本化药社制造的“KAYARAD DPEA-12”)
·“DPCA”:烷氧基化二季戊四醇聚丙烯酸酯(日本化药社制造的“KAYARAD DPCA-30”)
·“EB”:六官能聚酯丙烯酸酯(Daicel Orneex社制造的“EBECRYL450”)
·“A”:聚乙二醇600二丙烯酸酯(新中村化学工业社制造的“A-600”)
<单官能丙烯酸酯>
·“AP”:聚丙二醇单丙烯酸酯(日油社制造的“AP-550”)
·“HBA”:丙烯酸4-羟基丁酯(日本化成社制的“4HBA”)
<单官能酰胺单体>
·“AC”:N-丙烯酰吗啉(KJ化工社制造的“ACMO”)
·“DM”:N,N-二甲基丙烯酰胺(KJ化工社制造的“DMAA”)
·“DE”:N,N-二乙基丙烯酰胺(KJ化工社制造的“DEAA”)
<聚合引发剂>
·“TPO”:2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-氧化膦(BASF社制造的“IRGACURE TPO”)
[表1]
Figure GDA0001758409720000301
[表2]
Figure GDA0001758409720000311
[表3]
Figure GDA0001758409720000321
[表4]
Figure GDA0001758409720000331
[表5]
Figure GDA0001758409720000341
[表6]
Figure GDA0001758409720000351
[表7]
Figure GDA0001758409720000361
[表8]
Figure GDA0001758409720000371
[表9]
Figure GDA0001758409720000381
[表10]
Figure GDA0001758409720000391
[表11]
Figure GDA0001758409720000401
[表12]
Figure GDA0001758409720000411
(上层树脂UR-1)
首先,相对于氟类添加剂(Neos社制造的“FTERGENT650A”),使用东京理化器械社制造的旋转蒸发器(产品名:N-1110型),进行从甲基异丁基酮向N,N-二乙基丙烯酰胺(KJ化工社制造的“DEAA”)的溶剂置换。其后,使用富山产业社制造的小型喷气式烘箱(产品名:MD-92),以温度180℃进行了五个小时加热处理。在加热处理后,添加N,N-二乙基丙烯酰胺(KJ化工社制造的“DEAA”),从而制成了固形物(含氟化合物)的浓度调整为15重量%的上层树脂UR-1。上层树脂UR-1的25℃的粘度为11mPa·s。
(上层树脂UR-2~UR-11)
如表13~15所示,除了变更了组成以外,与上层树脂UR-1的制成方法同样地制成各种上层树脂。表13~15也示出各上层树脂的25℃的粘度。此外,表13~15中的各材料名的记载如下述的那样。
<固形物(含氟化合物)>
·“650A”:氟类添加剂(Neos社制造的“FTERGENT650A”)
·“RS”:氟类添加剂(DIC社制造的“MegafacRS-76-NS”)
·“DAC”:氟类添加剂(大金工业社制造的“OPTOOLDAC-HP”)
<溶剂>
·“AC”:N-丙烯酰吗啉(KJ化工社制造的“ACMO”)
·“DE”:N,N-二乙基丙烯酰胺(KJ化工社制造的“DEAA”)
·“APG”:二丙二醇二丙烯酸酯(新中村化学工业社制造的“APG-100”)
[表13]
Figure GDA0001758409720000421
[表14]
Figure GDA0001758409720000431
[表15]
Figure GDA0001758409720000432
(上层树脂UR-12)
使用了下述材料的混合物。上层树脂UR-12不含有含氟化合物。上层树脂UR-12的25℃的粘度为410mPa·s。
<多官能丙烯酸酯>
·二季戊四醇六丙烯酸酯(新中村化学工业社制造的“A-DPH”):25重量部
·季戊四醇三丙烯酸酯(第一工业制药社制造的“PET-3”):25重量部
·烷氧基化二季戊四醇聚丙烯酸酯(日本化药社制造的“KAYARAD DPEA-12”):25重量部
·聚乙二醇600二丙烯酸酯(新中村化学工业社制造的“A-600”):25重量部
<脱模剂>
·(聚)氧乙烯烷基磷酸酯(日光化工社制造的“NIKKOL TDP-2”):0.1重量部
<聚合引发剂>
·1-羟基-环己基-苯基-酮(BASF社制造的“IRGACURE184”):1重量部
·双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基膦氧化物(BASF社制造的“IRGACURE 819”):0.5重量部
(实施例一)
通过实施方式一的光学部件的制造方法而制成了实施例一的光学部件。
(a)下层树脂以及上层树脂的涂覆
首先,通过第一理化社制造的刮棒涂覆机(产品名:No.05)将下层树脂5a涂覆在基材2上。其结果,下层树脂5a形成为与基材2直接接触。另一方面,将上层树脂5b涂覆在模具6的凹凸面上。具体而言,首先,通过第一理化社制造的刮棒涂覆机(产品名:No.05)将上层树脂5b涂覆在聚对苯二甲酸乙二酯膜(PET膜)上。然后,使用一进产业社制造的层压辊(产品名:RM20-100)从上层树脂5b侧将涂覆有上层树脂5b的聚对苯二甲酸乙二酯膜贴附在模具6的凹凸面上后,将聚对苯二甲酸乙二酯膜除去。其结果,上层树脂5b形成在模具6的凹凸面上。
作为基材2,使用了富士胶卷社制造的三醋酸纤维素膜(产品名:TAC-TD80U)。基材2的厚度为80μm。
作为下层树脂5a,使用了上述的下层树脂LR-1。下层树脂5a的厚度Da为9μm。作为上层树脂5b,使用了上述的上层树脂UR-1。上层树脂5b的厚度Db为1μm。
作为模具6,使用了由下述的方法制成的部件。首先,通过溅射法使成为模具6的材料的铝在10cm见方的玻璃基板上成膜。成膜的铝的层的厚度为1.0μm。接下来,通过相对于已成膜的铝的层,交替反复进行阳极氧化以及蚀刻,从而形成设置有多个微小的孔(相邻的孔的底点间的距离为可见光的波长以下)的阳极氧化层。具体而言,通过依次进行阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻以及阳极氧化(阳极氧化:五次,蚀刻:四次),从而形成多个具有朝向铝的内部变窄的形状(锥体形状)的微小的孔(凹部),其结果,获得具有凹凸构造的模具6。使用草酸(浓度:0.03重量%)在液温5℃、外加电压80V的条件下进行了阳极氧化。进行一次阳极氧化的时间为25秒。使用磷酸(浓度:1mol/l)在液温30℃的条件下进行了蚀刻。进行一次蚀刻的时间为25分。通过扫描式电子显微镜观察了模具6后,凹部的深度为290nm。此外,通过大金工业社制造的氟类脱模剂(产品名:OPTOOLAES4)预先对模具6实施了脱模处理。
(b)凹凸构造的形成
利用一进产业社制造的层压辊(产品名:RM20-100)从上层树脂5b侧将涂覆有上层树脂5b的模具6按压(贴附)于涂覆在基材2上的下层树脂5a,使上层树脂5b层叠在下层树脂5a上同时形成凹凸构造。其结果,形成了在与基材2相反一侧的表面具有凹凸构造的树脂层7。
(c)树脂层的固化
从基材2侧对形成有凹凸构造的树脂层7照射紫外线(照射量:1J/cm2)而使其固化(聚合)。其结果,形成了聚合物层3。
(d)模具的剥离
将模具6从聚合物层3剥离。其结果,光学部件1完成。光学部件1的表面规格如下述那样。
凸部4的形状:吊钟状
相邻凸部4间的间距P:200nm
凸部4的高度:200nm
凸部4的高宽比:1
聚合物层3的厚度D为10μm。聚合物层3的底部温度为176℃。聚合物层3的储能模量E’的最小值为2.3×108Pa。此外,作为储能模量E’的测量用试料,使用对下层树脂5a(90重量部)与上层树脂5b(10重量部)的混合物照射紫外线(照射量:1J/cm2)而使其固化的、具有方截面形状(长度:35mm,宽度:5mm,厚度:1mm)的固化物(聚合物层)。在夹紧了上述测量用试料的两端的状态下进行储能模量E’的测量,未被夹紧的部分的长度为20mm。
(实施例二至三十以及比较例一至十四)
除了变更为表16至23所示那样的材料以外,与实施例一同样制成了各例的光学部件。表16至23也示出了各例的聚合物层的底部温度以及各例的聚合物层的储能模量E’的最小值。此外,表16至23中的各材料名的记载如下述那样。
<下层树脂>
·“LR-1”~“LR-36”:下层树脂LR-1~LR-36
<上层树脂>
·“UR-1”~“UR-12”:上层树脂UR-1~UR-12
(比较例十五)
使用表23所示那样的材料,通过图7所示那样的制造工序,制成了比较例十五的光学部件。图7是用于对比较例十五的光学部件的制造工序进行说明的截面示意图(工序a~d)。
(a)下层树脂的涂覆
首先,如图7的(a)所示,利用第一理化社制造的刮棒涂覆机(产品名:No.05)将下层树脂105a(下层树脂LR-5)涂覆在基材102上。下层树脂105a的厚度Ea为9μm。
作为基材102,使用了富士胶卷社制造的三醋酸纤维素膜(产品名:TAC-TD80U)。基材102的厚度为80μm。
(b)凹凸构造的形成
如图7的(b)所示,在已涂覆的下层树脂105a按压模具106,形成了凹凸构造。
作为模具106,使用由下述的方法制成的部件。首先,通过溅射法使成为模具106的材料的铝在10cm见方的玻璃基板上成膜。成膜的铝的层的厚度为1.0μm。接下来,通过相对于已成膜的铝的层,交替反复进行阳极氧化以及蚀刻,从而形成了设置有多个微小的孔(相邻的孔的底点间的距离为可见光的波长以下)的阳极氧化层。具体而言,通过依次进行阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻以及阳极氧化(阳极氧化:五次,蚀刻:四次),从而形成多个具有朝向铝的内部变窄的形状(锥体形状)的微小的孔(凹部),其结果获得具有凹凸构造的模具106。使用草酸(浓度:0.03重量%)在液温5℃、外加电压80V的条件下进行了阳极氧化。进行一次阳极氧化的时间为25秒。使用磷酸(浓度:1mol/l)在液温30℃的条件下进行了蚀刻。进行一次蚀刻的时间为25分。利用扫描式电子显微镜观察了模具106后,凹部的深度为290nm。此外,通过大金工业社制造的氟类脱模剂(产品名:OPTOOLAES4)预先对模具106实施了脱模处理。
(c)下层树脂的固化
从基材102侧对形成有凹凸构造的下层树脂105a照射紫外线(照射量:1J/cm2)而使其固化。其结果,形成了图7的(c)所示那样的聚合物层103a。
(d)模具的剥离
将模具106从聚合物层103a剥离。其结果,图7的(d)所示那样的光学部件101a完成。光学部件101a的表面规格如下述的那样。
凸部104a的形状:吊钟状
相邻凸部104a间的间距Q1:200nm
凸部104a的高度:200nm
凸部104a的高宽比:1
(比较例十六)
使用表23所示那样的材料,通过图8以及图9所示那样的制造工序,制成了比较例十六的光学部件。图8是用于对比较例十六的光学部件的制造工序进行说明的截面示意图(工序a~d)。图9是用于对比较例十六的光学部件的制造工序进行说明的截面示意图(工序e~f)。此外,本比较例与上述专利文献3的实施例三相当。
(a)下层树脂的涂覆
首先,如图8的(a)所示,利用第一理化社制造的刮棒涂覆机(产品名:No.05)将下层树脂105a(下层树脂LR-35)涂覆在基材102上。下层树脂105a的厚度Ea为10μm。作为基材102,使用与比较例十五相同的部件。
(b)下层树脂的固化
从基材102侧对已涂覆的下层树脂105a照射紫外线(照射量:1J/cm2)而使其固化。其结果,形成了图8的(b)所示那样的聚合物层103a。
(c)上层树脂的涂覆
如图8的(c)所示,将上层树脂105b(上层树脂UR-12)涂覆在模具106的凹凸面上。具体而言,首先,利用第一理化社制造的刮棒涂覆机(产品名:No.05)将上层树脂105b涂覆在聚对苯二甲酸乙二酯膜上。然后,使用一进产业社制造的层压辊(产品名:RM20-100)从上层树脂105b侧将涂覆有上层树脂105b的聚对苯二甲酸乙二酯膜贴附在模具106的凹凸面上后,除去聚对苯二甲酸乙二酯膜。其结果,上层树脂105b形成在模具106的凹凸面上。上层树脂105b的厚度Eb为10μm。作为模具106,使用与比较例十五相同的部件。
(d)凹凸构造的形成
如图8的(d)所示,利用一进产业社制造的层压辊(产品名:RM20-100)从上层树脂105b侧将涂覆有上层树脂105b的模具106按压(贴附)于形成在基材102上的聚合物层103a,由此使上层树脂105b层叠在聚合物层103a上同时形成了凹凸构造。
(e)上层树脂的固化
从基材102侧对形成有凹凸构造的上层树脂105b照射紫外线(照射量:1J/cm2)而使其固化。其结果,形成了图9的(e)所示那样的聚合物层103b。聚合物层103a与聚合物层103b完全分离,存在两者的界面。
(f)模具的剥离
将模具106从聚合物层103b剥离。其结果,图9的(f)所示那样的光学部件101b完成。光学部件101b的表面规格如下述那样。
凸部104b的形状:吊钟状
相邻凸部104b间的间距Q2:200nm
凸部104b的高度:200nm
凸部104b的高宽比:1
(比较例十七)
除了变更为表23所示那样的材料以外,比较例十六同样地制成比较例十七的光学部件。此外,本比较例与上述专利文献4的实施例八相当。
(比较例十八)
使用表23所示那样的材料,通过图10所示那样的制造工序,制成了比较例十八的光学部件。图10是用于对比较例十八的光学部件的制造工序进行说明的截面示意图(工序a~d)。此外,本比较例与使用了上述专利文献3的表层形成用组成物的例子相当。
(a)上层树脂的涂覆
首先,如图10的(a)所示,将上层树脂105b(上层树脂UR-12)涂覆在模具106的凹凸面上。具体而言,首先,利用第一理化社制造的刮棒涂覆机(产品名:No.05)将上层树脂105b涂覆在聚对苯二甲酸乙二酯膜上。然后,使用一进产业社制造的层压辊(产品名:RM20-100)从上层树脂105b侧将涂覆有上层树脂105b的聚对苯二甲酸乙二酯膜贴附在模具106的凹凸面上后,将聚对苯二甲酸乙二酯膜除去。其结果,上层树脂105b形成在模具106的凹凸面上。上层树脂105b的厚度Eb为10μm。作为模具106,使用与比较例十五相同的部件。另外,准备基材102。作为基材102,使用与比较例十五相同的部件。
(b)凹凸构造的形成
如图10的(b)所示,利用一进产业社制造的层压辊(产品名:RM20-100)从上层树脂105b侧将涂覆有上层树脂105b的模具106按压(贴附)于基材102,由此使上层树脂105b层叠在基材102上同时形成了凹凸构造。
(c)上层树脂的固化
从基材102侧对形成有凹凸构造的上层树脂105b照射紫外线(照射量:1J/cm2)而使其固化。其结果,形成了图10的(c)所示那样的聚合物层103b。
(d)模具的剥离
将模具106从聚合物层103b剥离。其结果,图10的(d)所示那样的光学部件101c完成。光学部件101c的表面规格如下述的那样。
凸部104c的形状:吊钟状
相邻凸部104c间的间距Q3:200nm
凸部104c的高度:200nm
凸部104c的高宽比:1
[光学部件的评价]
针对实施例一至三十以及比较例一至十八的光学部件,表16~23示出基材与聚合物层的紧贴性(以下,也仅称为紧贴性。)以及耐磨性的评价结果。
(紧贴性的评价)
通过以下的方法对常温/常湿的环境下的紧贴性进行了评价。首先,使用大王制纸社制造的擦拭件(产品名:Elieres Pro擦拭软微刮器S220),相对于各例的光学部件,100次往复擦拭了聚合物层的与基材相反一侧的表面(凹凸构造的表面)。其后,将各例的光学部件在温度23℃、湿度50%的环境下放置了三天时间。接下来,用切割刀,相对于聚合物层的与基材相反一侧的表面,以格子状且以1mm间隔切入纵11条、横11条的切槽,刻出100个正方形的方格(1mm见方)。然后,将日东电工社制造的聚酯粘性胶带(产品名:No.31B)压接于方格部分后,使粘性胶带向与方格部分的表面成90°的方向以100mm/s的速度剥离。其后,目视观察基材上的聚合物层的剥离状态,计算基材上的聚合物层剥离了的方格的个数。用“X/100”表示结果(X是基材上的聚合物层剥离的方格的个数)。判定基准如下述那样。
等级A:100个中的一个也未剥离(0/100)。
等级B:100个中的一个以上且九十九个以下剥离(1/100~99/100)。
等级C:100个中的100个均剥离(100/100)。
此处,将判定为等级A的情况下判断为实际使用上没有问题的等级(常温/常湿的环境下的紧贴性高)。
通过以下的方法对高温/高湿的环境下的紧贴性进行了评价。首先,使用大王制纸社制造的擦拭件(产品名:Elieres Pro擦拭软微刮器S220),相对于各例的光学部件,100次往复擦拭了聚合物层的与基材相反一侧的表面(凹凸构造的表面)。其后,将各例的光学部件在温度60℃、湿度95%的环境下放置了三天时间,还回到温度23℃、湿度50%的环境下而放置了一天时间。接下来,用切割刀,对聚合物层的与基材相反一侧的表面,以格子状且以1mm间隔切入纵11条、横11条的切槽,刻出100个正方形的方格(1mm见方)。然后,将日东电工社制造的聚酯粘性胶带(产品名:No.31B)压接于方格部分后,使粘性胶带向与方格部分的表面成90°的方向以100mm/s的速度剥离。其后,目视观察基材上的聚合物层的剥离状态,计算基材上的聚合物层剥离了的方格的个数。用“X/100”表示结果(X是基材上的聚合物层剥离了的方格的个数)。判定基准如下述那样。
等级a:100个中的一个也未剥离(0/100)。
等级b:100个中的一个以上且两个以下剥离(1/100~2/100)。
等级c:100个中的三个以上且五个以下剥离(3/100~5/100)。
等级d:100个中的六个以上且九十九个以下剥离(6/100~99/100)。
等级e:100个中的100个均剥离(100/100)。
此处,将判定为等级a、等级b或者等级c的情况下判断为实际使用上没有问题的等级(高温/高湿的环境下的紧贴性高)。
基于通过上述的方法进行的常温/常湿的环境下的紧贴性以及高温/高湿的环境下的紧贴性的评价结果,如下述那样进行了对紧贴性的综合评价。
◎:常温/常湿的环境下的紧贴性为等级A,并且高温/高湿的环境下的紧贴性为等级a。
○:常温/常湿的环境下的紧贴性为等级A,并且高温/高湿的环境下的紧贴性为等级b。
Δ:常温/常湿的环境下的紧贴性为等级A,并且高温/高湿的环境下的紧贴性为等级c。
×:常温/常湿的环境下的紧贴性为等级A或者等级B,并且高温/高湿的环境下的紧贴性为等级d或者等级e。
××:常温/常湿的环境下的紧贴性为等级C,并且高温/高湿的环境下的紧贴性为等级e。
此处,将综合评价为◎、○或者Δ的情况判断为实际使用上没有问题的等级。
对于高温/高湿的环境下的耐磨性而言,针对各例的光学部件,对以无纺布摩擦表面前后的反射率进行了评价。具体而言,首先,相对于各例的光学部件,在基材的与聚合物层相反一侧的表面贴附了黑丙烯酸板。其后,在温度23℃、湿度50%的环境下,相对于各例的光学部件的聚合物层的与基材相反一侧的表面,从极角5°的方位照射光源,对入射角5°的正反射分光反射率进行了测量。使用岛津制作所社制造的分光光度计(产品名:UV-3100PC),在380~780nm的波长区域进行了反射率的测量。而且,根据测量结果,计算450~650nm的波长区域的平均反射率,将该值作为反射率A(单位:%)。
在测量了反射率后,使各例的光学部件在温度60℃、湿度95%的环境下放置了一天时间,还回到温度23℃、湿度50%的环境下放置了一天时间。接下来,使用旭化成纤维社制造的无纺布(产品名:Benkot Lab(注册商标)),在各例的光学部件的聚合物层的与基材相反一侧的表面进行了10次往复摩擦。其后,针对各例的光学部件,与上述的方法同样对入射光5°的正反射分光反射率进行了测量。而且,根据测量结果,对450~650nm的波长区域的平均反射率进行计算,将该值作为反射率B(单位:%)。
作为耐磨性的评价指标,使用“摩擦前后的反射率的变化率(单位:%)=100×(反射率B-反射率A)/反射率A”,判定基准如下述那样。
◎:反射率的变化率为15%以下。
○:反射率的变化率为高于15%且不足25%。
Δ:反射率的变化率为25%以上且30%以下。
×:反射率的变化率为高于30%且不足50%。
××:反射率的变化率为50%以上。
此处,将判定为◎、○或者Δ的情况判断为实际使用上没有问题的等级(高温/高湿的环境下的耐磨性高)。
[表16]
Figure GDA0001758409720000551
[表17]
Figure GDA0001758409720000561
[表18]
Figure GDA0001758409720000571
[表19]
Figure GDA0001758409720000581
[表20]
Figure GDA0001758409720000591
[表21]
Figure GDA0001758409720000601
[表22]
Figure GDA0001758409720000611
[表23]
Figure GDA0001758409720000621
如表16~20所示,对于实施例一至三十任一个而言,常温/常湿以及高温/高湿的各环境下的紧贴性、以及高温/高湿的环境下的耐磨性均提高了。其中,实施例四、实施例六、实施例八、实施例十三、实施例十六、实施例十九、实施例二十、实施例二十三以及实施例二十四紧贴性以及耐磨性更高,实施例一、实施例二、实施例三、实施例二十一、实施例二十二、实施例二十七、实施例二十八以及实施例三十紧贴性以及耐磨性特别高。
若对下层树脂中的单官能酰胺单体的种类相同的(N,N-二甲基丙烯酰胺)的实施例一、实施例二、实施例三、实施例四、实施例五、实施例六以及实施例七进行比较,则下层树脂中的酰胺基的浓度按实施例五(1.61mmol/g)、实施例四(2.11mmol/g)、实施例三(2.61mmol/g)、实施例一(3.02mmol/g)、实施例二(3.92mmol/g)、实施例六(4.42mmol/g)、实施例七(4.92mmol/g)的顺序依次变高,伴随于此,紧贴性整体上相同或者变高,特别是高温/高湿的环境下的紧贴性相同或者变高。另一方面,下层树脂中的酰胺基的浓度按实施例七(4.92mmol/g)、实施例六(4.42mmol/g)、实施例二(3.92mmol/g)、实施例一(3.02mmol/g)、实施例三(2.61mmol/g)、实施例四(2.11mmol/g)、实施例五(1.61mmol/g)的顺序变低,伴随于此,高温/高湿的环境下的耐磨性相同或者变高。根据以上,可知通过最佳地控制下层树脂中的酰胺基的浓度,能够提高高温/高湿的环境下的紧贴性以及耐磨性。另外,从充分提高高温/高湿的环境下的紧贴性以及耐磨性的观点出发,优选下层树脂中的酰胺基的浓度为2mmol/g以上且不足4.5mmol/g,更优选为2.5mmol/g以上且不足4mmol/g。
如实施例六、实施例八、实施例十四、实施例十七、实施例十九以及实施例二十那样,底部温度为125℃以上且195℃以下,并且储能模量E’的最小值为1.5×108Pa以上且9×108Pa以下的情况下,高温/高湿的环境下的耐磨性进一步变高。而且,如实施例一、实施例二、实施例三、实施例四、实施例五、实施例十三、实施例十六、实施例二十一、实施例二十二、实施例二十三、实施例二十四、实施例二十五、实施例二十七、实施例二十八以及实施例三十那样,底部温度为140℃以上且180℃以下,并且储能模量E’的最小值为2×108Pa以上且8×108Pa以下的情况下,高温/高湿的环境下的耐磨性特别高。因此,可知通过最佳地控制底部温度以及储能模量E’的最小值,从而能够提高高温/高湿的环境下的耐磨性。
根据以上,可知通过最佳地控制下层树脂中的酰胺基的浓度、和底部温度以及储能模量E’的最小值,从而能够提高高温/高湿的环境下的紧贴性以及耐磨性。
若对上层树脂中的含氟化合物的种类相同的实施例十九、实施例二十、实施例二十一以及实施例二十六进行比较,则上层树脂中的含氟化合物的含量按实施例二十六(0重量%)、实施例十九(0.1重量%)、实施例二十(5重量%)、实施例二十一(10重量%)的顺序变多,伴随于此,高温/高湿的环境下的耐磨性变高。这是由于按实施例二十六、实施例十九、实施例二十、实施例二十一的顺序,上层树脂中的氟原子的量变多,聚合物层的与基材相反一侧的表面的光滑性提高。另一方面,若对上层树脂中的含氟化合物的种类相同的实施例二十二、实施例二十三、实施例二十四以及实施例二十五进行比较,则上层树脂中的含氟化合物的含量按实施例二十五(32重量%)、实施例二十四(30重量%)、实施例二十三(25重量%)、实施例二十二(20重量%)的顺序变少,伴随于此,紧贴性整体上相同或者变高,特别是高温/高湿的环境下的紧贴性变高。这是由于按实施例二十五、实施例二十四、实施例二十三、实施例二十二的顺序,上层树脂中的氟原子的量变少,其结果,氟原子未在聚合物层的基材侧的表面多地取向,而在聚合物层的与基材相反一侧的表面高效地取向。即,相比实施例二十五,而实施例二十二聚合物层的基材侧的表面的酰胺基的量变多。根据以上,可知通过最佳地控制上层树脂中的含氟化合物的含量,从而能够提高高温/高湿的环境下的紧贴性以及耐磨性。另外,可知从充分地提高高温/高湿的环境下的紧贴性以及耐磨性的观点出发,优选上层树脂中的含氟化合物的含量为0.1重量%以上且30重量%以下,更优选为5重量%以上且25重量%以下,进一步优选为10重量%以上且20重量%以下。
另一方面,如表21~23所示,对于比较例一至十八的任一个而言,高温/高湿的环境下的紧贴性以及耐磨性中的至少一个低。比较例一以及比较例二下层树脂中的酰胺基的浓度不足1.5mmol/g,因此高温/高湿的环境下的紧贴性较低。比较例三下层树脂中的酰胺基的浓度为5mmol/g以上,而且储能模量E’的最小值不足1×108Pa,因此高温/高湿的环境下的耐磨性低。比较例四以及比较例五底部温度高于210℃,因此高温/高湿的环境下的耐磨性低。比较例六以及比较例七储能模量E’的最小值不足1×108Pa,因此高温/高湿的环境下的耐磨性低。比较例八底部温度不足110℃,因此高温/高湿的环境下的耐磨性低。比较例九底部温度不足110℃,而且储能模量E’的最小值不足1×108Pa,因此高温/高湿的环境下的耐磨性低。比较例十下层树脂中的酰胺基的浓度不足1.5mmol/g,而且底部温度不足110℃,因此高温/高湿的环境下的紧贴性以及耐磨性低。比较例十一下层树脂中的酰胺基的浓度不足1.5mmol/g,而且储能模量E’的最小值大于1×109Pa,因此高温/高湿的环境下的紧贴性以及耐磨性低。比较例十二以及比较例十三储能模量E’的最小值大于1×109Pa,因此高温/高湿的环境下的耐磨性低。比较例十四底部温度高于210℃,而且储能模量E’的最小值大于1×109Pa,因此高温/高湿的环境下的耐磨性低。对于比较例十五而言,聚合物层仅由下层树脂形成、酰胺基的浓度较低的状态特别是聚合物层的基材侧的表面的酰胺基的量未高效地变高,因此高温/高湿的环境下的紧贴性以及耐磨性较低。对于比较例十六以及比较例十七而言,使下层树脂固化后涂覆上层树脂,因此高温/高湿的环境下的两者间的紧贴性较低。对于比较例十八而言,聚合物层仅由上层树脂形成,而且不含有酰胺基,因此紧贴性较低。
[附记]
本发明的一方式是具备:基材;和与上述基材直接接触的、在表面具有多个凸部以可见光的波长以下的间距设置的凹凸构造的聚合物层的光学部件的制造方法,上述光学部件的制造方法也可以包括:工序(1),涂覆下层树脂以及上层树脂;工序(2),在将已涂覆的上述下层树脂以及上述上层树脂从上述基材侧依次层叠的状态下,从上述上层树脂侧将模具按压于上述下层树脂以及上述上层树脂,形成在表面具有上述凹凸构造的树脂层;工序(3),使上述树脂层固化,形成上述聚合物层,上述下层树脂含有酰胺基,上述下层树脂中的上述酰胺基的浓度为1.5mmol/g以上且不足5mmol/g,测量温度范围-50~250℃、升温速度5℃/min以及频率10Hz的条件下的动态粘弹性测量中的、上述聚合物层的储能模量E’成为最小的底部温度为110℃以上且210℃以下,并且上述聚合物层的上述储能模量E’的最小值为1×108Pa以上且1×109Pa以下。
上述工序(1)中的“涂覆下层树脂以及上层树脂”不仅包括在相同的部件上重叠涂覆上述下层树脂以及上述上层树脂的情况,还包括在不同部件上涂覆上述下层树脂以及上述上层树脂的情况。作为在不同部件上涂覆上述下层树脂以及上述上层树脂的情况,例如也可以将上述下层树脂涂覆在上述基材上,将上述上层树脂涂覆在上述模具上。
另外,上述工序(2)中的“在已涂覆的上述下层树脂以及上述上层树脂从上述基材侧依次层叠的状态下,从上述上层树脂侧将模具按压于上述下层树脂以及上述上层树脂”不仅包括在上述下层树脂以及上述上层树脂从上述基材侧依次层叠后按压上述模具的情况,还包括将上述下层树脂以及上述上层树脂一边从上述基材侧依次层叠一边按压上述模具的情况。换言之,在上述工序(2)中,包括在相同的时机或者不同时机进行使上述下层树脂以及上述上层树脂从上述基材侧依次层叠(以下,也称为层叠化步骤。)、和从上述上层树脂侧将上述模具按压于上述下层树脂以及上述上层树脂(以下,也称为按压步骤。)的方法。
作为在相同的时机进行上述层叠化步骤和上述按压步骤的方法,优选以下的(方法1)。
(方法1)将上述下层树脂涂覆在上述基材上,将上述上层树脂涂覆在上述模具上,其后将涂覆有上述上层树脂的上述模具从上述上层树脂侧按压于涂覆在上述基材上的上述下层树脂(上述按压步骤),并且使上述上层树脂层叠在上述下层树脂上(上述层叠化步骤)。
即,上述工序(1)也可以通过将上述下层树脂涂覆在上述基材上并将上述上层树脂涂覆在上述模具上来进行,上述工序(2)也可以通过将涂覆有上述上层树脂的上述模具从上述上层树脂侧按压于涂覆在上述基材上的上述下层树脂来进行。这种情况下,能够使上述上层树脂向上述下层树脂上层叠,并且形成上述凹凸构造。而且,相比将上述下层树脂以及上述上层树脂依次涂覆在上述基材上的情况(后述的(方法2)),能够减少工序数。另外,根据本方法,能够令人满意地提高防污性,特别是能够将上述上层树脂的构成材料的损失抑制为最小限。
作为在不同时机进行上述层叠化步骤和上述按压步骤的方法,优选以下的(方法2)~(方法5)。
(方法2)将上述下层树脂以及上述上层树脂依次涂覆在上述基材上(上述层叠化步骤),其后从上述上层树脂侧将上述模具按压于上述下层树脂以及上述上层树脂(上述按压步骤)。
即,上述工序(1)也可以通过将上述下层树脂以及上述上层树脂依次涂覆在上述基材上来进行。这种情况下,通过并列设置一般的涂覆方式(例如,凹版方式、狭缝模具方式等)的装置,能够高效地进行上述下层树脂以及上述上层树脂的涂覆。
(方法3)将上述下层树脂以及上述上层树脂同时涂覆在上述基材上(上述上层树脂形成于上述下层树脂的与上述基材相反一侧)(上述层叠化步骤),其后从上述上层树脂侧将上述模具按压于上述下层树脂以及上述上层树脂(上述按压步骤)。
即,上述工序(1)也可以通过将上述下层树脂以及上述上层树脂同时涂覆在上述基材上来进行。这种情况下,能够高效地进行上述下层树脂以及上述上层树脂的涂覆。而且,相比将上述下层树脂以及上述上层树脂依次涂覆在上述基材上的情况(上述的(方法2)),能够简化涂覆装置,并且减少工序数,因此生产率提高。
(方法4)将上述上层树脂以及上述下层树脂依次涂覆在上述模具上(上述层叠化步骤),其后,将涂覆有上述上层树脂以及上述下层树脂的上述模具按压于上述基材(上述按压步骤)。
即,上述工序(1)也可以通过将上述上层树脂以及上述下层树脂依次涂覆在上述模具上来进行。这种情况下,例如若作为上述模具使用可挠性的部件,则能够与上述基材的形状无关地容易地形成上述凹凸构造。
(方法5)将上述上层树脂以及上述下层树脂同时涂覆在上述模具上(上述下层树脂形成于上述上层树脂的与上述模具相反一侧)(上述层叠化步骤),其后将涂覆有上述上层树脂以及上述下层树脂的上述模具按压于上述基材(上述按压步骤)。
即,上述工序(1)也可以通过将上述上层树脂以及上述下层树脂同时涂覆在上述模具上来进行。这种情况下,例如若作为上述模具而使用可挠性的部件,则能够与上述基材的形状无关地容易地制造上述凹凸构造。
以下,列举本发明的光学部件的制造方法的其他的优选的特征的例子。各例在不脱离本发明的主旨的范围内也可以适当地组合。
也可以上述下层树脂中的上述酰胺基的浓度为2mmol/g以上且不足4.5mmol/g。由此,能够进一步提高高温/高湿的环境下的上述基材以及上述聚合物层间的紧贴性和耐磨性。
也可以上述下层树脂中的上述酰胺基的浓度为2.5mmol/g以上且不足4mmol/g。由此,能够进一步提高高温/高湿的环境下的上述基材以及上述聚合物层间的紧贴性和耐磨性。
也可以上述底部温度为125℃以上且195℃以下,并且上述储能模量E’的最小值为1.5×108Pa以上且9×108Pa以下。由此,能够进一步提高高温/高湿的环境下的耐磨性。
也可以上述底部温度为140℃以上且180℃以下,并且上述储能模量E’的最小值为2×108Pa以上且8×108Pa以下。由此,能够进一步提高高温/高湿的环境下的耐磨性。
也可以上述下层树脂含有单官能酰胺单体,上述下层树脂中的上述单官能酰胺单体的含量为15重量%以上且49重量%以下。由此,能够进一步提高高温/高湿的环境下的上述基材以及上述聚合物层间的紧贴性和耐磨性。
也可以上述单官能酰胺单体包括:N,N-二甲基丙烯酰胺以及N,N-二乙基丙烯酰胺中的至少一个。由此,即使上述单官能酰胺单体的含量为少量,也能够令人满意地提高高温/高湿的环境下的上述基材以及上述聚合物层间的紧贴性和耐磨性。
也可以上述上层树脂含有含氟化合物,上述上层树脂中的上述含氟化合物的含量为0.1重量%以上且30重量%以下。由此,能够提高上述聚合物层的与上述基材相反一侧的表面的光滑性,其结果,能够提高高温/高湿的环境下的耐磨性。另外,上述聚合物层的吸湿性降低,因此特别是能够抑制在高温/高湿的环境下上述基材与上述聚合物层的紧贴性的降低。
也可以上述上层树脂中的上述含氟化合物的含量为5重量%以上且25重量%以下。由此,能够进一步提高高温/高湿的环境下的耐磨性。另外,能够进一步抑制在高温/高湿的环境下上述基材与上述聚合物层的紧贴性的降低。
也可以上述上层树脂中的上述含氟化合物的含量为10重量%以上且20重量%以下。由此,能够进一步提高高温/高湿的环境下的耐磨性。另外,能够进一步抑制在高温/高湿的环境下上述基材与上述聚合物层的紧贴性的降低。
也可以上述下层树脂以及上述上层树脂中的至少一个为无溶剂系。由此,能够减少溶剂的使用所涉及的成本以及环境面的负荷。而且,不需要用于使溶剂干燥而除去的装置,能够减少装置成本。
也可以在上述基材的至少上述聚合物层侧的表面存在三醋酸纤维素。由此,即使在上述基材的至少上述聚合物层侧的表面存在极性高的三醋酸纤维素的情况下,也能够提高高温/高湿的环境下的上述基材与上述聚合物层的紧贴性。
本发明的其他的一方式是具备:基材;和与上述基材直接接触的、在表面具有多个凸部以可见光的波长以下的间距设置的凹凸构造的聚合物层的光学部件,上述光学部件也可以:上述聚合物层是在以1.5mmol/g以上且不足5mmol/g的浓度含有酰胺基的下层树脂、和上层树脂从上述基材侧依次层叠的状态下,从上述上层树脂侧将模具按压于上述下层树脂以及上述上层树脂而形成的、在表面具有上述凹凸构造的树脂层的固化物,测量温度范围-50~250℃、升温速度5℃/min以及频率10Hz的条件下的动态粘弹性测量中的、上述聚合物层的储能模量E’成为最小的底部温度为110℃以上且210℃以下,并且上述聚合物层的上述储能模量E’的最小值为1×108Pa以上且1×109Pa以下。
“在下层树脂、和上层树脂从上述基材侧依次层叠的状态下,从上述上层树脂侧将模具按压于上述下层树脂以及上述上层树脂而形成的、在表面具有上述凹凸构造的树脂层的固化物”不仅包括将上述下层树脂以及上述上层树脂从上述基材侧依次层叠后按压上述模具而形成的、在表面具有上述凹凸构造的树脂层的固化物,还包括将上述下层树脂以及上述上层树脂从上述基材侧依次层叠并且按压上述模具而形成的、在表面具有上述凹凸构造的树脂层的固化物。换言之,包括:在相同的时机或者不同时机进行使上述下层树脂以及上述上层树脂从上述基材侧依次层叠(上述层叠化步骤)、和从上述上层树脂侧将上述模具按压于上述下层树脂以及上述上层树脂(上述按压步骤)而形成的、在表面具有上述凹凸构造的树脂层的固化物。
作为在相同的时机进行上述层叠化步骤和上述按压步骤而形成的、在表面具有上述凹凸构造的树脂层的固化物,优选以下的(固化物1)。
(固化物1)将上述下层树脂配置在上述基材上,将上述上层树脂配置在上述模具上,其后从上述上层树脂侧将配置有上述上层树脂的上述模具按压于配置在上述基材上的上述下层树脂(上述按压步骤),并且使上述上层树脂层叠在上述下层树脂上(上述层叠化步骤)而形成的、在表面具有上述凹凸构造的树脂层的固化物。
作为在不同时机进行上述层叠化步骤和上述按压步骤而形成的、在表面具有上述凹凸构造的树脂层的固化物,优选以下的(固化物2)~(固化物5)。
(固化物2)将上述下层树脂以及上述上层树脂依次配置在上述基材上(上述层叠化步骤),其后从上述上层树脂侧将上述模具按压于上述下层树脂以及上述上层树脂(上述按压步骤)而形成的、在表面具有上述凹凸构造的树脂层的固化物。
(固化物3)将上述下层树脂以及上述上层树脂同时配置在上述基材上(上述上层树脂配置在上述下层树脂的与上述基材相反一侧)(上述层叠化步骤),其后从上述上层树脂侧将上述模具按压于上述下层树脂以及上述上层树脂(上述按压步骤)而形成的、在表面具有上述凹凸构造的树脂层的固化物。
(固化物4)将上述上层树脂以及上述下层树脂依次配置在上述模具上(上述层叠化步骤),其后,将配置有上述上层树脂以及上述下层树脂的上述模具按压于上述基材(上述按压步骤)而形成的、在表面具有的上述凹凸构造的树脂层的固化物。
(固化物5)将上述上层树脂以及上述下层树脂同时配置在上述模具上(上述下层树脂配置于上述上层树脂的与上述模具相反一侧)(上述层叠化步骤),其后将配置有上述上层树脂以及上述下层树脂的上述模具按压于上述基材(上述按压步骤)而形成的、在表面具有上述凹凸构造的树脂层的固化物。
作为本发明的光学部件的其他的优选的特征的例子,可举出上述的本发明的光学部件的制造方法的优选的特征的例子中与光学部件的特征相关的特征。
符号说明
1、101a、101b、101c:光学部件
2、102:基材
3、103a、103b:聚合物层
4、104a、104b、104c:凸部
5a、105a:下层树脂
5b、105b:上层树脂
6、106:模具
7:树脂层
P、Q1、Q2、Q3:间距
D:聚合物层的厚度
Da、Ea:下层树脂的厚度
Db、Eb:上层树脂的厚度

Claims (15)

1.一种光学部件的制造方法,其为具备:基材;和与所述基材直接接触的、在表面具有多个凸部以可见光的波长以下的间距设置的凹凸构造的聚合物层的光学部件的制造方法,所述光学部件的制造方法的特征在于,包括:
工序(1),涂覆下层树脂以及上层树脂;
工序(2),在将已涂覆的所述下层树脂以及所述上层树脂从所述基材侧依次层叠的状态下,从所述上层树脂侧将模具按压于所述下层树脂以及所述上层树脂,形成在表面具有所述凹凸构造的树脂层;以及
工序(3),使所述下层树脂以及所述上层树脂一体化的所述树脂层固化,形成所述聚合物层,
所述下层树脂含有具有酰胺基的单官能酰胺单体、以及多官能丙烯酸酯,
所述单官能酰胺单体包括:N,N-二甲基丙烯酰胺以及N,N-二乙基丙烯酰胺中的至少一个,
所述下层树脂中的所述酰胺基的浓度为1.5mmol/g以上且不足5mmol/g,
测量温度范围-50~250℃、升温速度5℃/min以及频率10Hz的条件下的动态粘弹性测量中的、所述聚合物层的储能模量E’成为最小的底部温度为110℃以上且210℃以下,并且所述聚合物层的所述储能模量E’的最小值为1×108Pa以上且1×109Pa以下。
2.根据权利要求1所述的光学部件的制造方法,其特征在于,
所述下层树脂中的所述酰胺基的浓度为2mmol/g以上且不足4.5mmol/g。
3.根据权利要求2所述的光学部件的制造方法,其特征在于,
所述下层树脂中的所述酰胺基的浓度为2.5mmol/g以上且不足4mmol/g。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的光学部件的制造方法,其特征在于,
所述底部温度为125℃以上且195℃以下,并且所述储能模量E’的最小值为1.5×108Pa以上且9×108Pa以下。
5.根据权利要求4所述的光学部件的制造方法,其特征在于,
所述底部温度为140℃以上且180℃以下,并且所述储能模量E’的最小值为2×108Pa以上且8×108Pa以下。
6.根据权利要求1~3中任一项所述的光学部件的制造方法,其特征在于,
所述下层树脂中的所述单官能酰胺单体的含量为15重量%以上且49重量%以下。
7.根据权利要求1~3中任一项所述的光学部件的制造方法,其特征在于,
所述上层树脂含有含氟化合物,
所述上层树脂中的所述含氟化合物的含量为0.1重量%以上且30重量%以下。
8.根据权利要求7所述的光学部件的制造方法,其特征在于,
所述上层树脂中的所述含氟化合物的含量为5重量%以上且25重量%以下。
9.根据权利要求8所述的光学部件的制造方法,其特征在于,
所述上层树脂中的所述含氟化合物的含量为10重量%以上且20重量%以下。
10.根据权利要求1~3中任一项所述的光学部件的制造方法,其特征在于,
所述下层树脂以及所述上层树脂中的至少一个为无溶剂系。
11.根据权利要求1~3中任一项所述的光学部件的制造方法,其特征在于,
在所述基材的至少所述聚合物层侧的表面存在三醋酸纤维素。
12.根据权利要求1~3中任一项所述的光学部件的制造方法,其特征在于,
所述工序(1)通过将所述下层树脂涂覆在所述基材上并将所述上层树脂涂覆在所述模具上来进行,
所述工序(2)通过从所述上层树脂侧将涂覆有所述上层树脂的所述模具按压于涂覆在所述基材上的所述下层树脂来进行。
13.根据权利要求1~3中任一项所述的光学部件的制造方法,其特征在于,
所述工序(1)通过将所述下层树脂以及所述上层树脂依次涂覆在所述基材上来进行。
14.根据权利要求1~3中任一项所述的光学部件的制造方法,其特征在于,
所述工序(1)通过将所述下层树脂以及所述上层树脂同时涂覆在所述基材上来进行。
15.一种光学部件,其具备:基材;和
与所述基材直接接触的、在表面具有多个凸部以可见光的波长以下的间距设置的凹凸构造的聚合物层,其特征在于,
所述聚合物层是在下层树脂、和上层树脂从所述基材侧依次层叠的状态下,从所述上层树脂侧将模具按压于所述下层树脂以及所述上层树脂而形成的、在表面具有所述凹凸构造并将所述下层树脂以及所述上层树脂一体化的树脂层的固化物,
所述下层树脂含有具有酰胺基的单官能酰胺单体、以及多官能丙烯酸酯,
所述单官能酰胺单体包括:N,N-二甲基丙烯酰胺以及N,N-二乙基丙烯酰胺中的至少一个,
所述下层树脂中的所述酰胺基的浓度为1.5mmol/g以上且不足5mmol/g,测量温度范围-50~250℃、升温速度5℃/min以及频率10Hz的条件下的动态粘弹性测量中的、所述聚合物层的储能模量E’成为最小的底部温度为110℃以上且210℃以下,并且所述聚合物层的所述储能模量E’的最小值为1×108Pa以上且1×109Pa以下。
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