TWI400584B - 用以製造垂直沉積遮罩的方法和裝置 - Google Patents

用以製造垂直沉積遮罩的方法和裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI400584B
TWI400584B TW097143635A TW97143635A TWI400584B TW I400584 B TWI400584 B TW I400584B TW 097143635 A TW097143635 A TW 097143635A TW 97143635 A TW97143635 A TW 97143635A TW I400584 B TWI400584 B TW I400584B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
mask
bracket
sheet
frame
vertical transfer
Prior art date
Application number
TW097143635A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200947156A (en
Inventor
Jong-Won Hong
Eugene Kang
Si-Young Park
Original Assignee
Samsung Display Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Display Co Ltd filed Critical Samsung Display Co Ltd
Publication of TW200947156A publication Critical patent/TW200947156A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI400584B publication Critical patent/TWI400584B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/12—Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
    • G03F1/42—Alignment or registration features, e.g. alignment marks on the mask substrates
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Treatment Of Fiber Materials (AREA)

Description

用以製造垂直沉積遮罩的方法和裝置
本發明是有關於垂直沈積遮罩和其製造方式，且更特別是有關於一種用以製造該垂直沈積遮罩的方法和裝置，使得該遮罩能夠被防止下垂。
當正在製造一發光顯示器時，一遮罩通常是被用來沈積出一具有預設樣式之加工層。亦即是當一例如是一有機層的加工層被沈積時，採用該具有在一特定樣式中之開口的遮罩，加工層所具有的樣式則是對應至成形於一基板上的開口。
該遮罩是由一種具有預設強度之金屬所形成，用以維持該特定樣式之開口的形狀，且在將位於該遮罩下的該基板水平地定位之後，該沈積加工才得以被施行。
然而，由於該遮罩本身的重量，該遮罩的中心將會下垂，且於該沈積加工之過程中，使得在沈積至該基板上之加工層的樣式中產生誤差。
當一大面積基材被沈積時，由於沈積作用施加至其上的基材尺寸增加，與基材尺寸相對應之該遮罩的尺寸亦增加，以上問題將變得更加嚴重，使得由於該遮罩之重量所產生的遮罩中心下垂現象變得更加顯著。
圖1為一說明一以傳統方式製造之遮罩片與一有遮罩框架被熔接至其之遮罩的立體視圖。圖2說明圖1之該遮罩的下垂現象。
參考圖1和圖2，一遮罩10包括一具有一預設樣式開口成形於其內之遮罩片11和一用於將該遮罩片11固定住之遮罩框架13。
該遮罩10的製作是藉由使用一遮罩製造開口而將該遮罩片11與該遮罩框架13熔接在一起。
亦即是該遮罩製作開口是藉由一夾子(圖形中未表示出來)來固定住該遮罩片11的邊緣，將被該夾子固定於定位之該遮罩11附接至該遮罩框架13，且該已被附接的區域被熔接用以製作出該遮罩。
在先前的傳統技術中，該遮罩製造開口是在將該遮罩片11和該遮罩框架13水平定位之後，才開始施行熔接動作。然而，如同在圖2中所說明之內容，由於該遮罩片11之負載，該製作完成之遮罩10於一平面方向產生下垂現象。
於是，一介於該遮罩片11與該遮罩框架13之間的熔接線是無法成為一直線14，而是形成一彎曲線15。結果導致成形於該遮罩片11內的該開口12之該等位置是無法依照需求而形成。
採用該遮罩10是無法於該基板上均勻地成形一薄膜樣式，且在該基板上所成形之該薄膜的位置是非於該基板上之所需位置處內形成。
相關申請案之交互參照
本專利申請案主張2007年11月20日於韓國智慧財產局提出之韓國專利申請案第10-2007-0118787號的優先權與效益，且其全部內容併於此以作為參考。
依照本發明，一種裝置被提供用來製造出一垂直沈積遮罩，該裝置是能夠 用於熔接將與一平面保持垂直之一遮罩片和一遮罩框架。當該正對應至一基板之遮罩被製造時，特別是當沈積作用被施行至其上之基板面積增加時，該裝置防止一大面積遮罩因為該遮罩本身之重量而產生下垂。
一種使用該裝置來製造出一垂直沈積遮罩的方法亦被提供。
另外，依照本發明，該用於製造出一垂直沈積遮罩的裝置包括一用於將一即將被固定於定位之遮罩片拉緊至一遮罩框架的張力裝置和一用於將該遮罩框架附接至該遮罩片之一周邊部位的熔接機。該張力裝置包括若干用於將該遮罩片支撐住的夾子和若干被連接至該等夾子的張力器，用以施加拉力至該等夾子，且藉由該等夾子來將該遮罩片均勻地固定於定位。
用於測量該等夾子之拉力的拉力測量工具可以另外被提供於該等夾子與該等張力器之間。該等拉力測量工具可以包括用於感測出該等夾子之拉力變化的壓電感測器和電動氣動調節閥，當該等夾子之測量所得拉力是不同於一預先設定值時，該電動氣動調節閥係用於控制供應至該等張力器之氣動壓力。
此外，該垂直沈積遮罩製造裝置可以更進一步包括一用於將一直立遮罩片轉移至該張力裝置之遮罩片垂直轉移裝置。該遮罩片垂直轉移裝置可以包括一用於轉移該遮罩片之第一托架。一第一吸附構件被定位於該第一托架的一側邊處，用以吸附該遮罩片。一第一導軌被提供用來移動該第一托架以一第一方向而朝向該張力裝置。一第一平板是被連接於該第一托架與該第一導軌之間，用以將該第一托架以90度放下和抬高。另外，一用於移動該第一托架以一與該第一方向保持直交之第二方向而朝向該張力裝置的第二導軌可以被另外形成。至少一個用於吸附住該遮罩片之吸附孔洞可以被成形於該第一吸附構件的一前方表面上。
此外，該垂直沈積遮罩製造裝置可以進一步包括一用於將該直立遮罩框架轉移至該張力裝置之遮罩框架垂直轉移裝置。該遮罩框架垂直轉移裝置可以包括一用於轉移該遮罩框架之第二托架。一第二吸附構件被定位於該第二托架的一側邊處，用以吸附該遮罩框架。一第一導軌被提供用來移動該第二托架以一與該第一方向相反之第二方向而朝向該張力裝置。一第二平板是被連接於該第二托架與該第一導軌之間，用以將該第二托架以90度放下和抬高。一用於移動該第二托架以一與該第一方向和第二方向保持直交之第三方向而朝向該張力裝置的第三導軌可以被另外形成。該第一導軌可以是由一導件所形成，其中一對彼此相互平行而從一遮罩垂直轉移裝置之一下側表面移動至一遮罩框架垂直轉移裝置之一下側表面的溝槽係成形於該導件內。另外，該第二吸附構件可以包括至少一用於吸附一玻璃基板的吸附孔洞和一用於將一遮罩框架吸附至該玻璃基板之一周邊部位的遮罩框架吸取裝置。
此外，至少一用於將一遮罩片和一遮罩框架對準的對準標記可以被成形在該玻璃基板內。若干遮罩框架固定塊可以另外被提供於該第二吸附構件內，用以防止已被吸附至該遮罩框架吸取裝置之該遮罩框架被分開。能夠突出朝向該等遮罩固定塊之外部的圓柱體可以被提供於該等遮罩框架固定塊內。該熔接機可以是一種雷射熔接機。藉由一能夠以串列方式移動之聯結構件，該遮罩片垂直轉移裝置和該遮罩框架垂直轉移裝置可以彼此相互連接在一起。
10‧‧‧遮罩
11‧‧‧遮罩片
12‧‧‧開口
13‧‧‧遮罩框架
14‧‧‧直線
15‧‧‧彎曲線
100‧‧‧垂直沈積遮罩製造裝置
110‧‧‧遮罩片垂直轉移區域
111‧‧‧第一吸附構件
112‧‧‧吸附孔洞
113‧‧‧第一托架
114‧‧‧第一平板
115‧‧‧第一馬達
116‧‧‧第二馬達
117‧‧‧第一滾珠螺桿
118‧‧‧第二滾珠螺桿
120‧‧‧遮罩製造區域
121‧‧‧框架
122‧‧‧夾子
123‧‧‧拉力器
124‧‧‧熔接機
125‧‧‧拉力裝置
130‧‧‧遮罩框架垂直轉移區域
131‧‧‧第二吸附構件
132‧‧‧吸附孔洞
133‧‧‧玻璃基板
134‧‧‧對準標記
135‧‧‧遮罩框架吸取裝置
136‧‧‧遮罩框架固定塊
137‧‧‧第二托架
138‧‧‧第二平板
139‧‧‧第三馬達
140‧‧‧第三滾珠螺桿
141‧‧‧第一導軌
142‧‧‧第二導軌
143‧‧‧第三導軌
210‧‧‧遮罩片垂直轉移區域
211‧‧‧第一吸附構件
212‧‧‧吸附裝置
213‧‧‧第一托架
214‧‧‧第一平板
215‧‧‧第一馬達
216‧‧‧第二馬達
217‧‧‧第一滾珠螺桿
218‧‧‧第二滾珠螺桿
220‧‧‧遮罩製造區域
221‧‧‧框架
222‧‧‧夾子
223‧‧‧拉力器
224‧‧‧熔接機
225‧‧‧拉力裝置
230‧‧‧遮罩框架垂直轉移區域
231‧‧‧第二吸附構件
233‧‧‧玻璃基板
234‧‧‧對準標記
235‧‧‧遮罩框架吸取裝置
236‧‧‧遮罩框架固定塊
237‧‧‧第二托架
238‧‧‧第二平板
239‧‧‧第三馬達
241‧‧‧第一導軌
242‧‧‧第二導軌
243‧‧‧第三導軌
244‧‧‧聯結構件
245‧‧‧第三滾珠螺桿
250‧‧‧遮罩片
251‧‧‧對準孔洞
260‧‧‧遮罩框架
270‧‧‧介面部位
280‧‧‧框架裝載器
290‧‧‧遮罩
291‧‧‧第一平台
292‧‧‧第二平台
322‧‧‧夾子
323‧‧‧拉力器
324‧‧‧拉力測量工具
325‧‧‧拉力裝置
圖1為一說明一種藉由熔接一遮罩片和一遮罩框架所得到之以傳統方式製造之遮罩的立體視圖。
圖2說明該以傳統方式製造之遮罩的下垂現象。
圖3為一說明一種依照本發明第一實施例用於製造出一垂直沈積遮罩之裝置的立體視圖。
圖4為一說明一種依照本發明第二實施例用於製造出一垂直沈積遮罩之裝置的立體視圖。
圖5A、圖5B、圖5C、圖5D、圖5E、圖5F、圖5G和圖5H為說明一種使用依照本發明第二實施例之裝置來製造出一遮罩之方法的立體視圖。
圖6為彼此相互附接之該遮罩片和該遮罩框架的剖面視圖。
圖7為一說明一種依照本發明第三實施例用於製造出一垂直沈積遮罩之裝置的立體視圖。
在下文中，參考隨附圖形，依照本發明之應用實施例將被加以描述。當一第一元件被描述成是連接至一第二元件，該第一元件不僅是可以被直接連接至該第二元件，亦是可以經由一第三元件而被間接連接至該第二元件。另外，為了清晰之目的，對於完整瞭解本發明並非是必要的一些該等元件將被省略。同樣地，在全文中，類似的元件符號代表著類似元件。
在此參考圖3，一種依照本發明之第一實施例的垂直沈積遮罩製造裝置100包括一用於垂直轉移一遮罩片之遮罩片垂直轉移裝置、一用於垂直轉移一與該遮罩片相對應之遮罩框架的遮罩框架垂直轉移裝置，以及一用於熔接該已轉移遮罩片和遮罩框架來製造出一遮罩的遮罩製造裝置。
如圖3所說明之內容，該遮罩片垂直轉移裝置、該遮罩框架垂直轉移裝置，以及該遮罩製造裝置是分別被定位於一遮罩垂直轉移區域110、一遮罩框架垂直轉移區域130和一遮罩製造區域120內。
在如圖3所說明之實施例中，該遮罩製造區域120是被定位於該遮罩片垂直轉移區域110與該遮罩框架垂直轉移區域130之間，用以接收從該等個別轉 移區域110、130所垂直轉移出來之該遮罩片和該遮罩框架，以及用以熔接該遮罩片和該遮罩框架。
被定位於該遮罩製造區域120內之該遮罩製造裝置包括一用於附接該遮罩片與該遮罩框架的張力裝置125。該張力裝置125將該遮罩片拉緊來固定以定位該遮罩片，用以當該遮罩片和該遮罩框架被垂直沈積來製造出一大面積遮罩，並施加至一並未彎曲之大面積基板時，防止該遮罩片被彎曲。
該張力裝置125包括若干用於將該遮罩片支撐住的夾子122和若干用於施加拉力至該等夾子的張力器123。
如圖3所說明之內容，該等夾子122是相對於一平面而以垂直地和水平地來成形，用以將該遮罩片的該等邊緣固定於定位。
此外，該等張力器123是分別被連接至該等夾子、將該等夾子122支撐住和施加拉力至該等夾子122，用以藉由該等夾子122來將該遮罩片均勻地固定於定位。亦即是該等張力器123施加拉力至該等夾子122，用以藉由該等夾子122來將該遮罩片拉緊固定於定位，且用以防止該遮罩片被彎曲。
若干該等夾子122和張力器123是成形於一框架121上，該框架121則是成形於該張力裝置125的該周邊部位上。
此外，一用於熔接該遮罩片和該遮罩框架的熔接機124是被提供於該遮罩製造區域120內。該熔接機124例如可以是一種雷射熔接機。
該熔接機124將由該張力裝置125拉緊固定於定位之該遮罩片的該介面和與該遮罩片相對應之該遮罩框架加以熔接。由該熔接機124所施行之熔接作用可以是縫熔接，因此，點熔接或連續熔接被施行於該介面上。
用於將該遮罩片垂直轉移至該遮罩製造區域120的該遮罩片垂直轉移裝置是 被定位於該遮罩片垂直轉移區域110內，且包括一用於轉移該遮罩片的第一托架113和一用於協助該第一托架113移動的第一導軌141。該第一托架113和該第一導軌141是藉由一第一平板114而彼此相互連接。
如圖3所說明之內容，用於將該遮罩片從一側邊轉移至另一側邊的該第一導軌141是從該遮罩片垂直轉移區域110，經過該遮罩製造區域120延伸至該遮罩框架垂直轉移區域130。
該第一導軌141可以是由一導件所形成，其中一對溝槽係彼此相互平行而從該遮罩片垂直轉移區域110之下側末端延伸至該遮罩框架垂直轉移區域130之下側末端。
此外，一用於將該第一托架113前後移動的第二導軌142是成形於該第一平板114上，且該第二導軌142可以是由一導件所形成，其中一對溝槽係彼此相互平行而從該第一平板114之前方表面延伸至該第一平板114之後方表面，該第一平板114內則具有該第一托架113。
此外，一用於將該遮罩片吸附住用以將該遮罩片垂直轉移的第一吸附構件111是另外被提供於該第一托架113之上側側邊上，且若干吸附孔洞112是成形於該第一吸附構件111之前方表面上，使得該遮罩片能夠被吸附至該第一吸附構件111。另外，一第一滾珠螺桿117和一第一馬達115是被提供於該第一平板114之左側或右側，使得該第一平板114能夠從一側邊移動至另一側邊，且一第二滾珠螺桿118和一第二馬達116是被提供於該第一托架113之前方表面或後方表面上，使得該第一托架113能夠被前後移動。亦即是該第一滾珠螺桿117是由該第一馬達115來旋轉，用以將該第一平板114從一側邊移動至另一側邊。此外，該第二滾珠螺桿118是由該第二馬達116來旋轉，用以將該第一托架113前後移動。
用於將該遮罩框架垂直轉移至該遮罩製造區域120的該遮罩框架垂直轉移裝置是被定位於該遮罩框架垂直轉移區域130內，且包括一用於轉移該遮罩框架的第二托架137和用於協助該第二托架137移動的該第一導軌141。該第二托架137和該第一導軌141是藉由一第二平板138而彼此相互連接。
如同用於該遮罩片垂直轉移區域110，在該遮罩框架垂直轉移區域130內之該第一導軌141可以是由一導件所形成，其中一對溝槽係彼此相互平行而從該遮罩片垂直轉移區域110之下側末端延伸至該遮罩框架垂直轉移區域130之下側末端。
同樣地，一用於將該第二托架137前後移動的第三導軌143是成形於該第二平板138上。該第三導軌143可以是由一導件所形成，其中一對溝槽係彼此相互平行而從該第二平板138之前方表面延伸至該第二平板138之後方表面，該第二平板138內則具有該第二托架137。
此外，一用於吸附住該遮罩框架用以將該遮罩框架垂直轉移的第二吸附構件131是另外被提供於該第二托架137之上側側邊上，且若干吸附孔洞132是成形於該第二吸附構件131之前方表面上，用以吸附住一玻璃基板133。該玻璃基板133是被提供用來對準該遮罩片和該遮罩框架。至少二個對準標記134可以被成形於該玻璃基板133之該等邊緣處，用以對準該遮罩片和該遮罩框架。一遮罩框架吸取裝置135是另外被成形於該第二吸附構件131之最外側周邊部位上，用以將該遮罩框架附接至該玻璃基板133之周邊部位。此外，至少三個遮罩框架固定塊136是另外被提供於該第二吸附構件131之該等邊緣處，用以防止已被吸附至該遮罩框架吸取裝置135之該遮罩框架被分開。依照如圖3所說明之實施例，為了方便的考量，該遮罩框架固定塊136是被提供於該第二吸附構件131之全部該等側邊處。
當該遮罩框架被吸附至該遮罩框架吸取裝置135上，一提供於該遮罩框架固 定塊136內的圓柱體(圖形中未表示出來)突出至外側，使得其本身可以防止該遮罩框架從該遮罩框架吸取裝置135分開，或是防止該遮罩框架移動。亦即是該遮罩框架固定塊136係以雙重地支撐該遮罩框架吸附至該遮罩框架吸取裝置135，用以將該遮罩框架穩定地支撐住。
此外，一第三滾珠螺桿140和一第三馬達139是被提供於該第二平板138之左側或右側，使得該第二托架137能夠從一側邊移動至另一側邊。此外，一第四滾珠螺桿(圖形中未表示出來)和一第四馬達(圖形中未表示出來)是被提供於該第二托架137之前方表面或後方表面上，使得該第二托架137能夠被前後移動，如同用於該遮罩片垂直轉移區域110。
圖4為一說明一種依照本發明第二實施例用於製造出一垂直沈積遮罩之裝置的立體視圖。
用於製造出依照在圖4中所說明第二實施例之垂直沈積遮罩之裝置的大部份結構是與用於製造出依照在圖3中所說明第一實施例之垂直沈積遮罩之裝置的結構相同。結果使得與圖3之部件相同的部件描述內容將被省略。
然而，介於被用來製造出依照在圖4中所說明第二實施例之垂直沈積遮罩之裝置結構與被用來製造出依照在圖3中所說明第一實施例之垂直沈積遮罩之裝置結構中間的差異處是在一遮罩片垂直轉移區域210內之該第一平板214和在一遮罩框架垂直轉移區域230內之該第二平板238係藉由一聯結構件244而彼此相互連接，使得從一側邊到另一側邊之運動能夠以串列方式來施行。
亦即是一被連接至該第一平板214之第一托架213和一被連接至該第二平板238之第二托架237是以一串列方式而以預設距離彼此相互分開而移動。
舉例而言，當該遮罩片藉由該第一托架213而被轉移至一遮罩製造區域220 時，該第二托架237則同時被定位於該遮罩框架垂直轉移區域230內。相反地，當該遮罩框架藉由該第二托架237而被轉移至該遮罩製造區域220時，該第一托架213則同時被定位於該遮罩片垂直轉移區域210內。
在圖4之應用實例中，該遮罩框架是藉由該第二托架238而被轉移至該遮罩製造區域220，且該第一托架213是被定位於該遮罩片垂直轉移區域210內。
於是，由於該第一平板214和該第二平板238是彼此相互鎖附以被移動，該第一平板214和該第二平板238是可以藉由一馬達而以串列之方式來移動。
亦即是依照在圖4中所說明之一項實施例，藉由成形於該第一平板214之右側的第一馬達215和一第一滾珠螺桿217，該第一平板214和該第二平板238是能夠以串列之方式而從一側邊移動至另一側邊。
於是，與第二實施例相較，使用於該第一實施例中之馬達數目較少，得以將該垂直沈積遮罩製造裝置予以簡化。
圖5A到圖5H為說明一種使用依照本發明第二實施例之用於製造一垂直沈積遮罩裝置來製造出一遮罩之方法的立體視圖。圖6為彼此相互附接之該遮罩片和該遮罩框架的剖面視圖。
首先，參考圖5A，為了要將一遮罩片250轉移至一遮罩製造區域之內側，包括一第一吸附構件211之該第一托架213是被定位於一遮罩片垂直轉移區域的前方上，且是被移動至一第一平台291，該遮罩片250是被定位於該第一平台291的頂端表面上。為了要將包括該第一吸附構件211之該第一托架213移動至該第一平台291，一第一馬達215被用來驅動該第一滾珠螺桿217，使得與該第一托架213相連接之該第一平板214能夠經由該第一導軌241而被移動至該遮罩片垂直轉移區域。
接著，一第二滾珠螺桿218是被一第二馬達216所驅動，使得該第一托架213能夠經由一第二導軌242而被移動至該第一平台291。
隨後，參考圖5B，為了要將被定位於該第一平台291之頂端表面上的該遮罩片250吸附至該第一吸附構件211，包括該第一吸附構件211之該第一托架213是以90度被放下朝向該第一平台291。
與該第一托架213相連接之該第一平板214是以90度來放下和抬起該第一托架213。
接著，參考圖5C，在真空吸取作用之後，該遮罩片250是使用若干成形於該第一吸附構件211之前方表面上的吸附裝置212而被吸附至該第一吸附構件211，該第一托架213再一次是以90度被抬起。
當該遮罩片250被吸附至該第一吸附構件211，且該第一托架213以90度被抬起，該第一托架213則被移動至該遮罩片垂直轉移區域210之後方，用以將有該遮罩片250被吸附至其上之該第一托架213轉移至一被定位於一遮罩製造區域內的張力裝置225。
為了要將有該遮罩片250被吸附至其上之該第一托架213移動至該遮罩片垂直轉移區域210的表面，該第二滾珠螺桿218是被該第二馬達216所驅動，用以經由該第二導軌242來將該第一托架213移動至該第一平板214之後方表面。
接著，參考圖5D，有該遮罩片250被吸附至其上之該第一托架213是被轉移至被定位於該遮罩製造區域內的張力裝置225。
該第一滾珠螺桿217是被該第一馬達215所驅動，用以沿著該第一導軌241移動該第一平板214。於是，該遮罩片250能夠被定位於該張力裝置225之後方表面，其中若干夾子222則是成形於該張力裝置225內。隨後，該第二 滾珠螺桿218是被該第二馬達216所驅動，用以經由該第二導軌242來將被吸附至包括於該第一托架213內之該第一吸附構件211的該遮罩片250定位於該等若干夾子222中間。
隨後，包括該等若干夾子222之該張力裝置225是藉由一成形於該框架221之後方表面上的圓柱體，從框架221之周邊部位移動至該框架221之內部。 當該等若干夾子222是藉由該圓柱體而被定位於該遮罩片250之該等邊緣處，該遮罩片250是被定位於該等若干夾子222之間，用以將該遮罩片250固定於定位。
當該遮罩片250被該等若干夾子222固定於定位，該遮罩片250是從有該遮罩片250被吸附至其上之該第一吸附構件211分開。
接著，被該等若干夾子222固定於定位之該遮罩片250是使用張力器223而被拉緊朝向該框架221。結果使得該遮罩片250能夠被該等夾子222均勻地固定於定位。
當該遮罩片250被該等若干夾子222固定於定位，該第一托架213是使用該第二馬達216而被移動至該張力裝置225之後方表面，且包括一第二吸附構件231之該第二托架237是使用一第三馬達239而被移動朝向一第二平台292，其中一遮罩框架260被安置於該第二平台292上。
接著，參考圖5E，包括該第二吸附構件231之該第二托架237是以90度被放下至該第二平台292，其中該遮罩框架260被安置於該第二平台292的上側側邊上，用以將該遮罩框架260吸附至該第二吸附構件231。
與該第二托架237相連接之該第二平板238是以90度來放下和抬起該第二托架237。
在此，參考圖5F，在該第二吸附構件231以90度被放下之後，當該遮罩框 架260被吸附至該遮罩框架吸取裝置235時，該第二托架237再一次是以90度被抬起。
隨後，該遮罩框架260是被防止其從該遮罩框架吸取裝置235分開，或是藉由使用若干成形於該第二吸附構件231之周邊部位上的遮罩框架固定塊236來防止其移動。亦即是當該遮罩框架260被吸附至該遮罩框架吸取裝置235時，提供於該遮罩框架固定塊236內之圓柱體將突出至該遮罩框架固定塊236的外部，使得該遮罩框架260能夠被防止其從該遮罩框架吸取裝置235分開或是被移動。
當該遮罩框架260被吸附至該第二吸附構件231和該第二托架237是以90度被抬起時，有該遮罩框架260被吸附至其上之該第二托架237是被移動至該遮罩框架垂直轉移區域230的後方。
為了要將有該遮罩框架260被吸附至其上之該第二托架237移動至該遮罩框架垂直轉移區域230的後方，該第三滾珠螺桿245是被該第三馬達239所驅動，用以沿著一第三導軌243移動該第二托架237。
接著，參考圖5G，該第二托架237是使用該第一馬達215而被移動至包括於該張力裝置225內之該等夾子222的該等後方表面。在該第二托架237被移動的同時，包括該第一吸附構件211之該第一托架213是與即將被移動至該遮罩片垂直轉移區域內之該第二托架237彼此相互鎖附住。
隨後，該第二托架237是藉由該第三馬達239而被移動至該張力裝置225，用以藉由該等若干夾子222連接該遮罩片250固定於定位，且該遮罩框架260是被該第二吸附構件231所吸附住。
該遮罩框架260具有一能夠防止其被連接至用於支撐住該遮罩片250之該等夾子222的階差(step difference)。亦即是依照本發明，如圖6所說明之 內容，與由該等夾子222固定於定位之該遮罩片250相連接的該遮罩框架260之介面部位270是成形於該等夾子222內，用以防止該遮罩片250藉由該等夾子222而從該遮罩框架260分開。
此外，對準標記234係成形於被提供在該遮罩框架260之後方表面上的該玻璃基板233上，且該對準標記234被定位於成形在該遮罩片250內之對準孔洞251的中心，用以方便將該遮罩框架260與該遮罩片250對準。
此外，一磁鐵(圖形中未表示出來)被提供於該遮罩片250前方表面上，用以將介於該遮罩片250與該遮罩框架260之間的空間完整地移除。磁力係產生於由一金屬所形成之該遮罩框架260與一磁鐵中間，用以移除介於該遮罩片250與該遮罩框架260之間的該空間。
當該遮罩片250和該遮罩框架260是藉由以上所描述之方法而被對準，介於該遮罩片250與該遮罩框架260之間的該空間則被移除，採用一熔接機224來熔接該遮罩片250和該遮罩框架260。
該熔接作用是被施行於該遮罩片250和該遮罩框架260之該介面部位270上，且可以是點熔接作用。該點熔接作用可以從與該遮罩片250相鄰接之該介面部位270施行至與該遮罩框架260相鄰接之該介面部位270(如同在圖5G中箭頭所示之內容)，用以將在該熔接過程中產生之熱膨脹所導致的該遮罩框架260和該遮罩片250之變化減到最小。
參考圖5H，一合成的遮罩290是藉由以上所描述之方法被製造出來，其中該遮罩片250和該遮罩框架260是彼此相互整合。此外，當該遮罩片250和該遮罩框架260是彼此相互被熔接時，提供於該遮罩框架固定塊236內之該等圓柱體將突出至外部，用以防止該遮罩290從該第二吸附構件231偏離。
最後，當該遮罩片250和該遮罩框架260彼此相互熔接以製造出該遮罩290 時，該遮罩片250是從用於將該遮罩片250固定於定位之該等夾子222分開。接著，該第二托架237是藉由該第三馬達239而被移動至該張力裝置225之後方表面。
隨後，該第二托架237被移動至該遮罩框架垂直轉移區域230。此外，該第二托架237是藉由該第三馬達239而被轉移至該遮罩框架垂直轉移區域230之前方。接著，當該第二托架237被移動至該遮罩框架垂直轉移區域230時，從該等遮罩框架固定塊236突出之該等圓柱體被移動至該等遮罩框架固定塊236的內部。
其次，藉由一提供於該遮罩框架垂直轉移區域230之下側末端內的框架裝載器280，該遮罩290是從該遮罩框架吸取裝置235分開。最後，該遮罩290是從該垂直沈積遮罩製造裝置被轉移出去。
圖7為一說明一種依照本發明第三實施例用於製造出一垂直沈積遮罩之裝置的立體視圖。
除了該張力裝置具有一改良結構以外，在圖7中所說明之實施例則是與參考圖3和圖4所描述之第一實施例與第二實施例相同。於是，為了方便之考量，與圖3和圖4之部件相同的部件描述內容將被省略。
參考圖7，依照本發明第三實施例之該垂直沈積遮罩製造裝置的該張力裝置325更進一步包括拉力測量工具324，用以測量出在用於支撐住一遮罩框架之該等若干夾子322中間之夾子322和張力器323的拉力。
該等拉力測量工具324是藉由從該等張力器323所供應之氣動壓力來測量出拉力，用以測量出傳送至該等夾子322之拉力。
該等拉力測量工具324包括用於感測出該等夾子322之拉力變化的壓電感測器(圖形中未表示出來)和電動氣動調節閥(圖形中未表示出來)，當該 等夾子之測量所得拉力是不同於一預先設定值時，該電動氣動調節閥係用於控制供應至該等張力器323之氣動壓力。
亦即是當該等夾子322之拉力改變時，內建於該等拉力測量工具324內之該等壓電感測器產生變化，使得該拉力的大小能夠經由所產生之電流而被擷取。
當由該等拉力測量工具324所測量得到之該等夾子322的拉力不同於一設定值時，從該電動氣動調壓閥供應至該等張力器323的氣動壓力將被控制，使得該等夾子322之拉力能夠被控制。
舉例而言，當該等夾子322之拉力小於該設定拉力值時，供應至該等張力器323之氣動壓力將被增加，用以增加拉力。當該等夾子322之拉力大於該設定拉力值時，供應至該等張力器323之氣動壓力將被減小，用以減小拉力。
熟習該項技術者已知藉由以上所描述之依照第一實施例到第三實施例的垂直沈積遮罩製造裝置所製造之該等遮罩可以被應用於一有機發光顯示器(OLED)、一液晶顯示器(LCD)、一場發射顯示器(FED)、一電漿顯示器面板(PDP)、一電激發光顯示器(ELD)，以及一真空螢光顯示器(VFD)。
依照本發明，該遮罩片和該遮罩框架是藉由該垂直沈積裝置而被製造出來，使得該遮罩片和該遮罩框架能夠被防止其下垂。
此外，當該遮罩片和該遮罩框架被垂直沈積時，為了要防止該遮罩片被彎曲，該遮罩片是被拉緊成為固定於定位，使得應用於大面積基板之大面積遮罩可以被製造，且不致於被彎曲。
此外，當使用依照本發明所製造之該遮罩將薄膜成形於一基板上時，生產力亦可以得到改善。
雖然本發明之應用實施例已被表示和描述，在不偏離本發明的原理和精神之狀況下，熟習該技術者可以針對以上該等實施例做變更，本發明之範疇則是在該等申請專利範圍和其同義內容中界定。
100‧‧‧垂直沈積遮罩製造裝置
110‧‧‧遮罩片垂直轉移區域
111‧‧‧第一吸附構件
112‧‧‧吸附孔洞
113‧‧‧第一托架
114‧‧‧第一平板
115‧‧‧第一馬達
116‧‧‧第二馬達
117‧‧‧第一滾珠螺桿
118‧‧‧第二滾珠螺桿
120‧‧‧遮罩製造區域
121‧‧‧框架
122‧‧‧夾子
123‧‧‧張力器
124‧‧‧熔接機
125‧‧‧張力裝置
130‧‧‧遮罩框架垂直轉移區域
131‧‧‧第二吸附構件
132‧‧‧吸附孔洞
133‧‧‧玻璃基板
134‧‧‧對準標記
135‧‧‧遮罩框架吸取裝置
136‧‧‧遮罩框架固定塊
137‧‧‧第二托架
138‧‧‧第二平板
139‧‧‧第三馬達
140‧‧‧第三滾珠螺桿
141‧‧‧第一導軌
142‧‧‧第二導軌
143‧‧‧第三導軌

Claims (18)

  1. 一種用以製造一垂直沈積遮罩的裝置，其包含：一用於將一遮罩片拉緊的張力裝置，該張力裝置包含：若干用於支撐住該遮罩片的夾子；以及若干與該等夾子相連接的張力器，用以施加拉力至該等夾子和用以藉由該等夾子來將該遮罩片均勻地固定於定位；一用於將一遮罩框架附接至該遮罩片之一周邊部位的熔接機；以及一用於將一直立遮罩片轉移至該張力裝置的遮罩片垂直轉移裝置，包含：一用於轉移該遮罩片的第一托架；一被定位於該第一托架之一側邊上的第一吸附構件，用以吸附該遮罩片；一用於以一第一方向而將該第一托架移動朝向該張力裝置的第一導軌；以及一被連接於該第一托架與該第一導軌之間的第一平板，用以採用90度來將該第一托架放下和抬起。
  2. 如申請專利範圍第1項之垂直沈積遮罩製造裝置，更還包含介於該等夾子與該等張力器之間的拉力測量工具，用以測量該等夾子之拉力。
  3. 如申請專利範圍第2項之垂直沈積遮罩製造裝置，其中該等拉力測量工具包含：用於感測出該等夾子之拉力變化的壓電感測器；以及當該等夾子之測量所得拉力是不同於一預先設定值時，用於控制供應至該等張力器之氣動壓力的電動氣動調節閥。
  4. 如申請專利範圍第1項之垂直沈積遮罩製造裝置，其中該遮罩片垂直轉移裝置更還包含一第二導軌，用以採用一與該第一方向保持直交之第二方向來將該第一托架移動朝向該張力裝置。
  5. 如申請專利範圍第1項之垂直沈積遮罩製造裝置，其中至少一用於吸附該遮罩片的吸附孔洞是位於該第一吸附構件之一表面上。
  6. 如申請專利範圍第1項之垂直沈積遮罩製造裝置，更還包含一用於將該遮罩片垂直轉移裝置與一遮罩框架垂直轉移裝置彼此相連接的聯結構件，以及用以採用串列之方式來移動該遮罩片垂直轉移裝置和該遮罩框架垂直轉移裝置。
  7. 如申請專利範圍第1項之垂直沈積遮罩製造裝置，更還包含一用於將該直立遮罩框架轉移至該張力裝置的遮罩框架垂直轉移裝置，其中該遮罩框架垂直轉移裝置包含：一用於轉移該遮罩框架的第二托架；一被定位於該第二托架之一側邊上的第二吸附構件，用以吸附該遮罩框架；一用於以一與該第一方向相對之第二方向而將該第二托架移動朝向該張力裝置的第一導軌；以及一被連接於該第二托架與該第一導軌之間的第二平板，用以採用90度來將該第二托架放下和抬起。
  8. 如申請專利範圍第7項之垂直沈積遮罩製造裝置，其中該遮罩框架垂直轉移裝置更還包含一第三導軌，用以採用一與該第一方向和該第二方向保持直交之第三方向來將該第二托架移動朝向該張力裝置。
  9. 如申請專利範圍第7項之垂直沈積遮罩製造裝置，其中該第一導軌是一具有一對溝槽的導件，該等溝槽是彼此相互平行而從一遮罩垂直轉移裝置之一下側表面延伸至一遮罩框架垂直轉移裝置之一下側表面。
  10. 如申請專利範圍第7項之垂直沈積遮罩製造裝置，其中該第二吸附構件包含：至少一用於吸附一玻璃基板的吸附孔洞；以及一用於將一遮罩框架吸附至該玻璃基板之一周邊部位的遮罩框架吸取裝置。
  11. 如申請專利範圍第10項之垂直沈積遮罩製造裝置，其中至少一用於將一遮罩片和一遮罩框架對準的對準標記是位於該玻璃基板上。
  12. 如申請專利範圍第7項之垂直沈積遮罩製造裝置，更還包含一用於將該遮罩片垂直轉移裝置與一遮罩框架垂直轉移裝置彼此相連接的聯結構件，以及用以採用串列之方式來移動該遮罩片垂直轉移裝置和該遮罩框架垂直轉移裝置。
  13. 如申請專利範圍第10項之垂直沈積遮罩製造裝置，其中若干遮罩框架固定塊是另外被提供於該第二吸附構件內，用以防止已被吸附至該遮罩框架吸取裝置之該遮罩框架被分開。
  14. 如申請專利範圍第13項之垂直沈積遮罩製造裝置，其中突出朝向該等遮罩固定塊之一外部的圓柱體是被提供於該等遮罩框架固定塊內。
  15. 如申請專利範圍第1項之垂直沈積遮罩製造裝置，其中該熔接機是一種雷射熔接機。
  16. 一種製造一垂直沈積遮罩的方法，該項方法包含：提供一與一遮罩片垂直轉移區域和一遮罩框架垂直轉移區域相鄰接的張力裝置；將一包括一第一吸附構件的第一托架定位於該遮罩片垂直轉移區域內；以90度放下該第一托架，用以將一被定位於一第一平台上之遮罩片吸附至該第一吸附構件； 以90度抬起該第一托架，用以將被吸附至該第一吸附構件之該遮罩片轉移至一被定位於一遮罩製造區域內之張力裝置的一表面；藉由該張力裝置來拉緊該遮罩片，用以將該遮罩片固定於定位；將一包括一第二吸附構件之第二托架轉移至該遮罩框架垂直轉移區域，用以將一遮罩框架附接至該遮罩片之一表面；以90度放下該第二托架，用以將一被定位於一第二平台上之遮罩框架吸附至該第二吸附構件；以90度抬起該第二托架，用以將被吸附至該第二吸附構件之該遮罩框架轉移至一被定位於該遮罩製造區域內之遮罩片的該表面；以及熔接該遮罩片之一介面部位和被轉移至該遮罩片之該表面的該遮罩框架。
  17. 如申請專利範圍第16項之方法，其中在以若干夾子固定住該遮罩片的邊緣之後，藉由該張力裝置之拉緊該遮罩片的作用是採用該張力裝置之張力器來施行。
  18. 一種用以製造一垂直沈積遮罩的裝置，其包含：一用於將一遮罩片拉緊的張力裝置；一用於將一直立遮罩片轉移至該張力裝置的遮罩片垂直轉移裝置；一用於將一直立遮罩框架轉移至該張力裝置的遮罩框架垂直轉移裝置；以及一用於將該遮罩片與一被附接至該遮罩片周邊部位之遮罩框架彼此相互連接的熔接機，該張力裝置包含：若干用於支撐住該遮罩片的夾子；以及若干與該等夾子相連接的張力器，用以施加拉力至該等夾子和用以藉由該等夾子來將該遮罩片均勻地固定於定位， 該遮罩片垂直轉移裝置包含：一用於轉移該遮罩片的第一托架；一被定位於該第一托架之一側邊上的第一吸附構件，用以吸附該遮罩片；一用於以一第一方向而將該第一托架移動朝向該張力裝置的第一導軌；以及一被連接於該第一托架與該第一導軌之間的第一平板，用以採用90度來將該第一托架放下和抬起，以及該遮罩框架垂直轉移裝置包含：一用於轉移該遮罩框架的第二托架；一被定位於該第二托架之一側邊上的第二吸附構件，用以吸附該遮罩框架；一用於以一與該第一方向相對之第二方向而將該第二托架移動朝向該張力裝置的第一導軌；以及一被連接於該第二托架與該第一導軌之間的第二平板，用以採用90度來將該第二托架放下和抬起。
TW097143635A 2007-11-20 2008-11-12 用以製造垂直沉積遮罩的方法和裝置 TWI400584B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070118787A KR100947442B1 (ko) 2007-11-20 2007-11-20 수직 증착형 마스크 제조장치 및 이를 이용한 수직 증착형마스크의 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200947156A TW200947156A (en) 2009-11-16
TWI400584B true TWI400584B (zh) 2013-07-01

Family

ID=40436464

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW097143635A TWI400584B (zh) 2007-11-20 2008-11-12 用以製造垂直沉積遮罩的方法和裝置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8459526B2 (zh)
EP (1) EP2063320B1 (zh)
JP (1) JP4850207B2 (zh)
KR (1) KR100947442B1 (zh)
CN (1) CN101538698B (zh)
DE (1) DE602008005236D1 (zh)
TW (1) TWI400584B (zh)

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7674148B2 (en) 2006-02-10 2010-03-09 Griffin Todd R Shadow mask tensioning method
TWI401832B (zh) * 2008-12-15 2013-07-11 Hitachi High Tech Corp Organic electroluminescent light making device, film forming apparatus and film forming method, liquid crystal display substrate manufacturing apparatus, and calibration apparatus and calibration method
KR20120123918A (ko) 2011-05-02 2012-11-12 삼성디스플레이 주식회사 분할 마스크 및 이를 이용한 마스크 프레임 조립체의 조립방법
KR101813549B1 (ko) 2011-05-06 2018-01-02 삼성디스플레이 주식회사 분할 마스크와 그 분할 마스크를 포함한 마스크 프레임 조립체의 조립장치
KR101272299B1 (ko) * 2011-08-25 2013-06-07 (주)한 송 Ａｍｏｌｅｄ 패널 제작용 분할 마스크 프레임 어셈블리 제조 장치
KR101282874B1 (ko) * 2011-10-31 2013-07-05 주식회사 케이피에스 노광 마스크 및 이를 이용한 마스크 필름 클램핑 장치 및 마스크 필름 클램핑 방법
CN103207182A (zh) * 2012-01-11 2013-07-17 昆山允升吉光电科技有限公司 一种多功能组装测试机
KR101899093B1 (ko) 2012-02-03 2018-09-17 삼성디스플레이 주식회사 증착 마스크의 제조 장치
KR101958991B1 (ko) 2012-05-24 2019-03-20 삼성디스플레이 주식회사 프레임 및 이를 포함하는 마스크 조립체
KR101941695B1 (ko) * 2012-05-31 2019-01-24 삼성디스플레이 주식회사 마스크 인장 장치, 마스크 시트 및 이를 포함하는 마스크 제조 시스템
KR101969955B1 (ko) * 2012-10-25 2019-04-18 삼성디스플레이 주식회사 평판표시장치용 증착 마스크 조립체 제조장치
JP2014088594A (ja) * 2012-10-30 2014-05-15 V Technology Co Ltd 蒸着マスク
KR101980232B1 (ko) 2012-11-14 2019-05-21 삼성디스플레이 주식회사 패터닝 슬릿 시트 프레임 어셈블리
KR102000718B1 (ko) * 2012-11-15 2019-07-19 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 조립체 및 이의 제조 방법
JP6142196B2 (ja) 2013-03-15 2017-06-07 株式会社ブイ・テクノロジー 蒸着マスクの製造方法
KR102218656B1 (ko) 2013-05-08 2021-02-23 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체 및 이의 제조 방법
JP6108544B2 (ja) * 2013-06-17 2017-04-05 新東エスプレシジョン株式会社 マスク製造装置
KR102131659B1 (ko) * 2013-07-08 2020-07-09 삼성디스플레이 주식회사 마스크 클램핑 장치 및 마스크 제조 방법
US9662871B2 (en) 2013-07-22 2017-05-30 Leader Engineering-Fabrication, Inc. Apparatus and method for application of sticky back material
JP6137041B2 (ja) * 2014-04-28 2017-05-31 トヨタ自動車株式会社 表面に膜を有する部材を製造する方法
EP3230488A1 (en) 2014-12-10 2017-10-18 Applied Materials, Inc. Mask arrangement for masking a substrate in a processing chamber
KR102352280B1 (ko) * 2015-04-28 2022-01-18 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체 제조 장치 및 이를 이용한 마스크 프레임 조립체 제조 방법
CN104928621B (zh) * 2015-05-15 2017-10-31 京东方科技集团股份有限公司 一种制作掩膜板时使用的张网装置及张网方法
KR102366569B1 (ko) * 2015-07-01 2022-02-25 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 인장 용접 장치
KR102401484B1 (ko) * 2015-08-31 2022-05-25 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체, 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조 방법
CN105810853B (zh) * 2016-05-19 2017-11-24 京东方科技集团股份有限公司 对抗力施加装置、掩膜制造装置及相应方法
KR102618351B1 (ko) * 2016-07-19 2023-12-28 삼성디스플레이 주식회사 패턴위치조정기구가 구비된 마스크 프레임 조립체 및 그것을 이용한 패턴 위치 조정 방법
CN106148892B (zh) * 2016-07-25 2019-04-02 京东方科技集团股份有限公司 一种子掩膜版的张网方法及掩膜版、基板、显示装置
US10546537B2 (en) * 2016-11-02 2020-01-28 Innolux Corporation Display device with display drivers arranged on edge thereof
KR102441908B1 (ko) * 2016-11-18 2022-09-08 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 증착 마스크
KR101930450B1 (ko) 2017-05-31 2018-12-18 포항공과대학교 산학협력단 마스크 제조장치와 그의 제조 방법 및 리소그래피용 마스크
JP6919145B2 (ja) * 2017-08-09 2021-08-18 株式会社飯沼ゲージ製作所 マスク製造装置及びマスク製造方法
KR102011723B1 (ko) * 2018-04-20 2019-08-19 주식회사 티지오테크 프레임 일체형 마스크의 제조 장치
KR102254375B1 (ko) * 2018-07-19 2021-05-24 주식회사 오럼머티리얼 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR102283202B1 (ko) * 2018-08-08 2021-07-30 주식회사 오럼머티리얼 마스크의 이송 시스템 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR102217812B1 (ko) * 2018-11-28 2021-02-22 주식회사 오럼머티리얼 프레임 일체형 마스크의 제조 장치
JP7487481B2 (ja) * 2019-02-06 2024-05-21 大日本印刷株式会社 蒸着マスク装置、マスク支持機構及び蒸着マスク装置の製造方法
US10960499B2 (en) 2019-03-27 2021-03-30 Thor Tech, Inc. Flexible welding apparatus
US11613802B2 (en) * 2020-04-17 2023-03-28 Rockwell Collins, Inc. Additively manufactured shadow masks for material deposition control
JP2020176333A (ja) * 2020-07-14 2020-10-29 株式会社飯沼ゲージ製作所 マスク製造装置及びマスク製造方法
KR20220030437A (ko) 2020-08-31 2022-03-11 삼성디스플레이 주식회사 마스크, 이의 제조 방법, 및 표시 패널 제조 방법

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020025406A1 (en) * 2000-08-25 2002-02-28 Nec Corporation Metal mask structure and method for maufacturing thereof
US20040160609A1 (en) * 2002-10-25 2004-08-19 Nidek Co., Ltd. Surface inspecting apparatus
TWI270747B (en) * 2003-12-02 2007-01-11 Sony Corp Deposition mask and manufacturing method thereof
TWI277826B (en) * 2004-06-02 2007-04-01 Hoya Corp Mask blank, phase shift mask manufacturing method and template manufacturing method
US20070190888A1 (en) * 2006-02-10 2007-08-16 Eastman Kodak Company Shadow mask tensioning method

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01236540A (ja) * 1988-03-16 1989-09-21 Hitachi Ltd カラー受像管用シヤドウマスク構体の製造方法および製造装置
US5167558A (en) * 1988-07-22 1992-12-01 Zenith Electronics Corporation System for registering and assembling tension masks and CRT faceplates
US4902257A (en) * 1988-07-22 1990-02-20 Zenith Electronics Corporation Methods and apparatus for making flat tension mask color cathode ray tubes
US5162008A (en) * 1988-07-22 1992-11-10 Zenith Electronics Corporation Method and apparatus for stretching interchangeable tension masks in color cathode ray tubes
JP2000306506A (ja) * 1999-04-23 2000-11-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd シャドウマスク製造方法およびシャドウマスク製造装置
KR100382491B1 (ko) 2000-11-28 2003-05-09 엘지전자 주식회사 유기 ｅｌ의 새도우 마스크
KR20020053167A (ko) 2000-12-27 2002-07-05 김영남 음극선관의 텐션 새도우마스크 흡착판
JP4096567B2 (ja) * 2001-01-31 2008-06-04 東レ株式会社 統合マスク、ならびに統合マスクを用いた有機ｅｌ素子の製造方法およびその製造装置
US7396558B2 (en) 2001-01-31 2008-07-08 Toray Industries, Inc. Integrated mask and method and apparatus for manufacturing organic EL device using the same
US6781297B2 (en) * 2001-04-07 2004-08-24 Thomson Licensing S. A. Method and apparatus for maintaining mask strand spatial uniformity
US6494134B2 (en) * 2001-04-17 2002-12-17 Gunter Erdmann Frame for foil stencil and stencil foil assembly
JP2003217447A (ja) * 2002-01-28 2003-07-31 Nec Kansai Ltd カラーブラウン管のシャドウマスク溶接装置
US6897164B2 (en) 2002-02-14 2005-05-24 3M Innovative Properties Company Aperture masks for circuit fabrication
KR100647576B1 (ko) 2002-03-16 2006-11-17 삼성에스디아이 주식회사 텐션 마스크 프레임 조립체의 제조방법 및 그 제조장치
US6878208B2 (en) * 2002-04-26 2005-04-12 Tohoku Pioneer Corporation Mask for vacuum deposition and organic EL display manufactured by using the same
JP2003141989A (ja) 2002-11-12 2003-05-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd カラー陰極線管の製造方法及びその製造装置
JP4173722B2 (ja) * 2002-11-29 2008-10-29 三星エスディアイ株式会社 蒸着マスク、これを利用した有機ｅｌ素子の製造方法及び有機ｅｌ素子
DE60315071T2 (de) * 2002-12-16 2008-04-10 The Gates Corp., Denver Aktive spannvorrichtung
US20040163592A1 (en) * 2003-02-20 2004-08-26 Tohoku Poineer Corporation Mask for vacuum deposition and organic EL display panel manufactured by using the same
KR100603326B1 (ko) * 2003-12-09 2006-07-20 삼성에스디아이 주식회사 마스크 및 마스크 프레임 조립 장치 및 조립 방법
JP4562488B2 (ja) * 2004-10-15 2010-10-13 大日本印刷株式会社 メタルマスク位置アラインメント方法及び装置
JP5151004B2 (ja) * 2004-12-09 2013-02-27 大日本印刷株式会社 メタルマスクユニット及びその製造方法
KR101011901B1 (ko) * 2004-12-09 2011-02-01 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 메탈 마스크 유니트, 그 제조방법, 금속 테이프의 부착방법및 텐션 부가장치
KR200385699Y1 (ko) 2005-01-03 2005-06-02 오리온전기 주식회사 평판표시 소자용 유리 기판의 지지 구조
KR100700839B1 (ko) 2005-01-05 2007-03-27 삼성에스디아이 주식회사 수직증착용 섀도우마스크 패턴 제조방법
KR100700840B1 (ko) * 2005-01-05 2007-03-27 삼성에스디아이 주식회사 섀도우마스크 부착방법
JP2006233286A (ja) 2005-02-25 2006-09-07 Seiko Epson Corp マスク、マスクの製造方法、パターン形成装置、パターン形成方法
KR100682760B1 (ko) * 2005-03-22 2007-02-15 엘지전자 주식회사 유기전계발광표시소자의 제조장치
KR100676177B1 (ko) * 2005-03-22 2007-02-01 엘지전자 주식회사 유기전계발광표시소자의 제조장치
KR100696523B1 (ko) 2005-05-30 2007-03-19 삼성에스디아이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 이를 이용한 유기발광 표시장치의 제조방법
KR20070082317A (ko) * 2006-02-16 2007-08-21 삼성전자주식회사 마스크 및 그 제조 방법
JP2008036986A (ja) * 2006-08-08 2008-02-21 Fujitsu Hitachi Plasma Display Ltd スクリーンマスク、印刷装置、印刷方法並びにフラットディスプレイパネルの製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020025406A1 (en) * 2000-08-25 2002-02-28 Nec Corporation Metal mask structure and method for maufacturing thereof
US20040160609A1 (en) * 2002-10-25 2004-08-19 Nidek Co., Ltd. Surface inspecting apparatus
TWI270747B (en) * 2003-12-02 2007-01-11 Sony Corp Deposition mask and manufacturing method thereof
TWI277826B (en) * 2004-06-02 2007-04-01 Hoya Corp Mask blank, phase shift mask manufacturing method and template manufacturing method
US20070190888A1 (en) * 2006-02-10 2007-08-16 Eastman Kodak Company Shadow mask tensioning method

Also Published As

Publication number Publication date
EP2063320A3 (en) 2009-07-29
DE602008005236D1 (de) 2011-04-14
US8459526B2 (en) 2013-06-11
EP2063320A2 (en) 2009-05-27
JP4850207B2 (ja) 2012-01-11
KR20090052203A (ko) 2009-05-25
JP2009127128A (ja) 2009-06-11
CN101538698A (zh) 2009-09-23
KR100947442B1 (ko) 2010-03-12
CN101538698B (zh) 2011-09-14
EP2063320B1 (en) 2011-03-02
TW200947156A (en) 2009-11-16
US20090127236A1 (en) 2009-05-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI400584B (zh) 用以製造垂直沉積遮罩的方法和裝置
JP6448067B2 (ja) 基板載置方法、基板載置機構、成膜方法、成膜装置及び電子デバイスの製造方法
US20210388479A1 (en) Full-size mask assembly and manufacturing method thereof
JP6351918B2 (ja) 基板載置方法、成膜方法、電子デバイスの製造方法
JP5020770B2 (ja) 液晶表示装置を製造するためのシステム及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法
TWI628304B (zh) 利用沈積裝置之遮罩總成之對準方法
KR101209654B1 (ko) 트레이 틸트 장치
KR101479937B1 (ko) 글라스와 마스크의 정렬장치
KR100922046B1 (ko) 수직 증착형 마스크 제조장치
JP6783471B2 (ja) マスク製造方法、アライメント方法及びマスク製造装置
KR101246800B1 (ko) 접합기판 제조장치 및 접합기판 제조방법
KR100931481B1 (ko) 수직 증착형 마스크 제조장치
CN111230295B (zh) 框架一体型掩模的制造装置
KR102627571B1 (ko) 표시유닛의 제조장치
KR100922045B1 (ko) 수직 증착형 마스크 제조장치 및 이를 이용한 수직 증착형마스크의 제조방법
KR101882962B1 (ko) 텐션마스크 프레임 어셈블리의 제조장치
US20230068722A1 (en) Apparatus for manufacturing display processing mask and method of manufacturing display processing mask using the same
KR102078381B1 (ko) 상부 기판 지지 장치 및 방법, 및 이를 구비한 기판 합착 장치
KR20080009542A (ko) 정반 정렬유닛을 가진 기판 합착장치 및 이를 이용한 정반정렬방법
KR102627572B1 (ko) 라미네이팅 장치의 챔버구조
CN111850462A (zh) 掩模、掩模的制造方法及电子器件的制造方法
KR101354445B1 (ko) 마스크프레임어셈블리 제조 방법 및 장치
KR20230072036A (ko) 기판 정렬 장치, 기판 정렬 방법 및 박막 증착 시스템
JP5047201B2 (ja) 基板合着装置
KR101167077B1 (ko) 수직형 증착 시스템