JP2007095915A - ディスプレイ用複合フィルタの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ディスプレイ用複合フィルタ３０を、一旦積層した光学フィルタ２０を剥離する様なことはせずに、導電体層のメッシュ状領域の４周に接地箇所を露出させて製造する。
【解決手段】（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の各工程を行う。（Ａ）電磁波遮蔽シートを準備する工程；電磁波遮蔽シート１０は透明基材１１上の導電体層１２が画像表示領域対峙部分を含むメッシュ状領域１０１とその４周を囲繞する接地用領域１０２の１単位を配列した連続帯状シート。（Ｂ）光学フィルタを準備する工程；光学フィルタは片面に接着剤層を有し、接地必要箇所に対峙する領域が切り抜かれた切抜き領域２ｃを有する連続帯状シート。（Ｃ）電磁波遮蔽シートの接地用領域を露出させる工程；光学フィルタを接着剤層側で電磁波遮蔽シートに積層時に、切抜き領域を接地必要箇所に位置合せし４周の接地必要箇所の導電体層を露出させる。
【選択図】図１

Description

本発明は、ＣＲＴ、ＰＤＰなどの各種ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽する電磁波遮蔽機能と、光学フィルタ機能を有するディスプレイ用複合フィルタの製造方法に関する。更に詳しくは、接地する為に光学フィルタの剥離除去が不要な製造方法に関する。

ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）、ＣＲＴ（ブラウン管）ディスプレイ、等の各種ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽（シールド）する為に、ディスプレイ前面に配置する電磁波遮蔽フィルタが知られている。この様な用途に用いる電磁波遮蔽フィルタでは電磁波遮蔽性能と共に光透過性も要求される。そこで、電磁波シールドフィルタとして例えば、樹脂フィルムからなる透明基材に接着剤で貼り合わせた銅箔等の金属箔をエッチングすることで、メッシュ状領域を設けた導電体層を、前記透明基材上に積層した構成の電磁波遮蔽性シート等が知られている。

また、ディスプレイの前面に配置する前面フィルタ等では、電磁波遮蔽機能以外に、光学フィルタ機能、例えば、ディスプレイから放射する不要な光（例えばＰＤＰではネオン発光による波長５９０ｎｍ付近の光）を遮断し画像の色相調整を行い色再現性を向上させる機能、外光の不要な反射を抑える機能、ディスプレイからの不要な赤外線放射を抑え赤外線利用機器の誤動作を防ぐ機能等が求められることがある。そこで実際の前面フィルタでは、上記の様な電磁波遮蔽性シートに、他のフィルタ機能を有する光学フィルタ（例えば、反射防止フィルタ、着色フィルタ、赤外線吸収フィルタ、等）を積層一体化して機能を複合化した、ディスプレイ用複合フィルタとしての使用が多い（特許文献１等参照）。

また、この様なディスプレイ用複合フィルタは、電磁波遮蔽シートの導電体層を接地する必要が有る。そのために通常は、導電体層のメッシュ状領域の周縁部に接地用領域として、該メッシュ状領域を囲むように設けられた額縁状の、メッシュ非形成の導電体層部分を有し、この額縁状の接地用領域から接地することが一般的である。この為、従来のディスプレイ用複合フィルタは、接地を取る為に、接地用領域の直上部に貼り付けられている光学フィルタを所望の面積だけ除去して、接地に必要な面を露出させる必要があった（特許文献１、特許文献２、等参照）。

但しこの方法では、必然的に接地面の露出加工を、各々完成したディスプレイ用複合フィルタとディスプレイ本体とを組合わせる、最終工程に近い段階に行うことになる。この為、該露出加工は、ディスプレイ１台毎に１回ずつ実施する必要が有るため、まとめて量産加工するのは不可能であって生産効率が悪く、煩雑であり、且つ加工には技量も要求され、失敗するとディスプレイ用複合フィルタ全体が無駄になってしまう。
また、電磁波遮蔽シート（フィルタ）と光学フィルタを積層一体化した後、再びこれを剥がし、しかも導電体層を傷つけること無く、正確に導電体層を露出させることは困難であり、熟練しても失敗の確率が高いという難点（課題１）があった。

そこで、これを解決すべく、光学フィルタをディスプレイ１台分の寸法形状に切断する際に、枚葉化の為の切断箇所とは別に、予め接地の為に剥離除去する予定の箇所に全層厚みの大部分に達する切れ目（ハーフカット）を入れた上で、電磁波遮蔽シート上に積層して複合フィルタ化し、しかる後に該切れ目のところで切断して、接地用領域の額縁部直上の光学フィルタ（及びその接着に用いた接着剤層）を剥離除去する方法も試みられている（特許文献３）。

特開２００３−８６９９１号公報 特開平１１−１２６０２４号公報（特に図１） 特開２００３−６６８５４号公報

しかし、上記特許文献３による方法によって、剥離時の導電体層が損傷する確率は減り、又剥離作業自体は容易にはなるが、依然として、これらの作業は、ディスプレイ１台毎の作業の為、量産加工が不可能であって、生産効率が悪く、煩雑であり、ディスプレイ用複合フィルタの接地の際に、除去すべき物及び作業負荷が増えるという難点（課題２）があった。

そこで、生産性向上の為、電磁波遮蔽シート及び光学フィルタを共に連続帯状のシートとしてロールラミネータに供給して、両者を接着剤で連続的に積層する製造方法を試みた。しかも、この際に、図５の説明図で例示する従来方法のように、光学フィルタ２０の幅を電磁波遮蔽シート１０の幅よりも小さくし、電磁波遮蔽シートの両側の接地用領域１０２が連続して露出するような位置関係で積層する方法である。
この方法によって、上記課題１及び課題２である、光学フィルタ剥離時の労力、所要時間による量産加工性の悪さ、及び導電体層の損傷による不良は改善できる。しかも、連続帯状シートとした電磁波遮蔽シートの幅方向両側部２箇所のみの接地で良い場合であれば問題も無い。
但し、導電体層のメッシュ状領域の４周に接地箇所を設ける場合には、電磁波遮蔽シートの流れ方向に於ける製品単位３ｕ毎のメッシュ状領域１０１の左右両側部２箇所は、接地不能箇所１０４であり、依然として従来の課題は未解決のままであった。

すなわち、本発明の課題は、ディスプレイ用複合フィルタの製造方法として、接地箇所確保の為の光学フィルタ剥離時の労力やその所要時間による量産加工性の悪さ、及び導電体層損傷による不良発生を回避して、導電体層のメッシュ状領域の４周全てに接地箇所を設けられる様にすることである。

上記課題を解決すべく、本発明のディスプレイ用複合フィルタの製造方法は、電磁波遮蔽シートと光学フィルタとの積層体から成るディスプレイ用複合フィルタの製造方法において、少なくとも次の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の各工程を有する、ディスプレイ用複合フィルタの製造方法とした。
（Ａ）電磁波遮蔽シートを準備する工程；該電磁波遮蔽シートは、厚み方向に於いて、透明基材と、其の一方の面に導電体層が少なくとも積層されて成り、平面内に於いて、該導電体層は、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが可能なメッシュ状領域と、該メッシュ状領域の４周を囲繞する接地用領域とから成る１単位を、１方向に周期的に接続して配列してなる連続帯状シートである。
（Ｂ）光学フィルタを準備する工程；該光学フィルタは、一方の面に接着剤層が積層されてなり、上記電磁波遮蔽シートに於けるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分の全て、及び該接地用領域の少なくとも一部を被覆することが可能な形状及び寸法を有する連続帯状シートであって、且つ上記電磁波遮蔽シートの接地用領域の４周に於ける接地必要箇所に対峙する領域が切り抜かれて成る。
（Ｃ）電磁波遮蔽シートの接地用領域を露出させる工程；上記光学フィルタの接着剤層側を、上記電磁波遮蔽シートの導電体層側に向けると共に、上記光学フィルタが上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分直上に対峙し、且つ上記光学フィルタの切り抜かれた領域が４周の接地必要箇所に対峙する様に、位置合わせした状態で、上記電磁波遮蔽シートに上記光学フィルタを接着、及び積層し、上記電磁波遮蔽シート４周の接地必要箇所に於いて、導電体層を露出させる。

この様な方法とすることで、接地箇所を導電体層メッシュ状領域の４周全てに設けても、光学フィルタと電磁波遮蔽性シートとを各々連続帯状のシートとして積層時に、光学フィルタは接地用領域の４周に於ける接地必要箇所に対峙する領域を切り抜いてから積層するので、接地の為に電磁波遮蔽性シート上に積層済みの光学フィルタを剥離除去をせずに、ディスプレイ１台分毎ではなく複数台分を纏めて連続的に、接地必要箇所を露出させながら積層できる。その為、量産加工性が得られ、しかも導電体層損傷も回避できる。

なお、好ましくは、本発明のディスプレイ用複合フィルタの製造方法は上記構成の方法に於いて、上記（Ｃ）工程の後に更に次の（Ｄ）工程を有する製造方法とする。
（Ｄ）枚葉化切断工程；導電体層が１方向に周期的に接続して配列してなる連続帯状シート形態のディスプレイ用複合フィルタを、１台のディスプレイに対応する１単位毎に切断、分離させる。

この様な方法とすることで、ディスプレイ用複合フィルタとして、最終的に、１台のディスプレイに対応した大きさの枚葉状シートにでき、また、上記量産加工性、及び導電体層損傷回避の効果も同様に得られる。

本発明によれば、接地箇所を導電体層のメッシュ状領域の４周に設けても、量産加工性が得られ、しかも導電体層損傷も回避できる。更に、最終的に１台のディスプレイに対応した大きさの枚葉状シートにできる。

以下、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態を、実施例を兼ねて説明する。

《（Ａ）電磁波遮蔽シートを準備する工程；》
（Ａ）の工程では、電磁波遮蔽シートとして、厚み方向に於いて、透明基材と、その一方の面に導電体層が少なくとも積層されて成り、平面内に於いて、該導電体層は、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが可能なメッシュ状領域と、該メッシュ状領域の４周を囲繞する接地用領域とから成る１単位を、１方向に周期的に接続して配列してなる連続帯状シートを準備する工程である。

図１は、本発明によるディスプレイ用複合フィルタの製造方法を、その一実施例で概念的に示す説明図で、図１（Ａ）は平面図であり、図１（Ｂ）は１台のディスプレイに対応する製品単位で示す断面図である。また、図２は、本発明で用いる電磁波遮蔽性シートの一例を製品単位となった後の一状態例を示し、図２（Ａ）は平面図で、図２（Ｂ）は断面図である。

電磁波遮蔽シートは、光学フィルタと積層する時点では、連続帯状シート（ウェッブとも言う）として提供する。また、電磁波遮蔽シートは、図１（Ｂ）及び図２（Ｂ）で例示する電磁波遮蔽性シート１０の様に、厚み方向に於いて、透明基材１１と其の上に積層した導電体層１２とから成る。なお、図１（Ａ）、また後述図３（Ａ）及び図５も含めて、その平面図は、製品単位３ｕが連続帯状シートの長手方向（流れ方向）に３単位配列された部分のみ示す電磁波遮蔽性シート１０の上に、製品単位として少なくとも４単位以上が連続帯状シートの長手方向に配列された光学フィルタ２０を重ねて概念的に一部（図面右側の方）が接着積層された状態を示す、光学フィルタ側から見た場合の平面図である。また、光学フィルタ２０に於ける斜線のハッチング部分は、下側の電磁波遮蔽性シート１０の導電体層が有するメッシュ状領域１０１と接地用領域１０２の形状・配置等が見える様に、透明なハッチングとして描いてある。

該導電体層１２は、図１（Ａ）及び図２（Ａ）で例示する電磁波遮蔽性シート１０の様に、平面内方向に於いて、中心部に位置して、ディスプレイの画面部に対峙するメッシュ状領域１０１と、その周囲を囲繞する接地用領域１０２から、１単位が構成される。この１単位に、図１（Ａ）に例示する電磁波遮蔽性シート１０の様に、１台のディスプレイに対応するディスプレイ用複合フィルタの製品単位３ｕが含まれ、前記１単位の領域全てを製品単位３ｕとしても良いし、図３（Ａ）に例示する電磁波遮蔽性シート１０の様に、前記１単位の領域内の一部を製品単位３ｕとしても良い。
更に該１単位を１方向（具体的には連続帯状シートの流れ方向、言い換えれば長手方向）に、周期的に、所望の数、連続的に接続したものが、連続帯状シートの電磁波遮蔽性シートと成る。また、透明基材１１も連続帯状シートから成る。

メッシュ状領域１０１は、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが可能な領域であり、当該メッシュ状領域１０１の周囲の少なくとも一部に接地用領域１０２を有する。メッシュ状領域１０１は、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが可能な寸法及び形状を有し、適用されるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分４０が必ず含まれる。当該ディスプレイの画像表示領域に対峙する部分４０の外の領域となる外縁部は、メッシュ状領域１０１が含まれても良いし、接地用領域１０２のみからなっても良い。

接地用領域１０２は、メッシュ状領域１０１の４周を囲繞する領域として設ける。また、接地用領域１０２は、通常四角形のディスプレイの画像表示領域に対峙する部分４０の外の領域となる外縁部である画像表示に影響しない部分に設ける。
接地用領域１０２は、通常、メッシュ状領域１０１と同じ層構成を有しながら開口部を形成しないものであり、ディスプレイに設置した場合に接地（アース）をとり易くする為に設ける。なお、接地用領域１０２は、開口部が形成されたメッシュ状であっても良い。
すなわち、接地用領域１０２は、図１（Ａ）に例示の様に、開口部の無い連続した導電体層から成る形態でも良いし、図３（Ａ）及び（Ｂ）で概念的に例示する別の一実施例の様に、メッシュ状領域と同様にメッシュを形成して成る形態でも良い。なお、図３（Ａ）及び（Ｂ）の場合に、接地用領域１０２は、該領域内に於ける４周囲の周縁には強度確保の為にメッシュ非形成の額縁状領域１０２ａを含む形態である。或いは、強度面で実用性には乏しいが、該額縁状領域１０２ａさえ無く、全面全てメッシュから成る形態も有る。

また、接地用領域１０２は、図３（Ａ）及び（Ｂ）に例示する様に、該領域内に於ける周縁の４周囲全て或いは１部に、最終的に１台のディスプレイに対応する形状に切断、分離するときに、不要で切り落とす「余白」部分を含んでいても良い。図３（Ａ）では、余白切断部分１０３ａを切断する。余白は、余白の全部又は一部が額縁状領域でも良く、メッシュ状でも良く、どちらでも良い。図３の場合は、余白の一部として余白内の４周囲周縁に額縁状領域１０２ａが存在し、額縁状領域１０２ａの内側の余白部分がメッシュ状となった場合の余白の例である。

また、図１（Ｂ）に示すように、本発明での電磁波遮蔽用シート１０は、厚み方向においては、透明基材１１の一方の面に、メッシュ状領域１０１と接地用領域１０２を有する導電体層１２が少なくとも積層されて形成されている。
また、電磁波遮蔽用シートは、導電体層の表裏面上に、導電性を有しない層が更に積層されていても良い。当該導電性を有しない層としては、例えば、導電性を有しない防錆層や導電性を有しない黒化層、平坦化層等が挙げられる。なお、防錆層や黒化層等であっても、（電磁波遮蔽性に対して有効な）導電性を有する限り、本発明において導電体層に含まれる。導電体層の表裏面上に更に積層された導電性を有しない層は、導電体層と一体となって、メッシュ状領域や接地用領域を形成する。

なお、本発明に用いられる電磁波遮蔽性シートにて、透明基材１１や導電体層１２等の材料或いはそれらの積層法や形成法等は、従来公知のものを用途に応じて適宜採用すれば良く特に制限はない。
ここで、電磁波遮蔽性シートの代表的な構成層を、透明基材１１から順に説明する。

〔透明基材〕
透明基材１１は、機械的強度が弱いメッシュ層を補強する為の層であり、連続帯状シートの形態をとり得る層である。従って、機械的強度と共に光透過性を有すれば、その他、耐熱性、絶縁性等も適宜勘案した上で、用途に応じたものを選択使用すれば良い。透明基材の具体例としては、樹脂シート（乃至はフィルム、以下同様）である。樹脂シート等として用いる透明樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、セルロース系樹脂、アクリル系樹脂シート、スチレン系樹脂、ポリカーボネート樹脂等である。
なお、これら樹脂は、樹脂材料的には、単独、又は複数種類の混合樹脂（ポリマーアロイを含む）として用いられ、また層的には、単層、又は２層以上の積層体として用いられる。また、これら樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。
なお、樹脂シートは、１軸延伸や２軸延伸した延伸シートが機械的強度の点でより好ましい。

また、また、透明基材の厚さは、用途に応じたものとすれば良く特に制限は無く、通常１２〜１０００μｍ程度、好ましくは５０〜７００μｍ、より好ましくは１００〜５００μｍが望ましい。また、透明基材は、適宜その表面に公知の易接着処理を行ってもよい。

また、透明基材の透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光線透過率で８０％以上となる光透過性が良い。
また、透明基材は色素等で着色しても良い。着色により、近赤外線吸収、ネオン光吸収、色調整、外光反射防止等が図れる。例えば、樹脂の透明基材に対しては、近赤外線吸収剤、ネオン光吸収剤、色調整用色素、外光反射防止用色素、等の、従来公知の各種色素を添加すればよい。

〔導電体層〕
導電体層１２は、導電性を有し電磁波遮蔽機能を担う層であり、またそれ自体は不透明性であっても、メッシュ状の形状で開口部を有することで、電磁波遮蔽性と光透過性を両立させた層である。この様な導電体層は、通常金属層を主とし、これに加えて、後述するような導電処理層、導電性を有する黒化層、導電性を有する防錆層等が電磁波遮蔽性能に寄与し得る導電性を有する場合には、これら導電性を有する、導電処理、層黒化層、防錆層等を含むものである。

導電体層１２のメッシュ状領域１０１は、開口部が密に配列したメッシュ状であり、開口部と該開口部間に存在する枠状のライン部とから構成される。
メッシュの形状は、任意で特に限定されないが、開口部の形状としては正方形が代表的である。開口部の形状は、例えば、正三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、台形等の四角形、六角形、等の多角形、或いは、円形、楕円形などが挙げられる。メッシュはこれら形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は通常幅均一のライン状のライン部となり、通常は、開口部及びライン部は全面で同一形状同一サイズである。具体的サイズを例示すれば、開口率及びメッシュの非視認性の点で、開口部間のライン部の幅は２５μｍ以下、好ましくは２０μｍ以下が良い。但し、電磁波遮蔽性能、破断防止のためには、少なくとも５μｍ以上が好ましい。また、開口部の間口幅は〔ラインピッチ〕−〔ライン幅〕で表され、１５０μｍ以上、好ましくは２００μｍ以上とするのが、光透過性、及び後述する光学フィルタとの積層時に開口部内に気泡が残留し難い点から好ましい。但し、ＭＨｚ〜ＧＨｚ帯の電磁波遮蔽性発現のためには、最大３０００μｍ以下とする。
また、メッシュ状領域のバイアス角度（メッシュのライン部と電磁波遮蔽シートの外周辺とのなす角度）は、ディスプレイの画素ピッチや発光特性を考慮して、モアレが出難い角度に適宜設定すれば良い。

また、本発明においては、最終的に得られるメッシュ状領域の厚み（具体的には開口部間に存在するライン部の高さである）は３μｍ以下が好ましい。それは、メッシュ面に対する平坦化を省略しても、電磁波遮蔽シートと光学フィルタの積層時に上記開口部内に接着剤層が均一に入り易く、開口部内に気泡が残留し難い為である。一方、電磁波遮蔽性能の点では、相応の導電性の為にある程度の厚みが必要で、メッシュ状領域の厚みは、結局１〜３μｍとするのが更に好ましい。ライン部の高さとは、ライン部を形成する層の厚みを全て含む総厚みを意味する。従って、例えば、ライン部が導電体層、非導電性黒化層、及び非導電性防錆層とから成る場合は、ライン部の高さとはこれら全層の総厚となる。

以上の様なメッシュ状領域１０１及び接地用領域１０２を有する導電体層１２が、透明基材１１上に少なくとも積層された連続帯状シートとしての電磁波遮蔽性シート１０を準備する方法としては、特に制限は無く、用途等に応じて従来公知の方法を適宜採用することができる。例えば、次の（１）〜（４）の方法である。

（１）透明基材へ導電インキをパターン状に印刷し、該導電インキ層の上へ金属めっきする方法（特開２０００−１３０８８号公報等参照）。
（２）透明基材へ、導電インキ又は化学めっき触媒含有感光性塗布液を全面に塗布し、該塗布層をフォトリソグラフィー法でメッシュ状とした後に、該メッシュの上へ金属めっきする方法（住友大阪セメント株式会社新規材料研究所新材料研究グループ、“光解像性化学めっき触媒”、［ｏｎｌｉｎｅ］、掲載年月日記載なし、住友大阪セメント株式会社、［平成１６年１１月２２日検索］、インターネット＜ＵＲＬ ： ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｓｏｃｎｂ．ｃｏｍ／ｒｅｐｏｒｔ／ｐｔｅｃｈ／２０００ｐ５２．ｐｄｆ＞参照）。
（３）透明基材と金属箔とを接着剤で積層した後に、金属箔をフォトリソグラフィー法でメッシュ状とする方法（特開平１１−１４５６７８号公報参照）。
（４）透明基材の一方の面へ、金属薄膜をスパッタ等により形成して導電処理層を形成し、その上に電解めっきにより金属めっき層として金属層を形成した透明基材を準備し、該金属めっきした透明基材の金属めっき層及び導電処理層を、フォトリソグラフィー法でメッシュ状とする方法(特許第３５０２９７９号公報、特開２００４−２４１７６１号公報、等参照)。

上記（１）〜（４）の中でも、透明性、メッシュ精度、視認性、反りや気泡混入に対する歩留、コスト等の観点から、（４）の方法は特に好ましい方法の一つである。そこで、（４）の方法による場合での電磁波遮蔽用シートを準備する方法を更に説明する。

上記（４）の方法では、透明基材上に、導電処理層と金属めっき層が順次積層され、導電体層はこれら両層（以下これら両層を総称して単に「金属層」とも呼ぶ）を含む構成となる。

導電処理層は、透明基材の表面を導電処理して得られる層であり、該導電処理の方法としては、公知の導電性を持つ材料の薄膜を形成すればよい。該導電性を持つ材料としては、例えば銅、ニッケル、クロム等の金属、或いはこれら金属の合金（例えば、ニッケル−クロッム合金）、酸化スズ等の透明金属酸化物を用いる。そして、これら導電性材料を公知の真空蒸着法、スパッタリング法、無電解めっき法などの方法で透明基材面に適用して導電処理層を形成する。なお、導電処理層は単層でも多層（異種材料や同種材料の層の）でも良い。また、導電処理層の厚さは、次の金属めっき層をめっき時に必要な導電性が得られれば良く、０．００１〜１μｍ程度の薄膜が好ましい。

金属めっき層は、上記導電処理層面上に電解めっき法で形成するが、その材料としては、例えば銅、ニッケル等の電磁波遮蔽性を満足し得る導電性の金属或いは合金を用いるが、なかでも導電性の点で銅又は銅合金が好ましい。また、金属めっき層は単層でも多層でも良い。なお、該金属めっき層の厚さは最大２μｍ程度とするのが良い。それは、メッシュ状領域の導電体層の厚さを好ましくは１〜３μｍに収める為でもある。

また更に、黒化層を設けるのがコントラストの点で好ましい。このためには、金属めっき層の面に少なくとも観察者側面に黒化層を設ける。黒化層としては金属めっき層面を粗化したものでも良く、或いは、光吸収性（黒い）の層を設ける。なお、透明基材側に設ける場合は、透明基材面に透明導電薄膜による導電処理を行い、黒化層として黒色めっき層を設けた後に、金属めっき層１４を設ける等すれば良い。

また更に防錆層を設けても良い。防錆層は金属めっき層の少なくとも片面を覆うように、その際黒化層を設けてある場合は黒化層を覆うように、設けるのが黒化層の脱落防止の意味でも好ましい。防錆層としては、ニッケル、亜鉛、クロム等の金属或いはその酸化物や化合物等を公知のめっき法を利用して形成すれば良い。なかでも、亜鉛めっき後、クロメート処理する得られるクロム化合物層は代表的である。なお、防錆層の厚さは０．００１〜１μｍ、より好ましくは０．００１〜０．１μｍ程度である。

なお、透明基材上の全面等として形成した場合の導電体層に、メッシュ状領域と接地用領域を設けるには、フォトリソグラフィー法を利用した公知のパターンニング技術を利用すれば良い。例えば、フォトリソグラフィー法では、フォトレジスト層をメッシュパターン状に形成した後、該レジスト層で覆われていない露出部分をエッチング除去後、該レジスト層を除去することで、メッシュ状領域と、接地用領域を所望の形状にパターンニングする。
パターンニングの際、上記例示した様な導電処理層と金属めっき層とを導電体層として利用する場合には、導電処理層と金属めっき層とが積層された導電体層に対して、パターンニングしても良いが、導電処理層に対してパターンニングして、このパターンニングされた導電処理層に対して金属めっきすれば、金属めっき層はエッチングせずに、最初から所望の形状にパターンニングできる。

また、例えば上記の様にして形成されるメッシュ状領域及び接地用領域を有する導電体層に対して、そのメッシュの開口部等による表面凹凸を平坦化する平坦化層を設けても良い。平坦化層を設けることで、電磁波遮蔽性シートを光学フィルタと積層するときに、メッシュの開口部に気泡が残留する場合に、これを防げる。
平坦化層としては、透明性、接着性等が有れば良い、アクリル系樹脂等からなる樹脂層を利用できる。この様な平坦化層は、例えば、液状の樹脂組成物を塗布後、その塗膜に対して、平面性に優れた剥離性シートをその表面に積層した状態で、塗膜を加熱や電離放射線等で硬化後、剥離性シートを剥離除去する方法等で形成する。

《（Ｂ）光学フィルタを準備する工程；》
（Ｂ）の工程では、光学フィルタとして、一方の面に接着剤層が積層されてなり、上記電磁波遮蔽シートに於けるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分の全て、及び該接地用領域の少なくとも一部を被覆することが可能な形状及び寸法を有する連続帯状シートであって、且つ上記電磁波遮蔽シートの接地用領域の４周に於ける接地必要箇所に対峙する領域が切り抜かれて成る、光学フィルタを準備する工程である。

図１（Ａ）及び図３（Ａ）に例示の図面では、切抜き領域２ｃとして上記接地必要箇所に対峙する領域が切り抜かれている例である。また、これら図面に例示の切抜き領域２ｃは、製品単位３ｕを含む隣接する１単位の各接地必要箇所の内、連続帯状シートの長手方向（前記１単位の配列方向）で隣接する接地必要箇所同士にまたがる共通の切抜き領域２ｃが長方形の形状で設けられた例でもある。また、光学フィルタ２０の幅を電磁波遮蔽性シート１０の幅よりも狭く、電磁波遮蔽性シートの幅方向外側が光学フィルタからはみ出す様に積層することで、メッシュ状領域１０１の４周のうち幅方向両側の２箇所の接地用領域は、光学フィルタが対峙せず光学フィルタを切り抜かずに接地必要箇所が露出する様にした、光学フィルタ及び電磁波遮蔽性シートの組合せ例でもある。
なお、切抜き領域の形状、個数、配置等は、所望の接地用領域が確保できれば特に制限は無い。
また、接地必要箇所は接地用領域に存在し面積的に接地用領域以下であり、切抜き領域２ｃは接地必要箇所含む形状で面積的には接地必要箇所以上である。

また、接地必要箇所に対峙した部分の光学フィルタの切り抜きは、打ち抜きプレス、ロータリーカッティグマシン、レーザ等の公知の切断装置を切抜き手段として適宜採用すれば良い。また、切抜きの瞬間だけ、連続帯状シートの走行を停止した間欠送りや、走行したまま切抜きも行う連続送り等、どちらでも良い。
切抜き領域を設ける時期は、連続帯状の光学フィルタを、ロール状態にする前でも良いが、ロールを巻き出した後の方が切抜き領域部分の厚み差が残り難い点で好ましい。また、切り抜いてから接着剤層を形成するのも不可能では無いが、接着剤層形成後に切り抜くのがより容易である。また、接着剤（粘着剤）層面に剥離シートが積層されている場合は、剥離シートごと切抜き抜くと良い。また、切抜き領域の形成は、光学フィルタをロールラミネータに装填した後、インラインで行うのが生産性の点でより好ましい。

本発明で用いる光学フィルタは、該フィルタの一方の面に積層された接着剤層を有する構成の連続帯状シートである。光学フィルタとしての光学フィルタ機能は、該機能を担う機能発現層で付与する。また、更にこれら層を担持する透明基材シートを有する構成としても良い。また、透明基材シート自体を機能発現層と兼用させても良い。また、１つの光学フィルタ機能を１層にしても良いし、２以上の光学フィルタ機能を１層に集約しても良い。各光学フィルタ機能を独立層としても良い。２以上の光学フィルタ機能を１層に集約する例としては、透明基材シート中に、近赤外線吸收剤、紫外線吸収剤、及びネオン光吸収剤（色素）を添加して、１層で近赤外線吸収フィルタ、ネオン光吸収フィルタ、及び紫外線吸収フィルタを兼ねる形態が挙げられる。或いは、接着剤層に近赤外線吸收剤等を添加して、接着剤層と光学フィルタとを兼ねても良い。

ここで、本発明で用い得る光学フィルタの一例を図４（Ａ）の断面図で示す。図４で示す光学フィルタ２０では、透明基材シート２１の一方の面に接着剤層２２が積層され、前記透明基材シート２１の他方の面に機能発現層２３が積層された構成例である。もろちん、接着剤層２２と機能発現層２３とが同一面側となる構成も可能である。

本発明で用いる光学フィルタの機能発現層としては、特に限定されず、例えば、近赤外線吸収層、ネオン光吸収層、紫外線吸収層、色調整用着色層、反射防止層、防眩層等が代表的である。この他、光学フィルタ機能以外の追加的機能として、更に必要に応じて、ハードコート層、防汚層等の光学フィルタ機能以外の追加的機能層を設けたものでも良い。また、追加的機能層は機能発現層と兼用した層としても良い。
なお、接着剤層は電磁波遮蔽性シートと接着する側に必須であるが、他方の側に（更に他の物と接着する為に）別の接着剤層があっても良い。

なお、上記の様な、接着剤層、機能発現層、透明基材シート、追加的機能層の各層としては、特に制限は無く、従来公知のものを適宜採用することができる。
ここで、主要な層について更に説明する。

〔透明基材シート〕
透明基材シートとしては、前述電磁波遮蔽シートにて記載したのと同様な透明基材を用いることができる。

〔機能発現層〕
機能発現層の近赤外線吸収層としては、例えば、近赤外線吸収剤を含有させた樹脂フィルムや、透明基材シート上に近赤外線吸収剤を樹脂バインダー中に含有させた塗液を塗布形成しても良い。近赤外線吸収色素としては、例えば、ポリメチン系化合物等の公知の、有機系や無機系の色素を用いることができる。樹脂バインダーの樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂等の熱可塑性或いは熱や紫外線などで硬化する硬化性樹脂等を用いることができる。

機能発現層のネオン光吸収層としては、例えば、ネオン光吸収色素を含有させた樹脂フィルムや、透明基材シート上にネオン光吸収色素を樹脂バインダー中に含有させた塗液を塗布形成しても良い。ネオン光吸収色素としては、例えばシアニン系等の公知の色素を用いることができる。また、樹脂バインダーの樹脂としては、上記近赤外線吸収層で記載の樹脂等を用いることができる。

機能発現層の紫外線吸収層としては、例えば、紫外線吸収剤を含有させた樹脂フィルムや、透明基材シート上に、紫外線吸収剤を樹脂バインダー中に含有させた塗液を塗布形成しても良い。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール、微粒子状酸化亜鉛等の公知の有機系や無機系の化合物を用いることができる。また、樹脂バインダーの樹脂としては、上記近赤外線吸収層で記載の樹脂等を用いることができる。

機能発現層の色調整用着色層としては、例えば、着色剤を含有させた樹脂フィルムや、透明基材シート上に、着色剤を樹脂バインダー中に含有させた塗液を塗布形成しても良い。着色剤としては、公知の着色顔料や染料等を用いることができる。また、樹脂バインダーの樹脂としては、上記近赤外線吸収層で記載の樹脂等を用いることができる。

機能発現層の反射防止層としては、例えば、低屈性率層と高屈折率層とを交互に積層した多層膜が一般的だが、蒸着やスパッタ等の乾式法、或いは塗工等の湿式法も膜形成に利用できる。なお、低屈折率層には、ケイ素酸化物、フッ化マグネシウム、フッ素含有樹脂等が用いられ、高屈折率層には、酸化チタン、酸化ジルコニウム等が用いられる。

機能発現層の防眩層としては、例えば、樹脂バインダー中にシリカなどの無機フィラーを添加した塗膜形成や、或いは賦形シートや賦形版等を用いた賦形加工により、層表面に微細凹凸を設けた層として形成する。樹脂バインダーの樹脂としては、好ましくは表面強度等の点で、下記ハードコート層等と同様に電離放射線硬化性樹脂等の硬化性樹脂が使用される。

〔追加的機能層〕
一方、追加的機能層は、例えば表面物性を改善する表面物性改善層であり、具体的には、ハードコート層や防汚層等が挙げられる。例えば、ハードコート層としては、通常、光学フィルタの最表面に設けられ、例えば、アクリレート系のモノマーやプレポリマー等の電離放射線硬化性樹脂を用いた塗膜として形成する。また、防汚層も、通常、光学フィルタの最表面に設けられ、例えば、フッ素系樹脂やシリコーン系樹脂を含む塗膜として形成する。

〔接着剤層〕
接着剤層は、透明で、電磁波遮蔽性シートの導電体層と接着可能であれば、特に限定は無い。但し好ましくは、導電体層のメッシュ状領域等でメッシュの開口部が成す凹部に、接着時に気泡残留が無く、更により好ましくは、平坦化層を形成する余分な工程や、材料の追加も無しで、光学フィルタを電磁波遮蔽性シートに接着、積層する為には、少なくとも積層時には流動性の接着剤が好ましい。流動性の接着剤の代表例が粘着剤である。また、接着剤でもホットメルト型接着剤等も接着時に流動化するので使用できる。なお、これら粘着剤を含む接着剤は、熱可塑性樹脂でも良いし、熱硬化性や電離放射線硬化性等の各種硬化性樹脂（この場合、電磁波遮蔽性シートと接着後完全硬化させることになる）でも良い。なお、粘着剤としてはアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤等が代表的である。
また、導電体層のメッシュ状領域等のメッシュ面に平坦化層を形成して該メッシュの開口部が成す凹部を充填して平坦化した場合は、必ずしも、積層時に流動性の接着剤層を用いる必要は無い。

接着剤層としては、粘着剤、つまり粘着剤層が接着積層が簡便な点等で好ましいが、粘着剤を用いる場合は、接着剤層表面を電磁波遮蔽性シートと積層時まで保護し積層時は剥離する、剥離シートを表面に積層するのが好ましい。剥離シートには、表面を適宜シリコーンや剥離性樹脂等で剥離性とした樹脂フィルムや紙等の公知の剥離シートを適宜使用すれば良い。

なお、接着剤層は光学フィルタを電磁波遮蔽性シートと積層する直前に、接着剤層形成前状態の未完成光学フィルタと、電磁波遮蔽性シートとをロールラミネータに装填した後に、これらをそのラミネートロールで接触させ接着積層するまでの機上でインラインで該接着剤層を形成することで、所望の光学フィルタを準備しても良い。
もちろん、接着剤層を形成済みの光学フィルタをロールとしてロールラミネータに装填しても良い。

《（Ｃ）電磁波遮蔽シートの接地用領域を露出させる工程；》
（Ｃ）の工程では、光学フィルタとして、一方の面に接着剤層が積層されてなり、光学フィルタの接着剤層側を、上記電磁波遮蔽シートの導電体層側に向けると共に、上記光学フィルタが上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分直上に対峙し、且つ上記光学フィルタの切り抜かれた領域が４周の接地必要箇所に対峙する様に、位置合わせした状態で、上記電磁波遮蔽シートに上記光学フィルタを接着、及び積層し、上記電磁波遮蔽シート４周の接地必要箇所に於いて、導電体層を露出させる工程である。

本発明では、上記光学フィルタは、電磁波遮蔽シートの接地用領域の４周に於ける接地必要箇所に対峙する領域が切り抜かれ、切抜き領域を有するので、該切抜き領域によって、前記接地必要箇所に於いて導電体層を露出させることができる。
なお、電磁波遮蔽性シートと光学フィルタとを、接着及び積層するには、公知のラミネータを使用すると良い。電磁波遮蔽性シート及び光学フィルタは各々ロールとしてロールラミネータに装填すれば、ロールツーロールで、連続帯状シートとしてディスプレイ用複合フィルタを製造することができる。

ここで、１製品単位の断面図で例示する図４で説明すれば、図４（Ａ）は積層前の光学フィルタ２０と電磁波遮蔽性シート１０を示す。電磁波遮蔽性シート１０は透明基材１１上の導電体層１２がメッシュ状領域１０１とその４周に接地用領域１０２を有する。そして、図４（Ｂ）に様に、これらの積層後は、接地用領域１０２の接地必要箇所に対峙する部分の光学フィルタ２０は存在せず導電体層１２が露出する様に、接着剤層２２によって、光学フィルタ２０と電磁波遮蔽性シート１０が接着積層した、ディスプレイ用複合フィルタ３０となる。なお、図４の光学フィルタ２０は前述した様に、透明基材シート２１の一方の面に接着剤層２２が積層され、他方の面に機能発現層２３が積層された例である。

《（Ｄ）枚葉化切断工程；》
（Ｄ）の工程では、導電体層が１方向に周的に接続して配列してなる連続帯状シート形態のディスプレイ用複合フィルタを、１台のディスプレイに対応する１単位毎に切断、分離させる工程である。好ましくは、この（Ｄ）の工程を、上記（Ｃ）工程の後に設ける。
これにより、最終的に製品単位の枚葉状シートのディスプレイ用複合フィルタが得られる。この際、図３で例示する様に、接地用領域１０２に前述余白１０３部分が有る場合は、該余白を切断すると良い。
なお、この（Ｄ）の工程は、（Ｃ）の工程とは別の機械を行っても良いが、同一機械でインラインで連続して行うのが、生産性の点でより好ましい。
なお、この工程に限らず、連続して行うとは、連続帯状シートを連続走行或いは間欠走行させて行うことを意味する。

《（Ａ）〜（Ｄ）の全工程を含めた製造例の一例》
なお、上記（Ａ）〜（Ｃ）乃至は（Ｄ）の全工程に対して、好ましい製造方法の一実施例を更にここで挙げれば、ロールラミネータとして、その前半に（切抜き前未完成）光学フィルタに対して切抜き領域を切り抜く切断装置を追加し、更に後半には製品単位の枚葉状シートに切断する切断装置（幅方向の分は前半でも良い）を配置した装置を用いて、このロールラミネータに、（Ａ）で準備する電磁波遮蔽性シートのロールを装填し、また（Ｂ）で準備する光学フィルタとしてその（切抜き前未完成）光学フィルタのロールを装填し、これらロールを巻きだして、（切抜き前未完成）光学フィルタは切抜き領域を切り抜く切断装置で切り抜いて完成された光学フィルタにインラインで準備して、（Ｃ）の工程としてこの光学フィルタと電磁波遮蔽性シートにラミネートして接着積層後、装置後半で（Ｄ）の工程としてインラインで製品単位の枚葉状シートとして完成させる、製造方法である。

本発明によるディスプレイ用複合フィルタの製造方法を概念的に示す説明図で（Ａ）は平面図、（Ｂ）は１台のディスプレイに対応する製品単位で示す断面図。 本発明で用いる電磁波遮蔽性シートの一例を製品単位となった後の一状態例で示し、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図。 本発明によるディスプレイ用複合フィルタの製造方法の別の形態例を平面図で概念的に示す説明図で、（Ａ）は連続帯状シートのとき、（Ｂ）は１台のディスプレイに対応する製品単位となったとき。 本発明で用い得る光学フィルタ、電磁波遮蔽性シート、ディスプレイ用複合フィルタの各一例を示す断面図で、（Ａ）は光学フィルタ及び電磁波遮蔽性シート、（Ｂ）はディスプレイ用複合フィルタ。 従来法での、ディスプレイ用複合フィルタの製造方法を概念的に平面図で例示する説明図。

符号の説明

１０ 電磁波遮蔽シート
１１ 透明基材
１２ 導電体層
２０ 光学フィルタ
２１ 透明基材シート
２２ 接着剤層
２３ 機能発現層
２ｃ 切抜き領域
３０ ディスプレイ用複合フィルタ
３ｕ 製品単位
４０ ディスプレイの画像表示領域に対峙する部分
１０１ メッシュ状領域
１０２ 接地用領域
１０２ａ 額縁状領域
１０３ 余白
１０３ａ 余白切断部分
１０４ 接地不能領域

Claims (2)

1. 電磁波遮蔽シートと光学フィルタとの積層体から成るディスプレイ用複合フィルタの製造方法において、
   少なくとも次の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の各工程を有する、ディスプレイ用複合フィルタの製造方法。
   （Ａ）電磁波遮蔽シートを準備する工程；該電磁波遮蔽シートは、厚み方向に於いて、透明基材と、其の一方の面に導電体層が少なくとも積層されて成り、平面内に於いて、該導電体層は、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが可能なメッシュ状領域と、該メッシュ状領域の４周を囲繞する接地用領域とから成る１単位を、１方向に周期的に接続して配列してなる連続帯状シートである。
   （Ｂ）光学フィルタを準備する工程；該光学フィルタは、一方の面に接着剤層が積層されてなり、上記電磁波遮蔽シートに於けるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分の全て、及び該接地用領域の少なくとも一部を被覆することが可能な形状及び寸法を有する連続帯状シートであって、且つ上記電磁波遮蔽シートの接地用領域の４周に於ける接地必要箇所に対峙する領域が切り抜かれて成る。
   （Ｃ）電磁波遮蔽シートの接地用領域を露出させる工程；上記光学フィルタの接着剤層側を、上記電磁波遮蔽シートの導電体層側に向けると共に、上記光学フィルタが上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分直上に対峙し、且つ上記光学フィルタの切り抜かれた領域が４周の接地必要箇所に対峙する様に、位置合わせした状態で、上記電磁波遮蔽シートに上記光学フィルタを接着、及び積層し、上記電磁波遮蔽シート４周の接地必要箇所に於いて、導電体層を露出させる。
2. 上記（Ｃ）工程の後に更に次の（Ｄ）工程を有する、請求項１記載のディスプレイ用複合フィルタの製造方法。
   （Ｄ）枚葉化切断工程；導電体層が１方向に周期的に接続して配列してなる連続帯状シート形態のディスプレイ用複合フィルタを、１台のディスプレイに対応する１単位毎に切断、分離させる。
   

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