TWI378864B - - Google Patents
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Description
1378864 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種積層體及該積層體之製造方法,該積 層體例如係於單層或多層之印刷佈線板等基板上形成有絕 緣性之硬化體層者,更詳細而言,該積層體例如係包含表 面形成有金屬層之硬化體層者。 【先前技術】 多層印刷佈線板包含積層的複教層之絕緣層、及配置於 該絕緣層間之圖案狀之金屬佈線。先前,為了形成該絕緣 層,係使用各種熱硬化性樹脂組合物。 例如於下述專利文獻1中揭示有一種熱硬化性樹脂組合 物’其係包含熱硬化性樹脂、硬化劑、以及利用咪唑矽烷 實施過表面處理之填料。上述填料之表面存在咪唑基。該 咪唑基係作為硬化觸媒及反應起點而發揮作用。因此,可 提高上述熱硬化性樹脂組合物之硬化物之強度。又,專利 文獻1中記載,熱硬化性樹脂組合物對於接著劑、密封材 料、塗料、積層材料及成形材料等需要密著性之用途十分 有用。 於下述專利文獻2中揭示有一種環氧樹脂組合物,其 包含環氧樹脂、盼樹脂、硬化劑、無機填充材料、以及 直接鍵結有Si原子及N原子之咪切烧。於該專利文愈 中,记載了該環氧樹脂組合物之硬化物對半導體晶片之 著㈣交高,以及由於硬化物之耐濕性較高,故而即使於] 回焊(Infrared Ray Refl()w,紅外線回谭)後硬化物亦難 143077-1010223.doc 自半導體晶片等上剝離。 又於下述專利文獻3中揭示有一種環氧樹脂組合物, 其係包含環氧樹脂、硬化劑、以及二氧切。上述二氧化 耗藉由咪対烧實施過處理,且上述二氧㈣之平均粒 位為5 μΜ下。藉由使上述環氧樹脂組合物硬化,且繼而 Μ粗化處理’則即使不對大量之樹脂進行㈣,亦可容 易地使二氧切脫離。因此,可減小硬化物表面之表面粗 糙度。進而,可提高硬化物與鍍銅之接著性。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本專利特開平9-169871號公報 [專利文獻2]日本專利特開2002-128872號公報 [專利文獻3]霤〇2007/032424號公報 [專利文獻1]日本專利特開2003-000000號公報 【發明内容】 [發明所欲解決之問題] 存在於使用如上述之熱硬化性樹脂組合物之硬化體的表 面形成銅等之金屬佈線的情形。近年來,形成於此種硬化 體表面之佈線不斷微細化。即,表示佈線之寬度方向之尺 寸(L)、與未形成有佈線之部分的寬度方向之尺寸(S)的L/S 正進一步變小。因此,業界正在研究進一步減小硬化體之 線膨脹係數。先前,為了減小硬化體之線膨脹係數,通常 係於熱硬化性樹脂組合物中調配較多的二氧化矽等無機填 充材料。 143077-1010223.doc 1378864 材較多的無機填充材料之情形時,無機填充 4易凝集。因此,有時於實施粗化處理時,凝集之益 機填充材料成塊脫離’導致表面粗糙度變大。 、’”、 專利文獻I〜3所記載之熱硬化性樹脂組合物中,含有對
等無機填充材料利用咪唾錢實施過表面 處理之物質。即使使用此種經表面處理之物質,亦存在經 粗化處理之硬化體表面的表面粗糙度不減小之情形。進 而’即使可使硬化體表面之表面粗糙度減小但於對硬化 體實施金屬料之情料,硬化體與鑛敷金屬之粗化接著 強度亦並不充分。 本發明之目的在於提供一種積層體及該積層體之製造方 法,上述積層體係包含硬化體層者,其可減小經粗化處理 之硬化體層表面之表面粗糙度,進而於經粗化處理之硬化 體層表面形成有金屬鍍敷層等金屬層之情形時,可提高硬 化體層與金屬層之接著強度。 [解決問題之技術手段] 根據本發明之廣泛之態樣,係提供一種積層體,其係包 含基板、與積層於該基板上之硬化體層者,上述硬化體層 係藉由於將樹脂薄膜層磨於基板上後,於1 〇〇〜2 下使 上述樹脂薄膜預硬化而形成預硬化體層,且於55〜80。〇下 對該預硬化體層之表面實施粗化處理而形成,上述樹脂薄 膜係由如下樹脂組合物所形成,該樹脂組合物含有環氧樹 脂、硬化劑、硬化促進劑、以及對平均粒徑為0.05〜1.5 μπι 之無機填充材料100重量份利用矽烷偶合劑0.5〜3.5重量份 143077-1010223.doc 1378864 實施表面處理之表面處理物質,且上述環氧樹脂、上述硬 化劑、上述硬化促進劑及上述表面處理物質之總計ι〇〇重 量%中,上述表面處理物質之含量為10〜80重量%之範圍 内,並且,上述矽烷偶合劑含有可與上述環氧樹脂或上述 硬化劑反應之官能基,該官能基為環氧基、咪唑基或胺 基。 於本發明之積層體之某一特定態樣中,上述硬化劑係選 自由具有聯苯結構之酚化合物 '具有萘結構之酚化合物、 具有二環戊二烯結構之酚化合物、具有胺基三畊結構之酚 化合物、活性酯化合物及氰酸酯樹脂所組成群中之至少一 種。 於本發明之積層體之其他特定態樣中,上述樹脂組合物 中之咪唑矽烧化合物之含量相對於上述環氧樹脂及上述硬 化劑之總計1〇〇重量份係為0.01〜3重量份之範圍内。 於本發明之積層體之其他特定態樣中’經粗化處理之上 述硬化體層之表面的算術平均粗糙度Rag3〇〇 nm以下,且 十點平均粗糙度RZ為3 μπι以下。 於本發明之積層體之其他特定態樣中,在對上述樹脂薄 膜進行上述預硬化之後' 且上述粗化處理之前,於 50〜8〇°〇下對上述預硬化體實施膨潤處理。 根據本發明之其他廣泛之態樣’係提供一種積層體之製 造方法’該積層體係包含基板、與積層於該基板上之硬化 體層者,該積層體之製造方法係包括如下步驟:將用以形 成上述硬化體層之樹脂薄膜層壓於上述基板上;於 143077-1010223.doc 1378864 100〜200 c下使層壓於上述基板上之上述樹脂薄膜預硬 化’而形成預硬化體層;以及於55〜8〇艺下對上述預硬化 體層之表面實施粗化處理,形成經粗化處理之硬化體層; 並且,作為上述樹脂薄膜,係使用由如下樹脂組合物所形 成之樹脂薄膜,該樹脂組合物含有環氧樹脂、硬化劑、硬 化促進劑、以及對平均粒徑為0 054 5 pm之無機填充材料 100重量份利用矽烷偶合劑0 5〜3 5重量份實施表面處理之 表面處理物質,且上述環氧樹脂、上述硬化劑、上述硬化
促進劑及上述表面處理物質之總計100重量%中,上述表 面處理物質之含量為10〜80重4%之範圍内,並且,作為 上述石夕炫偶合劑,係、使用含有可與上述環氧樹脂或上述硬 化劑反應之线基’且該官能基為環氧基 '㈣基或胺基 之矽烷偶合劑。 於本發明之積層體之製造方法的某一特定態樣中,作為 上述硬化劑’係制選自由具有聯苯結構之心合物、具
有萘結構之紛化合物、具有二環紅烯結狀酴化合物、 t有胺基三唯結構之紛化合物、活性醋化合物及氰酸酿樹 脂所組成群令之至少一種。 於本發以積層體之製造方法的其他特定態樣中,作為 ^樹脂組合物,係使用相對於上述環氧樹脂及上述硬化 =料⑽重量份,^魏化合物之含量為m 量伤之範圍内的樹脂組合物。 粗之積層體之製造方法的其他特定態樣中,上述 粗化處理之㈣中之粗㈣理之時間為5〜30分鐘。 143077-1 〇 10223.doc 於本發明之積層體之製造方法的其他特定態樣中,在上 述預硬化之步驟之後、且上述粗化處理之步驟之前,進而 ^括如下步驟:於5。〜80。口 ’對上述預硬化體層之表面 實施膨潤處理。 於本發明之積層體之製造方法的進而其他特定態樣中, 上述膨潤處理之步驟令之膨潤處理之時間為5〜3〇分鐘。 於本發明之積層體之製造方法的進而其他特定之態樣 中上述層壓之步驟中之層壓溫度為7〇〜13〇。匸,且層壓壓 力為 0.1 〜2.〇 MPa。 [發明之效果] 於本發明之積層體及積層體之製造方法中,由於係使用 如下樹脂組合物而形成硬化體層,亦即該樹脂組合物除含 有環氧樹脂、硬化劑及硬化促進劑以外,還以上述特定之 含量而含有對平均粒徑為0.05〜1.5 μπι之無機填充材料利用 上述特定量之矽烷偶合劑實施表面處理之表面處理物質, 且石夕烧偶合劑含有可與環氧樹脂或硬化劑反應之上述特定 之官能基,進而,形成硬化體層時之預硬化溫度為 100〜200°C,且粗化處理之溫度為55〜80。(:,因此可使經粗 化處理之硬化體層表面之表面粗糙度減小。進而,於經粗 化處理之硬化體層表面形成有金屬鑛敷層等金屬層之情形 時’可提高硬化體與金屬層之接著強度。 【實施方式】 本案發明者等人發現,藉由使用具有如下組成之樹脂組 合物而形成硬化體層,即該樹脂組合物除含有環氧樹脂、 I43077-I010223.doc 硬化劑及硬化促進劑以外,還以上述特定之含量而含有對 上述平均粒徑為0.05^.5 μπΐ2無機填充材料利用上述特定 量之上述石夕烷偶合劑實施表面處理之表面處理物質,並 且’將形成硬化體層時之預硬化溫度設為1〇〇〜2〇〇<>c,且 將粗化處理之溫度設為55〜8(TC,可使經粗化處理之硬化 體層表面之表面粗糙度減小,並可提高硬化體層與金屬層 之接著強度,從而完成本發明。 本案發明者等人發現,以無機填充劑之平均粒徑來定義 的樹脂成分-表面處理物質之界面面積、與粗化處理之溫 度具有明確之關聯性,藉由具備本發明之上述構成,可高 水準地同時實現較小之表面粗糙度與較高之接著強度。粗 化處理之溫度與對樹脂成分之蝕刻程度相關,藉由將該蝕 刻程度與無機填充材料之平均粒徑設計於最合適之範圍 内,可實現先前難以實現的較小之表面粗糙度與較高之接 著強度之並存。 業者涊為於實施粗化處理時,粗化液自預硬化體層之表 面的上述表面處理物質與樹脂成分之界面滲透,而將表面 處理物質與樹脂成分之界面附近的樹脂成分粗化,藉此表 面處理物質脫離而形成粗糖面。 於上述表面處理物質與樹脂成分之界面,上述矽烷偶合 劑之上述宫能基對表面處理物質之表面附近的樹脂成分產 生作用,抑制表面處理物質之表面附近的樹脂成分過度粗 化。因此,藉由使用上述表面處理物質,可容易地控制表 面粗縫度。 143077-1010223.doc 丄川864 由於上述表面處理物質脫離之部分附近的樹脂成分未過 度粗化(劣化),因此於硬化體層之表面形成金屬層之情形 時’亦可期待較高之接著強度。 業者認為於實施粗化處理時,粗化液係自預硬化體層之 表面的表面處理物質與樹脂之界面進行滲透。因此表面 處理物質之界面面積較重要,使用平均粒徑為0.05〜1.5 μιη 之無機填充材料時,於表面處理物質與樹脂成分之界面粗 化液容易滲透。於進行膨潤處理之情形時,膨潤液容易滲 透。 以下,首先對用以形成本發明之積層體之硬化體層的樹 脂組合物進行說明。 用以形成上述硬化體層之樹脂組合物係含有:環氧樹 脂、硬化劑、硬化促進劑、以及對平均粒徑為〇剔5㈣ 之無機填充材料100重量份利用矽烷偶合劑〇 5〜3 5重量份 實施表面處理之表面處理物質。於上述環氧樹脂、上述硬 化劑、上述硬化促進劑及上述表面處理物質之總計⑽重 量Μ 〜80重量%之範圍内而含有上述表面處理物 質。上述梦烧偶合劑含有可與上述環氧樹脂或上述硬化劑 反應之官能基。該官能基為環氧基、咪唑基或胺基。 (環氧樹脂) ι 上述樹脂組合物中所含之環氧樹脂係含有至少一個環氧 基⑶氧乙烧環)之有機化合物。上述環氧樹脂之每ι分子 中,環氧基之數為1以上。該環氧基之數較好的是2以上。 作為上述環氧樹脂,可使用先前公知之環氧樹脂。環氧 143077-1 〇 10223.doc -10· 1378864 樹脂可僅使用一種,亦可併用氐链u 勺 種上。上述環氧樹脂亦 匕含该氧樹脂之衍生物及環氧樹脂之氫化物。 作為上述環氧樹脂,例如可㈣:芳香族環氧樹脂 (匕 1)、脂環族環氧樹脂(2)、脂肪族環氧樹脂(3)、縮水甘油 知型環氧樹脂⑷、縮水甘油胺型環氧樹脂⑴、縮水甘油 基丙稀酸型環氧樹脂(6)或聚醋型環氧樹脂⑺等。 #作為上述芳香族環氧樹脂⑴,例如可列舉:雙酚型環 氧樹脂、或酚醛清漆型環氧樹脂等。 衣 作為上述雙酴型環氧樹脂’例如可列舉:雙㈣型環氧 樹脂、雙紛F型環氧樹脂、雙紛AD型環氧樹脂或_ 環氧樹脂等。 作為上述㈣清漆型環氧樹脂,可列舉:㈣㈣清漆 型環氧樹脂、或甲酚酚醛清漆型環氧樹脂等。 進而,作為上述芳香族環氧樹脂⑴,可使用主鍵中人 有蔡、伸萘基越、聯苯、f 1、叫或㈣等芳香族^ 之環氧樹脂等…可使用十朵_笨酚共縮聚環氧樹心 苯紛芳烧基型環氧樹脂等。進而,可使用包含三紛基甲貌 二縮水甘油醚等芳香族化合物之環氧樹脂等。 4 作為上述脂環族環氧樹脂⑺,例如可列舉:3,4_環氧環 己基甲基-3,4-環氧環己基甲酸酯、3,4_環氧基_2_甲基枣: 基甲基-3,4-環氧基_2_甲基環己基甲酸醋、雙(3,4_環氧環 己基)己二酸自旨、雙(3,4.環氧環己基甲基)己二酸輯 (3,4-環氧基-6- f基環己基甲基)己二酸脂、2_(3,4_環氧聲 己基-5,5-螺-3,4-環氧基)環己綱·間二p号炫、或雙(2,3-環氣 143077-1010223.doc 環戊基)醚等》 作為上述脂環族環氧樹脂(2)之市售品,例如可列舉 化學工業公司製造之商品名「EHPE-3150」(軟化溫 度為71°C )等。 作為上述脂肪族環氧樹脂(3),例如可列舉:新戊二醇 之二縮水甘油醚、1,4_丁二醇之二縮水甘油醚、丨,6-已二 醇之二縮水甘油醚、丙三醇之三縮水甘油醚、三羥曱基丙 烷之三縮水甘油醚、聚乙二醇之二縮水甘油醚 '聚丙二醇 之二縮水甘油醚、或長鏈多元醇之聚縮水甘油醚等。 上述長鏈多元醇較好的是包含聚氧烷二醇或聚四亞甲基 醚醇又,上述聚氡烷二醇之伸烧基之碳數較好的是在 2〜9之範圍内,更好的是在2〜4之範圍内。 作為上述縮水甘油酯型環氧樹脂(4),例如可列舉:鄰 苯二曱酸二縮水甘油酯、四氫鄰苯二曱酸二縮水甘油酯、 六氫鄰笨二甲酸二縮水甘油酯、二縮水甘油基-對羥基苯 甲酸 '水揚酸之縮水甘油醚_縮水甘油酯或二聚酸縮水甘 油S旨等。 作為上述縮水甘油胺型環氧樹脂(5),例如可列舉:三 縮水甘油基異氰尿酸酯、環狀伸烷基脲之N,N,_二縮水甘 油基衍生物、對胺基笨酚之N,N,〇•三縮水甘油基衍生物、 或間胺基笨酚之Ν,Ν,0-三縮水甘油基衍生物等。 作為上述缩水甘油基丙烯酸型環氧樹脂(6),例如可列 舉(甲基)丙烯酸縮水甘油酯與自由基聚合性單體之共聚物 等。作為上述自由基聚合性單體,可列舉乙烯 '乙酸乙烯 143077-1010223.doc 12 1378864 醋或(甲基)丙稀酸酯等。 之=二二型環氧樹脂⑺,例如可列舉含有環氧基 之U曰樹月9等。該聚醋樹脂較好的是每 以上之環氧基。 甲3有兩個 =上述環氧樹脂’除上述⑴〜⑺之環氧樹脂以外亦 可使用以下所示之環氧樹脂(8)〜⑴)。 作為上述環氧樹脂⑻’例如可列舉··將以共扼二稀化 合物作為主體的(共)聚合物之碳-碳雙鍵環氧化而得之化合 =或者將以共輛二稀化合物作為主體的(共)聚合物之部 /刀氫化物之碳.碳雙鍵環氧化而得之化合物等。作為上述 環氧樹脂(8)之具體例,可列舉環氧化聚丁二稀或環氧化二 環戊二烯等。 作為上述環氧樹脂(9),可列舉如下之化合物等,該化 合物係於同-分子内含有以乙歸基芳香族化合物作為主體 之聚合物嵌段、與以共軛二缔化合物作為主體之聚合物嵌 段或其部分氫化物之聚合物嵌段的嵌段共聚物,且碳·碳 雙鍵經環氧化者1為此種化合物,例如可列舉環氧化 sBS(Styrene_Butadiene_Styrene,苯乙稀·丁二稀苯乙 等。 π ) 作為上述環氧樹脂(10) ’例如可列舉:於上述⑴〜⑼之 環氧樹脂之結構中導人胺基甲酸賴而得之胺基甲酸賴改 質環氧樹脂、或者導入聚己内酯鍵而得之聚己内酯改質产 氧樹脂等。 * 作為上述環氧樹脂(11),卩列舉含有二芳基第骨架之環 143077-10i0223.doc •13- 1378864 氧樹脂等。 作為上述環氧樹脂(11)之市售品,例如可列舉大阪瓦斯 化學(Osaka Gas Chemicals)公司製造之商品名Γ 〇n_c〇at EX系列」等。 又,作為上述環氧樹脂,可較好地使用可撓性環氧樹 脂。藉由使用可撓性環氧樹脂,可提高硬化體之柔軟性。 作為上述可撓性環氧樹脂,可列舉:聚乙二醇之二縮水 甘油醚、聚丙二醇之二縮水甘油醚、長鏈多元醇之聚縮水 甘油醚 '(甲基)丙烯酸縮水甘油酯與自由基聚合性單體之 共聚物、含有環氧基之聚酯樹脂、將以共軛二烯化合物作 為主體之(共)聚合物的碳-碳雙鍵環氧化而得之化合物、將 以共輕二烯化合物作為主體之(共)聚合物的部分氫化物之 碳-碳雙鍵環氧化而得之化合物、胺基曱酸酯改質環氧樹 脂、或聚己内酯改質環氧樹脂等。 進而,作為上述可撓性環氧樹脂,可列舉:於二聚酸或 二聚酸之衍生物之分子内導入環氧基而得之二聚酸改質環 氧樹脂、或者於橡膠成分之分子内導入環氧基而得之橡膠 改質環氧樹脂等。 作為上述橡勝成分’可列舉NBR(acrylonitrile butadiene rubber’ 丁 腈橡膠)、CTBN(carboxyl-terminated. butadiene acrylonitrile rubber,端羧基丁腈橡膠)、聚丁二烯或丙烯 酸系橡膠等。 上述可撓性環氧樹脂較好的是含有丁二烯骨架。藉由使 用含有丁二烯骨架之可撓性環氧樹脂,可更進一步提高硬 143077-1010223.doc -14- 化體之柔軟性。又,可遍及自低溫區域至高溫區域為止之 較廣之溫度範圍地提高硬化體之延展性。 作為上述環氧樹脂’亦可使用:聯苯型環氧樹脂、萘型 環氧樹脂、g型環氧樹脂、金剛炫型環氧樹脂或三縮水甘 油基異氰尿酸酯。作為上述聯苯型環氧樹脂,可列舉:將 齡化合物之—部分㈣用含環氧基之基取代,並將剩餘之 經基用除ϋ基以外之氫等取代基取代的化合物等。藉由使 用聯本型環氧樹脂、萘型環氧樹脂、蒽型環氧樹脂或金剛 烧型環讀腊等具有剛直之環結構的環氧樹脂可降低硬 =體之線㈣係m由使用三縮水甘油基異氛尿酸 曰等夕g此且含有二畊環之環氧樹脂,可有效地降低硬化 體之線膨脹係數。 上述環氧樹脂之環氧當量較好的是在100〜5 之範圍 内。若上述環氧當量未達100,則環氧樹脂變得容易進行 反應,因此存在樹脂組合物及使樹脂組合物預硬化而成之 預硬化體之保存穩定性顯著下降的情形。若上述環氧當量 超過50G,則環氧樹脂變得難以進行反應,而存在樹脂組 合物無法充分地進行硬化之情形。 較好的是上述環氧樹脂、上述硬化劑、上述硬化促進劑 及上述表面處理物質之總計1〇〇重量%中的15重量%〜8〇重 量°/〇於25eC下為液狀。更好的是上述環氧樹脂、上述硬化 劑上述硬化促進劑及上述表面處理物質之總計1 〇〇重量 /〇中的25重量%以上於25〇c下為液狀。進而更好的是樹脂 組合物中的除溶劑以外之成分之總計1〇〇重量%中的2〇重 143077-1010223.doc •15· 1378864 量%以上為液狀。若於25°C下為液狀之成分的含量過少, 則B階段狀態下之樹脂組合物變得較脆,於受到折曲時會 破裂。 上述環氧樹脂較好的是於25°C下為液狀之液狀環氧樹 脂。 作為上述液狀環氧樹脂,可較好地使用雙盼A型環氧樹 脂或雙酚F型環氧樹脂。其中,更好的是雙酚a型環氧樹 上述液狀環氧樹脂之25eC下之黏度較好的是在〇1〜1〇〇 Pa s之範圍内。若上述黏度未達〇1 pa s,則於層壓或壓製 成型時樹脂薄膜容易變薄。若上述黏度超過1〇〇 pa s,則 存在樹脂薄膜之操作性下降之情形。 樹脂之含量未達20重量〇/〇 , 之情形。 於樹脂組合物不含溶劑之情形時,較好的是於樹脂組合 物所包3之成分之總計! 〇〇重量%中,上述環氧樹脂之含 里為20重量/。以上。於樹脂組合物包含溶劑之情形時,較 好的是於樹脂組合物所含的除溶劑以外之成分之總計100 重量”,上述環氧樹脂之含量為㈣量。/。以上。若環氧 則存在樹脂薄膜之操作性下降 (硬化劑) 對於上述樹脂組合物中所包含之上 。作為上述硬化劑,例如可
143077-I010223.doc 3之上述硬化劑並無特別限 列舉:二氰二胺、胺化合 、醯肼化合物、三聚氰胺化 、活性酯化合物、苯并 1378864 井化。4勿順丁稀一醢亞胺化合物、熱潛伏性陽離子聚 觸媒《潛伏性陽離子聚合起始劑或氛酸醋樹脂等。亦 可使用該等硬化劑之衍生物。上述硬化劑可僅使用-種, 亦可併用兩種以上。 作為上述胺化合物,例如可列舉:鍵狀脂肪族胺化合 物、環狀脂昉族胺化合物或芳香族胺化合物 作為上述鏈狀脂肪族胺化合物,例如可列舉:乙二胺、 二乙三胺、三乙四胺、四乙五胺、聚氧丙稀二胺或聚氧丙 稀三胺等。 作為上述環狀脂肪族胺化合物,例如可列舉:蓋二胺、 異佛爾嗣二胺、雙(4_胺基_3_甲基環己基)甲烧、二胺基二 環己基f院、雙(胺基甲基)環己炫、N•胺基乙基"或 3,9-雙(3·胺基丙基)_2,4,81()•四氧雜螺(55)十—烧等。 作為上述芳香族胺化合物,例如可列舉:間二甲苯二 胺、Μ間/對胺基苯基)乙胺、間苯二胺、二胺基二苯基^ 烷、二胺基二苯基硬或α,α.雙(4_胺基苯基)對二異丙 等。 作為上述胺化合物,亦可使用三級胺化合物。作為三級 胺化合物,例如可列舉:Ν,Ν_二甲基哌啩、吡啶、甲基吡 咬、二甲节胺、2·(二甲基胺基甲基)苯齡、…·三^甲 基胺基曱基)笨酚或雜雙環(5,4,〇)十一 m 作為由上述胺化合物合成之化合物之具體例,可列舉: =胺基醯胺化合物、聚胺基醯亞胺化合物或嗣亞胺化合物 143077-1010223.doc 1378864 作為上述聚胺基醯胺化合物,例如可 物與叛酸所合成之化合物等。作 相化合 舉.丁 1 寻作為上返羧酸,例如可列 -田紿 酸、十二烷酸、間茉 -甲酸、對苯二曱酸、二氫間苯二 或六氫間苯二甲酸等。 目虱間本二甲酸 人:為上述聚胺基酿亞胺化合物,例如可列舉由上述胺化 。物與順丁埽二醒亞胺化合物所合成之化合物等上 =丁稀二酿亞胺化合物,例如可列舉二胺基二苯基甲燒 又順丁烯二醯亞胺等。 作為上述酮亞胺化合物 嗣化合物所合成之化合物等了列舉由上述胺化合物與 作為由上述胺化合物合成之化合物之其他具體例,可列 ^由上述胺化合物與環氧化合物、腺化合物、硫膝化合 ::等酸化合物,化合物或丙嫦酸系化合物所合成之化合 作為上述«化合物,例如可列舉:Μ•雙(肼基幾乙 基)-5·異丙基乙内醯膝、7,11·十八碳二稀_U8-二甲酸二 醯肼、二十烷二酸二酸肼或已二酸二醯肼等。 作為上述三聚氰胺化合物,例如可列舉2,4-二胺基_6_乙 稀基-1,3,5 -三》»井等。 作為上述酸酐’例如可列舉:鄰苯二甲酸酐、偏苯三曱 酸酐、均笨四甲酸-鮮 —奸、二苯甲酮四甲酸二酐、乙二醇雙 偏笨三曱酸酐酷、而— 丙一醇三偏苯三甲酸酐酯、曱基四氫苯 二曱酸酐、四氣茉二 —Τ酸酐、耐地酸針、曱基耐地酸酐、 143077-1010223.doc •18· 三烷基四氫笨二甲酸酐、丄一 尹酸野、5-(2,5-二氧四复:本一甲酸野、尹基六氫苯二 孔四虱呋喃基)-3-甲基3卢口 & 甲酸針、三院基四氳苯二f酸野::己稀*二 十二稀基丁二酸軒、聚壬二酸野、聚+酸酐加成物、 酸酐等。 一燒二酸酐或氣菌 作為上述熱潛伏性陽離子 性熱潛伏性陽離子聚人^ 、例如可列舉:離子 聚合觸媒。I觸媒、或非離子性熱潜伏性陽離子 作為上述離子性熱潛伏性陽離子聚合 Γ:!氟化碟或四氣化硼等作為抗衡陰離子之: 现苄土鉍鹽、苄基吡啶鑕鹽或节基銃鹽等。 =為上述非料性熱潛伏性陽離子聚合_,可列舉… 苄土敢酿亞胺或芳香族續酸酯等。 性伏性陽離子聚合觸媒,例如可列舉:離子 聚合起始劑。 μ非離子性光潛伏性陽離子 作為上述離子性光潛伏性陽離子聚合起始劑之具體例, 可列舉鑌鹽類或有機金屬錯合物類等。作為上述鑌鹽類, 例如可列舉:以六氟化錄、六氟化磷或四氣化删等作為抗 衡陰離子之芳香族重氮鑌鹽、芳香族齒鏽鹽或芳香族錄踏 等。作為上述有機金屬錯合物類,例如可列舉:鐵_芳煙 錯合物、二茂鈦錯合物或芳基矽烷醇-鋁錯合物等。 作為上述非離子性光潛伏性陽離子聚合起始劑之具體 例,可列舉:硝基节酿、磺酸衍生物、磷酸6|、苯酚磺酸 •19· I43077-10l0223.doc 酯、重氮萘醌或N-羥基醯亞胺磺酸酯等。 作為上述盼化合物’例如可列舉:苯紛紛酸清漆、鄰甲 酚酚醛清漆 '對甲酚酚醛清漆、第三丁基苯酚酚醛清漆、 二環戊二烯曱酚、苯酚芳烷基樹脂、α-萘酚芳烷基樹脂、 β-萘酚芳烷基樹脂或胺基三畊酚醛清漆樹脂等。作為酚化 合物’亦可使用該等之衍生物。紛化合物可僅使用一種, 亦可併用兩種以上。 作為上述硬化劑’可較好地使用上述酚化合物(酚硬化 劑)。藉由使用上述酚化合物,可提高硬化體之耐熱性及 尺寸穩定性,進而可降低硬化體之吸水性。另外,可使經 粗化處理之硬化體表面之表面粗糙度進一步減小。具體而 言’可使經粗化處理之硬化體表面之算術平均粗糙度Ra& 十點平均粗糙度RZ進一步減小。 作為上述硬化劑,可更好地使用以下述式(1)、下述式 (2)及下述式(3)中之任一者所表示之酚化合物。於此情形 時’可使硬化體表面之表面粗糖度更進一步減小。 [化1]
Ri C}~〇H
…式⑴ Η
I 上述式(1)中’ R1表示甲基或乙基,R2表示氫或烴基,η 表示2〜4之整數。 [化2] 143077-1010223.doc 1378864
式(2) 上述式(2)中,m表示0〜5之整數。 [化3] R3——(CH2)p—R4—(CH2)q—R5一一R6 …式(3) r 上述式(3)中,R3表示以下述式(4a)或下述式(4b)所表示 之基,R4表示以下述式(5a)、下述式(5b)或下述式(5c)所表 示之基,R5表示以下述式(6a)或下述式(6b)所表示之基, R6表示氫或碳數為1〜20之有機基,p表示1〜6之整數,q表 示1〜6之整數,r表示1〜11之整數。 [化4]
OH
(4a) (4b) [化5]
(5b) 0 (5 a) [化6] 143077-1010223.doc •21 ·
(6a)
OH
其中’較好的是係以上述式(3)所表示之酚化合物、且 上述式(3)中之R4為上述式(5 c)所表示之基的具有聯笨結構 之酚化合物。藉由使用該較佳之硬化劑,可進一步提高硬 化體之電特性及耐熱性,且可進一步降低硬化體之線膨脹 係數及吸水性。進而,可進一步提高經歷受熱歷程時之硬 · 化體之尺寸穩定性。 上述硬化劑特別好的是具有以下述式(7)所示之結構之 酚化合物《於此情形時,可進一步提高硬化體之電特性及 耐熱性,且可進一步降低硬化體之線膨脹係數及吸水性。 進而’可進一步提高經歷受熱歷程時之硬化體之尺寸穩定 性0 [化7]
上述式(7)中,s表示1〜11之整數。 作為上述活性酯化合物,例如可列舉芳香族多元酯化合 物等。於使用活性醋化合物之情形時,由於活性醋基與: 氧樹脂反應時不會生成OH基,因此可獲得介電常數及介 電損耗正切優異之硬化體。上述活性酯化合物之具體例^ 143077· 1 〇 丨 0223.doc -22- 1378864 如揭示於曰本專利特開2〇〇2_1265〇號公報中。 作為上述活性酯化合物之市 ㈣、生“ 巾售°〇例如可列舉:〇1(:公 Ί製^商品名「聽刚ΕχΒ945ΐ 6
EXB9460S-65T」等。 EPICLON 述苯并十井化合物,可列舉脂肪族苯并十井樹脂 或方香私本并啰畊樹脂。 作為上述笨并十并化合物之市售品,例如可列舉:四國
化成學工業公司製造之商品名「P-d型笨并十井」及「F_a 型苯并咩畊」等。 作為上述氰酸S旨樹脂,例如可使用:_清漆型氛酸醋 樹脂、雙酚型氰酸酯樹脂及一部分經三畊化之預聚物等。 藉由使用氰酸酯樹脂’可進一步降低硬化體之線膨脹係 數。
上述順丁烯二醯亞胺化合物較好的是選自由以下化合物 所組成群中之至少一種:Ν,Ν·_4,4-二苯基甲烷雙順丁烯二 酿亞胺、Ν,ΝΜ,3-伸苯基雙順丁烯二醯亞胺、Ν,ΝΜ,4^ 苯基雙順丁烯二醯亞胺、1,2_雙(順丁烯二醯亞胺)乙烷、 1,6-雙順丁烯二醯亞胺己烷、雙(3-乙基_5-甲基_4_順丁烯 二酿亞胺苯基)甲烷、聚苯基尹烷順丁烯二醯亞胺、雙酚A 二苯醚雙順丁烯二醯亞胺、4-曱基-1,3-伸苯基雙順丁烯二 酿亞胺、1,6-雙順丁稀二醯亞胺_(2,2,4-三甲基)己炫及該等 之低聚物、以及含有順丁烯二醯亞胺骨架之二胺縮合物。 藉由使用該等較佳之順丁烯二醯亞胺化合物,可進一步降 低硬化體之線膨脹係數,且可進一步提高硬化體之玻璃轉 143077-1010223.doc -23· 1378864 移/JHL度。上述低聚物係藉由使上述順丁稀二酿亞胺化合物 中之單體即順丁烯二醯亞胺化合物縮合而獲得之低聚物。 其中,上述順丁烯二醯亞胺化合物更好的是聚苯基甲烷 順丁烯二醯亞胺及雙順丁烯二醯亞胺低聚物中之至少一 方。上述雙順丁烯二醯亞胺低聚物較好的是使苯基甲烷雙 順丁烯二醯亞胺、與4,4_二胺基二苯基曱烷進行縮合而獲 得之低聚物。藉由使用該等較佳之順丁烯二醯亞胺化合 物,可進一步降低硬化體之線膨脹係數,且可進一步提高 硬化體之玻璃轉移溫度。 作為上述順丁烯二醯亞胺化合物之市售品,可列舉:聚 本基甲烧順丁烯一酿亞胺(大和化成公司製造,商品名 「BMI-2300」)、及雙順丁烯二醯亞胺低聚物(大和化成公 司製造’商品名「DAIMAID-100H」)等。 上述大和化成公司製造之BMI_23〇〇係低分子量之低聚 物。上述大和化成公司製造之DAIMAID-100H係使用二胺 基一笨基甲烧作為胺硬化劑而得之縮合物,其分子量較 尚。於使用上述DAIMAID-100H而非上述BMI-2300之情形 時’可提高硬化體之斷裂強度及斷裂點延展性。 於本發明中’作為上述硬化劑’可較好地使用酚硬化 劑、活性酯化合物及氱酸酯樹脂中之至少一種。 上述酚硬化劑對環氧基表現出較高之反應活性。又,於 使用上述紛硬化劑之情形時,可使硬化體之玻璃轉移溫度 Tg相對較高,且可提高耐化學品性。 於使用活性酯化合物或笨并嘮畊化合物作為上述硬化劑 143077-1010223.doc -24- 之情形時’可獲得介電常數及介電損耗正切更優異之硬化 體。活性化合物較好的是料族多元s旨化合^藉由使 用芳香族多Μ化合物,可獲得介電常數及介電損^正切 更優異之硬化體。 八於使用活性g旨化合物作為上述硬化劑之情料,可獲得 介電常數及介電損耗正切更優異、且微細佈線形成性優異 之效果。因此,例如當使用樹脂組合物作為增層用絕緣材 料時’可期待尤其是高頻區域中之信號傳輸較為優異之效 上述硬化劑較好的是選自由具有聯苯結構之酚化合物、 具有萘結構之酚化合物、具有二環戊二烯結構之酚化合 物、具有胺基二〃井結構之酚化合物、活性酯化合物及氰酸 醋樹脂所組成群中之至少—種。上述硬化劑更好的是選自 由聯苯型酚硬化劑、萘酚硬化劑及活性酯化合物所組成群 中之至少一種,特別好的是聯苯型酚硬化劑。藉由使用該 等較佳之硬化劑,在實施粗化處理時,樹脂成分更加不容 易爻到不良影響β具體而言,當實施粗化處理時,可使上 述表面處理物質選擇性地脫離,而不會使硬化體之表面變 得過粗,從而形成微細之孔β因此,可於硬化體之表面形 成表面粗縫度非常小的微細之凹凸。 上述紛硬化劑較好的是丨分子中含有2個以上羥基。於此 情形時,可提高硬化體之強度或耐熱性。 上述硬化劑之重量平均分子量、尤其是上述酚硬化劑之 重量平均分子量較好的是在1000〜20000之範圍内。於上述 143077-1010223.doc •25- 1378864 重量平均分子量在上述範圍内之情形時,硬化劑在溶劑中 之溶解性提高,且可提高硬化體之耐熱性及強度。 上述重量平均分子量係利用凝膠滲透層析法(GPC,Gel Permeation Chromatography)加以測定且經聚苯乙烯換算之 重量平均分子量。 上述硬化劑之軟化點、尤其是上述酚硬化劑之軟化點較 好的是50°C以上《若上述軟化點未達5〇β(:,則存在硬化劑 之分子量變小之傾向,因此有時無法充分地提高硬化體之 性能。上述軟化點之較佳上限為1〇〇r。若軟化點超過 100 C,則存在於製作樹脂組合物時硬化劑不溶解於溶劑 之情形。 上述環氧樹脂、上述硬化劑、上述硬化促進劑及上述表 面處理物質之總計HK)重量財,上述環氧樹脂與上述硬 化劑之總含量的較佳下限為4〇重量%以上。若上述環氧樹 脂與上述硬化劑之總含量過少,則將樹脂組合物塗佈於基 材薄膜上來形成樹脂薄膜之情形肖,樹月旨薄膜之操作性下 降。若樹脂薄膜之操作性下降,則樹脂薄膜於發生彎曲之 且樹脂薄膜之碎屑容易附著於製造裝
90重量%,更佳之上限為8〇重量%。 上述環氧_相料上述硬域之靠比(環氧樹脂/硬 情形等時容易破裂,且拍 置等上。上述環氧樹脂、 143077-I010223.doc •26- 1378864 化劑)較好的是以重量比計机 4 土 , Λ 之範圍内。若上述調 配比未達1 ·〇’則存在由於環 ^ ^ ^ . ^ X 虱樹知之含I過少,而導致 硬化體表面之平坦性下降之 9 , 01| ^ , 形。右上述調配比超過 2·5,則存在由於硬化劑之含 均 而導致硬化後容易 殘存未反應之環氧樹脂,硬化體 〆& 嶸化體之破璃轉移溫度、線膨脹 係數性能下降之情形。上述調 的配比之較佳之下限為1.3, 更佳之下限為以’較佳之上限為24,更佳之上限為2 2。 (硬化促進劑)
對上述樹脂組合物中所包含之硬化促進㈣無特㈣ 定。硬化促進劑可僅使用一種’亦可併用兩種以上。
上述硬化促進劑較好的是咪唑化合物。上述硬化促進劑 較好的是選自由以下化合物所組成群中之至少一種:2_十 一烷基咪唑、2-十七烷基咪唑、2-甲基咪唑、2_乙基_4_甲 基°米。坐、2_本基味°坐、2-苯基-4-甲基咪唾、卜苄基·2_甲基 咪唑、1-苄基-2-苯基咪唑、ι,2·二曱基咪唑、丨_氰基乙基_ 2-曱基咪哇、1_氰基乙基_2_乙基·4_甲基咪唑、丨氰基乙 基-2-十一烷基咪唑、丨·氰基乙基_2_苯基咪唑、偏苯三甲 酸1-氰基乙基-2-Ί—烧基咪唑鑌鹽、偏苯三曱酸1-氰基乙 基-2-苯基咪唑鑌鹽' 2,4·二胺基_6_[2,_曱基咪唑基·〇·)]乙 基-均三畊、2,4-二胺基·6-[2'·十一烷基咪唑基-(1,)]-乙基-均三呻、2,4-二胺基-6-[2,-乙基-4’-甲基咪唑基-(I1)]-乙基-均三畊、2,4-二胺基-6-[2,-曱基咪唑基-(1,)]_乙基-均三畊 異三聚氰酸加成物、2-苯基咪唑異三聚氰酸加成物、2-甲 基咪唑異三聚氰酸加成物、2-苯基-4,5-二羥基甲基咪唑及 143077-1010223.doc -27- 1378864 2-笨基_4-甲基_5-二羥基甲基咪唑。 進而,作為上述硬化促進劑,可列舉:三苯基膦等膦化 s 物一氮雜雙 % 烯(DBU,Diazabicycloundecene)、 —氮雜雙環壬稀(DBN,Diazabicyclononene)、DBU之齡 鹽、DBN之酚鹽 '辛酸鹽、對甲苯磺酸鹽、甲酸鹽、鄰苯 二甲酸鹽或苯酚酚醛清漆樹脂鹽等。 上述環氧樹脂、上述硬化劑、上述硬化促進劑及上述表 面處理物質之總計1〇〇重量%中,上述硬化促進劑之含量 之較佳下限為0.01重量。/。,更佳之下限為01重量%,進而 更佳之下限為〇·2重量。/。,較佳之上限為丨〇重量%,更佳之 上限為5重量%,進而更佳之上限為3重量。/(^若上述硬化 促進劑之含量過少,則存在樹脂組合物之硬化無法充分地 進行,而導致硬化體之Tg降低、或者強度下降之情形。若 上述硬化促進劑之含量過多,則存在因反應起始點增多, 故即便使樹脂組合物硬化亦無法使分子量充分變大、或者 環氧樹脂之交聯變得不均句之情形。又,存在樹脂組合物 之保存穩定性下降之情形。 (表面處理物質) 上述樹脂組合物含有利用矽烷偶合劑對無機填充材料實 施表面處理之表面處理物質。表面處理物質可僅使用一 種,亦可併用兩種以上。 上述無機填充材料之平均粒徑在0.054 5 μιη之範圍内。 若平均粒徑未達0.05 μΐη ,則存在表面處理物質變得容易 凝聚,而於硬化體上產生粗糙面狀態之不均的情形。因 143077-10l0223.doc -28- 1378864 此’經粗化處理之硬化體與金屬層之接著強度容易下降。 又’存在樹脂組合物之黏度變高,樹脂組合物對於通孔 (through hole)或導通孔(via hole)等之填充性下降的情形。 若平均粒徑超過1.5 μιη,則存在經粗化處理之硬化體表面 之表面粗糙度變大之傾向。而且’當實施粗化處理時,表 面處理物質變得難以脫離。進而,存在為了在經粗化處理 之硬化體表面形成金屬層而實施鍍敷處理時,鍍敷液潛入 至未脫離之表面處理物質與樹脂成分之空隙中的情形。因 此,形成於硬化體表面之金屬層有可能會產生不良狀況。 上述無機填充材料之平均粒徑較好的是在〇2〜丨5 pm之 範圍内。於平均粒徑在上述範圍内之情形時,可於經粗化 處理之硬化體表面形成更微細之粗糙面。 作為上述無機填充材料之具體例,例如可列舉:氮化 鋁、氧化鋁、氮化硼、氧化欽、雲母、雲母粉黏土、滑
石、二氧切或氮切等。料域:氧切,可列舉溶 融二氧化矽或結晶二氧化矽等。 上述無機填充材料之最大粒徑較好的是1〇 以下。若 該最大粒徑超過1〇㈣’則於硬化體表面形成圖案狀之金 屬層時,存在基於一個表面處理物質脫離而形成之粗糙面 (凹部)接近相鄰接之兩方之金„届沾味 <金屬層的情形。因此,佈線間 之電特性產生偏差,成為產生故障或可靠性下降之原因。 上述無機填充材料較好的是二氧化石夕。二氧化石夕在工奪 上可容易地獲得’且較為廉價。藉由使用二氧切,可释 低硬化體之線賴係數,且可提高散熱性匕氧切較好 I43077-1010223.doc •29- 的是溶融二氧化石夕。 作為上述平均粒徑,可採用達到50。/〇之中位直徑(d5〇)之 值。上述平均粒徑可使用雷射繞射散射方式之粒度分布測 定裝置來測定》 上述無機填充材料之比表面積較好的是在1〇〜70 m2/g之 範圍内。若上述比表面積未達10 m2/g,則經粗化處理之硬 化體與金屬層之接著強度容易下降。並且粗化液難以滲透 至表面處理物質與樹脂成分之界面,若實施粗化處理至表 面處理物質脫離之程度,則存在硬化體表面之表面粗糙度 變大之傾向。若比表面積超過70 m2/g ’則存在經粗化處理 之硬化體表面之表面粗糙度變大之傾向。進而,表面處理 物質變得容易凝集,而容易在硬化體上產生不均。 上述無機填充材料係利用矽烷偶合劑來實施表面處理。 上述矽烷偶合劑含有可與上述環氧樹脂或上述硬化劑反應 之官能基。因此,將樹脂組合物硬化時,表面處理物質與 上述環氧樹脂或上述硬化劑產生反應,使得於預硬化體中 表面處理物質與樹脂成分適度地密著。因此,藉由對上述 預硬化體之表面實施粗化處理’可使經粗化處理之硬化體 表面之表面粗縫度減小。進而,可提高硬化體與金屬層之 接著強度。 上述矽烷偶合劑之上述官能基為環氧基、咪唑基或胺 基。由於矽烷偶合劑含有此種官能基,因此可使經粗化處 理之硬化體表面之表面粗链度減小。進而,可進一步提高 硬化體與金屬層之接著強度。 143077-1010223.doc -30- 1378864 於本發明中所使用之上述表面處理物質中,對上述無機 填充材料1〇〇重量份係利用矽烷偶合劑〇5〜3 5重量份來實 施表面處理。若矽烷偶合劑之量過少,則存在樹脂組合物 中之表面處理物質容易凝集,而導致硬化體表面之表面粗 糙度變大之傾向。若上述矽烷偶合劑之量過多,則硬化容 易進行而而導致保存穩定性變差。而且,硬化體表面之表 面粗糙度易於變大。對上述無機填充材料1〇〇重量份實施 表面處理之矽烷偶合劑之量的較佳下限為1〇重量份,較 佳上限為3.0重量份,更佳之上限為2 5重量份。 上述環氧澍脂、上述硬化劑、上述硬化促進劑及上述表 面處理物質之總計100重量%中,上述表面處理物質之含 量為5〜80重量%之範圍内。若上述表面處理物質之含量過 少,則存在經粗化處理之硬化體表面之表面粗糙度變大之 傾向。若上述表面處理物f之含量過多,則存在經粗化處 理之硬化體表面之表面粗縫度變大之傾向。進而由樹脂 組合物所形成之樹脂薄膜易於變脆,&而有時無法充分地 確保樹脂薄膜之操作性。上述環氧樹脂、上述硬化劑 '上 述硬化促進劑及上述表面處理物質之總計1〇〇重量%中, 上述表面處理物質之含量之較佳下限為1〇重量。/❶,更佳之 下限為15重量%,較佳之上限為5〇重量%,更佳之上限為 4〇重量%。若上述表面處理物質之含量過少,則硬化體與 金屬層之接著強度容易下降。若上述表面處理物質之含量 過多,則經粗化處理之硬化體表面之表面粗梭度容易惡 化。 143077-10l0223.doc -31 - U78864 (可添加之其他成分) 上述樹脂組合物較好的是含㈣切烧化合物。藉由使 米唑夕烷化。物’可使經粗化處理之硬化體表面之表面 粗糙度進一步減小。 述米唾石夕炫化合物較好的是,相對於上述環氧樹脂及 上述硬化劑之總計_重量份,係於gqi〜3重量份之範圍 内而含有。若上述咪嗤矽烷化合物之含量為上述範圍内, 則可使經粗化處理之硬化體表面之表面粗縫度進—步減 小’並可進-步提高硬化體與金屬層之粗化接著強度。上 述味。坐石夕烧化合物之含量的更佳之下限為〇 〇3重量份,更 佳之上限為2重量份,推而审社+ L m 土 一 更佳之上限為1重量份β於相對 ^上述環氧樹脂1〇〇重量份,上述硬化劑之含量超過3〇重 量份之情料,特❹的是相對於±述環氧樹脂及上述硬 化劑之總計100重量份,於〇〇1〜2重量份之範圍内含有上 述咪唑矽烷化合物。 上述樹脂組合物亦可含有溶劑。作為該溶劑,可適宜地 選擇使用樹脂成分之溶解性良好之溶劑。上述溶劑可僅使 用一種,亦可併用兩種以上。 作為上述溶劑,可列舉:丙酮、甲基乙基酮、甲苯、二 甲苯、正己烷、曱醇、乙醇、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、 丁基溶纖劑、甲氧基丙醇、環㈢、N_f基対相、二 甲基甲醯胺、〕曱基乙醯胺'丙二醇單甲醚、丙二醇單甲 喊乙酸S旨、或乙二醇單甲越乙酸g旨等。上述溶劑中,較好 的是二甲基fii胺、子基乙基綱、環己_、己烧或丙二醇 I43077-1010223.doc -32· 單甲駿。藉由使用該等較佳之溶劑,可使樹脂成分更加容 易地溶解於溶劑中。 上述溶劑之調配量例如係、以如下方式適宜選擇,即使得 當將樹脂組合物塗佈於基材薄膜上來形成樹脂薄膜時’可 _組合物塗佈成均句之厚度。相對於包含上述環氧樹 脂、上述硬化劑、上述硬化促進劑及上述表面處理物質之 樹脂組合物中的除溶劑以外之成分之總計100重量份,上 述溶劑之含量之較佳下限㈣重量份,更佳之下限為40重 * ^進而更佳之下限為50重量份,較佳之上限為200重 ’更佳之上限為150重量份,進而更佳之上限為7〇重 里伤,特佳之上限為60重量份。若上述溶劑之含量過少, 則存在樹脂组合物之流動性過低’而無法將樹脂組合物塗 佈成均勻之厚度的情形。若上述溶劑之含量過多,則存在 樹脂組合物之流動性過高,塗佈樹脂組合物時會過度潤濕 擴散之情形。 上述樹脂組合物除上述環氧樹脂以外,亦可視需要含有 可與該環氧樹脂共聚合之樹脂。 上述可共聚合之樹脂並無特別限定。作為上述可共聚合 之樹知,例如可列舉:苯氧樹脂、熱硬化型改質聚苯喊樹 月θ或笨并。号啩樹脂等。上述可共聚合之樹脂可僅使用一 種’亦可併用兩種以上。 作為上述熱硬化型改質聚苯醚樹脂之具體例,可列舉: 利用環氧基 '異氰酸酯基或胺基等官能基將聚苯醚樹脂改 質而得之樹脂等。上述熱硬化型改質聚笨醚樹脂可僅使用 143077-1010223.doc -33· 1378864 一種’亦可併用兩種以上。 作為利用環氧基將聚苯醚樹脂改質而得之硬化型改質聚 苯驗樹脂的市售品,例如可列舉三菱瓦斯化學(難subishi Gas Chemical)公司製造之商品名「〇pE 2Gly」等。 上述苯并噚嗜樹脂並無特別限定。作為上述苯并呤啡樹 脂之=㈣,可列舉:甲基、乙基、苯基、聯苯基或環己 f等含有方基骨架之減基鍵結於十井環之氮上而成之樹 月s,或者亞甲基、伸乙基、伸苯基、伸聯笨基、伸萘基或 伸環己基等含有伸芳基骨架之取代基鍵結於兩個十并環之 氮間而成之樹脂等。上述苯并十井樹脂可僅使用一種,亦 可^料㈣上^藉由料十井樹脂與環氧樹脂之反應, 可提南硬化體之耐熱性、或者可降低吸水性及線膨服係 數。 再者’苯并十井單體或歸物、或者苯并十井單體或低 聚物藉由十井環之開環聚合而高分子量化之樹脂係包含於 上述苯并噚畊樹脂中。 上述樹脂組合物中例如亦可進一步添加穩定劑、紫外線 吸收劑调滑劑、顏料、阻燃劑、抗氧化劑或塑化劑等之 添加劑。 、樹脂組合物之穩定性'或 ’亦可於樹脂組合物中適宜 '反應性稀釋劑、觸變性賦 為了 k南樹脂成分之相容性 者使用樹脂組合物時之作掌性 添加調平劑、非反應性稀釋劑 予劑或增稠劑等。 亦可視需要於樹脂組合物中添加偶合劑。 143077-1010223.doc -34- 1378864 作為上述偶合劑,可列舉:石夕炫偶合劑、欽酸醋偶合劑 或鋁偶合劑等。其中,較好的是矽烷偶合劑。作為上述矽 烷偶合劑,可列舉:含有胺基之矽烷化合物、含有毓基之 矽烷化合物、含有異氰酸酯基之矽烷化合物、含有酸酐基 之矽烷化合物、或含有異三聚氰酸基之矽烷化合物等。上 述矽烷偶合劑較好的是選自由含有胺基之矽烷化合物含 有皲基之矽烷化合物、含有異氰酸酯基之矽烷化合物、含 有酸酐基之矽烷化合物及含有異三聚氰酸基之矽烷化合物 所組成群中的至少一種。 亦可於樹脂組合物中添加高分子樹脂。作為該高分子樹 月曰,可列舉笨氧樹脂、聚硬樹脂或聚苯醚樹脂等。 (樹脂組合物) 上述樹脂紅合物之製造方法並無特別限定。作為該樹脂 組合物之製造方法,例如可列舉下述方法等:將上述環氧 樹脂、上述硬化劑、上述硬化促進劑、上述表面處理物 質、以及視需要而調配之其他成分添加於溶劑中後加以乾 燥,並去除溶劑。 上述树脂組合物例如可較好地用於:形成多層基板之芯 層或增層等之基板用材料、接著片材、積純、附有樹脂 之鋼荡、銅落積層板、TAB(Tape Automated B〇nding,捲 帶自動接合)用膠帶、印刷基板 '預浸體或清漆等。 藉由使用上述樹脂組合物,可於經粗化處理之硬化體表 面形成微細之孔。因此,可於硬化體表面形成微細之佈 線’且可使該佈線中之信號傳輸速度加快。因此,上述樹 143077-1010223.doc -35- 1378864 脂組合物可較好地用於附有樹脂之銅箔、銅箔積層板、印 刷基板、預浸體、接著片材或TAB用膠帶等要求絕緣性之 用途。 上述樹脂組合物可更好地應用於利用在硬化體之表面形 成導電性鍍敷層後再形成電路之加成法、以及半加成法等 將硬化體與導電性鍍敷層積層複數層之增層基板等。於此 情形時’可提高導電性鍍敷層與硬化體之接合可靠性。 又,由於形成於經粗化處理之硬化體表面的由表面處理物 質脫離而成之孔較小,因此可提高圖案間之絕緣可靠性。 進而,由於表面處理物質脫離而成之孔之深度較淺,因此 可提高層間及佈線間之絕緣可靠性。藉此,可形成可靠性 較高之微細之佈線。 上述樹脂組合物亦可用於密封用材料或阻焊劑等。又, 由於可提高形成於硬化體表面之佈線之高速信號傳輸性 能’因此亦可將上述樹脂組合物用於内藏有要求高頻特性 之被動零件或主動零件的零件内藏基板等。 亦可將上述樹脂組合物含浸於多孔f基材中,製成預浸 體而加以使用。 上述多孔質基材只要可含浸上+ 逮樹知組合物則並無特別 限疋。作為上述多孔質基材,可列兴古换 丨+有機纖維或玻璃纖維 等。作為上述有機纖維,可列舉 , 平兔纖維、聚醯胺纖維、 方族聚醯胺纖維或聚酯纖維等。 % π _ 又作為多孔質基材之形 二可列舉.平紋織物或斜紋織物等織物之形態、或者不 織布之形態等。上述多孔質基材 权好的疋玻璃纖維不織 143077-10l0223.doc -36 - 1378864 布。 (樹脂薄膜及積層薄膜) 圖1中以局部切缺正視剖面圖來表示用以獲得本發明之 一實施形態之積層體的積層薄膜。 如圖1所示’積層薄膜1包含基材薄膜2、與積層於該基 材薄膜2之上面2a之樹脂薄膜3。樹脂薄膜3係由上述樹脂 組合物所形成。
作為基材薄膜2,可列舉:樹脂塗佈紙、聚酯薄膜、聚 對笨一甲酸乙二酯(PET , polyethylene terephthalate)薄 膜、聚丙烯(PP,P〇lypropylene)薄膜或銅箔等金屬箔等。 基材薄膜2之彈性模數較好的是較高之彈性模數其理 由在於:將樹脂薄膜3層壓於基板上,剝離基材薄膜2後使 樹脂薄膜3硬化時可提高硬化體表面之平坦性。作為彈性 模數較高之基材,可列舉銅羯等。
基材薄膜2之上面2a與樹脂薄膜3之下面接觸。因此,基 材薄膜2之上面2a之表面粗糙度會對經粗化處理之硬化體 表面之表面粗#度產生影響。故而,較好的是基材薄膜2 之上面2a之表面粗糙度較小。因此,作為基材薄膜2,可 較好地使用PET薄膜等之塑膠薄膜。又,作為基材薄膜2, 亦可較好地使用表面粗糙度相對較小之鋼箔。 為了提高脫模性,亦可對基材薄臈2實施脫模處理。作 為對基材薄膜2實施脫模處理之方法,可列舉:使基材令 含有矽化合物、氟化合物或界面活性劑等之方法;對基 表面賦予凹凸之方法,·以及將矽化合物、 二 既化合物或界面 143077_1010223.doc •37- 1378864 活性劑等具有脫模性之物質塗佈於基材表面之方法等。作 為對基材表面賦予凹凸之方法,可列舉於基材表面實施壓 花加工等之方法等。 . 亦可於基材薄膜2中添加穩定劑、紫外線吸收劑、潤滑 · 劑、顏料、抗氧化劑、調平劑或塑化劑等之添加劑。 基材薄膜2之厚度並無特別限定。基材薄膜2之厚度較好 的是在10〜200 μιη之範圍内。若基材薄膜2之厚度較薄則 容易因張力而延伸,故變得容易產生皺褶、或者容易引起 樹脂薄膜3產生尺寸變化。因此,基材薄膜2之厚度更好的 · 是20 μιη以上。 樹月a薄膜3較好的是不包含溶劑、或者以5重量%以下之 含量而包含溶劑。若溶劑之含量超過5重量❹/〇,則存在基 材薄膜2與樹脂薄膜3之接著力增強,而變得難以將樹脂薄 膜3自基材薄膜2上剝離之情形。溶劑之含量越少則樹脂 薄膜3在層壓後越容易獲得平坦性。但是,存在溶劑之含 量越少,則樹脂薄膜變得越硬,樹脂薄膜之操作性越下降 之虞。樹脂薄膜3更好的是於〇1〜3重量%之範圍内包含溶籲 劑。再者’藉由使包含溶劑之樹脂組合物乾燥,可將一部 ^或全部溶劑去除’因此可獲得不包含溶劑、或者以5重 置%以下之含量而包含溶劑之樹脂薄膜3。 . 樹脂薄膜3之厚度較好的是在1〇〜200 μηι之範圍内。樹脂 . 薄膜3之厚度在上述範圍内肖,可較好地使用樹脂薄膜3來 形成印刷佈線板等之絕緣層。 、 積層薄膜1例如可以如下方式製造。 143077-1010223.doc •38· 1378864 將上述樹脂組合物塗佈於基材薄膜2之上面2a。繼而, 視需要於8G〜15Gt左右下,對塗佈於基材薄膜2之上面2a 之樹月日.a s物進行乾燥,去除__部分或全部溶劑。藉此, 可於基材薄膜2之上面2a形成樹脂薄膜3。上述乾燥溫度為 100 C左右》上述乾燥時間為3〇秒〜1〇分鐘左右。有時樹沪 組合物會藉由該乾燥處理而進行硬化,使樹脂薄膜3達^ 半硬化狀態》
又’亦可使用上述樹脂組合物形成不具有基材之樹脂薄 膜0 作為樹脂薄膜3之其他製造方法,可列舉擠出成形法、 或擠出成形法以外之先前公知之薄膜成形法等。 於上述擠出成形法中,將上述環氧樹脂、上述硬化劑、 上述硬化促進劑、上述表面處理物質及視需要而調配之材 料在擠出機t溶融混練後擠出,且使用丁字模或圓模等將 其成形為薄膜狀。藉此,可獲得樹脂薄膜。 (硬化體及積層體) 積層薄膜1例如可用於形成單層或多層之印刷佈線板之 絕緣層等》 圖2中以正視剖面圖且以示意方式表示作為本發明之一 實施形態之積層體的多層印刷佈線板。 圖2所示之印刷多層印刷佈線板11中,於基板12之上面 12a積層有複數層之硬化體層3A。硬化體層3八係絕緣層。 如後文甲所述,硬化體廣3A係藉由對將樹脂薄臈3加熱, 使其預硬化而獲得之預硬化體層實施粗化處理而形成。 I43077-I010223.doc •39· 1378864 於除最上層之硬化體層3A以外的硬化體層3A之上面 3a,在一部分區域形成有金屬層13。於硬化體層3 a之各層 間配置有金屬層13»下方之金屬層13與上方之金屬層13係 藉由未圖示之導通孔連接及通孔連接中之至少一方而連 接》 製造印刷佈線多層基板11時,如圖3(a)所示,首先使樹 月曰薄膜3與基板12之上面12a相對向,並進行層壓β又,對 積層於基板12之上面12a之樹脂薄膜3加壓。 用於上述層壓之層合機或加壓機並無特別限定。作為層 合機或加壓機,可列舉:名機製作所公司製造之真空加壓 式層合機、北川精機公司製造之真空加壓機、或者Mikad〇 Technos公司製造之快速式真空加壓機等。 上述層壓之溫度較好的是在〜13 〇°c之範圍内 溫度過低,則樹脂薄膜3與基板12之上面12a之密著性下 降,容易產生脫層(de-ion)。又,若上述溫-度過低, 則樹脂薄膜3之上面3a之平坦性下降,或者樹脂薄膜之嵌 入變得不充分’而會於圖案間產生間隙等。若上述溫度過 高,則存在樹脂薄膜3之厚度減小,或者樹脂薄膜3之上面 之平坦性下降的情形。又,若上述溫度過高,則樹脂薄 膜3容易進行硬化反應。因此,存在當㈣樹脂薄膜3之基 板等之表面具有凹凸時,樹脂薄膜3對於該凹凸之填充性 下降之情形。上述層壓之溫度之較佳下限為贼,較佳之 上限為120C ’更佳之上限為i〇〇«»c。 上述層壓之壓力較好的是在0.1〜2.〇 MPa之範圍内 0若 143077-J0J0223.doc -40- 1378864 上述層壓之壓力過低,則樹脂薄膜3與基板12之上面i2a之 密著性下降’而容易產生脫層。又,若上述壓力過低則 存在無法使樹脂薄膜3之上面3a足夠平坦,或者當積層樹 脂薄膜3之表面具有凹凸時,樹脂薄膜3對於該凹凸之填充 性下降之虞。若上述壓力過高,則存在樹脂薄膜產生膜減 少之情形。又,若上述壓力過高,則當積層樹脂薄膜;之 表面具有凹凸時,樹脂薄膜3所承受之壓力容易因該凹凸 而局部大幅不同。因此,存在樹脂薄膜3易於產生厚度不 均,而無法使樹脂薄臈3之上面3&足夠平坦之情形。上述 壓力之較佳之下限為0.3 MPa,較佳之上限為! 〇 Mpa,更 佳之上限為0.8 MPa。 對於上述加壓之時間並無特別限定。上述加壓之時間較 好的是在6秒〜6小時之範圍内,其原因在於可提高作業效 率。進而,當積層樹脂薄膜3之表面具有凹凸時,可使樹 脂薄膜3充分地填充於該凹凸中,且可確保樹脂薄膜3之上 面3 a之平坦性。 於基板12之上面i2a積層樹脂薄膜3後,進行固化步驟 (加熱步驟)。 於固化步驟中,對樹脂薄膜3加熱而使其預硬化。加熱 可使用烘箱等。樹脂薄膜3經加熱後,於基板12之上面Ua 形成樹脂薄膜3硬化之預硬化體層。 固化步驟令之加熱溫度在1〇〇〜2〇(rc之範圍内。若上述 加熱溫度過低,則存在樹脂薄膜3無法充分硬化之情形。 又,若上述加熱溫度過低,則存在經粗化處理之硬化體層 143077-1010223.doc 1378864 表面之表面粗趟度變大,或者硬化體層與金屬層之接著強 又降之清形。若上述加熱溫度過高,則樹脂薄膜3容易 產生…收縮。因此,存在無法充分地綠保預硬化體層之上 面之平坦性的情形。又,若上述加熱溫度過高,則樹脂組 合㈣易急速地進行硬化反應。因此,硬化度容易局部不 同今易形成較粗链之部分與較細密之部分。其結果,存 在經粗化處理之硬㈣層表面之表面粗糙度變大之傾向。 上述加熱溫度之較佳之下限為13(TC,較佳之上限為 C。若上述加熱溫度過高’則存在難以實施後述之粗 化處理之虞。 固化步驟令之加熱時間較好的是在3〜12〇分鐘之範圍 内。若上述加熱時間過短,則存在樹脂薄膜3無法充分地 硬化之情形。若上述加熱時間過長,則存在難以實施後述 之粗化處理之虞。 於上述加熱時,可使用階段性地升溫之分步固化法等 於固化步驟之後,對預硬化體層之表面實施膨潤處理及 粗化處理。又,亦可不對預砸卟μ 耵預硬化體層實施膨潤處理,而僅 實施粗化處理。但是較好的是對預硬化體層實施膨潤處理 之後實施粗化處理。 對預硬化體層實施膨湖處理之方法並無特別限定。 處理可藉由先前公知之方法來進行。例如可列 ::: 等:藉由包含乙二醇、二曱基曱醯胺'二曱亞碾、 基-2-吡咯啶酮、吡啶、硫酸或磺酸等作為主成分之水六、 或有機溶劑分散液對預硬化體層實施處理。並液 χ、τ,較好的 I43077-I010223.doc -42- 1378864 是於包含乙二醇之水溶液中對預硬化體層實施處理之方 法。膨潤處理之溫度較好的是在50〜80。〇之範圍内。膨潤 溫度之更佳之下限為6(TC。若膨潤處理之溫度過低,則存 在粗化處理後硬化體層與金屬層之接著強度下降之情形。 若膨潤處理之溫度過高,則存在經粗化處理之硬化體層表 面之表面粗糙度變大之傾向。 上述膨潤處理之時間較好的是丨〜利分鐘,更好的是5〜3〇 分鐘,進而更好的是5〜20分鐘。若膨潤處理之時間過短, 則存在經粗化處理之硬化體層與金屬層之接著強度下降之 情形。若膨潤處理之時間過長,則存在經粗化處理之硬化 體層表面之表面粗糙度變大之傾向。 對預硬化體層實施粗化處理之方法並無特別限定。粗化 處理可藉由先前公知之方法來進行。例如可列舉下述方 法:藉由包含錳化合物、鉻化合物或過硫酸化合物等作為 主成分之化學氧化劑的水溶液或有機溶劑分散液等粗化處 理液’來對預硬化體層實施處理。 作為上述猛化合物’可列舉過錳酸鉀或過錳酸鈉等。作 為上述鉻化合物,可列舉重鉻酸鉀或無水鉻酸鉀等。作為 上述過硫酸化合物,可列舉過硫酸鈉、過硫酸鉀或過硫酸 銨等。 上述粗化處理之溫度在55〜80t之範圍内。粗化處理之 狐度之較佳下限為6〇〇c。若粗化處理之溫度過低,則存在 經粗化處理之硬化體層與金屬層之接著強度下降之情形。 若粗化處理之溫度過高’則存在經粗化處理之硬化體層表 143077-1010223.doc -43- 1378864 面之表面粗糙度變大、或者硬化體層與金屬層之接著強度 下降之情形。 上述粗化處理之時間較好的是卜30分鐘,更好的是5〜30 分鐘。若粗化處理之時間過短,則存在經粗化處理之硬化 體層與金屬層之接著強度下降之情形。若粗化處理之時間 過長’則存在經粗化處理之硬化體層表面之表面粗糙度變 大之傾向。進而,存在硬化體層與金屬層之接著強度下降 之傾向。 粗化處理可僅進行一次,亦可進行複數次。若粗化處理 之次數較多’則粗化效果亦較大。但是,若粗化處理之次 數超過3次’則有時粗化效果達到飽和,或者硬化體表面 之樹脂成分被過度削去,而難以於硬化體層之表面形成上 述表面處理物質脫離之形狀的孔。 作為上述粗化處理液,可較好地使用3〇〜9〇 g/L之過錳 酸溶液' 30〜90 g/L之過錳酸鹽溶液、或者3〇〜9〇 g/L之氫 氧化鈉溶液。較好的是將預硬化體層浸潰於該等粗化處理 液中並揺動。 藉此,如圖3(b)所示,可於基板12之上面12a形成經粗化 處理之硬化體層3A。 如將圖3(b)所示之硬化體層3A於圖4中放大表示般,於 經粗化處理之硬化體層3A之上面3a,形成有複數個因上述 表面處理物質脫離而形成之孔3b。 上述樹脂組合物含有對上述無機填充材料利用上述特定 量之矽烷偶合劑實施表面處理之表面處理物質。因此,樹 143077-1010223.doc •44- 1378864 脂組合物中之表面處理物質之分散性優異。因此,於硬化 體層3Α之上面3a,不容易形成因表面處理物質之凝集物脫 離而形成的較大之孔。藉此,硬化體層3A之強度不易局部 下降’從而可提高硬化體層3A與金屬層之接著強度。又, 為了降低硬化體層3A之線膨脹係數,可於樹脂組合物中調 配較多的表面處理物質。即使調配較多的表面處理物質, 亦可於硬化體層3A之表面形成複數個微細之孔3b。孔3b亦 可為幾個左右、例如2〜10個左右之表面處理物質成塊脫離 之孔。 又,於藉由表面處理物質脫離而形成之孔3b附近,圖4 中附以箭頭X而表示之部分之樹脂成分不容易被過多地削 去。因此,可提高硬化體層3 A之強度。 以上述方式而獲得的經粗化處理之硬化體層3 A(硬化體) 之表面的算術平均粗糙度Ra較好的是3〇〇 nm以下,且十點 平均粗糙度Rz較好的是3·0 μπι以下。硬化.體層3A之表面之 舁術平均粗縫:度Ra更好的是200 nm以下,進而更好的是 150 nm以下。硬化體層3A之表面之十點平均粗糙度rz更 好的是2 μπι以下,進而更好的是丨.5 μπι以下。若上述算術 平均粗糙度Ra過大、或上述十點平均粗糙度Rz過大,則存 在無法使形成於硬化體層3 A之表面之金屬佈線中的電訊號 之傳輸速度高速化的情形《算術平均粗糙度Ra及十點平均 粗糙度Rz可藉由依據JIS B0601-1994之測定法而求得。 於粗化處理之後’如圖3(c)所示,於上述經粗化處理之 硬化體層3A之上面3 a形成金屬層丨3。形成金屬層13之方法 143077-1010223.doc •45· 並無特別限定《可藉由於硬化體層·3A之上面3a進行非竜解 鍵敷、或者於進行非電解鍍敷後進而進行電解鍍敷來形成 金屬層13»亦可於進行非電解鑛敷之前,藉由對硬化體層 3A之上面3a實施電漿處理或化學品處理,而於上面3a形成 微細之凹凸。 作為上述鍍敷材料,例如可列舉:金、銀、銅、鍵、 把、鎳或錫等。亦可使用該等之兩種以上之合金。亦可使 用兩種以上之鍍敷材料形成複數層之金屬層。 硬化體層3A與金屬層13之接著強度(粗化接著強度)較好 的是4.9 N/cm以上。 如將圖3(c)所示的於上面3a形成有金屬層13之硬化體層 3A於圖5中放大表示般’金屬層Η到達至經粗化處理之硬 化體層3A之上面3a上所形成的微細之孔3b内。因此,可藉 由物理的固著效應而提高硬化體層3A與金屬層13之接著強 度。又’由於在因表面處理物質脫離而形成之孔3b之附 近’樹脂成分並未被過多地削去’因此可提高硬化體層3a 與金屬層13之接著強度。 上述無機填充材料之平均粒控越小,則越可於硬化體層 3 A之表面形成微細之凹凸。由於係使用藉由矽烷偶合劑對 平均粒徑為1_5 μπι以下之無機填充材料實施表面處理之表 面處理物質’因此可使孔3b較小,故而可於硬化體層3α之 表面形成微細之凹凸《因此,可使表示電路佈線之微細程 度之L/S較小。 如圖3(d)所示’於在上面3a形成有金屬層13之硬化體層 143077·丨 010223.doc •46· 1378864 3A的上面3a積層其他樹脂薄膜3,然後反覆進行上述各步 驟,藉此可獲得圖2所示之多層印刷佈線板11。 以下,藉由列舉實施例及比較例對本發明進行具體說 明。本發明並不限定於以下之實施例。 於實施例及比較例中係使用以下所示之材料。 [環氧樹脂] 雙酚A型環氧樹脂(1)(商品名「Epikote 828」,環氧當量 為189,25°C下之黏度為12〜15 Pa.s,JER公司製造) [硬化劑] 聯笨型酚硬化劑(1)(商品名「MEH7851-4H」,〇H當量為 243,軟化點為130°C,明和化成公司製造) 萘酚硬化劑(2)(商品名「SN485」,0H當量為213,軟化 點為86°C,東都化成公司製造) 活性酯硬化劑(活性酯化合物,DIC公司製造,商品名 「EPICLON EXB9460S-65T」’固形物65%之甲苯溶液) [硬化促進劑] 促進劑(1)(商品名「2PZ-CN」,1-氰基乙基-2_苯基味 唑,四國化成公司製造) [表面處理物質] 二氧化矽50重量% DMF分散液(1):包含對平均粒徑為 0.3 μηι且比表面積為18 m/g之二氧化石夕粒子1〇〇重量份利 用胺基矽烷偶合劑(商品名「KBE-903」,信越化學工業公 司製造)1.0重量份實施表面處理之表面處理物質5〇重 %、與 DMF(N,N-dimethylformamide,N,N-二甲基甲酿 143077-1010223.doc -47· 1378864 胺)50重量%的分散液β 二氧化矽50重量%DMF分散液(2广包含對平均粒徑為 且比表面積為18 ^仏之二氧化矽粒子1〇〇重量:利 用胺基矽烷偶合劑(商品名rKBE_903 j,信越化學工業公 司製造)2.5重量份實施表面處理之表面處理物質5〇重量 °/〇、與DMF 50重量%的分散液。 二氧化㈣重量%麵分散液(3):包含對平均粒徑為 U Pm且比表面積為3 m2/g之二氧化石夕粒子1〇〇重量份利用 胺基石夕烧偶合劑(商品名「咖_9〇3」,信越化學工業公司 製造”.〇重量份實施表面處理之表面處理物質5〇重量%、 與DMF 50重量%的分散液。 二氧切50重量%聽分散液⑷:包含對平均粒徑為 0.3 μη!且比表面積為18 m2/g之二氧化矽粒子⑽重量份利 用環氧石夕烧偶合劑(商品名「KBE_4〇3」,信越化學工業八 司製造”·〇重量份實施表面處理之表面處理物質5〇心 °/〇、與DMF 50重量%的分散液。 | 二氧切50重量%卿分散液(5):包含對平均粒 W _且比表面㈣18 m2/g之二氡切粒子⑽重量份利 用味切錢合劑(商品名「购_」,日礦金屬公司製 造)1.〇重量份實施表面處理之表面處理物質5〇重量%、歲 DMF 50重量%的分散液。 、 二氧化㈣重量。/。贿分散液⑹:包含對平均粒徑) 〇.3哗且比表面積為18 m2/g之二氧切粒子晴量份# 用胺基㈣偶合劑(商品名「咖-903」,信越化學工“ I43077-I010223.doc -48· 1378864 司製造)4.0重量份實施表面處理之表面處理物㈣重量 °/〇、與DMF 50重量%的分散液。 二氧化雜重量%腳分散液⑺·包含對平均粒徑為 (ΜΠ叫且㈣面積為15〇 m2/g之二氧切粒子ι〇〇重量份 利用胺基魏偶合劑(商品名「咖侧」,信越化學工業 公司製造)hO重量份實施表面處理之表面處理物_重量 %、與DMF 50重量%的分散液。 二氧切50重量% DMF分散液(8):包含對平均粒徑為 4.5叫且比表面積為2 m2/g之二氧化石夕粒子1〇〇重量份利用 胺基石夕烧偶合劑(商品名「ΚΒΕ·9()3」,信越化學工業公司 製造)1.〇重量份實施表面處理之表面處理物質%重量。/〇、 與DMF 50重量%的分散液。 [溶劑] DMF : Ν,Ν-二曱基曱酿胺(特級試劑,和光純藥工業公 司製造) 〃 Α (咪唑矽烷化合物) 咪唑矽烷(日礦金屬公司製造,商品名「ΙΜ1〇〇〇」) (實施例1) (1)樹脂組合物之製備 將雙酚Α型環氧樹脂(丨)19 71 g、促進劑(1)〇 45 g、以及 二氧化i夕50重量%DMF分散液〇)39 〇〇 g添加於N N二曱義 曱醯胺15.50 g中充分地混合,並於常溫下攪拌直至成為二 勻之溶液為止。 繼而,進而添加聯苯型酚硬化劑(1)25·34 g,於常溫下 143077-1010223.doc • 49- 1378864 授拌直至成為均勻之溶液為止,藉此製備樹脂組合物β (2) 積層薄膜之製作 使用敷料器’將所獲得之樹脂組合物以使乾燥後之厚度 達到40 μηι之方式而塗佈於經脫模處理之pet薄膜上。繼 而’於100 C之吉爾老化怪溫箱(Geer oven)内乾燥1分鐘, 藉此於PET薄膜上形成半硬化之b階段狀態之樹脂薄臈。 藉此’製作於PET薄骐上積層有樹脂薄膜之積層薄膜。 (3) 印刷佈線板之製作 使用所獲得之積層薄膜,以如下方式製作印刷佈線板。 準備上面形成有間隔為75 μιη之銅圖案(一個銅圖案:縱 40 μηιχ橫40 μιηχ厚1 cm)之基板。使用平行平板型之真空 4 加愿式層合機(名機製作所),以使B階段狀態之樹脂薄臈 為基板側之方式將積層薄膜載置於基板上,然後於層壓溫 度為100°C及層壓壓力為0.6 MPa之條件下加熱加壓1分鐘 而進行層壓。其後將PET薄膜剝離、去除。 將層壓有B階段狀態之樹脂薄膜之基板,以使基板之主 面位於與鉛直方向平行之平面内之方式而放置於吉爾老化 恆溫箱内。其後,於15〇。〇之固化溫度下加熱〗小時使B階 段狀態之樹脂薄膜硬化’而於基板上形成預硬化體層,獲 得積層樣品。 繼而’對積層樣品之預硬化體層實施下述(a)膨潤處理 後,實施下述(b)過錳酸鹽處理即粗化處理,藉此形成硬化 體層,進而對硬化體層實施下述(c)鍍鋼處理。 (a)膨潤處理: 143077-1010223.doc -50· 1378864 將上述積層樣品放入至70°C之膨潤液(Swelling Dip Securiganth P,Atotech . Japan公司製造)中,於 70°C 之膨潤 溫度下摇動15分鐘。其後,使用純水進行清洗。 (b) 過錳酸鹽處理: 將上述積層樣品放入至70°C之過錳酸鉀(Concentrate Compact CP,Atotech Japan公司製造)粗化水溶液中,於 70°C之粗化溫度下摇動15分鐘,從而於基板上形成經粗化 處理之硬化體層。使用25°C之清洗液(Reduction Securiganth P,Atotech Japan公司製造)將所獲得之硬化體 層清洗2分鐘後,使用純水進一步清洗。 (c) 鍵銅處理: 繼而,以如下順序對形成於基板上之硬化體層進行非電 解鍍銅及電解鍍銅處理。 使用60°C之驗性清潔劑(Cleaner Securiganth 902)對上述 硬化體層之表面進行5分鐘處理,然後進行脫脂清洗。清 洗後,使用25°C之預浸液(Pre-dip Neoganth B)對上述硬化 體層進行2分鐘處理《其後,使用40°C之活化劑溶液 (Activator Neoganth 8 3 4)對上述硬化體層進行5分鐘處理, 然後附上纪觸媒。繼而,使用30°C之還原液(Reducer Neoganth WA)對硬化體進行5分鐘處理。 繼而,將上述硬化體層放入至化學銅液(Basic Printoganth MSK-DK 、Copper Printoganth MSK、 Stabilizer Printoganth MSK)中,實施非電解鍵敷直至鍍敷 厚度達到〇· 5 μιη左右為止。於非電解鍍敷後,為了去除殘 143077.1010223.doc 1378864 留之氫氣,於120eC之溫度下進行30分鐘退火處理。至非 電解鐘敷步驟為止之所有步驟均係利用燒杯刻度將處理液 設定為1 L,並一面揺動硬化體一面實施。 繼而’對經非電解鍍敷處理之硬化體層實施電解鍍敷, 直至鐘敷厚度達到2〇 μπι為止。作為電鍍鋼,係使用硫酸 銅(Reducer Cu),並流通〇·6 A/cm2之電流。於鍍銅處理 後’於180 C下將硬化體層加熱1小時而使其硬化,獲得形 成有鍍銅層之硬化體層。藉此獲得形成為積層體之印刷佈 線板。 (實施例2〜9 '實施例16 '實施例17及比較例5〜8) 使用實施例1令所獲得之積層薄膜,將層壓溫度、層壓 壓力、固化溫度、膨潤溫度或粗化溫度變更為如下述表 1、2、4中所示,除此以外,以與實施例丨相同之方式製作 印刷佈線板。 (實施例10〜15、1 8〜24及比較例1〜4) 除使所使用之材料及其調配量如下述表2〜4中所示般以 外,以與實施例丨相同之方式製備樹脂組合物。除使用所 獲得之樹脂組合物以外,以與實施例丨相同之方式製作積 層薄膜,並製作印刷佈線板。再者,於樹脂組合物含有咪 唑矽烷之情形時,該咪唑矽烷係與硬化劑一同添加。 (評價) (1)粗化接著強度 於上述形成有鍍銅層之硬化體層的鍍銅層之表面切出 mm寬之切口。其後,使用拉伸試驗機(商品名「Aut〇graph」’ 143077-1010223.doc •52· 1378864 島津製作所公司製造)’於十字頭速度為5 mm/min之條件 下測定鍍銅層與硬化體層之接著強度,將所獲得之測定值 作為粗化接著強度。 (2)算術平均粗糙度Ra及十點平均粗糙度Rz 於獲得上述形成有鑛敷層之硬化體層時,準備形成錢敷 層之前的經粗化處理之硬化體層。使用非接觸三維表面形 狀測定裝置(型號「WYKO NT1100」,Veeco公司製造),測 定100 μιη2之測定區域中之硬化體之經粗化處理之表面的 算術平均粗糙度Ra及十點平均粗糙度Rz。 結果示於下述表1〜4。
143077-1010223.doc 53· 1378864 【1<】 ^ii 19.71 25.34 0.45 j 39.00 15.50 o αί (N ο 〇\ m 寸 ΓΛ jn 〇 〇\ ο a\ ΓΛ 卜 守 (Λ JO 〇 〇 ON ir! ΓΊ ο Os m 卜 寸 cn IT) 寸 o p 〇 »n On <N ο ON ΓΛ i〇 卜 ΓΛ Vj| o o 〇\ vS <N Ο ON ψ-^ 卜 vp o o Os in <s ο ON ΓΛ in 卜 寸 ro vj> o o 〇\ — *T) (N Ο 〇\ ΓΟ 寸 cn νΊ o o 名 〇\ <N ο a\ ΓΛ in fT cn 2 /^\ 2 ¥ ¥ ¥ φ Cju Q Q Q Q Q Q Q Q UCI Nw/ 求 m eN 妇 «Ν Μ «π wjfwil 啊 .13 .IfM jfhj τρη tpsq ΨΊ JStit ψ>Ί τρη νπ JM τρη 9# \j0J m 〇 s—/ < § § Jj ¥ 丄5 jO 」 5 i4 «/ 5 Ci^ ¥ m * Ί Ί Ί '1 Ί Ί Ί Ί D 实 W Jtn BQ s/ 基 JJ jJ jO 按f m 5 § 1 1 效 (铒《Ν傘) QL °ol (3。)每鴻韌噢一 一※(%积锏)积伞W輙龚勃铋但辦 οε 001 90 § 0卜 000 S91 6-1 •9 οε 001 9Ό os 一 08 0卜 ο卜一 OZ/l •9 οε 001 9Ό 081 0卜 0卜 ο卜 3.0 rs οε 001 9Ό §
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Z.L 寸.9 (S3/N>^缌砌雄-#_ ¥<rtw 鉍荽朗螬 e^s + o/os^oo-r絮 龚朗碱《<"f#?F"qn^ ,孩^哿,-!#^^-※ •55· 1378864 【ε<】 143077.doc ί 00 ψ^ S5 ΓΛ (S 寸 d ο ο 〇\ ΓΛ \n d ° «Ί 〇 V© 〇 〇 〇 S 〇\ κ> 1* 卜 Os CO wS (N 寸 ο ο α\ C^t iA o 〇 VO 〇 § 〇 〇 00 VO (Ν Ο ο Γ^ (N fS 卜 〇\ S jn d ο ON ΓΛ in o 〇 ν〇 〇 〇 〇 a § Ο ο 00 卜 〇\ 寸 m (N jrj o Ο Ον cn o yn ο VO 〇 〇 〇 (Ν 气 00 00 辑 ^κ ψ^ 卜 σί 兮 m uS (S o ο 〇\ ΓΛ O Ο wS ο 〇 〇 〇 〇 S ν〇 Os Ο 00 c> 〇 ί 卜 〇\ VO <N iTi 寸 d Ο α\ m ΙΛ d ° ο VO 〇 〇 〇 VO 汔 Ο Γ^ 〇〇 i 寸 寸 fO σ; d ο 〇\ ο VO 〇 〇 〇 Μ S ο ν〇 /«—S Ν-^ i)Q BS3 荜 转 别 < 齒 /—N m -ϋ tf^j t4 裔 苍 Jj § 掩 w jj § 塯 /^N 轰 «/ /<—Ν Φ U. Q 积 Jfhtl τρη λ3 5 Ί Φ § s 申1 Jjaj ν*» Ο »Λ Δ2 Ί δ ¥ Φ Un S Q ®Ν Jfthj -Ο Μ Φ Pu, s Q .1^ τρη 备 JJ Μ (Fi ¥ Φ Cjl, % Q 容 Φ1 Η»Π U G" Φ tu s Q 家 6N τρη jO »1 /^\ ¥ Φ u, S Q 求 ®N Jftrl Jj 、1 0? ¥ Φ Q ®N J^rl Tpnj *13 $ Ί t» f- % ρ ※ .1mt« 明 如 1} 龚 QlJ CT 峨 νδ /—s Ρ 1? /—Ν Ρ 拽 i /—S P 拽 m 诠 /^•s P 拽 5 /—S 函 V αί 甸 Μ 4 sa 裝 η Zgs «2 Μ 4 ίΓ 桀 + -y m 珠 Ϊ i)Q ος % 赶 聶 δ 苍 Jj 5 实 jj 5 Ί 龚 <0 Jj 5 ψ 冢 炒 Μ 4 vS < 琛运噠Φ (轵>Ν Φ ) 镱刦牵幸 •56· 1378864
【寸<】 143077.doc |比較例8 19.71 I 25.34 1 JT) 〇 I 39.00 15.50 〇 so 〇 〇 卜 § 〇 m 〇〇 CN CN 寸· 比較例7 19.71 25.34 1_ _ 〇 39.00 15.50 〇 Ό 〇 〇 卜 〇 〇 1比較例6 19.71 ! 25.34 | 〇 39.00 15.50 〇 〇 〇 m 〇 〇 〇 ri 比較例5 19.71 25.34 1_ 〇 | 39.00 15.50 〇 VO d § 〇 〇 m rn κη 比較例4 10.74 13.81 1_ CN 〇 | 74.40 1 〇 ο r· * 〇 〇 寸 寸· 卜 uS 比較例3 16.49 21.21 〇〇 rn 32.64 29.29 〇 ν〇 ο 〇 〇 m 〇〇 m 00 v£) 比較例2 16.49 21.21 〇〇 rn 32.64 29.29 〇 ν〇 ο 〇 〇 s 〇\ 〇 口 比較例1 16.49 21.21 00 rn 32.64 29.29 〇 v〇 ο 1-^ 〇 〇 (N (N rn 2 雙盼A型環氧樹脂(1) 聯笨型盼硬化劑(1) 萘盼硬化劑 促進劑(1) 二氧化矽50重量%DMF分散液(1) 二氧化矽50重量%DMF分散液(2) 二氧化矽50重量%〇1^分散液(3) 二氧化矽50重量%DMF分散液(4) 二氧化矽50重量%DMF分散液(5) 二氧化矽50重量%DMF分散液(6) 二氧化矽50重i%DMF分散液(7) 二氧化矽50重i%DMF分散液(8) DMF 表面處理物質之含量(重量%)※! 層壓溫度(°c) 層壓壓力(MPa) 固化溫度(°c) 1 膨潤溫度(°c) 粗化溫度(°c) 算術平均粗糙度Ra(nm) 十點平均粗梭度R2(pm) 粗化接著強度(N/cm) 環氧樹脂 硬化劑 硬化促進劑 1 i二氧化矽漿料 I 溶劑 表面粗縫度 踩齧噠Φ (锏驷垒) 轵♦wfe^si'^vs^s+o/o^'wool+i缀 W 鉍者劫螭电^^鬲铒^^哿,彰, -57- 1378864 【圖式簡單說明】 圖1係表示為了獲得本發明之—寄 M ^ ^ 貫施形態之積層體而使 用的積層薄膜之局部切缺正視剖面圖; 圖2係以示意方式表示作為本發明卜實施形態之積層 體的多層印刷佈線板之局部切缺正視剖面圖; 圖3(a)〜(d)係用以說明製造作為本發明之一實施形態之 積層體之多層印刷佈線板的各步驟之局部切缺正視剖面 園, 圖4係將經粗化處理之硬化體層之表面放大且以示意方 式表示的局部切缺正視剖面圖;及 圖5係將於經粗化處理之硬化體層之表面形成有金屬層 之狀態放大表示的局部切缺正視剖面圖。 【主要元件符號說明】 1 積層薄膜 2 基材薄膜 2a 上面 3 樹脂薄膜 3A 硬化體層 3a 上面 3b 孔 11 多層印刷佈線板 12 基板 12a 上面 13 金屬層 I43077-I010223.doc
Claims (1)
1378864 年月日修正替換頁第〇卯129409號專利申請案 1301 .2^2.0-1中文申請專利範圍替換本(ιοί年7月) 七、申請專利範圍: 1· 一種積層體之製造方法,該積層體係包含基板、與積層 於該基板上之硬化體層者,該積層體之製造方法包括步 驟如下: 將用以形成上述硬化體層之樹脂薄膜層壓於上述基板 於100〜200 C下使層壓於上述基板上之上述樹脂薄膜 預硬化,而形成預硬化體層; 於50〜70 C下,對上述預硬化體層之表面實施膨潤處 理;以及 於55〜80°C下對經膨潤處理之預硬化體層之表面實施 粗化處理而形成經粗化處理之硬化體層,俾使經粗化處 理之硬化體層表面的算術平均粗糙度Rag3〇〇 nm以下、 且十點平均粗糙度Rz為3 μπι以下;並且 作為上述樹脂薄膜,係使用由如下樹脂組合物所形成 之樹脂薄膜:該樹脂組合物含有環氧樹脂、硬化劑、硬 化促進劑、以及丨00重量份之平均粒徑為0 05Η 5 ^爪之 無機填充材料經0.5〜3.5重量份之矽烷偶合劑實施表面處 理而獲得之表面處理物質,且上述環氧樹脂、上述硬化 劑、上述硬化促進劑及上述表面處理物質總計丨〇〇重量% 中,上述表面處理物質之含量為1〇〜8〇重量%之範圍内; 上述樹脂組合物不含溶劑時,上述樹脂組合物所含成 分總計⑽重量%中’上述環氧樹脂之含量為20重量%以 上;上述樹脂組合物包含溶料,上述樹脂組合物所含 143077-1010720.doc 1378864 之除溶劑以外的成分總計10 0重量%中,上述環氧樹脂之 含量為20重量%以上;且 作為上述矽烷偶合劑,係使用矽烷偶合劑如後:該矽 烧偶合劑含有可與上述環氧樹脂或上述硬化劑反應之官 能基,且該官能基為環氧基或胺基。 2. 如請求項〗之積層體之製造方法,其中作為上述硬化 劑,係使用選自由具有聯苯結構之酚化合物 '具有萘結 構之酚化合物、具有二環戊二烯結構之酚化合物、具有 胺基三畊結構之酚化合物、活性酯化合物及氰酸酯樹脂 所組成群中之至少一種。 3. 如吻求項1之積層體之製造方法,其中作為上述樹脂組 合物,係使用相對於上述環氧樹脂及上述硬化劑總計 〇重量伤,咪唾石夕烷化合物之含量為重量份之範 圍内的樹脂組合物。 4.如請求項2之積層體之製造方法,其中作為上述樹脂組 合物,係使用相對於上述環氧樹脂及上述硬化劑總計 重里伤米唑矽烷化合物之含量為0·0 1〜3重量份之範 圍内的樹脂組合物。 5. 6. 如。月求項1至4中任一項之積層體之製造方法,其中上述 粗化處理之步驟中之粗化處理時間為5〜30分鐘。 如咕求項1至4中任一項之積層體之製造方法其中上述 "周處理之步驟中之膨潤處理時間為5〜30分鐘。 ::广之積層體之製造方法,其中上述膨润處理之 步驟中之膨润處理時間為5〜30分鐘。 143077-1010720.doc 1378864 8.如請求項 …驟Γ 積層體之製造方法,其中上述 0壓乂驟中之層壓溫度為70〜l;30t,Β β π β (Μ〜2.0MPa。 UOC 1層麼壓力為
9. 如請求項5之積層體之製 电冉甲上迷層壓步驟中 之層壓溫度為7G〜13代,且層壓壓力為(M〜2.〇MPa。 10. 如請求項6之積層體之製造方法,其中上述層壓步驟中 之層壓溫度為70〜130。〇,且層壓壓力為〇1〜2()Mpae 11·如請求項7之積層體之製造方法,其中上述層壓步驟中 之層壓溫度為7〇〜13〇t,且層壓壓力為(M〜2.〇MPa。
143077-1010720.doc 1378864 四、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:第(2 )圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 3A 硬化體層 3a ' 12a 上面 11 多層印刷佈線板 12 基板 13 金屬層 五、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式 (無) 143077-1010223.doc
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