JP2016070973A - 感光性導電フィルム、導電パターンの形成方法及び導電膜基板 - Google Patents
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例えば、下記特許文献1には、基板上に、銀繊維等の金属繊維を含有する導電層を形成した後、導電層上に感光性樹脂層を形成し、その上からパターンマスクを介して露光し、現像する導電パターンの形成方法が開示されている。
そのため、ガラス基板に感光性導電フィルムをパターニングする際は、予めガラス基板を炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、シランカップリング剤を浸すことにより、表面処理を施す必要があった。
<1>支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた導電膜及び該導電膜上に設けられた感光性樹脂層を備える感光性導電フィルムであって、前記感光性樹脂層は(a)バインダーポリマー、(b)光重合性化合物、(c)光重合開始剤、及び(d)リン酸エステル化合物を含有する感光性導電フィルム。
<2>前記(d)リン酸エステル化合物の含有量が、前記(a)成分と(b)成分の合計100質量部に対して2.5質量部以下である<1>に記載の感光性導電フィルム。
<3>前記導電膜及び感光性樹脂層の合計厚みが1〜10μmのときに、450〜650nmの波長域における光透過率が80%以上である<1>又は<2>に記載の感光性導電フィルム。
<4>前記導電膜が、導電性繊維を少なくとも一種含有する<1>〜<3>のいずれかに記載の感光性導電フィルム。
<5>前記導電性繊維が、銀繊維である<4>に記載の感光性導電フィルム。
<6><1>〜<5>のいずれかに記載の感光性導電フィルムを、基板上に前記感光性樹脂層が密着するようにラミネートする工程と、前記基板上の前記感光性樹脂層の所定部分に活性光線を照射する露光工程と、前記支持フィルムを剥離後、露光した前記感光性樹脂層と導電膜の未露光部を現像することにより導電パターンを形成する現像工程と、を備える導電パターンの形成方法。
<7><1>〜<5>のいずれかに記載の感光性導電フィルムを、基板上に前記感光性樹脂層が密着するようにラミネートする工程と、前記基板上の前記感光性樹脂層の所定部分に活性光線を照射する第一の露光工程と、前記支持フィルムを剥離後、酸素存在下で、前記第一の露光工程での未露光部の一部又は全部に活性光線を照射する第二の露光工程と、前記第二の露光工程の後に、前記感光性樹脂層と導電膜を現像することにより導電パターンを形成する現像工程と、を備える導電パターンの形成方法。
<8>基板上に設けられた感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層の前記基板とは反対側の面に設けられた導電性繊維を含む導電膜の所定部分に活性光線を照射する露光工程と、前記感光性樹脂層と導電膜の未露光部を現像することにより導電パターンを形成する現像工程と、を含み、前記感光性樹脂層は、(a)バインダーポリマー、(b)光重合性化合物、(c)光重合開始剤、(d)リン酸エステル化合物を含有し、前記(d)リン酸エステル化合物を、前記(a)成分と(b)成分の合計100質量部に対して2.5質量部以下含有する導電パターンの製造方法。
<9>基板上に設けられた感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層の前記基板とは反対側の面に設けられた導電性繊維を含む導電膜の所定部分に活性光線を照射する露光工程と、酸素存在下で、前記第一の露光工程での未露光部の一部又は全部に活性光線を照射する第二の露光工程と、前記第二の露光工程の後に、前記感光性樹脂層と導電膜を現像することにより導電パターンを形成する現像工程とを含み、前記感光性樹脂層は、(a)バインダーポリマー、(b)光重合性化合物、(c)光重合開始剤、(d)リン酸エステル化合物を含有し、前記(d)リン酸エステル化合物を、前記(a)成分と(b)成分の合計100質量部に対して2.5質量部以下含有する、導電パターンの製造方法。
<10><6>〜<9>のいずれかに記載の導電パターンの形成方法により得られた導電パターンを備える導電パターン基板。
<11><10>に記載の導電パターン基板を備えるタッチパネルセンサ。
<感光性導電フィルム>
図1は、本発明の感光性導電フィルムの一実施形態を示す模式断面図である。また、図2は該実施形態の一部切欠き斜視図である。
感光性導電フィルム10は、支持フィルム1と、支持フィルム1上に設けられた導電膜2と、導電膜2上に設けられた感光性樹脂層3とを備える。尚、導電膜2及び感光性樹脂層3を纏めて感光層4という。
以下、感光性導電フィルム10を構成する支持フィルム1、導電膜2及び感光性樹脂層3のそれぞれについて詳細に説明する。
塗工は、ロールコート法、コンマコート法、グラビアコート法、エアーナイフコート法、ダイコート法、バーコート法、スプレーコート法等の公知の方法で行うことができるが、膜厚分布が良好であることや密閉系で塗液への異物混入が少ないという観点からダイコート法が好ましい。
導電膜2において、導電性繊維は界面活性剤や分散安定剤と共存していてもかまわない。
また、前記アクリル樹脂は、スチレン、(メタ)アクリル酸ベンジルエステル、又は(メタ)アクリル酸グリシジルエステルに基づく構成単位を含んでもよい。
これらの化合物は、工業的に販売されているものを用いることができる。
具体的には、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−フェニル,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)等が挙げられる。これらは、それぞれIRGACURE OXE 01、IRGACURE OXE 02(いずれもBASF(株)製、商品名)として商業的に入手可能である。
溶剤としては、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、N,N−ジメチルホルムアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が使用できる。
溶液中の固形分含有率は、10〜60質量%程度とすることが好ましい。
塗工は、ロールコート法、コンマコート法、グラビアコート法、エアーナイフコート法、ダイコート法、バーコート法、スプレーコート法等の公知の方法で行うことができる。塗工後、有機溶剤等を除去するための乾燥は、70〜150℃で5〜30分間程度、熱風対流式乾燥機等で行うことができる。
保護フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム等の耐熱性及び耐溶剤性を有する重合体フィルムを用いることができる。また、保護フィルムとして上述の支持体フィルムと同様の重合体フィルムを用いてもよい。
本発明の導電パターンの製造方法は、基板上に設けられた感光性樹脂層と導電膜にパターン状に活性光線を照射する露光工程と、感光性樹脂層と導電膜の未露光部を除去することにより導電パターンを形成する現像工程とを含む。
感光性樹脂層は、バインダーポリマー、光重合性化合物、光重合開始剤、及びリン酸エステル化合物を含有する。
導電パターンの形成には、図3(a)に示す積層体を用いることができる。図3(a)の積層体は、基板20上に、感光性樹脂層3と導電膜2を含む感光層4、及び支持フィルム1を有する感光性導電フィルム10が設けられている。
尚、この積層体は、例えば、上述した本発明の感光性導電フィルム10を感光性樹脂層3が基板20と接するように基板20上にラミネートすることにより得ることができる。
尚、導電パターンの形成方法は本発明の感光性導電フィルムを用いて形成することが好ましいが、これに限られず、例えば、基板上に感光性樹脂層と導電膜を別々に形成後、露光、現像することにより形成してもよい。
図4に示す方法において、支持フィルム1を有する感光層4の所定部分に活性光線を照射する露光工程(第1の露光工程:図4(b))までは前記の製造方法と同じである。
第1の露光工程の後に、支持フィルム1を剥離してから、酸素存在下で、第1の露光工程での露光部及び未露光部の一部又は全部に活性光線を照射する(第2の露光工程:図4(c))。これにより、基板20上に、導電パターン2aとともに導電膜が形成されていない樹脂硬化層3aが設けられることにより、基板上に導電パターンのみを設けた図3(c)の場合に比べて、導電パターンの段差を小さくすることができる(図4(d)に示す段差Ha)。
なお、基板20の材質、ラミネート条件等は上記特許文献2及び3を参照して設定することができる。
本発明に係るタッチパネルセンサは、前記の導電パターン基板を備える。
図5は、静電容量式のタッチパネルセンサの一例を示す模式上面図である。図5に示されるタッチパネルセンサは、透明基板101の片面にタッチ位置を検出するためのタッチ画面102があり、この領域に静電容量変化を検出して、X位置座標とする透明電極103と、Y位置座標とする透明電極104を備えている。これらのX、Y位置座標とするそれぞれの透明電極103、104には、タッチパネルとしての電気信号を制御するドライバー素子回路と接続するための引き出し配線105と、その引き出し配線105と透明電極103、104を接続する接続電極106が配置されている。さらに、引き出し配線105の接続電極106と反対側の端部には、ドライバー素子回路と接続する接続端子107が配置されている。
(1)ポリオール法による銀繊維の調製
2000mlの3口フラスコに、エチレングリコール500mlを入れ、窒素雰囲気下、マグネチックスターラーで撹拌しながらオイルバスにより160℃まで加熱した。ここに、別途用意したPtCl22mgを50mlのエチレングリコールに溶解した溶液を滴下した。4〜5分後、AgNO35gをエチレングリコール300mlに溶解した溶液と、重量平均分子量が4万のポリビニルピロリドン(和光純薬(株)製)5gをエチレングリコール150mlに溶解した溶液とを、それぞれの滴下漏斗から1分間で滴下し、その後160℃で60分間撹拌した。
純水に、前記(1)で得られた銀繊維を0.2質量%、及び、ドデシル−ペンタエチレングリコールを0.1質量%の濃度となるように分散し、銀繊維分散液1を得た。
表1に示す材料を同表に示す配合量(単位:質量部)で配合し、感光性樹脂組成物の溶液を調製した。
・アクリル樹脂A:メタクリル酸/メタクリル酸メチル/アクリル酸エチル/スチレン=20/50/20/10(モル比)の共重合体の溶液、重量平均分子量80,000
・PET−30:ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製)
・IRGACURE OXE 01:1,2−オクタンジオン,1−[(4−フェニルチオ−フェニル,2−(O−ベンゾイルオキシム))(BASF(株)製、商品名)
・PM21:光重合性不飽和結合を含むリン酸エステル化合物(日本化薬(株)製、商品名「KAYAMER PM21」)
(1)感光性導電フィルムの作製
製造例1で調製した銀繊維分散液1を支持フィルムである16μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム(TOYOBO(株)製、商品名「A−1517」)上に25g/m2で均一に塗布し、100℃の熱風対流式乾燥機で10分間乾燥し、室温(25℃)において10kg/cmの線圧で加圧した。これにより、支持フィルム上に導電性繊維を含有する導電膜を形成した。尚、導電膜の乾燥後の膜厚は、約0.01μmであった。
ITOフィルム基板(日東電工(株)製、商品名「V150A−OFSD5」)を120℃に加温し、その表面上に前記で得られた感光性導電フィルムの保護フィルムを剥離しながら、感光性樹脂層をITO基板に対向させて、120℃、0.4MPaの条件でラミネートした。
ラミネート後、基板を冷却し基板の温度が23℃になった時点で、感光特性調査用ステップタブレット(S/T;L/S=x/400、x=6〜47)マスクを被せ、支持フィルム側から高圧水銀灯ランプを有する露光機((株)オーク製作所製、商品名「EXM−1201」)を用いて、30mJ/cm2又は40mJ/cm2又は50mJ/cm2の露光量で、光照射した。光照射後、支持フィルムを剥離した。
以上の操作により、ITOフィルム基板上に、図4(d)に示す導電パターンを形成した。
密着性の評価として、密着性に関連するライン/スペース(L/S)パターンのライン幅を測定した。ライン幅が細い程、密着性が高い。結果を表2に示す。
感光性樹脂組成物溶液の組成を表2に示すようにした他は、実施例1と同様にして感光性導電フィルムを作製し、導電パターンを形成した。結果を表2に示す。
実施例2と同じ組成で感光性導電フィルムを作製した。基板をITO基板からガラス基板((株)倉元製作所製、ソーダ石灰ガラス、0.7mm厚)へ変更し、露光現像の条件以外は実施例1と同様にして導電パターンを形成した。
ガラス基板においては、感光性導電フィルムの1回の露光のみを行いパターニングしたところ密着性が著しく弱く、パターニングが困難であったため、露光量20mJ/cm2で1回目の露光を行い、その後支持フィルムを剥離し、露光機のマイラー上酸素雰囲気下で、50mJ/cm2の露光量で2回目の露光を行った。現像は、30℃で1質量%炭酸ナトリウム水溶液を30秒間スプレー噴霧した。さらにUV露光機により、1J/cm2の露光量を光照射して導電パターンを形成した。結果を表3に示す。
(d)成分の配合量を0.50質量部とした他は、実施例7と同様にして感光性導電フィルムの作製し、導電パターンを形成した。結果を表3に示す。
リン酸エステル(KAYAMER PM21)を配合しなかった他は、実施例2と同様にして感光性導電フィルムを作製した。この場合、感光性導電フィルムを基板上にラミネートし、露光しても、基板に予めシランカップリング処理を施さないと、現像工程で導電パターンが除去されてしまった。従って、本例では、予め1%炭酸ナトリウム水溶液で洗浄したガラス基板を、1%KBM603水溶液(信越シリコーン(株)製)に1分間浸すことにより、ガラス表面にカップリング処理を行った。カップリング処理したガラス基板を使用して、実施例7と同様に2段階露光を行いパターニングし、導電パターンを形成した。結果を表3に示す。
本発明のタッチパネルセンサは、液晶表示素子やタッチスクリーンに用いることができる。
2 導電膜
2a 導電パターン
3 感光性樹脂層
3a,3b 樹脂硬化層
4 感光層
5 マスクパターン
10 感光性樹脂フィルム
20 基板
101 透明基板
102 タッチ画面
103 透明電極(X位置座標)
104 透明電極(Y位置座標)
105 引き出し配線
106 接続電極
107 接続端子
Claims (11)
- 支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた導電膜及び該導電膜上に設けられた感光性樹脂層を備える感光性導電フィルムであって、前記感光性樹脂層は、
(a)バインダーポリマー、
(b)光重合性化合物、
(c)光重合開始剤、及び
(d)リン酸エステル化合物を含有する感光性導電フィルム。 - 前記(d)リン酸エステル化合物の含有量が、前記(a)成分と(b)成分の合計100質量部に対して2.5質量部以下である請求項1に記載の感光性導電フィルム。
- 前記導電膜及び感光性樹脂層の合計厚みが1〜10μmのときに、450〜650nmの波長域における光透過率が80%以上である請求項1又は2に記載の感光性導電フィルム。
- 前記導電膜が、導電性繊維を少なくとも一種含有する請求項1〜3のいずれか一項に記載の感光性導電フィルム。
- 前記導電性繊維が、銀繊維である請求項4に記載の感光性導電フィルム。
- 請求項1〜5のいずれか一項に記載の感光性導電フィルムを、基板上に前記感光性樹脂層が密着するようにラミネートする工程と、
前記基板上の前記感光性樹脂層の所定部分に活性光線を照射する露光工程と、
前記支持フィルムを剥離後、露光した前記感光性樹脂層と導電膜の未露光部を現像することにより導電パターンを形成する現像工程と、
を備える導電パターンの形成方法。 - 請求項1〜5のいずれか一項に記載の感光性導電フィルムを、基板上に前記感光性樹脂層が密着するようにラミネートする工程と、
前記基板上の前記感光性樹脂層の所定部分に活性光線を照射する第一の露光工程と、
前記支持フィルムを剥離後、酸素存在下で、前記第一の露光工程での未露光部の一部又は全部に活性光線を照射する第二の露光工程と、
前記第二の露光工程の後に、前記感光性樹脂層と導電膜を現像することにより導電パターンを形成する現像工程と、
を備える導電パターンの形成方法。 - 基板上に設けられた感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層の前記基板とは反対側の面に設けられた導電性繊維を含む導電膜の所定部分に活性光線を照射する露光工程と、
前記感光性樹脂層と導電膜の未露光部を現像することにより導電パターンを形成する現像工程と、を含み、
前記感光性樹脂層は、(a)バインダーポリマー、(b)光重合性化合物、(c)光重合開始剤、(d)リン酸エステル化合物を含有し、前記(d)リン酸エステル化合物を、前記(a)成分と(b)成分の合計100質量部に対して2.5質量部以下含有する導電パターンの製造方法。 - 基板上に設けられた感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層の前記基板とは反対側の面に設けられた導電性繊維を含む導電膜の所定部分に活性光線を照射する露光工程と、
酸素存在下で、前記第一の露光工程での未露光部の一部又は全部に活性光線を照射する第二の露光工程と、前記第二の露光工程の後に、前記感光性樹脂層と導電膜を現像することにより導電パターンを形成する現像工程とを含み、
前記感光性樹脂層は、(a)バインダーポリマー、(b)光重合性化合物、(c)光重合開始剤、(d)リン酸エステル化合物を含有し、前記(d)リン酸エステル化合物を、前記(a)成分と(b)成分の合計100質量部に対して2.5質量部以下含有する、導電パターンの製造方法。 - 請求項6〜9のいずれか一項に記載の導電パターンの形成方法により得られた導電パターンを備える導電パターン基板。
- 請求項10に記載の導電パターン基板を備えるタッチパネルセンサ。
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