CN109690364B

CN109690364B - 防污性膜

Info

Publication number: CN109690364B
Application number: CN201780052020.5A
Authority: CN
Inventors: 芝井康博; 厚母贤; 中松健一郎
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 2016-08-25
Filing date: 2017-06-28
Publication date: 2020-11-10
Anticipated expiration: 2037-06-28
Also published as: JPWO2018037711A1; JP6600414B2; US10976475B1; US20210096282A1; CN109690364A; WO2018037711A1

Abstract

本发明提供一种防污性、密接性、耐磨性及可靠性均优异的防污性膜。本发明的防污性膜具备：基材；以及聚合物层，其配置在所述基材的表面上，且在表面具有以可见光的波长以下的间距而设有多个凸部的凹凸结构，并且所述聚合物层为聚合性组成物的硬化物，所述聚合性组成物以有效成分换算，含有15重量％～40重量％的六官能以上的丙烯酸氨基甲酸酯、35重量％～60重量％的每个官能基包含3个～15个环氧乙烷基的四官能以上的多官能丙烯酸酯、15重量％～30重量％的不具有环氧乙烷基的单官能丙烯酸酯、0.5重量％～10重量％的具有全氟聚醚基且氟原子浓度为50重量％以下的氟系脱模剂、以及0.5重量％～5重量％的聚合引发剂。

Description

防污性膜

技术领域

本发明涉及一种防污性膜。更详细而言，本发明涉及一种具有纳米尺寸的凹凸结构的防污性膜。

背景技术

关于具有抗反射性的光学膜，已进行了各种研究(例如参照专利文献1～专利文献3)。尤其已知具有纳米尺寸的凹凸结构(纳米结构)的光学膜具有优异的抗反射性。根据这种凹凸结构，折射率从空气层向基材连续地变化，因而能够明显减少反射光。

现有技术文献

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2012-52125号公报

[专利文献2]国际公开第2007/040159号

[专利文献3]日本专利特开2005-97371号公报

发明内容

本发明所要解决的技术问题

但是，对于这种光学膜来说，虽然具有优异的抗反射性，但另一方面，其表面的凹凸结构会导致指纹(皮脂)等污垢附着时附着的污垢容易扩展，进而难以将进入凸部间的污垢擦去。而且，所附着的污垢由于其反射率与光学膜的反射率大不相同，因而容易被看到。因此，需求表面具有纳米尺寸的凹凸结构，且对污垢的擦去性(例如指纹擦去性)、即防污性优异的功能性膜(防污性膜)。

对此，本发明人等进行了研究，结果得知，现有的防污性膜除了防污性不足以外，防污性膜的基材与构成防污性膜的表面(凹凸结构)的聚合物层的密接性也不充分。进而得知，现有的防污性膜的耐磨性及可靠性也不充分。例如，若摩擦聚合物层的表面(凹凸结构的表面)，则有时凸部彼此粘连而不恢复成原本的状态(凸部坍塌后不立起)，或凸部破损，因而要求提高耐磨性。而且，有时在高温/高湿的环境下，聚合物层的构成材料渗出(bleedout)而导致光学特性降低，因而要求提高可靠性。

如以上那样，对于现有的防污性膜来说，尚未找出使防污性、密接性、耐磨性及可靠性均优异的方式。例如，所述专利文献1～3中并无与密接性及可靠性相关的记载，在提高防污性及耐磨性的方面也有改善的余地。

本发明是鉴于所述现状而成，其目的在于提供一种防污性、密接性、耐磨性及可靠性均优异的防污性膜。

解决问题的方案

本发明人等对防污性、密接性、耐磨性及可靠性均优异的防污性膜进行了各种研究，结果发现了构成防污性膜的聚合物层的聚合性组成物以既定比率含有提高各特性那样的成分的结构。想到由此能完美地解决所述课题，从而达成了本发明。

即，本发明的一形态是一种防污性膜，其具备：基材；以及聚合物层，其配置在所述基材的表面上，且在表面具有以可见光的波长以下的间距而设有多个凸部的凹凸结构，并且所述聚合物层为聚合性组成物的硬化物，所述聚合性组成物以有效成分换算，含有15重量％～40重量％的六官能以上的丙烯酸氨基甲酸酯、35重量％～60重量％的每个官能基包含3个～15个环氧乙烷基的四官能以上的多官能丙烯酸酯、15重量％～30重量％的不具有环氧乙烷基的单官能丙烯酸酯、0.5重量％～10重量％的具有全氟聚醚基且氟原子浓度为50重量％以下的氟系脱模剂、以及0.5重量％～5重量％的聚合引发剂。

所述聚合物层的表面的动摩擦系数也可为2.0以下。

也可对于所述聚合物层的表面与水的接触角为130°以上，且十六烷的接触角为30°以上。

所述单官能丙烯酸酯也可包含N-丙烯酰基吗啉及N,N-二甲基丙烯酰胺中的至少一者。

所述聚合物层的厚度也可为5.0μm以上、20.0μm以下。

所述多个凸部的平均间距也可为100nm以上、400nm以下。

所述多个凸部的平均高度也可为50nm以上、600nm以下。

所述多个凸部的平均纵横比也可为0.8以上、1.5以下。

发明效果

根据本发明，能够提供一种防污性、密接性、耐磨性及可靠性均优异的防污性膜。

附图说明

图1是表示实施方式的防污性膜的截面示意图。

图2是表示图1中的聚合物层的立体示意图。

图3是用于说明实施方式的防污性膜的制造方法的截面示意图。

具体实施方式

以下，揭露实施方式并参照图式来对本发明进行更详细说明，但本发明并非仅限定于该实施方式。而且，实施方式的各结构可在不偏离本发明的主旨的范围内适当组合或变更。

本说明书中，“X～Y”是指“X以上、Y以下”。

[实施方式]

参照图1及图2对实施方式的防污性膜作以下说明。图1是表示实施方式的防污性膜的截面示意图。图2是表示图1中的聚合物层的立体示意图。

防污性膜1具备基材2、以及配置在基材2的表面上的聚合物层3。

作为基材2的材料，例如可举出三乙酰纤维素(TAC)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、甲基丙烯酸甲酯(MMA)等树脂。除了所述材料以外，基材2也可适当含有塑化剂等添加剂。基材2的表面(聚合物层3侧的表面)也可经实施易粘接处理，例如能够使用实施了易粘接处理的三乙酰纤维素膜。而且，基材2的表面(聚合物层3侧的表面)也可经实施皂化处理，例如能够使用实施了皂化处理的三乙酰纤维素膜。当将防污性膜1安装于液晶显示装置等具备偏光板的显示装置时，基材2也可构成偏光板的一部分。

从确保透明性及加工性的观点来看，基材2的厚度优选50μm以上、100μm以下。

聚合物层3在表面具有以可见光的波长(780nm)以下的间距(邻接的凸部4的顶点间的距离)P而设有多个凸部(突起)4的凹凸结构，即蛾眼结构(蛾眼状的结构)。因此，防污性膜1能够显示由蛾眼结构带来的优异抗反射性(低反射性)。

从使后述的氟系脱模剂中的氟原子在聚合物层3的表面(与基材2为相反侧的表面)高浓度地配向的观点来看，聚合物层3的厚度T以薄为宜。具体而言，聚合物层3的厚度T优选5.0μm以上、20.0μm以下，更优选8.0μm以上、12.0μm以下。如图1所示，聚合物层3的厚度T是指从基材2侧的表面到凸部4的顶点的距离。

作为凸部4的形状，例如可举出：由柱状的下部和半球状的上部构成的形状(吊钟状)、锥体状(锥状、圆锥状)等朝向前端而变细的形状(锥形状)。图1中，邻接的凸部4的间隙的底边成为倾斜的形状，但也可不倾斜而成为水平的形状。

从充分防止莫尔条纹、虹彩不均等光学现象的产生的观点来看，多个凸部4的平均间距优选100nm以上、400nm以下，更优选100nm以上、200nm以下。具体而言，多个凸部4的平均间距是指利用扫描式电子显微镜拍摄的平面照片的1μm见方区域内的所有邻接凸部的间距的平均值。

从兼顾后述的多个凸部4的优选平均纵横比的观点来看，多个凸部4的平均高度优选50nm以上、600nm以下，更优选100nm以上、300nm以下。具体而言，多个凸部4的平均高度是指利用扫描式电子显微镜拍摄的截面照片中连续排列的10个凸部的高度的平均值。但是，选择10个凸部时，将具有缺损或变形的部分(准备测定用试样时发生了变形的部分等)的凸部除外。

多个凸部4的平均纵横比优选0.8以上、1.5以下，更优选1.0以上、1.3以下。当多个凸部4的平均纵横比小于0.8时，无法充分防止莫尔条纹、虹彩不均等光学现象的产生，担心无法获得优异的抗反射性。当多个凸部4的平均纵横比大于1.5时，担心凹凸结构的加工性降低而产生沾粘(sticking)，或形成凹凸结构时的转印状况劣化(后述的模具6堵塞或缠住等)。多个凸部4的平均纵横比是指所述多个凸部4的平均高度与平均间距之比(高度/间距)。

凸部4既可随机地配置，也可规则性(周期性)地配置。凸部4的配置虽然也可具有周期性，但从不产生由所述周期性引起的不需要的衍射光等优点来看，优选如图2所示那样，凸部4的配置不具有周期性(为随机)。

聚合物层3为聚合性组成物的硬化物。作为聚合物层3，例如可举出活性能量射线硬化性的聚合性组成物的硬化物、热硬化性的聚合性组成物的硬化物等。此处，活性能量射线是指紫外线、可见光线、红外线、等离子体等。聚合物层3优选活性能量射线硬化性的聚合性组成物的硬化物，更优选紫外线硬化性的聚合性组成物的硬化物。

聚合性组成物以有效成分换算，含有15重量％～40重量％的六官能以上的丙烯酸氨基甲酸酯(以下也称为成分A)、35重量％～60重量％的每个官能基包含3个～15个环氧乙烷基的四官能以上的多官能丙烯酸酯(以下也称为成分B)、15重量％～30重量％的不具有环氧乙烷基的单官能丙烯酸酯(以下也称为成分C)、0.5重量％～10重量％的具有全氟聚醚基且氟原子浓度为50重量％以下的氟系脱模剂(以下也称为成分D)、以及0.5重量％～5重量％的聚合引发剂(以下也称为成分E)。

聚合性组成物的有效成分(成分A～成分E的有效成分)是指在硬化后成为聚合物层3的结构成分的成分，将不参与硬化反应(聚合反应)的成分(例如溶剂)除外。例如，成分D的有效成分是指分子内具有氟原子的化合物。

聚合性组成物只要以所述比率含有成分A～成分E，则也可含有其他成分。

对成分A～成分E作以下说明。

(成分A)

根据成分A，利用氨基甲酸酯键的凝聚力从而聚合物层3的交联密度提高，赋予适度的硬度(弹性)，因而耐磨性提高。进而，利用氨基甲酸酯键的凝聚力，基材2与聚合物层3的密接性(以下也简称为密接性)提高。

成分A中，丙烯酸氨基甲酸酯的官能基数为6以上，优选8以上，更优选10以上。当丙烯酸氨基甲酸酯的官能基数为5以下时，聚合物层3的交联密度未提高，硬度变得过低，因而耐磨性降低。另一方面，若丙烯酸氨基甲酸酯的官能基数过多，则丙烯酸氨基甲酸酯的粘度变得过高，与其他成分的相容性降低，因而担心耐磨性降低。从这种观点来看，丙烯酸氨基甲酸酯的官能基数的优选上限值为15。此处，丙烯酸氨基甲酸酯的官能基数是指每一分子的丙烯酰基的个数。

聚合性组成物中的成分A的含有率以有效成分换算为15重量％～40重量％，优选20重量％～35重量％，更优选25重量％～30重量％。当成分A的含有率以有效成分换算小于15重量％时，聚合物层3的交联密度未提高，硬度变得过低，因而耐磨性降低。而且，氨基甲酸酯键的量变得过少，因而密接性降低。当成分A的含有率以有效成分换算高于40重量％时，聚合物层3的交联密度变得过高，其弹性不足(柔软性降低)，因而耐磨性降低。当聚合性组成物含有多种成分A时，只要多种成分A的合计含有率以有效成分换算为所述范围内即可。

作为成分A的周知例，可举出：共荣社化学公司制造的“UA-306H”、“UA-306T”、“UA-306I”及“UA-510H”中的丙烯酸氨基甲酸酯成分(官能基数：6)；KSM公司制造的“KUA-9N”(官能基数：9)、“KUA-10N”(官能基数：10)、“KUA-15N”(官能基数：15)；新中村化学工业公司制造的“U-6LPA”、“UA-1100H”(官能基数：6)、“UA-33H”(官能基数：9)、“U-10HA”、“U-10PA”(官能基数：10)、“UA-53H”(官能基数：15)；Daicel-Allnex公司制造的“EBECRYL(注册商标)1290”、“EBECRYL5129”(官能基数：6)、“KRM(注册商标)8904”(官能基数：9)、“KRM8452”(官能基数：10)等。

(成分B)

根据成分B，聚合物层3的交联密度提高，赋予适度的硬度(弹性)，因而耐磨性提高。进而，利用环氧乙烷基的高极性而与基材2的相互作用提高，因而密接性提高。一般认为耐磨性与聚合物层3的交联密度及玻璃化转变温度相关，若提高交联密度且降低玻璃化转变温度，则能够明显提高耐磨性。例如，若聚合性组成物含有具有环氧丙烷基的多官能丙烯酸酯，则与含有具有环氧乙烷基的多官能丙烯酸酯的情况相比，玻璃化转变温度变高。其原因在于，分子运动因环氧丙烷基所具有的分支状的-CH₃而受到束缚。而且，环氧丙烷基(烃基也同样)与环氧乙烷基相比极性较低，与基材2的相互作用降低，因而密接性降低。因此，本实施方式中，从耐磨性及密接性的观点来看，选定环氧乙烷基。

成分B中，多官能丙烯酸酯的官能基数为4以上，优选6以上，更优选9以上。当多官能丙烯酸酯的官能基数为3以下时，聚合物层3的交联密度未提高，硬度变得过低，因而耐磨性降低。另一方面，若多官能丙烯酸酯的官能基数过多，则聚合物层3的交联密度变得过高，其弹性不足，因而担心耐磨性降低。从这种观点来看，多官能丙烯酸酯的官能基数的优选上限值为15。此处，多官能丙烯酸酯的官能基数是指每一分子的丙烯酰基的个数。

成分B中，环氧乙烷基的个数为每个官能基3个～15个，优选每个官能基4个～12个，更优选每个官能基6个～9个。当环氧乙烷基的个数少于每个官能基3个时，聚合物层3的弹性不足，因而耐磨性降低。当环氧乙烷基的个数多于每个官能基15个时，聚合物层3的交联密度变得过低，因而耐磨性降低。此处，每个官能基的环氧乙烷基的个数是指(每一分子的环氧乙烷基的个数)/(每一分子的丙烯酰基的个数)。

聚合性组成物中的成分B的含有率以有效成分换算为35重量％～60重量％，优选40重量％～55重量％，更优选45重量％～50重量％。当成分B的含有率以有效成分换算小于35重量％时，聚合物层3的弹性不足，因而耐磨性降低。当成分B的含有率以有效成分换算高于60重量％时，聚合物层3的交联密度变得过低，因而耐磨性降低。当聚合性组成物含有多种成分B时，只要多种成分B的合计含有率以有效成分换算为所述范围内即可。

作为成分B，例如可举出乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯、乙氧基化聚甘油聚丙烯酸酯等。作为乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯的周知例，可举出新中村化学工业公司制造的“ATM-35E”(官能基数：4，环氧乙烷基的个数：每个官能基8.75个)等。作为乙氧基化聚甘油聚丙烯酸酯的周知例，可举出：新中村化学工业公司制造的“NK ECONOMER(注册商标)A-PG5027E”(官能基数：9，环氧乙烷基的个数：每个官能基3个)、“NK ECONOMER A-PG5054E”(官能基数：9，环氧乙烷基的个数：每个官能基6个)等。

(成分C)

根据成分C，成分A、成分B、成分D的相容性提高，因而耐磨性提高。进而，抑制聚合性组成物的硬化收缩，与基材2的凝聚力提高，因而密接性提高。成分A、成分B由于分子量大，因而彼此的相容性低，且由于为多官能，因而由硬化收缩导致彼此的密接性降低。而且，成分D有时具有长链结构，与成分A、成分B的相容性低。因此，成分C不仅发挥提高与基材2的凝聚力的作用，而且也发挥成分A、成分B、成分D的反应性稀释剂(共溶剂)的作用。

成分C中不含环氧乙烷基。根据具有环氧乙烷基的单官能丙烯酸酯，因其长链结构而玻璃化转变温度降低，但其反应性低，若大量含有则容易渗出。而且，具有环氧乙烷基的单官能丙烯酸酯与成分D的相容性低，因而少量的情况下无法提高相容性，若为大量则虽能提高相容性但容易渗出。此种不良状况例如也因具有环氧丙烷基的单体、具有长链烃基的单体等而同样地产生。

聚合性组成物中的成分C的含有率以有效成分换算为15重量％～30重量％，优选18重量％～28重量％，更优选20重量％～25重量％。当成分C的含有率以有效成分换算小于15重量％时，光滑性降低，其结果耐磨性降低。而且，并未抑制聚合性组成物的硬化收缩，密接性降低。当成分C的含有率以有效成分换算高于30重量％时，聚合物层3的交联密度变得过低，因而耐磨性降低。当聚合性组成物含有多种成分C时，只要多种成分C的合计含有率以有效成分换算为所述范围内即可。

作为成分C，例如可举出：N-丙烯酰基吗啉、N,N-二甲基丙烯酰胺、N,N-二乙基丙烯酰胺、N-(2-羟基乙基)丙烯酰胺、二丙酮丙烯酰胺、N-正丁氧基甲基丙烯酰胺等含酰胺基的单体；四氢呋喃丙烯酸酯等含醚基的单体；丙烯酸4-羟基丁酯等含羟基的单体等。作为N-丙烯酰基吗啉的周知例，可举出KJ Chemicals公司制造的“ACMO(注册商标)”等。作为N,N-二甲基丙烯酰胺的周知例，可举出KJ Chemicals公司制造的“DMAA(注册商标)”等。作为N,N-二乙基丙烯酰胺的周知例，可举出KJ Chemicals公司制造的“DEAA(注册商标)”等。作为N-(2-羟基乙基)丙烯酰胺的周知例，可举出KJ Chemicals公司制造的“HEAA(注册商标)”等。作为二丙酮丙烯酰胺的周知例，可举出日本化成公司制造的“DAAM(注册商标)”等。作为N-正丁氧基甲基丙烯酰胺的周知例，可举出MRC Unitec公司制造的“NBMA”等。作为四氢呋喃丙烯酸酯的周知例，可举出大阪有机化学工业公司制造的“Biscoat#150”等。作为丙烯酸4-羟基丁酯的周知例，可举出日本化成公司制造的“4HBA”等。

成分C优选包含N-丙烯酰基吗啉及N,N-二甲基丙烯酰胺中的至少一者。根据这种结构，成分C的粘度降低，与成分A、成分B、成分D的相容性进一步提高。而且，当基材2为三乙酰纤维素膜时，密接性进一步提高。

(成分D)

根据成分D，氟原子在聚合物层3的表面(与基材2为相反侧的表面)均匀地配向，聚合物层3的表面自由能降低，因而防污性提高。进而，光滑性提高，其结果耐磨性提高。

成分D中，氟原子浓度为50重量％以下。当氟原子浓度高于50重量％时，与成分A～成分C的相容性变得过低，氟原子未在聚合物层3的表面(与基材2为相反侧的表面)均匀地配向，因而防污性及耐磨性降低。而且，在高温/高湿的环境下容易渗出，可靠性降低。另一方面，若氟原子浓度过低，则在聚合物层3的表面(与基材2为相反侧的表面)配向的氟原子的量变得过少，因而担心防污性及耐磨性降低。从这种观点来看，氟原子浓度的优选下限值为20重量％。

成分D中含有全氟聚醚基。根据不具有全氟聚醚基的脱模剂(例如具有全氟烷基的氟系脱模剂、硅系脱模剂等)，聚合物层3的防污性及耐磨性未充分提高。

聚合性组成物中的成分D的含有率以有效成分换算为0.5重量％～10重量％，优选1重量％～5重量％，更优选1.5重量％～3重量％。当成分D的含有率以有效成分换算小于0.5重量％时，在聚合物层3的表面(与基材2为相反侧的表面)配向的氟原子的量变得过少，因而防污性降低。而且，光滑性降低，其结果耐磨性降低。当成分D的含有率以有效成分换算高于10重量％时，与成分A～成分C的相容性变得过低，氟原子未在聚合物层3的表面(与基材2为相反侧的表面)均匀地配向，因而防污性及耐磨性降低。而且，在高温/高湿的环境下容易渗出，可靠性降低。当聚合性组成物含有多种成分D时，只要多种成分D的合计含有率以有效成分换算为所述范围内即可。

作为成分D的周知例，可举出Solvay公司制造的“Fomblin(注册商标)MT70”(氟原子浓度：43重量％)、“Fomblin AD1700”(氟原子浓度：24重量％)等。

(成分E)

根据成分E，聚合性组成物的硬化性提高。

聚合性组成物中的成分E的含有率以有效成分换算为0.5重量％～5重量％，优选1重量％～4重量％，更优选1.5重量％～3重量％。当成分E的含有率以有效成分换算小于0.5重量％时，产生聚合性组成物的硬化不足。当成分E的含有率以有效成分换算高于5重量％时，在高温/高湿的环境下容易渗出，可靠性降低。当聚合性组成物含有多种成分E时，只要多种成分E的合计含有率以有效成分换算为所述范围内即可。

作为成分E，例如可举出光聚合引发剂、热聚合引发剂等。成分E优选光聚合引发剂。光聚合引发剂对于活性能量射线为活性，是为了引发使单体进行聚合的聚合反应而添加。

作为光聚合引发剂，例如可举出自由基聚合引发剂、阴离子聚合引发剂、阳离子聚合引发剂等。作为这种光聚合引发剂,例如可举出：对叔丁基三氯苯乙酮、2,2’-二乙氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮等苯乙酮类；二苯甲酮、4,4’-双二甲基氨基二苯甲酮、2-氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2-乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮等酮类；安息香、安息香甲醚、安息香异丙醚、安息香异丁醚等安息香醚类；苯偶酰二甲基缩酮、羟基环己基苯基酮等苯偶酰缩酮类；2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-氧化膦、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦等酰基氧化膦类；1-羟基-环己基-苯基-酮等烷基苯酮类等。作为2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-氧化膦的周知例，可举出BASF公司制造的“LUCIRIN(注册商标)TPO”、“IRGACURE(注册商标)TPO”等。作为双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦的周知例，可举出BASF公司制造的“IRGACURE 819”等。作为1-羟基-环己基-苯基-酮的周知例，可举出BASF公司制造的“IRGACURE 184”等。

聚合性组成物也可进一步含有溶剂(有效成分以外的成分)。此时，溶剂可与有效成分一起含有于成分A～成分E中，也可与成分A～成分E无关而另含有。

作为溶剂，例如可举出：醇(碳数1～10：例如甲醇、乙醇、正丙醇或异丙醇、正丁醇、仲丁醇或叔丁醇、苄醇、辛醇等)、酮(碳数3～8：例如丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、二异丁基酮、二丁基酮、环己酮等)、酯或醚酯(碳数4～10：例如乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯等)、γ-丁内酯、乙二醇单甲基乙酸酯、丙二醇单甲基乙酸酯、醚(碳数4～10：例如EG(Ethyleneglycol，乙二醇)单甲醚(甲基溶纤剂)、EG单乙醚(乙基溶纤剂)、二乙二醇单丁醚(丁基溶纤剂)、丙二醇单甲醚等)、芳香族烃(碳数6～10：例如苯、甲苯、二甲苯等)、酰胺(碳数3～10：例如二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等)、卤化烃(碳数1～2：例如二氯甲烷、二氯化乙烯等)、石油系溶剂(例如石油醚、石脑油等)等。

根据以上内容，根据本实施方式，能够实现防污性、密接性、耐磨性及可靠性均优异的防污性膜1。

从防污性的观点来看，优选对于聚合物层3的表面(与基材2为相反侧的表面)，水的接触角为130°以上，且十六烷的接触角为30°以上。

从耐磨性的观点来看，聚合物层3的表面(与基材2为相反侧的表面)的动摩擦系数优选2.0以下，更优选1.5以下，进而优选1.0以下。

关于防污性膜1的用途，只要灵活运用其优异的防污性则并无特别限定，例如可为抗反射膜等光学膜用途。这种抗反射膜通过安装在显示装置的内部或外部而有助于提高可见度。

防污性膜1的防污性既可意指可将附着于聚合物层3的表面(与基材2为相反侧的表面)的污垢容易地除去，也可意指污垢不易附着于聚合物层3的表面(与基材2为相反侧的表面)。

防污性膜1例如是通过以下的制造方法而制造。图3是用于说明实施方式的防污性膜的制造方法的截面示意图。

(工艺(1)：聚合性组成物的涂布)

如图3(a)所示那样，将聚合性组成物5涂布在基材2的表面上。

作为聚合性组成物5的涂布方法，例如可举出以喷雾方式、凹版方式、狭缝模方式、棒涂方式等进行涂布的方法。作为聚合性组成物5的涂布方法，从使膜厚均匀且提高生产性的观点来看，优选以凹版方式或狭缝模方式进行涂布。

聚合性组成物5以所述比率含有成分A～成分E。此处，当聚合性组成物5进一步含有溶剂(有效成分以外的成分)时，也可在涂布聚合性组成物5后，进行将溶剂除去的加热处理(干燥处理)。加热处理优选以溶剂的沸点以上的温度进行。

(工艺(2)：凹凸结构的形成)

如图3(b)所示那样，在中间夹持有聚合性组成物5的状态下，将基材2按压于模具6。其结果，在聚合性组成物5的表面(与基材2为相反侧的表面)形成凹凸结构。

(工艺(3)：聚合性组成物的硬化)

使在表面具有凹凸结构的聚合性组成物5硬化。其结果，如图3(c)所示那样形成聚合物层3。

作为聚合性组成物5的硬化方法，例如可举出利用活性能量射线的照射、加热等的方法。聚合性组成物5的硬化优选通过照射活性能量射线来进行，更优选通过照射紫外线来进行。活性能量射线的照射可从聚合性组成物5的基材2侧进行，也可从聚合性组成物5的模具6侧进行。而且，对聚合性组成物5的活性能量射线的照射次数可仅为1次，也可为多次。聚合性组成物5的硬化(所述工艺(3))也能以与对聚合性组成物5的凹凸结构形成(所述工艺(2))相同的时机来进行。

(工艺(4)：模具的剥离)

如图3(d)所示那样，将模具6从聚合物层3剥离。其结果，防污性膜1完成。

所述制造工艺中，例如若将基材2设为卷筒状，则能够连续且有效率地进行所述工艺(1)～工艺(4)。

作为模具6，例如能够使用通过下述方法所制作的模具。首先，利用溅镀法将成为模具6的材料的铝在支撑基材的表面上成膜。然后，针对所成膜的铝层，交替反复进行阳极氧化及蚀刻，由此能够制作蛾眼结构的母模(模具6)。此时，通过调整进行阳极氧化的时间及进行蚀刻的时间，能够使模具6的凹凸结构变化。

作为支撑基材的材料，例如可举出：玻璃；不锈钢、镍等金属；聚丙烯、聚甲基戊烯、环状烯烃系高分子(代表性而言，作为降冰片烯系树脂等的日本Zeon公司制造的“Zeonor(注册商标)”、JSR公司制造的“Arton(注册商标)”)等聚烯烃系树脂；聚碳酸酯树脂；聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、三乙酰纤维素等树脂等。而且，也可使用铝制的基材来代替将铝在支撑基材的表面上成膜而得的物品。

作为模具6的形状，例如可举出平板状、辊状等。

模具6的表面优选实施脱模处理。由此，能够将模具6从聚合物层3容易地剥离。而且，模具6的表面自由能低，因而所述工艺(2)中，将基材2按压于模具6时，能够使成分D中的氟原子在聚合性组成物5的表面(与基材2为相反侧的表面)均匀地配向。进而，能够防止在使聚合性组成物5硬化前，成分D中的氟原子从聚合性组成物5的表面(与基材2为相反侧的表面)脱离。其结果，能够在防污性膜1中，使成分D中的氟原子在聚合物层3的表面(与基材2为相反侧的表面)均匀地配向。

作为用于模具6的脱模处理的材料，例如可举出氟系材料、硅系材料、磷酸酯系材料等。作为氟系材料的周知例，可举出大金工业公司制造的“Optools(注册商标)DSX”、大金工业公司制造的“Optools AES4”等。

[实施例及比较例]

以下，举出实施例及比较例对本发明进行更详细说明，但本发明不受这些示例的限定。

实施例及比较例中，用于制造防污性膜的材料如下。

(基材)

使用富士胶片公司制造的“TAC-TD80U”，其厚度为80μm。

(聚合性组成物)

使用表1～表13所示那样的组成的聚合性组成物R1～聚合性组成物R38。聚合性组成物的各成分名的简称如下。

＜丙烯酸氨基甲酸酯＞

·“A1”

共荣社化学公司制造的“UA-306H”

官能基数：6

丙烯酸氨基甲酸酯成分(有效成分)：70重量％

多官能丙烯酸酯成分(有效成分)：30重量％

·“A2”

KSM公司制造的“KUA-9N”

官能基数：9

有效成分：100重量％

·“A3”

KSM公司制造的“KUA-10N”

官能基数：10

有效成分：100重量％

·“A4”

KSM公司制造的“KUA-15N”

官能基数：15

有效成分：100重量％

·“A5”

Daicel-Allnex公司制造的“EBECRYL4858”

官能基数：2

有效成分：100重量％

·“A6”

Daicel-Allnex公司制造的“EBECRYL8465”

官能基数：3

有效成分：100重量％

·“A7”

Daicel-Allnex公司制造的“EBECRYL8210”

官能基数：4

有效成分：100重量％

＜多官能丙烯酸酯＞

·“B1”

新中村化学工业公司制造的“ATM-35E”

官能基数：4

环氧乙烷基的个数：每个官能基8.75个

有效成分：100重量％

·“B2”

新中村化学工业公司制造的“NK ECONOMER A-PG5027E”

官能基数：9

环氧乙烷基的个数：每个官能基3个

有效成分：100重量％

·“B3”

新中村化学工业公司制造的“NK ECONOMER A-PG5054E”

官能基数：9

环氧乙烷基的个数：每个官能基6个

有效成分：100重量％

·“B4”

新中村化学工业公司制造的“A-600”

官能基数：2

环氧乙烷基的个数：每个官能基7个

有效成分：100重量％

·“B5”

新中村化学工业公司制造的“A-TMPT-9EO”

官能基数：3

环氧乙烷基的个数：每个官能基3个

有效成分：100重量％

·“B6”

新中村化学工业公司制造的“AT-30E”

官能基数：3

环氧乙烷基的个数：每个官能基10个

有效成分：100重量％

·“B7”

日本化药公司制造的“KAYARAD(注册商标)DPEA-12”

官能基数：6

环氧乙烷基的个数：每个官能基2个

有效成分：100重量％

＜单官能丙烯酸酯＞

·“C1”

大阪有机化学工业公司制造的“Biscoat#150”

环氧乙烷基：不具有

有效成分：100重量％

·“C2”

KJ Chemicals公司制造的“ACMO”

环氧乙烷基：不具有

有效成分：100重量％

·“C3”

KJ Chemicals公司制造的“DMAA”

环氧乙烷基：不具有

有效成分：100重量％

·“C4”

新中村化学工业公司制造的“AM-90G”

环氧乙烷基：具有

有效成分：100重量％

＜脱模剂＞

·“D1”

Solvay公司制造的“Fomblin MT70”

全氟聚醚基：具有

氟原子浓度：43重量％

有效成分：80重量％

·“D2”

Solvay公司制造的“Fomblin AD1700”

全氟聚醚基：具有

氟原子浓度：24重量％

有效成分：70重量％

·“D3”

Solvay公司制造的“Fomblin MD700”

全氟聚醚基：具有

氟原子浓度：52重量％

有效成分：100重量％

·“D4”

BYK Chemie Japan公司制造的“BYK(注册商标)-UV3575”

全氟聚醚基：不具有(硅系脱模剂)

有效成分：50重量％

·“D5”

信越化学工业公司制造的“X-22-2445”

全氟聚醚基：不具有(硅系脱模剂)

有效成分：100重量％

·“D6”

Evonic公司制造的“TEGO(注册商标)Rad 2700”

全氟聚醚基：不具有(硅系脱模剂)

有效成分：100重量％

·“D7”

JNC公司制造的“FM-0711”

全氟聚醚基：不具有(硅系脱模剂)

有效成分：100重量％

·“D8”

Unimatec公司制造的“CHEMINOX(注册商标)FAAC-6”

全氟聚醚基：不具有(具有全氟烷基)

有效成分：100重量％

·“D9”

Neos公司制造的“Ftergent(注册商标)601AD”

全氟聚醚基：不具有(具有全氟烷基)

有效成分：25重量％

·“D10”

DIC公司制造的“Megaface(注册商标)RS-76-NS”

全氟聚醚基：不具有(具有全氟烷基)

有效成分：20重量％

＜聚合引发剂＞

·“E1”

BASF公司制造的“LUCIRIN TPO”

有效成分：100重量％

表1～表13中的“有效成分比率”表示将聚合性组成物中的各成分(丙烯酸氨基甲酸酯等)的含有率进行有效成分换算所得的比率，即，各成分的有效成分相对于聚合性组成物中的有效成分的总量100重量％的含有率(单位：重量％)。此外，聚合性组成物R2中，不相当于成分B的多官能丙烯酸酯(分类：其他)的含有率以有效成分换算为8.1重量％，但这是丙烯酸氨基甲酸酯A1所含的多官能丙烯酸酯成分的有效成分比率。而且，聚合性组成物R19中，不相当于成分B的多官能丙烯酸酯(分类：其他)的含有率以有效成分换算为5.4重量％，但这是丙烯酸氨基甲酸酯A1所含的多官能丙烯酸酯成分的有效成分比率。

[表1]

[表2]

[表3]

[表4]

[表5]

[表6]

[表7]

[表8]

[表9]

[表10]

[表11]

[表12]

[表13]

(模具)

使用通过下述的方法所制作的模具。首先，利用溅镀法将成为模具的材料的铝在10cm见方的玻璃基板上成膜。所成膜的铝层的厚度为1.0μm。接着，针对所成膜的铝层，交替反复进行阳极氧化及蚀刻，由此形成设有多数个微小的孔(相邻孔(凹部)的底点间的距离为可见光的波长以下)的阳极氧化层。具体而言，依次进行阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻及阳极氧化(阳极氧化：5次，蚀刻：4次)，形成具有朝向铝层的内部而变细的形状(锥形状)的微小的孔(凹部)，其结果，获得了具有凹凸结构的模具。阳极氧化是使用草酸(浓度：0.03重量％)在液温5℃、施加电压80V的条件下进行。设进行1次阳极氧化的时间为25秒。蚀刻是使用磷酸(浓度：1mol/l)在液温30℃的条件下进行。设进行1次蚀刻的时间为25分钟。利用扫描式电子显微镜来观察模具，结果凹部的深度为290nm。此外，对于模具的表面，利用大金工业公司制造的“Optools AES4”事先实施了脱模处理。

(实施例1)

利用以下的制造方法来制造实施例1的防污性膜。

(工艺(1)：聚合性组成物的涂布)

将聚合性组成物R1以带状滴加(涂布)到基材2的表面上。然后，使用棒涂机将聚合性组成物R1在基材2的整个表面涂开。然后，将在基材2的表面上涂布有聚合性组成物R1的状态的物品放入烘箱中，在温度80℃下进行1分钟加热处理，使溶剂从聚合性组成物R1中挥发。

(工艺(2)：凹凸结构的形成)

在中间夹持有聚合性组成物R1(溶剂挥发后)的状态下，利用手动辊将基材2按压于模具6。其结果，在聚合性组成物R1的表面(与基材2为相反侧的表面)形成了凹凸结构。

(工艺(3)：聚合性组成物的硬化)

对在表面具有凹凸结构的聚合性组成物R1从基材2侧照射紫外线(照射量：200mJ/cm²)而进行硬化。其结果，形成了聚合物层3。

(工艺(4)：模具的剥离)

将模具6从聚合物层3剥离。其结果，防污性膜1完成。聚合物层3的厚度T为9.8μm。

防污性膜1的表面规格如下。

凸部4的形状：吊钟状凸部4的平均间距：200nm

凸部4的平均高度：200nm

凸部4的平均纵横比：1.0

防污性膜1的表面规格的评价是使用日立High-Technologies公司制造的扫描式电子显微镜“S-4700”来进行。此外，评价时，使用Meiwafosis公司制造的锇涂布机“Neoc-ST”，将和光纯药工业公司制造的氧化锇VIII(厚度：5nm)涂布在聚合物层3的表面(与基材2为相反侧的表面)上。

(实施例2～实施例15及比较例1～比较例23)

除了变更为如表14～表21所示那样的组成以外，与实施例1同样地制造各例的防污性膜。

[评价]

对各例的防污性膜进行以下的评价。将结果示于表14～表21。

(聚合性组成物的透明性)

将各例中用的聚合性组成物(加热处理前的状态)放入透明的试管中，在照度100lx(萤光灯)的环境下目测观察其状态。设判定基准如下。

○：透明或极轻微地白浊。

△：轻微白浊，但即便放置1天后也未见沉淀物。

×：白浊，放置1天后可见沉淀物。

此处，聚合性组成物的透明性越高，则判断聚合性组成物中的脱模剂的相容性越高。

(防污性)

作为防污性，对防水性、防油性及指纹擦去性进行评价。

作为防水性，评价水对各例的防污性膜的表面的接触角。具体而言，对各例的防污性膜的聚合物层的表面(与基材为相反侧的表面)滴加水，测定刚滴加后的接触角。

作为防油性，评价十六烷对各例的防污性膜的表面的接触角。具体而言，对各例的防污性膜的聚合物层的表面(与基材为相反侧的表面)滴加十六烷，测定刚滴加后的接触角。

作为接触角，示出使用协和界面科学公司制造的手持式接触角计“PCA-1”利用θ/2法(θ/2＝arctan(h/r)，θ：接触角，r：液滴的半径，h：液滴的高度)测定的3处接触角的平均值。此处，作为第1处测定点，选择各例的防污性膜的中央部分，作为第2处及第3处测定点，选择距第1处测定点20mm以上且相对于第1处测定点而彼此处于点对称的位置的两点。

指纹擦去性是通过下述的方法来进行评价。首先，针对各例的防污性膜，在基材的与聚合物层为相反侧的表面经由光学粘着层而贴附黑亚克力板。然后，使指纹附着于各例的防污性膜的聚合物层的表面(与基材为相反侧的表面)后，利用旭化成纤维公司制造的“Bemcot(注册商标)S-2”往返摩擦10次，在照度100lx(萤光灯)的环境下目测观察指纹是否被擦去。设判定基准如下。

○：指纹完全被擦去，未见擦拭残留。

△：指纹不显眼，但若映在萤光灯下则稍许可见擦拭残留。

×：指纹完全未被擦去。

此处，将判定为○或△的情况判断为可容许的水平(指纹擦去性优异)。

(密接性)

密接性是通过下述的方法来进行评价。首先，针对各例的防污性膜的聚合物层的表面(与基材为相反侧的表面)，利用切割刀以棋盘格状以1mm间隔切入纵11条、横11条切口，刻画100个正方形状的网格(1mm见方)。然后，将日东电工公司制造的聚酯胶带“No.31B”压接于网格部分后，将胶带相对于网格部分的表面朝90°的方向以100mm/s的速度剥离。然后，目测观察基材上的聚合物层的剥离状态，对基材上的聚合物层未剥离而残留的网格的个数“M”(单位：个)进行计数。设判定基准如下。

○：M＝100

△：M＝95～99

×：M＝0～94

此处，将判定为○或△的情况判断为可容许的水平(密接性优异)。

(耐磨性)

作为耐磨性，对光滑性及钢丝绒耐性进行评价。

作为光滑性，评价各例的防污性膜的表面的动摩擦系数。具体而言，首先将各例的防污性膜固定于新东科学公司制造的表面性测定机“HEIDON(注册商标)-14FW”的平台上，确认水平状态。然后，在各例的防污性膜的聚合物层的表面(与基材为相反侧的表面)上放置探针，在施加了负重400g的状态下摩擦20mm。然后，提取所得的曲线图(chart)的稳定部分，算出动摩擦系数。

钢丝绒耐性是通过下述的方法来进行评价。首先，在对日本钢丝绒公司制造的钢丝绒“#0000”施加了负重400g的状态下摩擦各例的防污性膜的聚合物层的表面(与基材为相反侧的表面)。然后，一边在照度100lx(萤光灯)的环境下目测观察，一面对各例的防污性膜的聚合物层的表面(与基材为相反侧的表面)上所附的伤痕的条数“N”(单位：条)进行计数。此外，利用钢丝绒摩擦时，使用新东科学公司制造的表面性测定机“HEIDON-14FW”作为试验机，设行程宽度为30mm、速度为100mm/s、摩擦次数为往返10次。设判定基准如下。

◎：N＝0

○：N＝1～3

△：N＝4～10

×：N＝11～20

××：N≧21

此处，将判定为◎、○或△的情况判断为可容许的水平(钢丝绒耐性优异)。

(可靠性)

作为可靠性，对各例的防污性膜中的渗出的产生情况进行评价。具体而言，首先针对各例的防污性膜，进行在温度60℃、湿度95％的环境下放置1000小时的高温/高湿试验。然后，在照度100lx(萤光灯)的环境下目测观察各例的防污性膜的聚合物层的白浊状况。目测观察的结果，对于聚合物层未白浊的情况，判断为未产生渗出，判定为可靠性合格(OK)。相对于此，对于聚合物层白浊的情况，判断为产生了渗出，判定为可靠性不合格(NG)。另一方面，当通过目测观察难以判定时，将在高温/高湿试验的前后测定的入射光5°时的正反射光谱重叠，根据两者的光谱有无偏差来进行判定。具体而言，比较高温/高湿试验前后的光谱中的反射率，将两者未产生偏差的情况判定为可靠性合格(OK)，将两者产生了偏差的情况(反射率在高温/高湿试验后总体增加的情况)判定为可靠性不合格(NG)。此外，入射光5°时的正反射光谱是如下述那样测定。首先，针对各例的防污性膜，在基材的与聚合物层为相反侧的表面贴附黑亚克力板。然后，对各例的防污性膜的聚合物层的表面(与基材为相反侧的表面)从极角5°的方位照射光源，使用岛津制作所公司制造的“UV-3100PC”，在380nm～780nm的波长区域中测定正反射光谱。

[表14]

[表15]

[表16]

[表17]

[表18]

[表19]

[表20]

[表21]

如表14～表16所示，实施例1～实施例15均是防污性、密接性、耐磨性及可靠性均优异。另一方面，如表17～表21所示，比较例1～比较例23均是防污性、密接性、耐磨性及可靠性中的至少一个低。

比较例1由于聚合性组成物R16中的丙烯酸氨基甲酸酯A5的官能基数小于6，因而耐磨性(钢丝绒耐性)低。

比较例2由于聚合性组成物R17中的丙烯酸氨基甲酸酯A6的官能基数小于6，因而耐磨性(钢丝绒耐性)低。

比较例3由于聚合性组成物R18中的丙烯酸氨基甲酸酯A7的官能基数小于6，因而耐磨性(钢丝绒耐性)低。

比较例4由于聚合性组成物R19中的源自丙烯酸氨基甲酸酯A1的丙烯酸氨基甲酸酯成分的含有率以有效成分换算小于15重量％，因而耐磨性(钢丝绒耐性)低。

比较例5由于聚合性组成物R20中，丙烯酸氨基甲酸酯A3的含有率以有效成分换算高于40重量％，且多官能丙烯酸酯B3的含有率以有效成分换算小于35重量％，因而耐磨性(钢丝绒耐性)低。

比较例6由于聚合性组成物R21中的多官能丙烯酸酯B4的官能基数小于4，因而耐磨性(钢丝绒耐性)低。

比较例7由于聚合性组成物R22中的多官能丙烯酸酯B5的官能基数小于4，因而耐磨性(钢丝绒耐性)低。

比较例8由于聚合性组成物R23中的多官能丙烯酸酯B6的官能基数小于4，因而耐磨性(钢丝绒耐性)低。

比较例9由于聚合性组成物R24中的多官能丙烯酸酯B7中，环氧乙烷基的个数为每个官能基小于3个，因而耐磨性(钢丝绒耐性)低。

比较例10由于聚合性组成物R25中，丙烯酸氨基甲酸酯A3的含有率以有效成分换算小于15重量％，且多官能丙烯酸酯B3的含有率以有效成分换算高于60重量％，因而耐磨性(钢丝绒耐性)低。

比较例11由于聚合性组成物R26中的单官能丙烯酸酯C4具有环氧乙烷基，因而与其他成分的相容性降低，聚合性组成物R26的透明性低。进而，防污性、密接性及耐磨性(钢丝绒耐性)也低。

比较例12由于聚合性组成物R27中的单官能丙烯酸酯C3的含有率以有效成分换算小于15重量％，因而密接性低。

比较例13由于聚合性组成物R28中的单官能丙烯酸酯C3的含有率以有效成分换算高于30重量％，因而耐磨性(钢丝绒耐性)低。

比较例14由于聚合性组成物R29中的脱模剂D3的氟原子浓度高于50重量％，因而与其他成分的相容性降低，聚合性组成物R29的透明性低。进而，防污性、耐磨性及可靠性也低。

比较例15由于聚合性组成物R30不含氟系脱模剂(成分D)，因而防污性及耐磨性低。

比较例16由于聚合性组成物R31中的脱模剂D1的含有率以有效成分换算高于10重量％，因而耐磨性(钢丝绒耐性)及可靠性低。

比较例17由于聚合性组成物R32中的脱模剂D4为不具有全氟聚醚基的硅系脱模剂，因而防污性低。

比较例18由于聚合性组成物R33中的脱模剂D5为不具有全氟聚醚基的硅系脱模剂，因而防污性、耐磨性及可靠性低。进而，聚合性组成物R33的透明性也低。

比较例19由于聚合性组成物R34中的脱模剂D6为不具有全氟聚醚基的硅系脱模剂，因而防污性、耐磨性及可靠性低。进而，聚合性组成物R34的透明性也低。

比较例20由于聚合性组成物R35中的脱模剂D7为不具有全氟聚醚基的硅系脱模剂，因而防污性、耐磨性及可靠性低。进而，聚合性组成物R35的透明性也低。

比较例21由于聚合性组成物R36中的脱模剂D8为不具有全氟聚醚基的氟系脱模剂，因而防污性(防水性)及耐磨性低。

比较例22由于聚合性组成物R37中的脱模剂D9为不具有全氟聚醚基的氟系脱模剂，因而防污性(防水性)及耐磨性低。

比较例23由于聚合性组成物R38中的脱模剂D10为不具有全氟聚醚基的氟系脱模剂，因而防污性(防水性)及耐磨性低。

[附记]

本发明的一形态也可为一种防污性膜，其具备：基材；以及聚合物层，其配置在所述基材的表面上，且在表面具有以可见光的波长以下的间距而设有多个凸部的凹凸结构，并且所述聚合物层为聚合性组成物的硬化物，所述聚合性组成物以有效成分换算，含有15重量％～40重量％的六官能以上的丙烯酸氨基甲酸酯、35重量％～60重量％的每个官能基包含3个～15个环氧乙烷基的四官能以上的多官能丙烯酸酯、15重量％～30重量％的不具有环氧乙烷基的单官能丙烯酸酯、0.5重量％～10重量％的具有全氟聚醚基且氟原子浓度为50重量％以下的氟系脱模剂、以及0.5重量％～5重量％的聚合引发剂。根据该形态，能够实现防污性、密接性、耐磨性及可靠性均优异的防污性膜。

所述聚合物层的表面的动摩擦系数也可为2.0以下。根据这种结构，耐磨性良好地提高。

也可对于所述聚合物层的表面与水的接触角为130°以上，且十六烷的接触角为30°以上。根据这种结构，防污性良好地提高。

所述单官能丙烯酸酯也可包含N-丙烯酰基吗啉及N,N-二甲基丙烯酰胺中的至少一者。根据这种结构，所述单官能丙烯酸酯的粘度降低，与所述丙烯酸氨基甲酸酯、所述多官能丙烯酸酯及所述氟系脱模剂的相容性进一步提高。而且，当所述基材为三乙酰纤维素膜时，密接性进一步提高。

所述聚合物层的厚度也可为5.0μm以上、20.0μm以下。根据这种结构，所述氟系脱模剂中的氟原子在所述聚合物层的表面(与所述基材相反侧的表面)以更高的浓度配向。

所述多个凸部的平均间距也可为100nm以上、400nm以下。根据这种结构，充分地防止莫尔条纹、虹彩不均等光学现象的产生。

所述多个凸部的平均高度也可为50nm以上、600nm以下。根据这种结构，能够兼顾所述多个凸部的优选平均纵横比。

所述多个凸部的平均纵横比也可为0.8以上、1.5以下。根据这种结构，能够充分地防止莫尔条纹、虹彩不均等光学现象的产生，实现优异的抗反射性。进而，充分地防止由所述凹凸结构的加工性降低所致的沾粘的产生、及形成所述凹凸结构时的转印状况的劣化。

附图标记说明

1 防污性膜

2 基材

3 聚合物层

4 凸部

5 聚合性组成物

6 模具

P 间距

T 聚合物层的厚度

Claims

1.一种防污性膜，其具备：

基材；以及

聚合物层，其配置在所述基材的表面上，且在表面具有以可见光的波长以下的间距而设有多个凸部的凹凸结构，

所述防污性膜的特征在于，所述聚合物层为聚合性组成物的硬化物，

所述聚合性组成物以有效成分换算，含有15重量％～40重量％的六官能以上的丙烯酸氨基甲酸酯、35重量％～60重量％的每个官能基包括3个～15个环氧乙烷基的四官能以上的多官能丙烯酸酯、15重量％～30重量％的不具有环氧乙烷基的单官能丙烯酸酯、0.5重量％～10重量％的具有全氟聚醚基且氟原子浓度为50重量％以下的氟系脱模剂、以及0.5重量％～5重量％的聚合引发剂。

2.根据根据权利要求1所述的防污性膜，其特征在于，所述聚合物层的表面的动摩擦系数为2.0以下。

3.根据权利要求1或2所述的防污性膜，其特征在于，对于所述聚合物层的表面，水的接触角为130°以上，十六烷的接触角为30°以上。

4.根据权利要求1或2所述的防污性膜，其特征在于，所述单官能丙烯酸酯包含N-丙烯酰基吗啉及N,N-二甲基丙烯酰胺中的至少一者。

5.根据权利要求1或2所述的防污性膜，其特征在于，所述聚合物层的厚度为5.0μm以上、20.0μm以下。

6.根据权利要求1或2所述的防污性膜，其特征在于，所述多个凸部的平均间距为100nm以上、400nm以下。

7.根据权利要求1或2所述的防污性膜，其特征在于，所述多个凸部的平均高度为50nm以上、600nm以下。

8.根据权利要求1或2所述的防污性膜，其特征在于，所述多个凸部的平均纵横比为0.8以上、1.5以下。