TW566078B - Electromagnetic wave shielding sheet - Google Patents

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566078 A7 B7 五、發明説明（1 ) 技術領域 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明係有關於，配置在顯示器等電磁裝置之觀察側 可遮蔽電磁波，並能透視顯示器等電磁裝置之電磁波遮蔽 片狀物。 先行技術 電磁裝置所產生之電磁波，被指對其它電磁裝置、人 體或動物有不良影響，故有種種電磁波遮蔽手段之要求。 尤其是，電漿顯不器（下稱「PDP」）因會產生30百萬 赫至130百萬赫之電磁波，對電腦及週邊設備有不良影響 ，該電磁波有層可能不外漏之需求。 遮蔽電磁波之手段有例如，以由高導電性材料構成之 外殼覆蓋之方法，或以導電性網被覆之方法。此等方法因 有損於電磁裝置之透視性，不適於需予觀察之裝置。另一 方面，有於透明膜上形成透明氧化銦錫（下稱「ITO」） 膜者之開發，但ITO膜透視性雖高，因導電性低、電磁 波遮蔽力差，結果僅限用於電磁波之產生少的裝置。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 另一方面，有兼具電磁波的遮蔽力及透視性者之開發 ，係於膜上層合之金屬箔以蝕刻緊密形成開孔部，成網狀 片狀物。其中更有調控金屬箔厚度、網目大小而可遮蔽與 PDP所產生之同級電磁波，並提升顯示器畫面之視認性者 之提供。 蝕刻而得之網狀金屬箔，單獨取用困難，故一般係以 黏合劑層將未加工之金屬箔層合於膜上形成層合體’再對 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -5 - 566078 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 —___B7 _五、發明説明（2 ) 該層合體上之金屬箔作圖型蝕刻而形成。 然而，以一般的含氯化鐵或氯化銅之蝕刻液蝕刻時， 黏合劑層著色成淡黃色，會有蝕蝕後之片狀物難爲無色透 明之情況。因此，以如此之片狀物配置於PDP之觀察側 使用時，著色之黏合劑層具濾色作用，而常見PDP的藍 色亮度之下降。 發明槪要 本發明人發現，藉黏合劑層將金屬箔層合於膜上，蝕 刻緊密形成開孔部而成之遮蔽電磁波用片狀物，其黏合劑 層由於蝕刻而著色可予有效防止。本發明即係基於該發現 〇 故，本發明之目的在提供，黏合劑層因鈾刻著色經有 效防止之遮蔽電磁波用片狀物。 因此，本發明之遮蔽電磁波用片狀物係， 至少由透明基材膜、黏合劑層以及電磁波遮蔽層層合 而成， 該電磁波遮蔽層係由開孔部緊密排列之網狀金屬箔所 成，並且爲透明， 該黏合劑層實質上爲無色透明。 圖面之簡單說明 第1圖係遮蔽電磁波用片狀物之實施例的圖。 第2圖係層合網狀金屬箔之層合體的製造方法圖。 (請先閱讀背面之注意事 1♦ 項再填* 裝-- :寫本頁)

、1T —φ 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210><297公釐） -6- 566078 A7 _B7 _ 五、發明説明（3 ) 第3圖係遮蔽電磁波用板之例示圖。 符號 :說 明 10 遮蔽電磁波用片狀 11 金屬箱 11' 網狀金屬箔 11a 開孔部 12 黑化層 13 黏合劑層 14 透明基材膜 15 感光樹脂層 15， 圖型化感光樹脂層 16 圖型 17 紫外線 20 遮蔽電磁波用板 30 觀察側用膜 30， 背面用膜 3卜 31 ’ 多重層 32、 43 、32， 膜 33 ^ 41 、44、33’ 黏膠 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 40 近紅外線吸收膜 42 近紅外線吸收層 50 玻璃基板 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 566078 A7 B7 五、發明説明（4 ) 發明之具體說明 發明樣態 根據本發明之第一樣態可提供，至少層合透明基材膜 、黏合劑層及開孔部緊密排列之網狀金屬箔所成而具透明 性之電磁波遮蔽層而成，黏層劑層實質上無色透明的遮蔽 電磁波用片狀物。根據本發明之第二樣態可提供，本發明 之第一樣態中，上述黏合劑層之L*a*b*示色系的b*値在 -6〇至60之遮蔽電磁波用片狀物。根據本發明之第一 及第二樣態可提供，層合構造整體之著色受抑制，配置於 PDP前面時的亮度下降亦受抑制之遮蔽電磁波用片狀物。 根據本發明之第三樣態可提供’本發明之第一或第二 樣態中，構造黏合劑層之黏合劑的玻璃轉移溫度在20 °C 至1 0 0 °C之遮蔽電磁波用片狀物。根據本發明之第三樣態 可提供，氣泡之存在受抑制的遮蔽電磁波用片狀物。 根據本發明之第四樣態可提供，本發明第一至第三之 任一樣態中，構成黏合劑層之黏合劑係由飽和聚酯樹脂及 異氰酸酯系化合物構成的遮蔽電磁波用片狀物。根據本發 明之第四樣態可提供，黏合劑層之著色更受抑制，黏合劑 使用時可得充分流動性之遮蔽層電磁波用片狀物。 本發明之內容 茲以第1圖說明本發明之內容。第1圖係本發明之遮 蔽電磁波用片狀物的構造之剖視圖。遮蔽電磁波用片狀物 1 0係於透明基材膜1 4上藉黏合劑層1 3層合網狀金屬箔 --------L·.·^--- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -8 - 566078 A7 B7 五、發明説明（5 ) 1Γ而構成之層合體10。遮蔽電磁波用片狀物10之正反（ 圖之上下）面可層合以保護膜。 --------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 如第1圖（b )，遮蔽電磁波用片狀物1 〇之金屬箔 11 ’’係緊密排列有開孔部11 a之網狀物。該開孔部丨i a 如第1圖（c )，線寬W僅5微米至20微米，縱橫各間 距a、b可係相同或不同，均在50微米至500微米左右。 單位面積開孔率以90%至95 %左右爲佳。線對水平方向（ 觀察時之水平方向）可傾斜0角度。網狀者不限於第1圖 (b )之格子狀，開孔部丨丨a亦可係四方形以外之形狀， 例如，六邊形之蜂巢狀、圓形或橢圓形等。 遮蔽電磁波用片狀物的層合構造及其製造方法 茲以第2圖（a )至（f)說明，至少由透明基材膜i 4 ’及開孔部緊密排列的網狀金屬箔1 Γ所成之電磁波遮蔽 層層合構成的本發明遮蔽電磁波用片狀物之層構造，及其 製程。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如第2圖（a )，準備藉黏合劑層1 3層合透明基材膜 14及金屬箔11之層合體。透明基材膜14可用壓克力樹 脂、聚碳酸酯樹脂、聚丙烯樹脂、聚乙烯樹脂、聚苯乙烯 樹脂、聚酯樹脂、纖維素系樹脂、聚硕樹脂或聚氯乙烯樹 脂等之膜。較佳者係用機械強度優，透明性高之聚對酞酸 乙二醇酯樹脂等之聚酯樹脂膜。透明基材膜1 4之厚度無 特殊限制，但爲具機械強度，對彎折之抵抗性大，以50 微米至200微米左右爲佳。遮蔽電磁波用片狀物1〇使用 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 566078 A7 B7 五、發明説明（6 ) 其它透明基材膜時，厚度亦可在上述範圍之外。必要時， 以於透明基材膜1 4之單面或雙面施以電暈放電處理，或 設易黏合層爲佳。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 金屬箔11可用銅、鐵、鎳、鉻等，或此等之合金， 或以此等金屬之一種以上爲主體的合金之箔。尤因電磁波 遮蔽性高，易於蝕刻，取用容易，以用鉑箔爲佳。銅箔有 壓延銅、電解銅。尤因容易製造10微米以下之薄品，厚 度均勻，用以形成黑化層的鍍層處理時與黑化層之密合性 良好，以用電解銅爲佳。第2圖（a)至（f)之各圖中爲 簡化，黑化層（1 2 )予以省略，但可均設有黑化層（1 2 ) 〇 金屬箔11之厚度以1微米至100微米爲佳，5至20 微米更佳。金屬箔11之厚度在該範圍時電磁波遮蔽性十 足，容易以蝕刻形成特定精度之開孔部。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 金屬箔11可於黏合劑層1 3側經黑化處理而有黑化層 (12)，藉此可賦予防銹效果，以及抗反射性•黑化層可 由Co - Cu合金鍍層處理形成，可防金屬箔1 1的表面之 反射。又，亦可更於其上施以鉻酸鹽處理以防銹。鉻酸鹽 處理係浸泡於主要成分係鉻酸或重鉻酸鹽之溶液中，乾燥 形成防銹被膜，必要時可於金屬箔11之單面或雙面施行 。亦可使用市售經絡酸鹽處理之銅箔等。不使用預先經黑 化處理之金屬箔11時，亦可於之後過程中作黑化處理。 黑化層之形成，可用著色爲黑色之組成物形成能形成光阻 層之感光樹脂層1 5，蝕刻完後，不去除光阻層餘留而形 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2丨〇><297公釐） 566078 A 7 B7 五、發明説明（7 ) 成，亦可由賦予黑色系被膜之鍍層法形成。 透明基材膜14與金屬箔11之層合，當透明基材膜 14僅用高熱熔合性之乙烯-醋酸乙烯酯共聚樹脂，或離 子體樹脂等熱熔合性樹脂膜，或與其它樹脂膜層合使用時 ，亦可不設黏合劑層，亦可係使用黏合劑層之乾式層合法 〇 構成遮蔽電磁波用片狀物1 0之黏合劑層1 3之黏合劑 ，宜係產品狀態下，亦即經受蝕刻液之作用後，黏合劑層 13實質上無色透明，具體而言，以L*a*b*示色系中b*之 値在- 60至60爲佳。b*値在該範圍內時，可有效降低 黏合劑層1 3之藍色調或黃色調，並可在配置於PDP之觀 察側時充分保有藍色之亮度。以一般黏合劑構成黏合劑層 1 3時，因黏合劑普通係有機材料，上述b *値多在1 . 〇以 上，故b *値係以在1 0至6 0爲更佳。構成遮蔽電磁波用 片狀物1 0之金屬箔1 1係銅箔時，隨銅箔之與黏合劑層的 接觸面之凹凸（約1微米左右。）及黏合劑層之折射率（ 1·50至1.55左右。），光依波長分散，藍色強烈散射， b *測定値多少較大，故b *之實測値易在1 0以上。 L*a*b*示色系之b*以外的L*及a*亦可有其値，而原 來構成黏合劑層1 3之黏合劑係以用無色透明或近於無色 透明者爲前提時，蝕刻前無色透明，受蝕刻液之作用後因 目視僅淡黃色之變色，故可僅用呈示黃（b *爲正値）藍（ b*爲負値）間的色調之b*呈示變色後之顏色。 受蝕刻液作用後，黏合劑層之b *値在- 6 · 〇至6.0範 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ---------- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -11 - 566078 A7 B7 五、發明説明（8 ) 圍內之黏合劑，有壓克力樹脂、聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、 聚乙烯醇樹脂、氯乙烯/醋酸乙烯酯共聚樹脂或乙烯一醋 酸乙烯酯共聚樹脂等之黏合劑，此外，亦可用熱固性樹脂 、電離輻射硬化樹脂（紫外線硬化樹脂或電子束硬化樹脂 等）。這些之中，因黏合力高，與鈾刻液接觸時變色少， 較佳者係用聚氨酯系樹脂黏合劑，或飽和聚酯與異氰酸酯 硬化劑配合成之黏合劑。尤以後者之主劑飽和聚酯樹脂， 對金屬箔及樹脂膜二者均有良好黏合力，溫度上升變色亦 少’層合時可得充分之黏合劑流動性，並可藉調整分子量 調整玻璃轉移溫度，故爲特佳。 欲使用薄金屬箔時，多係使用電解銅，但電解銅表面 粗糙，Ra値在0 1至1. 〇微米左右而顯眼，故經黑化處理 作爲觀察側即佳。然而，此時因層合當中易有氣泡進入層 合界面，以用玻璃轉移點低於層合夾隙溫度2 0至1 0 0 °C 之黏合劑爲佳。玻璃轉移點在該範圍時黏合力提升，且氣 泡消除，硬化充分。又爲埋設電解銅表面之粗糙，黏合劑 用量，以乾燥時爲準，宜在1至1 〇克/平方米。在此範圍 時黏合力提升，塗布後可充分乾燥，即使多少有變色時上 述b *値（絕對値）亦可壓至最低。 如上而得之層合體，於其金屬箔11上，如第2圖（b )，層合可於嗣後之蝕刻過程中作爲光阻層之感光樹脂層 1 5。感光樹脂層1 5可係正型或負型，本發明之圖面係基 於負型之槪念。 於所層合之感光樹脂層1 5上，如第2圖（c )，透過 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -12- 566078 A7 B7 五、發明説明（9 ) 圖型1 6以紫外線1 7等電離輻射照射。透過圖型1 6之曝 光’亦可改作不用圖型之以電子束掃描之方法。感光樹脂 層1 5係負型時曝光部份硬化，不溶於顯像液，未曝光部 份則具溶解性。感光樹脂層1 5係正型時，曝光部份分解 ’可溶於顯像液。 上述經曝光之感光樹脂層1 5用顯像液顯像。依先前 之曝光分爲可溶部份及不溶部份，以隨感光樹脂之樹脂類 型選定的顯像液處理，溶解去除可溶部份。如第2圖（d )，當感光樹脂層1 5係負型時，經硬化之圖型化感光樹 脂層15’餘留在金屬箔11上。 如上述，以餘留在金屬箔1 1上之硬化感光樹脂層 1 5 1利用作光阻，進行蝕刻。蝕刻係用特定蝕刻液，進行 至未經光阻被覆部份之金屬箔1 1開孔，得特定形狀時終 止’如第2圖（e )，得開孔部1 1 a緊密排列成之網狀金 屬箔1 Γ。 蝕刻終止之時，於上述網狀金屬箔1 1 ’上，因光阻硬 化感光樹脂層1 5’依然留存，通常將之以光阻去除液去除 ，如第2圖（f)，外露出開孔部1 1 a緊密排列成之網狀 金屬箔1 Γ，得透明基材膜1 4上藉合劑層1 3層合網狀金 屬箔1Γ之層合體10。 至少層合有透明基材膜1 4，及開孔部緊密排列之網 狀金屬箔1 Γ之層合體，必要時亦可附加欲予加工之金屬 箔1 1表面的脫脂或淸洗，或去除餘留的光阻後，以去除 液淋洗等之過程。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1-·^--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本買) 、11 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -13- 566078 A7 B7 五、發明説明（1Q ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 至少層合有透明基材膜、黏合劑層，及開孔部緊密排 列之網狀金屬箔所成的透明電磁波遮蔽層之遮蔽電磁波用 片狀物1 〇，亦可於透明基材膜側及/或網狀金屬箔11 ’側 層合以保護膜。於透明基材膜側層合以保護膜，可使透明 基材膜之背面免於取用中、無意中之碰觸受損。又，於金 屬箔1 1上設光阻層而鈾刻之各過程中，尤以於蝕刻之際 可使透明基材膜1 4之外露面不受污染或侵蝕，得以保護 。於金屬箔1 Γ側層合以保護膜，可保護構成網狀金屬箱 1 Γ之金屬箔的狹窄線條免於碰觸等而斷裂。 此等保護膜，如第3圖所說明，層合於遮蔽電磁波用 片狀物10之兩面，宜係必要時可予剝離之狀態。此時剝 離強度係以5毫升頓/25毫米寬至5牛頓/25毫米寬爲佳 ，10毫牛頓/2 5毫米寬至100毫升頓/2 5毫米寬爲更佳。 剝離強度在上述範圍內時，取用中、無意間之碰觸時保護 膜不致剝離，而須剝離保護膜時，可防網狀金屬箔1Γ之 一倂剝離。 遮蔽電磁波用板 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 第3圖係採用本發明之遮蔽電磁波用片狀物1 〇所構 成的遮蔽電磁波用板之槪略圖。第3圖之上側係觀察側； 下側係背面側，配置於圖未示之PDP等顯示器之觀察側 。遮蔽電磁波用板20，係於透明基材膜14上（即觀察側 )藉黏合劑層13層合網狀金屬箔11’之遮蔽電磁波用片狀 物10 (金屬箔11’之黏合劑層13側可有黑化層12)，於 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 566078 A7 ___B7 五、發明説明（11 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 其金屬箔1 Γ側層合有觀察側用（=正面用）膜30，該膜 30係從層合體10側起，以黏膠層33、膜32、及依序層 合硬塗層、抗反射層及防污層等而成之多重層31層合而 成。第3圖中，各層合體30、10、40、50及3CV係呈示有 間隔，此乃爲易於瞭解整體構造，實際上圖中五層合體係 無間隔層合而成。 遮蔽電磁波用片狀物1 0之透明基材膜1 4側，依序層 合有近紅外線吸收膜40、玻璃基板50及背面用（=內面 用）膜30’。近紅外線吸收膜40側從遮蔽電磁波用片狀物 10側起，依序層合有黏膠層4 1、近紅外線吸收層42、膜 43及黏膠層44。玻璃基板50係用以確保遮蔽電磁波用板 20整體之機械強度、剛性及平面性。內面用（=背面用 )膜30’係從玻璃基板50側起，層合有黏膠層33’、膜32’ 及依序層合硬塗層、抗反射層及防污層等而成之多重層 31’，此時，內面用膜30’係使用如同觀察側用膜30者。 引用第3圖所說明之遮蔽電磁波用板20僅係一例， 雖以層合如上之各層合體爲佳，但必要時可省略任一，或 製備倂有各層之功能的層合體予以使用等，加以改變。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 實施例 實施例1 準備寬700毫米、厚100微米之透明聚對酞酸乙二醇 酯樹脂（=PET )膜（東洋紡（股）製，品號：A43 00 ) ，及單面經黑化處理之寬700毫米、厚1〇微米之銅箔（ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -15- 566078 A7 B7 五、發明説明（12 ) 古河CIRCUIT FOIL (股）製，品號：BW — S )，以用二 液硬化型聚氨酯樹脂系黏合劑（武田藥品工業（股）製， TAKELAQ A310 (主劑，Tg= 20〇C ) /TAKENATE Al〇 ( 硬化劑）/醋酸乙酯=l2/mi之質量比混合，包括以下， 份數及配合比係基於質量。）之乾式層合方式，連續貼合 使經黑化處理之面爲內側，於pet膜的未貼合銅箔之側 ，於PET膜層合黏膠層，於PET膜的未層合以黏膠層之 側，用層合輥貼合經電暈放電處理，總厚度2 8微米之保 護膜A ( [PANAC工業（股）製，品號：HT - 25 )，成爲 保護膜A/PET膜/黏合劑層/銅箔之構造的層合體。而聚氨 酯樹脂系黏合劑之主劑，其玻璃轉移溫度係2 0 °C，聚氨 酯樹脂系黏合劑於乾燥後之塗布量爲6克/平方米。 於所得層合體之銅箔側塗布酪蛋白，乾燥作爲感光樹 脂層，使用形成圖型之光罩作紫外線之密合曝光，曝光後 以水顯像，硬化處理後於1 0 0 °C烘烤，形成光阻圖型。光 罩係圖型爲間距：3 0 0微米，線寬：1 〇微米之網狀圖型， 於600毫米X 800毫米之範圍形成者。 形成光阻圖型之上述層合體的光阻圖型側，以氯化鐵 溶液（波美度：42，溫度：3(TC )噴霧蝕刻後，經水洗， 用鹼溶液剝離光阻，剝離後淸洗、乾燥，得保護膜/PET 膜/黏合劑層/銅網之構造的層合體。於所得層合體之銅網 側塗布氨酯壓克力系紫外線硬化樹脂，層合未處理PET 膜後，以紫外線照射硬化，剝離未處理PET膜。此一操 作乃爲以紫外線硬化樹脂埋沒消除因銅網側之凹凸所致之 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇X 297公釐） -------1-^.裝-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 Φ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 16- 566078 A7 B7 五、發明説明（13 ) 白濁感，以比較操作前後層合體之外觀（氣泡之有無）。 實施例2 黏合劑使用下述組成物，爲提高鈾刻速率蝕刻液溫改 爲6〇°C以外，如同實施例1施行。 黏合劑組成物 飽和聚酯樹脂 3 0 f分 (東洋紡（股）製，BAILON 200，Tg : 67°C ) 異氰酸酯系硬化劑 3份 C THE INKTEC (股）製，品名：r xEL硬化劑」） 溶劑（甲苯/丁酮=in) 70份 比較例1 蝕刻液溫改爲60°C以外，如同實施例！施行。 比較例2 黏合劑使用下述組成物，爲提高鈾刻速率蝕刻液溫改 爲60°C以外，如同實施例1施行。 黏合劑組成物 氨酯壓克力系紫外線硬化黏合劑（Tg : i〇2°c 酯酸乙酯 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事 J· 項再填. 裝-- :寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 30份 70份 -17- 566078 A7 B7 五、發明説明（14 §平估試驗 比較實施例1、2，比較例1、2所得之遮蔽電磁波用 片狀物，結果列於表1。表1中之內容所示如下。 「b*」係用分光測色計（MINOLTA (股）製，品號 :CM — 3700d)，穿透模式，照明條件：D65，視角：2。 之條件下，以銅網面爲入光面之測定結果。 「氣泡」係用光學顯微鏡，從銅網面以穿透模式觀察 時黏合劑層的氣泡之有無。 「外觀」係從PET面側以穿透模式目視觀察時因氣 泡所致之白濁感等。黏合劑之Tg係所用黏合劑之玻璃轉 移溫度。 「熱泡」及「外観」g平估之〇表不沒有問題。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 表1 b* 氣泡 外觀 黏合劑之 Tg__. ------- 67〇C_ 實施例1 5.5 〇 〇 實施例2 4.6 〇 〇 比較例1 6.8 〇 可見略有著色 _ 20°C_ 比較例2 2.3 顯眼 有白濁感 102Τ__ —------ -18- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）

Claims (1)

1. 566078 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1 1. 一種之遮蔽電磁波用片狀物，係至少層合透明基材 膜、黏合劑層及電磁波遮蔽層而成之遮蔽電磁波用片狀物 ，其特徵爲Z 該電磁波遮蔽層係開孔部緊密排列之網狀金屬箔所成 ，並且透明， 該黏合劑層實質上無色透明。 2. 如申請專利範圍第1項之片狀物，其中上述黏合劑 層之L*a*b*示色系中b*之値在-6 0至6 0。 3如申請專利範圍第1項之片狀物，其中構成上述黏 合劑層之黏合劑的玻璃轉移溫度在20°C至l〇〇°C。 4如申請專利範圍第1項之片狀物，其中構成上述黏 合劑層之黏合劑係由聚酯樹脂及異氰酸酯系化合物所構成 ----------- f m (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） 19-