CN111052267B - 电极膜及其制造方法 - Google Patents

Abstract

提供网格图案的不可视性以及图像的可视性优异的电极膜及其制造方法。电极膜的制造方法具备下面的工序：在透明基材的第一主面上依次层叠金属层、黑色光致抗蚀剂层的工序；对上述黑色光致抗蚀剂层局部曝光、显影从而图案化为网格形状的工序；以图案化的上述黑色光致抗蚀剂层作为蚀刻掩模蚀刻上述金属层直至上述金属层变为相比于构成上述黑色光致抗蚀剂层的网格的细线的宽度小的宽度为止，从而将上述金属层加工为金属网格电极的工序；以及对上述黑色光致抗蚀剂层进行加热并使其软化，通过软化的上述黑色光致抗蚀剂层的垂下，不仅被覆构成上述金属网格电极的网格的细线的上表面，还被覆至构成上述金属网格电极的网格的细线的两侧面的工序。

Description

电极膜及其制造方法

技术领域

本发明涉及电极为金属网格的电极膜及其制造方法。

背景技术

近年，触摸面板作为各种电子设备的输入装置正在普及。在触摸面板中，电阻膜方式(Resistive Type)、静电电容方式(Capacitive Type)等各种方式的面板已被实用化。

触摸面板通常使用在由玻璃板或聚对苯二甲酸乙二酯膜等构成的透明基材的单侧的面上形成有由ITO(Indium Tin oxide；氧化铟锡)薄膜构成的透明导电膜的结构作为触摸面板用电极构件(专利文献1)。

但是，由ITO薄膜构成的透明导电膜在因为使用铟这种稀有金属(稀土类元素)而高价这点、以及为了实现触摸面板的大面积化而电阻(表面电阻率)为高电阻这点，不易与低成本化及大画面化的要求对应。

因此，提出在透明基材上取代ITO薄膜的透明导电膜而形成有由金属细线图案构成的金属网格的触摸面板用电极构件(专利文献2)。根据金属网格，能够比ITO薄膜低成本且低电阻。

该金属网格电极在作为触摸面板用电极时，与由ITO薄膜构成的透明电极比较，不可视性成为问题。另外，形成网格图案的金属层呈现比较高的反射率，因此外光被漫反射，网格图案可被看到，导致触摸面板装置的图像对比度降低。因此，将黑化层配置于金属层的观察者侧。通过该黑化层使网格图案的不可视性提高，提高图像对比度，能够改善图像的可视性。

这样的触摸面板用电极通过首先在透明基材上层叠金属薄膜以及黑化层、接下来利用使用了光刻技术的蚀刻将该金属薄膜以及黑化层图案化，由此制成。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2008-310551号公报

专利文献2：日本特开2011-134311号公报。

发明内容

发明要解决的课题

然而，即便为具有该黑化层的金属网格电极，也由于仅在利用蚀刻而图案化的金属层的上表面存在黑化层，所以因为金属层露出的侧面，而使网格图案的不可视性以及图像的可视性仍然不足。

本发明的目的在于提供网格图案的不可视性以及图像的可视性优异的电极膜及其制造方法。

用于解决课题的方案

下面，作为用于解决课题的方案，对多个方式进行说明。这些方式能够根据需要任意地组合。

本发明的电极膜具备：透明基材；金属网格电极，设置在透明基材的第一主面上；以及黑色光致抗蚀剂层，设置于构成金属网格电极的网格的细线的上表面及两侧面。

在该电极膜中，构成金属网格电极的网格的细线的上表面以及两侧面由黑色光致抗蚀剂层遮蔽。由此，可抑制在成为触摸面板用电极时外光在细线的上表面以及两侧面的漫反射，因此网格图案不被看出，触摸面板的图像对比度提高，能够改善图像的可视性。

另外，也可以是，黑色光致抗蚀剂层以均匀的膜厚覆盖细线的上表面，且被形成为从细线的上表面的端至细线的两侧面以具有曲面的方式覆盖。由此，由黑色光致抗蚀剂层覆盖的金属网格电极即黑色网格电极的上表面因其平滑度而看起来均质。另一方面，黑色网格电极的上表面和两侧面不具有角部，其边界不明显，因此从倾斜方向观察电极膜时网格图案不显著。

本发明的电极膜的制造方法具备下面的工序：在透明基材的第一主面上依次层叠金属层、黑色光致抗蚀剂层的工序；对黑色光致抗蚀剂层局部曝光、显影从而图案化为网格形状的工序；以图案化的黑色光致抗蚀剂层作为蚀刻掩模蚀刻金属层直至上述金属层变为相比于构成黑色光致抗蚀剂层的网格的细线的宽度小的宽度为止，从而将上述金属层加工为金属网格电极的工序；以及对黑色光致抗蚀剂层进行加热并使其软化，通过软化的黑色光致抗蚀剂层的垂下，不仅被覆构成金属网格电极的网格的细线的上表面，还被覆至构成金属网格电极的网格的细线的两侧面的工序。

在该制造方法中，蚀刻金属层直至成为比构成黑色光致抗蚀剂层的网格的细线的宽度小的宽度为止，从而加工为金属网格电极，对黑色光致抗蚀剂层进行加热并使其软化。由此，由于软化的黑色光致抗蚀剂层垂下，所以不仅能够由黑色光致抗蚀剂层被覆构成金属网格电极的网格的细线的上表面，还被覆至构成金属网格电极的网格的细线的两侧面。

另外，也可以是，在上述的电极膜及其制造方法中，黑色光致抗蚀剂层是具备加热流动性光致抗蚀剂层和在该加热流动性光致抗蚀剂层上设置的加热非流动性光致抗蚀剂层的多层结构，且至少任一层着色。

由此，当在制造工序中对黑色光致抗蚀剂层进行加热并使其软化，并通过软化的黑色光致抗蚀剂层的垂下而被覆构成金属网格电极的网格的细线的上表面以及两侧面时，下层的加热流动性光致抗蚀剂层失去加热前的均膜性而流动，相对于此，上层的加热非流动性光致抗蚀剂层原样维持加热前的均膜性而不流动。

上层的加热非流动性光致抗蚀剂层原样维持均膜性而被覆金属网格电极的细线的上表面以及两侧面，因此该细线的上表面与侧面的边界亦即所谓的肩部分不会突破黑色光致抗蚀剂层而露出。

此外，上层的加热非流动性光致抗蚀剂层垂下而使其前端与透明基材接触后，下层的加热流动性光致抗蚀剂层没有进一步大幅流动。原因是因为通过细线、上层的加热非流动性光致抗蚀剂层和透明基材，来决定下层的加热流动性光致抗蚀剂层的形状。

另一方面，下层的加热流动性光致抗蚀剂层由于其流动性而填埋细线的侧面与上层的加热非流动性光致抗蚀剂层之间。细线的侧面通过蚀刻而在表面具有凹凸，但通过下层的加热流动性光致抗蚀剂层的流动，黑色光致抗蚀剂层能够不残留微小的气泡而被覆细线的侧面。作为其结果，黑色光致抗蚀剂层稳固地紧贴于细线的侧面。

上述加热非流动性光致抗蚀剂层的软化点相比于上述加热流动性光致抗蚀剂层的软化点高20℃以上较佳。

也可以是，在上述黑色光致抗蚀剂层仅由加热流动性光致抗蚀剂层和加热非流动性光致抗蚀剂层这两层构成的情况下，加热流动性光致抗蚀剂层与加热非流动性光致抗蚀剂层的厚度比为1：2～1：4。由此，黑色光致抗蚀剂层整体的均膜性提高。

另外，也可以是，在加热流动性光致抗蚀剂层与加热非流动性光致抗蚀剂层之间设置有防锈抗蚀剂层。或者，也可以是，加热流动性光致抗蚀剂层含有防锈剂。

根据上述内容，即便来自产品完成后的外部的腐蚀性液体侵入，或者在高温高湿等环境试验下腐蚀也不会发展至金属网格电极，从而能够维持电气特性。

另外，也可以是，仅加热非流动性光致抗蚀剂层着色。加热非流动性光致抗蚀剂层维持加热前的均膜性，由此不易在黑色光致抗蚀剂层产生着色不均。因此，可得到更优异的网格图案的不可视性以及图像的可视性。

相反，也可以是，仅加热流动性光致抗蚀剂层着色。由此，被覆金属网格电极的细线的两侧面的呈现黑色的层的膜厚变薄，因此能够使从正面观察时的黑色的细线宽度变窄。因此，可得到更优异的网格图案的不可视性以及图像的可视性。

发明的效果

在本发明所涉及的电极膜中，通过对黑化层下工夫，能够提高网格图案的不可视性以及图像的可视性。

附图说明

图1是示出第一实施方式的电极膜的结构的概略剖视图。

图2是示出本发明的金属网格电极的截面形状的图。

图3是示出本发明的金属网格电极的图案的概略俯视图。

图4是示出第一实施方式的电极膜的制造工序的概略剖视图。

图5是示出第一实施方式的电极膜的制造工序的概略剖视图。

图6是示出第一实施方式的电极膜的制造工序的概略剖视图。

图7是示出第一实施方式的电极膜的制造工序的概略剖视图。

图8是示出第一实施方式的电极膜的制造工序的概略剖视图。

图9是示出第一实施方式的电极膜的制造工序的概略剖视图。

图10是示出第一实施方式的电极膜的制造工序的概略剖视图。

图11是示出第二实施方式的电极膜的制造工序的概略剖视图。

图12是示出第三实施方式的电极膜的制造工序的概略剖视图。

图13是示出第四实施方式的电极膜的结构的概略剖视图。

图14是示出第四实施方式的黑色光致抗蚀剂层的加热软化的状况的局部截面说明图。

图15是示出第四实施方式的黑色光致抗蚀剂层的加热软化的状况的局部截面说明图。

图16是示出第四实施方式的电极膜的制造工序的概略剖视图。

图17是示出第四实施方式的电极膜的制造工序的概略剖视图。

图18是示出第四实施方式的电极膜的制造工序的概略剖视图。

图19是示出第四实施方式的电极膜的制造工序的概略剖视图。

图20是示出第四实施方式的电极膜的制造工序的概略剖视图。

图21是示出第四实施方式的电极膜的结构的一个例子的概略剖视图。

图22是示出第五实施方式的电极膜的结构的一个例子的概略剖视图。

具体实施方式

下面，参照附图对实施方式进行说明。

1.第一实施方式

(1)电极膜

图1是示出第一实施方式的电极膜的结构的概略剖视图。为了容易理解而简化描述。

电极膜1由透明基材2、在透明基材2的第一主面2a上设置的金属网格电极3、以及在构成金属网格电极3的网格的细线31的上表面31a以及两侧面31b、31c设置的单层的黑色光致抗蚀剂层4构成。

＜透明基材＞

透明基材2只要是具有90％以上的透过率的材料则没有特别限制，可使用聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚醚砜(PES)、环状烯烃共聚物(COC)、三乙酰纤维素(Triacetylcellulose；TAC)膜、聚乙烯醇(Polyvinyl alcohol；PVA)膜、聚酰亚胺(Polyimide；PI)膜、聚苯乙烯(Polystyrene；PS)或者双轴拉伸聚苯乙烯(biaxially oriented PS；BOPS)等的膜或者它们的层叠体等。也可以优选为聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)、三乙酰纤维素(TAC)膜等。另外，也能够使用玻璃膜。

另外，透明基材2也可以是单一层或者两层以上的贴合而得的层叠体。进一步，也可以是，透明基材2为在结构中具有1/4λ相位差膜例如拉伸COP(环状烯烃聚合物)。

透明基材2的厚度通常各膜的单独厚为20μm以上，各膜的合计厚为500μm以下。这是由于若单独厚不足20μm则不易进行膜制造时的操作，若合计厚超过500μm则透光性降低。

＜金属网格电极＞

金属网格电极3是作为触摸面板用电极等而使用的金属网格的图案层。

如图3的(a)所示那样，在用于触摸面板的电极膜1中划分出透明的有源区域S1，并且在有源区域S1的外侧划分出周边区域S2。

在有源区域S1内形成有分别沿着第一方向D1延伸且沿与第一方向D1正交的第二方向D2并列配置的多个长条状的金属网格电极3。上述多个金属网格电极3构成触摸面板的检测电极。

另一方面，在周边区域S2，由银膏等形成通常与多个金属网格电极3连接的多个周边布线10(参照图3的(a))。另外，也可以是，周边布线10与金属网格电极3的形成同时从相同的金属层30图案化。

作为用于金属网格电极3的金属，使用例如金、银、铜、铁、镍、铬等具有能够充分作为触摸面板用电极发挥功能的程度的导电性的金属。金属网格电极3的膜厚根据应用的金属而适当地变更。例如在为铜的情况下，为0.02～2μm，更优选为0.04～1μm。在为镍的情况下，为0.02～2μm，更优选为0.04～1μm。

这样的金属网格电极3能够通过如后述那样利用使用了光刻技术的蚀刻(腐蚀)使金属层30图案化而获得。

本发明的电极是网格(网眼花纹或者格子花纹)形状，构成该网格的细线31的线宽包括黑色光致抗蚀剂层4的被覆在内而为2～7μm，由细线31围起的开口部32的开口率为95～99％左右(参照图3的(b))。

为了实现如触摸面板那样对可视性敏感的装置，重要的因素在于减少图案的可视性。金属网格电极3的反射性减少能够通过本发明的黑色光致抗蚀剂层4的被覆发挥，但通常在金属网格电极3的细线31的线宽包括黑色光致抗蚀剂层4的被覆在内而超过7μm的情况下，人的眼睛的可视性急剧增加。另外，若金属网格电极3的细线31的线宽包括黑色光致抗蚀剂层4的被覆在内而不足2μm，则加工精度降低。

在金属网格电极3中，优选由图3的(b)所示那样的四边形、其他的多边形构成开口部32。这是因为若设置非多边形例如圆形、椭圆形的开口，则即便将开口部32以最大限度密集排列配置也导致在开口部32彼此之间形成轮廓粗的部分，这成为该轮廓粗的部分显著并且光线透过率降低的重要因素。另外，能够由三角形、四边形、六边形等图形中的一种或它们多种的组合构成。

此外，在使用本实施方式的电极膜1构成触摸面板的情况下，如图3的(a)的虚线所示，在透明基材2的与形成有金属网格电极3面相反侧的有源区域S1内配置分别沿着第二方向D2延伸且沿第一方向D1并列配置的多个长条状的金属网格电极3′。另外，如图3的(a)的虚线所示，在周边区域S2，通过银膏等设置与多个金属网格电极3′连接的多个周边布线10′。

上述金属网格电极3′以及周边布线10′能够通过再准备一个本实施方式的电极膜1并层叠两个电极膜1而构成。

＜黑色光致抗蚀剂层＞

黑色光致抗蚀剂层4是为了在电极膜1的制造工序中形成上述金属网格电极3而使用的蚀刻抗蚀剂层。

而且，同时，该黑色光致抗蚀剂层4既是通过着色剂而着色的单层，也是构成上述金属网格电极3的网格的细线31的上表面31a以及两侧面31b、31c的黑化处理层。由此，能够将由金属构成的细线31的上表面31a以及两侧面31b、31c处的反射率抑制得较低，能够防止画面的可视性的降低。

黑色光致抗蚀剂层4的形成也能够通过干膜(Dry film)那样的膜的形式层压来进行，能够通过对液状光致抗蚀剂进行印刷、涂敷等的方法而形成(liquid Photo Resist)，不需要限制于某种形式。

作为黑色光致抗蚀剂层4的光致抗蚀剂材料，使用公知的负型或者正型的感光性树脂。在负型感光性树脂的情况下，在曝光部位发生光交联反应，未曝光部位由碱清洗而留下抗蚀剂图案，在为正型感光性树脂的情况下，在曝光部位发生光分解反应，通过碱而显影，留下未曝光部位而形成抗蚀剂图案。感光性树脂层包含光聚合性单体、光聚合引发剂、粘合剂聚合物等通过多样的组成来制造。正型的感光性树脂例如使用酚醛清漆树脂、酚醛树脂等。负型感光性树脂使用例如丙烯酸树脂、环氧树脂等。

黑色光致抗蚀剂层4的着色剂通常是黑色的着色剂。

另外，黑色光致抗蚀剂层4的着色剂也可以是相对于金属网格电极3所使用的金属的颜色而成为补色的颜色的着色剂。补色是指当将2色混合时光透过色面或被色面反射从而能量减少、并变为灰色或者黑色的那样的颜色的对。例如，当在金属网格电极3使用铜的情况下，因为铜为红色系列的颜色，所以使用以与该红色系列的颜色成为补色的关系的蓝色系列着色的树脂，由此2色混合，能够吸收光。

此外，黑色光致抗蚀剂层4的着色剂通常是耐热性和/或耐光性优异并具有遮蔽着色的面的底色的效果的颜料。其中，颜料没有溶解并分散存在，因此需要注意分散状态。作为着色剂也能够使用染料，但与颜料相比，透过率高，耐热性、耐光性也差。

另外，在以干膜那样的膜厚均匀的膜的形式层压而形成黑色光致抗蚀剂层4的情况下，若通过包括后述的加热软化工序的制造方法制造电极膜1，则黑色光致抗蚀剂层4能够以均匀的膜厚覆盖细线31的上表面31a，并被形成为从细线31的上表面31a的端至细线31的两侧面31b、31c以具有曲面的方式覆盖(参照图1以及图2)。

由此，由黑色光致抗蚀剂层4覆盖的金属网格电极3即黑色网格电极的上表面因其平滑度而看起来均质。另一方面，黑色网格电极的上表面和两侧面不具有角部，其边界不明显，因此在从倾斜方向观察电极膜时网格图案不显著。

(2)电极膜的制造方法

使用附图对第一实施方式的电极膜的制造方法进行说明。

图4～图10是示出第一实施方式的电极膜的制造工序的概略剖视图。为了容易理解而简化描述。

＜层叠工序＞

首先，如图4所示，准备透明基材2。

接下来，如图5所示，在透明基材2的第一主面2a上依次层叠金属层30、黑色光致抗蚀剂层4。

作为金属层30的形成方法，也可以使用层压金属箔的方法、蒸镀、溅射、离子镀等从气相析出的方法、对透明基材2的表面进行化学镀的方法等任何方法。

作为黑色光致抗蚀剂层4的形成方法，能够通过前述的干膜形式的层压或对液状光致抗蚀剂进行印刷、涂敷等的方法而形成，不需要限制于某种形式。在应用干膜的情况下，能够降低工序成本。

＜曝光/显影工序＞

其后，对黑色光致抗蚀剂层4局部曝光(参照图6)，显影从而图案化为网格形状(网眼花纹或者格子花纹)(参照图7)。

曝光是在黑色光致抗蚀剂层4为负型的情况下使黑色光致抗蚀剂层4的曝光区域4a固化并使溶解性相对于显影液降低的处理。

相反，在黑色光致抗蚀剂层4为正型的情况下，若曝光则在黑色光致抗蚀剂层4的曝光区域4a中相对于显影液的溶解性增大。

作为曝光方法，可举出数码曝光、模拟曝光等。

作为模拟曝光，没有特别限制，例如可举出：经由具有规定图案的光掩模6，利用(超)高压水银灯、氙气灯、卤素灯等光源7进行曝光的方法。

作为数码曝光，只要不使用光掩模6进行则没有特别限制，但例如优选使至少具备光照射单元以及光调制单元的曝光头和曝光对象的至少任一个移动，相对于曝光对象，一边利用光调制单元根据图案信息对从光照射单元射出的光进行调制一边从曝光头进行照射来进行。

对于数码曝光而言，只要是产生从紫外线至近红外线的光源，则没有特别限制，例如使用(超)高压水银灯、氙气灯、碳弧灯、卤素灯、复印机用等荧光管、激光器等公知光源，但优选的光源是(超)高压水银灯、激光器，更优选的光源是激光器。

显影是在黑色光致抗蚀剂层4为负型的情况下使曝光区域4a固化后使用显影液除去未固化区域4b由此形成黑色光致抗蚀剂层4的图案的处理。

作为显影液，没有特别限制，可适当地举出例如碱金属或者碱土金属的氢氧化物或者碳酸盐、碳酸氢盐、氨水、季铵盐的水溶液等。

显影液也可以与表面活性剂、消泡剂、有机碱基(例如苄胺、乙二胺、乙醇胺、氢氧化四甲铵、二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、吗啉、三乙醇胺等)、用于促进显影的有机溶剂(例如醇类、酮类、酯类、醚类、酰胺类、内酯类等)等并用。另外，显影液也可以是将水或者碱水溶液和有机溶剂混合的水系显影液，也可以为单独有机溶剂。

在黑色光致抗蚀剂层4为正型的情况下，在黑色光致抗蚀剂层4的曝光区域4a中相对于显影液的溶解性增大，因此将曝光区域4a除去。

正型的显影液通过碱溶液进行，最常使用TMAH(氢氧化四甲铵)。

＜蚀刻工序＞

接下来，如图8所示，将图案化的黑色光致抗蚀剂层4作为蚀刻掩模，对金属层30进行蚀刻(参照图9)。

由此，金属层30以所希望的图案加工为金属网格电极3。

此时，如图9所示，进行蚀刻直至金属网格电极3变为相比于构成黑色光致抗蚀剂层4的网格的细线的宽度小的宽度为止。换句话说，通过蚀刻而图案化的金属层30的边缘部分存在于相比于具有掩模图案的黑色光致抗蚀剂层4的边缘部分靠图案的内侧的位置。换言之，具有掩模图案的黑色光致抗蚀剂层4的边缘部分成为相比于通过蚀刻而图案化的金属层30的边缘部分向图案的外侧突出的状态。

作为蚀刻液8，若为铜膜则优选使用氯化铁水溶液进行蚀刻。

＜加热软化工序＞

其后，通过炉内的加热器9对黑色光致抗蚀剂层4进行加热并使其软化(参照图10)。

由此，通过软化的黑色光致抗蚀剂层4的垂下，使黑色光致抗蚀剂层4不仅被覆构成金属网格电极3的网格的细线31的上表面31a还被覆至两侧面31b、31c(参照图1)。

(3)黑色光致抗蚀剂层的反射防止效果

接下来，使用图2对本实施方式和电极膜的反射防止效果进行说明。

如上述那样，对于图2所示的本实施方式而言，通过蚀刻加工的金属层30与构成黑色光致抗蚀剂层4的网格的细线的宽度几乎相等后，进一步进行侧面蚀刻，以使得到的金属网格电极3变为相比于构成黑色光致抗蚀剂层4的网格的细线的宽度小的宽度的方式加工金属层30。其后，对黑色光致抗蚀剂层4进行加热并使其软化，通过软化的黑色光致抗蚀剂层4的垂下，不仅被覆构成金属网格电极3的网格的细线31的上表面31a还被覆至两侧面31b、31c。

因此，图2箭头所示的外光5在构成金属网格电极3的网格的细线31的两侧面31b、31c中被覆盖它们的黑色光致抗蚀剂层4吸收。因此，能够防止由于金属侧面的金属光泽而引起的可视性的降低。

(4)实施例1

接下来，对第一实施方式的一实施例进行说明。

首先，准备从卷筒卷出的厚度200μm的无色聚酯膜作为透明基材2。接下来，在该透明基材2的一个面上，利用溅射法以500nm的厚度整个面形成铜膜作为金属层30。接下来，在铜膜上，使用能够在碳酸钠1％液体中显影并且具备含有着色剂的负型的丙烯酸系感光层的干膜抗蚀剂，以膜厚3μm整面形成单层的黑色光致抗蚀剂层4从而得到导电性膜。

接下来，在导电性膜的黑色光致抗蚀剂层4的与金属层30侧为相反的侧重叠掩模并曝光，进一步显影并将没有感光的局部的黑色光致抗蚀剂层4剥离。在本工序中，曝光由金属卤化物灯进行，而且，显影浸渍于碳酸钠1％液体中进行。

接下来对剥离了多余的黑色光致抗蚀剂层4的导电性膜进行水洗，并进行蚀刻。在本工序中，作为蚀刻液而使用氯化铁水溶液，在蚀刻液中浸渍具有图案化的黑色光致抗蚀剂层4的导电性膜。而且，在通过蚀刻而加工的金属层30与构成黑色光致抗蚀剂层4的网格的细线的宽度(2μm)几乎相等后，进一步进行侧面蚀刻，以得到的金属网格电极3变为相比于构成黑色光致抗蚀剂层4的网格的细线的宽度小1μm的宽度的方式加工金属层30。

接下来对实施了蚀刻的导电性膜进行水洗，进一步将黑色光致抗蚀剂层4在炉温度100℃下以20分钟进行加热并使其软化，通过软化的黑色光致抗蚀剂层4的垂下，不仅被覆构成金属网格电极3的开口率97％的网格的线宽1μm的细线31的上表面31a还被覆至两侧面31b、31c。

根据以上的工序，实施例的电极膜完成。

2.第二实施方式

在第一实施方式中，对在透明基材2的第一主面2a上具备金属网格电极3以及黑色光致抗蚀剂层4的电极膜1进行了说明，但本发明不限制于该实施方式。

例如，也可以是，在电极膜1的制造方法中，使用2种通过在透明基材的第一主面上依次层叠金属层、黑色光致抗蚀剂层的工序而得到的导电性膜，以使黑色光致抗蚀剂层成为最外层的方式进行了层压后，与第一实施方式相同地进行后面的工序(第二实施方式)。

在这种情况下，如图11所示，电极膜具备：第一透明基材201；第一金属网格电极301，其设置在第一透明基材201的第一主面201a上；第一黑色光致抗蚀剂层401，其设置于构成第一金属网格电极301的网格的细线311的上表面311a以及两侧面311b、311c；第二透明基材202，其层压在第一透明基材201的第二主面201b上；第二金属网格电极302，其设置在第二透明基材202的与第一透明基材201为相反侧的面上；以及第二黑色光致抗蚀剂层402，其设置于构成第二金属网格电极302的网格的细线312的上表面312a以及两侧面312b、c。

3.第三实施方式

另外，也可以是，在电极膜的制造方法中，在透明基材的第一主面和第二主面分别依次层叠金属层、黑色光致抗蚀剂层(第三实施方式)。

在这种情况下，如图12所示，电极膜具备：透明基材2；第一金属网格电极301，其设置在透明基材2的第一主面2a上；第一黑色光致抗蚀剂层401，其设置于构成第一金属网格电极301的网格的细线311的上表面311a以及两侧面311b、c；第二金属网格电极302，其设置在透明基材2的第二主面2b上；以及第二黑色光致抗蚀剂层402，其设置于构成第二金属网格电极302的网格的细线312的上表面312a以及两侧面312b、312c。

4.第四实施方式

(1)电极膜100

另外，也可以不是如第一至第三实施方式那样黑色光致抗蚀剂层4为单层结构。例如，如图13所示，也可以是，黑色光致抗蚀剂层4是具备加热流动性光致抗蚀剂层41和设置在该加热流动性光致抗蚀剂层41上的加热非流动性光致抗蚀剂层43的多层结构(图13中两层结构)。若通过位置关系来说，则加热流动性光致抗蚀剂层41为下侧光致抗蚀剂层，加热非流动性光致抗蚀剂层43为上侧光致抗蚀剂层。

图13是示出第四实施方式的电极膜的结构的概略剖视图。为了容易理解而简化描绘。

下面，对与第一至第三实施方式共用的说明，尽可能省略地进行说明。

在本说明书中，加热流动性是指具有在黑色光致抗蚀剂层4的加热软化时，不与构成金属网格电极3的网格的细线31的上表面31a接触而从上表面31a伸出的檐部分整体失去加热前的均膜性而流动的性质。

另外，在本说明书中，加热非流动性是指在黑色光致抗蚀剂层4的加热软化时，不与构成金属网格电极3的网格的细线31的上表面31a接触而从上表面31a伸出的檐部分除去该檐部分的根部附近之外原样维持加热前的均膜性而不流动的性质。

作为加热流动性光致抗蚀剂层41以及加热非流动性光致抗蚀剂层43的光致抗蚀剂材料，与单层的黑色光致抗蚀剂层4同样，使用负型或者正型的感光性树脂。但是，根据加热软化时的炉温度的设定而适当地选择相对于该温度失去均膜性而流动的树脂和原样维持均膜性而不流动的树脂的组合这点与单层的黑色光致抗蚀剂层4不同。

此外，对于加热流动性光致抗蚀剂层41以及加热非流动性光致抗蚀剂层43的光致抗蚀剂材料而言，软化点不同。例如，优选加热非流动性光致抗蚀剂层43的软化点相比于加热流动性光致抗蚀剂层41的软化点高20℃以上。

由此，上层的加热非流动性光致抗蚀剂层43的檐部分原样维持均膜性并由于自重而垂下(参照图14)，由加热非流动性光致抗蚀剂层43被覆金属网格电极3的细线的上表面31a以及两侧面31b、31c(参照图15)。此时，檐部分的根部附近折弯，因此虽稍微流动，但与其他的维持了均膜性的部分连续，因此膜厚t不会大幅减少。因此，该细线的上表面与侧面之间的边界亦即所谓的肩部分不会突破黑色光致抗蚀剂层4而露出。

此外，上层的加热非流动性光致抗蚀剂层43折弯，其前端与透明基材2接触后，下层的加热流动性光致抗蚀剂层41流动没有进一步变大，例如没有在细线31之间扩张。这是由于，如图13以及图15所示，根据细线31、上层的加热非流动性光致抗蚀剂层43以及透明基材2来决定下层的加热流动性光致抗蚀剂层41的形状。

另一方面，下层的加热流动性光致抗蚀剂层41通过其流动性填埋细线31的侧面31b、31c与上层的加热非流动性光致抗蚀剂层43之间。细线31的侧面31b、31c通过蚀刻而在表面具有凹凸(参照图14)，通过下层的加热流动性光致抗蚀剂层41的流动，黑色光致抗蚀剂层4能够不会残留微小的气泡而被覆细线31的侧面31b、31c(参照图15)。作为其结果，黑色光致抗蚀剂层4稳固地紧贴于细线31的侧面31b、31c。

此外，在本实施方式中，也可以是，加热流动性光致抗蚀剂层41与加热非流动性光致抗蚀剂层43中的至少任一层着色即可。另外，也可以是，根据后述的理由，仅任一方着色。

如图13所示，在黑色光致抗蚀剂层4仅为两层的结构的情况下，优选加热流动性光致抗蚀剂层41与加热非流动性光致抗蚀剂层43的厚度比为1：2～1：4。

由此，与加热流动性光致抗蚀剂层41相比，加热非流动性光致抗蚀剂层43的厚度比例更高，因此黑色光致抗蚀剂层整体的均膜性提高。因此，即便多层结构的黑色光致抗蚀剂层4整体着色，也不易在黑色光致抗蚀剂层4产生着色不均。

另外，也可以仅加热非流动性光致抗蚀剂层43着色。

由此，着色的层是维持加热前的均膜性的层，因此在黑色光致抗蚀剂层4更不易产生着色不均。因此，可获得更优异的网格图案的不可视性以及图像的可视性。

相反，也可以是，仅加热流动性光致抗蚀剂层41着色。

由此，被覆金属网格电极3的细线31的两侧面31b、31c的呈现黑色的层的膜厚变薄，因此能够使从正面观察时的黑色细线的线宽变窄。因此，可获得更优异的网格图案的不可视性以及图像的可视性。

此外，在这种情况下，对于在着色的加热流动性光致抗蚀剂层41上形成的加热非流动性光致抗蚀剂层43的存在而言，还起到除了防止前述的金属网格电极3的细线31的肩部分突破黑色光致抗蚀剂层4而露出以外的效果。例如，在层压黑色光致抗蚀剂层4时缓冲性好，而且能够防止起皱。

(2)电极膜的制造方法

使用附图，对第四实施方式的电极膜的制造方法进行说明。

图16～图21是示出第四实施方式的电极膜的制造工序的概略剖视图。为了容易理解而简化描绘。

本实施方式的电极膜100的制造方法除去黑色光致抗蚀剂层4为多层结构之外，其他与第一至第三实施方式相同。

下面，针对与第一至第三实施方式共用的说明，尽可能省略地进行说明。

＜层叠工序＞

首先，如图16所示，在透明基材2的第一主面2a上依次层叠金属层30、加热流动性光致抗蚀剂层41、加热非流动性光致抗蚀剂层43。

＜曝光/显影工序＞

其后，使在加热流动性光致抗蚀剂层41上设置加热非流动性光致抗蚀剂层43而成的两层结构的黑色光致抗蚀剂层4局部曝光(参照图17)，显影从而图案化为网格形状(网眼花纹或者格子花纹)(参照图18)。

图17、图18是黑色光致抗蚀剂层4的各层为负型的情况，通过曝光，使加热流动性光致抗蚀剂层41的曝光区域41a以及加热非流动性光致抗蚀剂层43的曝光区域43a固化，并使溶解性相对于显影液降低。在使曝光区域41a、43a固化后，使用显影液将加热流动性光致抗蚀剂层41的未固化区域41b以及加热非流动性光致抗蚀剂层43的未固化区域43b除去，由此形成两层结构的黑色光致抗蚀剂层4的图案。

这样得到的黑色光致抗蚀剂层4的加热流动性光致抗蚀剂层41以及加热非流动性光致抗蚀剂层43具有相对于后面的加热软化工序的加热条件是否加热流动的性质。

此外，光致抗蚀剂膜的软化点基本上由树脂材料、感光剂、残存溶剂、添加剂等的组合来决定，但通常若树脂材料的平均分子量变大，则软化点变高，若平均分子量变小，则软化点降低。软化点能够通过热机械分析装置(TMA：Thermomechanical Analyzer)来测定。

＜蚀刻工序＞

接下来，如图19所示，在图案化的加热流动性光致抗蚀剂层41上将加热非流动性光致抗蚀剂层43作为蚀刻掩模，通过蚀刻液8，对金属层30进行蚀刻。

此时，如图20所示，进行蚀刻直至构成金属网格电极3的细线31的宽度变为相比于构成上述两层结构的黑色光致抗蚀剂层4的网格的细线的宽度小的宽度为止。换句话说，通过蚀刻而图案化的金属层30的边缘部分存在于相比于具有掩模图案的上述两层结构的黑色光致抗蚀剂层4的边缘部分靠图案的内侧的位置。换言之，具有掩模图案的上述两层结构的黑色光致抗蚀剂层4的边缘部分成为如檐那样相比于通过蚀刻而图案化的金属层30的边缘部分向图案的外侧突出的状态。

＜加热软化工序＞

其后，通过炉内的加热器9对上述两层结构的黑色光致抗蚀剂层4进行加热并使其软化(参照图21)。

黑色光致抗蚀剂层4是具备加热流动性光致抗蚀剂层41和设置在该加热流动性光致抗蚀剂层41上的加热非流动性光致抗蚀剂层43的两层结构。这是根据加热软化时的炉温度的设定(加热条件)适当地选择材料并图案形成的相对于该温度失去均膜性而流动的树脂和原样维持均膜性而不流动的树脂的组合。

由此，加热流动性光致抗蚀剂层41在加热软化时失去加热前的均膜性而流动。作为其结果，加热流动性光致抗蚀剂层41如檐那样比构成金属网格电极3的细线31的边缘部分突出的局部沿着细线31的两侧面31b、31c落下(参照图14以及图15)。

另一方面，上层的加热非流动性光致抗蚀剂层43在加热软化时原样维持均膜性而不流动。只是加热非流动性光致抗蚀剂层43的如檐那样比构成金属网格电极3的细线31的边缘部分突出的部分由于自重而朝向细线31的两侧面31b、31c折弯(参照图14以及图15)。

(3)实施例2

接下来，对第四实施方式的一实施例进行说明。

黑色光致抗蚀剂层4由可通过碳酸钠1％液体而显影的负型的丙烯酸系感光层的两层结构构成这点、这两层作为分成在炉温度100℃下20分钟下有无加热流动性的、膜厚1μm、软化点70℃的加热流动性光致抗蚀剂层41及其上的膜厚2μm、软化点90℃的加热非流动性光致抗蚀剂层43而图案形成这点、仅上层的加热非流动性光致抗蚀剂层43含有着色剂这点与实施例1不同。

5.第五实施方式

另外，黑色光致抗蚀剂层4也可以具有防锈功能(第五实施方式)。

下面，对与第一至第四实施方式共用的说明，尽可能省略地进行说明。

例如，在与第一至第三实施方式同样黑色光致抗蚀剂层4为单层结构的情况下，使用在前述的光致抗蚀剂材料中添加了防锈剂的材料。

作为防锈剂，使用已作为防锈剂而公知使用的材料，作为具体例，例如可使用咪唑、三唑、苯并三唑、苯并咪唑、苯并噻唑、吡唑等。另外，可举出它们的卤素、烷基苯基取代体等单环或者多环式的唑类、苯胺等芳香胺类、烷基胺等脂肪胺、这些的盐等，但不需要特别限制为本记载的材料。

这样，若黑色光致抗蚀剂层4具有防锈功能，则即便来自外部的腐蚀性液体侵入、或者在高温高湿等环境试验下，腐蚀也不会发展到网格电极，能够维持电气特性。另外，也不需要其他的防锈层。

另外，也可以是，在与第四实施方式同样黑色光致抗蚀剂层4为多层结构的情况下，如图22所示的电极膜101那样，在加热流动性光致抗蚀剂层41与上述加热非流动性光致抗蚀剂层43之间设置有防锈抗蚀剂层42。

这样，若另外设置防锈抗蚀剂层42而成为3层结构，则能够使防锈剂和着色剂含有于不同的层。具体而言，使上层的加热非流动性光致抗蚀剂层43含有着色剂，使中间层的防锈抗蚀剂层42含有防锈剂。通过分开功能，能够在各层中采用最佳的材料。

作为中间层的防锈抗蚀剂层42的光致抗蚀剂材料，只要是负型或者正型的感光性树脂即可，没有特别限制。也可以是加热流动性以及加热非流动性的任一个。

并且，也可以是，即便在与第四实施方式同样黑色光致抗蚀剂层4为多层结构的情况下，也不另外设置防锈抗蚀剂层42，而使两层结构中的加热流动性光致抗蚀剂层41含有防锈剂。

这样，若构成为使加热流动性光致抗蚀剂层41兼作防锈剂，则黑色光致抗蚀剂层4的层叠数少，因此成膜工序简单。

此外，具有防锈功能并且多层结构的黑色光致抗蚀剂层4也可以是仅加热非流动性光致抗蚀剂层43着色。

如前述那样，着色的层是维持加热前的均膜性的层，因此更加不易在黑色光致抗蚀剂层4产生着色不均。

6.其他实施方式

以上，对本发明的一个或者多个实施方式进行了说明，但本发明不限制于上述实施方式，能够在不脱离发明的主旨的范围内进行各种变更。特别是，本说明书所述的多个实施方式以及变形例能够根据需要任意地组合。

金属网格电极3的外形图案不限制于前述的沿着第一方向D1延伸的长条状图案(参照图3的(a))，能够使用实现静电电容方式的触摸面板的公知的图案。例如也可以是，使用使三角形、四边形、六边形等的多个电极部沿着第一方向D1连续的其他形状的电极。

黑色光致抗蚀剂层4的厚度优选为2μm～15μm。

通过使厚度成为2μm以上，从而金属网格电极3的耐擦伤性优异。

通过使厚度成为15μm以下，从而即便将电极膜1折弯使用也能够防止黑色光致抗蚀剂层4产生裂缝。另外，能够实现高分辨率的图案形成。

另外，在黑色光致抗蚀剂层4为多层结构的情况下，黑色光致抗蚀剂层4中的接合着的层的合计厚度优选为2μm以上。

通过使合计厚度成为2μm以上，从而ОD值(Optical Density：光学浓度)变高。即，黑色光致抗蚀剂层4的光的透过率变低，更加可靠地抑制外光在金属网格电极3的漫反射。

另外，也可以根据需要设置其他层。

各层的材料以及厚度不限制于上述实施方式。

工业上的可利用性

本发明的电极膜能够优选用作触摸面板传感器，包括该触摸面板传感器的触摸面板能够优选用作在便携用小型终端、电子纸、计算机显示器、小型游戏机、自动取款机的显示面、自动售票机等的显示面等安装的触摸面板。此外，这样的显示装置也可以是液晶显示装置(LCD)、等离子体显示装置(PDP)、电场发光(EL)显示装置、阴极射线管(CRT)显示装置、电泳显示装置等的任一个。

另外，本发明的电极膜也能够优选用作透明天线用元件，该透明天线用元件具备透视性和收发功能这两个功能，因此能够利用于各种透明天线。

该透明天线能够优选安装于要求透明性的部位而使用。特别是能够安装于移动电话等移动通信设备的显示器前表面而用于地上波、卫星广播的接收。

符号说明

1、100、101、电极膜；2、透明基材；2a、201a、第一主面；201、第一透明基材；202、第二透明基材；201b、第二主面；3、金属网格电极；30、金属层；301、第一金属网格电极；302、第二金属网格电极；31、311、312、细线；31a、311a、312a、上表面(与透明基材为相反侧的面)；31b～c、311b～c、312b～c、侧面；4、黑色光致抗蚀剂层；401、第一黑色光致抗蚀剂层；402、第二黑色光致抗蚀剂层；41、加热流动性光致抗蚀剂层；42、防锈抗蚀剂层；43、加热非流动性光致抗蚀剂层；5、外光；6、光掩模；7、光源；8、蚀刻液；9、加热器；10、周边布线。

Claims (15)

1.一种电极膜，其特征在于，具备：

透明基材；

金属网格电极，设置在所述透明基材的第一主面上；以及

黑色光致抗蚀剂层，设置于构成所述金属网格电极的网格的细线的上表面及两侧面，

所述黑色光致抗蚀剂层是具备加热流动性光致抗蚀剂层和设置在所述加热流动性光致抗蚀剂层上的加热非流动性光致抗蚀剂层的多层结构，且至少任一层着色。

2.根据权利要求1所述的电极膜，其特征在于，

所述黑色光致抗蚀剂层以均匀的膜厚覆盖所述细线的上表面，且被形成为从所述细线的上表面的端至所述细线的两侧面以具有曲面的方式覆盖。

3.根据权利要求1或2所述的电极膜，其特征在于，

所述加热非流动性光致抗蚀剂层的软化点相比于所述加热流动性光致抗蚀剂层的软化点高20℃以上。

4.根据权利要求1或2所述的电极膜，其特征在于，

所述黑色光致抗蚀剂层仅由所述加热流动性光致抗蚀剂层和所述加热非流动性光致抗蚀剂层这两层构成，两者的厚度比为1：2～1：4。

5.根据权利要求1或2所述的电极膜，其特征在于，

在所述加热流动性光致抗蚀剂层与所述加热非流动性光致抗蚀剂层之间设置有防锈抗蚀剂层。

6.根据权利要求1或2所述的电极膜，其特征在于，

所述加热流动性光致抗蚀剂层含有防锈剂。

7.根据权利要求1或2所述的电极膜，其特征在于，

仅所述加热非流动性光致抗蚀剂层着色。

8.根据权利要求1或2所述的电极膜，其特征在于，

仅所述加热流动性光致抗蚀剂层着色。

9.一种电极膜的制造方法，其特征在于，具备下面的工序：

在透明基材的第一主面上层叠金属层，进一步在所述金属层上层叠为具备加热流动性光致抗蚀剂层和在所述加热流动性光致抗蚀剂层上设置的加热非流动性光致抗蚀剂层的多层结构、且至少任一层着色的黑色光致抗蚀剂层的工序；

对所述黑色光致抗蚀剂层局部曝光、显影从而图案化为网格形状的工序；

以图案化的所述黑色光致抗蚀剂层作为蚀刻掩模蚀刻所述金属层直至所述金属层变为相比于构成所述黑色光致抗蚀剂层的网格的细线的宽度小的宽度为止，从而将所述金属层加工为金属网格电极的工序；以及

对所述黑色光致抗蚀剂层进行加热并使其软化，通过软化的所述黑色光致抗蚀剂层的垂下，不仅被覆构成所述金属网格电极的网格的细线的上表面，还被覆至构成所述金属网格电极的网格的细线的两侧面的工序。

10.根据权利要求9所述的电极膜的制造方法，其特征在于，

所述加热非流动性光致抗蚀剂层的软化点相比于所述加热流动性光致抗蚀剂层的软化点高20℃以上。

11.根据权利要求9或10所述的电极膜的制造方法，其特征在于，

所述黑色光致抗蚀剂层仅由所述加热流动性光致抗蚀剂层和所述加热非流动性光致抗蚀剂层这两层构成，两者的厚度比为1：2～1：4。

12.根据权利要求9或10所述的电极膜的制造方法，其特征在于，

在所述加热流动性光致抗蚀剂层与所述加热非流动性光致抗蚀剂层之间设置有防锈抗蚀剂层。

13.根据权利要求9或10所述的电极膜的制造方法，其特征在于，

所述加热流动性光致抗蚀剂层含有防锈剂。

14.根据权利要求9或10所述的电极膜的制造方法，其特征在于，

仅所述加热非流动性光致抗蚀剂层着色。

15.根据权利要求9或10所述的电极膜的制造方法，其特征在于，

仅所述加热流动性光致抗蚀剂层着色。

Images