TW202109181A - 軟性接觸之密閉式光罩收容裝置 - Google Patents
軟性接觸之密閉式光罩收容裝置 Download PDFInfo
- Publication number
- TW202109181A TW202109181A TW109124245A TW109124245A TW202109181A TW 202109181 A TW202109181 A TW 202109181A TW 109124245 A TW109124245 A TW 109124245A TW 109124245 A TW109124245 A TW 109124245A TW 202109181 A TW202109181 A TW 202109181A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- upper cover
- soft contact
- downward
- lower cover
- surrounding structure
- Prior art date
Links
- 238000003860 storage Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 22
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 6
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 6
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 2
- JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diol;bis(4-fluorophenyl)methanone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1.C1=CC(F)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(F)C=C1 JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000009191 jumping Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
- B65D85/00—Containers, packaging elements or packages, specially adapted for particular articles or materials
- B65D85/30—Containers, packaging elements or packages, specially adapted for particular articles or materials for articles particularly sensitive to damage by shock or pressure
- B65D85/38—Containers, packaging elements or packages, specially adapted for particular articles or materials for articles particularly sensitive to damage by shock or pressure for delicate optical, measuring, calculating or control apparatus
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
- B65D53/00—Sealing or packing elements; Sealings formed by liquid or plastics material
- B65D53/06—Sealings formed by liquid or plastic material
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
- B01D46/0002—Casings; Housings; Frame constructions
- B01D46/001—Means for connecting filter housings to supports
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
- B01D46/42—Auxiliary equipment or operation thereof
- B01D46/4272—Special valve constructions adapted to filters or filter elements
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
- B01D46/54—Particle separators, e.g. dust precipitators, using ultra-fine filter sheets or diaphragms
- B01D46/543—Particle separators, e.g. dust precipitators, using ultra-fine filter sheets or diaphragms using membranes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
- B65D81/00—Containers, packaging elements, or packages, for contents presenting particular transport or storage problems, or adapted to be used for non-packaging purposes after removal of contents
- B65D81/24—Adaptations for preventing deterioration or decay of contents; Applications to the container or packaging material of food preservatives, fungicides, pesticides or animal repellants
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
- B65D85/00—Containers, packaging elements or packages, specially adapted for particular articles or materials
- B65D85/30—Containers, packaging elements or packages, specially adapted for particular articles or materials for articles particularly sensitive to damage by shock or pressure
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K27/00—Construction of housing; Use of materials therefor
- F16K27/02—Construction of housing; Use of materials therefor of lift valves
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/22—Masks or mask blanks for imaging by radiation of 100nm or shorter wavelength, e.g. X-ray masks, extreme ultraviolet [EUV] masks; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
- G03F7/70916—Pollution mitigation, i.e. mitigating effect of contamination or debris, e.g. foil traps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67353—Closed carriers specially adapted for a single substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67359—Closed carriers specially adapted for containing masks, reticles or pellicles
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67376—Closed carriers characterised by sealing arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67389—Closed carriers characterised by atmosphere control
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2271/00—Sealings for filters specially adapted for separating dispersed particles from gases or vapours
- B01D2271/02—Gaskets, sealings
- B01D2271/027—Radial sealings
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2279/00—Filters adapted for separating dispersed particles from gases or vapours specially modified for specific uses
- B01D2279/50—Filters adapted for separating dispersed particles from gases or vapours specially modified for specific uses for air conditioning
- B01D2279/51—Filters adapted for separating dispersed particles from gases or vapours specially modified for specific uses for air conditioning in clean rooms, e.g. production facilities for electronic devices, laboratories
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
- Check Valves (AREA)
- Lift Valve (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Memory System Of A Hierarchy Structure (AREA)
Abstract
一種光罩收容裝置,包含一上蓋、一下蓋及一軟性接觸部件。該上蓋具有一頂部和一覆蓋部,該覆蓋部圍繞該頂部。該下蓋具有一承載部和一周圍結構,該周圍結構圍繞該承載部。該軟性接觸部件配置成當該上蓋和該下蓋結合時橫向延伸於該覆蓋部和該周圍結構之間,以及自該裝置的一內側延伸至該裝置的一外側,以緩衝該上蓋和該下蓋的結合。
Description
本發明是關於一種光罩收容裝置,尤其關於一種使用軟性接觸的密閉(即密封)光罩盒。
已知的光罩盒通常包含一外盒和一內盒,其中外盒為光罩盒的最外層,而內盒收容在外盒內。在某些態樣中,外盒可由一上蓋及一下蓋組成。相同的,內盒也可由一上蓋及一下蓋組成,並將一光罩容置於其中。
EUV(Extreme Ultraviolet)光罩在微汙染控制方面,主要必須仰賴內盒的上下蓋結合以防止外部粒子及微塵進入內盒中。已知的內盒上下蓋設計利用密封的手段將內盒中的環境與其外部的環境流體隔絕,此阻止內外環境間的氣體流動,故可有效杜絕內盒中的光罩受到汙染。當然,如此密封式的內盒設計也有其缺點。例如,一般內盒上蓋和下蓋是屬於金屬結構,而當上蓋和下蓋結合時有可能因為堅硬碰撞而產生微塵,導致內盒所容置的光罩受到汙染。再者,內盒的密封效果取決於上蓋和下蓋金屬接觸面的粗糙度,粗糙度的要求必須非常嚴格才能達到所述密封效果,使製造成本提高。
因此,有必要發展能夠解決封閉式內盒設計所存在的上述問題,確保內盒收容的光罩不受到汙染。
本發明的目的在於提供一種光罩收容裝置,包含:一上蓋,具有一頂部和一覆蓋部,該覆蓋部圍繞該頂部;一下蓋,具有一承載部和一周圍結構,該周圍結構圍繞該承載部,且當上蓋和下蓋結合時該周圍結構面對該覆蓋部;及一軟性接觸部件,配置成當該上蓋和該下蓋結合時橫向延伸於該覆蓋部和該周圍結構之間,以及自該裝置的一內側延伸至該裝置的一外側,以緩衝該上蓋和該下蓋的結合。
在一具體實施例中,該上蓋的覆蓋部具有一朝下結合面,該軟性接觸部件於該朝下結合面延伸並包覆該朝下結合面。
在一具體實施例中,該軟性接觸部件具有一朝下密封面,該朝下密封面用於和該下蓋的周圍結構的一朝上結合面接觸。
在一具體實施例中,該軟性接觸部件具有一朝下密封面和自該朝下密封面向下延伸的至少一凸出部,該至少一凸出部用於和該下蓋的周圍結構的一朝上結合面接觸。
在一具體實施例中,該上蓋的覆蓋部具有一朝下結合面,該覆蓋部具有自該朝下結合面向下延伸的多個支撐柱,該周圍結構具有對應該等支撐柱的多個容置凹部,各支撐柱具有至少一個彈性結構,以緩衝該上蓋和該下蓋的結合。
本發明的另一目的在於提供一種光罩收容裝置,包含:一上蓋,具有一頂部和一覆蓋部,該覆蓋部圍繞該頂部;一下蓋,具有一承載部和一周圍結構,該周圍結構圍繞該承載部,且當上蓋和下蓋結合時該周圍結構面對該覆蓋部;一第一軟性接觸部件,橫向延伸於該上蓋的覆蓋部的一朝下結合面;及一第二軟性接觸部件,橫向延伸於該下蓋的周圍結構的一朝上結合面,其中當該上蓋和該下蓋結合時,該第一軟性接觸部件與該第二軟性接觸部件相接觸,以緩衝該上蓋和該下蓋的結合。
在一具體實施例中,該第一軟性接觸部件的一內側與該第二軟性接觸部件的一外側相接觸。
在一具體實施例中,該第一軟性接觸部件的至少一部分包覆該上蓋的覆蓋部。
在一具體實施例中,該第一軟性接觸部件的硬度大於該第二軟性接觸部件的硬度。
在以下本發明的說明書以及藉由本發明原理所例示的圖式當中,將更詳細呈現本發明的這些與其他特色和優點。
底下將參考圖式更完整說明本發明,並且藉由例示顯示特定範例具體實施例。不過,本主張主題可具體實施於許多不同形式,因此所涵蓋或申請主張主題的建構並不受限於本說明書所揭示的任何範例具體實施例;範例具體實施例僅為例示。同樣,本發明在於提供合理寬闊的範疇給所申請或涵蓋之主張主題。除此之外,例如主張主題可具體實施為方法、裝置或系統。因此,具體實施例可採用例如硬體、軟體、韌體或這些的任意組合(已知並非軟體)之形式。
本說明書內使用的詞彙「一實施例」並不必要參照相同具體實施例,且本說明書內使用的「其他(一些/某些)實施例」並不必要參照不同的具體實施例。其目的在於例如主張的主題包括全部或部分範例具體實施例的組合。
本發明旨在提供一種密閉式光罩收容裝置。第一A圖及第一B圖顯示一光罩收容裝置的俯視圖和側視圖。所述光罩收容裝置包含一上蓋(101)及一下蓋(102)。一光罩(未顯示)係容置於上蓋(101)和下蓋(102)之間。所述密閉式光罩收容裝置的特色在於,當上蓋(101)和下蓋(102)連接結合時,容置的光罩藉由一和多個軟性接觸部件的配置而受到密封。雖然未顯示,但所述光罩收容裝置還可容納於一外盒中。本發明密閉式光罩收容裝置主要關於一內盒,上蓋(101)的表面及下蓋(102)的表面可進一步提供有與所述外盒連接的機構或接觸。
第一A圖的俯視圖顯示本發明光罩收容裝置具有一中央區域及圍繞該中央區域的四個邊。光罩容置空間大致上位於中央區域的下方。本發明光罩收容裝置因在中央區域(光罩容置空間)和這些邊之間提供有特定的軟性接觸部件(未顯示),使上蓋(101)和下蓋(102)結合後形成一密封的容置空間,賦予本發明光罩收容裝置的氣密效果。氣體由第一B圖所示上蓋(101)和下蓋(102)之間的一和多個軟性接觸部件(未顯示)被隔絕於光罩容置空間之外,避免粒子汙染容置的光罩。如第一A圖和第二圖所示,上蓋(101)的頂部可進一步配置有用於回填氣體的多個進氣孔(未編號)以及用於過濾粒子的濾網(未顯示)。
第二圖顯示本發明光罩收容裝置的立體圖以及AA剖面線和BB剖面線。第三圖、第四A圖至第四B圖及第六A圖至第六B圖是根據AA線的剖面圖,並分別顯示本發明軟性接觸部件的不同實施例。此外,第八圖是根據BB線的剖面圖。
參第三圖,一上蓋(101)具有一頂部(201)和一覆蓋部(202)。覆蓋部(202)自頂部(201)橫向及向下延伸,且具有相對較大的厚度。雖然只有局部顯示,覆蓋部(202)圍繞頂部(201)並沿著上蓋(101)的四邊延伸。一下蓋(102)具有一承載部(203)和一周圍結構(204)。承載部(203)提供一承載面用於承載一光罩。所述承載面(203)可提供有多個支撐或限位元件以定義一光罩放置區域。周圍結構(204)沿著下蓋(102)的四邊圍繞承載部(203)且略低於承載部(203)的承載面。在某些實施例中,周圍結構(204)可高於承載部(203)的承載面。
當上蓋(101)與下蓋(102)結合時,承載部(203)與上蓋(101)的頂部(201)和覆蓋部(202)定義一光罩容置空間。上蓋(101)的覆蓋部(202)面對下蓋(102)的周圍結構(204),但兩者不相互接觸或僅有部分接觸。上蓋(101)的覆蓋部(202)具有一朝下結合面(205),而下蓋(102)的周圍結構(204)具有一朝上結合面(206)。當上蓋(101)和下蓋(102)結合時,朝下結合面(205)面對朝上結合面(206),且兩者相互平行。在本實施例中,朝下結合面(205)的面積大於朝上結合面(206)的面積。一軟性接觸部件(207)配置成當上蓋(101)和下蓋(102)結合時橫向延伸於覆蓋部(202)和周圍結構(204)之間。且,軟性接觸部件(207)自所述裝置的一內側延伸至所述裝置的一外側。所述內側為位於所述光罩容置空間的該側,而所述外側為位於所述裝置的外部空間的該側。以下將描述軟性接觸部件(207)固定於上蓋(101)朝下結合面(205)的實施例,但應了解在其他實施例中,軟性接觸部件(207)可固定於下蓋(102)的周圍結構(204)上。藉由軟性接觸部件的配置,上蓋(101)和下蓋(102)的碰撞得以被緩衝。
本文所述軟性接觸部件是指硬度小於所述上蓋及/或下蓋材質的部件。一般而言,所述上蓋和下蓋為金屬製成,因而所述軟性接觸部件可選自硬度相對低於金屬的材質,像是塑膠或樹脂等。
第四A圖顯示本發明軟性接觸部件的一具體實施例(上蓋和下蓋未完成結合)。一軟性接觸部件(400)包覆了覆蓋部(202)的朝下結合面(205),且軟性接觸部件(400)在靠近所述內側和外側的部分形成有特定彎折結構,其確保朝下結合面(205)的周圍被完整包覆。軟性接觸部件(400)具有一朝下密封面(401),其大致上與周圍結構(204)的朝上結合面(204)平行,使當上蓋(101)和下蓋(102)結合時,軟性接觸部件(400)的朝下密封面(401)有效接觸朝上結合面(206),避免形成空隙。如圖所示,軟性接觸部件(400)在相對於朝下密封面(401)的一側還具有一固定部(402),其配置成可插入和埋入覆蓋部(202),使軟性接觸部件(400)穩固貼附於朝下結合面(205)。在其他實施例中,固定部(402)可省略,軟性接觸部件(400)則黏貼至朝下結合面(205)。
第四B圖顯示本發明軟性接觸部件的另一實施例(上蓋和下蓋未完成結合)。不同於前述實施例,一軟性接觸部件(400’)的一朝下密封面(401)上還形成有至少一個凸出部(403),其自朝下密封面(401)向下延伸。本實施例具有兩個凸出部(403),分別靠近所述內側及外側。在其他實施例中,軟性接觸部件可包含更多或更少的凸出部(403)。儘管未顯示,仍應了解的是,凸出部(403)是沿著覆蓋部(202)延伸。當上蓋(101)和下蓋(102)結合時,凸出部(403)與周圍結構(204)的朝上結合面(206)接觸,使光罩容置空間被氣密。
第五圖顯示第四A圖上蓋(101)的一仰視圖,其中頂部(201)被覆蓋部(202)圍繞,且軟性接觸部件(400)沿著覆蓋部(202)並將其朝下結合面包覆。在本實施例中,軟性接觸部件(400)平整延伸於上蓋的覆蓋部(202)。在其他可能的實施例中,軟性接觸部件(400)可具有起伏的延伸。
第六A圖顯示本發明的再一實施例(上蓋和下蓋已結合)。一第一軟性接觸部件(600)固定於覆蓋部(202)的朝下結合面(205)並自朝下結合面(205)向下延伸一高度。一第二軟性接觸部件(601)固定於周圍結構(204)的朝上結合面(206)並自朝上結合面(206)向上延伸一高度。第一軟性接觸部件(600)和第二軟性接觸部件(601)可具有相同或不同的高度。較佳地,第一和第二軟性接觸部件(600、601)的高度相同,使兩者分別能夠接觸朝下和朝上結合面(205、206),形成較好的氣密效果。較佳地,當上蓋(101)和下蓋(102)結合時,第一軟性接觸部件(600)的一內側能與第二軟性接觸部件(601)的一外側完全接觸,避免空隙產生。第一和第二軟性接觸部件(600、601)以至少部分各別插入或埋入朝下和朝上結合面(205、206)以固定部件的位置。
第六B圖顯示本發明的又一實施例(上蓋和下蓋未結合)。不同於前述實施例,一第一軟性接觸部件(600’)進一步包含包覆朝下結合面(205)的一橫向延伸。因此,當上蓋(101)與下蓋(102)結合時,第二軟性接觸部件(601)除了接觸地一軟性接觸部件(600’)的一內側也接觸軟性接觸部件(600’)的一朝下密封面,使氣密效果提升。值得注意的是,如這種上蓋和下蓋分別具有軟性接觸部件的配置,必須確保部件接觸時,其中一軟性接觸部件不會過分地變形,避免形成縫隙。
第七A圖顯示另一實施例的爆炸圖,第七B圖為其剖面圖。一第一軟性接觸部件(700)固定於覆蓋部(202)的朝下結合面(205)。一第二軟性接觸部件(701)則以埋設或鎖固的手段固定於第一軟性接觸部件(700)上。其中第一軟性接觸部件(700)相對於第二軟性接觸部件(701)為較硬的材料,像是一種塑料,如PEEK。換言之,本實施例的第一軟性接觸部件(700)類似為一支撐架。
第八圖顯示再一實施例的剖面圖。一軟性接觸部件(800)係部分被埋入於沿著周圍結構(204)延伸的一溝槽中,使軟性接觸部件(800)暴露且凸出於周圍結構(204)的朝上結合面(206)。覆蓋部(202)以朝下結合面(205)接觸軟性接觸部件(800),以形成一密封。軟性接觸部件(800)的剖面可為任合適合的替代形狀。
此外,如第三圖、第四A圖至第四B圖、第六A圖至第六B圖、第七B圖以及第八圖所示,在下蓋的所述周圍結構(204)和所述承載部(203)還形成有至少一溝槽(214)。僅管上述實施例均具有軟性接觸部件所形成的密封,所述溝槽(214)的配置可有助於捕捉遺漏的粒子,增加粒子躍升至承載部的困難度。
第九圖為根據BB線的剖面圖,顯示本發明光罩收容裝置的角落結構,包含用於上蓋(101)和下蓋(102)的一緩衝手段。上蓋(101)的覆蓋部(202)具有多個支撐柱(212),這些支撐柱可提供於上蓋(101)的四個角落(或具有相對較大面積的覆蓋部)自覆蓋部(202)向下延伸。在下蓋(102)的周圍結構(204)具有對應的多個容置凹部(213),其配置成部分地容置對應的支撐柱(212),使上蓋(101)的覆蓋部(202)被舉升於下蓋(102)的周圍結構(204)的上方,達到緩衝撞擊的效果。在一實施例中,支撐柱(212)外露部分的一高度大於容置凹部(213)的一有效收容深度,使上蓋(101)可被稍微抬升於下蓋(102)的上方(圖中未示)。前述軟性接觸部件(400、400’、600’)的延伸可避開這些支撐柱(212)或者可與這些支撐柱(212)一體成型。
第十圖也是根據BB線的剖面圖,但不同實施例。不同的是,支撐柱(912)具有兩個彈性結構,分別是固定於一固定部(9121)的一彈簧(9122)以及固定於彈簧(9122)底部的一彈性末端(9123)。彈性末端(9123)材質可為PEEK或氟化橡膠,其塑形成適合與下蓋緩衝接觸的任何形狀。第十一圖顯示支撐柱的再一實施例。併參第十二圖,支撐柱(1012)具有容置於上蓋中的一彈性框架(1100)以及連接於彈性框架(1100)底部的一末端(1101)。彈性框架(1100)是由多個可垂直壓縮的框架連接而成且朝兩個二維方向延伸。彈性框架(1100)具有多個簍空,其提供支撐柱(1100)被垂直壓縮時的緩衝。末端(1101)可選用堅硬或軟性材質並塑形成適合與下蓋結合的任何形狀。
第十三圖是根據第八圖的另一種配置,其進一步在上蓋的頂部(201)提供有向下延伸的至少一固定銷(1300),且固定銷(1300)相對於上蓋是不可移動的構件。如圖所示的局部剖面,固定銷(1300)大致上為一T型,其頂部再由一覆蓋件(1301)覆蓋固定。當上蓋和下蓋結合時,固定銷(1300)的末端接觸容置光罩(R)的頂面,藉此固定銷(1300)將上蓋略抬升一高度,但固定銷(1300)的長度經由選擇而不使覆蓋部(202)離開軟性接觸部件(800),因此不會破壞所述光罩容置空間的密封。
綜上所述,本發明光罩收容裝置因在上蓋和下蓋之間提供軟性接觸部件的設計,賦予本裝置或光罩內盒呈密閉的狀態,有助於裝置的抗污染效果。
雖然為了清楚瞭解已經用某些細節來描述前述本發明,吾人將瞭解在申請專利範圍內可實施特定變更與修改。因此,以上實施例僅用於說明,並不設限,並且本發明並不受限於此處說明的細節,但是可在附加之申請專利範圍的領域及等同者下進行修改。
101:上蓋
102:下蓋
201:頂部
202:覆蓋部
203:承載部
204:周圍結構
205:朝下結合面
206:朝上結合面
AA:剖面線
207:軟性接觸部件
212:支撐柱
213:凹部
214:溝槽
400、400’:軟性接觸部件
401:朝下密封面
402:固定部
600、600’:第一軟性接觸部件
601:第二軟性接觸部件
BB:剖面線
700:第一軟性接觸部件
701:第二軟性接觸部件
800:軟性接觸部件
912:支撐柱
9121:固定部
9122:彈簧
9123:彈性末端
1012:支撐柱
1100:彈性框架
1101:末端
1300:固定銷
1301:覆蓋件
參照下列圖式與說明,可更進一步理解本發明。非限制性與非窮舉性實例系參照下列圖式而描述。在圖式中的部件並非必須為實際尺寸;重點在於說明結構及原理。
第一A圖及第一B圖分別顯示光罩收容裝置的一俯視圖及一側視圖。
第二圖顯示光罩收容裝置的一立體視圖。
第三圖顯示本發明光罩收容裝置的一AA線剖面示意圖。
第四A圖及第四B圖顯示本發明光罩收容裝置的不同實施例。
第五圖顯示第四A圖實施例的上蓋仰視圖。
第六A圖及第六B圖顯示本發明光罩收容裝置的其他不同實施例。
第七A圖及第七B圖顯示本發明光罩收容裝置的另一實施例爆炸圖及剖面圖。
第八圖顯示本發明光罩收容裝置的再一實施例剖面圖。
第九圖顯示本發明光罩收容裝置的一BB線剖面圖。
第十圖顯示本發明光罩收容裝置的一BB線剖面圖(另一實施例)。
第十一圖顯示本發明光罩收容裝置的一BB線剖面圖(再一實施例)。
第十二圖顯示第十圖支撐柱的具體結構。
第十三圖為根據第八圖的另一種配置。
201:頂部
202:覆蓋部
203:承載部
204:周圍結構
205:朝下結合面
206:朝上結合面
214:溝槽
400:軟性接觸部件
401:朝下密封面
402:固定部
Claims (20)
- 一種光罩收容裝置,包含: 一上蓋,具有一頂部和一覆蓋部,該覆蓋部圍繞該頂部; 一下蓋,具有一承載部和一周圍結構,該周圍結構圍繞該承載部,且當上蓋和下蓋結合時該周圍結構面對該覆蓋部;及 一軟性接觸部件,配置成當該上蓋和該下蓋結合時橫向延伸於該覆蓋部和該周圍結構之間,以緩衝該上蓋和該下蓋的結合。
- 如申請專利範圍第1項所述之光罩收容裝置,其中該軟性接觸部件自該裝置的一內側延伸至該裝置的一外側。
- 如申請專利範圍第1項所述之光罩收容裝置,其中該上蓋的覆蓋部具有一朝下結合面,該軟性接觸部件於該朝下結合面延伸並包覆該朝下結合面。
- 如申請專利範圍第2項所述之光罩收容裝置,其中該軟性接觸部件具有一朝下密封面,該朝下密封面用於和該下蓋的周圍結構的一朝上結合面接觸。
- 如申請專利範圍第2項所述之光罩收容裝置,其中該軟性接觸部件具有一朝下密封面和自該朝下密封面向下延伸的至少一凸出部,該至少一凸出部用於和該下蓋的周圍結構的一朝上結合面接觸。
- 如申請專利範圍第1項所述之光罩收容裝置,其中該上蓋的覆蓋部具有一朝下結合面,該覆蓋部具有自該朝下結合面向下延伸的多個支撐柱,該周圍結構具有對應該等支撐柱的多個容置凹部,各支撐柱具有至少一個彈性結構,以緩衝該上蓋和該下蓋的結合。
- 如申請專利範圍第1項所述之光罩收容裝置,其中該下蓋部的周圍結構和承載部之間配置有至少一溝槽。
- 如申請專利範圍第1項所述之光罩收容裝置,其中該上蓋和該下蓋定義一光罩容置空間,該光罩容置空間藉由該軟性接觸部件密封。
- 如申請專利範圍第8項所述之光罩收容裝置,其中該上蓋還具有至少一固定銷,該固定銷自該上蓋向下延伸用於接觸該光罩容置空間中的一光罩,且未破壞該光罩容置空間的密封。
- 一種光罩收容裝置,包含: 一上蓋,具有一頂部和一覆蓋部,該覆蓋部圍繞該頂部; 一下蓋,具有一承載部和一周圍結構,該周圍結構圍繞該承載部; 一第一軟性接觸部件,橫向延伸於該上蓋的覆蓋部的一朝下結合面;及 一第二軟性接觸部件,橫向延伸於該下蓋的周圍結構的一朝上結合面, 其中,當該上蓋和該下蓋結合時,該第一軟性接觸部件與該第二軟性接觸部件相接觸,以緩衝該上蓋和該下蓋的結合。
- 如申請專利範圍第10項所述之光罩收容裝置,其中該第一軟性接觸部件的一內側與該第二軟性接觸部件的一外側相接觸。
- 如申請專利範圍第10項所述之光罩收容裝置,其中該第一軟性接觸部件的至少一部分包覆該上蓋的覆蓋部。
- 如申請專利範圍第10項所述之光罩收容裝置,其中該第一軟性接觸部件的硬度大於該第二軟性接觸部件的硬度。
- 如申請專利範圍第10項所述之光罩收容裝置,其中該上蓋的覆蓋部具有一朝下結合面,該覆蓋部具有自該朝下結合面向下延伸的多個支撐柱,該周圍結構具有對應該等支撐柱的多個容置凹部,各支撐柱具有至少一個彈性結構,以緩衝該上蓋和該下蓋的結合。
- 如申請專利範圍第10項所述之光罩收容裝置,其中該下蓋部的周圍結構和承載部之間配置有至少一溝槽。
- 如申請專利範圍第10項所述之光罩收容裝置,其中該上蓋和該下蓋定義一光罩容置空間,該光罩容置空間藉由該第一和第二軟性接觸部件密封。
- 如申請專利範圍第16項所述之光罩收容裝置,其中該上蓋還具有至少一固定銷,該固定銷自該上蓋向下延伸用於接觸該光罩容置空間中的一光罩,且未破壞該光罩容置空間的密封。
- 一種光罩收容裝置,包含: 一上蓋,具有一頂部和一覆蓋部,該覆蓋部圍繞該頂部; 一下蓋,具有一承載部和一周圍結構,該周圍結構圍繞該承載部;以及 至少一固定銷,該固定銷自該上蓋向下延伸,且該固定銷頂部由一覆蓋件覆蓋; 其中,當該上蓋和該下蓋結合時該周圍結構面對該覆蓋部。
- 如申請專利範圍第18項所述之光罩收容裝置,其中,該上蓋的覆蓋部具有一朝下結合面,該覆蓋部具有自該朝下結合面向下延伸的多個支撐柱,該周圍結構具有對應該等支撐柱的多個容置凹部,各支撐柱具有至少一個彈性結構。
- 如申請專利範圍第18或19項所述之光罩收容裝置,其中,該光罩收容裝置更包含: 至少一軟性接觸部件,配置成當該上蓋和該下蓋結合時橫向延伸於該覆蓋部和該周圍結構之間。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201962887753P | 2019-08-16 | 2019-08-16 | |
US62/887,753 | 2019-08-16 | ||
US16/929,748 | 2020-07-15 | ||
US16/929,748 US11511920B2 (en) | 2019-08-16 | 2020-07-15 | Sealed reticle storage device with soft contact |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202109181A true TW202109181A (zh) | 2021-03-01 |
TWI737411B TWI737411B (zh) | 2021-08-21 |
Family
ID=74567119
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW109123247A TWI752547B (zh) | 2019-08-16 | 2020-07-09 | 非密閉式光罩收容裝置 |
TW109124245A TWI737411B (zh) | 2019-08-16 | 2020-07-17 | 軟性接觸之密閉式光罩收容裝置 |
TW109124249A TWI792020B (zh) | 2019-08-16 | 2020-07-17 | 快拆型氣閥模組、配置有快拆型氣閥模組之光罩傳送盒、配置快速氣閥模組於光罩傳送盒之方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW109123247A TWI752547B (zh) | 2019-08-16 | 2020-07-09 | 非密閉式光罩收容裝置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW109124249A TWI792020B (zh) | 2019-08-16 | 2020-07-17 | 快拆型氣閥模組、配置有快拆型氣閥模組之光罩傳送盒、配置快速氣閥模組於光罩傳送盒之方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US11104496B2 (zh) |
JP (3) | JP7041722B2 (zh) |
KR (3) | KR102439646B1 (zh) |
CN (3) | CN112393003B (zh) |
TW (3) | TWI752547B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI831314B (zh) * | 2021-08-30 | 2024-02-01 | 台灣積體電路製造股份有限公司 | 倍縮光罩外殼及其處置方法 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11104496B2 (en) * | 2019-08-16 | 2021-08-31 | Gudeng Precision Industrial Co., Ltd. | Non-sealed reticle storage device |
CN113937041A (zh) | 2021-06-30 | 2022-01-14 | 家登精密工业股份有限公司 | 基板容器系统 |
TWI782689B (zh) * | 2021-09-02 | 2022-11-01 | 家登精密工業股份有限公司 | 快拆式氣閥、具有快拆式氣閥的基板容器及快拆式氣閥的安裝和拆卸方法 |
US20230129336A1 (en) * | 2021-10-25 | 2023-04-27 | Entegris, Inc. | Extreme ultraviolet inner pod seal gap |
TW202400488A (zh) * | 2022-06-28 | 2024-01-01 | 美商恩特葛瑞斯股份有限公司 | 光罩容器中用於間隔之插件 |
WO2024064194A1 (en) * | 2022-09-20 | 2024-03-28 | Entegris, Inc. | Perimeter frame for spacing reticle pods |
Family Cites Families (54)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3334774A (en) * | 1964-11-27 | 1967-08-08 | Johns Manville | Fluid seal |
US3615006A (en) * | 1969-06-26 | 1971-10-26 | Ibm | Storage container |
US4854476A (en) * | 1988-07-25 | 1989-08-08 | Serco Mold, Inc. | Container and perimeter seal therefor |
US5469963A (en) * | 1992-04-08 | 1995-11-28 | Asyst Technologies, Inc. | Sealable transportable container having improved liner |
JP3356897B2 (ja) * | 1994-12-16 | 2002-12-16 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル収納容器 |
DE19616646A1 (de) * | 1996-04-26 | 1997-11-06 | Mann & Hummel Filter | Ventil für Flüssigkeiten |
US6170690B1 (en) * | 1997-05-09 | 2001-01-09 | Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. | Air-tightly sealable container with bell jar covering |
JPH1174337A (ja) * | 1997-08-28 | 1999-03-16 | Nippon Zeon Co Ltd | 熱可塑性樹脂製容器 |
JP3506207B2 (ja) * | 1998-02-20 | 2004-03-15 | 三菱住友シリコン株式会社 | ウェーハケース |
US6319297B1 (en) * | 1998-03-27 | 2001-11-20 | Asyst Technologies, Inc. | Modular SMIF pod breather, adsorbent, and purge cartridges |
FR2779100B1 (fr) * | 1998-05-28 | 2000-08-18 | Journee Paul Sa | Dispositif de mise a l'air libre d'un reservoir de carburant de vehicule automobile |
US6187182B1 (en) * | 1998-07-31 | 2001-02-13 | Semifab Incorporated | Filter cartridge assembly for a gas purging system |
WO2001062618A1 (en) * | 1999-02-01 | 2001-08-30 | Waterfall Company, Inc. | A modular contamination-avoiding cap delivery system for attachment to neck of a container |
KR20010009054A (ko) * | 1999-07-07 | 2001-02-05 | 조승열 | 레티클 보관케이스 |
JP5051948B2 (ja) * | 2001-05-30 | 2012-10-17 | 株式会社ダイヘン | カセット搬送方法及びカセット搬送システム |
JP2004119523A (ja) * | 2002-09-24 | 2004-04-15 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
JP4204302B2 (ja) * | 2002-10-25 | 2009-01-07 | 信越ポリマー株式会社 | 収納容器 |
US7455180B2 (en) * | 2002-10-25 | 2008-11-25 | Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. | Substrate storage container |
US7328727B2 (en) | 2004-04-18 | 2008-02-12 | Entegris, Inc. | Substrate container with fluid-sealing flow passageway |
JP2006103795A (ja) * | 2004-09-10 | 2006-04-20 | Nippon Valqua Ind Ltd | ガラス基板収納ケース、ガラス基板入替装置、ガラス基板管理装置、ガラス基板流通方法、シール部材及びこのシール部材を用いたシール構造 |
CN1980841A (zh) * | 2004-09-10 | 2007-06-13 | 日本华而卡工业株式会社 | 玻璃基板容纳箱、玻璃基板调换装置、玻璃基板管理装置、玻璃基板流通方法、密封部件及使用该密封部件的密封构造 |
JP4581681B2 (ja) * | 2004-12-27 | 2010-11-17 | 株式会社ニコン | レチクル保護装置および露光装置 |
US7607543B2 (en) * | 2005-02-27 | 2009-10-27 | Entegris, Inc. | Reticle pod with isolation system |
US7400383B2 (en) * | 2005-04-04 | 2008-07-15 | Entegris, Inc. | Environmental control in a reticle SMIF pod |
JP2007047238A (ja) * | 2005-08-08 | 2007-02-22 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | ペリクル用収納容器 |
KR101442451B1 (ko) * | 2005-09-27 | 2014-09-22 | 엔테그리스, 아이엔씨. | 레티클 포드 |
JP2007128030A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-05-24 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | ペリクル用収納容器 |
US20070175792A1 (en) * | 2006-02-02 | 2007-08-02 | Barry Gregerson | Magnetic seal for wafer containers |
JP2007210655A (ja) * | 2006-02-10 | 2007-08-23 | Fujitsu Ltd | 収納ケース |
JP2007329439A (ja) * | 2006-05-12 | 2007-12-20 | Miraial Kk | レチクルケース |
JP2008032915A (ja) | 2006-07-27 | 2008-02-14 | Hoya Corp | マスクケース |
JP4800155B2 (ja) | 2006-09-04 | 2011-10-26 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器及び逆止弁 |
JP4855885B2 (ja) | 2006-09-29 | 2012-01-18 | Hoya株式会社 | マスクケース、マスクカセット、パターン転写方法及び表示装置の製造方法 |
US7828302B2 (en) * | 2007-08-15 | 2010-11-09 | Federal-Mogul Corporation | Lateral sealing gasket and method |
JP5464859B2 (ja) | 2008-02-01 | 2014-04-09 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ペリクル収納容器 |
CN201278344Y (zh) * | 2008-06-19 | 2009-07-22 | 亿尚精密工业股份有限公司 | 移载容器稳压系统结构 |
JP2010113202A (ja) * | 2008-11-07 | 2010-05-20 | Panasonic Corp | マスク収納容器及びその開放方法 |
TWI411563B (zh) * | 2009-09-25 | 2013-10-11 | Gudeng Prec Industral Co Ltd | 光罩盒 |
CN202193337U (zh) * | 2011-08-09 | 2012-04-18 | 陈明生 | 气密光罩盒构造 |
TWM449886U (zh) * | 2012-09-26 | 2013-04-01 | Gudeng Prec Ind Co Ltd | 充氣逆止閥及具有充氣逆止閥的精密元件收納裝置 |
EP2909110B1 (en) * | 2012-10-19 | 2017-08-30 | Entegris, Inc. | Reticle pod with cover to baseplate alignment system |
US9412632B2 (en) * | 2012-10-25 | 2016-08-09 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Reticle pod |
US20150368003A1 (en) * | 2013-01-23 | 2015-12-24 | Csp Technologies, Inc. | Packaging sealing system and a packaging assembly including such a sealing system |
JP6011392B2 (ja) * | 2013-02-28 | 2016-10-19 | 富士通株式会社 | 防水筺体及び防水筺体の製造方法 |
TWI542520B (zh) * | 2014-02-27 | 2016-07-21 | 耀連科技有限公司 | 隔離式搬運盒 |
TWM505053U (zh) * | 2015-04-17 | 2015-07-11 | Micro Lithography Inc | 光罩防塵框架結構 |
JP6604651B2 (ja) * | 2016-02-22 | 2019-11-13 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル収納容器 |
KR101816997B1 (ko) * | 2016-05-19 | 2018-01-10 | 정규천 | 화장품 리필 케이스 |
JP6825083B2 (ja) * | 2016-08-27 | 2021-02-03 | インテグリス・インコーポレーテッド | レチクルの側面抑制を有するレチクルポッド |
JP6490845B2 (ja) * | 2017-01-25 | 2019-03-27 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 | 極紫外線フォトマスクポッド |
WO2018226800A1 (en) | 2017-06-09 | 2018-12-13 | Entegris, Inc. | Substrate container with particle mitigation feature |
TWI698608B (zh) * | 2018-01-11 | 2020-07-11 | 家登精密工業股份有限公司 | 快拆式氣閥及應用其之基板容器 |
TWI690771B (zh) * | 2018-01-11 | 2020-04-11 | 家登精密工業股份有限公司 | 光罩壓抵單元及應用其之極紫外光光罩容器 |
US11104496B2 (en) | 2019-08-16 | 2021-08-31 | Gudeng Precision Industrial Co., Ltd. | Non-sealed reticle storage device |
-
2020
- 2020-07-08 US US16/923,458 patent/US11104496B2/en active Active
- 2020-07-09 TW TW109123247A patent/TWI752547B/zh active
- 2020-07-15 US US16/929,748 patent/US11511920B2/en active Active
- 2020-07-17 TW TW109124245A patent/TWI737411B/zh active
- 2020-07-17 TW TW109124249A patent/TWI792020B/zh active
- 2020-07-31 CN CN202010759679.8A patent/CN112393003B/zh active Active
- 2020-08-03 KR KR1020200096649A patent/KR102439646B1/ko active IP Right Grant
- 2020-08-03 KR KR1020200096650A patent/KR102522363B1/ko active IP Right Grant
- 2020-08-03 KR KR1020200096651A patent/KR102385686B1/ko active IP Right Grant
- 2020-08-03 CN CN202010765889.8A patent/CN112394612A/zh active Pending
- 2020-08-05 JP JP2020133042A patent/JP7041722B2/ja active Active
- 2020-08-05 JP JP2020133043A patent/JP7164570B2/ja active Active
- 2020-08-06 CN CN202010781434.5A patent/CN112389846B/zh active Active
- 2020-08-11 JP JP2020135745A patent/JP6995171B2/ja active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI831314B (zh) * | 2021-08-30 | 2024-02-01 | 台灣積體電路製造股份有限公司 | 倍縮光罩外殼及其處置方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112393003B (zh) | 2022-11-22 |
TW202109180A (zh) | 2021-03-01 |
JP6995171B2 (ja) | 2022-01-14 |
JP2021033290A (ja) | 2021-03-01 |
US20210048755A1 (en) | 2021-02-18 |
CN112389846B (zh) | 2022-08-26 |
US20210047094A1 (en) | 2021-02-18 |
KR20210021269A (ko) | 2021-02-25 |
US20210048114A1 (en) | 2021-02-18 |
US11511920B2 (en) | 2022-11-29 |
KR102522363B1 (ko) | 2023-04-17 |
JP2021033291A (ja) | 2021-03-01 |
TWI737411B (zh) | 2021-08-21 |
CN112394612A (zh) | 2021-02-23 |
KR102385686B1 (ko) | 2022-04-12 |
CN112393003A (zh) | 2021-02-23 |
JP7041722B2 (ja) | 2022-03-24 |
JP7164570B2 (ja) | 2022-11-01 |
TWI792020B (zh) | 2023-02-11 |
KR20210021268A (ko) | 2021-02-25 |
CN112389846A (zh) | 2021-02-23 |
KR102439646B1 (ko) | 2022-09-02 |
TWI752547B (zh) | 2022-01-11 |
JP2021032415A (ja) | 2021-03-01 |
US11104496B2 (en) | 2021-08-31 |
KR20210021270A (ko) | 2021-02-25 |
TW202109709A (zh) | 2021-03-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI737411B (zh) | 軟性接觸之密閉式光罩收容裝置 | |
TWI623810B (zh) | 光罩盒 | |
US5422704A (en) | Pellicle frame | |
TWI378887B (en) | Reticle pod and supporting components therebetween | |
JP5281697B2 (ja) | 半導体ウエハ収納容器 | |
KR20190044674A (ko) | 시일재 | |
KR102312063B1 (ko) | 기판을 보유하기 위한 기기 및 상기 기기를 제조하는 방법 | |
KR102520678B1 (ko) | 가이딩 부품이 있는 레티클 포드 | |
WO2014174642A1 (ja) | 流体収容構造物の免震構造及びこの免震構造を用いた流体収容構造物 | |
JP4904469B2 (ja) | ガラススクリーン構造 | |
JP6896924B2 (ja) | アキュムレータ | |
CN113741138A (zh) | 光掩模盒及于一光掩模盒内固持一光掩模的方法 | |
JP7242726B2 (ja) | 保持ピンを備えたレチクルポッドおよびレチクルの保持方法 | |
JP5639379B2 (ja) | 弾性滑り支承構造体 | |
TW201509767A (zh) | 封裝插入件 | |
JPH11154699A (ja) | 容器の封止構造 | |
JP6060288B2 (ja) | エアフィルタの製造方法 | |
JP4161098B2 (ja) | 気密容器 | |
JP6668668B2 (ja) | 免震装置 | |
TWM513367U (zh) | 包裝結構 | |
JP2002021924A (ja) | 免振装置 | |
JP2013146670A (ja) | エアフィルタ | |
TWM567236U (zh) | Sealing box and its gasket | |
JP2006274718A (ja) | エキスパンションジョイント構造 | |
JP2012194505A (ja) | 表示装置用ケース |