TW518428B - Optical system, in particular projection-illumination unit used in microlithography - Google Patents

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Description

518428 五、發明說明（1) 本發明係關於-種光學系統，特別是供 使用之投影照射單元，其型式更詳細定版印刷術 第1項之前言（preamb 1 e )中。 ；5月專利範圍 EP』678 768 A2揭示一種如引言中 統，其中使用步進及掃描方法，且只有一狹 '之先予糸 條被從-光罩傳送至―波段轉換器。& 了照射長 一標線及波段轉換器被橫向地位移（掃描）。、正轭\ ’ 然而，根據此種先前技術之光學系統 何導致一種旋轉對稱昭射折轉，特 缺點，狹縫幾 认ό l 彳僻…、射折轉特別疋在靠近波段轉換考 = 思謂著透鏡必然發生加熱而產生的溫度分佈 I Ή I,透兄上％轉對稱，因11匕，由於折射率與溫度間的 、、、·目a、且由於熱膨脹的緣故，在光軸上會出現影像誤 差，例如像散現象。 、 一在EP 0 678 768 A2中，提出使用一透鏡作為「最終控制 几件」’以便修正透鏡不均勻加熱所產生的影像誤差。為 達到此目的’作用於徑向方向的力被允許作用於透鏡上。 然而’此種解決方法的缺點在於只有產生壓縮力，導致厚 度的不對稱改變。 EP Θ60 U9 A1揭示一種使用於顯微平板印刷之投影 _ 照射單元’其中物鏡設置有校正元件。其包括一對可繞光 轴方疋轉的透鏡。在此種情況中，可藉由將一圓枉彎月形狀 登加於球面透鏡上，而改變來自透鏡形狀的折射能量。 本發明的目的在於提供一種開端處所述形式的光學系 統’其中’諸如由不均勻溫度分佈及/或壓縮效應所形成
518428 、發明說明（2) 1 誤差，可藉由控制像散現象而被修正、或至少顯著 八根據本發明，此目的是藉由列於申請專利範圍之定義部 刀所達成。 相較於先前技術，不止產生壓縮力（壓縮力只會導致厚 ς的不對稱改變），又藉由控制拉伸力及/或壓縮力使光 如透鏡）產生形變，此種形變的選擇方式將可 文侍所產生的影像誤差可被以非常大限度地補償。 根$本發明的一種構形，於力位移傳動器，可設置一具 :桿之桿傳動器’至少一致動器作用於桿的一端上，: 才:才曰向内環的另一端係作用於内環上，以在 平行於光軸的力。 藉由適當地配置或分佈拉伸力及壓縮力而將其分 上，可產生例如一支持透鏡之内環的雙重波紋，因此 於透鏡。這特別是在拉伸力及壓縮力彼此180度相對的情 况拉伸力及壓縮力以9 〇度間隔交替，以&，内環係藉 介於該等力之間的連接部而被固定地連接至托座。 如此所產生的像散現象可實質地補償影像誤差。在實 上，諸如透鏡的光學元件具有如此所產生的 狀形式。 凡鞍 如有必要，亦可提供「過補償（〇ver-compensati⑽ )」，以便以此方式修正額外的補償，供用於系統中 光學元件的產品瑕庇或影像誤差。整體而纟，以此種方 可使用簡單裝置提供補償供用於整個物鏡或照射單元。大
518428
各種用於產生拉伸力及壓縮力之能量產生器均為合適 的；通常，為了增加精確度或提供一適當的精準調^， 使用一桿傳動器。作為簡單拉伸力及壓縮力產生器， 用壓力單元或液壓單元形式的致動器，或有利土也，機 伸單元及壓縮單元可以一簡單結構配置於托座中。此種方 法允許托座同時被用於密封液壓或容納拉伸單元及壓縮w 元。 、、、5早 有利的細部及構形將從其餘附屬項申請專利範圍及 具體例揭露，其係參照圖式原則性說明如下。
由於一投影照射單元係為顯微平版印刷術領域中所羽 的，因此下文中僅說明一適用於此種單元的光學元白，° 對於此種用途，光學元件丨係裝設於一内環2， 接至一托座7。 叩円連 光學兀件，例如一透鏡丨（在圖2中僅顯示出 在圖1中完整顯示）係裴設於複數個支承腳3上，支承 為有轉角的設計、且均勻地分佈於内環2的周圍上。 腳3連接至内環2的該等部分4係平行於光軸。指向 7 承腳3之中間部分5則與光軸成直角，中間部分5係具
於透鏡1之支承平面6。支承腳3的此種設計一方面 精確的安裝，另一方面亦提供彈性，以便使作為元、 的透鏡1可進行形變。 予70 > 在一環繞内環2的托座7中， 動器’呈拉伸單元8a與8b的形 向的拉伸力，亦即垂直於光軸 有兩個彼此1 8 0度相對的至欠 式’其可產生作用於徑向方 之方向。另外兩個壓縮單元
88122486.ptd 第7頁 内環2係藉由-連接部1〇固定地連接至托座7，連接 係介=拉伸單元及麼縮單元之中央，拉伸單元及I縮單 το係相對於彼此偏移90度，亦即，該連接部係介於該等 元間45度之處。連接部可為任何既定的形式。在圖！'中， 該等連接部同樣地僅為概略地顯示，且由於斜視圖的緣 固，四個連接部1 0中只顯示出三個。 由拉伸單元及壓縮單元8a、8b與93、9b所施加的徑向拉 伸力/壓縮力係對應於圖2中之箭頭方向u，其係以下列方 式轉換成平行於Z軸作用及產生像散現象的力。 五、發明說明（4) 9a、9b亦互相18〇度相對而定位，且相對於拉伸 90度，其可產生同樣在徑向方向的壓縮力。在
伸單元及I縮單元僅為概略地顯*，而其:造 係說明於圖3及圖4中。 刀此稱&貝J 如圖^所示，為達到此目的，設置一具有肘桿12之桿傳 動器’該肘桿係位於内環2及托座7之間。肘桿丨2之橫截面 分別為J形，T的橫桿部份係與光軸呈直角而延伸。在肘桿 或T的橫桿之一端，肘桿丨2係以彈性或鉸接方式連接至托 座7、而在面向内環2的另一端，係以一種對應則係以鉸接 方式，，至内環2。介於τ的橫桿兩端之間，有一桿臂丨3垂 於該k柃且平行於z軸而延伸，而來自拉伸單元及壓縮 單7L8a、8b與9a、9b的拉伸力及壓縮力u係作用於其上。 根據拉伸單元及壓縮單元8a、8b與9a、9b的數目及配 f=設有四個肘桿12，以90度之間隔分佈於周圍上。這 思明著，連同四個連接部丨〇，内環2總共經由八個連接
518428 五、發明說明（5) 點、彈性地連接至托座7。圖1中可看見凹洞〗4介於内環2 與托座7之間，肘桿12係安裝在凹洞中。 視力作用的箭頭方向11而定，在範例具體例中，内環2 的周圍上父替地產生指向下或指向上的力，依照圖丨中所 示之箭頭15a (指向下）及丨5b (指向上）。 原則上，亦可僅藉由拉伸力或壓縮力產生像散現象，亦 即/、f指向上或只有指向下的力，但選擇設計成交替形 式，疋由於固定連接部1 〇介於各個力作用點之間，導致在 透鏡1中產生一雙重波紋或鞍狀，具有透鏡丨 位移的優點。 圖不於圖3及圖4中的拉伸力及壓縮力同時又產生一傳 ί丄以此種傳動的方式使得一大的位移可被轉換成透鏡1 的筮敏調整。傳動的比例可藉由選擇桿的長度而輕易變 化。 ，，、、、員示拉伸單元、而圖4顯示一壓縮單元，圖示於圖 及抑之拉伸單元及壓縮單元8a、8b與9a、9b具有一心軸 16、’其係被支承於托座7中。心軸致動器1 6的心軸 ^目係，接至引導套筒1 8，其同樣地被支承於托座7 a 彈簧19的一端被連接至引導套筒18，另-端作用 於肘和的桿臂13上。為了在透鏡】上產生指向下的力乍用 庄-軸致動器1 6係經由心軸螺帽1 7被旋轉，以產生在 ^方向的平移運動，因此亦供導引套筒18。如果 c亦即=二=「軟」拉伸彈簧19，可藉由將一大的移動 硬數個心軸旋轉）轉換成-小的移動，而致使產
518428
88122468.ptc 第11頁 2001.01.04.011 修正買 518428 _案號88122486_年月日__ 圖式簡單說明 圖1顯示一光學系統的斜視圖，其具有一内環連接至一 托座， 圖2顯示在安裝光學元件之可變形内環上產生拉伸力及 壓縮力的功能原理圖， 圖3顯示一用於產生拉伸力之機械拉伸單元的概略圖， 及 圖4顯示一用於產生壓縮力之機械壓縮單元的概略圖。
\\326\d\2D-\90-()l\88122468.ptc 第12頁 修正買

Claims (1)

  1. 十(4 案日號 88122486 育專观一圍」 I, to8 w i__Ά s_修正_修正摹 < 1 · 一種光學系統，特別是供顯微平版印刷術使用之投影 知射單元，特別是具有一狹縫形觀視範圍或非旋轉對稱照 射，該光學系統具有：一光學元件，特別是一透鏡或鏡 子，其係配置於一托座或内環中，以及致動器，其作用於 光學元件及/或内環上’其中複數個致動器（8 a、8 b及 9a、9b )係經由一徑向力位移傳動器、以產生拉伸力及/ 或壓縮力，而作用於可變形的内環（2 )上，以在内環（2 )上產生一平行於光軸的力以便使内環（2 )被形變。
    2·如申請專利範園第1項之光學系統，其中，一具有一 桿（1 2 )之桿傳動器被設置用於力位移傳動器，至少一致 動器（8a、8b及9a、9b )係作用於桿（12 )的一端，而桿 指向内環（2 )的另一端係作用在内環（2 )上。 3 ·如申請專利範圍第2項之光學糸統，其中，拉伸力或 壓縮力係彼此180度相對且作用於桿（12 )上，拉伸力及 壓縮力以9 0度間隔交替，且内環（2 )係藉由連接部（1 〇 )被固定地連接至托座（7 )，該連接部（丨〇 )係介於該 等力之間。
    、4·如申請專利範圍第2項之先學系統，其中，桿被設計 成為肘桿（1 2 )，以9 0度間隔配置於内環（2 )與托座（7 )之間，肘桿（丨2 )在外部周圍係被彈性地連接至托座 (7 )，而在其内部周圍係以一種鉸接方式作用於内環（2 r ^、’以及，各致動器（8a、8b及9a、9b)作用於一肘桿 )之桿臂（13 )上，該桿臂（13 )係平行於光軸。 b.如申請專利範圍第i項之光學系統，其中，有轉角的
    518428
    支承腳⑴係分佈於内(2) 之連接至内環（2 )的該等部分（4 ) 向，而向内與光軸呈直角之中間部分 凡件的支承表面（6 ) 。 1 5 ) ’支承腳（3 ) 平行於光軸定 具有用於光學 其中，致動器 單元及壓縮單元 6.如申請專利範圍第〗項之光學系統 8a、8b及9a、9b )係設計成機械拉伸 (8a 、 8b 及9a 、 9b ) 〇
    壓7縮"ί «專利範圍第6項之光學系 '統，其中拉伸單元及 、、、早兀（a、8 b及9 a、9 b )係設置有一心車由致動器（1 6 ^二其可經由心軸螺帽（1 7 )施加一拉伸力及壓縮力於一 彈簧裝置（19、23)上，而彈簧裝置（19、23)作用於相 聯繫的桿（1 2 )上。 、 8 ·如申請專利範圍第7項之光學系統，其中，彈簧裝置 (1 9、23 )係用於在桿（丨2 )上將一大調整位移轉換成一 微調整。 9 ·如申請專利範圍第8項之光學系統，其中，拉伸單元 及壓縮單元（8a、8b及9a、9b)係配置於托座（7)内的 孔中。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI424186B (zh) * 2005-12-03 2014-01-21 Zeiss Carl Smt Gmbh 物鏡，特別是半導體微影術用之投影物鏡

Families Citing this family (86)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5774274A (en) * 1995-05-12 1998-06-30 Schachar; Ronald A. Variable focus lens by small changes of the equatorial lens diameter
US7158830B2 (en) * 1998-05-08 2007-01-02 Cardiac Pacemakers, Inc. Method and apparatus for optimizing stroke volume during DDD resynchronization therapy using adjustable atrio-ventricular delays
EP1094348B1 (de) * 1999-10-06 2005-04-20 JENOPTIK Aktiengesellschaft Elastische Linsenträger
DE19959741A1 (de) * 1999-12-10 2001-06-13 Zeiss Carl Vorrichtung zur deformationsarmen Lagerung eines optischen Elementes und Verfahren zur deformationsarmen Lagerung des optischen Elementes
JP4945845B2 (ja) * 2000-03-31 2012-06-06 株式会社ニコン 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法。
US6556364B2 (en) 2000-04-25 2003-04-29 Michael F. Meehan Apparatus, system, and method for precision positioning and alignment of a lens in an optical system
DE10030495A1 (de) * 2000-06-21 2002-01-03 Zeiss Carl Verfahren zum Verbinden einer Vielzahl von optischen Elementen mit einem Grundkörper
KR100775796B1 (ko) * 2000-08-18 2007-11-12 가부시키가이샤 니콘 광학소자 유지장치
DE10051706A1 (de) * 2000-10-18 2002-05-02 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes
US6937394B2 (en) * 2001-04-10 2005-08-30 Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag Device and method for changing the stress-induced birefringence and/or the thickness of an optical component
DE10123725A1 (de) * 2001-05-15 2002-11-21 Zeiss Carl Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie, Optisches System und Herstellverfahren
US7239447B2 (en) * 2001-05-15 2007-07-03 Carl Zeiss Smt Ag Objective with crystal lenses
KR20040015251A (ko) 2001-05-15 2004-02-18 칼 짜이스 에스엠티 아게 불화물 결정 렌즈들을 포함하는 렌즈 시스템
DE10136387A1 (de) * 2001-07-26 2003-02-13 Zeiss Carl Objektiv, insbesondere Objektiv für die Halbleiter-Lithographie
DE10140608A1 (de) * 2001-08-18 2003-03-06 Zeiss Carl Vorrichtung zur Justage eines optischen Elements
DE10146863A1 (de) * 2001-09-22 2003-04-10 Zeiss Carl Fassung für ein optisches Element in einer optischen Abbildungseinrichtung
DE10151919B4 (de) 2001-10-20 2007-02-01 Carl Zeiss Smt Ag Belichtungsobjektiv in der Halbleiterlithographie
DE10162796B4 (de) * 2001-12-20 2007-10-31 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Optimierung der Abbildungseigenschaften von mindestens zwei optischen Elementen sowie photolithographisches Fertigungsverfahren
DE10209661A1 (de) * 2002-03-05 2003-09-18 Zeiss Carl Smt Ag Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie
DE10220324A1 (de) 2002-04-29 2003-11-13 Zeiss Carl Smt Ag Projektionsverfahren mit Pupillenfilterung und Projektionsobjektiv hierfür
DE10219514A1 (de) 2002-04-30 2003-11-13 Zeiss Carl Smt Ag Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie
US6803994B2 (en) * 2002-06-21 2004-10-12 Nikon Corporation Wavefront aberration correction system
JP4174262B2 (ja) * 2002-08-09 2008-10-29 キヤノン株式会社 光学要素の支持構造、光学系、光学系の調整方法、露光装置、露光方法、半導体デバイス製造方法
KR100474714B1 (ko) * 2002-09-18 2005-03-10 삼성전자주식회사 광대역 광섬유 증폭기
EP1576403A1 (en) * 2002-12-23 2005-09-21 BAE Systems PLC Deformable-mirror holder
WO2004057407A1 (en) * 2002-12-23 2004-07-08 Bae Systems Plc Deformable mirror
AU2003288566A1 (en) * 2002-12-23 2004-07-14 Bae Systems Plc Deformable-mirror cooling
AU2003219097A1 (en) * 2003-03-26 2004-10-18 Carl Zeiss Smt Ag Device for the low-deformation replaceable mounting of an optical element
US7760452B2 (en) * 2003-04-25 2010-07-20 Canon Kabushiki Kaisha Driving apparatus, optical system, exposure apparatus and device fabrication method
ATE449978T1 (de) * 2003-06-06 2009-12-15 Nikon Corp Halteeinrichtung für optische elemente, objektivtubus, belichtungseinrichtung und herstellungsverfahren für bauelemente
DE10331390A1 (de) * 2003-07-11 2005-01-27 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Herstellung von asphärischen optischen Flächen
JPWO2005022614A1 (ja) 2003-08-28 2007-11-01 株式会社ニコン 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
US6816325B1 (en) 2003-09-11 2004-11-09 Carl Zeiss Smt Ag Mounting apparatus for an optical element
US20060018045A1 (en) * 2003-10-23 2006-01-26 Carl Zeiss Smt Ag Mirror arrangement and method of manufacturing thereof, optical system and lithographic method of manufacturing a miniaturized device
WO2005054953A2 (en) * 2003-11-24 2005-06-16 Carl-Zeiss Smt Ag Holding device for an optical element in an objective
US7265917B2 (en) * 2003-12-23 2007-09-04 Carl Zeiss Smt Ag Replacement apparatus for an optical element
US7697222B2 (en) * 2003-12-25 2010-04-13 Nikon Corporation Apparatus for holding optical element, barrel, exposure apparatus, and device producing method
WO2005078774A1 (ja) * 2004-02-13 2005-08-25 Nikon Corporation 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
EP1716455B1 (de) * 2004-02-20 2011-05-11 Carl Zeiss SMT GmbH Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage
DE102004035595B4 (de) 2004-04-09 2008-02-07 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Justage eines Projektionsobjektives
US7604359B2 (en) * 2004-05-04 2009-10-20 Carl Zeiss Smt Ag High positioning reproducible low torque mirror-actuator interface
US20060077579A1 (en) * 2004-10-12 2006-04-13 Margeson Christopher S Force actuator with clamp
US7436484B2 (en) * 2004-12-28 2008-10-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20060158707A1 (en) * 2004-12-28 2006-07-20 Tilmann Schwertner Mount for an optical element, method for fitting an optical element on a mount and method for manipulating an optical device
KR101332497B1 (ko) * 2005-01-26 2013-11-26 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 광학 조립체를 포함하는 마이크로-리소그래피의 투사 노광기
DE102006022957A1 (de) * 2005-05-16 2006-11-23 WITTE, WELLER & PARTNER Patentanwälte Optische Vorrichtung mit einem optischen Bauelement und mit einer Verstelleinrichtung und Verfahren zur Beeinflussung eines Polarisationszustands des optischen Bauelements
TWI454731B (zh) 2005-05-27 2014-10-01 Zeiss Carl Smt Gmbh 用於改進投影物鏡的成像性質之方法以及該投影物鏡
US20080204682A1 (en) * 2005-06-28 2008-08-28 Nikon Corporation Exposure method and exposure apparatus, and device manufacturing method
JP5069232B2 (ja) 2005-07-25 2012-11-07 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ
JP2007266511A (ja) * 2006-03-29 2007-10-11 Nikon Corp 光学系、露光装置、及び光学特性の調整方法
DE102006034755A1 (de) * 2006-07-24 2008-01-31 Carl Zeiss Smt Ag Optische Vorrichtung sowie Verfahren zur Korrektur bzw. Verbesserung des Abbildungsverhaltens einer optischen Vorrichtung
TWI321661B (en) * 2006-07-27 2010-03-11 Young Optics Inc Projection apparatus
DE102006045075A1 (de) 2006-09-21 2008-04-03 Carl Zeiss Smt Ag Steuerbares optisches Element
DE102006047666A1 (de) * 2006-09-28 2008-04-03 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographieanlage mit verbesserten Abbildungseigenschaften und Verfahren zum Verbessern der Abbildungseigenschaften des Projektionsobjektives
DE102006047665A1 (de) * 2006-09-28 2008-04-03 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System für eine Mikrolithographieanlage mit verbesserten Abbildungseigenschaften und Verfahren zum Verbessern der Abbildungseigenschaften des optischen Systems
DE102007005203A1 (de) 2007-01-29 2008-07-31 Carl Zeiss Smt Ag Fassung für ein optisches Element
JP5171061B2 (ja) 2007-02-20 2013-03-27 キヤノン株式会社 駆動機構
DE102007014155A1 (de) * 2007-03-20 2008-09-25 Jenoptik Laser, Optik, Systeme Gmbh Optikfassung und optisches Bauelement mit einer derartigen Optikfassung
JP5329520B2 (ja) 2007-03-27 2013-10-30 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 低角度で入射する補正光を用いる補正光学素子
US8773784B2 (en) * 2007-08-14 2014-07-08 Moondog Optics, Inc. System for reducing the effects of component misalignment in an optical system
JP5579063B2 (ja) 2007-08-24 2014-08-27 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 制御可能な光学素子、熱アクチュエータによる光学素子の操作方法および半導体リソグラフィのための投影露光装置
DE102007047109A1 (de) 2007-10-01 2009-04-09 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System, insbesondere Projektionsobjektiv der Mikrolithographie
US20090122428A1 (en) * 2007-11-09 2009-05-14 Nikon Corporation Reflective optical elements exhibiting multimetallic-like self-correction of distortions caused by heating
DE102008000967B4 (de) 2008-04-03 2015-04-09 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Mikrolithographie
JP2010021535A (ja) * 2008-06-11 2010-01-28 Canon Inc 変形機構、露光装置およびデバイス製造方法
DE102008032853A1 (de) 2008-07-14 2010-01-21 Carl Zeiss Smt Ag Optische Einrichtung mit einem deformierbaren optischen Element
KR101012998B1 (ko) * 2008-08-06 2011-02-10 경북대학교 산학협력단 생체모방형 로봇 눈 어셈블리
EP2189832A1 (en) * 2008-11-20 2010-05-26 BAE Systems PLC Deformable Mirror Suspension
US8699113B2 (en) 2008-11-20 2014-04-15 Bae Systems Plc Deformable mirror suspension
DE102008062908B4 (de) * 2008-12-23 2011-01-20 Carl Zeiss Ag Augenchirurgiesystem
JP2010219080A (ja) * 2009-03-13 2010-09-30 Canon Inc 光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置
KR20120018196A (ko) 2009-05-16 2012-02-29 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 광학 교정 배열체를 포함하는 반도체 리소그래피를 위한 투사 노광 장치
DE102010028941B4 (de) * 2010-05-12 2012-03-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Vorrichtung für eine optische Anordnung und Verfahren zum Positionieren eines optischen Elements einer optischen Anordnung
FR2963439B1 (fr) 2010-07-30 2012-09-14 Sagem Defense Securite Dispositif d'athermalisation mecanique passive, systeme optique associe
DE102011053566B4 (de) * 2011-09-13 2022-06-23 HELLA GmbH & Co. KGaA Linsenvorrichtung
JP5904749B2 (ja) * 2011-10-14 2016-04-20 キヤノン株式会社 光学素子保持装置及びそれを有するレンズ装置、撮像装置
DE102014209160A1 (de) 2014-05-14 2015-11-19 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Modul
DE102014209147A1 (de) 2014-05-14 2015-11-19 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Modul
DE102014209150A1 (de) 2014-05-14 2015-07-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Modul
DE102014209151A1 (de) 2014-05-14 2015-07-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Modul
WO2015173363A1 (de) 2014-05-14 2015-11-19 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit feldnahem manipulator
DE102014209149A1 (de) 2014-05-14 2015-10-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Modul
DE102015223520A1 (de) 2015-11-27 2016-10-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
CN107329225B (zh) * 2016-04-29 2020-06-16 上海微电子装备（集团）股份有限公司 侧立镜组及其安装方法
DE102019112224A1 (de) 2019-05-10 2020-11-12 Carl Zeiss Smt Gmbh Abstützung eines optischen Elements
CN110275271B (zh) * 2019-07-15 2021-09-14 北京遥感设备研究所 一种反射镜与转轴的连接结构

Family Cites Families (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5435076Y2 (zh) 1974-07-05 1979-10-25
US3957359A (en) * 1975-01-23 1976-05-18 Meginnis Charles E Sight glass assembly
US4043644A (en) * 1976-07-15 1977-08-23 Humphrey Instruments, Inc. Elastically compensated off-axis mirror
US4196972A (en) * 1977-08-22 1980-04-08 The Perkin-Elmer Corporation Configuration control apparatus
US4161120A (en) 1978-05-08 1979-07-17 Wabco Westinghouse Equipment for the detection of rotation parameters in particular for a wheel-velocity sensor
JPS568101A (en) * 1979-07-02 1981-01-27 Hitachi Ltd Electro-optical lens
US4540251A (en) * 1983-12-01 1985-09-10 International Business Machines Corporation Thermo-mechanical overlay signature tuning for Perkin-Elmer mask aligner
JPS6235619A (ja) * 1985-08-09 1987-02-16 Canon Inc 投影露光装置
US4647164A (en) * 1985-11-21 1987-03-03 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Apparatus for and method of correcting for astigmatism in a light beam reflected off of a light reflecting surface
US4733945A (en) * 1986-01-15 1988-03-29 The Perkin-Elmer Corporation Precision lens mounting
JPS62291920A (ja) * 1986-06-12 1987-12-18 Nikon Corp 投影光学装置
JP2641331B2 (ja) * 1990-08-15 1997-08-13 三菱電機株式会社 反射鏡アンテナ方法
EP0480616B1 (en) * 1990-10-08 1997-08-20 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus with an aberration compensation device of a projection lens
US5249082A (en) * 1991-05-08 1993-09-28 Eastman Kodak Company Exact constraint arrangement for and methods of mounting an element such as a lens
US5210650A (en) * 1992-03-31 1993-05-11 Eastman Kodak Company Compact, passively athermalized optical assembly
JP3259373B2 (ja) * 1992-11-27 2002-02-25 株式会社日立製作所 露光方法及び露光装置
JP3251362B2 (ja) * 1993-01-11 2002-01-28 三菱電機株式会社 露光装置及び露光方法
US5383168A (en) * 1993-04-01 1995-01-17 Eastman Kodak Company Actively athermalized optical head assembly
JPH06313833A (ja) * 1993-04-30 1994-11-08 Toshiba Corp 光学装置
JPH0786152A (ja) * 1993-09-14 1995-03-31 Nikon Corp 投影露光装置
JP3341269B2 (ja) 1993-12-22 2002-11-05 株式会社ニコン 投影露光装置、露光方法、半導体の製造方法及び投影光学系の調整方法
DE4400869C1 (de) * 1994-01-14 1995-03-02 Jenoptik Jena Gmbh Vorrichtung zur lateralen Justierung von Linsen innerhalb eines Hochleistungsobjektives
JP3368091B2 (ja) * 1994-04-22 2003-01-20 キヤノン株式会社 投影露光装置及びデバイスの製造方法
US5557469A (en) * 1994-10-28 1996-09-17 Ultratech Stepper, Inc. Beamsplitter in single fold optical system and optical variable magnification method and system
US5774274A (en) * 1995-05-12 1998-06-30 Schachar; Ronald A. Variable focus lens by small changes of the equatorial lens diameter
US5684566A (en) * 1995-05-24 1997-11-04 Svg Lithography Systems, Inc. Illumination system and method employing a deformable mirror and diffractive optical elements
JP3894509B2 (ja) * 1995-08-07 2007-03-22 キヤノン株式会社 光学装置、露光装置およびデバイス製造方法
JP3632264B2 (ja) * 1995-11-30 2005-03-23 株式会社ニコン Ｘ線投影露光装置
JPH1039208A (ja) * 1996-07-23 1998-02-13 Nikon Corp 投影光学系
JPH1054932A (ja) * 1996-08-08 1998-02-24 Nikon Corp 投影光学装置及びそれを装着した投影露光装置
DE19637563A1 (de) * 1996-09-14 1998-03-19 Zeiss Carl Fa Doppelbrechende Planplattenanordnung und DUV-Viertelwellenplatte
US5966248A (en) * 1996-10-16 1999-10-12 Nikon Corporation Lens driving mechanism having an actuator
JPH10133150A (ja) * 1996-10-29 1998-05-22 Canon Inc 回折光学装置及びこれを用いた露光装置
JPH10206714A (ja) * 1997-01-20 1998-08-07 Canon Inc レンズ移動装置
JP3445105B2 (ja) * 1997-07-25 2003-09-08 キヤノン株式会社 光学要素移動装置
DE19825716A1 (de) * 1998-06-09 1999-12-16 Zeiss Carl Fa Baugruppe aus optischem Element und Fassung
US5986827A (en) * 1998-06-17 1999-11-16 The Regents Of The University Of California Precision tip-tilt-piston actuator that provides exact constraint
DE19827603A1 (de) * 1998-06-20 1999-12-23 Zeiss Carl Fa Optisches System, insbesondere Projektions-Belichtungsanlage der Mikrolithographie

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI424186B (zh) * 2005-12-03 2014-01-21 Zeiss Carl Smt Gmbh 物鏡，特別是半導體微影術用之投影物鏡

Also Published As

Publication number Publication date
DE59911798D1 (de) 2005-04-28
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US6307688B1 (en) 2001-10-23
EP1014139A3 (de) 2003-07-09

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