WO2015141766A1 - 感光性積層体、転写材料、パターン化された感光性積層体及びその製造方法、タッチパネル、並びに画像表示装置 - Google Patents

感光性積層体、転写材料、パターン化された感光性積層体及びその製造方法、タッチパネル、並びに画像表示装置 Download PDF

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吉成 伸一
佐藤 守正
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Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive laminate for use in a decorative material or a protective material with a refractive index adjustment layer. Furthermore, this invention relates to the transfer material for manufacturing the said photosensitive laminated body. Furthermore, this invention relates to the patterned photosensitive laminated body and its manufacturing method. Furthermore, this invention relates to the touchscreen and image display apparatus which have the said photosensitive laminated body.
  • Such input devices include a resistance film type and a capacitance type. Since the resistance film type input device has a structure in which the film is pressed and short-circuited in a two-layer structure of film and glass, it has a drawback that the operating temperature range is narrow and it is vulnerable to changes over time. On the other hand, the capacitive input device has an advantage that a light-transmitting conductive film is formed on a single substrate. In a capacitance-type input device, for example, an electrode pattern is extended in a direction intersecting each other, and when a finger or the like comes into contact, the input position is detected by detecting that the capacitance between the electrodes changes. There are types.
  • Patent Document 1 describes a front protective plate for a display device in which a base material, a light shielding layer exhibiting a white color, an oxygen blocking layer, and a backing layer are laminated in this order. In addition, it is described that patterning is repeated for each layer.
  • the decorating material can also be formed using a transfer material.
  • the transfer material is used for production of a printed wiring board.
  • a first photosensitive layer containing a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, and a barrier containing a polymerizable compound.
  • a photosensitive transfer sheet is described that includes a layer, a binder, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator, and is laminated in the order of a second photosensitive layer having a relatively higher photosensitivity than the first photosensitive layer.
  • Patent Document 3 contains a predetermined vinyl copolymer, a predetermined photopolymerizable monomer, a photopolymerizable monomer containing two or more ethylenically unsaturated double bonds, and a photopolymerization initiator on a support.
  • stacked in order of the 2nd photosensitive resin layer is described.
  • patent document 2 and patent document 3 are printed wiring board uses, and are not described about the transfer material for forming a decorating material. If a pigment is contained in the resin layer in order to form a decorating material, a problem occurs in patterning, or the pigment comes out from the side surface of the transfer material during development.
  • the first photosensitive layer and the second layer without providing an intermediate layer. When the photosensitive layer is applied, the photosensitive layers are mixed with each other, and there is a problem that a target characteristic cannot be obtained.
  • this invention makes it the subject which should be solved to provide the said photosensitive laminated body patterned and its manufacturing method. Furthermore, this invention makes it the problem which should be solved to provide the touchscreen and image display apparatus which have the said photosensitive laminated body.
  • the present inventors produced a photosensitive laminate in which a first resin layer, an intermediate layer and a second resin layer were laminated in this order on a support, By including 20% by mass or more of inorganic particles in at least one of the first resin layer and the second resin layer and making the photosensitivity of the second resin layer higher than the photosensitivity of the first resin layer, the above problem can be solved.
  • the present invention has been completed. Specifically, the present invention has the following configuration.
  • a first resin layer, an intermediate layer, and a second resin layer are laminated in this order on a support, and at least one of the first resin layer and the second resin layer contains 20% by mass or more of inorganic particles,
  • the photosensitive laminated body whose photosensitive sensitivity of a resin layer is higher than the photosensitive sensitivity of a 1st resin layer.
  • ⁇ 3> The photosensitive laminate according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the intermediate layer contains a photopolymerization initiator and a polymerizable compound.
  • ⁇ 4> The photosensitive laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the first resin layer contains a photopolymerization initiator and a polymerizable compound.
  • ⁇ 5> The photosensitive laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the first resin layer and the second resin layer are a decorative layer, a refractive index adjusting layer, or a protective layer.
  • ⁇ 6> The photosensitive laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, wherein the inorganic particles are rutile titanium dioxide, carbon black, or zirconium oxide.
  • the intermediate layer is prepared using a water-based, alcohol-based, or water-alcohol mixed coating solution.
  • ⁇ 8> The photosensitive laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein the intermediate layer contains polyvinyl alcohol.
  • the second resin layer, the intermediate layer, and the first resin layer are laminated in this order on the temporary support, and at least one of the first resin layer and the second resin layer includes 20% by mass or more of inorganic particles, A transfer material in which the photosensitive sensitivity of the two resin layers is higher than that of the first resin layer.
  • ⁇ 11> The transfer material according to ⁇ 9> or ⁇ 10>, wherein the intermediate layer contains a photopolymerization initiator and a polymerizable compound.
  • ⁇ 12> The transfer material according to any one of ⁇ 9> to ⁇ 11>, wherein the first resin layer contains a photopolymerization initiator and a polymerizable compound.
  • ⁇ 13> The transfer material according to any one of ⁇ 9> to ⁇ 12>, wherein the first resin layer and the second resin layer are a decorative layer, a refractive index adjustment layer, or a protective layer.
  • ⁇ 14> The transfer material according to any one of ⁇ 9> to ⁇ 13>, wherein the inorganic particles are rutile titanium dioxide, carbon black, or zirconium oxide.
  • ⁇ 15> The transfer material according to any one of ⁇ 9> to ⁇ 14>, wherein the intermediate layer is prepared using a water-based, alcohol-based, or water-alcohol mixed coating solution.
  • ⁇ 16> The transfer material according to any one of ⁇ 9> to ⁇ 15>, wherein the intermediate layer contains polyvinyl alcohol.
  • ⁇ 17> The transfer material according to any one of ⁇ 9> to ⁇ 16> is obtained by transferring the transfer material on the support so that the first resin layer is on the support, and removing the temporary support.
  • ⁇ 18> A step of curing a predetermined patterned region in the second resin layer of the photosensitive laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>, and the obtained photosensitive laminate with a developer.
  • a method for producing a patterned photosensitive laminate comprising a step of removing uncured portions by treatment.
  • ⁇ 19> A patterned photosensitive laminate obtained by the method according to ⁇ 18>.
  • ⁇ 20> A touch panel having the photosensitive laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>, ⁇ 17>, or ⁇ 19>.
  • ⁇ 21> An information display device having the touch panel according to ⁇ 20>.
  • the photosensitive laminate of the present invention patterning of two or more layers can be performed at one time. In particular, peeling of the second layer can be suppressed with good patternability, and the first layer and the second layer. The complexity of alignment can be reduced.
  • the transfer material of the present invention is useful for producing the photosensitive laminate.
  • the patterned photosensitive laminate of the present invention is useful for manufacturing touch panels and the like. According to the present invention, it is possible to provide a touch panel and an image display device having the photosensitive laminate.
  • it is a cross-sectional schematic diagram of the photosensitive laminated body of the aspect which the pattern edge of a 1st resin layer and the pattern edge of a 2nd resin layer are the same positions.
  • the white arrow indicates the side to be observed.
  • it is the cross-sectional schematic of the photosensitive laminated body of the aspect from which the pattern edge of the 1st resin layer and the pattern edge of the 2nd resin layer are separated.
  • the white arrow indicates the side to be observed.
  • a numerical range represented by using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
  • the refractive index of each layer means a refractive index at a wavelength of 550 nm unless otherwise specified.
  • the film thickness of each layer can be measured with a surface roughness meter in a state where the coating film is shaved with a blade or the like and the cross section of the film is exposed.
  • a commercially available surface roughness meter can be used as the surface roughness meter, but it can be measured with a stylus type film thickness meter P-10 manufactured by TENCOR.
  • Photosensitive laminate, transfer material In the photosensitive laminate of the present invention, a first resin layer, an intermediate layer, and a second resin layer are laminated in this order on a support, and at least one of the first resin layer and the second resin layer is 20% by mass or more. And the second resin layer has a higher photosensitivity than the first resin layer.
  • the transfer material of the present invention the second resin layer, the intermediate layer, and the first resin layer are laminated in this order on the temporary support, and the first resin layer and / or the second resin layer is 20% by mass or more. And the second resin layer has a higher photosensitivity than the first resin layer.
  • the present invention is not limited by theory, in a photosensitive material that contains a large amount of inorganic particles and has a reduced ultraviolet light transmission efficiency to the lower layer, only the surface layer in a multilayer structure is sufficiently photocured to provide a strong coating By forming the film, it is considered that good patterning characteristics can be imparted even if the lower layer is insufficiently cured.
  • the preferable aspect of the photosensitive laminated body of this invention is demonstrated.
  • the photosensitive laminate and the transfer material of the present invention have a first resin layer, an intermediate layer, and a second resin layer. At least one of the first resin layer and the second resin layer contains 20% by mass or more of inorganic particles, and the photosensitive sensitivity of the second resin layer is higher than the photosensitive sensitivity of the first resin layer.
  • Photosensitivity means a property in which a substance undergoes a chemical change upon irradiation with light, and a pattern can be formed using a developer such as an alkaline aqueous solution.
  • a laminate means a structure formed of a plurality of layers on a support such as a glass substrate or a plastic film.
  • the first resin layer may be curable or non-curable, but is preferably curable, and more preferably photocurable.
  • the second resin layer is preferably photocurable.
  • the first resin layer, the intermediate layer, and the second resin layer in the photosensitive laminate of the present invention can be used as a decorating material.
  • the photosensitive laminate of the present invention is added. It can be used as a substrate with a decoration material.
  • a 1st resin layer can be used as a white colored layer (it is also called a white material layer), and a 2nd resin layer can be used as a light shielding layer.
  • the first resin layer, the intermediate layer, and the second resin layer in the photosensitive laminate of the present invention are used as a protective layer with a refractive index adjustment layer (also referred to as an overcoat layer with an index matching layer).
  • a refractive index adjustment layer also referred to as an overcoat layer with an index matching layer
  • the first resin layer can be used as a refractive index adjustment layer (index matching layer)
  • the second resin layer can be used as an overcoat layer.
  • the photosensitive laminated body of this invention can also be used for uses other than the above.
  • the material of the first resin layer and the second resin layer is not particularly limited as long as at least one layer contains 20% by mass or more of inorganic particles.
  • the inorganic particles may be included in both the first resin layer and the second resin layer, may be included only in the first resin layer, or may be included only in the second resin layer.
  • the first resin layer, the intermediate layer, and the second resin layer in the photosensitive laminate of the present invention are used as a protective layer with a refractive index adjusting layer, the inorganic particles are included in the first resin layer, and the second resin It does not have to be included in the layer.
  • examples of the inorganic particles include metal fine particles, metal oxide fine particles, carbon black, and a high refractive index transparent pigment.
  • fine metal particles such as iron, aluminum, gold, and silver can be used.
  • the metal of the metal oxide particles includes metalloids such as B, Si, Ge, As, Sb, and Te.
  • metal oxide particles Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Sc, Y, La, Ce, Gd, Tb, Dy, Yb, Lu, Ti, Zr, Hf, Nb, Mo, W, Zn, B Preferred are oxide particles containing atoms such as Al, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, Bi, Te, Si, Nb, etc., titanium oxide, titanium composite oxide, zinc oxide, zirconium oxide, indium / tin oxide Antimony / tin oxide is more preferable, titanium oxide, titanium composite oxide, and zirconium oxide are more preferable, and titanium oxide and zirconium oxide are particularly preferable.
  • titanium dioxide is most preferable.
  • zirconium oxide or titanium dioxide is most preferable. Titanium dioxide is particularly preferably a rutile type having a high refractive index. The surface of these metal oxide particles can be treated with an organic material in order to impart dispersion stability or reduce photocatalytic activity.
  • the average primary particle diameter of the inorganic particles is preferably 1 to 200 nm, particularly preferably 3 to 80 nm.
  • the average primary particle diameter of the particles refers to an arithmetic average obtained by measuring the particle diameter of 200 arbitrary particles with an electron microscope.
  • the longest side is the diameter.
  • high refractive index transparent pigment examples include zirconium oxide and titanium dioxide having a particle diameter of 50 nm or less.
  • Inorganic particles may be used alone or in combination of two or more.
  • the first resin layer when the first resin layer contains titanium dioxide as inorganic particles and the second resin layer contains carbon black, the first resin layer functions as a white colored layer, It functions as a light shielding layer, and the photosensitive laminate can be used as a substrate with a decorating material.
  • the first resin layer when a high refractive index transparent pigment is contained in the first resin layer, the first resin layer functions as a refractive index adjustment layer, the second resin layer functions as an overcoat layer, and the photosensitive laminate has a refractive index. It can be used as a protective layer with an adjustment layer.
  • the inorganic particles used for the refractive index adjusting layer are preferably those having a refractive index higher than the refractive index of the resin composition made of a material excluding the above particles, specifically, a wavelength of 400 to 750 nm. Particles having a refractive index of 1.50 or more in light having a refractive index of 1 are more preferable, particles having a refractive index of 1.70 or more are more preferable, and particles having a refractive index of 1.90 or more are particularly preferable.
  • the refractive index of light having a wavelength of 400 to 750 nm being 1.50 or more means that the average refractive index of light having a wavelength in the above range is 1.50 or more. It is not necessary that the refractive index of all light having a wavelength is 1.50 or more.
  • the average refractive index is a value obtained by dividing the sum of the measured values of the refractive index for each light having a wavelength in the above range by the number of measurement points.
  • the content of inorganic particles in the resin layer containing inorganic particles is 20% by mass or more, preferably 20 to 70% by mass, and more preferably 30 to 60% by mass.
  • the first resin layer and the second resin layer in the photosensitive laminate and the transfer material of the present invention preferably contain a resin (preferably an alkali-soluble resin), a polymerizable compound, a polymerization initiator, or a polymerization initiation system.
  • a resin preferably an alkali-soluble resin
  • a polymerizable compound preferably an alkali-soluble compound
  • a polymerization initiator preferably an organic radical initiator
  • the resin (also referred to as binder or polymer) and other additives used in the first and second resin layers are not particularly limited as long as they do not contradict the gist of the present invention.
  • an alkali-soluble resin is preferable.
  • the alkali-soluble resin include paragraphs [0025] and JP-A-2010- of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-95716.
  • the polymers described in paragraphs [0033] to [0052] of No. 237589 can be used.
  • Specific resins used for the first resin layer and the second resin layer include the polymer compounds described in paragraphs [0061] to [0089] of JP-A-2005-202066 and paragraph [0028] of JP-A-2008-146018. To the polymer compounds described in [0073].
  • the polymerizable compound contained in the first and second resin layers the polymerizable compounds described in paragraphs [0023] to [0024] of Japanese Patent No. 4098550 can be used.
  • a specific polymerizable compound used for the first resin layer and the second resin layer commercially available products can be used.
  • monomer DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • NK oligo UA-32P Shin Nakamura Chemical
  • Viscoat V # 802 manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.
  • the polymerization initiator or polymerization initiation system As the polymerization initiator or polymerization initiation system, the polymerization initiators or polymerization initiation systems described in [0031] to [0042] described in JP 2011-95716 A can be used. Commercially available products can be used as the polymerization initiator or polymerization initiation system, and examples thereof include Irgacure 907, Irgacure 2959, Irgacure 379EG (both manufactured by BASF Japan), DETX-S (produced by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and the like.
  • Irgacure 907 Irgacure 2959
  • Irgacure 379EG both manufactured by BASF Japan
  • DETX-S produced by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • an additive may be used for the first resin layer and the second resin layer.
  • the additive include surfactants described in paragraph [0017] of Japanese Patent No. 4502784, paragraphs [0060] to [0071] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-237362, and paragraph [ And the other additives described in paragraphs [0058] to [0071] of JP-A No. 2000-310706.
  • Specific examples include fluorine compounds (Megafac F-556, manufactured by DIC), fluorescent brighteners (Tinopal OB, manufactured by BASF Japan), and the like.
  • the solvents described in paragraphs [0043] to [0044] of JP-A No. 2011-95716 can be used.
  • Specific examples include propylene glycol monomethyl ether acetate and methyl ethyl ketone.
  • the first resin layer has lower photosensitivity than the second resin layer.
  • the first resin layer only needs to have a lower photosensitivity than the second resin layer and may be non-photosensitive, but it is preferably photosensitive from the viewpoint of preventing film peeling of the second resin layer.
  • the refractive index of the first resin layer is preferably 1.60 to 1.78, more preferably 1.60 to 1.75. More preferably, it is 1.60 to 1.70.
  • the thickness of the first resin layer is preferably 1 to 110 ⁇ m, more preferably 15 to 60 ⁇ m, and further preferably 25 to 50 ⁇ m. preferable.
  • the thickness of the first resin layer is preferably 55 to 110 nm, more preferably 55 to 105 nm, and further preferably 60 to 100 nm.
  • the 2nd resin layer is arrange
  • the photosensitivity can be evaluated by variously changing the exposure amount of ultraviolet rays and examining the exposure amount in which the coating film thickness remains 90% or more after development.
  • the sensitivity of the film is higher when the exposure amount at this time is smaller.
  • the non-photosensitive resin layer does not proceed with photo-curing reaction no matter how much ultraviolet rays are irradiated, and the coating film does not remain in development, so the non-photosensitive resin layer is more sensitive than any resin layer having photosensitivity. I think the sensitivity is low.
  • the amount of UV irradiation necessary for the film thickness of the second resin layer to remain 90% or more is 1 ⁇ 2 or less of the amount of UV irradiation required for the first resin layer, that is, it is preferable that the sensitivity is high. Or less, more preferably 1/5 or less.
  • the refractive index of the second resin layer is preferably 1.50 to 1.53, and preferably 1.50 to 1.52. Is more preferably 1.51 to 1.52.
  • the thickness of the second resin layer is 1 from the viewpoint of exhibiting sufficient surface protection ability when the transparent protective layer of the touch panel is formed using the second resin layer. It is preferably ⁇ 50 ⁇ m, more preferably 1 to 30 ⁇ m, further preferably 1 to 25 ⁇ m.
  • the thickness of the second resin layer is preferably 1 to 10 ⁇ m, more preferably 1 to 8 ⁇ m, and more preferably 3 to 8 ⁇ m. More preferably.
  • middle layer is further included between the 1st resin layer and the 2nd resin layer from a viewpoint which prevents mixing of the component at the time of the multi-layer application
  • the intermediate layer preferably exhibits low oxygen permeability and is dispersed or dissolved in water or an aqueous alkaline solution, and can be appropriately selected from known ones.
  • the intermediate layer is preferably water-based, alcohol-based, or water and alcohol. It can produce using the mixed type coating liquid.
  • the intermediate layer is made of, for example, a resin such as polyvinyl alcohol resin, polyvinyl pyrrolidone resin, cellulose resin, acrylamide resin, polyethylene oxide resin, gelatin, vinyl ether resin, polyamide resin, or a copolymer thereof. Among them, a combination of polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone is particularly preferable.
  • additives such as a surfactant, a photopolymerization initiator (for example, Irgacure 2959, manufactured by BASF Japan), and a polymerizable monomer (for example, light acrylate (3EG-A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)) are optionally added. It may be added.
  • a surfactant for example, Irgacure 2959, manufactured by BASF Japan
  • a polymerizable monomer for example, light acrylate (3EG-A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • the film thickness of the intermediate layer is preferably 0.1 to 10 ⁇ m, more preferably 0.5 to 5 ⁇ m. It is preferably 1 to 3 ⁇ m.
  • the intermediate layer has a thickness of 0.05 to 5 ⁇ m. The thickness is preferably 0.1 to 3 ⁇ m, more preferably 0.1 to 1 ⁇ m.
  • the support used in the photosensitive laminate of the present invention can be used as the support used in the photosensitive laminate of the present invention, but a film support is preferable, and a support having no optical distortion or a support having high transparency is preferable.
  • the support preferably has a total light transmittance of 80% or more.
  • the total light transmittance can be measured with a commercially available spectrophotometer equipped with an integrating sphere, and can be measured with a spectral altitude system UV-2100 manufactured by Shimadzu Corporation.
  • the support is a film support
  • specific materials in the case where the support is a film support can include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate, polycarbonate (PC), triacetyl cellulose (TAC), and cycloolefin polymer (COP).
  • PET polyethylene terephthalate
  • PC polycarbonate
  • TAC triacetyl cellulose
  • COP cycloolefin polymer
  • the support may be glass or the like.
  • the support is made of glass, TAC, PET, PC, COP or silicone resin (however, silicone resin and polyorganosiloxane in the present specification appear in the structural unit formula of R 2 SiO.
  • silicone resin is preferably composed mainly of cage-type polyorganosiloxane, more preferably a cage silsesquioxane.
  • the main component of a composition or a layer means the component which occupies 50 mass% or more of the composition or the layer. Examples of the silicone resin and the substrate containing the silicone resin include Japanese Patent No. 4142385, Japanese Patent No. 44099797, Japanese Patent No. 5078269, Japanese Patent No.
  • the support surface may have a conductive layer on the support surface.
  • the conductive layer those described in JP-T-2009-505358 can be preferably used.
  • the support preferably further includes at least one of a scratch-resistant layer and an antiglare layer.
  • the film thickness is preferably 40 to 200 ⁇ m, more preferably 40 to 150 ⁇ m, and particularly preferably 50 to 120 ⁇ m. preferable.
  • the thickness is preferably 0.1 to 1.0 mm, more preferably 0.3 to 0.7 mm.
  • a surface treatment can be applied to the non-contact surface of the support (front plate) in advance.
  • the surface treatment it is preferable to perform a surface treatment (silane coupling treatment) using a silane compound.
  • silane coupling agent those having a functional group that interacts with the photosensitive resin are preferable.
  • a silane coupling agent N- ⁇ (aminoethyl) ⁇ -aminopropyltrimethoxysilane 0.3 mass% aqueous solution, trade name: KBM603, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • KBM603 a silane coupling agent
  • pure water shower washing is performed.
  • the reaction is carried out by heating.
  • a heating tank may be used, and the reaction can be accelerated by preheating the support of the laminator.
  • the transfer material of the present invention has a temporary support.
  • a temporary support a material that is flexible and does not cause significant deformation, shrinkage, or elongation under pressure or under pressure and heating can be used.
  • Examples of such a support include a polyethylene terephthalate film, a cellulose triacetate film (TAC film), a polystyrene film, a polycarbonate film, etc.
  • TAC film cellulose triacetate film
  • a polystyrene film a polycarbonate film, etc.
  • a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is particularly preferable.
  • the thickness of the temporary support is not particularly limited and is generally in the range of 5 to 200 ⁇ m, and in the range of easy handling and versatility, the range of 10 to 150 ⁇ m is particularly preferable.
  • the temporary support may be transparent or may contain dyed silicon, alumina sol, chromium salt, zirconium salt or the like. Further, the temporary support can be imparted with conductivity by the method described in JP-A-2005-221726.
  • ⁇ Protective film> it is preferable to further provide a protective film (protective release layer) or the like on the surface of the second resin layer.
  • the conductive layer may contain indium (including an indium-containing compound such as ITO or an indium alloy).
  • FIG. 1 shows an example of a preferred configuration of the transfer material of the present invention.
  • FIG. 1A shows a transfer material of the present invention in which a temporary support 26, a second resin layer 18, an intermediate layer 17, a first resin layer 28, and a cover film 29 are laminated adjacent to each other in this order.
  • 30 is a schematic diagram
  • the transfer material of the present invention includes a step of forming a second resin layer on the temporary support, a step of forming an intermediate layer on the second resin layer, and a step of forming the first resin layer on the intermediate layer. Can be manufactured.
  • the touch panel having the opening 8 configured as shown in FIG. 5 when the white colored layer 2a, the light shielding layer 2b and the like described in FIG. 4 are formed using a film transfer material, a support (front plate) having the opening.
  • a support front plate having the opening.
  • the resist component protrudes from the glass edge in the white colored layer 2a or the light shielding layer 2b, which needs to form a light shielding pattern, especially to the border of the front plate. Therefore, it is possible to manufacture a touch panel having a merit of thin layer / light weight by a simple process without contaminating the back side of the support.
  • a method for producing the transfer material is not particularly limited, and for example, it can be produced by the steps described in paragraphs 0064 to 0066 of JP-A-2005-3861.
  • the film transfer material can also be produced by the method described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-116078.
  • An example of a method for producing a transfer material is a method in which a resin composition is applied on a temporary support and dried to form each layer.
  • the film transfer material may form at least two layers of a white colored layer and a light shielding layer as the colored layer, while the film transfer material having the temporary support and the white colored layer is transferred onto the support.
  • the temporary support was later removed, and when a film transfer material including at least the temporary support and the light shielding layer was transferred onto the white colored layer, at least one of the white colored layer and the light shielding layer was formed as the colored layer.
  • the transfer material of the present invention can be obtained by laminating the light shielding layer and the white colored layer in this order on a temporary support, and in this case, on the (glass) support, A white decorating material and a light shielding material can be provided at a time, which is preferable in terms of process.
  • thermoplastic resin layer may be applied and formed before the formation of the first and second resin layers.
  • a known coating method can be used as a method of applying the coating solution for the first and second resin layers and the coating solution for forming the intermediate layer on the temporary support. For example, it can be formed by applying and drying these coating liquids using a coating machine such as a spinner, a wheeler, a roller coater, a curtain coater, a knife coater, a wire bar coater, or an extruder.
  • composition for forming each layer of the transfer material can be suitably prepared using a solvent together with each component contained in the composition.
  • Solvents include esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, alkyl esters, methyl lactate, lactic acid Ethyl, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, and methyl 3-oxypropionate and ethyl 3-oxypropionate 3-oxypropionic acid alkyl esters (for example, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, methyl
  • Ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol mono Ethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate, etc .;
  • Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone and the like;
  • Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and the like;
  • the alcohols include methanol, ethanol, isopropanol, normal propanol, normal butanol, isobutanol, t-butanol, and propylene glycol monomethyl ether.
  • methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, xylene, cyclohexanone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate and the like are preferable.
  • Solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • the method for producing the photosensitive laminate of the present invention is not particularly limited, and the first resin layer and the second resin layer may be formed by coating, or may be produced by a method of transferring from the transfer material of the present invention. Also good.
  • a method for producing the photosensitive laminate of the present invention a method in which a first resin layer, an intermediate layer and a second resin layer are applied and formed in this order on a support, or on a temporary support. After the second resin layer, the intermediate layer, and the first resin layer are transferred onto the support, the temporary support is removed from the transfer material in which the second resin layer, the intermediate layer, and the first resin layer are laminated in this order.
  • the method chosen from methods can be mentioned.
  • a method of applying the first and second resin layer coating solutions and the intermediate layer coating solution known coating methods can be used. For example, it can be formed by applying and drying these coating liquids using a coating machine such as a spinner, a wheeler, a roller coater, a curtain coater, a knife coater, a wire bar coater, or an extruder.
  • a coating machine such as a spinner, a wheeler, a roller coater, a curtain coater, a knife coater, a wire bar coater, or an extruder.
  • a transfer material is produced as described above, and the produced transfer material is laminated on a support, and a photosensitive laminate is produced by peeling off the temporary support.
  • the transfer material of the present invention in which the temporary support 26, the second resin layer 18, the intermediate layer 17, and the first resin layer 28 shown in FIG.
  • the photosensitive laminate shown in FIG. 2 (b) can be produced by laminating on top and peeling off the temporary support.
  • the transfer (bonding) of the first and second resin layers to the surface of the support is performed by stacking the first resin layer on the surface of the support, pressurizing and heating.
  • a known laminator such as a laminator, a vacuum laminator, and an auto-cut laminator that can further improve productivity can be used.
  • a laminate method is preferable from the viewpoint of increasing the yield by a method that does not contain bubbles between the support and the decorative material with high accuracy.
  • the use of a vacuum laminator can be preferably mentioned.
  • Examples of the apparatus used for laminating include V-SE340aaH manufactured by Climb Products Co., Ltd.
  • Examples of the vacuum laminator device include those manufactured by Takano Seiki Co., Ltd., Taisei Laminator Co., Ltd., FVJ-540R, FV700, and the like.
  • the manufacturing method of a film transfer material includes the process of removing a temporary support body from the transfer material affixed on the said support body.
  • the method for manufacturing the transfer material may have other steps such as a post-exposure step.
  • the post-exposure step may be performed only from the surface direction of the white colored layer and the light shielding layer on the side in contact with the substrate, or from only the surface direction of the side not in contact with the transparent substrate, or from both sides. You may go.
  • thermoplastic resin layer and the intermediate layer examples include the method described in paragraphs 0035 to 0051 of JP-A-2006-23696. Can also be suitably used.
  • the method for producing a patterned photosensitive laminate of the present invention includes a second resin of the photosensitive laminate of the present invention in which a first resin layer, an intermediate layer, and a second resin layer are laminated in this order on a support. A step of curing a predetermined patterned region of the layer, and a step of removing the uncured portion by treating the photosensitive laminate obtained above with a developer.
  • the patterned photosensitive laminate obtained by the above method is also within the scope of the present invention. According to the method for producing a patterned photosensitive laminate of the present invention, two or more layers can be patterned at once.
  • the step of exposing the patterned photosensitive laminate of the present invention may be performed before the step of removing the temporary support when the photosensitive laminate is formed using a transfer material, and the temporary support is removed.
  • a predetermined mask is disposed on the second resin layer side of the photosensitive laminate, and then the second resin layer side, the intermediate layer, and the first resin
  • the exposure can be performed from above the mask through the layer, and then the development with a developer can be performed.
  • the light source for the exposure is appropriately selected as long as it can irradiate light in a wavelength region that can cure the second resin layer side, the intermediate layer, and the first resin layer (for example, 365 nm, 405 nm, etc.).
  • an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, etc. are mentioned.
  • Energy of exposure generally 5 ⁇ 20000mJ / cm 2 or so, preferably from 10 ⁇ 6000mJ / cm 2 approximately.
  • the developer is not particularly limited, and known developers such as those described in JP-A-5-72724 can be used.
  • the developer preferably has a development type developing behavior of the photosensitive resin layer.
  • a developer containing a compound having a pKa of 7 to 13 at a concentration of 0.05 to 5 mol / L is preferable.
  • a small amount of a miscible organic solvent may be added.
  • organic solvents miscible with water examples include methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, benzyl alcohol And acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ⁇ -caprolactone, ⁇ -butyrolactone, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, ethyl lactate, methyl lactate, ⁇ -caprolactam, N-methylpyrrolidone and the like.
  • concentration of the organic solvent is preferably 0.1% by mass to 30% by mass.
  • a commercially available product can be used as the developer, and examples thereof include CD1 (manufactured by FUJIFILM Corporation). Further, a known surfactant can be further added to the developer. The concentration of the surfactant is preferably 0.01% by mass to 10% by mass.
  • any of paddle development, shower development, shower & spin development, dip development and the like may be used.
  • the shower development will be described.
  • the uncured portion can be removed by spraying a developer onto the exposed photosensitive resin layer by shower.
  • the liquid temperature of the developer is preferably 20 ° C. to 40 ° C.
  • the pH of the developer is preferably 8 to 13.
  • a post-bake step is preferably included after the exposure / development step, and a post-bake step is more preferably included after the removal step of the thermoplastic resin layer and the intermediate layer.
  • the film transfer material is manufactured by heating the white colored layer and the light-shielding layer of the film transfer material to 180 to 300 ° C. in an environment of 0.08 to 1.2 atm. From the viewpoint of The post-baking is more preferably performed in an environment of 0.5 atm or more. On the other hand, it is more preferable to carry out in an environment of 1.1 atm or less, and it is particularly preferred to carry out in an environment of 1.0 atm or less.
  • the white colored layer and the light-shielding layer are cured by heating, the whiteness after baking is maintained by reducing the oxygen concentration in a reduced pressure environment at a very low pressure.
  • the film transfer material by using the film transfer material, the color tone of the white colored layer and the light shielding layer on the substrate side of the substrate with a decorating material of the present invention is improved even after baking in the range of the pressure (b value). Whiteness can be increased.
  • the post-baking temperature is more preferably 70 to 280 ° C, and particularly preferably 90 to 260 ° C.
  • the post-baking time is more preferably 20 to 150 minutes, and particularly preferably 30 to 100 minutes.
  • the post-baking may be performed in an air environment or a nitrogen substitution environment, but it is particularly preferable to perform the post-bake from the viewpoint of reducing the manufacturing cost without using a special decompression device.
  • the touch panel of the present invention has the photosensitive laminate of the present invention.
  • the touch panel includes a front plate (also referred to as a substrate) and at least the following elements (1) to (4) on a non-contact side of the front plate.
  • the front plate (substrate) and (1) a light shielding layer (first layer)
  • the photosensitive laminate of the present invention can be included as a laminate of decorating materials including two resin layers) and a white colored layer (first resin layer).
  • Decorating material including a light shielding layer and a white colored layer
  • a plurality of second electrode patterns comprising a plurality of pad portions that are electrically insulated from the first transparent electrode pattern and extend in a direction intersecting the first direction;
  • An insulating layer that electrically insulates the transparent electrode pattern from the second electrode pattern.
  • the second electrode pattern may be a transparent electrode pattern.
  • the touch panel may further include the following (5).
  • a conductive element that is electrically connected to at least one of the first transparent electrode pattern and the second transparent electrode pattern and is different from the first transparent electrode pattern and the second transparent electrode pattern
  • the touch panel includes a front plate 1b (cover glass), a white colored layer (first resin layer) 2a, a light shielding layer (second resin layer) 2b, a first transparent electrode pattern 3, and a second electrode.
  • the transparent electrode pattern 4, the insulating layer 5, the conductive element 6, and the transparent protective layer 7 are included.
  • An intermediate layer (not shown) is provided between the white colored layer 2a and the light shielding layer 2b.
  • the front plate 1 and / or 1b is preferably composed of a translucent substrate.
  • a translucent substrate either a cover glass 1b provided with the following decorating material, or a cover glass 1b followed by a film substrate 1 provided with the following decorating material on the film substrate can be used.
  • a cover glass 1b can be further provided on the opposite side of the electrode of the film substrate.
  • tempered glass represented by Gorilla glass manufactured by Corning Corporation can be used.
  • the side on which the front plate 1 and / or 1b are provided is referred to as a non-contact surface 1a.
  • input is performed by bringing a finger or the like into contact with the contact surface of the front plate 1 and / or 1b (the surface opposite to the non-contact surface 1a).
  • the front plate may be referred to as a “substrate”.
  • a white colored layer 2a and a light shielding layer 2b are provided on the non-contact surface of the front plate 1 and / or 1b.
  • the white colored layer 2a and the light-shielding layer 2b are frame-like patterns around the translucent area (display area) formed on the non-contact side of the touch panel front plate as a decoration material so that the lead wiring and the like cannot be seen. It is formed for the purpose of decoration and decoration.
  • the touch panel can be provided with a wiring outlet (not shown).
  • a plurality of first transparent electrode patterns 3 formed with a plurality of pad portions extending in the first direction via connection portions, A plurality of second transparent electrode patterns 4 comprising a plurality of pad portions that are electrically insulated from the transparent electrode pattern 3 and extend in a direction intersecting the first direction; and a first transparent electrode pattern 3 and an insulating layer 5 that electrically insulates the second transparent electrode pattern 4 are formed.
  • the first transparent electrode pattern 3, the second transparent electrode pattern 4, and the conductive element 6 described later are, for example, translucent conductive materials such as ITO (Indium Tin Oxide) and IZO (Indium Zinc Oxide). It can be made of a conductive metal oxide film.
  • metal films examples include ITO films; metal films such as Al, Zn, Cu, Fe, Ni, Cr, and Mo; metal oxide films such as SiO 2 .
  • the film thickness of each element can be set to 10 to 200 nm.
  • the amorphous ITO film is made into a polycrystalline ITO film by firing, the electrical resistance can be reduced.
  • said 1st transparent electrode pattern 3, the 2nd transparent electrode pattern 4, and the electroconductive element 6 mentioned later are manufactured using the transfer film which has the decorating material using the said electroconductive fiber. You can also.
  • paragraphs 0014 to 0016 of Japanese Patent No. 4506785 can be referred to.
  • the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4 is provided on the non-contact surface of the front plate 1 and / or 1b and on the side opposite to the front plate 1 and / or 1b of the light shielding layer 2b. It can be installed across both areas of the surface. 3 and 4, the second transparent electrode pattern 4 is a region on both the non-contact surface of the front plate 1 and / or 1 b and the surface opposite to the front plate 1 and / or 1 b of the light shielding layer 2 b. The figure shows that the second transparent electrode pattern 4 covers the side surface of the white colored layer 2a. However, the width of the white colored layer 2a can be narrower than the width of the light shielding layer 2b.
  • At least one of the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4 is a front plate.
  • the non-contact surface of 1 and / or 1b, the white colored layer 2a and the light-shielding layer 2b can be installed across the region of the surface opposite to the front plate 1 and / or 1b.
  • the film transfer material especially the thermoplastic resin layer
  • FIG. 6 is an explanatory diagram showing an example of the first transparent electrode pattern and the second transparent electrode pattern in the present invention.
  • the first transparent electrode pattern 3 is formed such that the pad portion 3a extends in the first direction via the connection portion 3b.
  • the second transparent electrode pattern 4 is electrically insulated by the first transparent electrode pattern 3 and the insulating layer 5 and extends in a direction intersecting the first direction (second direction in FIG. 6). It is constituted by a plurality of pad portions that are formed.
  • the pad portion 3a and the connection portion 3b may be manufactured as one body, or only the connection portion 3b is manufactured, and the pad portion 3a and the second portion 3b are formed.
  • the transparent electrode pattern 4 may be integrally formed (patterned).
  • the pad portion 3a and the second transparent electrode pattern 4 are integrally formed (patterned), as shown in FIG. 6, a part of the connection part 3b and a part of the pad part 3a are connected, and an insulating layer is formed. Each layer is formed so that the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4 are electrically insulated by 5.
  • a conductive element 6 is provided on the surface of the light shielding layer 2b opposite to the front plate 1 and / or 1b.
  • the conductive element 6 is electrically connected to at least one of the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4, and is different from the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4. Is another element.
  • FIG. 3 and FIG. 4 the figure by which the electroconductive element 6 is connected to the 2nd transparent electrode pattern 4 is shown.
  • a transparent protective layer 7 is provided so as to cover all of the constituent elements.
  • the transparent protective layer 7 may be configured to cover only a part of each component.
  • the insulating layer 5 and the transparent protective layer 7 may be made of the same material or different materials.
  • the material constituting the insulating layer 5 and the transparent protective layer 7 is preferably a material having high surface hardness and high heat resistance, and a known photosensitive siloxane resin material, acrylic resin material, or the like is used.
  • FIG. 7 is a top view showing an example of the tempered glass 15 in which the opening 8 is formed.
  • FIG. 8 is a top view showing an example of the front plate on which the decorative layer 2a is formed.
  • FIG. 9 is a top view showing an example of the front plate on which the first transparent electrode pattern 3 is formed.
  • FIG. 10 is a top view showing an example of a front plate on which the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4 are formed.
  • FIG. 11 is a top view showing an example of a front plate on which conductive elements 6 different from the first and second transparent electrode patterns are formed.
  • the touch panel and the image display device having the touch panel as a component are “latest touch panel technology” (Techno Times, issued on July 6, 2009), supervised by Yuji Mitani, “Touch Panel Technology and Development”, The configurations disclosed in MC Publishing (2004, 12), FPD International 2009 Forum T-11 Lecture Textbook, Cypress Semiconductor Corporation Application Note AN2292, etc. can be applied.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view showing a preferred configuration of the touch panel according to the second aspect of the present invention.
  • the touch panel 10 of the second embodiment includes a transparent substrate (front plate) 1, a decorative material 2, a transparent film 11 having a refractive index of 1.6 to 1.78 and a film thickness of 55 to 110 nm, First transparent electrode pattern 3, second transparent electrode pattern 4, insulating layer 5, conductive element 6, second curable transparent resin layer (refractive index adjusting layer) 12, and first curing
  • First transparent electrode pattern 3 second transparent electrode pattern 4
  • insulating layer 5 conductive element 6, second curable transparent resin layer (refractive index adjusting layer) 12
  • first curing The aspect comprised from the transparent transparent resin layer 7 (protective layer) is shown.
  • FIG. 13 showing the XXa section in FIG. 6 is also a sectional view showing a preferred configuration of the touch panel.
  • FIG. 13 showing the XXa section in FIG. 6 is also a sectional view showing a preferred configuration of the touch panel.
  • a touch panel 10 includes a transparent substrate (front plate) 1, a transparent film 11 having a refractive index of 1.6 to 1.78 and a film thickness of 55 to 110 nm, a first transparent electrode pattern 3, and a second electrode.
  • the decorating material 2 is provided on the non-contact surface of the front plate 1, and has the same function and configuration as the decorating material of the first aspect.
  • region in which the 1st transparent electrode pattern 3, the 2nd transparent electrode pattern 4, and the electroconductive element 6 in FIG. 6 are equivalent to the non-pattern area
  • Reference numeral 22 corresponds to a region in which the transparent electrode pattern, the second curable transparent resin layer, and the first curable transparent resin layer are laminated in this order.
  • the 1st curable transparent resin layer 7 is installed so that all of each component may be covered.
  • the 1st curable transparent resin layer 7 may be comprised so that only a part of each component may be covered.
  • the insulating layer 5 and the first curable transparent resin layer 7 may be the same material or different materials. As a material which comprises the insulating layer 5, what was mentioned as a material of the 1st or 2nd curable transparent resin layer in the transparent laminated body of this invention can be used preferably.
  • the information display device of the present invention has the touch panel of the present invention.
  • the information display device that can use the touch panel of the present invention is preferably a mobile device, and examples thereof include the following information display devices.
  • iPhone4, iPad above, registered trademark, manufactured by Apple Inc., USA
  • Xperia SO-01B
  • Galaxy S SC-02B
  • Galaxy Tab SC-01C
  • BlackBerry 8707h Korean Samsung Electronics Co., Ltd.
  • BlackBerry 8707h Koreanakoku Research in Motion Co., Ltd.
  • Kindle US Amazon Co., Ltd.
  • Kobo Touch Raten Co., Ltd.
  • a second resin layer coating liquid (K1) having the following formulation is applied to a surface with a release layer of a polyethylene terephthalate (PET) base with a release layer (Unipeel TR6, manufactured by Unitika Ltd., thickness 50 ⁇ m). This was applied and dried at 120 ° C. for 2 minutes to obtain a second resin layer (light-shielding layer) having a dry film thickness of 3 ⁇ m.
  • Carbon black dispersion (pigment ratio 31.3%, composition below): 360 parts by mass
  • Propylene glycol monomethyl ether acetate 115 parts by mass
  • Methyl ethyl ketone 400 parts by mass
  • Photoinitiator (Irgacure 907, manufactured by BASF Japan) : 2.38 parts by mass.
  • Acrylic resin having the structure shown in the following [Chemical Formula 1]: 61.1 parts by mass.
  • Monomer DPHA (propylene glycol monomethyl ether acetate solution solid content 76% by mass) (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 61 .2 parts by mass of fluorine compound (Megafac F-556, manufactured by DIC Corporation) : 0.600 parts by mass
  • the pigment dispersion had the following composition: a pigment and a pigment dispersant dissolved in advance in an organic solvent were mixed and dispersed for one hour using a paint shaker (Toyo Seiki Seisakusho). ⁇ Carbon black (trade name: Nippon 35, manufactured by Degussa) 13.05 parts by mass, methyl ethyl ketone 85.64 parts by mass, Solsperse 32000 (manufactured by Avicia) 1.31 parts by mass
  • An intermediate layer coating solution (I2) having the following formulation was applied onto the second resin layer and dried at 120 ° C. for 2 minutes to obtain an intermediate layer having a dry film thickness of 2 ⁇ m.
  • a first resin layer coating solution (W1) having the following formulation was applied on the intermediate layer and dried at 120 ° C. for 4 minutes to obtain a first resin layer (white material layer) having a dry film thickness of 20 ⁇ m.
  • a photosensitive transfer material was prepared by the above operation.
  • the pigment dispersion had the following composition: a pigment and a pigment dispersant dissolved in advance in an organic solvent were mixed and dispersed for one hour using a paint shaker (Toyo Seiki Seisakusho). ⁇ Rutyl type titanium dioxide (trade name: JR-805, manufactured by Teica) 70.00 parts by mass, methyl ethyl ketone 26.50 parts by mass, Solsperse 32000 (Avisia) 3.50 parts by mass
  • a cover film (manufactured by Tamapoly Co., Ltd., 30 ⁇ m thick polyethylene film (trade name: GF-8)) was laminated on the second resin layer under the conditions of 25 ° C., 1 MPa, and 1.0 m / min.
  • a transfer material was prepared by the above operation.
  • the transfer material prepared above was peeled off from the cover film, and then transferred to a glass support (Corning Eagle XG thickness 0.7 mm) to prepare a photosensitive laminate.
  • Examples 2 to 3, Comparative Example 1 ⁇ Production of transfer material> A transfer material was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating solutions for the first resin layer, the intermediate layer, and the second resin layer were changed as shown in Table 1. The formulation of each coating solution used in Examples 2 to 3 and Comparative Example 1 is shown below.
  • the transfer material prepared above was peeled off the cover film, and then transferred to a glass support (Corning Eagle XG thickness 0.7 mm) to prepare a photosensitive laminate.
  • Example 4 ⁇ Production of photosensitive laminate>
  • the first resin layer coating solution (W1) having the above formulation is applied onto TAC (Fujitac, manufactured by Fuji Film Co., Ltd., thickness 60 ⁇ m), which is a support, and dried at 120 ° C. for 2 minutes.
  • TAC Fuji Film Co., Ltd., thickness 60 ⁇ m
  • the intermediate layer coating solution (I2) having the above formulation was applied onto the first resin layer and dried at 120 ° C. for 2 minutes to obtain an intermediate layer having a dry film thickness of 2 ⁇ m.
  • the second resin layer coating solution (K1) was applied on the intermediate layer and dried at 120 ° C. for 4 minutes to obtain a second resin layer (light-shielding layer) having a dry film thickness of 3 ⁇ m.
  • a cover film (manufactured by Oji Specialty Paper Co., Ltd., 12 ⁇ m thick polypropylene film (trade name: Alphan)) was laminated on the second resin layer under the conditions of 25 ° C., 1 MPa, and 1.0 m / min.
  • the photosensitive laminated body was produced by said operation.
  • ⁇ Evaluation of exposure sensitivity> Apply the coating solution for the first resin layer and the coating solution for the second resin layer on the glass support, respectively, how many mJ or more each of the coating film is cured by exposure, and whether the coating film remains after development. evaluated.
  • the coating liquid W2 for the first resin layer is ( 600 ) mJ / cm2
  • the coating liquid W2 for the first resin layer is non-photosensitive, so that the sensitivity is lower than any photosensitive resin layer.
  • the two-resin layer coating solution K1 is ( 80 ) mJ / cm2
  • the second resin layer coating solution K2 is ( 700 ) mJ / cm2
  • the second resin layer coating solution K3 is non-photosensitive and therefore photosensitive. The sensitivity is considered lower than any resin layer.
  • Example 5 to 6 ⁇ Production of photosensitive laminate> A photosensitive laminate was prepared in the same manner as in Example 4 except that the coating solutions for the first resin layer, the intermediate layer, and the second resin layer were changed as shown in Table 1. The formulation of each coating solution used in Examples 5 to 6 is as described above.
  • a pattern was prepared using photolithography under the following conditions. UV exposure was performed in a pattern through a photomask having a predetermined pattern with an exposure amount of 1500 mJ / cm 2 (i-line). In Examples 1 to 3 and Comparative Example 1, exposure was performed from the temporary support side before the temporary support was peeled off. In Examples 4 to 6, exposure was performed from the cover film side before the cover film was peeled off. After exposure, development is performed at 32 ° C. for 90 seconds using a developer (CD1 (manufactured by FUJIFILM)) developer solution diluted seven times with pure water, and patterning is performed by removing uncured portions. And evaluated according to the following criteria.
  • A The pattern edge of the first resin layer and the pattern edge of the second resin layer are obtained at substantially the same position, and the first resin layer is a white material and the second resin layer has a hiding power like the decorative material of this experiment. In the case of a backing layer for enhancing, a high hiding power is obtained up to the edge of the pattern edge, and a preferable appearance is obtained (see the state shown in FIG. 14).
  • B The pattern edge with the second resin layer is separated from the pattern edge of the first resin layer by about several hundred ⁇ m or more, and the hiding power around the pattern is lowered, which is not preferable. (Refer to the state shown in FIG. 15)
  • the second resin layer (backing layer) is the most preferable because there is little peeling.
  • the part that is peeled off is less than 0.1% in area ratio with respect to the whole.
  • B More than A, but less peeled off from the second resin layer.
  • the part that is peeled off is 0.1% or more and less than 1% by area.
  • C The second resin layer peeled more than B.
  • the peeled part is 1% or more and less than 10% in area ratio to the whole.
  • D The second resin layer peels more than C, which is not preferable.
  • the peeled part is 10% or more in area ratio with respect to the whole.
  • the first resin layer is a white material and the second resin layer is a black backing layer, if the positions of the first resin layer and the second resin layer shift, the protrusion of the backing layer can be seen from the edge of the pattern. It is not preferable from the viewpoint of beauty because the masking property of the pattern edge portion of the white material is insufficient.
  • A Since a pattern is obtained by one exposure and development, it is not necessary to separately align, expose, and develop the first resin layer and the second resin layer.
  • B After the first resin layer is printed in a pattern. It is necessary to print the second resin layer while aligning the pattern positions.
  • Examples 1 to 6 are excellent in all of patternability, peeling of the second resin layer, and evaluation of necessity of alignment even when patterning of two or more layers is performed at once. .
  • a second resin layer coating liquid (OC1) having the following formulation is applied to a surface with a release layer of a polyethylene terephthalate (PET) base with a release layer (Unipeel TR6, manufactured by Unitika Ltd., thickness 50 ⁇ m). This was applied and dried at 120 ° C. for 2 minutes to obtain a second resin layer (overcoat layer) having a dry film thickness of 5 ⁇ m.
  • the intermediate layer coating solution (I2) having the above formulation was applied on the second resin layer and dried at 120 ° C. for 2 minutes to obtain an intermediate layer having a dry film thickness of 0.5 ⁇ m.
  • a first resin layer coating solution (IM1) having the following formulation was applied on the intermediate layer and dried at 120 ° C. for 4 minutes to obtain a first resin layer (refractive index adjusting layer) having a dry film thickness of 80 nm.
  • a cover film (manufactured by Tamapoly Co., Ltd., 30 ⁇ m thick polyethylene film (trade name: GF-8)) was laminated on the second resin layer under the conditions of 25 ° C., 1 MPa, and 1.0 m / min.
  • a transfer material was prepared by the above operation.
  • Example 102 to 103 Comparative Example 101
  • a transfer material was produced in the same manner as in Example 101 except that the coating solutions for the first resin layer, the intermediate layer, and the second resin layer were changed as shown in Table 2.
  • the formulation of each coating solution used in Examples 102 to 103 and Comparative Example 101 is shown below.
  • the coating solution for the first resin layer and the coating solution for the second resin layer on the glass support respectively, how many mJ or more each of the coating film is cured by exposure, and whether the coating film remains after development. evaluated.
  • the first resin layer coating solution IM2 is (70) mJ / cm 2
  • the first resin layer coating solution IM1 is non-photosensitive, and therefore has a lower sensitivity than any photosensitive resin layer.
  • the two resin layer coating solution OC1 is 20 mJ / cm2
  • the second resin layer coating solution OC2 is 100 mJ / m2
  • the second resin layer coating solution OC3 is non-photosensitive. I think the sensitivity is low.
  • Example 104 ⁇ Production of photosensitive laminate> A PET film with an ITO pattern as a support and a first resin layer coating solution (IM1) of the above formulation are applied and dried at 120 ° C. for 2 minutes, and a first resin layer (refractive index adjusting layer) having a dry film thickness of 80 nm is obtained.
  • IM1 first resin layer coating solution
  • the intermediate layer coating solution (I2) having the above formulation was applied onto the first resin layer and dried at 120 ° C. for 2 minutes to obtain an intermediate layer having a dry film thickness of 0.5 ⁇ m.
  • the second resin layer coating solution (OC1) was applied on the intermediate layer and dried at 120 ° C. for 4 minutes to obtain a second resin layer (overcoat layer) having a dry film thickness of 5 ⁇ m.
  • a cover film (manufactured by Oji Specialty Paper Co., Ltd., 12 ⁇ m thick polypropylene film (trade name: Alphan)) was laminated on the second resin layer under the conditions of 25 ° C., 1 MPa, and 1.0 m / min.
  • the photosensitive laminated body was produced by said operation.
  • Example 105 to 106 ⁇ Production of photosensitive laminate> A photosensitive laminate was prepared in the same manner as in Example 104 except that the coating solutions for the first resin layer, the intermediate layer, and the second resin layer were changed as shown in the following table. The formulation of each coating solution used in Examples 105 to 106 is as described above.
  • the first resin layer, the intermediate layer, and the second resin layer were each printed using a screen printing machine (HP-320 type screen printing machine manufactured by Neurong Seimitsu Kogyo Co., Ltd.) to produce a laminate.
  • a screen printing machine HP-320 type screen printing machine manufactured by Neurong Seimitsu Kogyo Co., Ltd.
  • a pattern was prepared using photolithography under the following conditions. UV exposure was performed in a pattern through a photomask having a predetermined pattern with an exposure amount of 100 mJ / cm 2 (i-line). In Examples 101 to 103 and Comparative Example 101, exposure was performed from the temporary support side before the temporary support was peeled off. In Examples 104 to 106, exposure was performed from the cover film side before the cover film was peeled off. After exposure, development is performed at 30 ° C. for 60 seconds using a developer (CD1 (manufactured by FUJIFILM)) developer solution diluted seven times with pure water, and patterning is performed by removing uncured portions. And evaluated according to the following criteria.
  • a developer CD1 (manufactured by FUJIFILM)
  • A The pattern edge of the first resin layer and the pattern edge of the second resin layer are obtained at substantially the same position, and the first resin layer is the IM layer (refractive index adjusting layer), the second, as in the decorative material of this experiment.
  • the resin layer is an OC layer (protective layer)
  • the refractive index adjustment layer is covered by the protective layer up to the edge of the pattern edge, which is preferable from the viewpoint of the protective function.
  • B The pattern edge with the second resin layer is separated from the pattern edge of the first resin layer by several hundred ⁇ m or more, and a portion not protected by the protective layer is generated in the refractive index adjusting layer in the peripheral portion of the pattern.
  • the second resin layer is peeled off at the solid portion, if the second resin layer is a protective layer, the portion is not protected, which is not preferable in terms of the protective function.
  • C (Peeling of the second resin layer occurs more than B) The part where the peeling occurs is 1% or more and less than 10% in area ratio with respect to the whole.
  • D (The amount of peeling of the second resin layer is unfavorable more than C.) The peeled part is 10% or more by area ratio with respect to the whole.
  • Examples 101 to 106 are excellent in evaluation of patternability, peeling of the second resin layer, and necessity of alignment even when patterning of two or more layers is performed at once. .
  • Non-contact surface 1b Glass cover glass. Only the cover glass may be used as a front plate, and a laminate of a substrate and glass may be used as a front plate) 2 Decorating material 2a White colored layer (white material layer) 2b Light-shielding layer 3 Conductive layer (first transparent electrode pattern) 3a Pad portion 3b Connection portion 4 Conductive layer (second electrode pattern) 5 Insulating layer 6 Conductive layer (other conductive elements) 7 Transparent protective layer (first curable transparent resin layer) DESCRIPTION OF SYMBOLS 8 Opening part 10 Capacitive input device 11 Transparent film 12 2nd curable transparent resin layer 15 Tempered glass 17 Intermediate

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Abstract

 本発明の課題は、2層以上のパターニングを一括で行うことができる感光性積層体、転写材料、パターン化された感光性積層体及びその製造方法、タッチパネル、および画像表示装置の提供である。本発明によれば、支持体上に第一樹脂層、中間層および第二樹脂層がこの順に積層され、上記第一樹脂層および上記第二樹脂層の少なくとも一方が20質量%以上の無機粒子を含み、上記第二樹脂層の感光感度が上記第一樹脂層の感光感度よりも高い、感光性積層体、転写材料、パターン化された感光性積層体及びその製造方法、タッチパネル、および画像表示装置が提供される。

Description

感光性積層体、転写材料、パターン化された感光性積層体及びその製造方法、タッチパネル、並びに画像表示装置
 本発明は、加飾材または屈折率調整層付き保護材などに使用するための感光性積層体に関する。さらに本発明は、上記感光性積層体を製造するための転写材料に関する。さらに本発明は、パターン化された感光性積層体及びその製造方法に関する。さらに本発明は、上記感光性積層体を有するタッチパネル及び画像表示装置に関する。
 携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器では、近年、液晶装置などの表面にタッチパネル型の入力装置が配置されているものがある。この場合、液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、この指示画像が表示されている箇所に指またはタッチペンなどを触れることで、指示画像に対応する情報の入力を行うことができる。
 このような入力装置(タッチパネル)には、抵抗膜型、静電容量型などがある。抵抗膜型の入力装置は、フィルムとガラスとの2枚構造でフィルムを押下してショートさせる構造のため、動作温度範囲の狭さや、経時変化に弱いという欠点を有している。これに対して、静電容量型の入力装置は、一枚の基板に透光性導電膜を形成すればよいという利点がある。静電容量型の入力装置では、例えば、互いに交差する方向に電極パターンを延在させて、指などが接触した際、電極間の静電容量が変化することを検知して入力位置を検出するタイプのものがある。
 このような静電容量型の入力装置においては、表示装置の引き回し回路等を使用者から視認されないようにするため、また見栄えをよくするため、指またはタッチペンなどで触れる情報表示部を囲む枠状に加飾材が形成されて、加飾が行われている。加飾材の形成方法としては、例えば特許文献1では、基材、白色系の色を呈する遮光層、酸素遮断層、および裏打ち層の順で積層された表示装置用前面保護板が記載されており、各層ごとにパターニングを繰り返して積層させることが記載されている。
 加飾材は、転写材料を用いて形成することもできる。転写材料は、プリント配線基板の作製などに用いており、例えば、特許文献2では、支持体上に、バインダー、重合性化合物および光重合開始剤を含む第一感光層、重合性化合物を含むバリアー層、バインダー、重合性化合物および光重合開始剤を含み、第一感光層よりも光感度が相対的に高い第二感光層の順で積層されている感光性転写シートが記載されている。
 また、特許文献3では、支持体上に所定のビニル共重合体、所定の光重合性モノマー、エチレン性不飽和二重結合を2個以上含有する光重合性モノマー、および光重合開始剤を含有する第一の感光性樹脂層、ならびに所定のビニル共重合体、所定の光重合性モノマー、エチレン性不飽和二重結合を2個以上含有する光重合性モノマー、および光重合開始剤を含有する第二の感光性樹脂層の順で積層した感光性樹脂積層体が記載されている。
特開2013-218010号公報 特開2005-202066号公報 特開平10-111573号公報
 引用文献1では、遮光層、酸素遮断層、および裏打ち層ごとにパターニングを繰り返して積層させており、積層時にアライメント作業が煩雑になるという問題がある。また、特許文献2および特許文献3は、プリント配線基板用途であり、加飾材を形成するための転写材料については記載されていない。加飾材を形成するために樹脂層に顔料を含有させると、パターニングに不具合が生じたり、現像時に転写材料の側面から顔料が出てくる、中間層を設けずに第一感光層と第二感光層を塗布すると感光層どうしが混ざり合ってしまい狙った特性を得られなくなるなどの問題もある。
 本発明は、2層以上のパターニングを1回で行うことができる感光性積層体を提供することを解決すべき課題とする。特に本発明は、良好なパターニング性で、層の剥れが抑制され、第一層と第二層のアライメントの煩雑さが軽減された感光性積層体を提供することを解決すべき課題とする。
 さらに本発明は、上記感光性積層体を製造するための転写材料を提供することを解決すべき課題とする。さらに本発明は、パターン化された上記感光性積層体及びその製造方法を提供することを解決すべき課題とする。さらに本発明は、上記感光性積層体を有するタッチパネル及び画像表示装置を提供することを解決すべき課題とする。
 上記の課題を解決するために鋭意検討を行った結果、本発明者らは、支持体上に第一樹脂層、中間層および第二樹脂層をこの順に積層した感光性積層体を作製し、第一樹脂層および第二樹脂層の少なくとも一方に20質量%以上の無機粒子を含め、第二樹脂層の感光感度を第一樹脂層の感光感度よりも高くすることによって、上記課題を解消できることを見出し、本発明を完成するに至った。
 具体的に、本発明は、以下の構成を有する。
<1> 支持体上に第一樹脂層、中間層および第二樹脂層がこの順に積層され、第一樹脂層および第二樹脂層の少なくとも一方が20質量%以上の無機粒子を含み、第二樹脂層の感光感度が第一樹脂層の感光感度よりも高い、感光性積層体。
<2> 第二樹脂層が、光重合開始剤および重合性化合物を含有し、第一樹脂層、中間層および第二樹脂層がアルカリ水溶液に可溶である、<1> に記載の感光性積層体。
<3> 中間層が、光重合開始剤および重合性化合物を含有する、<1> 又は<2>に記載の感光性積層体。
<4> 第一樹脂層が、光重合開始剤および重合性化合物を含有する、<1>から<3>のいずれかに記載の感光性積層体。
<5> 第一樹脂層および第二樹脂層が、加飾層、屈折率調整層、又は保護層である、<1>から<4>のいずれかに記載の感光性積層体。
<6> 無機粒子がルチル型二酸化チタン、カーボンブラック、又は酸化ジルコニウムである、<1> から<5>のいずれかに記載の感光性積層体。
<7> 中間層が水系、アルコール系、又は水とアルコールの混合系塗布液を用いて作製される<1>から<6>のいずれかに記載の感光性積層体。
<8> 中間層がポリビニルアルコールを含有する、<1>から<7>のいずれかに記載の感光性積層体。
<9> 仮支持体上に第二樹脂層、中間層および第一樹脂層がこの順に積層され、第一樹脂層および第二樹脂層の少なくとも一方が20質量%以上の無機粒子を含み、第二樹脂層の感光感度が第一樹脂層の感光感度よりも高い、転写材料。
<10> 第二樹脂層が、光重合開始剤および重合性化合物を含有し、第一樹脂層、中間層および第二樹脂層がアルカリ水溶液に可溶である、<9>に記載の転写材料。
<11> 中間層が、光重合開始剤および重合性化合物を含有する、<9>又は<10>に記載の転写材料。
<12> 第一樹脂層が、光重合開始剤および重合性化合物を含有する、<9>から<11>のいずれかに記載の転写材料。
<13> 第一樹脂層および第二樹脂層が、加飾層、屈折率調整層、又は保護層である、<9>から<12>のいずれかに記載の転写材料。
<14> 無機粒子がルチル型二酸化チタン、カーボンブラック、又は酸化ジルコニウムである、<9>から<13>のいずれかに記載の転写材料。
<15> 中間層が水系、アルコール系、又は水とアルコールの混合系塗布液を用いて作製される<9>から<14>のいずれかに記載の転写材料。
<16> 中間層がポリビニルアルコールを含有する、<9>から<15>のいずれかに記載の転写材料。
<17> <9>から<16>のいずれかに記載の転写材料を、支持体上に、第一樹脂層が支持体側となるように転写し、仮支持体を除去することにより得られる、<1>~<8>のいずれかに記載の感光性積層体。
<18> <1>~<8>のいずれかに記載の感光性積層体の第二樹脂層のうちの所定のパターン化領域を硬化させる工程、および得られた感光性積層体を現像液で処理して未硬化部分を除去する工程を含む、パターン化された感光性積層体の製造方法。
<19> <18>に記載の方法により得られるパターン化された感光性積層体。
<20> <1>~<8>、<17>又は<19>のいずれかに記載の感光性積層体を有する、タッチパネル。
<21> <20>に記載のタッチパネルを有する、情報表示装置。
 本発明の感光性積層体によれば、2層以上のパターニングを1回で行うことができ、特に、良好なパターニング性で、第二層の剥れを抑制でき、第一層と第二層のアライメントの煩雑さを軽減することができる。本発明の転写材料は、上記の感光性積層体を製造するのに有用である。本発明のパターン化された感光性積層体は、タッチパネルなどの製造に有用である。本発明によれば、上記の感光性積層体を有するタッチパネルおよび画像表示装置を提供することができる。
本発明の転写材料の構成の一例を示す断面概略図である。 (a)本発明の転写材料、および(b)本発明の感光性積層体の構成の一例を示す断面概略図である。 本発明のタッチパネルの構成の一例を示す断面概略図である。 本発明のタッチパネルの構成の他の一例を示す断面概略図である。 第一および第二の透明電極パターンが形成された前面板の一例を示す上面図である。 本発明のタッチパネルにおける第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンの一例を示す説明図である。 開口部が形成された強化処理ガラスの一例を示す上面図である。 白色着色層および遮光層が形成された本発明のタッチパネルの一例を示す上面図である。 第一の透明電極パターンが形成された本発明のタッチパネルの一例を示す上面図である。 第一および第二の透明電極パターンが形成された本発明のタッチパネルの一例を示す上面図である。 第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素が形成された本発明のタッチパネルの一例を示す上面図である。 本発明のタッチパネルの構成の他の一例を示す断面概略図である。 本発明のタッチパネルの構成の他の一例を示す断面概略図である。 実施例におけるパターニングの評価において、第一樹脂層のパターンエッジと第二樹脂層のパターンエッジが同じ位置である態様の感光性積層体の断面概略図である。図中、白抜き矢印は観察する側を示す。 実施例におけるパターニングの評価において、第一樹脂層のパターンエッジと第二樹脂層のパターンエッジが離れている態様の感光性積層体の断面概略図である。図中、白抜き矢印は観察する側を示す。 実施例における第二樹脂層のはがれの評価において、パターニングした感光性積層体を第二樹脂層側から見た際の第二樹脂層のはがれの様子を示した上面概略図である。FUJIFILMは登録商標である。
 以下、本発明の感光性積層体、転写材料、パターン化された感光性積層体及びその製造方法、タッチパネル、並びに画像表示装置について詳細に説明する。
 以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
 本明細書において各層の屈折率は、特に明記されていない限り、550nmの波長における屈折率を意味する。
 本発明において各層の膜厚は、刃物等により塗布膜を削り、膜の断面が出た状態で、表面粗さ計によりその段差を測定することができる。表面粗さ計は市販の表面粗さ計を使用することができるが、TENCOR社製触針式膜厚計P-10により測定することができる。
[感光性積層体、転写材料]
 本発明の感光性積層体は、支持体上に第一樹脂層、中間層および第二樹脂層がこの順に積層され、上記第一樹脂層および上記第二樹脂層の少なくとも一方が20質量%以上の無機粒子を含み、上記第二樹脂層の感光感度が上記第一樹脂層の感光感度よりも高いことを特徴とする。また、本発明の転写材料は、仮支持体上に第二樹脂層、中間層および第一樹脂層がこの順に積層され、上記第一樹脂層および/又は上記第二樹脂層が20質量%以上の無機粒子を含み、上記第二樹脂層の感光感度が上記第一樹脂層の感光感度よりも高いことを特徴とする。このような構成とすることで、2層以上のパターニングを一括で行うことができ、特に、良好なパターニング性で、第二層の剥れを抑制でき、印刷方式等で必要となる第一層と第二層のアライメントの煩雑さを軽減することができる。本発明は理論に拘泥するものでもないが、無機粒子多量に含み下層までの紫外線の透過効率が低下した感光性材料において、多層構成にした時の表層だけを十分に光硬化し、強固な皮膜を形成することにより、下層の硬化は不十分であっても良好なパターニング特性を付与できると考えている。
 以下、本発明の感光性積層体の好ましい態様について説明する。
<第一樹脂層および第二樹脂層>
 本発明の感光性積層体および転写材料は、第一樹脂層、中間層および第二樹脂層を有する。第一樹脂層および第二樹脂層の少なくとも一方は20質量%以上の無機粒子を含み、第二樹脂層の感光感度が第一樹脂層の感光感度よりも高い。感光性とは、物質が光の照射によって化学変化を起こし、アルカリ性水溶液などの現像液を用いてパターン形成が可能になる性質を意味する。積層体とは、ガラス基板やプラスチックフィルムなどの支持体上に複数の層から形成された構造体を意味する。第一樹脂層は、硬化性又は非硬化性の何れでもよいが、好ましくは硬化性であり、さらに好ましくは光硬化性である。第二樹脂層は光硬化性であることが好ましい。
 第一の態様において、本発明の感光性積層体における第一樹脂層、中間層および第二樹脂層は、加飾材として使用することができ、この場合、本発明の感光性積層体は加飾材付き基板として使用することができる。本発明の感光性積層体を加飾材付き基板として使用する場合、第一樹脂層を白色着色層(白材層ともいう)として使用でき、第二樹脂層を遮光層として使用できる。
 第二の態様において、本発明の感光性積層体における第一樹脂層、中間層および第二樹脂層は、屈折率調整層付き保護層(インデックスマッチング層付きオーバーコート層ともいう)として使用することができる。この場合、第一樹脂層を屈折率調整層(インデックスマッチング層)として使用でき、第二樹脂層をオーバーコート層として使用できる。
 なお、本発明の感光性積層体は、上記以外の用途に使用することもできる。
(第一樹脂層および第二樹脂層の材料)
 第一樹脂層および第二樹脂層の材料は、少なくとも一方の層が20質量%以上の無機粒子を含む限り、特に制限されない。
 無機粒子は、第一樹脂層および第二樹脂層の両方に含めてもよいし、第一樹脂層のみに含めてもよいし、第二樹脂層のみに含めてもよい。本発明の感光性積層体を加飾材付き基板として使用する場合には、無機粒子は、第一樹脂層および第二樹脂層の両方に含めることが好ましい。本発明の感光性積層体における第一樹脂層、中間層および第二樹脂層を、屈折率調整層付き保護層として使用する場合には、無機粒子は、第一樹脂層に含め、第二樹脂層には含まなくてもよい。
 無機粒子としては、例えば、金属微粒子、金属酸化物微粒子、カーボンブラック、高屈折率透明顔料などが挙げられる。
 金属微粒子としては、鉄、アルミニウム、金、銀などの金属の微粒子を使用することができる。
 金属酸化物粒子の金属には、B、Si、Ge、As、Sb、Te等の半金属も含まれるものとする。金属酸化物粒子としては、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Ce、Gd、Tb、Dy、Yb、Lu、Ti、Zr、Hf、Nb、Mo、W、Zn、B、Al、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi、Te、Si、Nb等の原子を含む酸化物粒子が好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、インジウム/スズ酸化物、アンチモン/スズ酸化物がより好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化ジルコニウムが更に好ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウムが特に好ましい。第一樹脂層、中間層および第二樹脂層を加飾材として用いる場合、二酸化チタンが最も好ましい。第一樹脂層、中間層および第二樹脂層を屈折率調整層付き保護層として用いる場合、酸化ジルコニウム、又は二酸化チタンが最も好ましい。二酸化チタンとしては、特に屈折率の高いルチル型が好ましい。これら金属酸化物粒子は、分散安定性付与や光触媒活性を低下させるために表面を有機材料で処理することもできる。
 樹脂組成物の透明性の観点から、無機粒子の平均一次粒子径は、1~200nmが好ましく、3~80nmが特に好ましい。ここで粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡により任意の粒子200個の粒子径を測定し、その算術平均をいう。また、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を径とする。
 高屈折率透明顔料としては、粒子径が50nm以下の酸化ジルコニウム、二酸化チタンなどが挙げられる
 また、無機粒子は、1種単独で使用してよいし、2種以上を併用することもできる。
 具体的に、例えば、第一樹脂層に無機粒子として二酸化チタンを含有させ、第二樹脂層にカーボンブラックを含有させた場合、第一樹脂層は白色着色層として機能し、第二樹脂層は遮光層として機能し、感光性積層体は加飾材付き基板として使用することができる。また、第一樹脂層に高屈折率透明顔料を含有させた場合、第一樹脂層は屈折率調整層として機能し、第二樹脂層はオーバーコート層として機能し、感光性積層体は屈折率調整層付き保護層として使用することができる。
 屈折率調整層のために使用する無機粒子としては、上記粒子を除いた材料からなる樹脂組成物の屈折率より屈折率が高いものであることが好ましく、具体的には、400~750nmの波長を有する光における屈折率が1.50以上の粒子がより好ましく、屈折率が1.70以上の粒子が更に好ましく、1.90以上の粒子が特に好ましい。
 ここで、400~750nmの波長を有する光における屈折率が1.50以上であるとは、上記範囲の波長を有する光における平均屈折率が1.50以上であることを意味し、上記範囲の波長を有する全ての光における屈折率が1.50以上であることを要しない。また、平均屈折率は、上記範囲の波長を有する各光に対する屈折率の測定値の総和を、測定点の数で割った値である。
 無機粒子を含む樹脂層における無機粒子の含有量は、20質量%以上であり、20~70質量%含まれることが好ましく、30~60質量%含まれることがより好ましい。
 本発明の感光性積層体および転写材料における第一樹脂層および第二樹脂層は、樹脂(好ましくはアルカリ可溶性樹脂)、重合性化合物、重合開始剤または重合開始系を含むことが好ましい。また、第一樹脂層および第二樹脂層は、感光性積層体をパターン化する際に現像をしやすくするという観点から、アルカリ水溶液に可溶であることが好ましい。さらに、添加剤などが用いられるがこれに限られたものではない。
 第一および第二樹脂層に用いられる樹脂(バインダー、ポリマーともいう)やその他の添加剤としては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無い。
 第一および第二樹脂層に用いられる樹脂(バインダー、ポリマーともいう)としてはアルカリ可溶性樹脂が好ましく、上記アルカリ可溶性樹脂としては、特開2011-95716号公報の段落[0025]、特開2010-237589号公報の段落[0033]~[0052]に記載のポリマーを用いることができる。第一樹脂層および第二樹脂層に用いられる具体的な樹脂としては、特開2005-202066の段落[0061]~[0089]に記載の高分子化合物や特開2008-146018の段落[0028]~[0073]に記載される高分子化合物などが挙げられる。
 第一および第二樹脂層に含有させる重合性化合物としては、特許第4098550号の段落[0023]~[0024]に記載の重合性化合物を用いることができる。第一樹脂層および第二樹脂層に用いられる具体的な重合性化合物としては、市販品を用いることができ、例えば、モノマーDPHA(日本化薬社製)、NKオリゴUA-32P(新中村化学社製)、ビスコートV#802(大阪有機化学社製)などが挙げられる。
 重合開始剤または重合開始系としては、特開2011-95716号公報に記載の[0031]~[0042]に記載の重合開始剤または重合開始系を用いることができる。重合開始剤または重合開始系は、市販品を用いることができ、例えば、イルガキュア907、イルガキュア2959、イルガキュア379EG(ともにBASFジャパン社製)、DETX-S(日本化薬社製)などが挙げられる。
 さらに、第一樹脂層および第二樹脂層には、添加剤を用いてもよい。上記添加剤としては、例えば特許第4502784号公報の段落[0017]、特開2009-237362号公報の段落[0060]~[0071]に記載の界面活性剤や、特許第4502784号公報の段落[0018]に記載の熱重合防止剤、さらに、特開2000-310706号公報の段落[0058]~[0071]に記載のその他の添加剤が挙げられる。具体的には、フッ素系化合物(メガファックF-556、DIC社製)、蛍光増白剤(Tinopal OB、BASFジャパン社製)などが挙げられる。
 また、上記感光性フィルムを塗布により製造する際の溶剤としては、特開2011-95716号公報の段落[0043]~[0044]に記載の溶剤を用いることができる。具体的には、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトンなどが挙げられる。
(第一樹脂層の物性)
 本発明では、第一樹脂層は、第二樹脂層よりも感光感度が低い。第一樹脂層は、第二樹脂層よりも感光感度が低ければよく、非感光性であってもよいが、第二樹脂層の膜はがれ防止の観点から、感光性であることが好ましい。
 第一樹脂層を屈折率調整層として使用する場合、第一樹脂層の屈折率は、1.60~1.78であることが好ましく、1.60~1.75であることがより好ましく、1.60~1.70であることがさらに好ましい。
 第一樹脂層が白色着色層として機能する場合、第一樹脂層の膜厚が、1~110μmであることが好ましく、15~60μmであることがより特に好ましく、25~50μmであることがさらに好ましい。
 第一樹脂層が屈折率調整層として機能する場合、第一樹脂層の層厚は55~110nmが好ましく、55~105nmがより好ましく、60~100nmがさらに好ましい。
(第二樹脂層の物性)
 本発明では、第二樹脂層は、後述する中間層上に配置されており、第二樹脂層の感光感度が第一樹脂層の感光感度よりも高い。
 ネガ型の感光性樹脂層を例にとって説明すると、感光感度は、紫外線の露光量を種々変化させ、現像後にも塗布膜の厚みが90%以上残る露光量を調べることにより評価できる。又、このときの露光量は数値が小さい方が、膜の感度は高い。又、非感光性の樹脂層は、いかに多量の紫外線を照射しても光硬化反応が進まず塗布膜は現像で残らないので、非感光性の樹脂層は感光性を持ついかなる樹脂層よりも感度は低いと考える。
 第二樹脂層の膜厚が90%以上残るのに必要な紫外線照射量は、第一樹脂層に必要な紫外線照射量の1/2以下であり、すなわち感度が高いことが好ましく、1/3以下であることがより好ましく、1/5以下であることがさらに好ましい。
 第二樹脂層を屈折率調整層付き保護層における保護層として使用する場合、第二樹脂層の屈折率1.50~1.53であることが好ましく、1.50~1.52であることがより好ましく、1.51~1.52であることがさらに好ましい。
 第二樹脂層を遮光層として使用する場合、第二樹脂層の膜厚は、第二樹脂層を用いてタッチパネルの透明保護層を形成するときに十分な表面保護能を発揮させる観点から、1~50μmであることが好ましく、1~30μmがより好ましく、1~25μmがさらに好ましい。
 第二樹脂層を屈折率調整層付き保護層における保護層として機能する場合、第二樹脂層の膜厚は1~10μmであることが好ましく、1~8μmであることがより好ましく、3~8μmであることがさらに好ましい。
<中間層>
 本発明では、複数層を塗布する際および塗布後の保存の際における成分の混合を防止する観点から第一樹脂層と第二樹脂層との間にさらに中間層を含む。
 中間層は、低い酸素透過性を示し、水またはアルカリ水溶液に分散又は溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができ中間層は好ましくは、水系、アルコール系、又は水とアルコールの混合系塗布液を用いて作製することができる。
 中間層は、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂、アクリルアミド系樹脂、ポリエチレンオキサイド系樹脂、ゼラチン、ビニルエーテル系樹脂、ポリアミド樹脂、及びこれらの共重合体などの樹脂を用いて構成することができ、中でも特に好ましいのはポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの組合せである。
 中間層には、必要に応じて界面活性剤、光重合開始剤(例えばイルガキュア2959、BASFジャパン社製)、重合性モノマー(例えばライトアクリレート(3EG-A、共栄社化学社製)などの添加剤を添加してもよい。
 第一樹脂層、中間層および第二樹脂層を加飾材として使用する場合、中間層の膜厚としては、0.1~10μmであることが好ましく、0.5~5μmであることがより好ましく、1~3μmであることがさらに好ましい。
 第一樹脂層、中間層および第二樹脂層を屈折率調整層、保護層として使用する場合、中間層の膜厚としては、中間層の膜厚としては、0.05~5μmであることが好ましく、0.1~3μmであることがより好ましく、0.1~1μmであることがさらに好ましい。
<支持体>
 本発明の感光性積層体に用いる支持体には、種々のものを用いることができるが、フィルム支持体であることが好ましく、光学的に歪みがない支持体又は透明度が高い支持体が好ましい。本発明の感光性積層体では、支持体は、全光透過率が80%以上であることが好ましい。ここで、全光透過率は積分球を備えた市販の分光光度計により測定することができ、島津製作所社製 分光高度系UV-2100などにより測定ができる。
 支持体がフィルム支持体である場合の具体的な素材には、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート(PC)、トリアセチルセルロース(TAC)、シクロオレフィンポリマー(COP)を挙げることができる。支持体は、ガラスなどでもよい。
 本発明の感光性積層体では、支持体は、ガラス、TAC、PET、PC、COPまたはシリコーン樹脂(ただし、本明細書中におけるシリコーン樹脂やポリオルガノシロキサンは、R2SiOの構造単位式で現れる狭義の意味に限定されるものではなく、RSiO1.5の構造単位式で表されるシルセスキオキサン化合物も含む)から選ばれることが好ましく、ガラス、シクロオレフィンポリマーまたはシリコーン樹脂からなることが好ましい。
 シリコーン樹脂は籠型ポリオルガノシロキサンを主成分とすることが好ましく、かご型シルセスキオキサンを主成分とすることがより好ましい。なお、組成物または層の主成分とは、その組成物またはその層の50質量%以上を占める成分のことを言う。上記シリコーン樹脂やシリコーン樹脂を含む基板としては、特許第4142385号、特許第4409397号、特許第5078269号、特許第4920513号、特許第4964748号、特許第5036060号、特開2010-96848号、特開2011-194647号、特開2012-183818号、特開2012-184371号、特開2012-218322号の各公報に記載のものを用いることができ、これらの公報に記載の内容は本発明に組み込まれる。
 また、支持体表面には、種々の機能を付加しても良い。具体的には、反射防止層、防眩層、位相差層、視野角向上層、耐傷層、自己修復層、帯電防止層、防汚層、防電磁波層、導電性層を挙げることができる。
 本発明の感光性積層体では、支持体は、支持体表面に導電性層を有していてもよい。導電性層としては、特表2009-505358号公報に記載のものを好ましく用いることができる。
 支持体は、さらに少なくとも、耐傷層および防眩層のうち少なくとも一つを有することが好ましい。
 本発明の感光性積層体では、上記支持体は、フイルム支持体の場合、膜厚が40~200μmであることが好ましく、40~150μmであることがより好ましく、50~120μmであることが特に好ましい。支持体がガラス基板の時は、0.1~1.0mmが好ましく、さらに好ましくは0.3~0.7mmである。
 また、転写工程におけるラミネートによる着色層の密着性を高めるために、予め支持体(前面板)の非接触面に表面処理を施すことができる。表面処理としては、シラン化合物を用いた表面処理(シランカップリング処理)を実施することが好ましい。シランカップリング剤としては、感光性樹脂と相互作用する官能基を有するものが好ましい。例えばシランカップリング剤(N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン0.3質量%水溶液、商品名:KBM603、信越化学(株)製)をシャワーにより20秒間吹き付け、純水シャワー洗浄する。この後、加熱により反応させる。加熱槽を用いてもよく、ラミネーターの支持体予備加熱でも反応を促進できる。
<仮支持体>
 本発明の転写材料は、仮支持体を有する。
 仮支持体としては、可撓性を有し、加圧下または、加圧および加熱下で著しい変形、収縮もしくは伸びを生じない材料を用いることができる。このような支持体の例として、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム(TACフィルム)、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられ、中でも2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
 仮支持体の厚みには、特に制限はなく、5~200μmの範囲が一般的であり、取扱い易さ、汎用性などの点で、特に10~150μmの範囲が好ましい。
 また、仮支持体は透明でもよいし、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有していてもよい。
 また、上記仮支持体には、特開2005-221726号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。
<保護フィルム>
 本発明では、上記第二樹脂層の表面に保護フィルム(保護剥離層)などを更に設けることが好ましい。
 上記保護フィルムとしては、特開2006-259138号公報の段落[0083]~[0087]および[0093]に記載のものを適宜使用することができる。
<導電性層>
 本発明では、第二樹脂層上に、さらに導電性層を有していてもよい。
 上記導電性層としては、特表2009-505358号公報に記載のものを好ましく用いることができる。また、導電性層の構成や形状については、後述の本発明のタッチパネルの説明中における第一の透明電極パターン、第二の電極パターン、他の導電性要素の説明に記載する。本発明では、上記導電性層が、インジウム(ITOやインジウム合金など、インジウム含有化合物を含む)を含むことが好ましい。
 図1に、本発明の転写材料の好ましい構成の一例を示す。図1の(a)は、仮支持体26、第二樹脂層18、中間層17、および第一樹脂層28、カバーフィルム29がこの順で互いに隣接して積層された、本発明の転写材料30の概略図である
[転写材料の製造方法]
 本発明の転写材料は、仮支持体上に、第二樹脂層を形成する工程と、第二樹脂層上に中間層を形成する工程と、中間層上に第一樹脂層を形成する工程とにより製造することができる。
 図5の構成の開口部8を有するタッチパネルにおいて、図4に記載される上記白色着色層2aや遮光層2b等を、フィルム転写材料を用いて形成すると、開口部を有する支持体(前面板)でも開口部分からレジスト成分のモレによる支持体の汚染等がなく、特に前面板の境界ギリギリまで遮光パターンを形成する必要のある白色着色層2aや遮光層2bでのガラス端からのレジスト成分のはみ出しがないため支持体裏側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層/軽量化のメリットがあるタッチパネルの製造を可能となる。
 転写材料を製造する方法としては、特に限定はないが、例えば特開2005-3861号公報の段落0064~0066に記載の工程によって製造することができる。また、フィルム転写材料は、例えば特開2009-116078号公報に記載の方法で作製することもできる。
 転写材料の製造方法の一例としては、仮支持体上に樹脂組成物を塗布し、乾燥させて各層を形成する方法が挙げられる。
 ここで、フィルム転写材料は、着色層としては白色着色層および遮光層の2層を少なくとも形成してもよく、一方で仮支持体および白色着色層を有するフィルム転写材料を支持体上に転写した後に仮支持体を取り除き、さらに少なくとも仮支持体および遮光層を含むフィルム転写材料を白色着色層上に転写する場合は着色層としては上記白色着色層および上記遮光層のうち少なくとも1層を形成したものを用いてもよい。前者の場合、本発明の転写材料は、仮支持体上に、上記遮光層および上記白色着色層をこの順番で積層したものを用いることができ、この場合は、(ガラス)支持体上に、一度に白色加飾材と遮光材を設けることができ、工程的に好ましい。
 本発明に用いることができる転写材料では、本発明の趣旨に反しない限りにおいてさらにその他の層を形成してもよい。また、第一および第二樹脂層の形成前に、熱可塑性樹脂層を塗布形成してもよい。
 仮支持体上に、上記第一および第二樹脂層用の塗布液、上記中間層形成用の塗布液を塗布する方法としては公知の塗布方法を用いることができる。例えば、スピナー、ホワイラー、ローラーコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター、エクストルーダー等の塗布機を用いて、それらの塗液を塗布し、乾燥させることにより形成できる。
(溶剤)
 上記転写材料の各層を形成するための組成物は、組成物に含まれる各成分と共に溶剤を用いて好適に調製することができる。
 溶剤としては、エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸-n-ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、並びに、3-オキシプロピオン酸メチル及び3-オキシプロピオン酸エチルなどの3-オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例えば、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル)、並びに、2-オキシプロピオン酸メチル、2-オキシプロピオン酸エチル、及び2-オキシプロピオン酸プロピルなどの2-オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例えば、2-メトキシプロピオン酸メチル、2-メトキシプロピオン酸エチル、2-メトキシプロピオン酸プロピル、2-エトキシプロピオン酸メチル、2-エトキシプロピオン酸エチル、2-オキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-オキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、2-メトキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-エトキシ-2-メチルプロピオン酸エチル)、並びに、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2-オキソブタン酸メチル、2-オキソブタン酸エチル等;
エーテル類、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等;
ケトン類、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン等;
芳香族炭化水素類、例えばトルエン、キシレン等;
アルコール類、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、ノルマルプロパノール、ノルマルブタノール、イソブタノール、t-ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
 これらのうち、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、キシレン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が好適である。
 溶剤は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
[感光性積層体の製造方法]
 本発明の感光性積層体の製造方法は特に制限はなく、第一樹脂層および第二樹脂層をそれぞれ塗布により形成してもよいし、あるいは本発明の転写材料から転写する方法により製造してもよい。具体的には、本発明の感光性積層体の製造方法としては、支持体上に第一樹脂層、中間層および第二樹脂層をこの順で塗布して形成する方法、又は仮支持体上に第二樹脂層、中間層および第一樹脂層がこの順に積層されている転写材料から、支持体上に第二樹脂層、中間層および第一樹脂層を転写した後に上記仮支持体を取り除く方法から選ばれる方法を挙げることができる。
<塗布法による感光性積層体の製造方法>
 第一および第二樹脂層用塗布液、中間層用塗布液を塗布する方法としては公知の塗布方法を用いることができる。例えば、スピナー、ホワイラー、ローラーコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター、エクストルーダー等の塗布機を用いて、それらの塗液を塗布し、乾燥させることにより形成できる。
<転写法による感光性積層体の製造方法>
 転写法による感光性積層体の製造方法としては、転写材料を上述するように作製し、作製した転写材料を支持体上にラミネート、および仮支持体をはがすことにより感光性積層体を作製することができる。即ち、図2(a)に示す仮支持体26、第二樹脂層18、中間層17、および第一樹脂層28がこの順で互いに隣接して積層された本発明の転写材料を、支持体上にラミネートし、仮支持体をはがすことにより、図2(b)に示す感光性積層体を作製することができる。
(ラミネート方法)
 第一および第二樹脂層の上記支持体表面への転写(貼り合わせ)は、第一樹脂層を支持体表面に重ね、加圧、加熱することに行われる。貼り合わせには、ラミネーター、真空ラミネーター、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用することができる。
 ラミネート方法は、打ち抜いた加飾材料を支持体に転写することから、毎葉式で精度良く、支持体と加飾材料間に気泡が入らない方法が、得率を上げられる観点から好ましい。
 具体的には、真空ラミネーターの使用を好ましく挙げることができる。
 ラミネート(連続式/枚葉式)に用いられる装置としては、例えば、クライムプロダクツ株式会社製 V-SE340aaHなどを挙げることができる。
 真空ラミネーター装置としては、例えば、高野精機有限会社製のものや、大成ラミネーター株式会社製、FVJ-540R、FV700などを挙げることができる。
 転写材料を支持体に貼り付ける前に、仮支持体の着色剤と反対側に、さらに別の支持体を積層する工程を含むことが、ラミネート時に気泡を入れない好ましい効果を得ることが出来ることがある。このときに用いるさらに別の支持体としては特に制限はないが、例えば、以下のものを挙げることができる。
 ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマー。また、膜厚は、50~200μmの範囲で選ぶことが出来る。
(仮支持体を取り除く工程)
 フィルム転写材料の製造方法は、上記支持体に貼り付けられた転写材料から仮支持体を取り除く工程を含むことが好ましい。
(その他の工程)
 上記転写材料の製造方法は、ポスト露光工程等、その他の工程を有していてもよい。
 上記ポスト露光工程は上記白色着色層および上記遮光層の上記基板と接している側の表面方向のみから行っても、上記透明基板と接していない側の表面方向のみから行っても、両面方向から行ってもよい。
 なお、上記露光工程、現像工程、上記熱可塑性樹脂層と中間層を除去する工程、およびその他の工程の例としては、特開2006-23696号公報の段落0035~0051に記載の方法を本発明においても好適に用いることができる。
[パターン化された感光性積層体の製造方法]
 本発明のパターン化された感光性積層体の製造方法は、支持体上に第一樹脂層、中間層および第二樹脂層がこの順に積層されている本発明の感光性積層体の第二樹脂層のうちの所定のパターン化領域を硬化させる工程、および上記で得られた感光性積層体を現像液で処理して未硬化部分を除去する工程を含むことを特徴とする。上記の方法により得られるパターン化された感光性積層体も本発明の範囲内である。本発明のパターン化された感光性積層体の製造方法によれば、2層以上のパターニングを一括で行うことができる。
 本発明のパターン化された感光性積層体を露光する工程は、転写材料を用いて感光性積層体を形成する場合、仮支持体を取り除く工程の前に行ってもよく、仮支持体を取り除いた後に行ってもよいが、空気中の酸素による重合阻害を防止するために、仮支持体を取り除く前に行うことが望ましい。
 本発明のパターン化された感光性積層体の製造方法は、例えば、感光性積層体の第二樹脂層側に所定のマスクを配置し、その後、第二樹脂層側、中間層および第一樹脂層を介してマスク上方から露光し、次いで現像液による現像を行う工程により行うことができる。ここで、上記露光の光源としては、第二樹脂層側、中間層および第一樹脂層を硬化しうる波長域の光(例えば、365nm、405nmなど)を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、通常5~20000mJ/cm2程度であり、好ましくは10~6000mJ/cm2程度である。
 また、上記現像液としては、特に制約はなく、特開平5-72724号公報に記載のものなど、公知の現像液を使用することができる。尚、現像液は感光性樹脂層が溶解型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、pKa=7~13の化合物を0.05~5mol/Lの濃度で含むものが好ましいが、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加してもよい。
 水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、2-プロパノール、1-プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε-カプロラクトン、γ-ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε-カプロラクタム、N-メチルピロリドン等を挙げることができる。有機溶剤の濃度は0.1質量%~30質量%が好ましい。
 現像液は、市販品を用いることができ、例えば、CD1(富士フイルム社製)等が挙げられる。
 また、上記現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は0.01質量%~10質量%が好ましい。
 現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー&スピン現像、ディプ現像等のいずれでもよい。
 ここで、上記シャワー現像について説明すると、露光後の感光性樹脂層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。尚、現像の前に感光性樹脂層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層などを除去しておくことが好ましい。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。
 現像液の液温度は20℃~40℃が好ましく、また、現像液のpHは8~13が好ましい。
(ポストベーク工程)
 上記露光・現像工程後にポストベーク工程を含むことが好ましく、熱可塑性樹脂層と中間層を除去工程後にポストベークを行う工程を含むことがより好ましい。
 フィルム転写材料の製造方法は、フィルム転写材料の上記白色着色層および遮光層を0.08~1.2atmの環境下で180~300℃に加熱して形成することが白色度と生産性の両立の観点から好ましい。
 上記ポストベークの加熱は0.5atm以上の環境下で行うことがより好ましい。一方、1.1atm以下の環境下で行うことがより好ましく、1.0atm以下の環境下で行うことが特に好ましい。さらに、約1atm(大気圧)環境下で行うことが特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点からより特に好ましい。ここで、従来は上記白色着色層および遮光層を加熱により硬化して形成する場合、非常に低い圧力の減圧環境下で行い、酸素濃度を低くすることでベーク後の白色度を維持していたが、上記フィルム転写材料を用いることにより、上記圧力の範囲でベークした後も本発明の加飾材付き基板の上記白色着色層および遮光層の上記基板側の色味を改善し(b値を小さくし)、白色度を高めることができる。
 上記ポストベークの温度は、70~280℃であることがより好ましく、90~260℃であることが特に好ましい。
 上記ポストベークの時間は、20~150分であることがより好ましく、30~100分であることが特に好ましい。
 上記ポストベークは、空気環境下で行っても、窒素置換環境下で行ってもよいが、空気環境下で行うことが、特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点から特に好ましい。
[タッチパネル]
 本発明のタッチパネルは、本発明の感光性積層体を有することを特徴とする。
<タッチパネル、およびタッチパネルを構成要素として備えた画像表示装置>
 上記タッチパネルは、前面板(基板とも言う)と、上記前面板の非接触側に少なくとも下記(1)~(4)の要素を有し、上記前面板(基板)と(1)遮光層(第二樹脂層)および白色着色層(第一樹脂層)を含む加飾材の積層体として本発明の感光性積層体を含むことができる。
(1)遮光層および白色着色層を含む加飾材
(2)複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン
(3)上記第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、上記第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の電極パターン
(4)上記第一の透明電極パターンと上記第二の電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
 また、上記タッチパネルは、第二の電極パターンが透明電極パターンであってもよい。
 さらに、上記タッチパネルは、さらに下記(5)を有していてもよい。
(5)上記第一の透明電極パターンおよび上記第二の透明電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続され、上記第一の透明電極パターンおよび上記第二の透明電極パターンとは別の導電性要素
<タッチパネルの構成>
<<第一の態様>>
 まず、本発明の製造方法によって形成される第一の態様のタッチパネルの構成について説明する。図3および図4は、本発明の第一の態様のタッチパネルの中でも好ましい構成を示す断面図である。図3においてタッチパネルは、前面板1b(カバーガラス)と、白色着色層(第一樹脂層)2aと、遮光層(第二樹脂層)2bと、第一の透明電極パターン3と、第二の透明電極パターン4と、絶縁層5と、導電性要素6と、透明保護層7と、から構成されている。白色着色層2aと遮光層2bとの間には中間層(図示せず)を有する。
 前面板1および/または1bは、透光性基板で構成されていることが好ましい。透光性基板はカバーガラス1bに下記加飾材を設けたもの、又は、カバーガラス1b、フィルム基板1の順にフィルム基板に下記加飾材を設けたもの、いずれをも用いることが出来る。カバーガラスに加飾材を設ける場合は、タッチパネル薄型化に、フィルム基板に加飾材を設け、それをカバーガラスに張り合わせる場合は、タッチパネル生産性に、各々好ましい。
 また、フィルム基板の電極の反対側に、更にカバーガラス1bを設けることが出来る。ガラス基板としては、コーニング社のGorillaガラスに代表される強化ガラスなどを用いることができる。また、図3および図4において、前面板1および/または1bの各要素が設けられている側を非接触面1aと称する。本発明のタッチパネルにおいては、前面板1および/または1bの接触面(1a非接触面の反対の面)に指などを接触などさせて入力が行われる。以下、前面板を、「基板」と称する場合がある。
 また、前面板1および/または1bの非接触面上には白色着色層2aと遮光層2bが設けられている。白色着色層2aと遮光層2bは加飾材として、タッチパネル前面板の非接触側に形成された透光領域(表示領域)周囲の額縁状のパターンであり、引回し配線等が見えないようにする目的や、加飾を目的として形成される。
 タッチパネルには、不図示の配線取出し口を設けることができる。配線取出し部を有するタッチパネルの加飾材付き基板を形成する場合、加飾材形成用液体レジストやスクリーン印刷インクを用いて白色着色層2aと遮光層2bからなる加飾材を形成しようとすると、配線取出し部からのレジスト成分のモレや、加飾材でのガラス端からのレジスト成分のはみ出しを生じ、基板裏側を汚染してしまうという問題が起こることがあるが、配線取出し部を有する加飾材付き基板を用いる場合、このような問題も解決することができる。
 前面板1および/または1bの非接触面には、複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン3と、第一の透明電極パターン3と電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン4と、第一の透明電極パターン3と第二の透明電極パターン4を電気的に絶縁する絶縁層5とが形成されている。上記第一の透明電極パターン3と、第二の透明電極パターン4と、後述する導電性要素6とは、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)やIZO(Indium Zinc Oxide)などの透光性の導電性金属酸化膜で作製することができる。このような金属膜としては、ITO膜;Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等の金属膜;SiO2等の金属酸化膜などが挙げられる。この際、各要素の、膜厚は10~200nmとすることができる。また、焼成により、アモルファスのITO膜を多結晶のITO膜とするため、電気的抵抗を低減することもできる。また、上記第一の透明電極パターン3と、第二の透明電極パターン4と、後述する導電性要素6とは、上記導電性繊維を用いた加飾材を有する転写フィルムを用いて製造することもできる。その他、ITO等によって第一の導電性パターン等を形成する場合には、特許第4506785号公報の段落0014~0016等を参考にすることができる。
 また、第一の透明電極パターン3および第二の透明電極パターン4の少なくとも一方は、前面板1および/または1bの非接触面および遮光層2bの前面板1および/または1bとは逆側の面の両方の領域にまたがって設置することができる。図3および図4においては、第二の透明電極パターン4が、前面板1および/または1bの非接触面および遮光層2bの前面板1および/または1bとは逆側の面の両方の領域にまたがって設置され、上記白色着色層2aの側面を第二の透明電極パターン4が覆っている図が示されている。ただし、上記白色着色層2aの幅を、上記遮光層2bの幅よりも狭くすることもでき、その場合は第一の透明電極パターン3および第二の透明電極パターン4の少なくとも一方は、前面板1および/または1bの非接触面、上記白色着色層2aおよび遮光層2bの前面板1および/または1bとは逆側の面の領域にまたがって設置することができる。このように、一定の厚みが必要な上記白色着色層2aおよび遮光層2bを含む加飾材と前面板裏面とにまたがって転写フィルムをラミネートする場合でも、フィルム転写材料(特に上記熱可塑性樹脂層を有するフィルム転写材料)を用いることで真空ラミネーターなどの高価な設備を用いなくても、簡単な工程で加飾材2の部分境界に泡の発生がないラミネートが可能になる。
 図6を用いて第一の透明電極パターン3および第二の透明電極パターン4について説明する。図6は、本発明における第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンの一例を示す説明図である。図6に示すように、第一の透明電極パターン3は、パッド部分3aが接続部分3bを介して第一の方向に延在して形成されている。また、第二の透明電極パターン4は、第一の透明電極パターン3と絶縁層5によって電気的に絶縁されており、第一の方向に交差する方向(図6における第二の方向)に延在して形成された複数のパッド部分によって構成されている。ここで、第一の透明電極パターン3を形成する場合、上記パッド部分3aと接続部分3bとを一体として作製してもよいし、接続部分3bのみを作製して、パッド部分3aと第二の透明電極パターン4とを一体として作製(パターニング)してもよい。パッド部分3aと第二の透明電極パターン4とを一体として作製(パターニング)する場合、図6に示すように接続部分3bの一部とパッド部分3aの一部とが連結され、且つ、絶縁層5によって第一の透明電極パターン3と第二の透明電極パターン4とが電気的に絶縁されるように各層が形成される。
 図3および図4において、遮光層2bの前面板1および/または1bとは逆側の面側には導電性要素6が設置されている。導電性要素6は、第一の透明電極パターン3および第二の透明電極パターン4の少なくとも一方に電気的に接続され、且つ、第一の透明電極パターン3および第二の透明電極パターン4とは別の要素である。図3および図4においては、導電性要素6が第二の透明電極パターン4に接続されている図が示されている。
 また、図3および図4においては、各構成要素の全てを覆うように透明保護層7が設置されている。透明保護層7は、各構成要素の一部のみを覆うように構成されていてもよい。絶縁層5と透明保護層7とは、同一材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。絶縁層5と透明保護層7とを構成する材料としては、表面硬度、耐熱性が高いものが好ましく、公知の感光性シロキサン樹脂材料、アクリル樹脂材料などが用いられる。
 本発明の製造方法の過程で形成される態様例として、図7~11の態様を挙げることができる。図7は、開口部8が形成された強化処理ガラス15の一例を示す上面図である。図8は、加飾層2aが形成された前面板の一例を示す上面図である。図9は、第一の透明電極パターン3が形成された前面板の一例を示す上面図である。図10は、第一の透明電極パターン3と第二の透明電極パターン4が形成された前面板の一例を示す上面図である。図11は、第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素6が形成された前面板の一例を示す上面図である。これらは、上記説明を具体化した例を示すものであり、本発明の範囲はこれらの図面により限定的に解釈されることはない。
 上記タッチパネル、および上記タッチパネルを構成要素として備えた画像表示装置は、『最新タッチパネル技術』(2009年7月6日発行(株)テクノタイムズ)、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版(2004,12)、FPD International 2009 Forum T-11講演テキストブック、Cypress Semiconductor Corporation アプリケーションノートAN2292等に開示されている構成を適用することができる。
<<第二の態様>>
 本発明の第二の態様のタッチパネルの好ましい構成について、装置を構成する各部材の製造方法とあわせて説明する。なお、第一の態様と重複する箇所の説明は適宜省略する。
 図12は、本発明の第二の態様のタッチパネルの好ましい構成を示す断面図である。図12において第二の態様のタッチパネル10は、透明基板(前面板)1と、加飾材2と、屈折率1.6~1.78であり膜厚が55~110nmの透明膜11と、第一の透明電極パターン3と、第二の透明電極パターン4と、絶縁層5と、導電性要素6と、第二の硬化性透明樹脂層(屈折率調整層)12と、第一の硬化性透明樹脂層7(保護層)と、から構成されている態様が示されている。
 また、図6におけるX-Xa断面を表した図13も同様に、タッチパネルの好ましい構成を示す断面図である。図13においてタッチパネル10は、透明基板(前面板)1と、屈折率1.6~1.78であり膜厚が55~110nmの透明膜11と、第一の透明電極パターン3と、第二の透明電極パターン4と、第二の硬化性透明樹脂層12と、第一の硬化性透明樹脂層7と、から構成されている態様が示されている。
 前面板1の非接触面上には加飾材2が設けられており、第一の態様の加飾材と同様の機能、構成である。図6における第一の透明電極パターン3や第二の透明電極パターン4や導電性要素6が形成されていない領域が、本発明の透明積層体における非パターン領域22に相当し、図13中の符号22は、透明電極パターンと第二の硬化性透明樹脂層と第一の硬化性透明樹脂層がこの順に積層された領域に相当する。
 また、図12においては、各構成要素の全てを覆うように第一の硬化性透明樹脂層7が設置されている。第一の硬化性透明樹脂層7は、各構成要素の一部のみを覆うように構成されていてもよい。絶縁層5と第一の硬化性透明樹脂層7とは、同一材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。絶縁層5を構成する材料としては、本発明の透明積層体における第一または第二の硬化性透明樹脂層の材料として挙げたものを好ましく用いることができる。
[情報表示装置]
 本発明の情報表示装置は、本発明のタッチパネルを有することを特徴とする。
 本発明のタッチパネルを使用することができる情報表示装置としては、モバイル機器が好ましく、例えば、以下の情報表示装置を挙げることができる。
 iPhone4、iPad(以上、登録商標、米国 アップル社製)、Xperia(SO-01B)(ソニー・エリクソン・モバイルコミュニケーション社製)、Galaxy S(SC-02B)、Galaxy Tab(SC-01C)(以上、韓国 サムスン電子社製)、BlackBerry 8707h(加国 リサーチ・イン・モーション社製)、Kindle(米国 アマゾン社製)、Kobo Touch(楽天株式会社製)。
 以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
[実施例1]
<転写材料の作製>
<<第二樹脂層の形成>>
 仮支持体として、離型層付きポリエチレンテレフタレート(PET)ベース(ユニピールTR6、ユニチカ株式会社製、厚さ50μm)の離型層付き面に、下記処方からなる第二樹脂層塗布液(K1)を塗布し、120℃で2分間乾燥を行い、乾燥膜厚3μmの第二樹脂層(遮光層)を得た。
(第二樹脂層用塗布液:処方K1)
・カーボンブラック分散液(顔料比31.3%、下記組成):360質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  :115質量部
・メチルエチルケトン                 :400質量部
・光重合開始剤(イルガキュア907、BASFジャパン社製)
                          :2.38質量部
・下記[化1]に示す構造のアクリル系樹脂      :61.1質量部
・モノマー DPHA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液 固形分76質量%)(日本化薬社製)       :61.2質量部
・フッ素系化合物(メガファックF-556、DIC社製)
                         :0.600質量部
顔料分散液は下記の組成であり、顔料、有機溶剤にあらかじめ溶解してある顔料分散剤を混合し、ペイントシェーカー(東洋精機製作所)により一時間分散処理した。
・カーボンブラック(商品名:Nipex35、デグッサ社製)  
                          13.05質量部
・メチルエチルケトン                85.64質量部
・ソルスパース32000(アビシア社製)       1.31質量部
 又、ペイントシェーカーによる分散は、ペイントシェーカーに使用するポリビンに直径0.5mmのジルコニアビーズを、重量比で分散液:ジルコニアビーズ=1:6の比率で添加し分散を行った。
<<中間層の形成>>
 上記第二樹脂層上に下記処方の中間層塗布液(I2)を塗布し、120℃2分間乾燥を行い、乾燥膜厚2μmの中間層を得た。
(中間層用塗布液:処方I2)
・純水                        :524質量部
・メタノール                     :429質量部
・ポリビニルアルコール(PVA205、クラレ社製) :21.1質量部
・ポリビニルアルコール(K-30、アイエスピー・ジャパン社製)
                          :9.75質量部
<<第一樹脂層の形成>>
 上記中間層上に下記処方の第一樹脂層塗布液(W1)を塗布し、120℃4分間乾燥を行い、乾燥膜厚20μmの第一樹脂層(白材層)を得た。
 上記の操作により、感光性転写材料を作製した。
(第一樹脂層用塗布液:処方W1)
・二酸化チタン分散液(顔料比31.3%、下記組成)   :179質量部
・メチルエチルケトン                  :131質量部
・蛍光増白剤(Tinopal OB、BASFジャパン社製)
                           :4.00質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート   :216質量部
・下記に示す構造のアクリル系樹脂            :302質量部
・モノマーDPHA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液 固形分76質量%)(日本化薬社製)          :161質量部
・フッ素系化合物(メガファックF-556、DIC社製)
                                                     :1.60質量部
顔料分散液は下記の組成であり、顔料、有機溶剤にあらかじめ溶解してある顔料分散剤を混合し、ペイントシェーカー(東洋精機製作所)により一時間分散処理した。
・ルチル型二酸化チタン(商品名:JR-805、テイカ社製)
                          70.00質量部
・メチルエチルケトン                26.50質量部
・ソルスパース32000(アビシア社製)       3.50質量部
 又、ペイントシェーカーによる分散は、ペイントシェーカーに使用するポリビンに直径0.5mmのジルコニアビーズを、重量比で分散液:ジルコニアビーズ=1:6の比率で添加し分散を行った。
アクリル系樹脂(特開2008-146018号公報に記載)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 上記第二樹脂層上にカバーフィルム(タマポリ(株)社製、厚み30μmのポリエチレンフィルム(商品名:GF-8))を25℃、1MPa、1.0m/minの条件でラミネートした。
 上記の操作により、転写材料を作製した。
<感光性積層体の作製>
 上記で作製した転写材料を、カバーフィルムを剥離した後、ガラス支持体(コーニング社製 イーグルXG 厚み0.7mm)に転写し、感光性積層体を作製した。
[実施例2~3、比較例1]
<転写材料の作製>
 第一樹脂層、中間層、第二樹脂層の塗布液を表1のように変更した以外は実施例1と同様にして転写材料を作製した。
 実施例2~3、比較例1で使用した各塗布液の処方を以下に示す。
(第二樹脂層用塗布液:処方K2)
・カーボンブラック分散液(顔料比31.3%)     :360質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  :115質量部
・メチルエチルケトン                 :400質量部
・光重合開始剤(イルガキュア907、BASFジャパン社製)
                          :0.81質量部
・上記[化1]に示す構造のアクリル系樹脂      :61.1質量部
・モノマーDPHA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液 固形分76質量%)(日本化薬社製)        :61.2質量部
・フッ素系化合物(メガファックF-556、DIC社製)
                         :0.600質量部
(中間層用塗布液:処方I1)
・純水                        :524質量部
・メタノール                     :429質量部
・ポリビニルアルコール(PVA205、クラレ社製) :21.1質量部
・ポリビニルアルコール(K-30、アイエスピー・ジャパン社製)
                          :9.75質量部
・モノマー ライトアクリレート(3EG-A、共栄社化学社製)
                          :15.4質量部
・光重合開始剤(イルガキュア2959、BASFジャパン社製)
                         :0.772質量部
(第一樹脂層用塗布液:処方W2)
・二酸化チタン分散液(顔料比31.3%)       :179質量部
・メチルエチルケトン                 :131質量部
・光重合開始剤(イルガキュア907、BASFジャパン社製)
                          :3.13質量部
・蛍光増白剤(Tinopal OB、BASFジャパン社製)  
                          :4.00質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  :216質量部
・上記に示す構造のアクリル系樹脂           :302質量部
・モノマーDPHA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液 固形分76質量%)(日本化薬社製)         :161質量部
・フッ素系化合物(メガファックF-556、DIC社製)
                          :1.60質量部
<感光性積層体の作製>
 上記で作製した転写材料を、カバーフイルムを剥離した後、ガラス支持体(コーニング社製 イーグルXG 厚み0.7mm)に転写し、感光性積層体を作製した。
[実施例4]
<感光性積層体の作製>
 支持体であるTAC(フジタック、富士フイルム社製、厚さ60μm)上に、上記処方の第一樹脂層用塗布液(W1)を塗布し120℃2分間乾燥を行い、乾燥膜厚20μmの第一樹脂層を得た。
 上記第一樹脂層上に上記処方の中間層用塗布液(I2)を塗布し、120℃2分間乾燥を行い、乾燥膜厚2μmの中間層を得た。
 上記中間層上に第二樹脂層用塗布液(K1)を塗布し、120℃4分間乾燥を行い、乾燥膜厚3μmの第二樹脂層(遮光層)を得た。
 上記第二樹脂層上にカバーフィルム(王子特殊紙社製、厚み12μmのポリプロピレンフィルム(商品名:アルファン))を25℃、1MPa、1.0m/minの条件でラミネートした。
 上記の操作により、感光性積層体を作製した。
<露光感度の評価>
 第一樹脂層用塗布液、および第二樹脂層用塗布液をそれぞれガラス支持体上に塗布し、それぞれ何mJ以上の露光により塗布膜が硬化して、現像後も塗布膜が残っているかを評価した。
 その結果、第一樹脂層用塗布液W2は(600)mJ/cm2、第一樹脂層用塗布液W2は非感光性であるため感光性を持ついかなる樹脂層よりも感度は低いと考える、第二樹脂層用塗布液K1は(80)mJ/cm2、第二樹脂層用塗布液K2は(700)mJ/cm2、第二樹脂層用塗布液K3は非感光性であるため感光性を持ついかなる樹脂層よりも感度は低いと考える。
[実施例5~6]
<感光性積層体の作製>
 第一樹脂層、中間層、第二樹脂層の塗布液を表1のように変更した以外は実施例4と同様にして感光性積層体を作製した。
 実施例5~6で使用した各塗布液の処方は上記のとおりである。
[比較例2]
 スクリーン印刷機(HP-320型スクリーン印刷機、ニューロング精密工業(株)製)を使用して第一樹脂層、中間層、第二樹脂層をそれぞれ印刷し、積層体を作製した。
使用した塗布液は表1の通りである。又、各塗布液の処方は上記の通りである。
(第二樹脂層用塗布液:処方K3)
・カーボンブラック分散液(顔料比31.3%)     :360質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  :115質量部
・メチルエチルケトン                 :400質量部
・上記[化1]に示す構造のアクリル系樹脂      :61.1質量部
・モノマーDPHA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液 固形分76質量%)(日本化薬社製)        :61.2質量部
・フッ素系化合物(メガファックF-556、DIC社製)
                         :0.600質量部
 上記で作製した実施例1~6並びに比較例1及び2における第一樹脂層及び第二樹脂層における無機粒子の含有率は全て20質量%以上であった。
[評価]
<パターニング性>
 フォトリソグラフィーを用いて、下記の条件によりパターンを作製した。
 1500mJ/cm2(i線)の露光量で所定のパターンを有するフォトマスクを介し、パターン状にUV露光を行った。
 実施例1~3、および比較例1は、仮支持体を剥がす前に、仮支持体側から露光を行った。
 実施例4~6はカバーフィルムを剥がす前に、カバーフィルム側から露光を行った。
 露光後、現像液(CD1(富士フイルム社製))現像液の原液を純水で7倍に希釈して使用)を用いて32℃90秒間現像を行い、未硬化部分を除去することでパターニングを行い、以下の基準で評価した。
A:第1樹脂層のパターンエッジと第2樹脂層のパターンエッジがほぼ同じ位置に得られ、本実験の加飾材のように第1樹脂層が白材、第2樹脂層が隠蔽力を高めるための裏打ち層である場合に、パターンエッジのぎりぎりまで高い隠ぺい力が得られて好ましい見た目が得られる(図14に示す状態を参照)
B:第2樹脂層とのパターンエッジが第1樹脂層のパターンエッジと数100μm以上程度かけ離れてしまい、パターン周辺の隠ぺい力が落ちてしまい、好ましくない。(図15に示す状態を参照)
<遮光層(第二樹脂層)のはがれ>
 パターニング性を評価したサンプルを用いて、パターニングされていないベタの部分を観察した。ベタ部分に第二樹脂層のはがれた部分が存在すると、第2樹脂層が裏打ち層であった場合は、その部分の隠ぺい力が低くなってしまい、美観の上で好ましくない。
A:第2樹脂層(裏打ち層)のはがれが少なく最も好ましい。はがれている部分が全体に対し面積比で0.1%未満。
B:Aよりは多いが第2樹脂層のはがれは少ない。はがれている部分が全体に対し面積比で0.1%以上1%未満。
C:第2樹脂層のはがれがBよりも多く発生している。はがれている部分が全体に対し面積比で1%以上10%未満。
D:第2樹脂層のはがれがCよりも多く好ましくない。はがれている部分が全体に対し面積比で10%以上。
<アライメントの必要性>
 第1樹脂層が白材、第2樹脂層が黒色の裏打ち層である場合、第1樹脂層と第2樹脂層の位置がズレてしまうと、パターンのエッジ部から裏打ち層のはみ出しが見えてしまったり、白材のパターンエッジ部の隠蔽性が不足してしまうため、美観の上で好ましくない。
A:一度の露光と現像によりパターンが得られるため、第1樹脂層と第2樹脂層を別々にアライメント、露光、現像を行う必要がない
B:第1樹脂層をパターン状に印刷した上に、第2樹脂層をパターンの位置のアライメントをしながら印刷する必要がある。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 上記表から、実施例1~6は、2層以上のパターニングを一括で行っても、パターニング性、第二樹脂層のはがれ、およびアライメントの必要性の評価のいずれもが優れていることがわかる。
[実施例101]
<転写材料の作製>
<<第二樹脂層の形成>>
 仮支持体として、離型層付きポリエチレンテレフタレート(PET)ベース(ユニピールTR6、ユニチカ株式会社製、厚さ50μm)の離型層付き面に、下記処方からなる第二樹脂層塗布液(OC1)を塗布し、120℃で2分間乾燥を行い、乾燥膜厚5μmの第二樹脂層(オーバーコート層)を得た。
(第二樹脂層用塗布液:処方OC1)
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  :733質量部
・メチルエチルケトン                 :424質量部
・モノマー DPHA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液 固形分76質量%)(日本化薬社製)       :54.5質量部
・モノマー NKオリゴUA-32P(新中村化学社製):25.9質量部
・モノマー ビスコートV#802(大阪有機化学社製):68.5質量部
・上記に示す構造のアクリル系樹脂           :479質量部
・光重合開始剤(イルガキュア379EG、BASFジャパン社製)
                          :6.36質量部
・光重合開始剤(DETX-S、日本化薬社製):    6.36質量部
・フッ素系化合物(メガファックF-556、DIC社製)
                          :1.93質量部
<<中間層の形成>>
 上記第二樹脂層上に上記処方の中間層塗布液(I2)を塗布し、120℃2分間乾燥を行い、乾燥膜厚0.5μmの中間層を得た。
<<第一樹脂層の形成>>
 上記中間層上に下記処方の第一樹脂層塗布液(IM1)を塗布し、120℃4分間乾燥を行い、乾燥膜厚80nmの第一樹脂層(屈折率調整層)を得た。
(第一樹脂層用塗布液:処方IM1)
・酸化ジルコニウム分散液Zr-010
(株式会社ソーラー社製、顔料比57.1%)     :63.7質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  :584質量部
・メチルエチルケトン                 :811質量部
・モノマー DPHA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液 固形分76質量%)(日本化薬社製)       :1.96質量部
・モノマー NKオリゴUA-32P(新中村化学社製):0.93質量部
・モノマー ビスコートV#802(大阪有機化学社製):2.47質量部
・上記に示す構造のアクリル系樹脂          :13.0質量部
・フッ素系化合物(メガファックF-556、DIC社製)
                          :0.18質量部
 上記第二樹脂層上にカバーフィルム(タマポリ(株)社製、厚み30μmのポリエチレンフィルム(商品名:GF-8))を25℃、1MPa、1.0m/minの条件でラミネートした。
 上記の操作により、転写材料を作製した。
<感光性積層体の作製>
 上記で作製した転写材料を、カバーフイルムを剥離した後、ITOパタンーン付PETフィルムに転写し、感光性積層体を作製した。
[実施例102~103、比較例101]
<転写材料の作製>
 第一樹脂層、中間層、第二樹脂層の塗布液を表2のように変更した以外は実施例101と同様にして転写材料を作製した。
 実施例102~103、比較例101で使用した各塗布液の処方を以下に示す。
(第二樹脂層用塗布液:処方OC2)
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  :733質量部
・メチルエチルケトン                 :424質量部
・モノマー DPHA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液 固形分76質量%)(日本化薬社製)       :54.5質量部
・モノマー NKオリゴUA-32P(新中村化学社製):25.9質量部
・モノマー ビスコートV#802(大阪有機化学社製):68.5質量部
・上記に示す構造のアクリル系樹脂           :479質量部
・光重合開始剤(イルガキュア379EG、BASFジャパン社製)
                          :2.17質量部
・光重合開始剤(DETX-S、日本化薬社製):    2.17質量部
・フッ素系化合物(メガファックF-556、DIC社製)
                          :1.93質量部
(第二樹脂層用塗布液:処方OC3)
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  :733質量部
・メチルエチルケトン                 :424質量部
・モノマー DPHA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液 固形分76質量%)(日本化薬社製)       :54.5質量部
・モノマー NKオリゴUA-32P(新中村化学社製):25.9質量部
・モノマー ビスコートV#802(大阪有機化学社製):68.5質量部
・上記に示す構造のアクリル系樹脂           :479質量部
・フッ素系化合物(メガファックF-556、DIC社製)
                          :1.93質量部
(第一樹脂層用塗布液:処方IM2)
・酸化ジルコニウム分散液
Zr-010(株式会社ソーラー社製、顔料比57.1%)
                          :63.7質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  :584質量部
・メチルエチルケトン                 :811質量部
・モノマー DPHA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液 固形分76質量%)(日本化薬社製)       :1.96質量部
・モノマー NKオリゴUA-32P(新中村化学社製):0.93質量部
・モノマー ビスコートV#802(大阪有機化学社製):2.47質量部
・上記に示す構造のアクリル系樹脂          :13.0質量部
・光重合開始剤(イルガキュア379EG、BASFジャパン社製)
                          :0.23質量部
・光重合開始剤(DETX-S、日本化薬社製):    0.23質量部
・フッ素系化合物(メガファックF-556、DIC社製)
                          :0.18質量部
<感光性積層体の作製>
 上記で作製した転写材料を、カバーフイルムを剥離した後、ITOパタンーン付PETフィルムに転写し、感光性積層体を作製した。
<露光感度の評価>
 第一樹脂層用塗布液、および第二樹脂層用塗布液をそれぞれガラス支持体上に塗布し、それぞれ何mJ以上の露光により塗布膜が硬化して、現像後も塗布膜が残っているかを評価した。
 その結果、第一樹脂層用塗布液IM2は(70)mJ/cm2、第一樹脂層用塗布液IM1は非感光性であるため感光性を持ついかなる樹脂層よりも感度は低いと考える、第二樹脂層用塗布液OC1は20mJ/cm2、第二樹脂層用塗布液OC2は100mJ/m2、および第二樹脂層用塗布液OC3は非感光性であるため感光性を持ついかなる樹脂層よりも感度は低いと考える。
[実施例104]
<感光性積層体の作製>
 支持体であるITOパターン付きのPETフィルム、上記処方の第一樹脂層用塗布液(IM1)を塗布し120℃2分間乾燥を行い、乾燥膜厚80nmの第一樹脂層(屈折率調整層)を得た。
 上記第一樹脂層上に上記処方の中間層用塗布液(I2)を塗布し、120℃2分間乾燥を行い、乾燥膜厚0.5μmの中間層を得た。
 上記中間層上に第二樹脂層用塗布液(OC1)を塗布し、120℃4分間乾燥を行い、乾燥膜厚5μmの第二樹脂層(オーバーコート層)を得た。
 上記第二樹脂層上にカバーフィルム(王子特殊紙社製、厚み12μmのポリプロピレンフィルム(商品名:アルファン))を25℃、1MPa、1.0m/minの条件でラミネートした。
 上記の操作により、感光性積層体を作製した。
[実施例105~106]
<感光性積層体の作製>
 第一樹脂層、中間層、第二樹脂層の塗布液を下記表のように変更した以外は実施例104と同様にして感光性積層体を作製した。
 実施例105~106で使用した各塗布液の処方は上記のとおりである。
[比較例102]
 スクリーン印刷機(ニューロング精密工業(株)製 HP-320型スクリーン印刷機)を使用して第一樹脂層、中間層、第二樹脂層をそれぞれ印刷を行い、積層体を作製した。
 上記で作製した実施例101~106並びに比較例101及び102における第一樹脂層における無機粒子の含有率は全て20質量%以上であった。
[評価]
<パターニング性>
 フォトリソグラフィーを用いて、下記の条件によりパターンを作製した。
 100mJ/cm2(i線)の露光量で所定のパターンを有するフォトマスクを介し、パターン状にUV露光を行った。
 実施例101~103、および比較例101は、仮支持体を剥がす前に、仮支持体側から露光を行った。
 実施例104~106はカバーフィルムを剥がす前に、カバーフィルム側から露光を行った。
 露光後、現像液(CD1(富士フイルム社製))現像液の原液を純水で7倍に希釈して使用)を用いて30℃60秒間現像を行い、未硬化部分を除去することでパターニングを行い、以下の基準で評価した。
A:第1樹脂層のパターンエッジと第2樹脂層のパターンエッジがほぼ同じ位置に得られ、本実験の加飾材のように第1樹脂層がIM層(屈折率調整層)、第2樹脂層がOC層(保護層)である場合に、パターンエッジのぎりぎりまで屈折率調整層が保護層によりカバーされるため、保護機能の観点から好ましい。
B:第2樹脂層とのパターンエッジが第1樹脂層のパターンエッジと数100μm以上かけ離れてしまい、パターン周辺部の屈折率調整層に保護層による保護されていない部分が生じてしまい好ましくない。
 パターニング性を評価したサンプルを用いて、パターニングされていないベタの部分を観察した。 ベタ部分に第二樹脂層のはがれた部分が存在すると、第2樹脂層が保護層であった場合は、その部分が保護されていないことになってしまい、保護機能の上で好ましくない。
A:(第2樹脂層(保護層)のはがれが少なく最も好ましい。)ははがれている部分が全体に対し面積比で0.1%未満。
B:(Aよりは多いが第2樹脂層のはがれは少ない)はがれている部分が全体に対し面積比で0.1%以上1%未満。
C:(第2樹脂層のはがれがBよりも多く発生している)はがれている部分が全体に対し面積比で1%以上10%未満。
D:(第2樹脂層のはがれがCよりも多く好ましくない。)はがれている部分が全体に対し面積比で10%以上。
<アライメントの必要性>
 実施例1と同様にして行い、同様の基準で評価した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
 上記表から、実施例101~106は、2層以上のパターニングを一括で行っても、パターニング性、第二樹脂層のはがれ、およびアライメントの必要性の評価のいずれもが優れていることがわかる。
 1  基板(フィルム基板。フィルム基板のみを前面板としてもよい)
 1a 非接触面
 1b ガラス(カバーガラス。カバーガラスのみを前面板としてもよく、基板とガラスの積層体を前面板としてもよい)
 2  加飾材
 2a 白色着色層(白材層)
 2b 遮光層
 3  導電性層(第一の透明電極パターン)
 3a パッド部分
 3b 接続部分
 4  導電性層(第二の電極パターン)
 5  絶縁層
 6  導電性層(他の導電性要素)
 7  透明保護層(第一の硬化性透明樹脂層)
 8  開口部
 10  静電容量型入力装置
 11  透明膜
 12  第二の硬化性透明樹脂層
 15  強化処理ガラス
 17 中間層
 18 第二樹脂層
 21  透明電極パターンと第二の硬化性透明樹脂層と第一の硬化性透明樹脂層がこの順に積層された領域
 22  非パターン領域
 26  仮支持体
 28  第一樹脂層
 29  カバーフィルム
 30  転写材料
 40  支持体
 50  第一樹脂層のパターンエッジと第二樹脂層のパターンエッジの差
 60  第二樹脂層のはがれ

Claims (21)

  1. 支持体上に第一樹脂層、中間層および第二樹脂層がこの順に積層され、前記第一樹脂層および前記第二樹脂層の少なくとも一方が20質量%以上の無機粒子を含み、前記第二樹脂層の感光感度が前記第一樹脂層の感光感度よりも高い、感光性積層体。
  2. 前記第二樹脂層が、光重合開始剤および重合性化合物を含有し、前記第一樹脂層、前記中間層および前記第二樹脂層がアルカリ水溶液に可溶である、請求項1に記載の感光性積層体。
  3. 前記中間層が、光重合開始剤および重合性化合物を含有する、請求項1又は2に記載の感光性積層体。
  4. 前記第一樹脂層が、光重合開始剤および重合性化合物を含有する、請求項1から3のいずれか1項に記載の感光性積層体。
  5. 前記第一樹脂層および前記第二樹脂層が、加飾層、屈折率調整層、又は保護層である、請求項1から4のいずれか1項に記載の感光性積層体。
  6. 無機粒子がルチル型二酸化チタン、カーボンブラック、又は酸化ジルコニウムである、請求項1から5のいずれか1項に記載の感光性積層体。
  7. 中間層が水系、アルコール系、又は水とアルコールの混合系塗布液を用いて作製される請求項1から6のいずれか1項に記載の感光性積層体。
  8. 中間層がポリビニルアルコールを含有する、請求項1から7のいずれか1項に記載の感光性積層体。
  9. 仮支持体上に第二樹脂層、中間層および第一樹脂層がこの順に積層され、前記第一樹脂層および前記第二樹脂層の少なくとも一方が20質量%以上の無機粒子を含み、前記第二樹脂層の感光感度が前記第一樹脂層の感光感度よりも高い、転写材料。
  10. 前記第二樹脂層が、光重合開始剤および重合性化合物を含有し、前記第一樹脂層、前記中間層および前記第二樹脂層がアルカリ水溶液に可溶である、請求項9に記載の転写材料。
  11. 前記中間層が、光重合開始剤および重合性化合物を含有する、請求項9又は10に記載の転写材料。
  12. 前記第一樹脂層が、光重合開始剤および重合性化合物を含有する、請求項9から11のいずれか1項に記載の転写材料。
  13. 前記第一樹脂層および前記第二樹脂層が、加飾層、屈折率調整層、又は保護層である、請求項9から12のいずれか1項に記載の転写材料。
  14. 無機粒子がルチル型二酸化チタン、カーボンブラック、又は酸化ジルコニウムである、請求項9から13のいずれか1項に記載の転写材料。
  15. 中間層が水系、アルコール系、又は水とアルコールの混合系塗布液を用いて作製される請求項9から14のいずれか1項に記載の転写材料。
  16. 中間層がポリビニルアルコールを含有する、請求項9から15のいずれか1項に記載の転写材料。
  17. 請求項9から16のいずれか1項に記載の転写材料を、支持体上に、第一樹脂層が支持体側となるように転写し、仮支持体を除去することにより得られる、請求項1~8のいずれか1項に記載の感光性積層体。
  18. 請求項1~8のいずれか1項に記載の感光性積層体の第二樹脂層のうちの所定のパターン化領域を硬化させる工程、および前記で得られた感光性積層体を現像液で処理して未硬化部分を除去する工程を含む、パターン化された感光性積層体の製造方法。
  19. 請求項18に記載の方法により得られるパターン化された感光性積層体。
  20. 請求項1~8、17又は19のいずれか1項に記載の感光性積層体を有する、タッチパネル。
  21. 請求項20に記載のタッチパネルを有する、情報表示装置。
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