TW434456B - A compound as functionalized photoinitiator, its production process, its corresponding oligomers or polymers and its application in coating a substrate - Google Patents

A compound as functionalized photoinitiator, its production process, its corresponding oligomers or polymers and its application in coating a substrate Download PDF

Info

Publication number
TW434456B
TW434456B TW084101034A TW84101034A TW434456B TW 434456 B TW434456 B TW 434456B TW 084101034 A TW084101034 A TW 084101034A TW 84101034 A TW84101034 A TW 84101034A TW 434456 B TW434456 B TW 434456B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
compound
alkyl
substituted
group
ministry
Prior art date
Application number
TW084101034A
Other languages
English (en)
Inventor
Peter Chabrecek
Kurt Dietliker
Dieter Lohmann
Original Assignee
Novartis Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Novartis Ag filed Critical Novartis Ag
Application granted granted Critical
Publication of TW434456B publication Critical patent/TW434456B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0757Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06Esters of carbamic acids
    • C07C271/08Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C271/10Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C271/20Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06Esters of carbamic acids
    • C07C271/08Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C271/24Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atom of at least one of the carbamate groups bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06Esters of carbamic acids
    • C07C271/08Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C271/26Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atom of at least one of the carbamate groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C271/28Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atom of at least one of the carbamate groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring to a carbon atom of a non-condensed six-membered aromatic ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/04Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D295/10Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms
    • C07D295/104Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms with the ring nitrogen atoms and the doubly bound oxygen or sulfur atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F283/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
    • C08F283/12Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polysiloxanes
    • C08F283/124Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polysiloxanes on to polysiloxanes having carbon-to-carbon double bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/04Polymers provided for in subclasses C08C or C08F
    • C08F290/042Polymers of hydrocarbons as defined in group C08F10/00
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F8/00Chemical modification by after-treatment
    • C08F8/30Introducing nitrogen atoms or nitrogen-containing groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40High-molecular-weight compounds
    • C08G18/48Polyethers
    • C08G18/50Polyethers having heteroatoms other than oxygen
    • C08G18/5003Polyethers having heteroatoms other than oxygen having halogens
    • C08G18/5015Polyethers having heteroatoms other than oxygen having halogens having fluorine atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40High-molecular-weight compounds
    • C08G18/48Polyethers
    • C08G18/50Polyethers having heteroatoms other than oxygen
    • C08G18/5021Polyethers having heteroatoms other than oxygen having nitrogen
    • C08G18/5024Polyethers having heteroatoms other than oxygen having nitrogen containing primary and/or secondary amino groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40High-molecular-weight compounds
    • C08G18/61Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40High-molecular-weight compounds
    • C08G18/64Macromolecular compounds not provided for by groups C08G18/42 - C08G18/63
    • C08G18/6415Macromolecular compounds not provided for by groups C08G18/42 - C08G18/63 having nitrogen
    • C08G18/6446Proteins and derivatives thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/72Polyisocyanates or polyisothiocyanates
    • C08G18/80Masked polyisocyanates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/72Polyisocyanates or polyisothiocyanates
    • C08G18/80Masked polyisocyanates
    • C08G18/8061Masked polyisocyanates masked with compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/807Masked polyisocyanates masked with compounds having only one group containing active hydrogen with nitrogen containing compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/81Unsaturated isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/8141Unsaturated isocyanates or isothiocyanates masked
    • C08G18/815Polyisocyanates or polyisothiocyanates masked with unsaturated compounds having active hydrogen
    • C08G18/8158Polyisocyanates or polyisothiocyanates masked with unsaturated compounds having active hydrogen with unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/8166Polyisocyanates or polyisothiocyanates masked with unsaturated compounds having active hydrogen with unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen with unsaturated monofunctional alcohols or amines
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/81Unsaturated isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/8141Unsaturated isocyanates or isothiocyanates masked
    • C08G18/815Polyisocyanates or polyisothiocyanates masked with unsaturated compounds having active hydrogen
    • C08G18/8158Polyisocyanates or polyisothiocyanates masked with unsaturated compounds having active hydrogen with unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/8175Polyisocyanates or polyisothiocyanates masked with unsaturated compounds having active hydrogen with unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen with esters of acrylic or alkylacrylic acid having only one group containing active hydrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/42Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
    • C08G77/442Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing vinyl polymer sequences
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G02B1/041Lenses
    • G02B1/043Contact lenses
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/12Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
    • C07C2601/14The ring being saturated

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polyethers (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Medicines Containing Antibodies Or Antigens For Use As Internal Diagnostic Agents (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Printing Methods (AREA)
  • Immobilizing And Processing Of Enzymes And Microorganisms (AREA)

Description

A56 A7 B7 五、發明説明(/ 苯 聚外關 ·-的 專 基與此 還用化 洲 胺物;;應基 歐 一聚上酮的能 於 α 寡其 乙劑官 言 的於到笨發種 而 化關合基引這 例 基還結胺光用 舉 能外酮 I 種及 酮 官此乙 α 這以 。乙 酯 *, 苯的於 ·, 用苯 酸用基鍵關料應基 氰劑胺側還材的胺 異發一合;的性 I 二引 α 聚劑覆改 α 用光的可發施面的 種性化之引劑表丨: 1 應基和光發將 Α 中 於反能飽之引酮 f02 關做官不聚光乙造,0 明可種一三種苯構03 發它這具及這基式-0 本 - ,於聚用按下 I M物關 二及一EP 乙 合還於 以 α 利 ^衣 . (请先閲读背面之注意事項畀填寫本頁) Μ濟部中央樣準局員工消費合作社印策 0 Ri
II I
Ar —C—C — NR3R4 (a) r2 其中提到了它偽做為輻射線引發之聚合作用的出色之光引 發劑,用於將乙撐式不飽和之單體,寡聚物或聚合物之化 合物作光聚合。其缺點為會産生低分子之片段,它們舉例 而言,偽由於轉移(Migration )而從一聚合物抱出,且 點作 α .但鍵 缺核中基 α 直 他基結能上當 其苯鍵官核為 及之物作基因 點劑合當苯 , 缺發聚基到題 種引之酸接問 這光生氛 } 的 免將産異基大 避到所把撐很 了提在有烷有 為中合也 鏈面 ο41結中直方 低,9牢式 一成 減 U 牢方如合 質-2物的例在 性-Α産通 ί 造 用ΕΡ解普基製 利利光偎隔的 其專得 ,間物 使洲使的 !.合 會歐 目 經化 而在性此們些 因 ,改為它這 本紙張尺度逋用中國國家標率(CNS >人4说格(2ΙΟΧ297公釐) 4 34 456 A7 B7 五、發明説明(» 一異氰酸酷與含徑基化合物作用時,無法避免或克服雙加 合物(Diaddukte)的形成。 因此需要一種可簡輩製造的官能基光引發劑,它們可 製成高純度,且具有高反應能力及儲存安定性,它可以高 效率沈積到製高分子光引發劑的適當之寡聚物或聚合物上 ,它適用於藉光引發之嫁接聚合作用將表面(尤其是塑瞟 表面)改性,且它也可用於與生物相容之材料(尤其是生 物醫學領域者)。Η發現,如果使用二異氰酸酯以引入異 氟酸基,該二異氰酸酯含不同反應性之異氰酸基,且它們 與α -胺基苯乙酮〔其苯基核中帶有式(Κ)之適當官能 基〕作用成式(i)的化合物,則可達成此目的,其中利 用高度區域選擇性將異構物及其他副産物的形成作用壓制 0 式(ί )的化合物 0 0 Rt D Rg — NH- C - Y - X 1 "《^— C — C —~· NR3R4 (I)
R I- -I ί ·- I -I·I - HI I , 士,In I - 11 I - -I— 1 X* HI (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消費合作杜印製 的 價 雙 為 X 中 其 Η Ν
S 或 撐 烷 低
2 Η C , ( 接 - 連 ο X - 鄰 或相 結之 鍵中 接丨 直 *—* 一( 為式 Υ 與 基 中 其 為 η Z Η C 端 末 其 數 整 之 6 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(2!0Χ2们公釐) t 434456 經濟部中央標準局員工消黄合作社印製 A7_B7^_五、發明説明(今)» Ri為直鐽或分枝之低烷基*低烯基或芳基低烷基;R2與Ri不相關地表示與Rl相同之意義或芳基, 或R!與1^ 一齊表示一 (CHz ) 其中m為1〜6之 整數; R3與R4互不相關地表示直鐽或分枝的低烷基(它 可被Ci〜C4烷氣基取代),芳基低烷基,或低烯基; 或者 R3 與 R + — 齊表示一 (CHz ) z-Y — ( C Η 2 ) ζ—,其中Υι為一直接鍵結,一 0-,一 S_,或一 NR: B_,且Ri B為Η或低烷基,且z為2〜4之整數 J R5為直鐽或分枝之C3〜Ci 8之烷撐,未被取代 或被Cl〜C4烷基或Ci〜C4烷氣基取产之c6〜C! 〇 芳撐,或未被取代或被Ct〜C4烷基或c t〜C4烷氯 基取代之C2 -Ci 3芳烷撐,未被取代或被Ci〜c4 烷基或Ci〜C4烷«基取代之Ci 3〜C2 4芳撐烷撐 芳撐,未矽取代或被Ci〜C4烷基或C,〜C4烷氣基 取代之C3〜Cs環烷撐,未被取代或被匚1〜C4烷基 或C!〜C4烷氧基取代的C3〜C3之璟烷撐-CyH2 y —,或未被取代或被C!〜C4烷基或Ci〜C +烷氧基 取代之- CyH2 y- (C3〜Cs環烷撐> -C yH 2 y - ,D為一異氡酸基 X宜表示一 0 —, — NH — , 或低烷撐。X甚-5-本紙張尺度適用中國國家標毕(CNS ) A4规格(210X297公釐) n n I 装 I I —訂— I 抓(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 訂 經濟部中央標隼局員工消費合作社印繁 五、發明説明(7 ) 1 , 3 —環戊搜 或1 , 4 _環庚 撐、4 一甲基1 1 , 4 -或 1 , 、4 —甲基一1 一環己撐、3 — 撐、3 , 5 -二 —1 , 4 一環己
如果R 5為 C y Η 2 y -以 未取代者,或者 甲基)取代者。 4的整數基團一 一些例子為:環 1 一基一 3甲撐 撐或3,4 , 4 -1 —基-3 -環己一1 一基一 二甲基一環己_ —或 3 , 4 , 4 —3 —或一4 — 如果R 5 — 一,則宜為_ C 1 1 3 — 或 1 t 4 撐 % 1 t 3 — 或 1 , > 3 — 環 戊 撐 > 4 — 5 — 環 辛 撐 、 4 — 甲 t 3 — 環 己 撐 、 4 f 甲 基 — 或 3 * 3 — 二 甲 基 — 1 , 3 — 璟 己 撐 〇 環 烷 撐 一 C y Η 2 y 及 待 別 是 環 己 撐 — C 宜 為 被 1 到 3 個 C 1 在 基 團 — C y Η 2 y C y Η Z y — 宜 表 示 戊 — 1 — 基 — 3 甲 撐 3 j 4 — 二 甲 基 — — —" 甲 基 — 環 戊 — 1 或 — 4 — 甲 撐 3 — 3 — 或 — 4 甲 撐 > 1 一 基 — 3 — 或 — 4 — 或 3 5 » 5 — 三 甲 撐 〇 表 示 - C y Η Ζ y — y Η Ζ y 一 環 戊 撐 一 一環己撐、1 , 3 — 4 一或1 , 5 -環辛 環庚撐、1 , 3 -或 基一1, 3 —環戊搜 4 —二甲基一 1, 3 甲基一1 , 4 —環己 撐、2 , 4 -二甲基 ,則宜表示環戊撐-yHz y-,它可為 〜C 3烷基(特別是 —中,y宜表不1〜 乙撐,尤宜為甲撐。 、3 —甲基一環戊— 環戊一 1 —基一 3甲 —基~3甲撐、環己 或4 —或5 -甲基一 3 , 4 -或 3 , 5 -—甲撐、3 , 4 , 5 甲基一環己一1 —基 環己捜一 CyH2 y CyH2 y —,且尤 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 4 34 45 6 A7 B7 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製
五、發明説明( Ϊ ) I 1 宜 為 一 0 — 或 — S 一 1 尤 宜 為 — 〇 — 0 1 | 在 - Y 較佳 定 義 中 t 指 數 y 為 1 5 且 更 宜 為 2 1 4 > 極 宜 為 2 —S_r 3 1 因 此 * 舉 例 而 言 , Υ 1 0 表 示 乙 烯 氧 -—V 請 先 1 基 或 丙 烯 氯 基 0 在 另 較 佳 定 義 中 i Y i 0 表 示 一 直 接 鍵 閲 讀 1 背 i 結 1 其 中 X 則 宜 至 少 表 示 或 含 有 一 痼 雜 原 子 ( He t e Γ 0 a t 0 ID 面 之 1 注 I ) 意 I 0 事 1 項 I 基 團 R 宜 含 有 〇· 院 基 r 院 氧 基 院 基 N Η — 或 一 Ν R 再 ά ί A R ί B形 式 之 1 — 6 値 ( 且 尤 宜 為 1 __ 4 値 ) 磺 原 子 寫 本 裝 頁 t 一 lit 例 子 為 甲 基 乙 基 9 正 — 或 異 乙 基 , 正 — 異 — 或 第 1 1 二 丁 基 > 戊 基 1 己 基 t 辛 基 » 癸 基 t 十 二 基 r 甲 氣 基 t 乙 1 1 氯 基 * 丙 氣 基 f 丁 氣 基 > N t N — 二 甲 基 胺 基 及 N 一 甲 基 1 1 胺 基 〇 R 尤 宜 為 Η 〇 較 佳 之 — N R I A R ί B的 偽 為 N f N 訂 I — 二 甲 基 胺 基 i Ν 一 甲 基 胺 基 1 N — 甲 基 — N — 乙 基 胺 基 1 I f N 一 乙 基 胺 基 » Ν 4 N — 二 甲 基 胺 基 ) N — 異 丙 基 胺 基 1 1 或 N N — 二 異 丙 基 胺 基 0 1 \ R 1 宜 表 示 烯 丙 基 t 苄 基 t 直 鋪 C 1 C 4 烷 基 糞 例 泳 I 如 甲 基 或 乙 基 〇 1 1 R Z 宜 與 R 1 表 示 柑 同 意 義 1 甚 宜 為 C 1 C 4 直 m I 1 I 低 院 基 * 尤 宜 為 C 1 C Z 者 〇 R 1 可 表 示 芳 基 > 如 萘 基 ! 1 r 尤 其 曰 疋 苯 基 • 它 可 為 未 取 代 或 被 低 烷 基 或 低 烷 基 取 代 1 1 者 0 如 果 R i 與 R Ζ — 同 表 示 一 ( C Η 2 ) JQ - 貝 J m宜為 I 4 或 5 * 尤 宜 為 5 〇 - 1 1 R 3 宜 表 示 C 1 C 4 之 直 鍵 低 烷 基 * 基 或 铺 丙 基 1 1 - 6 - 1 1 I 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 〇 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印笨 五、發明説明(t) •且極宜為甲基或乙基。 R +宜表示Ci〜C4之直鐽低烷基,且極宜為甲基 或乙基。 如果R3與R4 —齊表示—(CH2 ) i - ( CH2 ) Z,則丫,宜為一種直接鍵結,一〇 —或一 N (C H3 ) —,且最好為z宜為2〜3,且尤宜為2 〇 R5宜為直鐽或分枝的C3〜Ci is烷撐,未被取代 或被C i〜c4烷基或C ,〜C4烷氧基取代之cs〜c 1 0芳撐,未被取代或被Ct〜C4烷基或Ci〜C4烷 氣基取代之3〜4芳撐烷撐芳撐,或未被取代或 被Ci〜C4烷基或C!〜C4烷氣基取代之C3〜C8 環烷撐.且宜為直鏈或分枝的C3〜Ci i烷撐,未被取 代或被Ci〜C2烧基或Ci〜Cz院氣基取代之Cs〜 Ci。芳撐,未被取代或被(:1〜c2烷基或Ci〜c2 院氣基取代之C3〜Cz 4芳基烷基芳基,或未被取代或 被Ci〜CZ烷氧基取代之C3〜cs環院携。 —些直鏈C3〜Cl 8烷撐的例子為;1, 3 —丙撐 ,1,4 — 丁携 ' 1* 5 — 戊搜、1,6 -己携、;7 —庚撐* 1, 8™辛撐· 1,9-壬撐,1, 一癸搜 * 1, 11 一十一撐、1, 12 —十二撐、1, 14 一十 四撐與1, 1 8 —十八撐。 一些較佳之分枝C3〜Ct 8烷撐為2, 2_二甲基 裝 i I __ I __ 订 I 热 (請先閱讀背面之ii意事項再填寫本頁) 本紙伕尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨0 乂297公釐} 4 34 4 56 A7 B7 五、發明説明U ) 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 一 1 » 4 — 丁 撐 S 2 9 2 一 2 » 3 — 或 2 » 2 • 4 一 二 — 二 甲 基 一 1 t 6 — 己 撐 \ 或 2 » 2 , 5 二 甲 基 1 > 1 1 7 — 庚 撐 2 2 t 3 5 或 2 1 2 t 6 — 三 甲 基 甲 基 — 1 i 8 — 辛 撐 、 2 , 2 9 5 — 或 2 9 2 1 6 — 一 辛 撐 0 如 果 R 5 為 芳 撐 9 則 宜 撐 為 披 取 代 者 » 則 取 代 基 宜 0 取 代 芳 基 的 例 子 為 1 — 甲 二 甲 基 — 2 » 4 苯 撐 % 1 — 甲 基 — 2 , 7 — 萘 撐 0 如 果 R 5 為 烷 撐 則 撐 > 芳 院 撐 中 之 烷 撐 基 宜 為 C 6 7 待 宜 為 C 1 C 4 0 或 乙 撐 a 芳 院 撐 中 之 院 撐 基 為 1 9 3 — 或 1 * 4 — 苄 撐 — 甲 基 — 1 * 3 — 或 1 i 4 或 1 9 4 — 苄 撐 0 如 果 R 5 為 環 烷 撐 » 則 為 未 取 代 或 被 甲 基 取 代 者 二甲基一 1, 5 -戊撐、2, 甲基一1, 5 —戊撐、2, 2 2, 2,3 —或 2, 2, 4-6 —己撐、2, 2 —二甲基一 —或 2, 2, 4_ 或 2, 2, -1 , 7 - 庚撐、2, 2-二 2, 3 — 或 2, 2, 4 —或 2 或2, 27 —三甲基~1, 8 為蔡撐,尤宜為苯撐。如果芳 在對一異氡酸基的「鄰j位間 基一2, 4 — 苯撐、1, 5 — 甲氣基一2,4—苯撐與1— 宜為萘基烷撐,尤宜為酚基烷 Ci〜(::2 ,尤宜為Cl〜 最好芳烷撐中之烷撐基為甲撐 最好為甲撐或乙撐。一些例子 ,萘一 2 -基一 7 —甲撐、6 一苄撐,6 —甲氣一1, 3- 宜為C5或(:6環烷撐,它可 一些例子為1 , 3 —環丁撐、 8- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 訂 本紙浪尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨〇 X 297公楚) B7 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 五、發明説明 1 宜 為 — C y Η 2 y 一 環 己 撐 — C y Η Z y — Ϊ 它 可 為 未 取 1 代 者 或 宜 為 被 1 到 3 値 C i C 4 烷 基 ( 尤 宜 為 甲 基 ) 取 1 代 者 0 在 一 C y Η Z y — 基 團 中 i y 宜 表 示 1 4 的 整 數 请 1 先 1 〇 基 團 — C y Η Ζ y — 宜 為 乙 撐 f 且 尤 宜 為 甲 撐 0 — itt 例 閲 讀 1 背 1 子 為 環 戊 基 1 » 3 — 二 甲 撐 3 甲 基 一 環 戊 基 — 1 * Sj 之 1 3 — 二 甲 撐 3 » 4 — 二 甲 基 環 戊 基 一 1 > 3 一 二 甲 撐 > >主 意 舉 1 1 3 > 4 一 三 甲 基 環 戊 基 — 1 » 3 一 二 甲 撐 、 環 己 基 1 項 再 1 、、 填 3 — 或 一 1 , 4 一 二 甲 基 » 一 或 4 — 或 5 一 甲 基 環 己 基 寫 本 裝 頁 1 — 1 1 3 — 或 一 1 t 4 一 二 甲 撐 3 1 4 — 或 3 9 5 — 二 1 甲 基 環 己 基 — 1 3 — 或 — 1 * 4 — 二 甲 撐 3 • 4 5 1 1 — 或 3 4 * 4 — 或 3 5 t 5 — 甲 基 環 己 搜 — 1 • 3 1 I — 或 一 1 4 — —. 甲 撐 0 訂 I 一 種 式 ( I ) 化 合 物 之 較 佳 次 基 團 中 R 1 表 示 直 線 1 1 I 低 院 基 低 烯 基 或 芳 低 院 基 R 2 與 R 1 不 相 干 地 表 示 與 1 I R 1 相 同 之 意 義 或 芳 基 , R 3 與 R 4 互 不 相 干 地 表 示 直 線 1 或 分 枝 之 低 院 基 ( 它 可 被 C 1 C 4 烷 氣 基 取 代 或 低 沐 1 烷 基 或 低 烯 基 或 R 3 與 R 4 一 同 表 示 一 0 C Η 2 ) 2 — 1 1 Y 丄 I 一 ( C Η Ζ ) ζ - i 其中Y i 為一 -直接鍵結, -0 - 1 1 1 一 S 一 * 或 - Ν R 1 B - * 而R 1 B為 Η 或 低 院 基 » 且 2 1 1 為 2 4 的 整 數 R 5 為 直 線 或 分 枝 之 C 3 C i 8 烷 撐 1 * 未 取 代 或 被 C i C 4 烷 基 或 C 1 C 4 氧 基 取 代 之 1 C β C 1 0 芳 撐 或 者 未 取 代 或 被 C 1 C 4 烷 基 或 1 C 1 C 4 院 氧 基 取 代 的 C 7 〜 C S 芳 烷 撐 > 未 取 代 或 被 1 1 10 - 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 4 4 經濟部中央標準局員工消费合作社印裝 A7 B7 五、發明説明q )
Cl〜c4烷基或Cl〜烷氧基取代的c〗3〜C2 4芳撐烷撐芳撐,未取代或被C!〜C4烷或Cl〜Cl 烷氣基取代之C3〜c3璟烷撐,未取代或被Ci〜C4 烷基或C,〜C4垸氧基取代之c3〜C3環烷撐一 Cy H2 y_或者一CyH2 y - (C3〜Cs環烷撐)一
CyH2 y—,其中y為1〜6之整數。 一種式(I )之化合物的較佳次基團中.X為雙價之 ~ , - N Η - , - S- ,或一(CHs) y-;Yi〇 為一0— (CHz) y-或一直接鍵結.其中y為1〜6 之整數,且該末端CHZ _基與式(I)中相鄰之X嫁接 ;Ci〜C2院基或Cl〜Cl 2院氣基Ri為 直線低烷基低烯基或芳基低烷基;R2與R I不相干地表 示與Ri 〇 1相同之意義或芳基,或者Ri與Rz —齊表 示一 (CH2 ) π-,其中m為2〜·6的整數;R3與1?4 互不相干地表示直線或分枝之低烷基(它可為Ci〜c4 烷氣基取代者,芳基低烷基或低烯基;或者與R4 — 齊表示一(CHz) z- Y 1 - ( c Η 2 ) ζ,其中 ¥^為 一直接鍵結,一 0 — , — S —,或一 NR! Β-.而 R! Β 為Η或低烷基,z為2〜4的整數;Rs為分枝之C€〜 Ci 〇烷撐,苯撐或被1〜3個甲基取代之苯携*节按或 被1〜3茴甲基取代之苄撐,環己撐或被1〜3値甲基取 代之環己撐,環己撐一 CH2 —或用1〜3個甲基取代之 環己撐一C Η 2 -。 -1 1 - 本紙法尺度適用令國國家標準{ CNS > A4規格(210X297公袭> |_^-------rl*衣------1T------^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本育) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 “ 434456 A7 B7五、發明説明(丨〇 ) 式(ί)的化合物的一種恃佳之次基團中,Ri表示 甲基,烯丙基,甲苯基甲基或苄基,R2為甲基,乙基, 苄基或苯基,或者R!與只2 —齊表示戊基甲撐,R3與 R4互不相干地表示含多可逹4個碩原子的低烷基,或 R3 與 R + — 齊表示—CH2 CH2 OCHz CH2 R5為分枝之C6 〇 —烷撐,苯撐,或被1〜3値 甲基取代之苯撐,苄撐,或被1〜3傾甲基取代之苯撐, 環己撐或被1〜3個甲基取代之環己撐,環己撐一CH2 -或被1〜3個甲基取代之環己撐一CH2 —。 基團R5待別指減少OCN —基團或NH2 —基團或 罩接之NH2 -基團的反應性者,這點主要傜由於在至少 一相鄰碳原子上的立體空間位阻效應或電子影逛而達成。 因此R s宜為在對於例如Ο C N —基的α _位置或持別是 在Θ —位置分枝的烷撐,或是至少在一 cc位置如定義取代 之環烷剩餘基。 ---i ^^^1 1-· »1 - - - 士 ΰΐ. - m nf I - \ J - . —ii - i a^i— {,vs务 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4*見格(210 X 297公釐) ^ 434456 A7 B7 五、發明説明(丨i ) 一個待佳化合物的例子為:
h3c CH, 3 H3C"T j'CfVNCO NH-C(0)-0-CH2CH2-〇.p-C6H4-C(0)-C(CH3)2-N-Morpholjnyl
i 1^1 ^^^^1 tf^l TJ 、-° (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 OCNCH2C{CH3)2CH2CH(CH3){CH2)2NHC(0)0(CH2)20 —/ C(0)C(CH3)2N-Morpholinyl CHn NH·
NCO C(〇)-a(CH2)rqpC6H4-C(0)-C(CH」)2-關。rpj^yj 13- 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4規格(2S0X 297公釐) 434456 A7 B7 五、發明説明(|1 式(I)的化合物可用習知方式,將二異氰酸酯與相 度例同加礙如 法 純丨不雙阻例 方 及基個 與間, 的 物酸二物空接 物 産 I 有構 用罩 合 物H具異利基 化 合性用制述酸 的 化醮利壓前氰 ) 得反是步如異 I 所同的一可値 { 。 不利進 -1 式 成種有可性的 種 製二別此應中 一 而加特如反酯 造 用時 。為同酸 製 作同然因不氰 為 劑中亦 ,成異 的 作劑 } 基達二 。檫 發發基酸要将胺 一 引引 Η 氰 。可基 另 光光 ο 異成也烴明 酸使 I 的形 。或發 一 即値性的成酸本 Η ,二應物逹羧 關高如反合而用 I.-----^---",裝-- (請先閱请背面之注意事項再填寫本頁) 其中利用一種式(I)的化合物 H-Y-X·
0 C — C-NRgR^了 i2 R (Π), 訂 經濟部中央標率局貝工消費合作社印策 其中X, Y, Ri , R2 , R3與R4之意義如前述 ,且宜在一惰性有機溶劑中與一種式(B)的異愾酸酯或 一種可能有一異氛酸基被罩接的異氰酸歯作用: ocn-r5-nco m, 其中Rs意義同前述。 罩接劑在胺基甲酸樹脂化學方面像習知者,例如,它 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4現格(2丨0X297公釐) 經濟部中央標萆局貝工消費合作社印袋 L 434456 A7 B7___五、發明説明(l)) 可為酚類(甲酚,二甲苯酚),内醯胺(ε~己内醇胺) ,肟(丙_肟,二苯甲酮肟),Η活性甲叉化合物(二乙 基丙二酸酯,乙基乙醯乙酸酯),吡唑或苄三罩接割 例如由 Ζ. W. Wicks, Jr.在 Progress in Organic Coating, 9(1981)第 3 〜2 8 頁中提到。 式(la)或(ttb)類型之離析物(Edukte)偽習 知者,例如歐洲專利EP-A- 2 8 4,5 6 1 , EP-A - 1 1 7,233或 EP-A-Q88 , Q5 Q所述。 適當之惰性i容劑為非質子性溶劑,最好為極性者,例 如烴類(石油醚,甲基環己烷,苯,甲苯,二甲苯)_鹵 化烴(氯仿,氯化甲叉,三氯乙烷.四氣乙烷,氣苯), 醚類〔二乙基醚•二丁基醚,乙撐二乙醚二甲基艇.二乙 撐乙二醇二甲基醚,四氫呋喃(THF),二噁烷〕,酮 類(丙酮,二丁基酮,甲基異丁基酮),羧酸醋與内酯( 醋酸乙酯,丁内酯,戊内酯),烷基化羧醛胺〔N, N — 二甲基乙醯胺,N, N-二甲基甲醯胺(DMF)或N — 甲基一 2吡咯烷酮(NMP)〕腈類(乙腈),明1®與亞 瞄〔二甲基亞碾(DMSO),四甲撐嗍遇]。最好使用 極性溶劑。 反應物宜以等莫耳量加入。反應溫度舉例而言,可為 從0〜2001C。當使用催化劑時.可適當地在- 20。 〜60 °C範圍,旦宜在一 10°〜5〇t:範圍c·適當催化 劑的例子有:金屬塩,如羧酸鹼金颶塩,第四胺,例如( -15- ---------裝------訂------^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 4 3445 6 Α7 Β7 經濟部中央樣準局員工消費合作社印裝 五、發明说明([4) 院基)3 N (三乙基技,三—η— 丁基胺), Ν-甲基毗咯烷麵.Ν—甲基嗎福啉,Ν, Ν—二甲基锨 啶,吡啶與1 , 4 —二氮雜一雙環辛烷。錫化合物顯示持 別有效,尤其是羧酸之烷基錫塩,例如二月桂酸二丁基錫 ,或例如二辛酸錫。 只要式(I )的化合物中有自由Ο Η _或Ν Η —基, 則它們在與二異氮酸基作用時.舉例而言,可先用適當保 護基作保護*然後再把保護基斷裂而游離。適當之保護® 對行家而言偽習知者代表性的例子由T_ W. Sreene , "Protective Groups in Organic Synthesis", Wiley Interscience, 1981 可看到。 所製之化合物的隔離與純化的作業用習知方法,例如 萃取,结晶,晶析或色層圖純化法。所得化合物之産率及 纯度很高。在方法未最佳化時,産率已可超過理論值的8 5 % , 式(I)之化合物做為乙撐式不飽和之可游離基聚合 之化合物的光引發劑出奇地適合。在此情形中.如此所製 之寡聚物與聚合物帶有一個,二値或更多之末端異氰酸基 。本發明另一標的偽使用式(I)的化合物以作乙撐式不 飽合可游離基聚合之化合物的光引發劑。 式(I)之化合物做為製造寡聚物式或聚合物式光引 發劑出奇地適合,它偽與官能基寡聚物或聚合物(其末端 基團或制基含活性Η原子.例如OH —或NH—基)作用 -1 6 - -- HH HH m n^i ^^^^1 —tr^i ^^^^1---OJ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標华(CNS } A4規格(210X297公釐) 4 3 4 4 5 5 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明((7) 。這種高分子光引發劑的持色為良好之相容性與高效率, 其中,舉例而言,光化學分解産物呈鐽起始物或鏈中斷物 形式共價结合在所形成之聚合物中,因此使用壽命可以很 長。另一好處偽光聚合化物之持別構造,因為聚合物鐽在 高分子光引發劑上呈末端或《基嵌段(Block)形式生長, 如果更進一步造成更有利的使用性質。適當選择寡聚物或 聚合物,可將光聚合物中之性質依希望做調整。 本發明另一標的為寡聚物或聚合物,該聚聚物或聚合 物的脊柱上可經一架橋基接上末端(1或2個基團)或側 基(1或多値基團)結合之Η —活性基,一 〇H及/或一 NH-,或帶有結合在寡聚物或聚合物脊柱中之Η-活性 的—ΝΗ —基,其Η —原子部分地或完全地被式(IV) 的剩餘基取代〇 0 R, -CONK— Rs_ NH- C - Y - X—^-C-C NR3R4 (IV), T r2 R 、X 丫 其中尺,尺1,1^2,尺3,114,只,具前逑意義。 H—活牲基宜為一 CO〇H, — 〇H或_NH —基„ 寡聚物舉例而言,可具平均分子量300〜1000 0道爾頓,且宜含至少3値(更宜為3〜50,尤宜為5 〜2 0齒)搆造單元。寡聚物與聚合物間的過渡傲習知方 式漸進者,並無明確界限。聚合物可含50〜1 0000 ft 裝 I — H 訂 I— I -0-. {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國囷家標丰(CNS ) A4規格(210X297公釐) d 34 45 〇 μ Β7 經濟部中央標窣局員工消費合作杜印製 五、發明説明(ί ^ ) 1 m 溝 造單元, 且 宜含 5 〇〜 5 0 0 〇 m * 平 均 分 子 量 10 1 [ > 0 0 0〜1 » 0 0 0 ,〇 0 0 , 且宜 為 1 〇 t 0 0 〇〜 1 1 5 0 0,00 0 。寡 聚 物與 聚合 檢 亦可 含 多 達 9 5 % (莫 請 1 9 0 閱 I 耳 比 >無Η — 活 性基 之 共聚 物構 造 ata — 単兀 i 且 宜 為 5 讀 背 1 I 1 | % 莫 耳(相對 於 聚合 物 )〇 之 注 I I 含Η ·活 性 基的 寡 聚物 與共 聚 物可 為 天 然 或 合 成 之寡 意 事 1 項 1 聚 物 或聚合物 0 再 填 衍生 寫 裝 1 天然寡聚 物 及聚 合 物的 例子 有 :寡 醣 與 多 醣 及 其 本 頁 物 » 蛋白質, 糖 朊, 酶 ,及 生長 因 子。 一 ft 例 子 為 環糊 1 1 精 » 澱粉.玻 璃 酸. 除 乙醯 之玻 璃 酸, 甲 殼 聚 糖 ( I I Ch it 〇 s a η), 葡 聚糖 t 海藻 糖, m 維雙 糖 » 甲 殼 糖 ,璜 1 訂 脂 糖 ,幾丁質 5 0 , 直 _澱 粉. 肝 素( He pa r i η) * 木聚糖 1 1 * 果 膠,半乳 聚 糖, 聚 半乳 糖胺 > 葡糖 基 胺 聚 糖 ί 1 1 G1 y c osaminog ly cane ) .Μ 聚糖 ( Pex t r a η) t 胺基化葡聚 1 | 糖 » 缕維素, 羥 基烷 基 缠維 素· 羧 醯基 院 基 m 維 素 » 肝素 1 路 * 類 岩藻聚糖 ( Fu c 〇 i d d a η) ,硫酸軟骨素, 硫酸化聚_, 1 黏 聚 賭.明_ 參 玉米 fl元 (Ze in) * 膠原 I 白 蛋 白 > 球 蛋白 ! 1 i 瞻 紅素,卵 白 朊( Oc a 1 b u min) r 角蛋白, 纖維蜜素( 1 I Fi br 〇ne c t i η) 與玻璃蜜素 (Vit r ο n e c t in) , η 蛋 白 酶, 1 I 胰 蛋 白酶與溶 菌 酵素 ( L y s ο zy m) ο 1 合成寡聚 物 與聚 合 物可 為含 有 基圃 — C 0 0 Η * -0 1 Η » -Ν Η 2 或 -N Η R 6 者, 其 中R 為 C I C έ烷 1 I 基 0 合成寡聚 物 與聚 合 物的 例子 有 :乙 烯 基 酷 或 — m (聚 1 I - 18' 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS〉Α4規格(210X297公釐) 4 3 4 4. 5 6 A7 B7 經濟部中夫標準局負工消費合作社印製 五、發明説明〆7 ) 乙烯基醇)的皂化聚合化物,羥基化之聚二®,如® 丁二 烯.聚異戊間二烯或氨丁二烯,聚丙烯酸及聚用基丙播酸 與聚丙烯酸酯,聚甲基丙烯酸酯.聚丙烯廳胺或聚甲基丙 烯醯胺,其酯基或醯胺基中可以有羥基烷基一或按基院基 剩餘基;聚矽氧垸,可含羥基烷基-或胺基烷基的基圃; 由環氣化物或縮水甘油化合物及二醇生成之聚醚 <可能胺 基化):聚乙烯基酚或乙烯基酚與烯式共單體的共聚合物 ;以及至少一種單髏的共聚合物,此單體可為:乙烯基醇 ,乙烯基毗咯烷酮,含羥基烷基或胺基烷基的丙烯酸,甲 基丙烯酸,或丙烯醯胺或甲基丙烯隨胺,或者帶有乙烯式 不飽和共單體之二烯羥基化過者).如丙烯腈,烯類,二 烯,氣化乙烯,氣化乙烯叉,氟化乙烯,氟化乙烯叉,苯 乙烯,α —甲基苯乙烯,乙烯基醚類與乙烯基酯類;聚噁 烷撐.它們可帶有末端之0Η -或胺基烷氣基圑。 較佳之寡聚物與聚合物的例子有璟糊精,它具有6到 8鏟構成一環的«萄糖構造單元或者羥基甲基一或胺基甲 基衍生物或另外被葡萄糖一或麥穿糖醣取代之衍生物,其 中至少有一構造單元具下式(V) CHnXiRy
x,r9 其中R7 , R 8 , R9互不相干地表示H, C L〜 -1 9- 本紙張尺度適用中国國家樣準(CNS ) A4規格U10 X 297公釐) (请先閲讀背面之注意事項再填寫本f ) 袈 訂 Λ3ΑΑ56 ^ A7 B7 五、發明説明(if) C +烷基,(尤其是甲基),C2〜Ci Μ基,Ci〜 C4羥基烷基,(.尤其是烴甲基或2 —烴一乙一 1 一基) 或3胺基烷基(恃別是(:2〜(:4胺基烷基,洌如2-胺 基乙一 1基或3-胺基丙-1 一基或4_胺基丁 - 1 一基 ),Χι表示_〇 —或—NRi B—,其中每個環糊精單元 可表示缠共1〜10個Xt - NBt B -且宜為1〜6個, 而剩餘之Xi表示—0 —,其中R: B為氫或低烷,且至少 剩餘基R 7 , R 3 , R 9中有一値表示式(V I )的剩餘 基: (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 〇 O Rt _R10 — CONH R5-NH-C- Y -X —_i^~C-C-NR3R4 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 其中 R, R i , R 2 , R 3 , R 4 , Rs , X 與 Y 意 義同前述。 Ri 〇表示一直接鍵結,一(Ci〜CS —烷撐一0 )—或一 (Cz — C1〇 —烷撐一NH)—,其中的雜環 原子與式(VI)的羰基結合。 在一較佳實施例中萄糖單元至少有一半到全部S 〜8値含有至少一個式(VI)的剩餘基。 -20- 本紙珉尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ^ 4 3Λ45 5 A7 ____—_B7 五、發明説明(^) 此外一較佳實皰例中,只有一葡萄糖單元帶有式( V I )的剩餘基。R , R 1 , R 2 ,R 3 ,R + , R 5 X與Y較佳意義同前述。Ri 〇宜表示一直接鍵结 一 CHz 0, - CHz CH2 - 0- , - CH2 CHz NH -或- CH2 CH2 CH2 nH-〇 其他較佳之寡聚物與聚合物的例子傜寡砂氣院與聚砂 氣烷,在其烷基一,烷氧烷基〜或胺基烷撐末端基或側基 鏈中有0H —或NH2 —基,其Η —原子被一脑本發明的 光引發物取代。它亦可為統計式或嵌段寡聚物或嵌段聚合 物。 較佳之寡聚物與聚合物為: (a) 50〜100%莫耳之式(VJI)的搆造
Rii 、 ——s\——ο— (VII), R12 Χ:-Ru . I I ~Ί- I ! - ^ 1KI n I I ,1τ I i I I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 5 9 '—/ b 式 之 耳 莫 % ο
一7C 造 構 的 \J-I V 1 RI,
Vi· ό 14 R1 本纸乐尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 4 34 456 A7 B7 五、發明説明(/) %係依寡聚物或聚合物為準,其中R, ^為可部分或 完全被F取代之Ci〜C4烷基,低烷基,氣基低烷基或 芳基,且宜為甲基,乙基,烯丙基,苯基,氡基丙基或三 氟甲基,Ri 2為C2〜C6之烷撐,且宜為1 , 3-丙 撐或一次或多次被一 0 —或一 NH —中斷之烷撐,例如-(C H e ) ζ- ( 0 - C Η 2 — CHCH3 ) ζ-或-( C Η z ) ζ- (O-CHz - CH2 ) z—,較佳之例子如 -(C Η 2 ) 3 — (0 — VCH — CHCH3 - ) 2 ' , 其中ζ為2〜4之整數,Ri4與Ri 1意義相同或表示 —R! 2 — Χι — Η 或—Riz — Χι — Ri s — Η, X !為-0 —或一 ΝΗ — , R! 3為式(IX)之剩餘基。 ΐ - -· I ^^^^1 士 一aJ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作杜印繁 〇 0 Rt -闩 15'~ C0NH Rs— NH- C - Y - X C - C-- NR3R4 (仪)T R, R 其中 R, Ri , R2 , R3 , R4 , R5 , X 與 γ 意 義如0U述,而Ri 5為一直接鍵結或一基一 C (0)—( CHOH) r-CH2 ~〇—,其中r為0或1〜4的整數 。R, Ri , Rz , R3 , , Rs , X與 Y 適用前述 -22- 本紙張尺度逋用中國國家標牟(CNS ) A4規格(2丨0X297公釐) w 4 34 45 6 A7 ___B7____五、發明说明(-yf )較佳意義。Xi宜為一 NH-。較佳的寡聚物或聚合物矽氣烷為式(X )者:
R 1 1R1
R — 「 τχ I R I g .0?
Ru R 基 中烯 其乙 基 , R 撐 _ 烷為 6 或 C 同 ~ 相 烯且 c R 之 , 代基 取 甲 F 為 被宜 全且 完 -或基 分苯 部 , 可基 為丙 烷 4 c 2 c 為 z -----I ^^^1 -—^^1 iu^i ^^^1 i ^^^1 I (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 為 宜 3 Ζ
X - R 撐一 丙或 I Η
R
Z
R 義 意 -ίτ 或 ο I ο ο 1 _ ? 為 ο 1 為 X 宜 1 且 Η , I 數 Η Ν
R 聱之 之} ο X ο το ( 1 式 ~ 逑 ο 上 為個 S 一 , 為
R C , I 4 基 R 一 , 或 3 結 R 鍵 , 接 Ζ 直 R 一 , 為 1 in R 1 , R R , 中逑 其前 , 同 基義 餘意 0 Y
與 X ο 經濟部中央標準局員工消費合作社印袈 ο , H R 〇 C 〇 義 ( 數意
X
H R 宜 ο 1 2 Η C Γ 或 ο 為 Γ 中 其 整 的 4 R -, Η 2Ν R I , 為
R
佳 較 逑 前 用 適 Υ 5* 與 X 醇地 基分 烯部 乙子 聚原 及 Η I 的 聚中 赛基 以 Η 偽ο 物在 合中 聚其 及 , 物物 聚合 寡聚 佳及 較饬 種聚 一 寡 另之 主 為
2 雙 Η或 C I 單 - 他 帶其 種之 一 烯 為帶 可或 它物 〇 聚 代均 取 的 基元 SHDL 焉 } 造 I 構 V - 式 Η 被 ο 全 ί. 完 Η 或 C 本紙伕尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4晚格U10X297公釐)
434453 A7 B7 五、發明説明(v>) 價構造單元的共聚物。 較佳之寡聚物及聚合物含有 (a) 5〜100莫耳%之式(XI)構造單元 —CH2-CH— (XI), 〇Rl6 及 (b) 95〜0莫耳%的式(XH)的構造單元 只18 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 *π 經濟部中夬標準局員工消費合作杜印製 其 中 R 1 6 為 前 式 ( V I ) 之 剩 餘 基 » 其 中 變 數 與 前 逑 同 4 包 含 較 佳 之 定 義 t 而 R 1 0 為 直 接 鍵 結 1 一 ( C 1 C 4 烷 撐 - 〇 — ) 0 或 — ( c 2 —'w c 1 0 院 撐 N Η ) — 赘 R 1 7 為 Η i C 1 c e 烷 基 t C 0 0 R 2 0 一 或 C 〇 一 1 R 1 8 為 Η f F t c 1 * c N 或 c 1 C € 院 基 4 R 1 9 為 Η * C I •"•w C 6 烷 基 » R z 0 為 一 0 一 i C 1 C 之 院 基 1 — C 〇 0 - t — c 0 〇 R Z 0 t 一 0 C 〇 — R Z 0 9 甲 基 苯 基 或 苯 基 t 其 中 R z 0 為 c l C i 8 烷 '24- 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) Α4規格U!0XM7公釐) 4 34 45 6 A7 B7 經濟部中夹標準局員工消費合作社印裝 五、發明説明( Τ' )) 1 1 基 t C 5 c 7 環 烷 基 9 ( C i C 2 院 基 ) 一 c 5 —s«· 1 1 C 7 — 環 烷 基 > 苯 基 ( C C 2 m 基 ) 笨 基 , 基 ! ! 或 ( C ·—Srf c Z 院 基 ) 苄 基 〇 Ν 請 I 先 R 1 7 宜 為 Η 0 如 果 R 1 7 為 院 基 * 則 宜 為 甲 基 或 乙 閱 讀 .Ί 背 1 基 ο 如 果 R I 7 為 一 C 0 0 R 2 0 t 則 R Z 0 宜 為 C 1 i~S_r Ι& 之 1 注 1 C I Z 院 基 尤 其 是 C C 6 院 基 意 事 1 如 果 R 1 8 為 烷 基 , 則 宜 為 C 1 C 4 院 基 > 例 如 甲 項 再 1 填 裝 基 , 乙 基 * 正 丙 基 及 正 丁 基 f R X a 宜 為 Η i C 1 > 或 C 寫 本 頁 1 i C 4 烷 基 0 S_^ ! 如 果 R 1 9 表 示 R Ζ 0 — 0 — » 則 R Ζ 0 宜 為 C 1 i 1 C 1 Z i 且 尤 宜 為 C 1 C 6 院 基 〇 如 果 R I 9 表 示 院 基 1 ! t 則 宜 為 C 1 C G ί 尤 宜 為 C 1 C 4 者 0 如 果 R I 9 訂 1 表 示 — C 〇 〇 R 2 0 — f 則 R 2 0 宜 為 C i C 1 2 r 尤 1 1 宜 為 C 1 ·">·«· C 6 院 基 t 環 戊 基 或 環 己 基 o 如 果 R 1 9 表 示 1 1 基 — 0 C 0 — R Ζ 0 t 則 R Z 0 宜 為 C 1 C 1 2 , 尤 宜 1 為 C 1 C 6 院 基 i 苯 基 或 〒 基 0 U. \ 在 — 待 別 實 施 例 中 ♦ R 1 7 表 示 Η r R 1 8 表 示 Η 1 1 1 I F 1 C 1 * 甲 基 或 乙 基 t R 1 9 表 示 Η , 〇 Η 1 F > C 1 1 ! , C N i C I C 4 烷 基 C 1 C β 烷 氣 基 f C ! C β i 1 羥 烷 氣 基 i 一 C 0 0 — C I — C 6 一 烷 基 9 0 0 C - 1 I C 1 — C β — 院 基 或 苯 基 0 1 1 1 待 佳 之 寡 聚 物 與 聚 合 物 中 R 1 7 表 示 Η i R I 8 為 1 1 Η 或 甲 基 t R 1 9 為 Η 〇 Η C N 甲 基 * 0 C Η 3 1 1 1 — 25 — 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS > A4規格(210X297公釐) 五、發明説明 A7 B7
0 ( C Η Ζ ) ίΟΗ 或- C00CH3 ,而 t 為 2 〜6 之整數。 另一組較佳之寡聚物與聚合物為部分地或完金地羥乙 基化之寡聚丙烯酸酯或聚丙烯酸酯或一甲基丙烯酸酯或-丙烯Μ胺或一甲基丙烯醯胺,其中初級羥基或胺基被一式 (IX)之剩餘基取代。舉例而言,它可含5〜100% 莫耳之式(xm的構造單元: R ζ 1 -C Η ζ - C
C ( 0 ) X 2 R 2 2 X 3 —R (XI) (請先閲讀背面之注意事項再填寫未頁) 裝. 及95~0%莫耳之式(XIV)的構造單元 經濟部中央標準局員工消費合作社印製
R 17
R 18 :Η ^24 26- 本紙伕尺度適用中國國家標芈(CNS )八4規格(2!0Χ 297公釐) (XIV) 4 34 45 6 A7 B7 經濟部中夹橾隼局員工消費合作社印製 五、發明説明(yf) 其中R2 i為?{或甲基,X2與X3互不相干地表示 -0 -或一NH —, R22 為—(CH2) c- , c 為 2 〜 12之整數,且宜為2〜6,R2 3為式(IX)之一剩 餘基.Rl 7與R, s意義如前述,*與^1 9意義 相同或為一C ( 0 ) X 2 R 2 2 X 3 Η 〇 R 2 3 , R t 7 ,s及R: 9適用前述之較佳定義a χ2 , 適用 前逑較佳定義。 另一種較佳寡聚物及聚合物偽由聚氧化烷撐合成者, 其中末端ΟΗ —或一 ΝΗ2基中的Η原子部分地或全部地 被式(IX)之剩餘基取代,例如,它可為具有相同或不 同之重現構造單一 〔CH2 CH ( R 2 〇 ) — 〇] —的式 (X V )之物: IV- [(CH2〒H—〇mR2s ㈣, &26 其中R2 s表示基R2 a — χ4或v —僂的一種醇或 多元醇的Ci〜Cz 〇剩餘基,R2 S為H, Cl〜c8 烷基,.且宜為Ci〜C4烷基,尤宜為甲基,R2 7與X 4 —齊表示一直接鍵結或R2 7表示Cz〜Cs垸撐,且 宜為c3〜C6烷撐,尤宜為1. 3 -丙撐.X4為一 〇 —或—ΝΗ — , R2 s為式(IX)之一剩餘基,u為一 窗3〜loooo之整數,宜為5〜5〇〇〇,尤宜為5 〜1000,最好為5〜100, v為1〜S之整數,宜 為1〜4。 — 27- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度通用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) b 434456 A7 B7 經濟部中央橾隼局員工消費合作.杜印裝 五、發明説¥ (ri) I i R Ζ t 可 為 種 醇 或 多 元 醇 的 βο 単 價 到 四 價 剩 餘 基 〇 如 1 1 I 果 R 2 S 為 一 種 醇 的 剩 餘 基 • 則 R Ζ 宜 表 示 直 _ 或 分 枝 1 1 之 C 3 C Ζ 0 烷 基 或 烯 基 1 C 3 C 8 ( 且 宜 為 C S 請 先 1 C 6 ) 環 院 基 t 一 C Η 2 ( C 5 C 6 環 烷 基 ) > C b 閱 讀 J 背 1 «Nr· C 0 芳 基 t 尤 其 是 苯 基 與 萘 基 » C 7 C 6 芳 院 基 面 之 1 注 1 t 尤 其 是 苯 基 與 1 - 本 乙 — 2 — 基 ο 環 脂 族 或 芳 香 烴 剩 餘 意 事 1 項 I 基 可 被 C C 1 S 院 基 或 C 1 c Q 院 氣 基 取 代 0 再 填 ] 如 果 R Z 為 一 種 雙 醇 之 剩 餘 基 » 則 R 2 5 宜 為 分 枝 寫 本 裝 頁 1 者 且 尤 其 是 直 m 之 C 3 C Ζ 0 烷 撐 或 烯 撐 * 且 宜 為 C 3 1 I •"w C 1 2 烷 撐 * C 3 C S — ( 尤 其 是 C 5 C »5 ) 環 烷 1 1 m 一 C Η Z — ( C 5 C <5 環 烷 基 ) — 9 — C Η 2 — ( 1 1 C 5 — C 6 環 院 基 ) — ( Η Ζ 一 9 C 7 —«W C 1 6 芳 院 撐 t 訂 t 尤 其 是 苄 撐 I 一 C Η 2 — { C € C 1 0 芳 撐 ) 一 C Η Z 1 I 一 且 尤 其 是 二 甲 苯 撐 〇 環 脂 肪 族 或 芳 香 族 剩 餘 基 可 為 C 1 1 1 •~>w C 1 Ζ 烷 基 或 C X C 1 Ζ 院 氧 基 取 代 〇 ! 如 果 R 2 為 一 —* 價 剩 餘 基 , 則 它 偽 由 脂 肪 族 或 芳 香 1 族 之 三 醇 衍 生 而 來 〇 R 2 宜 為 一 種 C 3 一 C 1 Ζ 之 二 價 1 1 脂 肪 族 剩 餘 基 尤 其 是 由 帶 初 级 羥 基 之 三 元 醇 衍 生 而 來 者 1 1 t 待 佳 者 R 2 為 — C Η ( C Η — ) C Η Z — t Η C ( 1 1 C Η Ζ C Η 3 C ( C Η Ζ — ) 3 〇 1 I 如 果 R 2 5 為 一 四 價 剩 餘 基 » 則 它 宜 由 脂 肪 族 四 元 醇 1 | 衍 生 出 〇 在 此 情 形 R 2 5 宜 為 C ( C Η 2 一 ) 4 〇 1 1 R Ζ 5 宜 表 示 由 J e f f a τη in e (τ ex a c 0 ) , 一 種 多 元 醇 1 1 - 28 1 1 1 .本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4規格(210X297公釐) 4 34456 (XVI) A7 B7 五、發明説明(1) ,一種Poloxajier(BASF) 或聚四氣甲叉衍生之_餘基c R2 s適用上述之較佳定義。特佳者為均寡聚物及嵌 段寡聚物與一聚合物,帶有下式一 〔CH2 CH2 ~〇〕 —或一 〔CH2 CH ( C Η 3 ) — 0〕—之構造單元3 式(:X V I )之氟化聚醇亦適合 ^25 [(CFjCF-O-Jj,,—R27—X4—R2g
I 其中R2 7 , R2 8 . X4 . u與V舆前逑同義, R2 5與前逑同義或具一種部分氟化或過氟化之Ci〜 C 2 〇 (宜為尤宜為C^eCe)之醇的 一價剩餘基.或一種部分氟化或過氣化之C2〜c6 (宜 為C2〜C4 ,尤宜為C2〜C3 )之雙醇的二價剩餘基 ,而Rd為F或Ci hCi 2 (宜為〜c6 ,尤宜為
Ci〜C4 )之過氟烷基。Rd尤宜為—CF3 。 II —1--.=---- ----I 訂 ------寐 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央橾率局負工消費合作社印繁 稀基定 方與 乙 I 佳 知物 聚 Η 較 習聚 如 Ν 之 以寡 ,中述 地基 胺其上 單能 聚 t 含 簡官 為 ,包 以 I 子 } } 可 Η 例 η 代 。法Ν 的mi取酸製或 物ni基胺的 I 合le餘離物 ο 聚hy剩 f 合 Η 與et之 Ε 聚與 杨ly} _ 與物 聚 I 聚物合 J 寡 ί V 為 聚化成 之胺 ί 者寡之達 當亞式合之 } 而 適撐被適明 I 用 他乙子樣發丨作 其聚原同 本式物 或 Η 。 將合 胺的義 式聚 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4規格(210X297公釐) 4 344b6 A7 ___B7__ 五、發明説明(4^) 本發明之式(I )之光引發劑也可用於製迤具有乙撐 式不飽合基的可聚合光引發劑,其方法偽把式(I)的一 種化合物與0H _或—官能基乙撐式不飽和的化合物 反應β這種反應對行家像習知者.Η不贅述。0H —或N Η -官能基乙撐式不跑和的化合物的钶子如(羥基烷基) 一或(胺基垸基)一丙烯Μ -或甲基丙醯51或醯胺。 本發明另一標的為式(X V I I )的化合物: 0 0 R! R29—CONH—RS-NH-C-Y-X—ffi>-C-C ——NR3R4 (XVII) T r2
R 其中 X, Y, R, Ri, Rz . R3 , R4 , Rs 意義同前述,包括較佳之定義,Rz 3為乙烯基可游離基 聚合之C2〜(:£ 2烴或式(xvm)的剰餘基: I , CH2=t —(― C-X5 一R31 —X6— (ΧνΐΠ)
\ 7W ---Ί.-----裝 1 、一οίI i . (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作.杜印製 其 中 R 3 0 為 Η 或 甲 基 » R 3 1 為 分 枝 或 更 宜 為 直 鏈 之C 1 ***«/ C 1 2 烷 撐 低 烷 撐 芳 撐 » 或 芳 撐 低 烷 撐 1 或 當 w = 0 時 * R 3 1 可 表 示 一 鍵 结 • W 為 0 或 1 f 而 X 5 與 X 6 互 不 相 干 地 表 示 — 0 — 或 — Ν Η — 0 R 3 1 宜 為 C 2 C 6 烷 撐 9 例 如 乙 撐 Ν 1 « 3 一 丙 撐、 1 参 4 — 丁 撐 、 1 9 5 一 戊 撐 與 1 » 3 — 己 撐 0 '30- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 4 34 45 6 A7 B7 五、發明説明(y^j ) 如果R Z 9為乙烯基可游離基聚合的烴,刖舉例而言 ,則其可游離基聚合之基為C 2〜C t 2之烯基,乙烯基 苯基或乙烯基苄基。烯基的例子為乙烯基、烯丙基、1 -丙烯一 2 —基、1 一丁烯—2 —或—3 —或一 4 —基、2 —丁烯~3基、戊烯基、己烯基、辛烯基、癸烯基、十一 稀基與十二稀基的異構物。R2 9宜為C2〜Ci 2 ,尤 宜為C2〜Cs者。在一較佳意義中,R2 9在本發明範 蹯中偽為c2〜c4烯基。 —些例子為: 〇
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) ----------裝------ir-----叙 {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
Η3 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 *1Τ 經濟部中夬榡準局員工消費合作杜印製 做 於 用引 適的 地用 奇作 出 合 物聚 合之 化發 的引 丨線 I 射 I 輻 V 的 X 物 f 合 式化 或之 J 和 I 飽 ί 不 式式 撐 乙 劑 發 方中劑 段物發 片化引 斷合做 呈聚於 或到用 地合適 値結地 整基奇 偽離出 物游地 合之樣 化成同 之形物 丨所合 I 經聚 I 或與 V / 物 X 及聚 t 基寡 式和之 t ratty 此不發 在經本 〇 式 〇 而 。 量成 含形 之分 基部 劑只 發或 引成 之形 中不 子造 分構 高 狀 依網 或聯 物交 合 之 聚接 接連 嫁相 成互 形可 中而 其 , , 定 本紙俵尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 五 4 34 45 6 A7 B7 、發明説明 本發明另一標的為一種式(:X I X )的二聚光引發劑 0 0 R, R32-DrE2^- Dt- Rs- NHC - Y - C - C - NR3R4 q R . R2 (XIX) 其中 E2 為一Xi — ( C Η z ) m ™ X i ™ ,二個 χ! 互不相千地表不一 ◦—或一NH — m為2〜6之整數,q 為 0 或 1, Di 為一NHCO —, R3 2 為式(XX)之 剩餘基
〇 —R5—NH-C-Y — X 0 Rt
/—\ u R C-C-1 R2 NR3R4 (XX) {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央榡準局員工消費合作社印 其中 X.Y.R.Ri.Rz.Rs.RA.Rs 意義同前述,包括較佳之意義。 在一較佳實施例中,Xi只表示一 0 —或只表示一 N H —。在一較佳實施例中Xi表不—0 —,Di表不—N HC0—,其中Di的羰基與E2連接。在一極佳的實施 例中X!表示一0-, q為◦, Di為一NHC0 —,其 中〇,之羰基與£:2連接。 本發明又一檫的為式(XXI)的三聚光引發劑; (Ρ·33-Ε3-}3-Τ 3 3 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210 X 297公釐) (XXI) 4 34 45 6 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明ho 其中R3 3表示一種式(XXI I)的化合物. 0 0 R, —( °2- rs-)^- nh- c - Y - X 一 c — c — nr3r4 (x R R2 其中 X,Y, R, Ri, R2, R3 , R4 , Rs 意義同前述,包括較佳之定義,q為〇或1, D2為一 NHCO-, - CONH-,或-NHCONH —, E3為低烷撐,T為一但三價有機或無機剩餘基。 在一較佳實施例中,E3為六甲撐,<ϊ為0, T為一 三價有機剩餘基,且宜為減了三艇酸性Η的無機剩餘基。 在本發明的範_中,以上及以下之「芳撐」如不另作 定義,則宜指未取代或被低烷基或低烷氣基取代之苯撐或 萘撐,尤其是1, 3 —苯撐、1. 4 —苯撐或甲基一1, 4 一笨撐;1,5 -蔡撐或1,8 —萘撐。 芳撐在本發明範畸中偽為含多可逹2 4個磺原子者, 且宜為多可達18痼者,且表示一種磺環芳基化合物,它 為未取代者或被低烷基或低烷氣基取代者。其例子為苯基 ,甲苯基,二甲苯基,甲氣基苯基,第三丁氛基苯基,萘 基或菲基。 在本發明的範疇中r低字」在用於剩餘基與化合物方 ®不另外作不同定義,則持別指含多可達8値ί且宜 多可達6摘)碩原子的化合物c -3 4 - 本紙浪尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) --------- 裝------訂------泳 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 434456 A7 B7 五、發明説明 低烷基特別具多可達8個(且宜為6個)的磺原子, 例如甲基,乙基,丙基,丁基,第三丁基,戊基,己基或 異乙基。 低烯基表示C2〜Cs (且宜C2〜Cs ,尤宜C2 〜C4 :)之直線或分枝的烯基。烯基的例子為乙烯基,铺 丙基.、1—丙稀一2 —基、1_ 丁播_2 —或一 3 —或― 4 一基、2 — 丁烯一 3_基及戊烯,己烯,辛烯的異構物 經濟部中夬標準局員工消費合作社印51 烷 者,且 ,己撐 一丁撐 低 之烷撐 院 代或被 ,如甲 甲撐或 低 ,例如 己氧基 芳 為達2 撐如不 可為直 ,戊撐 ,或3 烷撐表 。恃佳 撐芳撐 低院基 撐或乙 甲撐苯 烷氣基 甲氣基 〇 基低烷 4餾. 另作不 鍵或分 ,丁撐 一戊撐 示含多 之低烷 或芳撐 或低烷 撐,尤 撐。 特別含 .乙氧 同定義,係 枝者。適當 ,丙撐,乙 。撐宜為低 可達8個碩 撐例子為甲 烷撐的芳撐 氯基取代者 其是甲撐。 多可達8値 基,丙氣基 指含多可達1 0個碳原子 的例子包括:癸撐,辛捜 撐,甲撐,2 —丙撐,2 撐。 原子(且宜多達6傾者) 撐及乙撐。 單元宜為苯撐,可為未取 ,其烷撐單元宜為低烷撐 因此這種剩餘基宜為苯撐 (且宜為6値)的磺原子 ,丁氣基,第三丁氛基或 基在本發明的範醻表示多可達30_ (且宜 尤宜為達18値)磺原子者,且表示被芳基 -35- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > A4規格(210X297公釐) {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 裝 、11 成
經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 五、發明説明 丨(V/) 1 1 取 代 之低 院 基, 基 低 烷 基 的 例 子 有 基 > 二 甲 苯 基 甲 基 1 1 甲 苯基 乙 基, 苯 基 丁 基 * 第 二 丁 氣 基 苯 基 甲 基 萘 基 丙 1 1 基 > 甲氣 基 苯基 甲 基 S 或 苯 基 己 基 請 1 先 1 本發 明 另一 標 的 為 一 種 對 輻 射 線 敏 的 組 成 物 包 含 閱 1 背 i ιέ I 之 1 注 l ( a )至 少 一種 乙 撐 不 飽 和 之 可 光 聚 合 或 可 光 交 聯 的 化 A σ 意 事 i 物 ( 以下 稱 r 1 對 輻 射 線 敏 的 有 機 材 料 J ) 及 項 再 ! ά 裝 ( b )有 效 量之 至 少 一 種 式 ( I ) ( X V I I ) ( X I X 本 頁 1 ) ( XX I ) 的 化 合 物 或 具 式 ( I V ) 構 造 元 的 寡 'w»· 1 聚 物 或聚 合 物 0 1 ! 成枴 ( b ) 的 化 合 物 之 量 可 為 0 0 0 1 7 0 % 重 1 1 量 1 尤其 是 0 . 0 〇 1 5 0 % 重 量 > 持 別 是 0 > 0 1 訂 1 4 0 %重 量 ,最 好 為 〇 * 0 1 2 0 % 重 量 > 此 量 傜 根 據 1 1 1 成 份 (a ) 為準 0 此 量 主 要 根 據 結 合 在 引 發 劑 的 光 活 性 基 1 1 > 基 越少 • 所加 之 量 越 大 〇 1 乙撐 不 飽和 可 光 交 聯 化 合 物 以 及 可 光 構 造 之 材 料 偽 習 ,球 1 知 者 。這 種 材料 的 例 子 見 於 G . E . G re e η 等 人 在 J. M a c r 〇 m 〇 1 I 1 Sc i; Rev s , Ha c Γ 0 ID 0 1, 及 Ch e is » 9 C2 1 (2), 187 -2 7; κι 98 1- ] i Ι9δ2)及 G .A .Del 1 Θ η η e 在 A d v • Ph 0 ΐ 0 C he m * 1 1 , 第 .-1 0 3 頁 1 1 (1 9 7 9)提 到 ο 1 1 對輻 射 線敏 的 有 機 材 料 宜 為 一 種 具 可 光 聚 合 之 乙 撐 1 I 不 飽 和基 的 單體 9 聚 物 或 聚 合 物 材 料 » 尤 其 是 這 些 種 類 1 1 中 之 非揮 發 性或 難 揮 發 的 物 質 0 1 1 — 36 — 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐、 A7 B7__ 五、發明説明(^) 式(I)的化合物ft可結合在無機或有機材料(以下 稱「基質」:)表面,該基質要含活性之一 CQ0H, H0_, HS —或一 NH —基。其適合之方法像習知者, 例如浸潤(T a u c h e η ), 噴灑,刷覆,塗拭,铸造,滾壓 ,尤其是旋覆(spin-coating)或真空蒸鍍法。一種式( I)化合物偽《箸與異氣酸基反應而牢固接在表面。這種 反應,舉例而言,可在較高溫度進行.例如◦〜l〇〇°C ,且宜在室溫。反匯後,舉例而言,用溶劑將過量化合物 除去。此時,可將可光聚合之物質施到這種改性過的表面 上,且藉嫁接聚合經光引發劑與基質牢接。 如此在基質表面上形成觸手狀或刷子狀的聚合物構造 ,它可進一步防止在生物環境中有不想要的不可恢復的沈 積(例如蛋白質,油脂或塩類)形成。 經濟部中央榡準局員工消費合作社印裝 (請先閲請背面之注意事項再填寫本頁) 適當的基質的例子有:玻璃,矽酸塩材料(矽膠), 金屬氣化物,尤其是許多習知之天然或合成樹脂(塑膠) 。一些塑膠之例子為聚加合-及聚縮聚塑膠(聚胺基甲酸 酯,環氣樹脂,聚醇,聚酯,聚醯胺,聚亞醯胺);乙烯 基聚合物〔聚丙烯酸酯,聚甲基丙烯酸酯,聚苯乙烯,聚 乙撐,及其鹵化衍生物,聚乙烯醇(PVA).聚烴基乙 基甲基丙烯酸酯,聚乙烯基乙酸酯與聚丙烯腈〕;彈性體 (矽力康,聚丁二烯.聚異戊間二烯);可能改性過的生 物聚合物(膠原蛋白,織維素,甲殼聚糖.及前述生物聚 合物〕。如果基質所含官能基太少或根本设有,則可將基 -37- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 經濟部中央標隼局貝工消費合作社印製 434456 A7 B7 _— II i I .一' 五、發明说明(^) 質表面用習知方法,例如電漿法或氣化法或皂化法改性, 並産生官能基如—〇Η, ΝΗΖ或一 C〇〇H。 本發明又一標的為一種材料,由以下之物構成: (a) —種無機或最好為有機之基質; (b) 至少有一種式(I)的化合物做光引發劑,結合在 基質上,其經◦一原子,S —原子,HN — Ci〜 烷基或NH —基在一邊與基質結合,而光引發 劑的異氛酸基在另一邊與基質結合;且 (c) 可含一薄層,在光引發劑上,由聚合物構成,要得 到此層,傜把可光聚合之乙撐式不飽和的物質施一 薄層在基質表面,該基質表面有光引發劑剩餘基, 然後用輻射線(宜為紫外線)照射使乙撐式不飽和 物質的層聚合。 此材料宜為一種生物醫學材料.尤其是一種透明有機 基材製的眼科模製體,例如隱形眼鏡或内眼透鏡(人工水 晶體),尤宜為一種隱形眼鏡。 該乙撐式不飽和物質之覆層厚度主要視所要之性質而 定。它可為0. 001徹米〜1000微米,宜為0. 01 〜500撤米,尤宜為◦. 01〜100徹米,更宜為 0. 5〜50微米,最宜為1〜20撤米。尤其對於製造 陲形眼鏡之層厚度為0. 01〜50微米,且宜0. 05 〜20微米,尤宜〇. 1〜5撤米。覆層的製法可依前述 施覆法為之。 -38- 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) A4说格(210X297公釐) {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝- 訂 434456 A7 B7 經濟部中央標準局負工消費合作社印裝 五、發明説胡 Ο 1 1 乙 撐 式 不 飽 和 物 質 可 為 1 Am 刖 述 化 合 物 〇 其 他 適 合 之 乙 撐 1 1 式 不 飽 和 化 合 物 為 非 揮 發 性 之 取 代 之 聚 烯 1 尤 其 是 丙 烯 酸 1 1 或 甲 基 丙 烯 酸 及 其 SI 與 醯 胺 類 » 例 如 丙 烯 酸 — 或 甲 基 丙 烯 /<—V 請 先 I 1 酸 C 丄 C 丄 2 烷 基 酷 或 — 寡 噁 院 撐 酯 或 _ C 1 C i 2 閱 1 背 1 — 羥 基 院 基 酯 或 一 IS 胺 ( 2 i 3 — 二 羥 基 丙 基 一 甲 基 丙 烯 面 之 1 酸 酯 ) 、 Ν * Ν 二 甲 基 丙 烯 m 按 — 丙 烯 醯 胺 Λ N 9 N 一 意 事 1 項 | 二 乙 基 胺 基 乙 基 一 甲 基 丙 烯 酸 酷 > 寡 乙 烯 氣 — 丙 銪 酸 酯 及 再 填 甲 基 丙 烯 酸 酯 2 一 羥 基 乙 基 甲 基 丙 烯 酸 酯 甲 基 甲 基 寫 本 裝 頁 1 丙 烯 酸 酯 ( Μ Μ A ) 聚 乙 撐 乙 二 醇 1 0 0 0 { 它 用 1 1 I 2 莫 耳 當 量 之 甲 基 丙 烯 酸 衍 生 化 [ Ρ E G ( 1 0 0 0 ) Μ 1 1 A ] } 及 Ν — 乙 烯 基 at 咯 烷 m 0 1 1 本 發 明 又 一 標 的 為 一 種 方 法 9 用 於 將 無 機 或 有 機 基 質 訂 I 的 表 面 改 性 該 基 質 含 有 Η — 活 性 之 Η 0 — $ Η S — • Η 1 I N — C 1 C 6 — 烷 基 或 一 N Η 2 基 1 此 方 法 包 含 以 下 步 1 ! 驟 : 1 ( a ) 在 基 質 上 施 覆 — 薄 層 此 薄 層 由 至 少 一 種 式 ( I ) 1 化 物 構 成 t 必 要 時 可 配 合 一 種 催 化 劑 9 例 如 二 丁 1 I 基 月 桂 酸 錫 1 1 ( b ) 如 有 必 要 可 將 施 覆 之 材 料 加 熱 並 洗 掉 過 量 之 光 引 發 1 1 劑 1 ί ( C ) 在 這 種 具 光 引 發 劑 剩 餘 基 的 基 質 表 面 施 — 薄 層 之 可 1 I 光 聚 合 之 乙 撐 式 不 飽 和 物 質 1 1 ( d ) 用 輻 射 線 ( 且 宜 用 紫 外 線 ) 昭 /VVi 射 i 使 該 乙 撐 式 不 飽 1 1 - 39 - 1 1 1 本紙浪尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) A7 4 34 456 B7 —_ - 1 ———丨· — - - 五、發明説明(^) 和材料層聚合。 可能形成的非共價結合的聚合化物在聚合作用後可除 去,例如用適當溶劑處理。 用本發明的方法,表面可用許多種方式改性,且能予 表面持別性質,以做各種不同用途。依選擇之乙撐式不飽 和物質而定,舉例而言,可改善機槭性質,例如表面硬度 ,抗刮傷性,濕潤性,酎撕裂性,可寫畫性.可著色性, 在各種不同金屬,陶瓷或聚合材料外層或覆層上的附箸牢 固性,對抗微生物之不想要之沈積及沈澱之能力,以及物 理性質,例如摩擦偽數,對氣髏液體,及從低分子量到高 分子量之溶解之無機或有機物質的滲透性,以及透光性, 其中聚合物層的待牢附著作用為一特別之優點。 經滴部中央標準局貝工消費合作社印製 本發明之光引發劑或用此光引發劑改性之基質之持色 為高度之化學及光化學反應性。它們可用於形成光反應材 料,此材料可用於做施覆材料,可光構造之材料,做複合 材料,尤其是生物醫學用途之材料,例如隱形眼鏡以及外 科材料。這種材料持別適合利用嫁接聚合作用形成一種對 所需性質待別有利之觸手構造(刷子構造)而在隱形眼鏡 上産生親水性與可生物相容之表面。 持別有意義的偽高度可潤濕性以及在表面上能得到穩 定的濕膜(例如在隱形眼鏡上形成擴液_)。此外在生物 条统中的性質改善(例如生物相容性較佳)有重大意義, 這對於保護免受生物侵蝕,防止菌斑(Plaque)及生物污 _ 4 0 - 本纸張尺度適用中國國家標準( CNS > A4規格(210X 297公釐) 4 34 45 6 A7 B7 五、發明説明(〕q) 斑(Bio-Fuuling)形成,不音造成恤流減少或者毒性及 過敏性的反應。 依本發明改性過之材料特別適合製造陳形眼鏡。就隱 形眼鏡觀之,以下之性質改良特別重要:高度可濃潤性( 接觸角度小),高度抗撕裂性,良好潤滑作用,高度耐磨 損性,沒有或只有徹不足道的酶分解作用,不會有淚·液之 成分(蛋白質,油脂,鹽,細胞分解産物),對化粧品, 揮發性化學品(例如溶劑),污垢,灰塵無親合性,徽生 物不能附著或棲居,對隱形眼鏡在眼上有滑動性質。 依本發明改性之材料亦適用於製造人工血管及其他義 肢補綴物,外科及診斷之生物醫學材料,其中特別有利的 是,内皮細咆可在這些材料上面生長。 本發明另一標的為一種陲形眼鏡,由以下之物構成: (a)—種透明有機基材,它具有官能基,尤其是羥基, 氫硫基,胺基,烷基胺基或羧基; (:b)在表面上之一薄層,該薄層又包含: (b 1 )宜由至少一種式(I )之光引發劑所衍生 裝 r I n1τI 線 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 及 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 形 用 作 合 3¾ 光 之 烯 ιίτ 種 1 藉 物 合 聚 - 接 分嫁 UBUJ 槿 之 I 2 成 成 構 物 之 下 以 由 鏡 眼 形 隱 BBC 種 - 為 的 0 I 再 明 發 本 基 殘 ‘ 是 其 尤 基 ; 能基 官羧 有或 具基 它胺 , 基 材烷 基 -機基 有胺 3J JJ> f 透基 種硫 - 氫 \J.· a 本紙張尺度適用中國國家標準{ CNS ) A4規格(210X297公釐) 434455 A7 B7 經濟部中央標隼局負工消費合作社印製 五、發明説明 0 1 I 1 ( b ) 在 表 囬 上 之 — 薄 層 i 該 薄 層 宜 由 至 少 種 式 ( I ) 1 1 I 的 光 引 發 劑 所 衍 生 的 成 份 9 該 光 引 發 劑 經 一 異 氣 酸 1 I I 基 接 到 該 基 材 的 官 能 基 上 〇 請 先 1 1 閱 1 適 當 的 基 材 ( a ) 的 例 子 為 天 妖 聚 合 物 ( 必 要 的 話 可 讀 背 1 1 作 改 性 ) 例 如 m 原 蛋 白 9 甲 殼 聚 糖 1 破 璃 酸 i 纖 維 素 m 之 1 注 1 ( 如 纖 維 素 乙 酸 91 或 m 維 素 丁 酸 m ) 0 適 當 之 基 材 的 例 子 意 事 1 項 1 為 合 成 聚 合 物 ( 必 要 的 話 可 改 性 ) 9 如 聚 乙 烯 基 醇 聚 羥 再 填 装 1 基 乙 基 甲 基 丙 烯 酸 酷 > 聚 甘 油 基 甲 基 丙 烯 酸 酷 以 及 以 這 寫 本 頁 聚 合 物 為 基 礎 的 共 聚 物 〇 其 他 一 些 天 妖 與 合 成 聚 合 物 亦 *w 1 I 適 用 t 例 如 具 有 矽 一 , 過 氣 烷 基 — 及 / 或 烷 基 丙 烯 酸 1 I 基 一 構 造 單 元 的 聚 合 物 * 其 中 利 用 適 當 方 法 ( 例 如 電 漿 處 1 1 訂 1 理 1 刻 f虫 或 氣 化 ) 在 表 面 産 生 官 能 基 〇 上 述 嫁 接 聚 合 ( b 2 ) 的 適 當 烯 類 的 例 子 為 丙 烯 醯 1 1 胺 一 N j N — 二 甲 基 丙 烯 醛 胺 9 甲 基 丙 烯 m 胺 * 羥 基 乙 基 1 1 I 甲 基 丙 烯 酸 酯 9 甘 油 基 丙 烯 酸 酯 寡 乙 烯 氣 早 一 與 — 雙 丙 1 f 烯 酸 酯 » 乙 撐 丙 二 醇 二 甲 基 丙 烯 酸 酷 » 甲 撐 二 丙 烯 醯 胺 y I 乙 烯 基 己 内 醯 胺 i 丙 烯 酸 9 甲 基 丙 烯 酸 反 丁 烯 二 酸 au 早 乙 1 I 烯 基 m * 乙 烯 基 三 乙 酸 SI 與 乙 烯 基 撐 碳 酸 m 9 其 中 反 應 ! 1 之 酯 隨 後 如 有 必 要 y 可 以 水 解 0 1 1 在 恃 定 情 況 i 可 有 利 地 使 用 二 種 或 更 多 種 上 述 光 引 發 1 I 劑 的 U 合 物 〇 當 然 也 可 用 與 習 知 光 引 發 劑 成 之 合 物 9 1 I 例 如 與 二 苯 甲 m f 乙 苯 酮 » 苯 偶 姻 m 或 苯 禺 m 缩 m 〇 1 1 為 了 加 速 光 化 學 步 驟 » 可 加 入 胺 t 例 如 三 乙 醇 胺 > N 1 1 - 42 - 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部中央標隼局負工消費合作杜印裝 卜 4 34 456 at B7 五、發明説明(f) _甲基一二乙醇胺,對一二甲基胺基苯甲酸乙基酯或 MichUrs鋼。胺的作用可加二苯甲_型之芳香族酮而加強 〇 此外可加入光敏化劑加速,該光敏化劑可將光頻敏感 性之頻域作移勖或變寬噻噸_ ( τ h i ο X a n t h ο η) - , g匿(
Anthrachinon)—及—2 —丙締酸香S·素衍生物及3 —( 芳醯基甲撐)一噻唑啉。 所用之一種光引發劑的效率可加入具氟有機剩餘基的 Titanocen 衍生物而提高.如歐州專利E P-A~ 1 22 ,223與EP — A-186. 628所述,例如用量1 〜2 0%。這類Titanocen的例子有雙(甲基環戊二烯基 )—雙(2, 3, 6-三氟苯基)一鈦,雙(環戊二烯基 )—雙-(4 -二丁基胺基一 2, 3, 5, 6-四氟苯基 )一鈦,雙(二甲基環戊二烯基)一 2 — (三氟甲基)苯 基一鈦—異氰酸酯,雙(環戊二烯基)一 2 —(三氟甲基 )苯基一鈦一三氣乙酸酯或雙(甲基環戊二烯)_雙—( 4——癸氣基_2, 3, 5, 6—四氟苯基)钛。液體d— 胺基酮適用於這種混合物。 可光聚合的混合物除了光引發劑外,可含各種不同之 添加物,一般偽少里者,其例子有熱抑制劑,例如一種阻 止提前聚合的抑制劑,如氫鼠或立體空間阻止之酚。要提 高暗藏安定性.舉例而言可使用銅化合物,磷化合物,第 四銨化合物或羥基胺衍生物。在共聚合時為了排除空氣的 -4 3 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -----,----^------1T------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 4 34 456 A7 _B7 _五、發明説明 氣,可加入石躐或類似蠟狀材料,它們在聚合作用開始時 轉移到表面。做為防光保護劑者,可加入少量紫外線吸收 前,例如苯二唑,二苯甲酮一或草酸苯胺型者3更好的方 式是加不吸收紫外線之光保護劑,例如立體空間受阻之胺 類(H A L S )。 本發明的光引發劑可用於各種其他目的。此外將它用 於不著色或箸色或染色的条統,舉例而言,對於印刷顔類 ,對攝影複製方法,影像記錄方法及製浮彫模( R e 1 i e f f 〇 r a)具重大意義,: 另一重要使用範圍是做塗料,它們可含色素或不含。 尤其有用的是混在粉刷漆(W e i s s 1 a c k)中(指用T i 0 2 著色之塗料)。其他之使用範圍為抗光物之照射硬化,不 含銀之軟K的光交聯以及印刷板的裂造。另一用途為表面 塗覆,它在白畫光線中隨後表面硬化。 對於所使用之範圍,所用光引發劑的量相對於可光聚 合的組成為0· 1〜20%重量,且宜為0. 5〜5%重 量《 聚合偽用光聚合作用的習知方法.例如用富含短波輻 射線之光(且宜為紫外光)照射。光源的適當例子如汞中 壓燈,高壓燈及低壓燈,超光化活性發光(螢光)材料管 ,鹵化金靥燈或雷射,其放射頻帶尖峯在250nm與4 5 0nm之間。當將光敏化劑或二茂鐵(Ferrocen.)衍生 物併用時,亦可用波長達6 0 nm之長波光或雷射光。 -44- 1 —. . I f 訂 H 1— 成 (請先閱讀背尚之注意事項再填寫本頁) 表紙張尺度適用中國國家標準(CNS > A4規格(210X297公釐} 4 34 456 經漓部中央標隼局貞工消費合作社印11 A7 B7 五、發明説明冰夕 依本發明,可使用式(I ) (XVII) (XIX) (XXI)的化合物或具有式(I V )構造元的寡聚物或 聚合物當作光引發劑,以將乙撐i不飽和的化合物或含有 還有化合物的混合物做光聚合。該不飽和化合物可含一脑 或數個雙鍵。它們可為低分子(單體)或較高分子(寡聚 物)。帶一雙鍵的單體的例子為烷基一或羥基垸基一丙嫌 酸酯或一甲基丙烯酸酯,例如:甲基一,乙基丁基一 ,2 -乙基己基一或2 —羥基烷基一丙烯酸酯或—甲基丙 烯酸酯,異冰片基丙烯酸醏,甲基一或乙基一甲基丙烯酸 酯。其另外的例子為丙烯膳,丙烯醯胺,甲基丙烯醯胺, N -取代之(甲基)丙烯醯胺,乙烯基酯(如乙烯基乙酸 酯乙烯基醚(如異丁基乙烯基醚),苯乙烯,烷基一舆鹵 化苯乙烯,N -乙烯基毗咯烷_,氯化乙烯或氣化乙烯叉 〇 具有數個雙鍵的單體的例子有:乙撐乙二醇一、丙撐 乙二醇一、新戊'基乙二醇—六甲撐乙二醇一或雙苯基—A —二丙烯酸酯、4, 4,-二(2-丙烯醯氧乙氧基)一 二苯基丙烷、三甲基醇丙烷一三丙烯酸酯、五赤蘚基一三 丙烯酸酯或一四丙烯酸酯、乙烯基丙基丙烯酸酯、二乙烯 基苯、二乙烯基琥珀(丁二)酸酯、二稀丙基苯二酸酯、 踌酸三烯丙酯、三烯丙基異氟尿酸酯或三一 (2-丙烯醯 氣乙基)異氡尿酸酯。 較高分子(寡聚物)多元不飽和化合物的例子有:丙 -45- 本紙張尺度適用中囷國家標牟(CNS > A4規格(210X297公釐) — — ——— ^ n 1» H —訂— ί 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標導局員Η消費合作社印製 4 34456 A7 B7 五、發明説明 烯酸化之環氧樹脂,丙烯酸化之聚醚,丙烯酸化聚胺甲酸 酯或丙烯酸化之聚酯,其他不飽和寡聚物的例子為不飽和 之聚酯樹脂,它們大多由順丁烯二酸,苯二酸及一種或數 種二元醇製造,且分子量約500〜3000。這種不飽 和寡聚物也可稱「前聚合物」ύ 我們常利用一種前聚合物與一多元不飽和單體的二成 分混合物或者另外更含有一種單元不飽和單體的三成伤聚 合物。此處聚合物主要依漆膜性質而決定用量。單元不飽 和單體偽做為反應稀釋劑,藉之使黏度降低,而不必使用 溶劑。 這種以一種前聚合物為基礎的二成份與三成份集統可 用於做印刷顔料以及漆,抗光劑(Photoresist) 或可光 硬化的物質。以可光硬化之前聚合物為基礎的單成份系统 也常當做結合劑使用。 不飽和聚酯樹脂大多在二成份条統中與一種單元不飽 和的單證(宜為苯乙烯)一同使用。做抗光劑者常用特別 之單成分条統,例如聚順丁烯二醯胺,聚査耳_ (
Ρ ο 1 y c h a U q n e)或聚醯胺,如德專利公開案〇 E - 0 S 2308830所述者。 這些不飽和化合物也可與不能做光聚合的形成膜之成 ®惹合使用。這些成份舉例而言,可為可用物理法乾燥之 聚合物或其在有機溶劑中的溶液,例如硝化纖維素或織維 素乙醯丁酸酯。但它們也可為可用化學法或熱硬化的樹脂 -46^ 本紙浪尺度適用中國國家標準(CNS } Α4規格(210Χ297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 装 --° 五 4 34 456 A7 B7發明説明 ,例如聚異氡酸酯,聚環氧樹脂或美拉密樹脂。與可熱硬 化的樹脂一齊使用對於所謂之「混雜条統」(Hybrid-Systera)的應用甚具意義,這些糸統在第一階段光聚合, 而在第二階段用熱做後處理而交聯。 以下所列之實洌用於進一步說明本發明,但它們並不 限制本發明之範圍。溫度如未另外標示則表示攝示, 〔實例A 1〕 2 —二甲基胺基一2 —苄基一 1一 〔4_ (2 —羥基乙氧 基)苯基〕一丁烷—1 一酮 H0 〇 X) 0
•N 經濟部中央標隼局員工消費合作杜印製 標題化合物的製法依EP - A — 284, 561所述 之合成法達成。 〔實例A 2〕 2 —乙基一2 —二甲基胺基一 1 一 〔4 一 (2 —經基乙氣 基)苯基〕一 S — 4 -烯—1— mn〇 〇
0 JL 類似實例A 1製得定量産率的標題化合物。留下黃色 結晶,熔解溫度8 0〜8 2 t。 -47- 本紙張尺度適用中國國家樣丰ί CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) --------- 裝------1τ-----線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
4 /, / ^ /-· O L,l 3 Q A7 B7 五、發明説明 〔實例A 3〕 2 —乙基—2 —二甲基胺基一1— Γ 4 - (2 -羥基乙氧 基)本基]一戊院—1—嗣 K0 0 把依實例A2之32. 6克(0. il莫耳)2 -乙 基一 2 —二甲基胺基—1 — 〔 4 一 (. 2 -羥基)苯基〕茂 一 4 一烯一 1_溶在220ιπ1蟮酸乙酯中,加1. 6克 把碳(5 % ),然後在3 0 °C常壓下氫化。約3小時後氬 化作用結束(2 . 8 5升,理論值之1 0 3 % 。將催化 剤濾除,在旋轉蒸發器(R V )上把溶劑蒸發掉。油狀剩 餘物用閃色層圖(flash chromatQgrahphy) 方式纯化〔 石油酿/醋酸乙酯2 : 1)。留下27. 4克(84%) 的一種淡黃色油。 〔實例A 4 ] 1 - ( 4 - (2 —羥基乙硫基苯基〕一 2_甲基一2 —嗎 ---------- 裝------訂-----線 (請先閡讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 福啉基一丙烷—1 H0
S ~Qr 〇 酮 此標題化合物製法見於E P _ A _ 0 8 8 , 0 5 0 實例A 5 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) Μ規格(210 X 297公釐) 434456 A7 B7 五、發明説明(4 1- 〔4 — (2 —羥基乙氣基)苯基〕一2 —甲基一2 — 嗎福啉基-丙烷一 1 -酮
HO 〇 N 0 造 製 式 方 的 4 例 實 似 類 以 物 合 TD /1 t-\ 題 6 標A 此例 實 劑 發 引 光 聚 二 -Ϊ- 種 i 造 製
3 Η Η3 c H2 II------^衣------iT------ j (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 在一©設有回流冷却器,溫度計,攪拌器與氮導入管 的250ml境瓶中,把5. 8克(20毫莫耳)的2 - 乙基一 2_甲基胺基一 1 一 〔4 — (2 —羥基乙氣基)— 苯基〕—戊—4 一烯—1— _ (得自實例A2)與2. 2 克(1 0毫莫耳)的異佛爾酮二異氣酸酯(I P D I )溶 在1 Ο 0 m 1之乾氯化甲叉中。加入〇 . S克(1毫奠耳 )的催化劑二丁基二月桂酸錫(:D B T D L )並在室溫( -4 9 - 本紙張尺度適用中國國家標车(CNS ) A4規格(210X297公釐) A7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製
B7五、發明説明(10 R T )攪拌2 6小時。反應過程利用薄層色層圖(DC) 做追踪(矽_ D C板,移動相石油醚/乙酸酯1 : 2 )。 然後將反應溶液Μ入水中,將有機相分離,並用水洗二次 。有機相經M s S 0 +乾燥並在旋轉蒸發器(R V )上濃 縮。留下之殘餘物用閃色層圖純化(石油難/乙酸乙酯1 :1 ) 3留下6 . 3克(7 8 % )的一種黏稠黃色油。燃 境分析得到以下數值: C4 6 H6 8 〇8 Ν+ 計算值 C 68.63 Η 8.51 N 6.96¾ (805.07) 戥察值 C 68.31 Η 8.64 N 6.98¾ 〔實例 A7, A 8 , A9 與 A10〕 \ 類似實例A6把實例Al, A3, A4及A5的光引 發劑各二當量分別與1當是I P D I反應製造以下之二聚 光引發劑: n R 軟化溫度範圍 I 6 2 〜7 2 C
-5 0- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > A4規格(210X297公嫠) -1 I i I- 士 _ - 1,m^i . (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 4 34 45 δ Α7 Β7
五、發明説明G 〇 A 8 〇 ~Qr X)
9 A
V 7 8 1 9 7 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝.
V 6 6 1 ο 6 訂 物 J 合 1 化 1 之 A 式 例下 賁造 t 製 级 經濟部中央樣準局員工消費合作杜印製
R=
\ / 器S 却粑 冷 , 流中 回瓶 具燒 値 1 一 m 在 ο 5 2 基 胺 基 甲 4 的 管 入 導 気 } } 與耳基 器莫氣 拌毫乙 iso 基 ,3 羥 計 f I 度克 2 溫 8 ί 2 基 乙 基 苯 本纸浪尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 r 434456 A7 B7五、發明説明(p) 一戊一1—酮(得自實例A3)與3. 15克(15毫夢 耳)2,2. 4 —三甲基六甲撐二異氰酸酯(2, 2, 4 一TMDI)溶在l〇m!之乾氯化甲叉中。加〇, 95 克催化劑DBTDL並在回流之下攪拌14小時。反應過 程利用红外線光譜追踪(異氰酸基的红外線頬帶在2 2 5 0 c m — 1消失)a然後使反應溶液冷2P到室溫並在水中 攪拌。將有機相分離並用水洗兩次。將有機相經Mg SO 4乾燥並在旋轉蒸發器上乾燥。留下之殘餘物用閃色層圖 純化(石油醚/乙酸乙酯2:1)。留下7. 3克(61 %)之一種黏稠油〇其構造用質子NMR證實。 〔實例A 1 2〕 類似A 1 1,把2當量之實例A5的光引發劑與1當 童之二苯基甲烷一4, 4’ _二異《酸酯在氣化甲叉中反 應,並加0. 1當量DBTDL而製造下式之化合物:
P 與 劑 發中 1 弓 並 光 - 〇 的應物 4反合 A 中化 例叉之 實甲式 之化下 量氣诰 當在製 2 酷以 把酸L , 氛 D 1 異 T 1 二 B JAifD 3 例甲之 1 實六量 A似之當 例類量 1 實 當 . C 1 ο I準 標 家 I國 .國 I中 用 逋 -尺 I張 -紙 本 A4
一釐 公 7 9 2 X 五 4 34 456 、發明説明(β )
A7 B7 R=
S Ο 〇 •Ν 得到一種黃色樹脂.産率98%。 〔實例A 1 4〕 類似實例A1 1,把2當量之實例A5的光引發劑與 1當量之甲苯—2,4 —二異氣酸酯(TDI)在氮化甲 叉中反應,並加〇 . 物: 1當童DBTDL,製造下式之化合
NH R
0 R: 0 N 〇 經濟部中央標準局員Μ消費合作社印製 得到一種自然色的粉末,其軟化溫度範圍83〜90 〔實例A 1 5〕 類似實例A 1 1,將3當量之實例A5的光引發劑與 1當量的Desmodur® 3 3 9 0在氣化甲叉中反應,並加 0. 1當量DBTDL以製造以下式之化合物:
〇 R人NH Ο 义 〇 HN R (C^6nAn^CH2)6 Ο人N人。 R= I I -H - j= - I ^^^1 11 . - -ί— - I - -i— ^^^1 > 一^—I— I - ί· t t (請先閲讀背面之注意事項再填寫本f ) 〇 0
A N 〇
HN O^R ,(CH2)5 -53^ 本紙張疋度適用中國國家標隼(CNS ) Λ4規格(210X297公釐) 4 34 4 5 Ο Α7 Β7 五 發明説明& Μ 得到一種自然色粉末,其軟化溫度範圍6 0〜6 7 t: 〇 〔實例A 1 6〕 類似實例A 1 1 ,將3當量之實例A 1的光引發劑與 1當量之Desmodur® 3 3 9 0在氯化甲叉中反應,並加 〇 · 1當量DBTDL以製造以下式之化合物: Ο 0 〇 hnar (C^6nAnJch2)6 Ο人N人Ο (CH2)6 X) R= 、~Qr Ν ΗΝ
R 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製
得到一種黃色樹脂 〔實例A 1 7 ] 製造以下之化合物 〇 NCO
R= 0 -〇
0 II ch3 CH3 \ 在具回流冷却器,溫度計,攪拌器與氮専入管loo m 1燒瓶中.把2. 92克(10毫莫耳)—2 -乙基- 2 —甲基胺基一 1— 〔4 - (2 —羥基乙氧基)一苯基〕 -54- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2!〇X297公釐) 批衣 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 五、發明説明
A7 B7 一戊一 4 一烯—1_酮((得自實例A2)溶在3〇ml 之乾氛化甲叉中.並與2. 22克(1〇毫莫耳)ipd 1 (溶在30ml乾氣化甲叉中)混合。加入2· 〇毫克 催化劑DBTDL,並在室溫攛拌72小時。反應過程用 D C脱附色層圖追踪(移動相甲苯/丙鯛6 : 1 )。然後 將反應溶液在水中fi拌。將有機相分離,再用水洗兩次。 將有機相經MgS〇4乾燥,並在旋轉蒸發器上濃縮。留 下之殘餘物用柱段色層法純化(甲苯/丙酮6 : 1)。留 下3. 4克(66%)的一種黃色油。構造用質子 R . IR及元素分析證實。 〔實例A 1 8〕 類似實例17由1. 17克(4毫莫耳)1 〔4 —( 2 -羥基乙氣基)苯基]一 2 —甲基一 2 — HI福啉基一丙 烷~1 一嗣(得自實例A5)與〇· 7克(4毫莫耳)之 2, 4一TDI用DBTDL做催化劑在氛化甲叉中製造 以下之異氛酸酯。加入5 0m I之乙醚及20 0m 1石油 酸到反應混合物後,標的之化合物里結晶形式沈澱。將它 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) .丨 裝. 訂 經濟部中夬搮準局員工消費合作社印裴 ,熔解溫度97〜102
NC0
0 IL
•N 〔實例 A19, A20 與 A21〕 用類似實例A 1 7之方式製造以下化合物 *55** 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 4 34 456 A7 B7 五、發明説明
HN 0 人 R
NCO ch3 ch3' 其中R表示以下之剩餘基: 0 〔實例A 1 9 -Ο- Ν Ο Ο 〔實例 Α20〕 R= ^ 一 〇 Ο- 、~Qr X) 〇
〔實例 A 2 1〕 R= ( 一 〇 S -I— ---- - , ! I _ n _ I I τ _ _____ _ .ώκ, (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央樣隼局員工消费合作社印策 啻例A 2 2〕 類似實例A 1 7方式製造以下化合物 ch3 ch3ch
HN" O^R CH? t J R: NCO -5 6 - Ο 、<y ο ‘Ν Ο 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) Μ規格(210 ;< 297公釐} r, 4 34456 A7 B7 五 、發明説明( 〔實例A 2 3〕 類似實例A 1 7之方式製造以下之異氣酸酯。把5. 1克(29. 3毫莫耳)之2, 4 —甲苯二異愾酸酯(丁 DI) , 克(29. 3毫莫耳〉2_二甲基胺基_2 —苄基一 1 一 〔4 一 (2 —羥基乙氣基)苯基〕一丁烷_ 1 一酮(得自實例A1)甩DBTDL做催化劑在氯化甲 叉中作用。将反應温合物用5〇〇m1二乙基醚及2升石 油醚稀釋,如此産物沈澱出來。將之過濾,用二乙基醚/ 石油魅洗並在真空中乾燥。得到天然色粉末。其熔解範圍 9 9 〜1 〇 3 υ 〇… ;0
CH
NCO NH-COO-CHa-GHj-O~(^·
0 II
N ch3 ,ch3 、ch3 f^n------ - - · -*^1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 〔實例B 1〕 製造下式之寡聚物光引發劑 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 中 其
R 7 2 約 y X 且
h3) (c si( 02 h3) h3) (c si o ox < 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐) h3) (c si o r A7 ___B7 五、發明説明(β) n = 5 在實例A17的裝置中,把〇. 7克(13毫莫耳) 得自實洌A 1 7的異氟酸酯,2 0 m 1乾氯化甲叉及2 . 55克(〇· 5 1毫當量NH2/s)胺基烷基聚矽氣院 KF8003 (日本信越)放入。反應混合物在室溫擬拌 2小時,在4 0 °C攪拌2 0分。然後將溶劑在旋轉蒸發器 上除去。剩餘物在高真宜〔40t, 〇. 00 1毫巴(〇 1 P a )〕除去剩餘溶劑。得到定量産率之標題化合物 。紅外光譜中沒有0 C N鍵存在。 〔實例B 2〕 類似實例B1製造一種實例B1構造的光引發劑,由 (1 - 3毫莫耳)實例21之異氰酸酯及2. 55克(0 5 1毫當量NH2/g)胺基烷基聚矽氣烷KF800 3 (日本信越)起始,其中R具以下意義: * n I II11 訂 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) R= Ο X)
N 經濟郜中央標準局貝工消費合作社印笨 〔實例B 3〕 類似實例B1製诰一種如下構造之寡聚物光引發劑, 由0. 55克(0. 97毫莫耳)之實例A20的異氱酸 醋與1. 47克(0, 7毫當量NH2/g)胺基烷基聚 砂氧烷X — 22— 161B (曰本信越)起始。 ^58- 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) u 434456 A7 B7 五、發明説明(0) RNHCONH(CH2)3· ch3 I Si - i CH, CH,
0 ——Si — - (CH2)3NHCONHR CH, 經濟部中夬標隼局員工消費合作社印製 其中x约38, R為實例A20之標題化合物減了異 氧酸酯之剩餘基。 [實例B 4〕 類似實例B 1 ,把一種1 . 〇克(1 . 9 5毫莫耳) 異氰酸酯的溶液(得自實例A 1 7,溶在20m 1乾乙脂 中)與2. 24克(0. 84毫當量NH2 /克) Jeffaiuine ED 2001 (美國 Texaco 公司)(溶在 3 Om 1 乾 乙腈中)混合,並在室溫攪拌2 4小時,處理後得到以下 光引發劑3. 2克(99%): R-NHCONH*CHCH3CH2-(OCHCH3CH2)a-(〇CH2CH2)b-(〇CHCH3CH2)c-NHC〇NH-R 其中 a + c= 2. 5 b - 4 0 . 5 R為實例A 1 7之標題化合物減了異氰酸酯的剩餘基 〇 〔實例B 5〕 在實例A 17的裝置中,在氮氣中把1. 65克聚乙 烯基醇(PVA) (Serva®03/2Q,分子量約13DOO)在 8 0T:溶在乾燥之NMP中。然後冷却到室溫,並與一種 溶液〔1 . 0克(1 . 8 8毫草耳)的實例A 1 9之異氰 酸酯溶在10ml乾NMP中〕以及5mg之DBTDL (做催化劑)作用。然後將此混合物加溫4 8小畤到4 0 59 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ---------- I------1T-----i (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 五 4 34456 A7 B7 發明説明 t。這段時間後,用红外線顙示在2 2 5 0 c η — 1並無 〇C Ν 3將此反應混合物冷却到室溫並加7 0 0 m 1之二 乙基醚,則産物沈殺出來。將之過濾,用二乙基醚過濾並 在高度度真空中乾燥。留下1. 9克之白色産物,用元素 分析顯示含2· 20%硫。質子NMR顯示下述構造= -[(CH2-CH0H)a-(CH2-CH0C0NHR)b]n-其中η約為10, a : b = 2〇:1 ; R為實例A 1 9的標題化合物減去異氛酸醋的剩餘基 〔實例B6, B7與B8〕 類似簧例B 5 ,將二種羥基烷基取代之聚二甲基矽氣 烷(KF-6002/KF-6001)及一種葙聚糖與 實例19的異氟酸酯作用。以下之參數描述這些化合物。 産率各約9 0%。這些化合物之硫含量用燃燒分析測定( (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中夬標準局員工消費合作杜印製 表最後一排)。 實例19之異氡酸酯 0.5克 (0.94毫莫耳) 〇 _ 5克 (〇 . 34毫其耳) 0H-高分子 溶劑 KF-S002 ,信越,日本 THF 1 . 5克(0 . 63當童0H/克) KF-S001,信越,日本 THF 0.85克(1.1當量DH/克) 60 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) A4規格(2丨0><297公釐) S-含量U) 計算值/觀察值 1.50/1.38 2.22/2.03
經濟部中央標準局員工消費合作社印$L 4 34 456 A7 B7 五、發明説明0) 0.5克 葡聚糖 8,Serva G DHSO 1.08/0.99 (0 . 94毫莫耳) 〔實例B 9〕 類似實例85,把3.2 3克腸原(561^& 1 7 4 4 0 , M G = 8 0 0 0 0 )在1 2小時中溶到D M S Ο中,然後加入1 . 0 克(1. 9毫莫耳)之實例Α20的異氛酸酯(溶在10 ml之DMSO中)。在室溫攪拌72小時後反應混合物 用500m1甲醇稀釋,使産物沈澱出來。將之過濾,並 用乾THF後冼數次。然後在高度真空(Ο. 1 pa,室 溫,72度)乾燥。留下2. 8克之黃白産物,其红外線 光譜與質子NMR顯示與預期構造一致。 製造聚合物膜與皤形眼鏡 〔實例C 1 ] 把Polysciences公司的5克聚〔1, 2 —間同( syndiotactic)〕丁二烯(PB)(目錄 1 63 1 7 號,分 子量〜10000)在401C溶在100ml THF中 。然後將此溶掖冷却到室溫,並鑄到FQlanoriB箔片上( .Folex®,蓀黎世,瑞士),形成厚約0. 5mrri之PB溶 液膜。在室溫於氮氣中慢慢使THF蒸發。然後將留下之 聚丁二烯膜用乙醇莘取*再一直乾燥到重量恆定為止。 〔實例C 2〕 把2. 2克PB於40Ϊ在気氣中溶在5〇ml之甲 -61* 本紙張尺度通用中國國家標準(CNS > A4规格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 訂 4 34 456 A7 Β7 經濟部中央標準局貝工消費合作杜印製 五、發明説明(6〇) 基環已烷中。在此液中加入2克H —矽氣烷(研究産品K —3 2 7 2,Goldschmidt德國)(溶於5 m 1甲基環己院 )並攪拌5分鐘。然後將此溶掖通以氮氣30分鐘。把3 滴催化劑鉑二乙烯基四甲基二矽氣烷(ABCR,PC 072)(溶在lm1甲基璟己烷中)加入此溶液,並一 面搜拌加熱3分鐘到5 Ot;。然後將此混合物放在二片玻 璃板中,而形成約1 . 5mni厚度的液膜。然後冷却到室 溫,把玻璃板拿掉,用THF萃取交聯過的之聚丁二烯膜 。萃取後,將交聯之聚丁二烯膜乾燥到重量恆定為止。 〔實例C 3 ] 把5. 35克(1毫莫耳)含乙烯基之聚矽氣烷( S i 1 ο P r e n U A d d i t i ν V 2 0 0 ,拜爾公司,L e ν e r k u s e η , 德國)與1. 13克(2毫其耳)Η —矽氣烷(研究産品 108 5, Goldschmidt,德國)混合,並在降壓〔2 00 毫巴20KPa)〕情形下在室溫1拌一小時。然後用氮 通過混合物30分鐘,加二滴催化劑鉑二乙烯基四甲基二 矽氧烷(ABCR, PC072)並Μ拌5分。然後用此 混合物充入聚丙烯模具(Ciba Vision亞持蘭大,適於製 0. 5mm厚lcm直徑的模製體),將模具顔閉,並在 一爐中在氪氣中加熱1 6小時到6 0 C。將它冷却到室溫 ,打開模具,把如此所製之小板(它含交聯之聚乙烯基矽 氯烷)用乙醇萃取,然後乾燥到重置恆定為止。 〔實例C 4〕 -62- f I I 裝— I [ I I訂 i 線 (请先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) A4規格(210X297公釐) 4 34 456 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 A7 _ B7__五、發明説明(心I) 類似宵M C 3製造交聯聚乙烯矽氣烷構成的隱形眼鏡 ,其中所用之聚丙烯模具適用於製軟式透鏡,其厚度10 0微米,直徑1 . 4cm底曲線8. 4mm。 〔實例C 5〕 將2. 63克)0. 5毫莫耳)含乙烯基之聚矽氣烷 (Silopren V 200)與3· Ο克H —矽氣烷(研究産品, Goldschmidt,德國)混合並在減壓情形〔2 0 0毫巴( 2〇KP a)〕在室溫攪拌一小畤3然後用氮氣通過混合 物30分,加二滴催化劑鉑二乙烯基四甲基二矽氣烷(A BCR, PC072)並ϋ拌10分。然後用這種混合物 充入聚丙烯1形眼鏡膜中Uiba Vision亞特蘭大,USA) ,將模具關閉,並在一爐内在氮氣中加溫16小時到60 ΐ:。將之冷却到室溫,打開模具,並將如此所製的陲形眼 鏡(它含交聯過的聚乙烯基矽氯燒)用乙酵萃取,然後乾 燥到重量恆定為止。 〔實例D 1〕 把4克實例A 1 7的光引發劑在氮氣中溶在1 〇m 1 丙_中。將一部分這種溶液噴到實例C 1的一種聚丁二烯 膜上,因此在氮氣噴罱下將丙酮蒸發後,在聚丁二烯膜上 形成一層均勻的光引發劑膜。所施覆之聚丁二烯膜此時用 紫外光(12mW/cm2 )照射10分。然後用丙酮將 此膜洗三次以除去未結合之光引發劑。然後在減壓之下〔 0 . 001毫巴(0. IPa)〕將此膜乾燥到重量恆定 -6 3 * (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公董) ^ 4 34 45 6 A7 B7五、發明説明 為止。此膜之符立雨轉換红外線光謹(F T I R +)顯示在 2250cm-1有一 OCN -键結;最後,将這種膜浸 入一種5 % J e f f a m 1 η Μ 2 Q 7 0在丙_中的溶液為時2小時, 然後用丙詷洗兩次再用除離子水洗三次。如此所施覆之聚 丁二烯膜甩FT I R分析然後到接觸角度(.K 1 2 , K r u s s公司,漢堡,德國。 聚丁二烯膜Π 培_角庠(;'1 前進角度 前進角度 未施覆 10 2 7 8 施覆過 6 6 4 7 黃例D 2〕 類似黄例D 1 ,將實例C 2之交聯之聚丁二烯膜作施 覆 烯隠C: 2 培端角庠Γ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印复 未施覆 施覆過 前進角度 9 6 後退角度 7 1 5 9 實例D 3〕 類似實洌D 1 ,將一種實例C 1的聚 -5 4 -
烯膜實例A 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) A7 434456 B7 五、發明説明(Ρ) 1 9的光引發割施覆。 聚工二烯膜c 1 培讁角庠r ') 前進角度 後退角度 未施覆 1 0 2 7 8 施覆過 6 2 4 6 〔實洌D 4 : 類似實例D 1將實例C 4得到之透鏡用實例A i 9的 光引發劑施覆; 聚乙I:希甚讷着:烷Γ: 4· 接角彦Γ ) 前進角度 後退角度 未施覆 1 1 1 7 8 施Μ過 9 8 3 4 〔實例D 5 : 頚似實例D 1將一種實例C 3之交聯之聚乙烯基矽氧 烷小盤用實冽A 1 7之光引發劑施覆 C 3之小盤 培觸角庠Γ > 前進角度 後退角度 未施覆 112 72 -6 5 - 本紙乐尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2ί〇Χ 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝- 丁 1-° 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 434456 五、發明説明(|/f) 施覆過 〔實洌D 6 : 類似實例D 1,將黃 7的光引發劑施覆3但與 種DMSO溶掖中,該溶 毫克D B T D L做催化劑 聚丁二烯臌Γ 1 未施覆 施覆過 〔實例D 7〕 類似實例D 1 ,將實 7的光引發劑施覆。但與 水溶液中,該水溶液含5 聚丁二烯膜C 1 A7 B7 未施覆 施覆過 9 9 3 8 例C 1的聚丁二烯膜用實洌A 1 實例D 1不同者,此膜偽浸在一 液含1 % ft聚糖8 (S e r v a )及约1 :Ί 培睇角度Γ ) 前進角度 後退角度 0 2 7 9 8 5 例C 1的聚丁二烯膜用實例A 1 實例D 1不同者,此膜後浸入一 %聚乙烯亞胺(F 1 u k a)。 培磕角庠(^ ) 前進角度 後退角度 0 2 7 8 6 6 1 8 -66- ^^^1 ^^^^1 twt^rf ί''ί 丨 i^n^i ^^^^1 I TJ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標芈(CNS } A4現格(210X297公釐) 經潢部中央標準局員工消費合作社印製 卜 434456 A7 B7五、發明説明y) :實例D 8〕 類似實例D 1 ,將實洌C 5的隱形眼鏡用實例A 1 7 的光引發劑施覆。與實例D 1不同者,此隱形眼鏡隨後浸 入一種含5 %聚乙烯亞胺 (F 1 u k a )的溶液3 C 5之隱形眼鏡 接辐角庠Γ i 前進角度 後退角度 未施覆 1 1 5 80 施覆過 9 9 5 6 〔實例E 1〕 把2克之實例B5的高分子光引發劑溶在50m 1 D MSO*3用氮通過此溶液3 ◦分,然後將實例Cl之聚 丁二烯膜(2 X 2 c m )浸入此溶液1 〇分鐘,然後取出 並用紫外光(1 2mW / cm2 )照射1 0分鐘。所得之 膜用D M S 0洗一欸,用異丙醇洗兩次,用5 ◦ %水性異 丙醇洗一次,及用水洗一次。然後將此膜乾燥並分析(親 水膜層厚約6微米,利用光顯微鏡及R u 〇 4對比測定) ·:· _c 1之,.聚丁_二烯 培镅角庠r ) 前進角度 後退角度 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) H 'π. —I _ 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) Α4規格(2丨0X297公釐) 434456 A7 B7五、發明説明( 未 施 覆 10 2 下 ,5tt 覆 過 4 8 3 [實 Μ E 2〕 類似實例Ε 1 ,將實钶C 2的交聯?3 丁二烯膜用實洌 Β 5的高分子光引發劑處理。 C :> :> 聚 丁二烯 接觸角庠r ) 前進角度 後退角度 111 ? 1 未施覆 施覆過 〔實例Ε 3 ] 類似黃例Ε 1 ,將實例C 3之矽氧烷小盤用實例Β 8 的高分子光引發劑處理。 C_3 Ζ矽氯烷小盤 培镅負庠Γ ) 9 7 3 8 —11^ ^^^^1 ^^^1— i c 1 - ·_--ί ^^^^1 111· ^^^^1 I 一OJF£-- - - - - -a * (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標隼局員工消費合作杜印^ 前進角度 後退角度 未施覆 1 12 7 2 施覆過 9 4 3 6 〔實例E 4〕 類似實例Ε 1 ,將實洌C 4之隱形眼鏡用實例B 5的 -68- 本紙伕尺度適用中國國家標準(CNS M4規格(210 X 297公釐) 4 34 456 A7 B7五、發明説明(bj) 高分子光引發劑處理 C 4 ^ _形眤镐 培褐a庠μ i 前進角度 後退角芰 111 7 8 8 8 3 7 經濟部中央標隼局員工消費合作杜印製 未施覆 施覆過 〔簧洌E 5〕 類似實例E 1 ,將實例C 5的隱形眼鏡用實洌B 8的 高分子光引發割處理。 C 5之_聪鐘 培罐角J? ( °丨 前進角度 後退角度 未施覆 115 70 施覆過 7 6 4 1 [實例F 1〕 把實例C 3之聚乙烯基矽氣烷放在一電漿反應器中。 然後将反應室在電暈放電條件下與氫氣作用一分鐘,然後 用1, 2 —二胺基環己垸在下述條件下處理:無線電波頻 率27. 12MHz,功率3瓦,壓力0. 3毫巴(3〇 Pa),操作流率3. 65cm3 /分(STP),隱形 眼鏡在反應器中停留時間為5分。然後將反應器通以氮氣 -6 9 - 本紙伕又度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210Χ297公釐) 1 I — ^^^1 - - I:— - n- ^1^11 I: - - - - ί:ί^T-CTJI ii- .--- - Ϊ {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 4 34456 A7 B7 五、發明説明(tY) 並將隱形眼鏡取出。 〔實洌F 2〕 把賁洌F 1所處理過之隱形眼鏡在室溫i R τ )及在 気氣中浸入一乙腈溶液3 0分鐘,該溶液含1 %實例A 1 7的光引發劑。如此,該反應性光引發劑遂藉著電漿菡理 産生的胺基结合到賺形眼鏡表面然後用乙腈將隱形眼鏡 洗1 2小時,然後在真空中乾燥3小時,: 〔實例F 4〕 把1 · 5克(2 0毫莫耳)的丙烯韹胺在一圓嬈瓶中 在室溫於氣氣中在搜拌之下溶在1 0 m 1水中。然後將此 溶液在降低壓力下除氣,然後再用氮通氣3 0分。然後將 ί容ίΚ過滿(孔隙大小0 . 4 5微米.)並放入一陪替式培養 皿(P e t r i s c h a 1 e )中,其量要使得放入此溶液的實例F 2的 隱形眼鏡施覆约1 m m厚的此i容液。然後用汞高壓燈(2 0 ◦ 0瓦恃)兩面照射(1 2 m W / c m 2 )三分鐘然 後将隱形眼鏡從溶液中拿出,用水洗數次。然後再用Η P L C 一水萃取2 4小時。在真空中將此透鏡乾燥並分析, 再用F Τ I R , A F Μ及A F Μ分析及測接镯角度.:, 經濟部中央標隼局員工消費合作社印裝 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 〔實例 F 5 , F 6 , F 7 與 F 8〕 把含共價结合之光引發劑的實例F 2的隱形眼鏡用類 似實例4的方式改性,其中不用丙烯胺(A A )而用其 他單體水溶液,以下之表顯示在施覆前及施覆隱形眼鏡的 接觸角度。 ,Ί ΰ - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(2)0X297公f ) 4 34456 五、發明説明 A7 B7 實例 單 接 觸 角 度 未處理 處 理 過 先 m 讀 背 面1 前進角度 後退角度 前進角度|後退角g: 注 意 事 項 焉 F4 F5 F5 F7 F8
A A
N VP
HEMA
P E G ( 1 0 0 0 ) M A
DMA 111 111 111 111 1 11 7 8 78 78 73 7 8 4 2 54 7 2
6 I 3 6 11 2 3 3 2 11 1 8
% 本 I 策 訂 Α =羥基乙基甲基丙烯酸酯,PEG (1 000) 甲基丙烯酸,用聚乙撐乙二醇衍生化一到二次,D N, N —二甲基丙烯醯胺 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 AA =丙烯_胺,NVP=N —乙烯基一 2_吡咯烷 HEM Μ A = M A = 〔實例G 1〕 把0 . 3克實例B 1的高分子光引發劑在氮氣下溶在 乾丁 H F中。加入0 . 2克剛蒸餾的N V P及0 . 1克乙 撐乙二醇二甲基丙晞酸酯(E G D Μ A )並攪拌1 5分鐘 ,然後通氮氣3 0分。然後将輸淨之P P模充以這種溶液 ί每値漠180〜200徹升),將模具關閉並甩〔紫外 -7 1 - 本纸浪尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) 434456 A7 經漓部中央標準局員工消費合作社印製 B7五、發明説明(jo) 線射1 5分(1 2 m W / c m 2 )將模具打開,並把帶 有隱形眼鏡的半模放入一乙醇浴豉中> 隱形眼鏡遂從半模 fe開;然後科隱形眼鏡再在乙中萃取2 4小時,然後在真 空中乾燥。 〔實 M G 2 : 類似實例G 1 ,由4 0克之實例Β 1的高分子光引發 劑,1 5克D Μ A , 5克E D G Μ Α與4 0克T H F製造 隱形眼鏡。 :實例G 3〕 類似實例G i ,由3 4 · 5克之實Μ Β 1的高分子光 引發劑,5 9 . 5克3 - 〔三(三甲基矽氣烷基)一6夕烷 基〕一丙基一甲基丙烯酸酯(TRiS)與6克NVP製 造隱形眼鏡,其中T R I S與N V P做光引發劑的溶劑。 此混合物的照射時間為時2 0分。 〔實例G 4〕 類似實洌G 1 ,由5 7克之實例Β 1的高分子光引發 劑,3 7克3 — 〔三(三甲基矽氧烷基)一矽烷基〕一丙 基一甲基丙烯酸酷(TRIS)與3克NVP及EGDM A製造隱形眼鏡。 以下之表為製造之隱形眼鏡的説明: 實例 水吸收(2 ) 應力(Η P a ) 應變(% ) E -模數 抗拉力性 破壞拉伸 (MPa) G1 47.5 I 37 3,8 -7 2- -------- ^------iT------^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 Γ 434456 Α7 Β7 五、發明説明\) G2 3 9 .1 1 69 ο ,5 G ; 3 5 . ,2 1 9 74 0 ,1 G4 2 . '5 -> 89 10 . ,5 實 例 G 5 類 似 實 洌 Β 5 的 分 子 光 引 發 劑 〇 1 6 克 在 氮 氣 中 溶 在 — 種 Ν - 甲 基 吡 咯 垸 酮 N Μ Ρ i 仕 D Μ S 0 ( 7 0 : 1 2 ) 中 的 溶 液 中 加 入 交 聯 劑 Ε G D Μ A 2 0 克 妖 > 1 . % 2 後 用 氮 通 氣 〇 然 後 將 溶 液 過 滹 U.U· 到 一 瓶 中 ( 孔隙 大 小 0 4 5 微 米 的 鐵 氟 龍 過 tls 器 ) 在 氮 氣 下 把 乾 淨 Ρ P 漠 具 充 以 這 種 溶 液 ( 每 痼 模 1 8 0 〜 2 〇 0 微 升 ) t 將 模 具 闊 閉 並 用 紫 外 線 照 射 { 1 2 m W / C m 2 ) 3 0 分 Μ 將 模 具 打 開 並 將 帶 有 隱 形 眼 鏡 的 半 模 放 入 一 乙 醇 浴 液 中 * 透 明 微 -fcK Μ 的 隱 形 眼 鏡 遂 從 半 模 分 離 0 再 把 m 形 眼 鏡 在 乙 醇 中 再 萃 取 2 4 小 時 > 然 後 在 真 空 中 乾 燥 0 實 m G 6 類 似 實 例 G 5 * 由 〇 1 克 之 實 例 B 5 的 高 分 子 光 引 發 劑 t 0 5 克 D Μ S 〇 » 0 4 克 N V Ρ 與 2 〇 克 E D G Μ A 製 造 隱 形 眼 鏡 0 賣 例 G τ 將 0 2 5 克 實 例 B 8 的 局 分 子 光 引 發 割 在 氮 氣 中 i容 在 乾 D Μ S 0 中 加 入 0 • 2 5 克 Η E Μ A 及 2 0 m 克 之 交 聯 劑 Ε G D Μ A Λ 妖 y» 後 通 氮 氣 3 0 分 然 後 m 溶 液 過 蕋 ( 孔 隙 大 小 0 4 5 ihi 米 ) 並 在 哀1 氣 下 充 入 乾 i尹 Ρ P 模 中 -73- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙法尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4规格(210Χ 297公釐.) 4 34 456 A7 B7五、發明説明(rj J 。用如實洌G 5之方式照射述處理:. 實例 水吸收(% ) 應力(Μ P a ) 噻變(% ) 卜模數 性 力 拉 抗 ίφ 拉 顔 破
5 G 3 7 7 6 ο 的 3 Β 例 賁 克 ·:.,-OW 8 . G 2 例把 實 的分徹 克 ο ◦ 2 3 0 把氣 2 。 氮約 中通 ί F 並具 Η 釋模 Τ 稀 Ρ 乾 ρ Ρ 克V淨 3 Ν 乾 在 溶 中 氣 氮 在 劑 . 發 ο 引用 光液 子溶 分種 高這 勺 •日 餾 蒸 剛 克 9 入並 充閉 液關 溶 具 此模 把將 中 丨 氣 ,-0 模 在値 後每 然 / 〇 升 模 , 將 F 後 Η 〇 然 Τ 中 〇 去 醇 鐘除乙 分 Ρ 在 ◦ ο 溶 14可 射在它 昭? 中 , ) 箱 > 卩燥物 m乾狀 C 在盤 \ 液 ( W 溶盤 Η 物小 2 合的 1 聚黃 ( 度撤 線黏澈 外 高 清 紫用下 用具留 9 G 實 2 由 8 G 例 實 於 似 頚 造¾ 物 合 混 之 A Μ D 克 9 ο 與 劑 發 引 盤 光之 子 翳 分略 高 但 JT> BM- & 9 3 透 B 種 例 一 實 克 〇 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝·
、1T 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 鞠 狀 Η 例 實
C
N ο. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) A7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 434456 B7 五、發明説明(qy 在 磺 酸 :化 燒 丨瓶 中 * 在 :m 拌 倩 形 下 放 入 〇 3 1 克 ( 1 8 8 毫 莫 耳 ) 之 2 - 胺 基 乙 基 甲 基 丙 ί布 si 酷 — 氛 化 氫 ( ;*^7 itr 在 1 0 m 1 乾 乙 腈 中 二 在 氛 氣 中 同 時 但 由 ~r' 同 之 滴 λ 漏 斗 將 1 0 克 ( 1 8 8 TS~ Μ 耳 .) 之 實 洌 A 1 9 之 反 應 性 光 引 發 劑 { 溶 在 1 0 m 1 乾 乙 腈 中 與 1 9 0 克 ( 1 • S 8 毫 吴 耳 ) 二 乙 基 胺 { 溶 在 5 m 1 乾 乙 腈 中 ) 滴 入 再 於 室 溫 m 拌 7 2 小 時 •j 此 時 m 拌 > 然 後 甩 甲 苯 萃 取 二 次 0 將 有 機 相 分 離 乾 燥 並 在 旋 轉 蒸 發 器 上 濃 编 α 將 殘 餘 物 在 矽 η 上 用 色 層 圖 法 純 化 9 甲 苯 / 丙 m 8 : 2 ) 〇 红 外 線 光 譜 質 子 Ν Μ R 及 兀 元 素 分 析 頴 示 與 該 構 造 相 AmV 付 合 m 分 析 C % Η % N % S % 計 算 值 6 1 . 7 9 7 . 9 3 48 4 ,85 m 察 值 6 2 . 2 0 7 . 9 2 7 . 6 9 4 9 9 r 實 例 Η 2 3 在 類 似 車 洌 Η 1 的 裝 置 中 i 放 0 4 6 克 ( 3 5 毫 莫 耳 ) Η Ε Μ Δ ( 溶 在 1 0 m I 丙 m 中 ) 1 然 後 於 室 溫 在 Μ 氣 中 及 S 拌 的 情 形 下 加 1 9 —1 克 ( 3 5 毫 莫 耳 之 實 例 A 2 0 的 光 引 發 割 ( 溶 在 1 0 m I 丙i Μ 中 ) 在 此 加 1 〇 m 克 二 丁 基 — 葑 一 甲 m 做 抑 制 割 及 1 〇 (¾ 克 D B 丁 D L 敝 ίΐ 化 劑 然 後 ί± 氮 氣 中 於 4 0 t ; m : ί丰 2 4 小 時 :如— 此 -75- {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 袈
r1T 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 434456 A7 B7 五、發明説明( 红外線光譜顯示異氟酸基消失:特反應混合构在旋轉 器上濃縮,並将殘餘物在矽穋上用色層圔法铗化。
經濟部中央標準局員工消費合作社印製 〔實例Η 3 : 在一類似實例Η 1的装置中,放入0 . 5克(0 . 9 7毫莫耳)的實例A 2 3之光引發劑(:溶在5 m 1之氣化 甲叉中)。然後於室溫在氪氣中及攪拌情形下加◦ . 13 克 ( 0 · 9 7毫莫耳)Η Ε Μ A (溶在3 m 1之氨化甲叉 中)。加1 0微克二丁基一對一甲酚做抑制劑及加丨◦微 克DBTDL做催化劑後,将此i容液於室溫再攪拌48小 時。在此時異氡酸基消失(:红外線控制):.將反混合物 在旋轉蒸發器上濃縮並将殘餘物在矽嘐上用色層圖法純化 (甲苯/丙銅8 : 2 ), 0
'CT CH,
本紙裱尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) —^n l^n ^^^^1 _ _'^1«J- ..... 1^—^i —'pl^i ^^^^1 ........ I i 务 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 4 34 45 6 A7 B7 五、發明説明 〔實例Η 4 : 在一 ί固具回莳;令却器,溫度計,攪拌器及氫導入管的 褐色圓燒瓶中將2 . 0克ί 3 . 0毫_耳)的實洌Η 1的 化合物溶在1 2 m 1之甲苯中,然後與6克(6 0毫莫百 ;Μ Μ A混合,.在此加入〇 , 2克引發劑偶氮異丁腈(A I B N ):特此溶液加熱2 0分鐘到S 然後冷£P到 室溫,用20ml甲苯稀釋並與2000 ml二乙基_作 用,如此有一種固髏沈澱,將它過濾,用少量二乙基酿作 後洗並在真空中乾燥3留下一種白粉,其質子質譜儀與下 示構造符合,其中比例a : b = 1 : 2 0 經濟部中央標準局員4消費合作杜印製
b 菁例Η 5 : 類似實例Η 4 ,由0 . 6 5克ί i毫莫耳)之實例 本紙張尺度適用中困國家標準(CNS ) Α4現格(210X297公釐) --------- 裝------1τ-----; 咏 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 4 34 45 6 A7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 B7 五、發明説明(%) Η3的可聚合光引發劑,1克iiO毫Μ瓦)ΜΜΑ舆 1. 〇克TR1S製造一種共聚钧: 〔實例Η 1 6〕 把3 2 0 *克之實钶Η 4之高分子引發劑在氪氣中溶 在1 . 4 m丨乾T H F中:在此加入8 5毫克剛晃蹓的 NVP與30毫克EGDMA並搅拌15分:然後通氣氣 3 0分,将溶液過濾(過濾器孔隙大小〇 . 4 5微米)。 用此過濾之溶液在氮氣下充入乾淨Ρ Ρ模具(約2 0 0激 升溶液/每画模具),該模具闞閉並用紫外線照射(1 2 m W / CD1 2 ) +分鐘。打開模具,轉含有隱形眼鏡的半模 放入一 τ H F浴液中,如此隠形眼鏡由半模鬆開。清澈透 明的隱形眼鏡用T H F萃後做乾燥並分析。水吸收率為 8 . 1 % , 〔實例I i〕 説明一種藍色印刷顔料的光硬化作用,首先依以下配 方製造一種藍色印刷顔料: 6 2 . 5 份 S e t a i i η ㊣ A P 5 6 5 (:荷蘭廠商 S y n t h e s e 之胺基甲酸丙烯麵樹脂),1 5份4 , 4 ’ _二(—丙 烯韹_乙氣基)二苯基丙一2 , 2 (. E b e c r y 1 ® 1 5 0 , U C B ,比利時): 2 2 . 5 份 I r g a 1 i t h b 1 a u ® G L S M f. C I E A - G £ L G Y 公 司,Basel ): 此混合物在-膪三滾子架上均質化,且研磨到顆粒, -7 8- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本纸张尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 經濟部中央標準局眞工消費合作社印製 ^ 434456 A7 B7五、發明説明(7 q) 大小< 5徽米為止,這種印刷顔料各5克與所要量之光引 發劑在一盤磨機上以1 8 0 kg / nf壓力在有水冷却的情形 下均勻混合。由這锺印刷顔料用一種試料印刷機{德國, P r u f b a u公司)做凸版印·印在美工印剐银的4. X 2 0 cia 帶上:.印刷ί条件為: 施覆印刷顔料:1 . 5 g / aa 2 接IS壓力(.行壓力):2 5 k p / on 印刷速度:1 m /秒 在此使甩具金屬表面(鋁)的印刷滾子,印刷的試料 偽在P P G公司的紫外線照射装置中用一燈以8 0 W / OB 能量硬化:照射時間敗試料蓮送速度變化而異,印刷顔料 的表面乾操作用在照射後立刻用所謂的T r a n s f e r - t e s t ( 轉移試驗)作測試。如此一張白紙在2 5 k p / cm行壓力 下被壓到該印刷之試料上。如果紙保持無色,則通過測試 3如果有可見量的顔料轉移到測試紙條上,則這是一锺指 示,顯出試料表面未充分硬化3在以下的表偽轉移試驗尚 可通過之最大之蓮送速度:要檢測印刷顔料之印刷硬化作 用,亦如前述做凸版印刷,但使用具橡膠表面的印刷滾子 ,且將施覆鋁之紙帶的金屬的那一邊印刷。照射作業如前 逑,照射後立卽在R E L —硬化測試裝置測試硬化作用: 在此轉一種帶有顔料之鋁滾筒放到該印刷試料上,並以 1 2 2 0 g / as 2壓力在1 〇秒内繞本身之軸轉一次,:如 果如此在試科上發生可看得出的損壞,則印刷顔料未充分 -7 9 - 本紙乐尺度適用中國國家標準(CNS ) A4現格(2丨0〆297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 434456 A7 B7五、發明説明如 硬化:.在以下的表中煤R E L試驗尚能通過的最大蓮送速 度: 光引 發劑 轉 移 試驗 R E L 試驗 實 例 (公 尺 /分鐘) (公尺 { / . ΐ^Α ,刀· m A 6 8 0 3 0 A 7 7 0 4 0 A 9 ? 〇 4 〇 A 1 1 7 0 4 0 A 1 4 7 0 3 0 A 1 5 3 0 3 0 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 [實例I 2〕 一種抗光配方的反腠性。把下列成份混合製造一種可 光硬化之配方: 1 0克三丙撹乙二醇—二丙烯酸酯(Sar tom η公司, 泊克夏,英) 1 5克Ν -乙烯基吡咯烷爾,F 1 u U 1 0克二甲基丙院一三丙稀酸g旨,Dsgussa 5 0克胺基甲酸酯丙烯鹞酯A c i y 1 a n A J 2 3 ,火藥與炸 藥國家公司 〇. 3 克過程輔助劑 Byk 300, Byk-Mallinckrodt : 這種组成的成份舆2 % (相對於固譆含量)的一種光 引發劑(胶以下表)混合,將試料施到一 3 0 0徹米厚鋁 箔上:乾燥層的厚度為6 0微米。疤一層7 6餾米厚的聚 -3 0 - fi -'•tfn ^^^^1 u^r τ° ^—--------- 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作·杜印製 4 34456 A7 B7五、發明説明 酯萡施到此膜上,再钯具有2 1階段不同光學厚度( 5 t 〇 f f s r - K e 1 1 )的一種標準化之測試負片狍到該聚酯箔上 :試钭用一第二種透紫外光之萡片覆蓋,並在一金屬板上 用真空壓合。照射作業為時2 0秒,間隔3 0公分,利用 一種5KW Μ 0 6 1金靥鹵化物蒸氣燈照射.:照射後将 Γ§ Η及遮罩拿掉,並將照射過之層在一超音波槽中於2 3 3C在乙醇中顯影十秒:乾燥作用偽在4 0 f在一通氣爐中 做5分鐘:所用之引發劑条統之敏感性偽由最後無黏性之 楔形階段表現其持徴:.階段之數目越高,所測试之集统越 敏感= 在一第二測試条列中,如上逑方式進行,但該可先硬 化之混合物中除了 2 %的一種光引發劑(依所述實例)外 遘加人0 . 2 %異丙基噻噸酮(g u a n t a c u r e I T X , International Bi〇-Syntheiics)做敏 it 二膣試驗条列的結果如下表所示其中可看出,光引 發劑的反應性可韃加入少量敏化劑Q u a n t a c u r e ί T X而提高 -------- 裝-------訂------ k (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 光引 發劑 Quantacure IT X 最1¾形成之階段 實 例 A ] .1 -— 14 A 1 —1 0.2?^ 16 A 1 .6 -8 1 - 14 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 4 34456 A7 B7 五、發明説明(pb)
A 6 ο % 2
8A
3A ο '% 2 HI - I [ - - -I— I __ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央樣準局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210 X 297公釐)

Claims (1)

  1. 4 3445r~ 公告本 A8 B8 C8 D8
    六、申請專利範圍 申請專利範圃修正本 種如式(I )的化合物: ° 0 R1 〇=C=N - R5- NH— C - 0 -(CH2)n— X ϋ _ i - NR3R4 ⑴ «2 、 其中X為二價之一 Ο — ,一S — 1 其中η為2〜4之整數; R!與於2不相閫地表示Ci〜C4烷基,烯丙基或 苄基* R3與R4互不相闢地各表示直線或分枝的Ci〜C4 烷基 或者R3與R4—齊表示一 (CH2)z -Y -------- 4------訂 (請先閲讀背面之注意^項再填寫本f ) 煩請委f!;叼 C Η 2 ) z 其中Υι為一直接鍵结,一〇—
    經濟部中央標準局負工消費合作社印策 N R 1 Β 一,且Β為Η或甲基,且兩個ζ互不j 表示2〜3之整數; Rs為直踺或分枝之C3〜Ci 1之烷撐,未被取代 或被Ct〜C4烷基或Ct〜C4烷氧基取代之苯撐’或 未被取代或被一到三個甲基取代的笨撐,未被取代或被匚^ 〜C4烷基或Ct〜C4烷氧基取代之苯撺一 Cl〜 烷撐一苯撐,或未被取代或被一到三届甲基取代的環己撐 或環己撐_ C Η Z 。 2 ·如申請專利範圃第1項之化合物,其中: 本紙張尺度逋用中困國家標準{ CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部中央標準局負工消費合作社印裝 4 34 4 5 0 Β8 C8 D8 六、申請專利範圍 X表不一 〇 _。 3 ·如申請專利範圍第1項之化合物,其中: 配合Y的意義,指数η表示2〜3 3 4 ·如申請專利範画第1項之化合物,其中: Ri為烯丙基,苄基或直鏈Ci〜C4烷基,而 R2為Ci〜C4之直鐽低烷基。 5 *如申請專利範圍第1項之化合物,其中: R3與R4互不相千地各表示C,〜C +之直鏈低烷 基。 6 ·如申請專利範圍第1項之化合物,其中: R3 輿 R4 —齊表示一 (CH2)z - 0 -( C Η z ) z ,z 為 2。 7 ·如申請專利範圔第1項之化合物*其中: 其中η為2〜3之蝥數* Rl為直鍵Cl〜C +烷基 、稀丙基或苄基;R2為直鏈Ci〜C4烷基;R3與R4 互不相Μ地表示Ci〜C4烷基或R3與R4 —齊表示一 CH2 CH2 OCH2 CH2 — ; r5 為分枝之 cs 〜 Ci 0烷撐,苯撐或被1〜3個甲基取代之苯撐,環己撐 或被1〜3涸甲基取代之環己撐•環己撐一 CH2 —或被 1〜3個甲基取代的環己撐一 CH2 —或苯撐一 Ci〜C4 烷撐一苯撐。 8 ‘如申請專利範園第1項之化合物,其中,n表示 整數2或3,表示甲基,乙基,正丙基,烯丙基,或 -------- .哀-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙奈尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 434456 A8 B8 C8 D8
    (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 4 34 45 6 8 8 8 8 ABCD 申請專利範圍 10 · —種用於製造申請專利範圍第1項之式(I) 化合物的方法*其中利用一種式(E )的化合物: HO —{CH2)n— X —^~ C _ C-NR3R4 r2 (II), 其中X,R,Ri ,R2 ,R3與R4之意義如前述 •且在一惰性非質子性有櫬溶劑中在一 2 ου〜5 ου溫 度與一種式(Κ )的二異氰酸酯或一種被單罩接的二異氰 酸酯作用: 0 C Ν - R 5 - NC0 且係在有一種催化劑存在的狀況下作用*該催化劑由羧酸 金靨塩及三级胺選出•且其中R5具前述之意義。 11·一種下式的化合物: 0 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 經濟部中央榡準局員工消費合作社印製 (XIX) 0 R1C 一 Ο -(CHg、— X -《》—C 一- C — NR3R4 〇 R2 NH 本紙張尺度適用t國國家橾準(CNS M4規格(210 X 297公釐) 4 34 456 A8 B8 C8 D8 申請專利範園 R R4與Rs意義同申諸 其中 χ R i ,R 2 專利範围第1項。 12. 一種式(XXI)的化合物*·{R33-E3-}3-t (XXI) 其中R3 3表示一種下式的化合物, 〇 η ,NH_C —〇-(CH2)n-X-〇—C-C-NR3R4 r2 (XXII) R R R4與Rs意義同申請 經濟部中夬標準局員工消黄合作社印袈 其中χ,R L 専利範園第1項* E3為C!烷撐,T為一個氰尿酸減了三個簏的刺 餘基。 13.—種用於將無懺或有櫬基質的表面改性的方法 ,該基質含有Η—活性之H0~* * HS -,HN-Ci〜 Cs -烷基或一 NH2基,此方法包含以下步驟: (a) 在基質上施覆一薄層*此薄思由至少一種式( I )之化合物構成; (b) 在這種具光引發劑的基質表面施一薄層之可光 聚合之乙撐式不飽和物質; (c) 用紫外線照射該含式不飽和材料層。 14 .如申請專利範圍第.之方法*其中: 該基質為一種®彤眼鏡或一 科模製髖。 -5- -------- <------ir (請先閲讀背面之注意事項再填寫本覓) 本紙張尺度適用令國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 告本 /
    申請曰期 ,之,J·1 案 號 δτιοΐ^ν1 相 別 (以上各攔由本局填註) Ιϊν.1 A4 C4 43445^ . //-iiMtZh, 發明 络£本 經濟部中央標準局貝工消费合作社印東 發明μ-, 一、名稱 新型 中 文 一 1官能基ib的光引發劑it合物,其製法,其相關之 專聚物或聚合物及其應用於施覆之一基S的方法 英 文 A compound as functionalized photoinitiator, it production process, its corresponding oligomers substrate 姓 名 (1)培特.恰布列塞克 t.2J康特迪持里克 (3)迪持.¾曼 _發明上 _ , ' yAl· 創作 國 藉 (1) 斯拉夫 (2) 瑞 士 (3) 瑞 士 住 '居所 (1) 瑞士 4 (] 5 5巴養爾.富利得利希街13號 (2) 瑞士 17間富里1,尚-瑪莉.慕西大道8號 (3) 瑞士 4142明辛斯坦·米特路55號 姓 名 (名稱) 諾華公司 國 藉 瑞 士 三' 申請人 住、居所 (事務所) 瑞士4058巴芥爾城·黑森林太道215號 代表人 姓 名 1. 威纳•瓦得克, 2. 瓦特勞*邻格勒 -1 - 訂 線 本紙張尺度適财國g家縣(CNS ) A4胁(21(];;< 297公4 ) 裝 四、中文發明摘要(發明之名稱 Η A5 B5 一種官能基化的光引發劑化合物,其製法,其相關之 寡聚物或聚合物及其應用於施覆之一基質的方法 種用二異氰酸酯官能基化的 胺基苯乙嗣,它可 做反應性光引發劑用;此外遨關於寡聚物與聚合物,這種 官能基化的α —胺基茇乙謂结合到其上;此外還於具一 不飽和之可聚合側鍵的α _胺基苯乙遷關於二聚及三 聚之光引,發劑;還鬬於這種光引發劑的應用:以及用這種 光引發劑拖覆的材料;Κ及用這種官能基化的a —胺基苯 乙闕將表面改性的應用。 英文發明摘要(發明之名稱: ---------- -裝·------訂------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁各襴) 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4現格(210 X 297公釐) 4 3445r~ 公告本 A8 B8 C8 D8
    六、申請專利範圍 申請專利範圃修正本 種如式(I )的化合物: ° 0 R1 〇=C=N - R5- NH— C - 0 -(CH2)n— X ϋ _ i - NR3R4 ⑴ «2 、 其中X為二價之一 Ο — ,一S — 1 其中η為2〜4之整數; R!與於2不相閫地表示Ci〜C4烷基,烯丙基或 苄基* R3與R4互不相闢地各表示直線或分枝的Ci〜C4 烷基 或者R3與R4—齊表示一 (CH2)z -Y -------- 4------訂 (請先閲讀背面之注意^項再填寫本f ) 煩請委f!;叼 C Η 2 ) z 其中Υι為一直接鍵结,一〇—
    經濟部中央標準局負工消費合作社印策 N R 1 Β 一,且Β為Η或甲基,且兩個ζ互不j 表示2〜3之整數; Rs為直踺或分枝之C3〜Ci 1之烷撐,未被取代 或被Ct〜C4烷基或Ct〜C4烷氧基取代之苯撐’或 未被取代或被一到三個甲基取代的笨撐,未被取代或被匚^ 〜C4烷基或Ct〜C4烷氧基取代之苯撺一 Cl〜 烷撐一苯撐,或未被取代或被一到三届甲基取代的環己撐 或環己撐_ C Η Z 。 2 ·如申請專利範圃第1項之化合物,其中: 本紙張尺度逋用中困國家標準{ CNS ) A4規格(210X297公釐)
TW084101034A 1994-12-30 1995-02-08 A compound as functionalized photoinitiator, its production process, its corresponding oligomers or polymers and its application in coating a substrate TW434456B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH396894 1994-12-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW434456B true TW434456B (en) 2001-05-16

Family

ID=4267327

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW084101034A TW434456B (en) 1994-12-30 1995-02-08 A compound as functionalized photoinitiator, its production process, its corresponding oligomers or polymers and its application in coating a substrate

Country Status (21)

Country Link
US (1) US6204306B1 (zh)
EP (1) EP0800511B1 (zh)
JP (1) JPH10512856A (zh)
KR (1) KR980700964A (zh)
CN (1) CN1174547A (zh)
AT (1) ATE189210T1 (zh)
AU (1) AU700575B2 (zh)
BR (1) BR9510177A (zh)
CA (1) CA2208664A1 (zh)
DE (1) DE69514835T2 (zh)
DK (1) DK0800511T3 (zh)
ES (1) ES2142506T3 (zh)
FI (1) FI972698A (zh)
GR (1) GR3032930T3 (zh)
IL (1) IL116488A0 (zh)
MX (1) MX9704918A (zh)
NO (1) NO973021L (zh)
PT (1) PT800511E (zh)
TW (1) TW434456B (zh)
WO (1) WO1996020919A1 (zh)
ZA (1) ZA9511002B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3591012A1 (en) 2018-07-05 2020-01-08 Chung-Ping Lai Conductive ink for use in manufacturing radio frequency identification (rfid) tag antenna and method for manufacturing rfid tag antenna

Families Citing this family (72)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6964861B1 (en) * 1998-11-13 2005-11-15 Invitrogen Corporation Enhanced in vitro recombinational cloning of using ribosomal proteins
US5989462A (en) * 1997-07-31 1999-11-23 Q2100, Inc. Method and composition for producing ultraviolent blocking lenses
TW436491B (en) * 1997-08-22 2001-05-28 Ciba Sc Holding Ag Compositions for use in base-catalysed reactions, a process for curing said compostions and a process for photochemically generating bases in base catalysed polymeriaztion reactions
JP2001517731A (ja) 1997-09-23 2001-10-09 ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト ヒドロゲルの表面処理方法および同方法にて形成される物品
EP1030882A2 (en) 1997-11-13 2000-08-30 H.B. Fuller Licensing & Financing, Inc. Radiation curable compositions comprising metallocene polyolefins
ES2142250B1 (es) * 1997-12-03 2001-02-01 Ciba Sc Holding Ag Nuevos fotoiniciadores de alfa-aminoacetofenona.
TW473488B (en) * 1998-04-30 2002-01-21 Novartis Ag Composite materials, biomedical articles formed thereof and process for their manufacture
SE9900935D0 (sv) * 1999-03-16 1999-03-16 Pharmacia & Upjohn Bv Macromolecular compounds
JP2002544205A (ja) * 1999-05-10 2002-12-24 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 新規な光開始剤及びその応用
GB2352718A (en) 1999-08-04 2001-02-07 Coates Brothers Plc Photoinitiators
EP1095711B1 (en) * 1999-10-27 2004-01-28 Novartis AG Process for coating a material surface
JP2001158813A (ja) 1999-10-27 2001-06-12 Novartis Ag 材料表面を被覆する方法
JP2001163933A (ja) 1999-10-27 2001-06-19 Novartis Ag 材料表面を改質する方法
EP1095965B1 (en) * 1999-10-27 2005-02-09 Novartis AG Process for the modification of a material surface
MXPA02011857A (es) * 2000-05-30 2003-04-10 Novartis Ag Articulos recubiertos.
US6589665B2 (en) 2000-05-30 2003-07-08 Novartis Ag Coated articles
ATE279267T1 (de) * 2000-10-16 2004-10-15 Novartis Pharma Gmbh Verfahren für die oberflächenbeschichtung von materialien
US7025910B2 (en) * 2001-02-20 2006-04-11 Q2100, Inc Method of entering prescription information
US7037449B2 (en) * 2001-02-20 2006-05-02 Q2100, Inc. Method for automatically shutting down a lens forming apparatus
US7074352B2 (en) * 2001-02-20 2006-07-11 Q2100, Inc. Graphical interface for monitoring usage of components of a lens forming apparatus
US7060208B2 (en) * 2001-02-20 2006-06-13 Q2100, Inc. Method of preparing an eyeglass lens with a controller
US6835410B2 (en) * 2001-05-21 2004-12-28 Novartis Ag Bottle-brush type coatings with entangled hydrophilic polymer
DE10150486A1 (de) * 2001-10-16 2003-04-24 Basf Ag Copolymerisierbare Photoinitiatoren für UV-vernetzbare Klebstoffe
TW200407367A (en) * 2001-11-13 2004-05-16 Novartis Ag Method for modifying the surface of biomedical articles
JP2004163904A (ja) * 2002-09-30 2004-06-10 Rohm & Haas Electronic Materials Llc 改善された光開始剤
ATE307168T1 (de) * 2003-03-19 2005-11-15 Collano Ag Uv-härtender schmelzklebstoff
EP1615034A4 (en) * 2003-03-31 2010-11-24 Rikagaku Kenkyusho FIXING AGENT, METHOD FOR FIXING A SUBSTANCE THEREFOR AND SUBSTRATE WITH A SUBSTANCE FIXED THEREFOR
US9297928B2 (en) 2004-11-22 2016-03-29 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Ophthalmic compositions comprising polyether substituted polymers
JP4910792B2 (ja) * 2007-03-12 2012-04-04 Jsr株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよび液晶表示素子
DE102007061427B4 (de) * 2007-12-20 2009-11-12 Airbus Deutschland Gmbh Vorrichtung zum Zuschneiden und Handhaben eines im Wesentlichen flächenhaften Zuschnittes aus einem CFK-Halbzeug und Verfahren
KR101536801B1 (ko) * 2008-11-13 2015-07-14 노파르티스 아게 말단 친수성 중합체 쇄를 갖는 폴리실록산 공중합체
JP5748224B2 (ja) * 2008-11-13 2015-07-15 ノバルティス アーゲー 化学結合した湿潤剤を有するシリコーンハイドロゲル材料
EP2199273B1 (en) 2008-12-18 2018-02-21 Agfa Nv Polymerizable photoinitiators and radiation curable compositions
US8883873B2 (en) 2009-05-18 2014-11-11 Agfa Graphics Nv Polymerizable polymeric photoinitiators and radiation curable compositions
CN102471233B (zh) 2009-06-29 2015-07-22 Dic株式会社 迈克尔加成反应物和活性能量射线固化性组合物
US8686060B2 (en) 2009-08-03 2014-04-01 Morgan Adhesives Company Adhesive compositions for easy application and improved durability
JP5640978B2 (ja) * 2009-08-26 2014-12-17 Jsr株式会社 新規化合物、その製造方法、この新規化合物を含有する感放射線性組成物及び硬化膜
CN105601930B (zh) 2010-07-30 2018-09-18 诺华股份有限公司 两亲性聚硅氧烷预聚物及其用途
CA2813469C (en) 2010-10-06 2016-01-12 Novartis Ag Polymerizable chain-extended polysiloxanes with pendant hydrophilic groups
BR112013008221B1 (pt) 2010-10-06 2020-02-11 Alcon Inc. Pré-polímero processável em água, lente de contato de hidrogel de silicone e seu método de fabricação
US9187601B2 (en) 2010-10-06 2015-11-17 Novartis Ag Water-processable silicone-containing prepolymers and uses thereof
HUE030629T2 (en) 2010-12-13 2017-05-29 Novartis Ag Functionally modified ophthalmic lenses and method for their preparation
KR102196230B1 (ko) 2012-09-17 2020-12-29 더블유.알. 그레이스 앤드 캄파니-콘. 크로마토그래피 매질 및 장치
JP6469574B2 (ja) 2012-09-17 2019-02-13 ダブリュー・アール・グレース・アンド・カンパニー−コーンW R Grace & Co−Conn 官能化粒状保持体ならびにその製造法及び使用法
WO2014095690A1 (en) 2012-12-17 2014-06-26 Novartis Ag Method for making improved uv-absorbing ophthalmic lenses
US9486311B2 (en) 2013-02-14 2016-11-08 Shifamed Holdings, Llc Hydrophilic AIOL with bonding
US10195018B2 (en) 2013-03-21 2019-02-05 Shifamed Holdings, Llc Accommodating intraocular lens
CN110946676B (zh) 2013-03-21 2023-02-17 施菲姆德控股有限责任公司 调节性人工晶状体
CN103193678B (zh) * 2013-03-25 2014-07-02 长兴(广州)电子材料有限公司 一种聚氨酯丙烯酸酯低聚物及其制备方法与应用
PL3094390T3 (pl) 2014-01-16 2021-12-06 W.R. Grace & Co. - Conn. Nośniki do chromatografii powinowactwa i urządzenia do chromatografii
ES2929099T3 (es) 2014-05-02 2022-11-24 Grace W R & Co Material de soporte funcionalizado y métodos de fabricación y uso de material de soporte funcionalizado
EP3176153B1 (en) * 2014-08-01 2020-04-08 Adeka Corporation Novel polymerization initiator and radically polymerizable composition containing same
JP6267832B2 (ja) 2014-08-26 2018-01-24 シファメド・ホールディングス・エルエルシー 調節式眼内レンズ
JP6530902B2 (ja) * 2014-10-22 2019-06-12 株式会社Adeka 新規重合開始剤及び該重合開始剤を含有するラジカル重合性組成物
JP2016079157A (ja) * 2014-10-22 2016-05-16 株式会社Adeka 新規重合開始剤及び該重合開始剤を含有するラジカル重合性組成物
JP6555910B2 (ja) * 2015-03-23 2019-08-07 株式会社Adeka ラジカル重合性インク組成物
JP2018517559A (ja) 2015-06-05 2018-07-05 ダブリュー・アール・グレース・アンド・カンパニー−コーンW R Grace & Co−Conn 吸着性バイオプロセス清澄化剤並びにその製造及び使用方法
AU2016352274B2 (en) * 2015-11-13 2020-12-03 Tokuyama Corporation Photocurable resin composition
US11141263B2 (en) 2015-11-18 2021-10-12 Shifamed Holdings, Llc Multi-piece accommodating intraocular lens
EP3392232B1 (en) 2015-12-15 2021-02-17 Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co., Ltd. Fluorene multifunctional photoinitiator and preparation and use thereof, and photosensitive resin composition containing fluorene photoinitiator and use thereof
EP3412694B1 (en) * 2016-02-05 2021-12-08 FUJIFILM Corporation Aqueous dispersion, method for manufacturing the same, and image forming method
EP3514135B1 (en) 2016-09-13 2021-04-21 Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co., Ltd. Fluorene photoinitiator, preparation method therefor, photocurable composition having same, and use of same in photocuring field
US20180141293A1 (en) 2016-11-18 2018-05-24 Novartis Ag Method for making ophthalmic lenses
US10350056B2 (en) 2016-12-23 2019-07-16 Shifamed Holdings, Llc Multi-piece accommodating intraocular lenses and methods for making and using same
JP7032416B2 (ja) 2017-02-17 2022-03-08 常州強力先端電子材料有限公司 フルオレニルアミノケトン類光開始剤、その調製方法及びフルオレニルアミノケトン類光開始剤を含有するuv光硬化性組成物
AU2018277037B2 (en) 2017-05-30 2024-04-18 Shifamed Holdings, Llc Surface treatments for accommodating intraocular lenses and associated methods and devices
AU2018279101B2 (en) 2017-06-07 2023-07-13 Shifamed Holdings, Llc Adjustable optical power intraocular lenses
KR101897180B1 (ko) 2017-06-20 2018-09-10 한국화학연구원 Pbs 복합소재 및 이의 제조 방법
CN112469739A (zh) 2018-04-30 2021-03-09 巴斯夫欧洲公司 来自连续法的高分子量聚合物
CN111514379B (zh) * 2019-02-02 2022-03-15 江苏百赛飞生物科技有限公司 经外周静脉置入中心静脉导管及其制备方法
JP2023525329A (ja) * 2020-05-14 2023-06-15 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 全フッ素化基、光開始剤基、及びアミド連結基を含む化合物
CN115504896B (zh) * 2022-10-09 2024-05-07 湖北固润科技股份有限公司 用于led光聚合的丙烯酰甲酸酯类化合物、其制备方法及其用途

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4234399A (en) * 1978-10-13 1980-11-18 Lord Corporation Radiation curable compositions containing acyloin urethane compounds
EP0088050B1 (de) 1982-02-26 1986-09-03 Ciba-Geigy Ag Photohärtbare gefärbte Massen
DE3533574A1 (de) * 1985-09-20 1987-03-26 Basf Ag Thermoplastische polymerwerkstoffe mit molekularen anorganischen verstaerkungsfasern
DE3620821C2 (de) * 1986-06-21 1994-09-08 Bayer Ag Aliphatische Diisocyanate und ihre Verwendung zur Herstellung von Polyurethankunststoffen
DE3738567A1 (de) 1987-03-12 1988-09-22 Merck Patent Gmbh Coreaktive fotoinitiatoren
ES2054861T3 (es) 1987-03-26 1994-08-16 Ciba Geigy Ag Nuevas alfa-aminoacetofenonas como fotoiniciadores.
EP0302831B1 (en) 1987-08-05 1993-05-12 Ciba-Geigy Ag Compounds
JPH01230603A (ja) * 1988-03-10 1989-09-14 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光硬化性組成物
JPH06263836A (ja) 1993-03-12 1994-09-20 Asahi Glass Co Ltd 新規なプレポリマーの製造方法
TW328535B (en) * 1993-07-02 1998-03-21 Novartis Ag Functional photoinitiators and their manufacture

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3591012A1 (en) 2018-07-05 2020-01-08 Chung-Ping Lai Conductive ink for use in manufacturing radio frequency identification (rfid) tag antenna and method for manufacturing rfid tag antenna

Also Published As

Publication number Publication date
ATE189210T1 (de) 2000-02-15
EP0800511B1 (en) 2000-01-26
MX9704918A (es) 1997-10-31
IL116488A0 (en) 1996-03-31
CN1174547A (zh) 1998-02-25
ES2142506T3 (es) 2000-04-16
ZA9511002B (en) 1996-07-01
EP0800511A1 (en) 1997-10-15
WO1996020919A1 (en) 1996-07-11
BR9510177A (pt) 1997-12-23
US6204306B1 (en) 2001-03-20
PT800511E (pt) 2000-07-31
FI972698A0 (fi) 1997-06-23
AU4387396A (en) 1996-07-24
GR3032930T3 (en) 2000-07-31
CA2208664A1 (en) 1996-07-11
KR980700964A (ko) 1998-04-30
AU700575B2 (en) 1999-01-07
JPH10512856A (ja) 1998-12-08
FI972698A (fi) 1997-08-25
DK0800511T3 (da) 2000-06-19
DE69514835T2 (de) 2000-08-17
NO973021D0 (no) 1997-06-27
NO973021L (no) 1997-09-01
DE69514835D1 (de) 2000-03-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW434456B (en) A compound as functionalized photoinitiator, its production process, its corresponding oligomers or polymers and its application in coating a substrate
JP4188413B2 (ja) 表面を反応性化する方法
AU683256B2 (en) Functionalized photoinitiators, macromers thereof, and the use thereof
DK169764B1 (da) Umættede polysiloxaner samt deres anvendelse, især til fremstilling af kontaktlinser
AU701751B2 (en) NCO-terminated vinyl telomers
TW200911845A (en) Urethane compound, curable composition containing the same, and cured product of the composition
JPH11507682A (ja) 重合しうるシロキサンマクロモノマー
WO2001071392A1 (en) Crosslinkable or polymerizable prepolymers
JPH0672034B2 (ja) ビニルエーテル系の光ファイバー被膜
JP2004099796A (ja) 活性光線硬化型インクジェット用インク組成物およびインクジェット記録方法
JPH02289611A (ja) 光架橋性樹脂組成物
FR2838746A1 (fr) Compositions photochromiques reticulables, reticulees; preparation; substrats revetus desdites compositions, lentilles en lesdites compositions reticulees
JPH1081839A (ja) 紫外線硬化性の被覆用組成物
US6444776B1 (en) Organic polymers
CN102782065A (zh) 涂覆剂组合物
JPH08157735A (ja) 有機−無機複合ポリマーの製造方法
EP1873180A1 (en) Ophthalmic device made from a radiation-curable prepolymer
US20080128930A1 (en) Method of Releasing Contact Lens
JPH02232602A (ja) プラスチックレンズ材料
JP4761418B2 (ja) 高屈折率(メタ)アクリル酸エステル化合物を含有する樹脂組成物およびその硬化物
JP3859265B2 (ja) 光学樹脂用組成物、光学樹脂及び光学レンズ
WO2022191160A1 (ja) フォトクロミック硬化性組成物、フォトクロミック積層体及びその製造方法
EP4108764A1 (en) Method for activating dendritic cells
JPH0532735A (ja) プラスチツクレンズ用組成物およびプラスチツクレンズの製造方法
JP3820042B2 (ja) 光学材料および光学製品の製造方法