TWI317144B - - Google Patents

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1317144 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 特別有關一種對基板 本發明有關一種基板處理裝置 表面供給處理液的技術。 【先前技術】 到目前為止，為了對曝光處理後的基板表面進行顯影 處理’公知有向基板表面供給顯影液等的處理液的基板處 理裝置。例如’在專利文獻1中提出了這樣的基板處理裝 置.將基板以水平狀態向規定的方向進行搬$，同時在該 基板的表面上形成顯影液的液層，此後通過處理進行機構 利用顯影液進行處理，進—步將該基板置為傾斜的狀態之 後，對該傾斜狀態的基板進行清洗 專利文獻1 : jp特開平-8721 0號公報 【發明内容】 根據現有的基板處理裝置，在顯影液進行供給之後， 將基板置為傾斜姿態而供給_液，通過對從基板流落的 處理液進行时而再利H而能夠得到以下效果：能夠 肖J減向下個工序的處理部的處理液的輸出量，從而能夠減 2顯&液的 >肖耗量’同時能夠以傾斜姿態高效地進行基板 '月洗然而，如上所述，當將基板從水平狀態切換到傾斜 狀悲而導致形成在基板表面上的顯影液的液層流落時，產 生在基板表面内不能均句地進行顯影處理這樣的問題。若

2014-8484-PF 5 1317144 :、體來說’由^與搬送基板同時進行顯影液的供給，故基 =表面上的顯影液的液層會從基板的搬送方向的前方依次 1到後方側。由此’基板的前方側會比後方侧先開始基 ,,, 田將進仃者廷種顯影反應的基板切 換為傾斜姿態時，由 al 、 、土板表面上的顯影液流落而變少， ^會導致在基板的整個表面上大 穴致间時顯影反應變緩慢或 二。這樣-來，在顯影液的液層形成時，顯影反應的開 始時機與基板的前方側和後方側 e + p 』狎便万側的不同無關，顯影反應緩 哭或停止的時機在基板整個表面中是大致同時的，導致基 板表面的前方側的顯影反應比後方侧的顯影反應先進行， 而不能夠在I板表面内進行均勻的顯影處理。 本發明是為了解決上述問題而做出的發明，其目的在 、’在以水平狀態在基板表面形成了處理液的液層之後、 將該基板變換為傾斜姿態的裝 此夠用處理液對基板 表面進仃均勻的表面處理。 (1)本發明提供一種基板處 給處理液而進行表面處理，包括基板的表面供 ^ ^匕括.第—搬送機構，其將基 么水平女態進行搬送；液層形成機構，其從搬送方向的 ::二對由上述第一搬送機構進行搬送令的基板的表面的 依次供給第一處理液’從而在基板的整個表面上 乂成處理液的液層；姿態變換機 忐μ n / 具將通過上述液層形 …形成了上述第一處理液的液層的基板的姿態，從 水平安態變換為向上述基板的寬戶 姿態，·追加供給機構，1至少二：斜的規定的傾斜 /、至乂對通過上述姿態變換機構而

2014-8484-PF 6 1317144 T =為上述規定的傾斜姿態的基板的表面，向著上㈣ 至少後部、並且是在上述基板的寬度方向上被 、、〜、斜姿態時成為上側的上端部追加供給上述第一處理 在該結構中，基板在由第一搬送機構進行搬 過液層形成機構對其表面的整個寬度形成液層。 = =基板被第-搬送機構搬送到姿態變換機構；= 了換為向上述基板的寬度方向傾斜的規定的傾斜 文心。變化為這種姿態之後，或者也包括進行攻” 前後甚至姿態變換中，即， 文心、變換的 =傾斜姿態的基板表面，向著搬送方向二被變 上34基板的寬度方向上被置為傾斜姿態時成為i側的 上鈿部追加供給上述第一處理液。 ，.、、側的 (2 )本發明提供的基板處理裝置包括. 其以上述規定的傾斜姿態搬送通過上述追—搬送機構， 加供給了上述第—處理液的基板；第二處理^…機構而追 其從墙送方向的前端側依次向由：述第：：：機構： 订搬运令的基板的表面供給與上述第—處理运機構進 處理液。 乐處理液不同的第二 在該結構中，追加供給了第一處理 送機構以傾斜姿態被搬送並使第-處理液产；：第二搬 過第二處理液供給機構，從上述搬：：方接著，通 的表面依次供給與上述第-處理液不同的第虛方侧向基板 ⑺本發明的基板處理裝置的 理液。 迫力i、给機構對上

2014-8484-PF 1317144 a般送方向上的基板全長進行上述第— .給。 处理液的追加供 纟該結構中，通過追加供給機構 斜姿態的基板向搬送方向的基板全長追二:被變換為傾 液。由此，與只對上述搬送方向上的二第-處理 處理液時相比，能夠針對上述搬送方向上的 分減低處理的進行程度的差異。 义 部 (4)本發明的基板處理裝置的上 ’述搬送方向.上的基板的後部側供 ：：機構對上 比對前部側供給的第一處理液多。第4理液的供給量 在該結構中，由於對用第一處理液 始的向基板的後部側的第一處理液的開 相對較多，所以能夠對基板整個表面均勾地進比 向上二):::的基板處理裝置的上述追加供給機構具有 向上述基板喷出上述第一處理液的喷嘴，該噴 2 通過上述姿態變換機構進行姿態變換的基板的位置關传的 同時，上述姿態變換連動而移動的結構，並且=用的 上述姿恶變換機構進行的上述姿 換中哈屮h ,十1 ★ 安Ά換的别後以及姿態變 供：喷出上述第一處理液從而進行上述第一處理液的追加 /構中由喷嘴疋維持與通過姿態變換機 行安態變換的基板的位置關係的同時並與上述姿態變換連 動而移動的結構，所以能夠與基板的姿態無關而通常維持 與基板的位置關係。來自該喷嘴的第一處理液的追加供认

2014-8484-PF 1317144 從基板處於水平姿態的狀態開始，在向著傾斜姿態變換中 也-直持續。在開始了將基板向著傾斜姿態進行變換動作 後開始第一處理液的追加供給時，在追加供給第一處理液 之前，存在於基板的上端部的第—處理液從基板表面泣 落，產生了在基板上端部不存在帛__ p 抓 r^ ^ 處理液的時間段，在 此期間，基板的上端部容易乾燥，但在該結構中，從基板 處於水平姿態的時刻開始第一處理液的追加供給，所二能 夠防止基板上端部乾燥。 & 1 (6)本發明的基板處理裝置包括有限制構件，盆配置 在上述喷嘴的附近，並且從該喷嘴偏向基板的寬度^向的 中央侧，相對基板表面具有規定的間隙。 在基板處於水平姿態的狀態下開始第一處理液的追加 供給時，新供給的第一處理液原樣浸入已經在基板表面上 進行了處理的液層，該浸人部分有可能導致產生處理不 均，但在上述結構中，通過限制構件，暫時阻止新供仏的 第一處理液流到處於水平姿態的基板的端部，從而能夠抑 制浸入已經存在的液層，防止在基板表面上產生處理不均。 ⑺本發明的基板處理裝置的上述追加供給機構具有 向上述基板的搬送方向延伸的狹縫狀的液體供給口。 在該結構中’從液體供給口被供給的第一處理 基板表面被均勻擴散供給。 、 ⑴本發明的基板處理裝置的上述追加供給機構從上 W各。卩位對搬送中的基板的全長進行上 處理液的追加供认 Ο i、A，並且，對上述追加供給機構的各部位

2014-8484-PF 9 1317144 中的、與上述基板的後端通過的位置對應的部位依次停止 第一處理液的供給。 、 根據該結構，對因基板搬送而與基板的後端通過的位 置對應的追加供給機構的部位依次停止第—處理液的供 給，所以不會無用的供給第一處理液，從而減低第一處理 液的消耗量。 (9 )本發明的基板處理裝置，在上述姿態變換機構中， _在與被變換姿態的基板的上述寬度方向的上端部對應的下 方位置，設有接收從上述追加供給機構所供給的第一處理 液的處理液接收部。 根據該結構，在與變換姿 上端部對應的下方位置，設有 的第一處理液的處理液接收部 部側落下的第一處理液被高效 飛賤15 態的基板的上述寬度方向的 接收從追加供给機構所供給 ，所以在從基板表面的上端 回收的同時，报難產生液體 、（1〇)本發明的基板處理裝置，在上述第二搬送機構 的上述搬送方向下游側的規定位置，設有對被上述第二搬 迗機構搬达的基板的表面上所殘留的第一處理液進 的阻液機構。 從 在該結構中 的基板表面供給 換機構的上述搬 阻播基板表面上 以能夠將第一處 ，即使追加供給機構繼續對處於傾斜姿態 第一處理液，也能夠通過設在上述姿態變 送方向下游側的規定位置的阻液機構，來 的第一處理液，而將其限制為—定量，所 理液的向下一個工序的處理部的輸出限制

2014-8484-PF 10 1317144 在—定量。 將從基板搬送方向的前方向後 液的液層進行的處理反應開始 態’即使基板表面的第一處理 搬送方向上成為後部側的基板 ’所以能夠使基板表面上的第 根據（〇記载的發明， 方側依次進行的由第—處理 的狀態下的基板置為傾斜姿 液流落，由於至少對在基板 上端部追加供給第一處理液 一處理液接近均勻的分佈。 根據（2 )記載的發明，+ # 端#丨^ ^ , 在基板搬送方向上的基板的刻 Μ谢，因由第二處理液供认 給，利用第-虚㈣舶 行的第二處理液的供 ' 進行的處理變得進行緩慢或停止。 /夠在基板表面的各部分Μ地進㈣Μ ___ 的處理’而消除基板表面的處理不均。 從而！通過傾斜基板而使表面上的第-處理液流落， 另外，能夠減低向下一個工m第二處理液的置換， 能夠高效回收第一處理液。序的弟一處理液的輸出量，並 根據（3 )記載的發明，追 傾斜姿離的^在M ^ L、、、。拽構至少對被變換為 U基板在搬达方向的基板全長追加供仏 :理液，所以持續對基板的整個面進行處理，二對：- 搬送方向上的後部側追加供給第-處理液時相 差異。 板表面各部分的處理的進行程度的 根據（4 )記載的發明， 緩慢開始的向基板搬送方向 由於用第一處理 的基板後部侧供 /夜進行的處理 给的第一處理

2014-8484-PF 11 1317144 液的供給量與前部側相比 表面進行更均句的處理。 夕’所以能夠對基板整個 根據（5 )記載的發明， 刻開始追加供給第—處理液=基板處於水平姿態的時 基板的上端部的第-處理液從基板表面 間;，=!;生在該基板上端部不存在第-處理液的時 ”又從而能夠防止基板上端部乾燥。 根據（6)記載的發明，通過限制構件，暫時阻止從追 加供給機_處於水平❹η阻止攸追 到基扳的端部m 新供給的第-處理液流 的液戶： 夠抑制浸入已經存在於基板表面上 的液層’所以能夠防止在基板表面產生處理不均。 其板=由Γ衝撞了限制構件之後從追加供給機構對 土：第一處理〉夜’所以能夠對基板表面均勾的供給第 一處理液。 :據⑺記載的發明，追加供給機構具有向基板的搬 ^ "延伸的狹縫狀的液體供給口，所以，從該液體供給 口供給的第—處理液以相對基板表面均句的擴散的方式被 供給。 、根據⑴記載的發明，對通過基板搬送而與基板的後 知通過的位置對應的追加供給機構的部位依次停止第一處 理液的供給，所以不會無用的供給第一處理液，從而能夠 減低第一處理液的消耗量。 根據（9 ) δ己冑的發明，&夠在從追加供給機構供給的 第一處理液被高效回收的同時 能夠難以產生液體飛濺。

2014-8484-PF 12 1317144 根據（1 ο)記載的發明， 於傾斜姿態的基板表面供給第一二供賴繼續對處 機構來阻擋基板表面上的第 1 “夠通過阻液 量，所以能夠防止將向二:而將其限制為-定 理液超過一定量。 序的處理部輸出的第—處 【實施方式】 下面’參照附圖’針對本發明的— 板處理裝置進行說明有關的基 疋不忍地表示本發明的第— 施例有關的基板處理裝置 貫 示利用阻液到板45進Λ 視圖。圖2是表 w, 進仃液體阻斷的狀況的圖。該基板處理 “卜例如對矩形的LCD用玻璃基板（以下，僅稱：里 板）S的表面供給作為處 ，..、土 然後供給清洗液進行清洗處理。 處理， 基板處理裝置1白杯. 態被搬送的基板s的表曰形成至2 ’其對以水平姿 、而在基…二=顯影液，因顯影液的表面張 1保持m㈣、 的液層；處理進行室3， ...... ‘、，衫液的液層的基板s，利用液μ 進行處理；姿態變槌玄 胃H衫液 、4，其將利用顯影液的液屛卢 結束後的基板s的姿能踨^ 〕液層的處理 時，在m妾“水平姿態變換為傾斜姿態，同 呀在本只細例申，還包括.、、主 基板S的表面供一,卜 至5,其對傾斜姿態的 .*、 月洗液從而進行清洗，·乾燥室fi，觉店 >月洗後的基板§進行& p , ’、使 基板變換回水平姿態 增換室7’其將乾操後的

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13 1317144 、 七成至2中设有：搬送親（第一搬送機構）2i , 其將基板S以水平姿態進行搬送；顯影液供給喷嘴（液層 开7成機構）22 ’其對由該搬送親21以水平姿態搬送的基板 S的表面供给顯影液’從而在其上表面形成顯影液的液層。 通過泵二2向顯影液供給喷嘴22來供給存積在顯影液槽u 中的顯衫液。顯影液供給噴嘴22具有向與基板s的搬送方 向垂直的方向（基板S的寬度方向）延伸的長度，從而向 基板S的整個寬度來供給顯影液。 处理進行至3中設有搬送輥（第一搬送機構）， 其接收通過搬送輥21自液層形成室2以上表面上形成了顯 影液的液層的狀態下被搬送來的基板s，並在該狀態下保 、:板纟⑯旋轉軸的多處設置與基板的下表面接觸的 支撐圓盤，從而構成搬送輕3卜此外，本發明的第一搬送 機構是指這樣的搬送輥：配設在傾斜機構48的基板搬送方 向上游側’對接受由顯影液供給㈣2 2進行的顯影液供給 的基板S進行搬送。 在姿態變換室4設有搬送輥（第二搬送機構）“，盆 接收通過搬送輥31自處理進行室3以形成了顯影液的液層 的狀態下而搬送來的基板s’並保持該基板。搬送輥“與 H*31、。構相同。另外，在姿態變換室4中設有傾斜機 〜、能夠將搬送輕41的姿態切換為以水平姿態保持 S的狀態、和在與基板搬送方向垂直的方向上以傾斜的傾 斜姿態保持基板S的狀態。錢㈣對該傾斜_進行敍 述0 '

2014-8484-PF 14 1317144 通遇04種傾斜機構，在姿態變換室4 置為水平姿態，在其接收到了自處理進 觀4】 31以水平㈣被搬送來的基板S之後，H搬㈣ 其旋轉軸方向上的—端部向上方移動，：:：…1使 垂直的方向上以傾斜的狀態搬送基板8。〃板搬运方向 進而，在傾斜機構上設有位於成為上述傾 反S的寬度方向上端部側的位置的、4〜、土 供給機構)-。該顯影液補充喷嘴4 充喷嘴（追加 進行向著傾Μ %判向利用傾斜機構開始 «追加供1=換在Τ::表面的上端部，如後述 的結構。”、 彳面洋細敍述顯影液補充嘴嘴43 另外，在姿態變換室4中的傾斜機 下游側設有阻液到板（阻液機 板“方向 在於變換姿態之後的基板S的二 而將其限制為一定量。阻液刮拓仏^顯衫液進行阻斷， 垂直的方向延伸的長條 基板S的表面平行相向…反开4 ’與處於傾斜姿態的 被配設為自基板S的表面一 _不’阻液刮板45 層的基板s通過阻液刮板45的下=間^ d。在形成有液 液層被阻液刮板4 5的 ：’基板S的表面上的 輸出到阻液到㈣的基板:二^ 上的顯影液量變為—定s ° ,㈣的基板S的表面

的表面的間隔d進行；；:=該阻液刮板-與基板S 而輪出到阻液刮板45 Μ此夠將伴隨著基板8的搬送 的基板搬送方向下游側即作為下一

2014-8484-PF 1317144 個工序的處理部的清洗室5的顯影液量調整為期望的量。 此外’由液層形成室2、虛：® % 。 羼理進打室3、姿態變換室 而，成顯影處理室，在這些室的下方設有回枚顯影液的接 ^容器Τ2、Τ3、Τ4。由接收容器Τ2、Τ3、η目收的顯影 液被回收到顯影液槽11而進行再利用。 清洗室5具有：搬魏51，其接收通過搬送輕 姿態變換室4以傾斜姿態被搬送來的基板s，並以 傾斜姿態來搬送該基板；清洗液供給㈣52，其與基 的傾斜角度吻合，向與基板搬送方向垂直的方向延^ 通過搬送輥51以傾斜姿態被搬送的基板s的上表面供认生 洗液；清洗液供給喷嘴53，其對基板s的下表面供給= 液。清洗液供給噴嘴52、53與作為清洗液的超純水供 55相連接。搬送輥51是與搬送輥21由同樣的帶鍔、

支撑報構成。通過由上述清洗液供給噴嘴52對基板S Γ共給清洗液’將存在於基板s的表㈣顯影液置換為該义 b洗液’從而停止利用顯影液的㈣對基板s的表 的顯影處理。 丁 一乾燥室6具有：搬送輥61，其通過搬送輥5ι自清洗 室5接收以傾斜姿態搬送來的基板s，並以相同的姿 «搬送該基板；氣刀62，其對通過搬送輥61以傾斜姿 的基板S的上表面吹拂空氣’從而吹走清洗液而使 氣刀63,其對基板3的下表面吹拂空氣，從而吹

::洗液而使其乾燥。搬送輥61與搬送輥21由同樣的帶 舞的端緣支撐輥構成。 2014-8484-PF 16 1317144 乾燥室7設有搬送輥71，其通過搬送輥61自 盘搬送輕21由送來的基板S’並保持該基板。搬送親71 ::二樣的帶鍔的端緣的支標輕構成。另外，在 Γ 有傾斜機構72，其將搬送輥71的姿能 刀換為以水平姿態保持基板s 心、 以向右下傾斜的傾斜姿態伴持^ 和向基板搬送方向 丨文也保符基板S的狀態。田盔猫 構72的結構與傾斜機構“ ‘ <，·、、"機 示和說明。 致相同，所以省略詳細的圖 此外，雖然在圖i中沒有表示，但各室通 的霧沫不會相互浸入等的 ° ^次 各搬送輥21、31、41、51 被隔開。另外， 轉驅動，包括了它們各自… 圖示的驅動源所旋 :處理裝置1整體的動作，通過由未圖示的== 成的控制部來控制。 圭電腦所構 =，針對姿態變換室4的傾斜機構進行說明。圖3 疋表不進仃基板S的姿態變化之前的 視圖，圖4是表示進行基 W頁斜機構的側 斜機構的侧視圖，圖5是表示傾斜== 喷嘴43的配設處附近的部分放大圖。I頁影液補充 在本實施例中，設置於姿態 態變換機議以搬送輕41的；:二4中的傾斜機構(姿 從而使搬送輥41的長度方向上的；1:部：旋轉轴’ 搬送車昆的姿態以使其在與 而下^夕動’變更 具有傾斜，由此，在水平姿態與傾斜直的方向上 ’、戈' 九、之間變更安裝於

20I4-8484-PF 17 1317144 搬送報41上的基板s的姿態。 傾斜機構48具有基板保持主體彻，該基板保持主體 由對搬送輥41的長度方向兩端部可自由旋轉地進行軸 支擇的軸支部购、481b、和舆兩個轴支部ma、他 連接的底部482構成。在該基板保持主體48〇中的搬送輥 41的長度方向的一端部側（軸支部㈣側 483。另外，在作為搬送輥 得孕由 、视4丨的長度方向上的另一端 的轴支部㈣上設有使該另一端部上下移動的氣缸似。 並且’在軸支部4仏上設有向搬送輥41傳輸旋轉驅動力 的驅動馬it 485。在姿態變換室4的外殼4()上設有孔部 、4〇3，該孔部402、403能夠防止使用傾斜機構48在 姿態變更時與其他槿株4日+揚 稱件相干擾，從而能夠進行姿態變更動 作。 另外’基板保持主體48〇的底畜p 482設有蓋部486， 該蓋部傷用於防止從顯影液補充噴嘴43向基板S供給的 顯影液從外殼40的孔冑4〇2漏到外部。顯影液補 43設置在該蓋部486上。因此，當氣缸484驅動搬送輥41 的上述另一端部上下移動而使基板保持主冑48。以旋轉轴 483為中心進行旋轉時，顯影液補充喷嘴43與基板保持主 體480 —起上下銘私、丄说 -h '、、 亡m 動。這樣一來，由於基板s與顯影液補 通過基板保持主體_以及蓋部486而-體的移 動’從而安裝在搬送報41上並進行姿態變換的基板 =充她的位置關係即在這裏是基板❻顯影二 充喷嘴43的間隔基本被維持為—定，而與基板^姿態變

2014-8484-PF 18 1317144 換無關。 並且，蓋部486在顯影液補充喷嘴43的下方設有具有 長條的碟狀的處理液接收部487。處理液接收部柁7用於 在從顯影液補皆」q 〇 ,,, 中… 向基板S的上端部供給的顯影液 ’又有流到基板s的表面而從基板s的上端部側落到 下方的«液進行接收。通過該處理液接收部487對從顯 ^充！嘴43供給到基板s的表面的傾斜方向上端部並 :土反S洛下的顯影液高效進行回收’儘量使落下的顯影 液不產生液體飛濺。 此外’雖然沒有特別圖示’但為了使從顯影液補充喷 嘴43供給的顯影液、從基板s表面落下的顯影液落入外殼 4°的底面4°卜而在基板保持主體480的底㈤482設有空 隙如圖3以及圖4所示，外殼4〇的底面4〇1向搬送報 41的長度方向的一端部形成向下傾斜的傾斜面401a，在該 傾斜面401a的最下位置附近設有回收口 4仙，該回收口 鲁401b用於對由該傾斜面4〇1&所集中的顯影液進行回收從 而使其回到顯影液槽11 (參照圖丨）。 接著，參照圖5，對顯影液補充喷嘴43的結構進行說 明顯衫液補充喷嘴43具有相當於搬送輥21、^“搬 :土板搬达方向上的基板s的全長的長度。顯影液補充 喷觜43具有.顯影液接收供給部431 (參照圖5 )，其接 又從圖1所不的泵12供給存積在顯影液槽11中的顯3 液；顯影液喷出噴嘴433’其通過軟管似從該顯影液^ 收供給部4 31桩禹加@ u 接又顯影液的供給，然後將顯影液向基板s

2014-8484-PF 19 1317144 噴出。在顯影液喷出喷嘴433上設有 噴出口 433a。顯影液喷出口 433a可以沿顯影液的顯影液 疋的間隔並列設置多個圓孔狀的喷出口 + U方向以規 沿著搬送方向的狭縫形狀。 ，或者也可以做成 並且’在顯影液噴出噴嘴433上 件）434。限制板434配置於盥顯與液+ 、制板（限制構 液喷出口 433a相… 贺出噴嘴433的顯影 的顯影液碰撞限制1=^^^ 顯影液被供給到基板二表_ 的顯影液若與限制板434的側面 产出口 433a贺出 一放而形成均勻的面狀，從而則在該側面 =s。由此’能夠對基板Μ表面均句地供給顯影液。 卜供在從顯影液噴出口 433a對處於水平姿態的基板§的 U影㈣，能夠這樣進行規定：在基板S的表面 ，使s亥新供給的顯影液分佈於從與基板搬送方向垂直的 =上的端部到限制板434的設置位置，而使顯影液很難 到達比限制板434更向内的基板s的表面内側。 、，此外，也可以使從顯影液噴出口仙喷出的顯影液不 石亚撞限制板434 ’而直接供給到基板s表面。此時也可以 規定為使顯影液报難到達比上述限_ 434更向内的基板 S的表面内側。 另外，限制板434的下端部與基板S表面之間的間隙 的距離dl认為例如3_左右。並且’與基板搬送方向垂直 的方向上的基板s的端部（顯影液補充喷嘴43側）與限制

2014-8484-PF 20 1317144 板似之間的距離設為例如5μ 顯影液噴出口 433a噴屮& # 由此此夠防止從 之中從-般不作為處==7液到達在基板S的表面 域。此外，此時的來自二板端緣到1〇_左右的區 為例如ίο升/分产乂右液喷出口 433a的顯影液喷出量 434更向顯鸟、…广基板S的端部以比限制板 處理液接二二: -.._ 在至父假定為從顯影液喷出口 433a ，態變換室了 :方即可。例如’在從基板S進入姿 或在基： ：:: = =液補充嘴嘴43供給顯影液時， 喷嘴43…變換姿態後還從顯影液補充 液。 液時，都能夠直接接收到落下來的顯影 離、變L者，針對由上述結構構成的傾斜機構48所進行的姿 j呆作、和從顯影液補充噴嘴43供給顯影液，表昭上 述圖3以及圖4進行說明。當基板S從基板搬送方向：游 側的處理進行官3的物i游 送輥31被交接到姿態變換室4的搬 达輥〇並且基板s向傾斜機構48上的移動結束時，在此 =Γ止由搬送輥41進行的基板s的搬送。然後，傾斜 484向上方向抬起軸支部 為㈣中心，向圖3的箭頭Α方向轉動基板保持主體 糊。氣叙484的抬起量即基板保持主體48〇 被操作人員（用戶）預先設定的量。由此，如圖4戶^為 搬送輥4i以及搬送輥41上所裝載的基板 角度的傾斜姿態。 更換為規疋

2014-8484-PF 21 1317144 從顯影液補充喷嘴43開始供技顯岑y & 特並的限定，⑴可輯_ ς 4的時機並沒有 F1^ ⑴了^基板8進人到姿態變換m 開始，也可以從基板s進入了 心變換至4之後開始；（2) 與由傾斜㈣48進行姿態變換動作同時的時 補充嘴嘴43供給顯影液。』後的時機，開始從顯影液 傾斜!Γ/Γ機構48㈣進行姿㈣換動作時，在處於 面白；：的基板S表面形成液層的顯影液開始從基 裏.’由於在搬送基Μ的㈣，由在比姿態 22:至4更向基板搬送方向上游側配設的顯影液供給喷嘴 =于顯影液的供給，所以在基板s的表面從基板s的搬 的：：的前方向後方側依次形成顯影液的液層，從而基板 側比後方側先開始在基板s表面上的顯影反應。在 "4m進行基板s的向傾斜姿態的變換動作， =來自顯影液補充噴嘴43的顯影液供給時，基板s :個 2的顯影液同時流落’在基板s整個表面顯影反應同時 7 或停止’在基板S的前方側的顯影反應比後方側先 ,行的狀態下’基板S被搬送到下—個工序的處理部。作 Z在本實施射，在姿態變換室4 +，通過上述顯影液 ，充贺嘴43,對基板S表面如上述那樣供給顯影液，所以 Μ吏將基板S變換為傾斜姿態而顯影液從表面流落，也能 2過新供給的顯影液而使基板8表面上的顯影液的液層 1、、均勾’而防止基板s表面上的上述顯影反應變緩慢或 停止。

2014-8484-PF 22 1317144 ，時，由於基板5表面上的上端部的顯影液量特別容 认乙魅、’另外’如果對置為傾斜姿態的基板s的上端部供 、”“液’顯影液就由此在基板s表面流向下方而遍佈基 板S表面的各個區域，所以從顯影液補充喷嘴“向該基板 S的上端部供給顯影液。此外’即使旋轉基板保持主體 480 ’由於顯影液補充喷嘴43與基板保持主體彻一起上 下移動’ k而基板s與顯影液補充喷嘴43之間的間隔被维 持為-定，而與基板s的姿態變換無關。由此，不拘泥於 與基板S的傾斜姿態以及來自顯影液補充喷嘴43的顯影液 供給時機’而能夠確實對基板s的上端部供給顯影液，另 外由於對於基板s表面的接受液體狀態穩定，所以 產生處理不均。 當利用上述傾斜機構48的姿態變換動作結束時，再次 開始通過搬送輥41來搬送基板S’基板s向基板搬送方： 下游側的清洗室5被搬出。利用該搬送輥41的基板s的搬 出中，也通過顯影液補充噴嘴43對基板S表面的上端繼續 供給顯影液。當通過搬賴41將基板s完全從傾斜機$ 48搬出時（或者完成向清洗室5移動時），停止利用㈣ 液補充喷嘴43供給顯影液。 ' 當基板S移動到清洗室5時，接受由清洗液供給喷嘴 52對基板S表面供給清洗液’從而基板8表面的顯影液被 置換為清洗液。由此，從基板搬送方向上的前方側開始依 次停止利用顯影液的液層進行的基才反s表面的暴員影處理。 通過如上述那樣供給處理液，將從基板搬送方向的前

2014-8484-PF 23 1317144 方向後方侧依次進行由顯影液的液層的處理反應的基板s 置為傾斜狀態，從而即使基板s表面上的顯影液流落，也 由於從顯影液補充喷嘴43向基板s的上端部追加供給顯影 液’而能夠使基板S表面的各部分的顯影液分佈均句保 持。另-方面，基板搬送方向的前方側的基板3表面接受 來自清洗液供給喷嘴5 ? 66、生、、it、、* ω , Λ 、少 、 、/月冼液仏給，並停止利用顯影液 ^丁的處理。由此，在基板s表面的各部分，㉟夠均勾地 得到利用顯影液進行的處理效果，並能夠消除產生基板s 表面上的處理不均。 此外，本發明並不僅限於上述實施例的結構，而可以 有種種的變形。例如，顯影液噴出喷嘴433可以是如下所 示的裝置。圖6以及圖7县« 丄一 疋表不顯W液噴出噴嘴433的豆 他貫施例的圖。在上述實施例中， '、 ψ 雖然表不了在顯影液喷 、背奶上設置有限制板m的方式，但是也可以如圖 43ΓΓ円8所示’不在顯影液喷出喷嘴433上設置限制板 接噴出二6广表示沒有設置限制板434，而將顯影液直 嘴出到基板s表面的方式的顯影液喷出喷嘴4331。在該 .，、頁衫液喷出喷嘴4331中，顯影液噴& h朴μ 赁出口 433!a的形狀被做 成為狹縫狀。由於將顯影液喷出 狀，妬，、，B 印4331a的形狀做成狹縫 狀所以即使沒有限制板434也能夠對美杯ς主 供給顯影液。 丨基板S表面均勻的 另外，在圖7中，表示具有由將 變窄的多個圓孔形狀的喷出口構_ ==彼此的間隔 的顯影液嘴出喷嘴備。這樣_來^^噴出口 4332a 由於從將各噴出口彼

2014-8484-PF 24 1317144 此的間隔變窄的多個圓孔形狀的喷出口喷出顯影液，所^ 即使沒有限制板434也能夠對基板s表面均句的 = 液。 碩衫 另外，如圖8所示，即使是具有狹縫形狀的顯影 出口 43仏的顯影液喷㈣嘴433卜也可以在顯影液 口魏的附近設置限制板434。此時，能夠進行限定： 得使顯影液很難到達比上述限制板似更向基板s 内側。另外，由於對從限制板434的下端部到基板又 的距離们進行調節，所以在處於水平姿態的基板8表: 上，也能夠進行調節而使顯影液從與基板搬送方向垂 方向上的端部到達什麼程度的内側。 的 嘴各實施例中，持續進行從顯影液補充噴 …：液’直到來自傾斜機構4 8的基板s的移動 通過搬送輥41完成將基板s搬出到清洗室 基板8的搬送狀況而依次停止從基板搬送二 如圖9心卜^各^喷出顯影液。此時的例子 液，出口 433〗 在圖9中，雖然對具有狹鏠狀的顯影 制芦卜封a⑨a的顯影液喷出喷嘴4331進行了圖示，但控 π :〜員影液嘴出的方式可以適用於上述任音一個實施 例中的顯影液噴㈣嘴。 江任w個貫施 方向將顯影液喷出喷嘴4331相對於基板搬送 個構件卜e疋^構件數（部位數），在本例中被分為五 的結構。並且二 控制在每個構件是否喷出顯影液 丨吼者由搬送輥41搬送基板s而向清洗室5

2014-8484-PF 25 1317144 行進，依次停止_! 的基…後：：：：:喷嘴中的基板搬送方向上 4331的顯影液噴屮 構件的來自顯影液喷出喷嘴 ± ^ , 由於因基板s通過過多而益法到達其 表面的顯影液（没有 夕而一去到違其 顯影液的喷出，…=、·Ό)疋無用的，所以停止該無用的 攸而減少顯影液的供給量（消耗量）。 進而’如圖]η於- 搬送方向上八；^ 將顯影液喷出喷嘴4331在基板 如，在對基板S的rmr的喷出量可變的控制。例 各構件的顯影液喷出；:、::=，依次切換控制來自 板搬送方向上游側部八的j基板s的表面上來自通過基 自通過基板搬适方二的顯影液噴出量變少’來 變多。：游側部分的各構件的顯影液喷出量 得早。此ΐ，最^板搬送方向上游側部分的顯影處理進行 ,ν 以在基板s表面上從基板搬送方向上游

刀越向下游側部分顯影液噴出量越少的方式來調整來 自各構件的顯影液嘴出f D 上游如m 卜，可以只從基板搬送方向 二游：（基板5的後端側）的構件（例如只 顯影液。 u ^ 另外’上述各貧施例所示的傾斜 噴嘴43、阻液到板45的&3 + t 頌〜液補充 以做適當變更。45^構只是本發明的一個例子，可 另外，本發明對麵影處”^供給顯影液 式進行了說明，但本發明並不僅限於此，也可以、尚用 給其他處理液的機構。例如，可以在進行韻刻處；、=

2〇i4-8484~PF 26 1317144 處理、預清洗處理等的各種處理中適用 【圖式簡單說明】 圖1疋不忍地表示本發明的第-實施例有關的基板處 王沒置的整體結構的側視圖。 ® 7表丁利用阻液刮板進行液體阻斷的狀況的圖。 钭二沾疋表丁處於進行基板的姿態變換之前的狀態的傾 斜機構的侧視圖。 圖4是表示處於谁^其 钭機it Α π、目胃 土板的女態變換之後的狀態的傾 针機構的侧視圖。 圖5是表示傾斜機構中的 近的部分放大圖。 ”，如液補充喷嘴的配設處附 圖6是表示顯影液喷出噴嘴 Η 7疋表不顯影液喷出噴 一 ® 8 - ss 、、’、他實施例的圖。 圖8疋表不顯影液喷出嗔嘴的 圖9是表示依次p 一他貫鈿例的圖。 嘴嘴各部分供給顯影液時的顯影液噴：：t的顯影液補充 圖1 〇是表示對從基板搬送方向、當的圖。 各部分供給的顯影液供給量進 的顯影液補充喷嘴 喷嘴的圖。 "。整控制時的顯影液喷出 【主要元件符號說明】 1〜基板處理裂置； "〜顯影液槽；

2014-8484-PF 27 1317144 12~泵； 2〜液層形成室； 21〜搬送輥； 22〜顯影液供給喷嘴； 3〜處理進行室； 31〜搬送輥； 4〜姿態變換室； 40〜外殼； 401〜底面； 4 0 1 a ~傾斜面； 4 0 1 b〜回收口； 402、403〜孔部； 41~搬送輥； 43〜顯影液補充喷嘴； 43卜顯影液接收供給部； 4331 ~顯影液喷出喷嘴； 4331a〜顯影液喷出口； 4332〜顯影液喷出喷嘴； 4332a〜顯影液喷出口； 432〜軟管； 433〜顯影液喷出喷嘴； 4 3 3 a〜顯影液喷出口； 434〜限制板； 434a〜侧面； 28

2014-8484-PF 1317144 4 5〜阻液刮板； 48~傾斜機構； 480〜基板保持主體； 481a、481卜軸支部； 482~底部； 4 8 3 ~旋轉軸； 484〜氣缸； 485~驅動馬達； 486〜蓋部； 487〜處理液接收部； 5〜清洗室； 6〜乾燥室； 7〜姿態變換室； 51~搬送輥； 52、53〜清洗液供給喷嘴； 61〜搬送輥； 62、63~氣刀； 71~搬送輥； 72〜傾斜機構； S〜基板。 29

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Claims (1)

1. ^1317144 第S5142791號申請專利範圍修正本 8.6 對基板的表面供給處理液而進 十、申謗專利範圓： 一種基板處理裝置 行表面處理， 其特徵在於包括： 第-搬送機構，其將基板以水平姿態進行搬送，· 液層形成機構，其從搬送方向的前端側對由上述第一 搬送機構特搬送巾的基板的表面依次供給第—處理液至 與該搬送方向垂直的方向的寬产 & J町見度方向的全體，從而在該基 板的整個表面上形成處理液的液層； 姿態變換機構，其將通過上述液層形成機構而形成了 上述第—處理液的液層的基板的姿態， 向上述寬度方向傾斜的規^的傾斜m u換為 追加供給機構’其至少對通過上述姿態變換機構而姿 1換中的基板，向著基板的表面中、上述搬送方向上的 至 > 後部、並且是在上述規定的傾斜姿態的上端部的位置 追加供給上述第一處理液。 如申明專利砘圍第1項所述的基板處理裝置，i 中，包括： 、'第一搬送機構，其以上述規定的傾斜姿態搬送通過上 述追加供給機才舞而追加供給了上述第一處理液的基板；及 第一處理液供給機構，其從上述搬送方向的前端側向 由上述第二搬送機構進行搬送中的基板的表面依次供給與 、、第處理液不同的第二處理液。 3.如申請專利範圍第1項所述的基板處理裝置，其 2014-8484-pp ] 30 1317144 二；述：加供給機構對上述搬送方向上的基板全長進行 上述第一處理液的追加供给。 退仃 4·如申請專利範園 圍第3項所述的基板處理裝置，复 中，上述追加供給機構對t撤l 发1其 供給的第-處理液的供^_的基板的後部側 多。 供、、·° I比對刖部側供給的第一處理液 5. 如Μ專利範81第1項所述的基板處理裝置，其 2述追加供給機構具有向上述基板噴出上述理 =嘴，該喷嘴是維持與通過上述姿態變換機構進行姿 板的位置關係的同時並與上述姿態變換連動: 攻 在利用上述姿態變換機構進行的上述 文心' 變換的前後以及姿態 # 〜 、雯換中噴出上述第一處理液而進 仃上述第一處理液的追加供給。 6. 如申請專利範圍第5項所述的基板處理裝置，其中， 包括有限制構件，f f + i i i 該噴嘴偏向基板的寬喷嘴的附近’並且從 規定的間隙。^方向的中央侧，_基板表面具有 7·如申Μ專利範圍第1項所述的基板處理裝置，中， 狹給機構具有向上述基板的搬送方向延伸的 狄縫狀的液體供給口。 中申〜專利範圍第2項所述的基板處理裝置，其 宜述追加供給機構從上述搬送方向的各部位對搬送中 、土、的全長進行上述第一處理液的追加供給，並且，對 ^加供給機構的各部位中的、與上述基板的後端通過 2014-8484-PF1 1317144 的位置對應的部位依次停 I徂很人1T止第一處理液的供給。 y.如申請專利範圍第2 Φ . L 項所述的基板處理裝置，其 在上述姿態變換機構中， 述ta 在與被變換姿態的基板的上 <見度方向的上端部對應的 加供认嫵毯 位置，設有接收從上述追 加供給機構所供給的第一處 ίο.如申請專利範圍第2項：==接收部。 中，在上述第二搬送機構的上述搬送方二板處理裝置’其 置，設有對被上述第二搬送機M ^方向下游侧的規定位 塑玷黎. 機構搬送的基板的矣%& 留的第一處理液進行阻擋的 板的表面上所殘 2014-8484-PF1 32