CN101538698A

CN101538698A - 制造垂直沉积掩模的方法和设备

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Publication number: CN101538698A
Application number: CN200810176343A
Authority: CN
Inventors: 洪钟元; 姜有珍; 朴时映
Original assignee: Samsung Mobile Display Co Ltd
Current assignee: Samsung Display Co Ltd
Priority date: 2007-11-20
Filing date: 2008-11-20
Publication date: 2009-09-23
Anticipated expiration: 2028-11-20
Also published as: TW200947156A; KR20090052203A; CN101538698B; KR100947442B1; JP4850207B2; EP2063320A3; DE602008005236D1; EP2063320B1; EP2063320A2; TWI400584B; US20090127236A1; US8459526B2; JP2009127128A

Abstract

本发明公开了一种用于制造垂直沉积掩模的方法和设备，所述方法和设备能将掩模片和掩模框焊接以防止大面积掩模因为掩模的重量而下垂。所述设备包括用于拉紧掩模片的拉紧装置和用于将掩模框附着到掩模片的周围的焊接机。所述拉紧装置包括多个夹具和拉紧件，所述多个夹具用于支撑掩模片，所述拉紧件结合到夹具，用于向夹具施加拉力并通过夹具将掩模片平坦地固定在适当的位置。

Description

制造垂直沉积掩模的方法和设备

本申请要求于2007年11月20日提交到韩国知识产权局的第10-2007-0118787号韩国专利申请的优先权，该申请的全部内容通过引用包含于此。

技术领域

本发明涉及一种垂直沉积掩模(vertical deposition mask)及其制造，更具体地说，本发明涉及一种防止掩模下垂的制造垂直沉积掩模的方法及设备。

背景技术

通常，在制造发光显示器时，掩模被用来沉积具有预定图案的层。即，当沉积诸如有机层的层时，利用具有特定图案的孔的掩模，在基底上形成具有对应于孔的图案的层。

掩模由具有预定强度的金属形成，以保持特定图案的孔的形状，在水平地放置其上提供有掩模的基底之后执行沉积工艺。

然而，由于掩模的重量，掩模的中心会下垂并且在沉积工艺过程中在沉积在基底上的层的图案中产生差错。

由于随着在其上执行沉积的基底的尺寸增加，对应于基底尺寸的掩模尺寸也增加，从而由于掩模的重量，掩模的中心显著地下垂，所以当沉积大面积基底时，该问题变得严重。

图1是示出传统地制造的掩模片和掩模的透视图，掩模框焊接到所述掩模。图2示出了图1的掩模的下垂。

参照图1和图2，掩模10包括掩模片11和掩模框13，在掩模片11中形成有预定图案的孔，掩模框13用于固定掩模片11。

通过利用掩模制造设备将掩模片11和掩模框13焊接来制造掩模10。

即，掩模制造设备通过夹具(未示出)来固定掩模片11的边缘，将由夹具固定在适当的位置的掩模片11附着到掩模框13，并将附着的区域焊接以制造掩模。

在传统技术中，掩模制造设备在水平放置掩模片11和掩模框13之后执行焊接。然而，如图2所示，由于掩模片11的负荷，所以制造的掩模10会在平面方向下垂。

因此，掩模片11和掩模框13之间的焊接线不是形成直线14而是形成曲线15。结果，形成在掩模片11中的孔12的位置没有按照所期望的来形成。

这样，使用掩模10，并没有在基底上均匀地形成薄膜图案，并且形成在基底上的薄膜的位置没有形成在基底上的期望位置中。

发明内容

根据本发明，提供了一种用于制造垂直沉积掩模的设备，所述设备能提供与平面垂直的掩模片和掩模框的焊接。当制造对应于基底的掩模时，尤其是当在其上执行沉积的基底的面积增大时，所述设备防止大面积掩模由于掩模的重量而下垂。

还提供了一种用所述设备制造垂直沉积掩模的方法。

再根据本发明，所述用于制造垂直沉积掩模的设备包括：拉紧装置，用于拉紧将被固定到掩模框的适当的位置的掩模片；焊接机，用于将掩模框附着到掩模片的周围。拉紧装置包括：多个夹具，用于支撑掩模片；多个拉紧件，结合到夹具以向夹具施加拉力并通过夹具将掩模片平坦地固定在适当的位置。

还可在夹具和拉紧件之间提供用于测量夹具的拉力的拉力测量器。拉力测量器可包括用于感测夹具的拉力变化的压电传感器以及当测量到的夹具的拉力与预设值不同时用于控制供应到拉紧件的气动压力的电-气调节器。

此外，垂直沉积掩模制造设备还可包括掩模片竖直传输装置，以将直立的掩模片传输到拉紧装置。掩模片竖直传输装置可包括用于传输掩模片的第一载具。第一吸附构件位于第一载具的一侧以吸附掩模片。设置第一导轨以使第一载具沿第一方向朝拉紧装置移动。第一板结合在第一载具和第一导轨之间以使第一载具下降90度和升起90度。此外，还可形成用于使第一载具沿与第一方向垂直的第二方向朝拉紧装置移动的第二导轨。可在第一吸附构件的前表面上形成至少一个用于吸附掩模片的吸附孔。

此外，垂直沉积掩模制造设备还可包括掩模框竖直传输装置，以将直立的掩模框传输到拉紧装置。掩模框竖直传输装置可包括用于传输掩模框的第二载具。第二吸附构件位于第二载具的一侧以吸附掩模框。设置第一导轨以使第二载具沿与第一方向相反的第二方向朝拉紧装置移动。第二板结合在第二载具和第一导轨之间以使第二载具下降90度和升起90度。还可形成用于使第二载具沿与第一方向和第二方向垂直的第三方向朝拉紧装置移动的第三导轨。第一导轨可由引导件形成，在该引导件中，形成有一对彼此平行地从掩模片竖直传输装置的下表面向掩模框竖直传输装置的下表面延伸的槽。此外，第二吸附构件可包括至少一个用于吸附玻璃基底的吸附孔以及用于将掩模框吸附到玻璃基底的周围的掩模框吸引装置。

此外，可在玻璃基底中形成至少一个用于将掩模片和掩模框对准的对准标记。还可在第二吸附构件中设置多个掩模框固定块，以防止吸附到掩模框吸引装置的掩模框分离。可在掩模框固定块中设置能朝掩模框固定块的外部突出的圆柱。焊接机可以是激光焊接机。掩模片竖直传输装置和掩模框竖直传输装置可通过结合构件彼此结合以联动地移动。

附图说明

图1是示出通过将掩模片和掩模框焊接获得的传统制造的掩模的透视图。

图2示出了传统制造的掩模的下垂。

图3是示出根据本发明第一实施例的用于制造垂直沉积掩模的设备的透视图。

图4是示出根据本发明第二实施例的用于制造垂直沉积掩模的设备的透视图。

图5A、图5B、图5C、图5D、图5E、图5F、图5G和图5H是示出使用根据本发明第二实施例的设备制造掩模的方法的透视图。

图6是彼此附着的掩模片和掩模框的剖视图。

图7是示出根据本发明第三实施例的用于制造垂直沉积掩模的设备的透视图。

具体实施方式

下面，将参照附图描述根据本发明的示例性实施例。当第一元件被描述为结合到第二元件时，第一元件不仅可以直接结合到第二元件，也可以通过第三元件间接结合到第二元件。此外，为了清楚起见，省略一些对完全理解本发明不必要的元件。此外，相同的标号始终表示相同的元件。

参照图3，根据本发明第一实施例的垂直沉积掩模制造设备100包括：掩模片竖直传输装置，用于竖直传输掩模片；掩模框竖直传输装置，用于竖直传输与掩模片对应的掩模框；掩模制造装置，用于将传输的掩模片和掩模框焊接以制造掩模。

如图3所示，掩模片竖直传输装置、掩模框竖直传输装置和掩模制造装置分别位于掩模片竖直传输区110、掩模框竖直传输区130和掩模制造区120中。

在图3中示出的实施例中，掩模制造区120位于掩模片竖直传输区110和掩模框竖直传输区130之间，以接收从掩模片竖直传输区110竖直传输的掩模片和从掩模框竖直传输区130竖直传输的掩模框，并且将掩模片和掩模框焊接。

位于掩模制造区120中的掩模制造装置包括用于将掩模片和掩模框附着的拉紧装置125。拉紧装置125将掩模片拉紧以将掩模片固定在适当的位置，从而在掩模片和掩模框被竖直放置(deposit)以制造应用于大面积基底而不弯曲的大面积掩模时，防止掩模片弯曲。

拉紧装置125包括用于支撑掩模片的多个夹具122以及用于向夹具施加拉力的多个拉紧件(tensioner)123。

如图3所示，夹具122关于平面垂直地和水平地形成，以将掩模片的边缘固定在适当的位置。

此外，拉紧件123分别结合到夹具122，支撑夹具122并向夹具122施加拉力，以通过夹具122将掩模片固定在适当的位置并使掩模片平坦。即，拉紧件123向夹具122施加拉力，以将由夹具122固定在适当位置的掩模片拉紧并防止掩模片弯曲。

多个夹具122和拉紧件123形成在框架121上，框架121形成在拉紧装置125的周围上。

此外，用于将掩模片和掩模框焊接的焊接机124设置在掩模制造区120中。焊接机124可以是例如激光焊接机。

焊接机124焊接被拉紧装置125拉紧以被固定到适当的位置的掩模片和对应于掩模片的掩模框的界面。由焊接机124执行的焊接可以是点焊或缝焊，通过缝焊对所述界面执行连续焊。

用于将掩模片竖直传输到掩模制造区120的掩模片竖直传输装置位于掩模片竖直传输区110中，并且掩模片竖直传输装置包括用于传输掩模片的第一载具113和用于帮助第一载具113运动的第一导轨141。第一载具113和第一导轨141通过第一板114彼此结合。

如图3所示，用于将掩模片从一侧传输到另一侧的第一导轨141从掩模片竖直传输区110穿过掩模制造区120延伸到掩模框竖直传输区130。

第一导轨141可由引导件形成，在该引导件中，一对槽彼此平行地从掩模片竖直传输区110的下端向掩模框竖直传输区130的下端延伸。

此外，用于使第一载具113前后移动的第二导轨142形成在第一板114上，并且可由引导件形成，在所述引导件中，一对槽彼此平行地从设置有第一载具113的第一板114的前表面向后表面延伸。

此外，用于吸附掩模片以将掩模片竖直传输的第一吸附构件111还设置在第一载具113的上侧上，多个吸附孔112形成在第一吸附构件111的前表面上，从而掩模片可被吸附到第一吸附构件111。此外，第一滚珠螺杆117和第一电机115设置在第一板114的左侧或右侧，从而第一板114可从一侧到另一侧地移动，第二滚珠螺杆118和第二电机116设置在第一载具113的前表面或后表面上，从而第一载具113可以前后移动。即，第一滚珠螺杆117通过第一电机115旋转以从一侧到另一侧地移动第一板114。此外，第二滚珠螺杆118通过第二电机116旋转以前后移动第一载具113。

用于将掩模框竖直传输到掩模制造区120的掩模框竖直传输装置位于掩模框竖直传输区130中，并且掩模框竖直传输装置包括用于传输掩模框的第二载具137和用于帮助第二载具137移动的第一导轨141。第二载具137和第一导轨141通过第二板138彼此结合。

与用于掩模片竖直传输区110的第一导轨141相似，掩模框竖直传输区130中的第一导轨141可由引导件形成，在该引导件中，一对槽彼此平行地从掩模片竖直传输区110的下端向掩模框竖直传输区130的下端延伸。

相似地，用于使第二载具137前后移动的第三导轨143形成在第二板138上。第三导轨143可由引导件形成，在该引导件中，一对槽彼此平行地从设置有第二载具137的第二板138的前表面向后表面延伸。

此外，用于吸附掩模框以将掩模框竖直传输的第二吸附构件131还设置在第二载具137的上侧上，多个吸附孔132形成在第二吸附构件131的前表面上以吸附玻璃基底133。设置玻璃基底133以将掩模片和掩模框对准。至少两个对准标记134可形成在玻璃基底133的边缘处以将掩模片和掩模框对准。掩模框吸引装置135还形成在第二吸附构件131的最外周上以将掩模框附着到玻璃基底133的周围。此外，至少三个掩模框固定块136还设置在第二吸附构件131的边缘处，以防止吸附到掩模框吸引装置135的掩模框分离。根据图3中示出的实施例，为了方便起见，掩模框固定块136设置在第二吸附构件131的全部边缘处。

当掩模框被吸附到掩模框吸引装置135上时，设置在掩模框固定块136中的圆柱(cylinder)(未示出)突出到外部，使得可防止掩模框与掩模框吸引装置135分离，或防止掩模框移动。即，掩模框固定块136双重地支撑吸附到掩模框吸引装置135的掩模框以稳固地支撑掩模框。

此外，第三滚珠螺杆140和第三电机139设置在第二板138的左侧或右侧，从而第二载具137可从一侧到另一侧地移动。此外，与用于掩模片竖直传输区110的滚珠螺杆和电机非常相似，第四滚珠螺杆(未示出)和第四电机(未示出)设置在第二载具137的前表面或后表面上，从而第二载具137可前后移动。

根据图4示出的第二实施例的用于制造垂直沉积掩模的设备的大部分结构与根据图3示出的第一实施例的用于制造垂直沉积掩模的设备的结构相同。这样，将省略对与图3的组件相同的组件的描述。

然而，根据图4示出的第二实施例的用于制造垂直沉积掩模的设备的结构与根据图3示出的第一实施例的用于制造垂直沉积掩模的设备的结构之间的不同在于：在掩模片竖直传输区210中的第一板214和在掩模框竖直传输区230中的第二板238通过结合构件244彼此结合，从而联动地(in tandem)执行从一侧到另一侧的移动。

即，结合到第一板214的第一载具213和结合到第二板238的第二载具237彼此分开预定距离以联动地移动。

例如，当掩模片被第一载具213传输到掩模制造区220时，同时，第二载具237位于掩模框竖直传输区230中。相反，当掩模框被第二载具237传输到掩模制造区220时，同时，第一载具213位于掩模片竖直传输区210中。

在图4的情况下，掩模框被第二载具238传输到掩模制造区220，第一载具213位于掩模片竖直传输区210中。

因此，由于第一板214和第二板238彼此互锁，所以第一板214和第二板238可以通过一个电机而联动地移动。

即，根据实施例，如图4所示，第一板214和第二板238可通过形成在第一板214右侧的第一电机215和第一滚珠螺杆217从一侧到另一侧地联动地移动。

因此，由于在第二实施例中比在第一实施例中使用了更少的电机，所以可简化垂直沉积掩模制造设备。

图5A至图5H是示出利用根据本发明第二实施例的用于制造垂直沉积掩模的设备制造掩模的方法的透视图。图6是彼此附着的掩模片和掩模框的剖视图。

首先，参照图5A，为了将掩模片250传输到掩模制造区内部，包括第一吸附构件211的第一载具213位于掩模片竖直传输区的前部，并移动到第一台291处，其中，掩模片250位于第一台291的顶表面上。为了将包括第一吸附构件211的第一载具213移动到第一台291处，使用第一电机215来驱动第一滚珠螺杆217，从而结合到第一载具213的第一板214通过第一导轨241移动到掩模片竖直传输区。

然后，由第二电机216驱动第二滚珠螺杆218，从而第一载具213通过第二导轨242移动到第一台291处。

然后，参照图5B，为了将位于第一台291的顶表面上的掩模片250吸附到第一吸附构件211，包括第一吸附构件211的第一载具213朝第一台291下降90度。

结合到第一载具213的第一板214使第一载具213下降90度和升起90度。

然后，参照图5C，在利用形成在第一吸附构件211的前表面上的多个吸附装置212(见图5A)将掩模片250真空吸引到第一吸附构件211之后，第一载具213再升起90度。

当掩模片250被吸附到第一吸附构件211并且第一载具213升起90度时，为了将吸附有掩模片250的第一载具213传输到位于掩模制造区中的拉紧装置225，第一载具213移动到掩模片竖直传输区210的后部。

为了将吸附有掩模片250的第一载具213移动到掩模片竖直传输区210的后部，用第二电机216驱动第二滚珠螺杆218来通过第二导轨242将第一载具213移动到第一板214的后表面。

然后，参照图5D，吸附有掩模片250的第一载具213被传输到位于掩模制造区中的拉紧装置225。

第一滚珠螺杆217被第一电机215驱动以沿第一导轨241移动第一板214。因此，掩模片250可位于其中形成有多个夹具222的拉紧装置225的后表面。然后，第二滚珠螺杆218被第二电机216驱动，以通过第二导轨242使吸附到包括在第一载具213中的第一吸附构件211的掩模片250位于多个夹具222之间。

然后，包括多个夹具222的拉紧装置225从框架221的周围通过形成在框架221的后表面上的圆柱移动到框架221的内部。当多个夹具222通过圆柱位于掩模片250的边缘时，掩模片250位于多个夹具222之间以将掩模片250固定在适当的位置。

当掩模片250通过多个夹具222固定在适当的位置时，掩模片250与吸附有掩模片250的第一吸附构件211分离。

然后，利用拉紧件223朝框架221拉紧通过多个夹具222固定在适当位置的掩模片250。这样，掩模片250可被夹具222平坦地固定在适当的位置。

当掩模片250被多个夹具222固定在适当的位置时，利用第二电机216将第一载具213移动到拉紧装置225的后表面，利用第三电机239使包括第二吸附构件231的第二载具237朝第二台291移动，掩模框260放置在第二台292上。

然后，参照图5E，为了将掩模框260吸附到第二吸附构件231，包括第二吸附构件231的第二载具237向其上侧放置有掩模框260的第二台292下降90度。

结合到第二载具237的第二板238使第二载具237下降90度和升起90度。

现在，参照图5F，在第二吸附构件231下降90度之后，当掩模框260被吸附到掩模框吸引装置235时，第二载具237再升起90度。

然后，利用形成在第二吸附构件231的周围的多个掩模框固定块236来防止掩模框260与掩模框吸引装置235分离或防止掩模框260移动。即，当掩模框260被吸附到掩模框吸引装置235时，设置在掩模框固定块236中的圆柱突出到掩模框固定块236的外部，从而防止掩模框260与掩模框吸引装置235分离或防止掩模框260移动。

当掩模框260吸附到第二吸附构件231且第二载具237升起90度时，吸附有掩模框260的第二载具237移动到掩模框竖直传输区230的后部。

为了将吸附有掩模框260的第二载具237移动到掩模框竖直传输区230的后部，第三滚珠螺杆245被第三电机239驱动，以沿第三导轨243移动第二载具237。

然后，参照图5G，利用第一电机215将第二载具237移动到包括在拉紧装置225中的夹具222的后表面。包括第一吸附构件211的第一载具213与第二载具237彼此互锁，从而当第二载具237移动时，第一载具213被移动到掩模片竖直传输区。

然后，第二载具237通过第三电机239移动到拉紧装置225，以将由多个夹具222固定在适当的位置的掩模片250和被第二吸附构件231吸附的掩模框260结合。

掩模框260具有阶差以防止掩模框260结合到用于支撑掩模片250的夹具222。即，根据本发明，如图6所示，掩模框260的结合到通过夹具222固定在适当的位置的掩模片250的界面270形成在夹具222之中，以防止掩模片250由于夹具222而与掩模框260分离。

此外，形成在玻璃基底233上的对准标记234位于形成在掩模片250中的对准孔250的中心，以容易地将掩模框260和掩模片250对准，其中，玻璃基底233设置在掩模框260的后表面上。

此外，磁体(未示出)设置在掩模片250的前表面上，以完全消除掩模片250和掩模框260之间的空间。在由金属形成的掩模框260和磁体之间产生磁力以消除掩模片250和掩模框260之间的空间。

当掩模片250和掩模框260通过上述方法对准时，掩模片250和掩模框260之间的空间被消除，以通过焊接机224将掩模片250和掩模框260焊接。

对掩模片250和掩模框260的界面270执行焊接，并且焊接可以是点焊。可以从邻近掩模片250的界面270到邻近掩模框260的界面270执行点焊(如图5G中的箭头所示)，以将掩模框260和掩模片250由于在焊接过程中产生的热膨胀导致的变化最小化。

参照图5H，通过上述方法制造了掩模片250和掩模框260彼此集成的所得的掩模290。此外，当掩模片250和掩模框260被彼此焊接时，设置在掩模框固定块236中的圆柱突出到外部以防止掩模290从第二吸附构件231分离。

最后，当掩模片250和掩模框260被彼此焊接以制造掩模290时，掩模片250与将掩模片250固定在适当的位置的夹具222分离。然后，第二载具237通过第三电机239移动到拉紧装置225的后表面。

然后，第二载具237被移动到掩模框竖直传输区230。此外，第二载具237通过第三电机239被传输到掩模框竖直传输区的前部。然后，当第二载具237移动到掩模框竖直传输区230时，从掩模框固定块236突出的圆柱移动到掩模框固定块236内部。

然后，掩模290通过设置在掩模框竖直传输区230的下端中的框架装载器280与掩模框吸引装置235分离。最后，传输掩模290离开垂直沉积掩模制造设备。

除了拉紧装置具有修改的结构之外，图7中示出的实施例与参照图3和图4描述的第一实施例和第二实施例相同。因此，为了方便起见，将省略对与图3和图4的组件相同的组件的描述。

参照图7，根据本发明第三实施例的垂直沉积掩模制造设备的拉紧装置325还包括在多个用于支撑掩模片的夹具322和拉紧件323之间的用于测量夹具322的拉力的拉力测量器324。

拉力测量器324测量从拉紧件323供应的气动压力产生的拉力，以测量传递到夹具322的拉力。

拉力测量器324包括用于感测夹具322的拉力变化的压电传感器(未示出)以及当测量的夹具的拉力与预设值不同时用于控制供应到拉紧件323的气动压力的电-气调节器(未示出)。

即，当夹具322的拉力变化时，嵌入拉力测量器324中的压电传感器引起变化，使得可通过产生的电流了解拉力的大小。

当通过拉力测量器324测量的夹具322的拉力与设定值不同时，控制从电-气调节器供应到拉紧件323的气动压力，从而可控制夹具322的拉力。

例如，当夹具322的拉力小于设定的拉力时，增大供应到拉紧件323的气动压力以增大拉力。当夹具322的拉力大于设定的拉力时，减小供应到拉紧件323的气动压力以减小拉力。

本领域技术人员所公知的是，由上述根据第一实施例至第三实施例的垂直沉积掩模制造设备制造的掩模可应用到有机发光显示器(OLED)、液晶显示器(LCD)、场发射显示器(FED)、等离子体显示面板(PDP)、电致发光显示器(ELD)和真空荧光显示器(VFD)。

根据本发明，通过垂直沉积设备制造掩模片和掩模框，从而可防止掩模片和掩模框下垂。

此外，当掩模片和掩模框竖直放置时，为了防止掩模片弯曲，掩模片被拉紧以被固定在适当的位置，从而可制造应用到大面积基底的大面积掩模而不会产生弯曲。

此外，当利用根据本发明制造的掩模在基底上形成薄膜时，可提高生产率。

虽然已经示出并描述了本发明的示例性实施例，但是本领域技术人员应该理解，在不脱离本发明的原理和精神的情况下，可对这些实施例进行改变，本发明的范围在权利要求及其等同物中限定。

Claims

1、一种用于制造垂直沉积掩模的设备，所述设备包括：

拉紧装置，用于拉紧掩模片，所述拉紧装置包括多个夹具和多个拉紧件，所述多个夹具用于支撑掩模片，所述多个拉紧件结合到所述多个夹具，用于向所述多个夹具施加拉力并用于通过所述多个夹具将掩模片平坦地固定在适当的位置；

焊接机，用于将掩模框附着到掩模片的周围。

2、如权利要求1所述的用于制造垂直沉积掩模的设备，还包括在夹具和拉紧件之间的用于测量夹具的拉力的拉力测量器。

3、如权利要求2所述的用于制造垂直沉积掩模的设备，其中，所述拉力测量器包括：

压电传感器，用于感测夹具的拉力变化；

电-气调节器，当测量的夹具的拉力与预设值不同时，所述电-气调节器用于控制供应到拉紧件的气动压力。

4、如权利要求1所述的用于制造垂直沉积掩模的设备，还包括用于将直立的掩模片传输到拉紧装置的掩模片竖直传输装置，

其中，所述掩模片竖直传输装置包括：

第一载具，用于传输掩模片；

第一吸附构件，位于第一载具的一侧以吸附掩模片；

第一导轨，用于沿第一方向朝拉紧装置移动第一载具；

第一板，结合在第一载具和第一导轨之间，用于使第一载具下降90度和升起90度。

5、如权利要求4所述的用于制造垂直沉积掩模的设备，其中，掩模片竖直传输装置还包括用于使第一载具沿与第一方向垂直的第二方向朝拉紧装置移动的第二导轨。

6、如权利要求4所述的用于制造垂直沉积掩模的设备，其中，用于吸附掩模片的至少一个吸附孔在第一吸附构件的表面上。

7、如权利要求4所述的用于制造垂直沉积掩模的设备，还包括结合构件，所述结合构件用于将掩模片竖直传输装置和掩模框竖直传输装置彼此结合，并用于使掩模片竖直传输装置和掩模框竖直传输装置联动地移动。

8、如权利要求1所述的用于制造垂直沉积掩模的设备，还包括用于将直立的掩模框传输到拉紧装置的掩模框竖直传输装置，

其中，所述掩模框竖直传输装置包括：

第二载具，用于传输掩模框；

第二吸附构件，位于第二载具的一侧以吸附掩模框；

第一导轨，用于沿与第一方向相反的第二方向朝拉紧装置移动第二载具；

第二板，结合在第二载具和第一导轨之间，用于使第二载具下降90度和升起90度。

9、如权利要求8所述的用于制造垂直沉积掩模的设备，其中，掩模框竖直传输装置还包括用于使第二载具沿与第一方向和第二方向垂直的第三方向朝拉紧装置移动的第三导轨。

10、如权利要求8所述的用于制造垂直沉积掩模的设备，其中，第一导轨是引导件，所述引导件具有一对彼此平行地从掩模片竖直传输装置的下表面向掩模框竖直传输装置的下表面延伸的槽。

11、如权利要求8所述的用于制造垂直沉积掩模的设备，其中，第二吸附构件包括：

至少一个吸附孔，用于吸附玻璃基底；

掩模框吸引装置，用于将掩模框吸附到玻璃基底的周围。

12、如权利要求11所述的用于制造垂直沉积掩模的设备，其中，用于将掩模片和掩模框对准的至少一个对准标记在玻璃基底上。

13、如权利要求8所述的用于制造垂直沉积掩模的设备，还包括结合构件，所述结合构件用于将掩模片竖直传输装置和掩模框竖直传输装置彼此结合，并用于使掩模片竖直传输装置和掩模框竖直传输装置联动地移动。

14、如权利要求11所述的用于制造垂直沉积掩模的设备，其中，还在第二吸附构件中设置多个掩模框固定块，以防止吸附到掩模框吸引装置的掩模框分离。

15、如权利要求14所述的用于制造垂直沉积掩模的设备，其中，朝掩模框固定块的外部突出的圆柱设置在掩模框固定块中。

16、如权利要求1所述的用于制造垂直沉积掩模的设备，其中，焊接机是激光焊接机。

17、一种制造垂直沉积掩模的方法，所述方法包括以下步骤：

提供邻近掩模片竖直传输区和掩模框竖直传输区的拉紧装置；

使包括第一吸附构件的第一载具位于掩模片竖直传输区中；

使第一载具下降90度，以将位于第一台上的掩模片吸附到第一吸附构件；

使第一载具升起90度，以将吸附到第一吸附构件的掩模片传输到位于掩模制造区中的拉紧装置的表面；

通过拉紧装置拉紧掩模片以将掩模片固定在适当的位置；

为了将掩模框附着到掩模片的表面，将包括第二吸附构件的第二载具传输到掩模框竖直传输区；

使第二载具下降90度，以将位于第二台上的掩模框吸附到第二吸附构件；

使第二载具升起90度，以将吸附到第二吸附构件的掩模框传输到位于掩模制造区中的掩模片的表面；

将掩模片和传输到掩模片的表面的掩模框的界面焊接。

18、如权利要求17所述的方法，其中，在通过多个夹具固定掩模片的边缘之后，利用拉紧装置的拉紧件来执行通过拉紧装置拉紧掩模片的步骤。

19、一种用于制造垂直沉积掩模的设备，所述设备包括：

拉紧装置，用于拉紧掩模片；

掩模片竖直传输装置，用于将直立的掩模片传输到所述拉紧装置；

掩模框竖直传输装置，用于将直立的掩模框传输到所述拉紧装置；

焊接机，用于将掩模片和附着到掩模片周围的掩模框彼此结合，

所述拉紧装置包括多个夹具和多个拉紧件，所述多个夹具用于支撑掩模片，所述多个拉紧件结合到所述多个夹具，用于向所述多个夹具施加拉力并用于通过所述多个夹具将掩模片平坦地固定在适当的位置，

所述掩模片竖直传输装置包括用于传输掩模片的第一载具、位于第一载具一侧以吸附掩模片的第一吸附构件、用于使第一载具沿第一方向朝拉紧装置移动的第一导轨以及结合在第一载具和第一导轨之间以使第一载具下降90度和升起90度的第一板，

所述掩模框竖直传输装置包括用于传输掩模框的第二载具、位于第二载具一侧以吸附掩模框的第二吸附构件、用于使第二载具沿与第一方向相反的第二方向朝拉紧装置移动的第一导轨以及结合在第二载具和第一导轨之间以使第二载具下降90度和升起90度的第二板。