TWI467336B - 黑色感光樹脂組成物及使用其之遮光層 - Google Patents

黑色感光樹脂組成物及使用其之遮光層 Download PDF

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Description

黑色感光樹脂組成物及使用其之遮光層
本發明係關於一種新穎之黑色感光樹脂組成物及使用其之遮光層,尤指一種適用於觸控式液晶顯示面板之黑色感光樹脂組成物及使用其之遮光層。
液晶顯示器已廣泛應用於各種電子設備中,如行動電話、個人數位助理(PDA)、數位相機、電腦螢幕或筆記型電腦螢幕等。尤其,基於方便攜帶與使用之考量,可供使用者直接觸碰操作之觸控式液晶顯示面板,更成為許多電子產品之主要發展方向。
一般為了提高顯示器之對比度、色純度等,通常會於液晶顯示器中設置遮光膜,以防止畫素間之漏光現象並維持高畫質之需求。以往常使用含有鉻黑(鉻及/或氧化鉻)之無機膜來製作遮光層,然含有鉻黑之遮光層/膜的製作成本高,且亦有環境汙染之問題。因此,已有相關技術改用含有石墨、鐵黑、鈦黑、碳黑等無機粒子之樹脂組成物來製作遮光層/膜,其中由於石墨會有反射率增加導致顯示器對比度降低之虞,而鈦黑雖具有較佳之阻抗值,但卻有分散性不佳且價格昂貴等缺點,故使用碳黑顏料似乎是較佳的選擇。然而,以碳黑作為黑色顏料時,在提高光學濃度的同時卻面臨到黑色矩陣電阻值下降的問題,進而使觸控式液晶顯示面板後端佈線製程發生短路現象。另一方面,由 於黑色矩陣於高溫環境下亦會出現電阻值下降之現象,故當其應用於觸控式液晶顯示面板時,面板後端高溫製程溫度(高達280℃)同樣會造成ITO短路等狀況。因此,為符合產業的需求,仍亟需發展一種可同時滿足光學濃度及高溫電阻需求,並展現優異附著性、良好耐濕性及抗蝕刻性之黑色感光樹脂組成物。
本發明之主要目的係在提供一種新穎之黑色感光樹脂組成物,俾可用於製得滿足光學濃度及高溫電阻需求,且兼具良好附著力、耐濕、耐蝕刻等特性之遮光層,以利於應用於觸控式液晶顯示面板中。
為達成上述目的,本發明所提供之新穎黑色感光樹脂組成物包括:(A)聚矽氧烷;(B)黑色顏料;(C)鹼可溶性樹脂;(D)光聚合性化合物;(E)光聚合起始劑;以及(F)溶劑。據此,本發明可藉由添加聚矽氧烷,俾使製成之黑色光阻層不僅可提高光學濃度以展現充分的遮光性,且於觸控面板後端高溫製程下仍可維持高阻抗特性,避免電阻值下降導致後續ITO短路問題,同時可兼具良好附著性、耐濕性及抗蝕刻性等,以適於進行觸控面板之後段製程。
於本發明中,該聚矽氧烷並無特殊限制,其可為任何具有Si-O鍵結主鏈或側鏈之矽氧烷聚合物。舉例說明,該聚矽氧烷可為具有矽氧側鏈之共聚物,例如本發明一具體實施態樣中使用之SB-500、SB-355(購自DIC公司);或者, 亦可選用具有矽氧主鏈之共聚物作為本發明組成物中添加之聚矽氧烷,例如本發明另一具體實施態樣即藉由矽烷單體混合物進行聚合反應,以自行合成具有矽氧主鏈之共聚物,其較佳可具有500至3000之重量平均分子量(Mw)。在此,本發明可單獨添加一種聚矽氧烷,或者混合使用兩種或多種聚矽氧烷,其混合比例並無特殊限制。以黑色感光樹脂組成物之總重量為基準計,該聚矽氧烷之含量較佳為0.5至5.0重量百分比(wt%)。
於本發明中,上述矽烷單體混合物較佳可包含如下式(I’)所示之單體,並可選擇性地更包含如下式(II’)所示之單體, 其中,以矽烷單體混合物中之總單體莫耳數為基準計,該式(I’)單體含量較佳為35至75莫耳百分比(mol%),而該式(II’)單體含量較佳為0或大於0至35莫耳百分比(mol%)。例如,本發明較佳實施例所使用之矽烷單體混合物包含有約50至60 mol%之式(I’)單體及7至20 mol%之式(II’)單體,以製得具有矽氧主鏈之共聚物。據此,本發明具有矽氧主鏈之共聚物可包含如下式(I)所示之單元,並可選擇性地更包含如下式(II)所示之單元, (I) (II)其中,每一X1 及X2 各自獨立為形成單元間矽氧鍵結之反應基(如鹵素、C1-6 烷氧基等);每一R1 、R2 及R3 各自獨立為氫或C1-6 烷基;s為0至5之整數;且r為1至6之整數。
此外,上述矽烷單體混合物更可選擇性地包含如下式(III’)及(IV’)所示單體中之至少一者, 其中,以矽烷單體混合物中之總單體莫耳數為基準計,該式(III’)單體含量較佳為0或大於0至35莫耳百分比(mol%),而該式(IV’)單體含量較佳為0或大於0至50莫耳百分比(mol%)。例如,本發明較佳實施例所使用之矽烷單體混合物更包含有約10至20 mol%之式(III’)單體,或者更包含有20至40 mol%之式(IV’)單體,以製得具有矽氧主鏈之共聚物。據此,本發明具有矽氧主鏈之共聚物更可選擇性地包含如下式(III)及(IV)所示單元中之至少一者, 其中,每一X3 及X4 各自獨立為形成單元間矽氧鍵結之反應基(如鹵素、C1-6 烷氧基等);每一R4 、R5 及R6 各自獨立為氫或C1-6 烷基;且x及y各自獨立為0至5之整數。
又,上述矽烷單體混合物更可選擇性地包含如下式(V’)所示之單體, 其中,以矽烷單體混合物中之總單體莫耳數為基準計,該式(V’)單體含量較佳為0或大於0至70莫耳百分比(mol%)。更具體地說,本發明較佳實施例所使用之矽烷單體混合物更包含有約5至10 mol%之式(V’)單體,以製得具有矽氧主鏈之共聚物。據此,本發明具有矽氧主鏈之共聚物更可選擇性地包含如下式(V)所示之單元, 其中,X5 為形成單元間矽氧鍵結之反應基(如鹵素、C1-6 烷氧基等);每一R7 及R8 各自獨立為氫或C1-6 烷基;t為0至5之整數;m及n各自獨立為0至3之整數;且m+n為3。
於本發明中,該黑色顏料(Pigment)並無特殊限制,其可為無機顏料、有機顏料(例如,偶氮系顏料、C.I.顏料黑色1、C.I.顏料黑色7等等)或其組合,但較佳為無機顏料。無機黑色顏料的實例包括,但不限於石墨、二氧化錳、合成鐵黑、碳黑、銅鐵錳系氧化物、銅鉻錳系氧化物、鈦黑、鈦碳及其類似物。可根據需求單獨使用一種黑色顏料,或 者混合使用兩種或多種黑色顏料,其混合比例並無特別限定。根據本發明一具體實施態樣,本發明黑色感光樹脂組成物較佳係使用碳黑作為黑色顏料,例如市售之EL-16(碳黑顏料,由SAKATA公司製造)。在此,以黑色感光樹脂組成物之總重量為基準計,黑色顏料之含量較佳為20至70重量百分比(wt%),俾使形成之黑色光阻層可達到適當的光學濃度並同時維持適當的電阻值。
於本發明中,該鹼可溶樹脂並無特殊限制,其可為任何本領域一般使用之鹼可溶樹脂,但較佳為壓克力鹼可溶樹脂。以黑色感光樹脂組成物之總重量為基準計,鹼可溶樹脂之含量較佳為1.0至30重量百分比(wt%)。
於本發明中,該光聚合性化合物並無特殊限制,只要能於吸收光能量後與鹼可溶性樹脂進行聚合/交聯即可,其可為任何本領域一般使用之光聚合性化合物,但較佳為含有乙烯性不飽和基之光聚合性化合物(如多官能基單體及/或寡聚體)。舉例說明,含有乙烯性不飽和基之光聚合性化合物可包括,但不限於市售之Nikalac MX-302(由Sanwa Chemical Co.,Ltd.製造);Aronix M-400、M-402、M-403、M-404、M-408、M-450、M-305、M-309、M-310、M-313、M-315、M-320、M-325、M-326、M-327、M-350、M-360、M-208、M-210、M-215、M-220、M-225、M-233、M-240、M-245、M-260、M-270、M-1100、M-1200、M-1210、M-1310、M-1600、M-221、M-203、TO-924、TO-1270、TO-1231、TO-595、TO-756、TO-1343、TO-1382、TO-902、TO-904、 TO-905、TO-1330(由Toagosei Co.,Ltd.製造);Kayarad D-310、D-330、DPHA、DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120、DN-0075、DN-2475、SR-295、SR-355、SR-399E、SR-494、SR-9041、SR-368、R-415、SR-444、SR-454、SR-492、SR-499、SR-502、SR-9020、SR-9035、SR-111、SR-212、SR-213、SR-230、SR-259、SR-268、SR-272、SR-344、SR-349、SR-368、SR-601、SR-602、SR-610、SR-9003、PET-30、T-1420、GPO-303、TC-120S、HDDA、NPGDA、TPGDA、PEG400DA、MANDA、HX-220、HX-620、R-551、R-712、R-167、R-526、R-551、R-712、R-604、R-684、TMPTA、THE-330、TPA-320、TPA-330、KS-HDDA、KS-TPGDA、KS-TMPTA(由Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造);Light Acrylate PE-4A、DPE-6A、DTMP-4A(由Kyoeisha Chemical Co.,Ltd.製造)等,及其組合。在此,以黑色感光樹脂組成物之總重量為基準計,光聚合性化合物之含量較佳為0.5至10重量百分比(wt%)。
於本發明中,該光聚合起始劑並無特殊限制,只要能於吸收光能量後引發自由基聚合反應即可,其可為任何本領域一般使用之光聚合起始劑。光聚合起始劑具體舉例包括,但不限於:苯偶姻及其烷醚,例如,苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻苯基醚(benzoin phenyl ether)、乙醯苯偶姻;苯乙酮,例如,苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、1,1-二氯苯乙酮;胺基苯乙酮,例如,2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯 基]-2-嗎啉基丙-1-酮、2-苯甲基-2-二甲胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁-1-酮;蒽醌,例如,2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-第三丁基蒽醌、1-氯蒽醌、2-戊基蒽醌(2-amylanthraquinone);噻噸酮(thioxanthone)及氧葱酮(xanthone),例如,2,4-二甲基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2,4-二異丙基噻噸酮;縮酮,例如,苯乙酮二甲基縮酮、苯甲基二甲基酮;二苯酮,例如,二苯酮、4,4'-雙(N,N'-二-甲基-胺基)二苯酮(4,4'-bis(N,N'-di-methyl-amino)benzophenone)、4,4'-雙(N,N'-二-乙基-胺基)二苯酮;吖啶衍生物(acridine derivative);啡啉衍生物(phenazine derivative);三苯基膦;膦氧化物,例如,(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-戊基膦氧化物((2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4,4-pentyl phosphine oxide)、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基膦氧化物(bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenyl phosphine oxide)、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基膦氧化物(2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl phosphine oxide)、乙基-2,4,6-三甲基苯甲醯基-苯基膦氧化物(ethyl-2,4,6-trimethylbenzoyl-phenyl phosphinate);1-苯基-1,2-丙二酮-2-O-苯甲醯基肟(1-phenyl-1,2-propanedione 2-O-benzoyl oxime);1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮1-(O-乙酰肟)(1-[9-Ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]ethanone 1-(O-acetyloxime));4-(2-羥基乙氧基)苯基-(2-丙基)-酮(4-(2-hydroxyethoxy)Phenyl-(2-propyl)ketone);1-胺基苯 基酮(1-aminophenyl ketone)及1-羥基苯基酮(1-hydroxy phenyl ketone),例如,1-羥基環己基苯基酮、2-羥基異丙基苯基酮、苯基1-羥基異丙基酮(phenyl 1-hydroxyisopropyl ketone)、4-異丙基苯基1-羥基異丙基酮(4-isopropylphenyl 1-hydroxyisopropyl ketone);2,2’-偶氮雙異丁腈;各種過氧化物(peroxide);硫醇化合物;及其組合。在此,以黑色感光樹脂組成物之總重量為基準計,光聚合起始劑之含量較佳為0.5至5.0重量百分比(wt%)。
於本發明中,該溶劑並無特別限制,只要可將感光樹脂組成物中之各成分分散或溶解,且不與該些成分起反應,並具有適度之揮發性及適當的乾燥速率即可,其可為本技術領域中一般所使用之溶劑。溶劑具體舉例包括,但不限於:環己酮、乳酸乙酯、乙二醇單甲基醚、乙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、甲基乙二醇(MEDG)等。可視狀況單獨使用一種溶劑,或者混合使用多種溶劑,其混合比例並無特別限定。在此,該溶劑含量為樹脂組成物總量扣除其他成份含量後之剩餘含量(簡稱餘量),例如該溶劑含量可為25至60重量百分比(wt%)。
本發明之黑色感光樹脂組成物更可視需求地更包括一添加劑,其具體舉例包括,但不限於:改質劑(modifier)、韌化劑(toughener)、安定劑(stabilizer)、消泡劑、分散劑(dispersant)、流平劑(leveling agent)、增厚劑(thickening agent)、增強劑(reinforcing agent)、偶合劑(coupling agent)、 增撓劑(flexibility-imparting agent)、黏著促進劑(adhesion promoter)、抗氧化劑、阻燃劑、界面活性劑、鏈轉移劑、硬化劑、顏料、染料、抗沉降劑等,及其組合。以該黑色感光樹脂組成物之總重量為基準計,添加劑之含量較佳不超過10重量百分比(wt%)。
本發明之黑色感光樹脂組成物不僅具有良好之顯像能力,其進行圖案化以形成黑色矩陣時,更可達到基材上無殘留、高附著力、耐濕、耐蝕刻等特性。尤其,本發明黑色感光樹脂組成物所形成之黑色光阻層不僅可提高光學濃度以展現充分的遮光性,且於觸控面板後端高溫製程下仍可維持高阻抗特性,避免電阻值下降導致後續ITO短路問題,故適用於觸控式液晶顯示面板中作為遮光層。
據此,本發明更提供一種遮光層,其係由本發明之黑色感光樹脂組成物所形成。更具體地說,本發明黑色感光樹脂組成物所形成之遮光層可形成於彩色濾光片之複數畫素間,以防止畫素間之漏光現象。因此,本發明亦有關於一種彩色濾光片,其包含有本發明黑色感光樹脂組成物所形成之遮光層。此外,本發明之黑色感光樹脂組成物可應用於液晶顯示面板中,以提供一種包含有本發明遮光層之液晶顯示面板,尤其是觸控式液晶顯示面板。在此,本發明黑色光阻層/遮光層之光學濃度(OD值)可達3.5以上,且290℃以上線電阻>1×108 ,甚至於300℃下其線電阻仍可維持於108
綜上所述,本發明可藉由添加聚矽氧烷,將耐高溫極 限由270℃推升至290℃,俾使製成之遮光層不僅可提高光學濃度以展現充分的遮光性,且於觸控面板後端高溫製程下仍可維持高阻抗特性,避免電阻值下降導致後續ITO短路問題,同時可兼具良好附著性、耐濕性及抗蝕刻性等,以適於進行觸控面板之後段製程,具有優異的產業競爭力,尤其可應用於單片玻璃(one glass)製程之觸控面板市場。
以下係藉由特定的具體實施例說明本發明之實施方式,熟習此技藝之人士可由本說明書所揭示之內容瞭解本發明之其他優點與功效。本發明也可藉由其他不同的具體實施例加以施行或應用,本說明書中的各項細節亦可基於不同觀點與應用,在不悖離本創作之精神下進行各種修飾與變更。
除非特別指明,於下列實施例與比較例中用於表示任何成份的含量以及任何物質的量的“%”及“重量份”係以重量為基準。
A.聚矽氧烷之製備 《合成例1~3》
將下表1所示之矽烷單體置於三頸瓶中,再將KOH水溶液(含有0.071g氫氧化鉀及16.63g水)於10分鐘內滴定入三頸瓶中,並於滴定完成後,升溫至50℃反應3小時。接著,於 1小時內升溫至120℃~130℃,蒸餾12小時,以分別製得聚矽氧烷P1~P3。
B.黑色感光樹脂組成物之製備 《實施例1》
均勻混合由合成例1所得到之0.99重量份之聚矽氧烷P1、46重量份之EL-16(碳黑顏料,由SAKATA公司製造)、0.59重量份之IRGACURE® I-242(光聚合起始劑,由巴斯夫(BASF)公司製造)、0.27重量份之EAB(光聚合起始劑,由保土谷化學工業公司製造)、2.07重量份之Aronix M400(光聚合性化合物,由Toagosei Co.,Ltd.製造)、3.96重量份之EL-400(鹼可溶樹脂,由永光化學合成)、1.44重量份之TMMP(由堺化學製造)、0.03重量份之F-554(由DIC製造)、44.65重量份之丙二醇甲醚乙酸酯(PGMEA,溶劑),配置成100重量份之黑色樹脂組成物,接著以2μm(微米)的過濾器過濾此溶液,以獲得黑色感光樹脂組成物A。
《實施例2~3》
實施例2及3之黑色感光樹脂組成物B及C製備方法與實施例1所述大致相同,惟不同處在於,實施例2及3分別以合成例2及3所製得之聚矽烷氧P2及P3取代實施例1中的聚矽烷氧P1。
《實施例4~5》
實施例4及5之黑色感光樹脂組成物D及E製備方法與實施例1所述大致相同,惟不同處在於,實施例4及5分別以 SB-500(P4)及SB-355(P5)(皆購自DIC公司)取代實施例1中的聚矽烷氧P1。
《比較例1》
比較例1之黑色感光樹脂組成物F製備方法與實施例1所述大致相同,惟不同處在於,比較例1未添加聚矽烷氧。
《比較例2~5》
比較例2-5之黑色感光樹脂組成物G-J製備方法與實施例1所述大致相同,惟不同處在於,比較例1至5分別以A-187、A-174、A-186、DPDMS取代實施例1中的聚矽烷氧P1,其中A-187、A-174、A-186、DPDMS結構如下:
C.黑色光阻特性測試
分別將上述實施例及比較例所獲得之黑色感光樹脂組成物,以旋轉塗佈的方式均勻塗佈在玻璃基材上。以80℃軟烤5分鐘,不使用光罩,直接以超高壓水銀燈(曝光能量:200 mJ/cm2 )對樹脂組成物進行曝光。接著,以0.04% KOH顯影液進行顯影60秒,再於230℃進行30分鐘的硬烤,以製得形成有黑色光阻層(厚度約1.0 μm)之試片。
依照下述試驗方法,對形成於基材上之黑色光阻層進行OD量測、耐熱電阻量測與耐濕、耐蝕刻等測試,以評估黑色樹脂組成物所形成之黑色光阻層特性,其結果如下表2所示。
《光學濃度》
使用光學濃度計量測1.0 μm黑色光阻之光學濃度(OD值)。
《線電阻》
將上述試片分別置於不同溫度之高溫烘箱中烘烤20分鐘,接著再以兩導電膠帶間隔1 mm黏貼在試片表面,並以Fluke 287三用電表量測兩膠帶間電阻值。
《耐濕性》
(a)水浴:將上述試片置於80℃水中約60分鐘,接著再以百格刮刀及3M膠帶黏貼測試黑色光阻對STN玻璃之附著力(ASTM D3359測試法)。
(b)P.C.T(pressure cook test,壓力鍋測試)將上述試片置於121℃、2 atm條件下約24小時,接著再以百格刮刀及 3M膠帶黏貼測試黑色光阻對STN玻璃之附著力(ASTM D3359測試法)。
《耐蝕刻性》
將上述試片置於40℃、10%王水(Aqua Regia)中約2分鐘,接著再以百格刮刀及3M膠帶黏貼測試黑色光阻對ITO玻璃之附著力(ASTM D3359測試法)。
根據上述測試結果可發現,相較於比較例,本發明黑色感光樹脂組成物所製成之黑色光阻層不僅可達3.5以上之OD值,其同時可滿足高溫電阻之需求(290℃以上線電阻>1×108 ,甚至於300℃下線電阻仍維持108 ),並展現優異的附著性及耐濕、耐蝕刻特性,故適用於觸控面板中作為遮光層。
另外,將實施例1~5所獲得之黑色感光樹脂組成物,以旋轉塗佈的方式均勻塗佈在玻璃基材上,接著再進行圖案化,以觀察圖案化後之黑色光阻。結果顯示,本發明黑色感光樹脂組成物具有顯像直線性佳、基材上無殘留且圖案解析度佳等優異特性,故適用於形成液晶顯示面板中之黑色矩陣。
D.黑色感光樹脂組成物之其他實施例
依照下表4所示之各成份組成(單位為重量份),製得其他實施態樣之黑色感光樹脂組成物,隨後再進行上述塗佈、曝光及顯影等步驟,以進行OD量測、耐熱電阻量測、耐濕、耐蝕刻等測試。結果顯示,OD值均在3.5以上,且290℃以上線電阻≧1×108 ,顯像直線性佳,基材上無殘留,附著力佳,且具有良好的耐濕、抗蝕刻特性。
上述實施例僅係為了方便說明而舉例而已,本發明所主張之權利範圍自應以申請專利範圍所述為準,而非僅限於上述實施例。

Claims (9)

  1. 一種黑色感光樹脂組成物,包括:(A)0.5至5.0重量百分比之聚矽氧烷;(B)20至70重量百分比之黑色顏料;(C)1.0至30重量百分比之鹼可溶性樹脂;(D)0.5至10重量百分比之光聚合性化合物;(E)0.5至5.0重量百分比之光聚合起始劑;以及(F)餘量溶劑;其中,該聚矽氧烷為具有矽氧主鏈之共聚物,該具有矽氧主鏈之共聚物包含下式(I)單元及下式(II)單元, 其中,每一R1 、R2 及R3 各自獨立為氫或C1-6 烷基;s為0至5之整數;且r為1至6之整數。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之黑色感光樹脂組成物,其中,該具有矽氧主鏈之共聚物更包含下式(III)單元與下式(IV)單元中之至少一者, 其中, 每一R4 、R5 及R6 各自獨立為氫或C1-6 烷基;且x及y各自獨立為0至5之整數。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之黑色感光樹脂組成物,其中,該具有矽氧主鏈之共聚物更包含下式(V)單元, 其中,每一R7 及R8 各自獨立為氫或C1-6 烷基;t為0至5之整數;m及n各自獨立為0至3之整數;且m+n為3。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之黑色感光樹脂組成物,其中,該具有矽氧主鏈之共聚物具有500至3000之重量平均分子量。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之黑色感光樹脂組成物,其中,該光聚合性化合物為含有乙烯性不飽和基之光聚合性化合物。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之黑色感光樹脂組成物,其中,該鹼可溶性樹脂為壓克力鹼可溶樹脂。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之黑色感光樹脂組成物,其中,該黑色顏料為碳黑。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之黑色感光樹脂組成物,其係用於形成觸控式液晶顯示面板中之遮光層。
  9. 一種遮光層,其係由如申請專利範圍第1項至第7項中任一項所述之黑色感光樹脂組成物所形成。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6225053B2 (ja) * 2014-03-20 2017-11-01 富士フイルム株式会社 感光性積層体、転写材料、パターン化された感光性積層体及びその製造方法、タッチパネル、並びに画像表示装置
US9965113B2 (en) * 2014-04-14 2018-05-08 Lg Innotek Co., Ltd. Touch window
JP6765368B2 (ja) 2014-06-19 2020-10-07 インクロン オサケユキチュアInkron Oy シロキサンポリマー組成物の製造方法
KR101537771B1 (ko) * 2014-06-27 2015-07-17 주식회사 삼양사 차광용 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 차광층
TWI647532B (zh) * 2014-07-01 2019-01-11 南韓商東友精細化工有限公司 光敏樹脂組成物
JP7204314B2 (ja) * 2017-05-31 2023-01-16 東京応化工業株式会社 感光性組成物、硬化膜、表示装置、及びパターン化された硬化膜の形成方法
EP3597694B1 (en) * 2018-07-17 2023-10-11 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photosensitive resin composition, photosensitive resin coating, photosensitive dry film, and black matrix

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200628988A (en) * 2004-12-07 2006-08-16 Dongjin Semichem Co Ltd Photoresist composition for colour filter and preparation method of liquid crystal display colour filter using the same

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006058385A (ja) * 2004-08-17 2006-03-02 Tokyo Institute Of Technology ブラックレジスト用感放射線性組成物
TWI428698B (zh) * 2011-11-25 2014-03-01 Chi Mei Corp 感光性樹脂組成物、黑色矩陣、彩色濾光片及其液晶顯示元件
TWI568763B (zh) * 2012-03-19 2017-02-01 奇美實業股份有限公司 感光性樹脂組成物、彩色濾光片及其液晶顯示元件

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200628988A (en) * 2004-12-07 2006-08-16 Dongjin Semichem Co Ltd Photoresist composition for colour filter and preparation method of liquid crystal display colour filter using the same

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