CN1980841A - 玻璃基板容纳箱、玻璃基板调换装置、玻璃基板管理装置、玻璃基板流通方法、密封部件及使用该密封部件的密封构造 - Google Patents

Abstract

提供一种可防止玻璃基板的质量恶化的玻璃基板容纳箱、可自动将玻璃基板从玻璃基板容纳箱调换到其他箱体中的玻璃基板调换装置、分别管理玻璃基板的玻璃基板管理装置、将玻璃基板容纳在专用的玻璃基板容纳箱中进行交换的玻璃基板流通方法、提高密封效果的密封部件、及使用了该密封部件的密封构造。所述玻璃基板容纳箱具有：放置中间掩模R的底部件12；盖部件20，以覆盖放置在底部件12上的中间掩模R的方式与底部件12配合，在其与底部件12之间形成空间部；密封部件18，设置在底部件12或/及盖部件20上，在盖部件20与底部件12配合的状态下使空间部气密；和挂钩部件24，设置在盖部件20上，与底部件12勾挂，维持盖部件20与底部件12配合的状态。

Description

玻璃基板容纳箱、玻璃基板调换装置、玻璃基板管理装置、玻璃基板流通方法、密封部件及使用该密封部件的密封构造

技术领域

本发明涉及一种容纳中间掩模(reticule)等玻璃基板的玻璃基板容纳箱、将容纳在玻璃基板容纳箱内的玻璃基板调换到其他的步进箱中的玻璃基板调换装置、具有玻璃基板调换装置并分别单独管理玻璃基板的玻璃基板管理装置、流通/交换玻璃基板的玻璃基板流通方法、可提高密封效果的密封部件、以及使用了该密封部件的密封构造。

背景技术

通过光刻法制造半导体元件时，使用将中间掩模上预先形成的图形投影并转印到半导体晶片上的曝光装置(步进器)。在制造半导体元件时，需要使用多张中间掩模对不同的图形进行曝光，因此按照半导体元件的种类需要多个中间掩模。因此，在曝光装置的附近设置用于保管多个中间掩模的储藏库。

其中，为了防止在上述中间掩模至曝光装置之前附着灰尘或被人直接接触，而将中间掩模容纳在中间掩模容纳箱中进行处理。即，从制造中间掩模的中间掩模制造商开始到在中间掩模上形成预定图形的绘图者为止，例如将中间掩模容纳在由上盖和下盖构成的中间掩模容纳箱中，在上盖和下盖的边界部分(接缝)粘贴胶带，在气密密封了容纳箱的状态下交换中间掩模。此外，由绘图者在中间掩模上形成了预定的图形后，在到达使用曝光装置将形成在中间掩模上的图形投影并转印到半导体晶片上的设备制造商之前，还将中间掩模容纳在别的中间掩模容纳箱中进行交换。进而，在设备制造商处，在用于保管中间掩模的专用的中间掩模容纳箱中容纳中间掩模，并通过无尘室内的储藏库进行保管。

如上所述，在从中间掩模制造商到绘图者的交换过程(以下称为“第一交换过程”)、从绘图者到设备制造商的交换过程(以下称为“第二交换过程”)、以及设备制造商处的保管过程中，中间掩模被容纳在各种中间掩模容纳箱中。

专利文献1特开2000-269301号公报

发明内容

但是，在第一交换过程、第二交换过程、以及保管过程中，将中间掩模调换到不同的中间掩模容纳箱中，在各个过程中都必须准备中间掩模容纳箱，从而增大了各制造商或从业人员的负担。此外，在没有气密性充足的容纳箱而拿出到无尘室外时(第一交换过程、第二交换过程)，在中间掩模容纳箱的下盖和上盖的接缝处卷绕胶带以确保气密性，从而操作性变差。此外，在操作时，可能会在中间掩模容纳箱的内部产生细微的气流，在中间掩模上附着灰尘等。

此外，为了确保半导体或中间掩模的容纳容器的气密性，具有在其间设置橡胶密封件进行密封的提案(特开2005-31489)。

但是，使用其中提案的这种剖面为圆形、椭圆形、四边形等的一般的密封件时，实现气密性要进行必要的弹性变形，这需要以很大的负载1压扁。中间掩模容纳容器由比较薄的树脂材料构成，并不具备很高的刚性，因此承受由这种密封件的弹性变形所产生的压缩反作用力时，会存在以下问题：无法承受其反作用力，容器自身产生翘曲现象，容易引起密封不良。

此外，为了使容纳容器的开闭作业自动化，优选能以较小的力开闭主体和盖体的容器，优选能以较低的负载实现气密性的密封件。

此外，在曝光装置的附近配置用于保管中间掩模的储藏库，该储藏库必须设在无尘室的内部。因此，不仅会使曝光装置大型化，而且会大幅提高用于设置无尘室的设备费用，因此导致成本增加。

因此，本发明鉴于上述问题，其目的在于提供：可在使中间掩模等玻璃基板流通的基础上，确保气密性并防止玻璃基板的质量恶化的玻璃基板容纳箱；可自动地将玻璃基板从该玻璃基板容纳箱调换到其他的容纳箱中的玻璃基板调换装置；具有玻璃基板调换装置、并可分别单独管理玻璃基板从而使曝光装置小型化/低成本化的玻璃基板管理装置；可在从玻璃基板制造商至设备制造商的过程中使玻璃基板容纳在专用的玻璃基板容纳箱中进行交换的玻璃基板流通方法；可提高气密效果的密封部件；以及使用了该密封部件的密封构造。

技术方案1所述的发明为用于容纳玻璃基板的玻璃基板容纳箱，其特征在于，包括：放置上述玻璃基板的底部件；盖部件，以覆盖在所述底部件上放置的所述玻璃基板的方式与所述底部件配合，并在其与所述底部件之间形成空间部；密封部件，被设置在所述底部件或/及所述盖部件上，在所述盖部件与所述底部件配合的状态下，使所述空间部气密；和挂钩部件，被设置在所述盖部件上，勾挂到所述底部件上，以维持所述盖部件与所述底部件配合的状态。

技术方案2所述的发明，在技术方案1所述的玻璃基板容纳箱中，其特征在于，所述挂钩部件具有：可旋转地设置在所述盖部件上的轴部；和以所述轴部为旋转轴而旋转、并与所述底部件的底部扣合的爪部。

技术方案3所述的发明，在技术方案1或2所述的玻璃基板容纳箱中，其特征在于，所述密封部件被配置在形成于所述盖部件或/及所述底部件的沟槽上，所述密封部件具有：一对压力部，被插入到所述沟槽中，按压所述沟槽的侧壁；和弯曲部，连接所述各压力部之间，在所述盖部件与所述底部件配合时，与所述盖部件或所述底部件接触而弹性变形，所述各压力部的壁厚形成得比所述弯曲部的壁厚要厚。

技术方案4所述的发明，在技术方案3所述的玻璃基板容纳箱中，其特征在于，在从所述弯曲部到所述各压力部的至少一部分上设有突起部。

技术方案5所述的发明，在技术方案4所述的玻璃基板容纳箱中，其特征在于，从所述弯曲部到所述各压力部，壁厚逐渐变厚。

技术方案6所述的发明，在技术方案1或2所述的玻璃基板容纳箱中，其特征在于，在所述盖部件或/及所述底部件上形成具有凸部的沟槽，所述密封部件由橡胶构成，所述密封部件具有：一对压力部，以夹着所述凸部的方式插入到所述沟槽中，按压与所述凸部相对的沟槽侧壁；和薄壁部，连接所述各压力部之间，在所述盖部件与所述底部件配合时，其与所述盖部件或所述底部件接触的部位被形成为弯曲状，在所述盖部件与所述底部件配合时，其与所述盖部件或所述底部件接触而弹性变形。

技术方案7所述的发明，在技术方案6所述的玻璃基板容纳箱中，其特征在于，所述薄壁部的厚度为0.2mm以上0.6mm以下。

技术方案8所述的发明，在技术方案6或7所述的玻璃基板容纳箱中，其特征在于，朝向所述压力部与沟槽底面接触的前端部而逐渐变薄。

技术方案9所述的发明，在技术方案6～8中任一项所述的玻璃基板容纳箱中，其特征在于，所述密封部件被形成为，相对于向在所述密封部件的厚度方向上剖开的剖面的高度方向延伸的中心线对称。

技术方案10所述的发明，为一种玻璃基板调换装置，将技术方案1～9中任一项所述的玻璃基板容纳箱中容纳的玻璃基板调换到其他的步进箱中，其特征在于，具有：升降部件，被设置为可在上下方向上移动，放置有所述玻璃基板容纳箱；扣合解除部件，解除所述挂钩部件与放置在所述升降部件上的所述玻璃基板容纳箱的所述底部件的勾挂，并且从下方支撑所述盖部件；基座部件，放置有所述步进箱；和臂部件，从所述底部件取出在所述升降部件上的所述底部件上放置的所述玻璃基板，并使其移动到所述步进箱侧。

技术方案11所述的发明，在技术方案10所述的玻璃基板调换装置中，其特征在于，所述扣合解除部件具有：按压部，将所述盖部件按压向所述底部件，使所述密封部件弹性变形，解除所述爪部与所述底部件的扣合；和开放支撑部，使解除了与所述底部件的扣合的所述爪部绕所述轴部旋转的同时将其拉起，并且支撑所述盖部件。

技术方案12所述的发明，为一种管理玻璃基板的玻璃基板管理装置，其特征在于，具有：技术方案10或11所述的玻璃基板调换装置；和在设有所述玻璃基板调换装置的底板的下方形成的储存室。

技术方案13所述的发明，为一种玻璃基板流通方法，其特征在于，利用技术方案1～9的任一项所述的玻璃基板容纳箱，从制造所述玻璃基板的玻璃基板制造商流通到在所述玻璃基板上形成预定的图形的绘图者，进而从所述绘图者流通到将所述玻璃基板的图形投影/转印到半导体晶片上的设备制造商。

技术方案14所述的发明，为一种密封部件，由弹性体构成，被安装到在各部件间的接合面上形成的沟槽中，其特征在于，具有：一对压力部，在所述密封部件被安装到所述沟槽中时，按压所述沟槽的侧壁；和连接所述一对压力部的弯曲部，缩短所述各压力部之间的距离，并安装到所述沟槽中。

技术方案15所述的发明，在技术方案14所述的密封部件中，其特征在于，从所述弯曲部到所述各压力部，壁厚逐渐变厚。

技术方案16.所述的发明，在技术方案14或15所述的密封部件中，其特征在于，在从所述弯曲部到所述各压力部的一部分上设有突起部。

技术方案17所述的发明，为一种密封部件，由橡胶构成，以夹着在各部件间的接合面上形成的沟槽的凸部的方式安装到所述沟槽中，其特征在于，具有：一对压力部，在所述密封部件被安装到所述沟槽中时，按压与所述凸部相对的沟槽侧壁；和薄壁部，连接所述各压力部之间，与各部件的一方或另一方接触的部位被形成为弯曲状，与所述各部件的一方或另一方接触而弹性变形。

技术方案18所述的发明，在技术方案17所述的密封部件中，其特征在于，所述薄壁部的厚度为0.2mm以上0.6mm以下。

技术方案19所述的发明，在技术方案17或18所述的密封部件中，其特征在于，所述压力部向其与沟槽底面接触的前端部逐渐变薄。

技术方案20所述的发明，在技术方案17～19中任一项所述的密封部件中，其特征在于，所述密封部件被形成为，相对于向在所述密封部件的厚度方向上剖开的剖面的高度方向延伸的中心线对称。

技术方案21所述的发明为一种密封构造，将技术方案14～20中任一项所述的密封部件安装到所述沟槽中并进行密封，其特征在于，对所述沟槽的开口边缘进行倒角，以扩大所述沟槽的开口部。

发明效果

根据技术方案1，在底部件上放置玻璃基板，并使盖部件与该底部件配合。由此，在盖部件和底部件之间形成空间部，在该空间部中容纳玻璃基板。

其中，在底部件或/及盖部件上设有密封部件，因此通过两个部件按压密封部件而使其弹性变形，在盖部件与底部件配合的状态下使空间部变得气密。由此，在内部的玻璃基板上不会附着灰尘等，不会导致玻璃基板的质量恶化。此外，在盖部件上设有挂钩部件，因此通过将挂钩部件勾挂到底部件上，可维持密封状态。其结果，仅通过将玻璃基板容纳在玻璃基板容纳箱中，就可自由地流通/交换玻璃基板。

另一方面，通过解除挂钩部件与底部件的勾挂，可容易地从底部件取下盖部件。由此，可以从玻璃基板容纳箱取出玻璃基板。

根据技术方案2所述的发明，盖部件与底部件扣合时，爪部以轴部为旋转轴进行旋转，与底部件的底部扣合。这样一来，可以使挂钩部件为简单的构成，并且可以切实地维持密封状态。

根据技术方案3所述的发明，密封部件的压力部被插入到沟槽中，并按压沟槽的侧壁，并且密封部件的弯曲部连接压力部之间，在盖部件与底部件配合时，其与盖部件或底部件接触而弹性变形。由此，可以使空间部气密。

其中，由于压力部的壁厚比弯曲部的壁厚要厚，因此可以增大从压力部作用到沟槽的侧壁的压力，且可以减小从弯曲部作用到盖部件或底部件的压力。由此，可以可靠地防止密封部件从沟槽脱落，并且在盖部件与底部件配合时，可以使从密封部件作用到盖部件或底部件的压力(弹力、反弹力)较小，即使在盖部件或底部件由预定的材质(例如树脂)形成时，也可防止盖部件或底部件破损。

此外，如果压力部的壁厚较厚，则压力部的刚性得到提高，从盖部件或底部件向弯曲部作用压力时，可以抑制压力部的变形。由此，可以防止压力部相对于沟槽的侧壁偏移，压力部和沟槽的侧壁之间不会产生摩擦力，可以防止在压力部产生裂纹等损伤。

根据技术方案4所述的发明，由于在从弯曲部到各压力部的至少一部分上设有突起部，因此通过具有该突起部可以容易地抓住密封部件。由此，可以提高密封部件的处理性能，例如可以容易地将密封部件安装到沟槽上。

根据技术方案5所述的发明，密封部件从弯曲部到各压力部，壁厚逐渐变厚，因此可以更有效地使各压力部的壁厚比弯曲部厚。特别是，从弯曲部到各压力部壁厚逐渐增厚，由此可以在从弯曲部到各压力部的区域消除产生应力集中的部位，可以防止密封部件的强度降低，进而可以提高耐久性。

根据技术方案6所述的发明，将密封部件的压力部插入到沟槽中并按压沟槽的侧壁，并且，密封部件的薄壁部连接压力部之间，在盖部件与底部件配合时，与盖部件或底部件接触而弹性变形。由此，可以使空间部气密。

其中，在盖部件与底部件配合时，薄壁部与盖部件或底部件接触而弹性变形，因此可以空间部的密封。此外，薄壁部由橡胶构成，因此即使薄壁部弹性变形而与盖部件或底部件接触时，也可以缩小薄壁部对盖部件或底部件的压缩反作用力，可以防止在盖部件或底部件上产生翘曲等。此外，在盖部件与底部件配合时，其与盖部件或底部件接触的部位形成为弯曲状，因此例如与现有的具有突出片的密封部件相比，薄壁部相对于盖部件或底部件几乎不滑动，因此可以防止因其与盖部件或底部件的摩擦而产生微粒。

根据技术方案7所述的发明，薄壁部的厚度为0.2mm以上0.6mm以下，因此可以确保空间部的气密性，并且可缩小薄壁部对盖部件或底部件的压缩反作用力，可以防止在盖部件或底部件上产生翘曲等。这样一来，可以同时确保空间部的气密性、及防止产生盖部件或底部件的翘曲。

相反，若薄壁部的厚度大于0.6mm，则薄壁部对盖部件或底部件的压缩反作用力变大，在盖部件或底部件上容易产生翘曲等，从而成为问题。此外，若薄壁部的厚度小于0.2mm，则薄壁部自身的刚性及反弹性不足，对盖部件或底部件的压缩反作用力过小，无法确保空间部的气密性。

根据技术方案8所述的发明，朝向压力部与沟槽底面接触的前端部而逐渐变薄，因此可以容易地将密封部件插入到沟槽中。

根据技术方案9所述的发明，密封部件相对于向在密封部件的厚度方向剖开的剖面的高度方向上延伸的中心线而对称，因此薄壁部与盖部件或底部件接触时，薄壁部相对于盖部件或底部件几乎没有偏移，可以有效地抑制微粒的产生。

根据技术方案10所述的发明，在升降部件上放置玻璃基板容纳箱，通过扣合解除部件解除挂钩部件与底部件的勾挂。此时，盖部件由扣合解除部件从下方支撑。通过扣合解除部件解除挂钩部件与底部件的勾挂，在从下方支撑盖部件的状态下，升降部件向下方移动时，从底部件取下盖部件，仅放置在升降部件上的底部件与升降部件一起向下方移动。此时，为玻璃基板露出的状态。接着，臂部件从底部件取出露出的玻璃基板，移动到放置于基座部件上的步进箱侧。

另外，移动到步进箱中的玻璃基板，被传送到曝光装置，将玻璃基板上形成的预定的图形投影/转印到半导体晶片上。

如上所述，在玻璃基板调换装置中，可以容易地将玻璃基板从玻璃基板容纳箱调换到步进箱中。

根据技术方案11所述的发明，在将玻璃基板容纳箱放置在升降部件上时，盖部件由按压部按压向底部件。由此，密封部件弹性变形，盖部件和底部件的相对距离缩小，解除了爪部和底部件的扣合。解除了与底部件的扣合的爪部，通过开放支撑部而绕轴部旋转的同时被拉起。进而，通过由开放支撑部支撑爪部，可以由开放支撑部支撑盖部件。这样一来，可以使扣合解除部件为简单的构成，并且可以容易地解除爪部与底部件的扣合。此外，可以由开放支撑部支撑盖部件，因此通过使底部件移动到下侧，可以容易地从底部件取下盖部件。

根据技术方案12所述的发明，在设有玻璃基板调换装置的底板的下方形成有储存室，因此可以有效地活用底板下的空间。由此，可以消除设有玻璃基板调换装置的房间(例如，无尘室)的无用空间，可以有效地将无尘室内的空间用于其他的用途。

根据技术方案13所述的发明，使用技术方案1～9的任一项所述的玻璃基板容纳箱，从制造玻璃基板的玻璃基板制造商流通到在玻璃基板上形成预定的图形的绘图者，进而从绘图者流通到将玻璃基板的图形投影/转印到半导体晶片上的设备制造商，由此可以统一为一个玻璃基板容纳箱。由此，各制造商或从业人员无需另外准备用于容纳玻璃基板的容纳箱。

此外，通过将玻璃基板容纳到上述玻璃基板容纳箱中，无需如现有技术那样为了提高玻璃基板的气密性而在玻璃基板容纳箱上粘贴胶带等。因此，在取出玻璃基板时，无需剥离粘贴在玻璃基板容纳箱上的胶带等，因此在玻璃基板容纳箱的内部不会飞舞灰尘等，可以防止玻璃基板的质量恶化。

根据技术方案14所述的发明，密封部件缩短了各压力部之间的距离并被安装到沟槽中，在密封部件被安装到沟槽中时，各压力部按压沟槽的侧壁。由此，可以防止密封部件从沟槽中脱落或在沟槽的内部产生位置偏移。此外，弯曲部与各部件的任意一方接触，弯曲部被按压而弹性变形，由此可有效地密封各部件之间。

根据技术方案15所述的发明，密封部件被形成为从弯曲部到各压力部壁厚逐渐变厚，因此可以更有效地使各压力部的壁厚比弯曲部厚。特别是，通过从弯曲部到各压力部使壁厚逐渐变厚，可以消除在从弯曲部到各压力部的区域上产生应力集中的部位，可以防止密封部件的强度降低，进而可以提高耐久性。

根据技术方案16所述的发明，在从弯曲部到各压力部的至少一部分上设有突起部，因此通过具有该突起部可容易抓住密封部件。由此，可以提高密封部件的处理性能，例如可容易地进行密封部件在沟槽上的安装。

根据技术方案17所述的发明，密封部件的压力部被插入到沟槽中，并按压沟槽的侧壁，并且密封部件的薄壁部连接压力部之间，在各部件的一方与另一方配合时，其与各部件的一方或另一方接触而弹性变形。由此，可使空间部气密。

其中，在各部件的一方与另一方配合时，薄壁部与各部件的一方或另一方接触而弹性变形，因此可以维持在各部件的一方或另一方形成的空间部的气密。此外，薄壁部由橡胶构成，因此即使薄壁部弹性变形而与各部件的一方或另一方接触时，也可以缩小薄壁部对各部件的一方或另一方带来的压力，可以防止在各部件的一方或另一方产生翘曲等。此外，在各部件的一方与另一方配合时，其与各部件的一方或另一方接触的部位形成为弯曲状，因此例如与现有的具有突出片的密封部件相比，薄壁部基本不会相对各部件的一方或另一方滑动，因此可以防止因其与各部件的一方或另一方摩擦而产生微粒。

根据技术方案18所述的发明，薄壁部的厚度为0.2mm以上0.6mm以下，因此可以确保在各部件的一方或另一方形成的空间部的气密性，并且可以缩小薄壁部对各部件的一方或另一方带来的压缩反作用力，可以防止在各部件的一方或另一方产生翘曲等。这样一来，可以同时确保在各部件的一方或另一方形成的空间部的气密性、并防止各部件的一方或另一方的翘曲的产生。

相反，若薄壁部的厚度大于0.6mm，则薄壁部对盖部件或底部件的压缩反作用力变大，在盖部件或底部件上容易产生翘曲等，从而成为问题。此外，若薄壁部的厚度小于0.2mm，则薄壁部自身的刚性及反弹性不足，对盖部件或底部件的压缩反作用力过小，存在无法确保空间部的气密性的问题。

根据技术方案19所述的发明，朝向压力部与沟槽底面接触的前端部而逐渐变薄，因此可以容易地将密封部件插入到沟槽中。

根据技术方案20所述的发明，密封部件相对于向在密封部件的厚度方向剖开的剖面的高度方向上延伸的中心线而对称，因此薄壁部与各部件的一方或另一方接触时，薄壁部相对于各部件的一方或另一方几乎没有偏移，可以有效地抑制微粒的产生。

根据技术方案21所述的发明，密封部件被安装到在各部件的接合面上形成的沟槽中而密封各部件之间。其中，对沟槽的开口边缘进行倒角以扩大开口部，因此在安装密封部件时沟槽的开口边缘不会成为阻碍，可以容易地将密封部件安装到沟槽中。特别是，在密封部件上设有突起部时，对沟槽的开口边缘进行倒角而扩大开口部，因此可以在抓住该突起部的状态下将密封部将容易地安装到沟槽中，可以大幅提高密封部件的安装性。

此外，优选的是，上述密封部件由弹性体构成，通过将上述盖部件按压在上述底部件上，所述密封部件弹性变形，来解除上述爪部和上述底部件的底部之间的扣合。根据该构成，将上述盖部件按压在上述底部件上时，通过所述密封部件弹性变形，解除上述爪部和底部件的底部之间的扣合。由此，仅将盖部件按压在底部件上即可解除爪部和底部件的底部之间的扣合，玻璃基板的取出操作变得容易。

此外，优选的是，上述密封部件被配置在形成于上述盖部件或/及上述底部件上的沟槽中，上述密封部具有在将密封部件配置到上述沟槽中时按压上述沟槽的侧壁的压力部。根据该构成，虽然将密封部件配置在形成于盖部件或/及底部件的沟槽中，但由于此时密封部件的压力部按压沟槽的侧壁，因此可以防止密封部件从沟槽脱落，进而可以使密封部件在沟槽内部的姿势稳定。

此外，优选在上述各压力部上设置与上述沟槽的侧壁接触的突出部。根据该构成，由于在各压力部设有与沟槽的侧壁接触的突出部，因此在将密封部件安装到沟槽中的状态下可以将密封部件和沟槽的侧壁之间密封。由此，可以防止水或灰尘等异物进入到沟槽的内部，因此可以防止密封部件破损，进而可以提高密封部件的耐久性。

此外，优选在上述底部件上设有从下方以从上述底部件分离的状态支撑上述玻璃基板的支撑部件。根据该构成，由于在底部件上设有支撑部件，因此通过支撑部件从下方以从底部件分离的状态支撑玻璃基板。由此，取出由支撑部件支撑的玻璃基板时，可以利用玻璃基板和底部件之间的间隙拿起玻璃基板，可以容易地取出玻璃基板。

此外，优选在上述盖部件或/及底部件上设有对上述玻璃基板进行定位的定位部件，根据该构成，由于在盖部件或/及底部件上设置定位部件，因此可以对玻璃基板进行定位。由此，在容纳于玻璃基板容纳箱中的状态下流通/交换玻璃基板时，玻璃基板也不会在玻璃基板容纳箱的空间部内移动，可以防止玻璃基板的质量恶化。

此外，上述盖部件优选由透明的导电性树脂构成。根据该构成，由于盖部件由透明的导电性树脂构成，因此不用将盖部件从底部件取下，即可从玻璃基板容纳箱的外部确认在内部容纳的玻璃基板。此外，通过由导电性树脂构成盖部件，灰尘等易于附着到盖部件上，可以防止在空间部内飞舞灰尘。

此外，优选的是，具有：配置有上述升降部件的气密性高的第一无尘室；与上述第一无尘室相邻设置、且配置有上述臂部件的气密性高的第二无尘室；与上述第二无尘室相邻设置、且配置有上述基座部件的气密性高的第三无尘室；划分上述第一无尘室和上述第二无尘室的第一划分部件；划分上述第二无尘室和第三无尘室的第二划分部件；形成于上述第一划分部件上、连通上述第一无尘室和上述第二无尘室的第一开口部；形成于上述第二划分部件上、连通上述第二无尘室和上述第三无尘室的第二开口部；打开或关闭上述第一开口部的第一开闭部件；以及打开或关闭上述第二开口部的第二开闭部件。根据该构成，在第一开闭部件打开第一开口部、第二开闭部件关闭第二开口部的状态下，由臂部件将在升降部件上放置的底部件上的玻璃基板从底部件取出。由此，玻璃基板从第一无尘室移动到第二无尘室。此时，变为第一无尘室和第二无尘室连通的状态，但由于第一无尘室及第二无尘室的气密性高、且第二开口部关闭，而无空气的流动，因此可以防止在玻璃基板上附着灰尘等。接下来，在第一开闭部件关闭第一开口部、第二开闭部件打开第二开口部的状态下，将由臂部件取出的玻璃基板移动到第三无尘室内的基座部件上放置的步进箱中。此时，变为第二无尘室和第三无尘室连通的状态，但由于第二无尘室及第三无尘室的气密性高、且第一开口部关闭，而无空气的流动，因此可以防止在玻璃基板上附着灰尘等。如上所述，通过在各无尘室内进行玻璃基板的调换作业，由此可以防止在玻璃基板上附着灰尘等，可以防止玻璃基板的质量恶化。

此外，优选的是，在上述按压部上安装弹性部件，上述按压部经由上述弹性部件向上述底部件按压上述盖部件。根据该构成，在按压部上安装有弹性部件，按压板经由弹性部件向底部件按压盖部件，因此可以防止盖部件破损。

此外，一种管理玻璃基板的玻璃基板管理装置，优选的是，具有：技术方案12～15的任一项所述的玻璃基板调换装置；和储存室，被设置在上述玻璃基板调换装置的附近，在容纳于上述玻璃基板容纳箱中的状态下分别收容多个上述玻璃基板。根据该构成，在玻璃基板调换装置的附近设有储存室，其在容纳于玻璃基板容纳箱中的状态下分别收容多个玻璃基板，因此通过玻璃基板调换装置将玻璃基板从玻璃基板容纳箱调换到步进箱中时，可以迅速且容易地从储存室中取出需要的玻璃基板。此外，在曝光装置中无需设置用于保管玻璃基板的大型的储藏库，可以使曝光装置小型化，并且可以大幅降低保管装置的制造成本。另外，不需要的玻璃基板可以在容纳到玻璃基板容纳箱中后收容到储存室中。

此外，优选的是，在上述底板上形成开口部，在上述第一无尘室的附近配置与上述开口部连接的待机室，具有移动单元，其将容纳有上述玻璃基板的上述玻璃基板容纳箱，从上述储存室移动到上述待机室，或从上述待机室移动到上述储存室。根据该构成，在将容纳有需要的玻璃基板的玻璃基板容纳箱放置到移动单元上后，移动单元从储存室经过开口部移动到待机室。由此，可以从储存室取出需要的玻璃基板。移动到待机室中的玻璃基板，在容纳于玻璃基板容纳箱中的状态下被放置到升降部件上，而被调换到其他的步进箱中。另一方面，不需要的玻璃基板，在被容纳于玻璃基板容纳箱中后，被放置到移动单元上，通过移动单元使其从待机室经过开口部移动到储存室。并且，在储存室中在将其容纳于玻璃基板容纳箱中的状态下进行保管。

此外，优选的是，具有：判断单元，识别容纳于上述玻璃基板容纳箱中的上述玻璃基板的ID号和上述玻璃基板容纳箱的ID号，判断二者是否一致；和显示单元，显示上述判断单元的判断结果。根据该构成，由判断单元识别容纳于玻璃基板容纳箱中的玻璃基板的ID号和玻璃基板容纳箱的ID号，判断二者是否一致。将该判断结果由显示单元显示。由此，用户仅通过确认显示单元即可瞬间判断玻璃基板与玻璃基板容纳箱是否一致。其结果，可在玻璃基板与玻璃基板容纳箱对应的状态下保管玻璃基板，可以提高玻璃基板的管理功能。

此外，优选的是，上述各压力部的壁厚形成得比上述弯曲部厚。根据该构成，由于各压力部的壁厚比弯曲部厚，因此可以增大从压力部作用到沟槽侧壁的压力，且可以减小从弯曲部作用到与弯曲部接触的部件上的压力。由此，可以切实地防止密封部件从沟槽脱落，并且在各部件接合时可使从密封部件作用到与密封部件接触的部件上的压力(弹力、反弹力)较小，即使在由预定材质(例如树脂)形成部件时，也可防止部件破损。此外，压力部的壁厚较厚时，压力部的刚性提高，因此从与弯曲部接触的部件向弯曲部作用压力时，可以抑制压力部的变形。由此，可以防止压力部相对于沟槽侧壁偏移，在压力部和沟槽侧壁之间不会产生摩擦力，可以防止在压力部产生裂纹等损伤。

此外，优选在上述各压力部上设有与上述沟槽侧壁接触的突出部。根据该构成，由于在各压力部上设有与沟槽侧壁接触的突出部，因此可在将密封部件安装到沟槽中的状态下将密封部件和沟槽侧壁之间密封。由此，可以防止水或灰尘等异物进入到沟槽内部，因此可以防止密封部件破损，进而可以提高密封部件的耐久性。此外，通过突出部与沟槽侧壁接触，可以在沟槽的内部对密封部件定位。

附图说明

图1是从本发明的第一实施方式的中间掩模容纳箱的斜上方看的透视图。

图2是从本发明的第一实施方式的中间掩模容纳箱的斜下方看的透视图。

图3是本发明的第一实施方式的中间掩模容纳箱的组装分解图。

图4是本发明的第一实施方式的中间掩模容纳箱中使用的密封部件的剖视图。

图5(A)是表示本发明的第一实施方式的中间掩模容纳箱中使用的密封件被配置在底部件上所形成的沟槽内的状态的剖视图，(B)是表示盖部件接触在该密封部件上并被按压的状态的剖视图。

图6(A)、(B)、(C)均是作为本发明的第一实施方式的中间掩模容纳箱中使用的密封部件的变形例的密封部件的剖视图。

图7是本发明的第一实施方式的中间掩模管理装置的透视图。

图8是构成本发明的第一实施方式的中间掩模管理装置的中间掩模调换装置的透视图。

图9是构成本发明的第一实施方式的中间掩模调换装置的扣合解除部件的透视图。

图10是表示由构成本发明第一实施方式的中间掩模调换装置的扣合解除部件来解除挂钩部件前的状态的图。

图11是表示由构成本发明第一实施方式的中间掩模调换装置的扣合解除部件来解除挂钩部件后的状态的图。

图12是表示解除爪部和底部件的底部的扣合时密封部件的弹性变形的剖视图。

图13(A)、(B)均是表示将现有的密封部件安装到沟槽上时的剖视图。

图14是本发明的第一实施方式的中间掩模容纳箱中使用的密封部件的变形例的俯视图。

图15是图14的A-A向剖视图。

图16(A)是表示将本发明的第一实施方式的中间掩模容纳箱中使用的密封部件的变形例配置到形成于底部件的沟槽中的状态的剖视图，(B)是表示盖部件与该密封部件的变形例接触并被按压的状态的剖视图。

图17是微粒性能实验中使用的实验设备的构成图。

图18是气密性能实验中使用的实验设备的构成图。

标号说明

10中间掩模容纳箱(玻璃基板容纳箱)

12底部件(部件)

13沟槽

13A沟槽的侧壁

13B沟槽的开口边缘

14支撑部件

16定位部件

18密封部件

18A压力部

18C弯曲部

18D第一突出部(突出部)

18E第二突出部(突出部)

18F突起部

20盖部件(部件)

24挂钩部件

24A轴部

24B爪部

30中间掩模管理装置

32中间掩模调换装置

34第一无尘室

34A侧壁(第一划分部件)

44A侧壁(第二划分部件)

36升降台(升降部件)

38扣合解除部件

40按压头

40C缓冲部件(弹性部件)

42支撑臂(开放支撑部)

44第二无尘室

46第一窗部(第一开口部)

48第二窗部(第二开口部)

50臂部件

52第三无尘室

54第一开闭挡板装置(第一开闭部件)

56第二开闭挡板装置(第二开闭部件)

58基座部件

60待机室

62储存室

64输送台(移动单元)

66导轨部(移动单元)

70密封部件

72A压力部

72B薄壁部

74中间掩模容纳箱(玻璃基板容纳箱)

76盖部件

78底部件

80沟槽

82凸部

R中间掩模

S步进箱

具体实施方式

接下来，参照附图对本发明的第一实施方式的玻璃基板容纳箱、玻璃基板调换装置、玻璃基板管理装置及玻璃基板流通方法进行说明。另外，作为玻璃基板包括中间掩模及光掩模等，而在以下说明中，作为玻璃基板以中间掩模为例进行了说明。因此在以下说明中，玻璃基板容纳箱为中间掩模容纳箱，玻璃基板调换装置为中间掩模调换装置，玻璃基板管理装置为中间掩模管理装置，玻璃基板流通方法为中间掩模流通方法。

首先，对用于容纳中间掩模的中间掩模容纳箱进行说明。

如图1～3所示，中间掩模容纳箱10具有正方形的底部件12。在该底部件12的各角部附近，用于支撑正方形的中间掩模R的支撑部件14向垂直上方延伸。通过这4个支撑部件14，中间掩模R在与底部件12分离的状态下被支撑。此外，在个支撑部件14上，与由支撑部件14支撑的中间压模R的各侧面接触的定位部件16朝向垂直上方延伸。由此，中间掩模R在由支撑部件14支撑的状态下由定位部件16进行定位。

此外，在底部件12的外缘部附近形成有沟槽13(参照图5)，在该沟槽13中容纳密封部件18。如图4所示，该密封部件18，在没有负荷压力的状态下，整体呈倒V字形。即，密封部件18由以下各部分构成：各压力部18A、18A，较厚形成，被插入到沟槽13内时，按压沟槽13的侧面13A；各连接部18B、18B，分别与各压力部18A、18A连接；和弯曲部18C，较薄形成，连接各连接部18B、18B之间。

此外，密封部件18被形成为从其弯曲部18C至各压力部18A、18A壁厚逐渐变厚，因此各压力部18A、18A较厚形成，与弯曲部18C的壁厚相比较厚。这样一来，通过将密封部件18形成为从其弯曲部18C至各压力部18A、18A壁厚逐渐变厚，可圆滑的形成从弯曲部18C至各压力部18A、18A的区域，因此可以消除产生应力集中的部位，可以防止密封部件18的强度降低，进而可提高耐久性。如此将密封部件18设定为剖视图下为以中心线L左右对称的形状。

此外，在各压力部18A、18A的端部分别形成有向外侧突出的第一突出部(突出部)18D、18D。进而，在各第一突出部18D、18D的附近，与第一突出部18D、18D同样地，分别形成有向外侧突出的第二突出部(突出部)18E、18E。此外，在各连接部18B、18B上分别形成有向外侧突出的突起部18F、18F。

进而，使后述的盖部件20与底部件12配合，弯曲部18C与盖部件20接触并通过来自盖部件20的压力而弹性变形。

上述密封部件被安装到形成于底部件12上的沟槽13内时，如图4及5(A)所示，将各压力部18A、18A在对抗其弹力进行按压并缩短了两者的分离距离的状态下插入到沟槽13的内部。各压力部18A、18A被插入到沟槽13的内部后，解除在各压力部18A、18A上作用的按压力。由此，各压力部18A、18A因其弹力而向两者的分离距离变大的方向变形，设于各压力部18A、18A上的第一突出部18D、18D及第二突出部18E、18E分别与沟槽13的侧壁13A、13A接触，从各压力部18A、18A向各侧壁13A、13A作用预定的压力。这样一来，将密封部件18配置到沟槽13的内部后，变为各压力部18A、18A按压各侧壁13A、13A的状态。其结果，可以防止密封部件从沟槽13脱落，进而可使密封部件18在沟槽13内部的姿势稳定。

此外，密封部件18被配置在沟槽13内时，在各压力部18A、18A和沟槽13的侧壁13A、13A之间产生间隙15，但特别是通过第二突出部18E、18E与沟槽13的侧壁13A、13A接触，可以防止在中间掩模容纳箱10的清洗工序中水或灰尘等异物进入到间隙15内。其结果，可以防止密封部件18的腐蚀。

进而，在构成密封部件18的各连接部18B、18B上分别形成有各突起部18F、18F，因此通过具有该突起部18F、18F可以容易地抓住密封部件18。由此，可以提高密封部件18的处理性。特别是，对形成于底部件12上的沟槽13的开口边缘13B进行倒角以使沟槽13的开口部扩大，因此在将密封部件18安装到沟槽13上时，沟槽13的开口边缘13B不会成为障碍，可以在抓住突起部18F、18F的状态下容易地将密封部件18安装到沟槽13内。其结果，可以大幅提高密封部件18在沟槽13上的安装性。

特别是，如图13(A)所示的现有的密封部件M，虽然被安装在沟槽100的侧壁100A上，但密封部件M作用到沟槽100的侧壁100A上的压力较小，因此使盖部件102与底部件104配合后取下盖部件102时，有时密封部件M会从沟槽100脱落，此外，在图13(B)的现有的密封部件N中，由于其支撑片N1的前端部的刚性较低，因此即使在支撑片N1与盖部件102接触时也无法确保充分的密封性，而本发明的密封部件18解决了上述两个问题，大幅提高了安装到沟槽13上的安装性、及盖部件20和底部件12之间的密封性能。

另外，该密封部件18由具有柔软性的热塑性树脂(例如聚酯合成橡胶树脂，帝人公司制造“ヌ一ベラン”等)构成。此外，密封部件18不限于由热塑性树脂构成的情况，例如也可以由一般的氟橡胶等合成橡胶材料构成。

此外，中间掩模容纳箱10具有盖部件20。该盖部件20由透明的导电性树脂构成。盖部件20包括：盖基座部20A，俯视图下被形成为正方形状；和盖部件主体20B，与盖基座部20A的上部一体形成，且俯视图下被形成为正方形状。此外，盖基座部20A和盖部件主体20B分别被形成为中空状。此外，盖部件主体20B被形成为位于盖基座部20A的内侧。换言之，盖基座部20A为相对于盖部件主体20B向外侧突出的构成。进而，在盖部件20A的相对的两个边上分别形成凹部22L、22R。

在盖部件20的凹部22L、22R上分别设有挂钩部件24，其用于勾挂底部件12，维持盖部件20与底部件12配合的状态。挂钩部件24由轴部24A、和与轴部24A一体形成的爪部构成。轴部24A由与盖基座部20A一体形成的轴承部26支撑为可旋转。此外，爪部24B被构成为，在盖部件20与底部件12配合时，覆盖盖基座部20A的侧部。此外，在爪部24B的前端部上形成有与底部件12的底部扣合的勾挂部24C。进而，在爪部24B的前端部附近形成有与后述的凸部42B3扣合的扣合片24D。

另外，中间掩模容纳箱10的盖部件20和底部件12，由聚碳酸酯等树脂构成。

此外，在本实施方式的中间掩模容纳箱10中，以在底部件12上形成沟槽13并在该沟槽13的内部配置密封部件18的构成为例进行了说明，但不限于该构成，例如，也可以取代底部件12，或者与底部件12同时，在盖部件20上形成沟槽(省略图示)，在该沟槽的内部配置密封部件18。

此外，密封部件18的形状也不限于图4所示的构成，如图6(A)所示，可以构成为使各压力部18A、18A的剖面为四边形，且在其与沟槽13的侧壁13A之间不产生间隙，以对应于密封部件18的材质能够实现适度的密封性。此外，可以是如图6(B)所示在各压力部18A、18A上仅形成第一突出部18D、18D的构成(去除了第二突出部18E、18E的构成)，也可如图6(C)所示构成为使各连接部18B自身向外侧突出。

此外，在本实施方式的中间掩模容纳箱10中，考虑在飞机输送中的使用，为了进行中间掩模容纳箱10的内部与外部的压力调整，也可以安装带化学过滤器的呼吸阀(省略图示)。通过安装带化学过滤器的呼吸阀，在外部气压较低时，可以使空气通过带化学过滤器的呼吸阀流入到中间掩模容纳箱10的内部，可以实现中间掩模容纳箱10的内部和外部的压力调整，并且此时，即使中间掩模容纳箱10的周围环境较差，例如处于存在数ppb程度的硫酸铵((NH₄)₂SO₄)、氨(NH₃)、硫酸根离子(SO₄ ^2-)、或者苯乙烯(C₈H₈)的气氛中，可以通过化学过滤器除去这些成分。其结果，可以防止在中间掩模表面产生薄雾(Haze)、或对中间掩模带来不良影响。

接下来，分别对本实施方式的中间掩模容纳箱10的作用、和使用了中间掩模容纳箱10的中间掩模流通方法进行说明。

如图1～3所示，在形成于底部件12上的支撑部件14上放置中间掩模R。此时，中间掩模R在从底部件12离开的状态下被支撑。将中间掩模R放置在支撑部件14上时，中间掩模R的各侧面与定位部件16接触，在支撑部件14上对中间掩模R进行定位。由此，中间掩模R无法在支撑部件14上自由移动，可以防止中间掩模R从支撑部件14落下。

中间掩模R由支撑部件14支撑，并由定位部件16定位后，盖部件20从上方与底部件12配合。在盖部件20与底部件12接触的状态下，轴部24A旋转，随着该轴部24A的旋转，爪部24B也旋转。并且，在爪部24B的前端形成的勾挂部24C与底部件12的底部扣合。如此，通过挂钩部件24勾挂底部件12的底部，可以维持盖部件20与底部件12配合的状态，可以防止盖部件20从底部件12脱离。

盖部件20与底部件12配合时，由于构成盖部件20的盖基座部20A和盖部件主体20B分别被形成为中空状，因此在盖部件20和底部件12之间形成空间部(省略图示)。由支撑部件14支撑的中间掩模R位于该空间部内。此时，设于底部件12上的密封部件18与盖部件20接触，因此由密封部件18划分空间部和盖部件20的外侧。

即，如图5(B)所示，盖部件20与底部件12配合时，由于构成密封部件18的弯曲部18C与盖部件20接触而使弯曲部18C弹性变形，因此在密封部件18和盖部件20及底部件12之间不存在间隙，显著提高了空间部的密封性能。由此，可以切实地气密空间部，在中间掩模容纳箱10中容纳的中间掩模R上不会附着灰尘等，可以防止中间掩模R的质量恶化。

此外，由于弯曲部18C的壁厚被形成得较薄，因此可以减小从弯曲部18C作用到盖部件20上的压力。由此，在盖部件20由预定的材质(例如树脂)形成时也可以防止盖部件20破损。

此外，由于各压力部18A、18A的壁厚被设定得较厚，因此提高了各压力部18A、18A的刚性，在从盖部件20向弯曲部18C作用压力时，可以抑制各压力部18A、18A的变形。由此，可以防止各压力部18A、18A相对于侧壁13A、13A偏离，在各压力部18A、18A与沟槽13的侧壁13A、13A之间不会产生摩擦力，可以防止在各压力部18A、18A产生裂纹等损伤。

进而，由于密封部件18被形成为相对于中心线L而左右对称，因此在盖部件20与底部件12配合时，作用到弯曲部18上的来自盖部件20的压力在弯曲部18C的各部位大致相等。由此，可以防止弯曲部18C预定部位和盖部件20的摩擦力变大，可以防止弯曲部18C损伤。

此外，由于密封部件18被形成为相对于中心线L而左右对称，因此在盖部件20与密封部件18接触时，如图5(B)所示，从构成密封部件18的弯曲部18C的顶点接触，随着受到来自盖部件20的按压力，密封部件18左右均等地扩展，形成盖部件20和密封部件18的密封面。其结果，无论来自盖部件20的按压力的程度如何，盖部件20和密封部件18的密封面(接触面)都不会偏移，可以防止因在密封面的摩擦而产生微粒。

此外，由于盖部件20由透明的导电性树脂构成，因此可以容易地从中间掩模容纳箱10的外部确认内部容纳的中间掩模R，并且通过由导电性树脂构成盖部件20，灰尘等容易附着到盖部件20上，可以防止灰尘在空间内飞舞，可以切实地防止在中间掩模R上附着灰尘等。

另一方面，将中间掩模R从中间掩模容纳箱10中取出时，将盖部件20按压向底部件12。盖部件20被按压向底部件12后，弯曲部18C进一步弹性变形，盖部件20和底部件12的相对距离缩小，因此爪部24B和底部件12的底部的扣合被解除。

接下来，在解除了爪部24B和底部件12的底部的扣合后，构成挂钩部件24的轴部24A旋转，随着该轴部24A的旋转，爪部24B也旋转。在该状态下，可以将盖部件20从底部件12取下，可以取出内部容纳的中间掩模R。

如上所述，根据本发明的中间掩模容纳箱10，其构成简单，并且可以在气密状态下容纳中间掩模R，此外，还可以容易地取出中间掩模R，从防止中间掩模R的质量恶化的方面来看可以发挥极为优异的效果。

接下来，对使用了本发明的中间掩模容纳箱10的中间掩模流通方法进行说明。

本发明的中间掩模容纳箱10，具有很高的密封性，因此可以将中间掩模R拿出无尘室之外。并且，通过该中间掩模容纳箱10，从制造中间掩模R的中间掩模制造商流通到在中间掩模R上形成预定图形的绘图者，进而从绘图者流通到将中间掩模R的图形投影/转印到半导体晶片上的设备制造商，由此可以统一为一个中间掩模容纳箱10。由此，各制造商或从业人员，不需要另外准备用于容纳中间掩模R的容纳箱。

此外，通过将中间掩模R容纳在上述中间掩模容纳箱10中，不需要如现有技术那样，为了提高中间掩模R的气密性而在中间掩模容纳箱10上粘贴胶带等。因此，取出中间掩模R时不需要剥离粘贴在中间掩模容纳箱10上的胶带等，因此在中间掩模容纳箱10的内部不会飞舞灰尘等，可以防止中间掩模R的质量恶化。

接下来，详细说明本发明的中间掩模调换装置及中间掩模管理装置。

如图7～图11所示，中间掩模管理装置30具有中间掩模调换装置32。中间掩模调换装置32具有第一无尘室34。该第一无尘室34被形成为立方体状，通过上壁34U及下壁34E、和四个侧壁34A、34B、34C、34D，使其内部空间变得气密。在第一无尘室34的内部配置有板状的升降台(升降部件)36。该升降台36与驱动机构(省略图示，升降部件)连接，通过驱动机构的驱动，升降台36可在上下方向移动。此外，在上壁34U上形成开口，以使上升的升降台36位于该开口处。这样一来，升降台36构成上壁34U的一部分。

此外，第一无尘室34的上壁34U被安装为使两个扣合解除部件38相对。如图9～11所示，扣合解除部件38包括：按压头(按压部)40，将盖部件20按压向底部件12；支撑臂(开放支撑部)42，与构成在盖部件20上安装的挂钩部件24的爪部24B扣合，使爪部24B与轴部24A一起旋转，并且支撑盖部件20。

按压头40被设置为可在水平方向及上下方向上移动。按压头40包括：两个按压片40A、40A；和安装并支撑按压片40A、40A的底座部40B。此外，在各按压片40A、40A的前端部，分别安装有由橡胶等弹性体构成的缓冲部件(弹性部件)40C、40C。随着按压头40在水平方向上移动，各按压片40A、40A也在水平方向上移动，随着按压头40在上下方向上移动，各按压片40A、40A也在上下方向上移动。

支撑臂42包括：设于底座部件40B上的倾斜台42A；和在倾斜台42A上沿着斜面方向移动的支撑臂主体42B。支撑臂主体42B包括：在倾斜台42A上移动的滑动部42B1；和在滑动部42B1的前端部安装的扣合支撑部42B2。此外，在扣合支撑部42B2的前端部上形成有凸部42B3，该凸部与形成于爪部24B上的扣合片24D扣合。

此外，在构成第一无尘室34并与后述的第二无尘室44划分的一个侧壁(第一划分部件)34A上，形成长方形的第一窗部46。

此外，第一无尘室34与第二无尘室44连接。该第二无尘室44被构成为立方体状，通过上壁44U及下壁44E、和四个侧壁44A、44B、44C、44D，使内部空间气密。另外，第一无尘室34的侧壁34A和第二无尘室44的侧壁(第一划分部件)44C为共用的侧壁。

此外，在第二无尘室44上安装有开闭第一窗部46的第一开闭挡板装置(第一开闭部件)54。第一开闭部件54包括：开闭第一窗部46的平板状的开闭挡板主体54A；和使开闭挡板主体54A上下移动的驱动部54B。

在构成第二无尘室44、且与侧壁44C相对的侧壁(第二划分部件)44A上，同样地形成有第二窗部48。此外，在第二无尘室44上，同样地，安装有开闭第二窗部48的第二开闭挡板装置(第二开闭部件)56。第二开闭挡板装置56包括：开闭第二窗部48的平板状的开闭挡板主体56A；和使开闭挡板主体56A上下移动驱动部56B。

另外，第一开闭挡板装置54及第二开闭挡板装置56，被构成为由控制部(省略图示)控制而驱动。

此外，在第二无尘室44上配置有臂部件50。该臂部件50，用于使在构成中间掩模容纳箱10的底部件12上支撑的中间掩模R向构成步进箱S的底部件S2移动，所述中间掩模容纳箱10被放置在升降台36上，所述步进箱S被放置在基座部主体58上。上述臂部件50包括：支撑板(臂部件)50A，用于支撑中间掩模R；和连杆机构(臂部件)50B，用于使支撑板50A从第一无尘室34内移动到第三无尘室52内，并且使其在上下方向上移动。

此外，第二无尘室44与第三无尘室52连接。该第三无尘室52被构成为立方体状，通过上壁52U及下壁52E、和四个侧壁52A、52B、52C、52D，使内部空间气密。另外，第二无尘室44的侧壁44A和第三无尘室52的侧壁(第二划分部件)52C，为共用侧壁。

此外，在第三无尘室52上配置有基座部件58。基座部件58包括用于放置各种步进箱的平板状的基座部主体58A。该基座部主体58与驱动机构(省略图示，基座部件)连接，通过驱动机构的驱动，基座部主体58可在上下方向上移动。

另外，作为步进箱S的构成，例如，优选的是，如中间掩模容纳箱10那样，由盖部件20和底部件12构成，可通过使盖部件20与底部件12配合，容纳中间掩模R。

此外，在上壁52U上形成有开口，上升的基座部主体58位于该开口处。如此，基座部主体58构成上壁52U的一部分。

此外，中间掩模管理装置30，具有与中间掩模调换装置32连接的待机室60。该待机室60与第一无尘室34连接，通过上壁60U和四个侧壁60A、60B、60C、60D划分。另外，第一无尘室34的侧壁34D和待机室60的侧壁60B，为共用侧壁。

此外，在配置有中间掩模调换装置32的底板的下方，配置有储存室62。该储存室62，用于在被容纳在中间掩模容纳箱10内的状态下收容多个种类的中间掩模R。此外，待机室60和储存室62为通过形成于底板上的开口部61而连通的状态。

此外，从待机室60至储存室62设置有导轨部(移动单元)66，在该导轨部66上配置有在导轨部66上沿着上下方向移动的输送台(移动单元)64。另外，输送台64由预定的驱动机构(省略图示，移动单元)驱动。

接下来，对本实施方式的中间掩模调换装置32及中间掩模管理装置30的作用进行说明。

如图7～11所示，从储存室62中选择容纳有预定的中间掩模R的中间掩模容纳箱10，并将其放置在输送台64上。将中间掩模容纳箱10放置在输送台64上后，驱动机构工作，使输送台64沿着导轨部66向上方移动。由此，使输送台64从储存室62移动到待机室60，大约位于构成待机室60的上壁60U上。

位于构成待机室60的上壁60U上的中间掩模容纳箱10，被放置在位于第一无尘室34的上壁34U上的升降台36上。中间掩模容纳箱10被放置在升降台36上时，按压头40向水平方向移动，两个按压片40A、40A位于盖基座部20A上。在按压片40A、40A位于盖基座部20A上的状态下，按压头40向下方移动，将盖部件20按压向底部件12。此时，按压片40A、40A经由缓冲部件40C、40C与盖基座部20A接触，因此盖基座部20A不会破损等。此外，如图12所示，将盖部件20按压向底部件12后，构成密封部件18的弯曲部18C进一步弹性变形，盖部件20和底部件12的相对距离缩小。由此，构成挂钩部件24的爪部24B和底部件12的底部的扣合解除。爪部24B和底部件12的底部的扣合解除后，在倾斜台42A上滑动并向下方移动的支撑臂主体42B，在倾斜台42A上向上方移动时，扣合支撑部42B2的凸部42B3与形成在爪部24B上的扣合片24D扣合。在凸部42B3与扣合片24D扣合的状态下，支撑臂主体42B直接在倾斜台42A上向上方移动时，爪部24B随着轴部24A的旋转一起旋转，变为打开的状态。在爪部24B打开的状态下，盖部件20由支撑臂主体42B支撑。由此，变为在升降台36仅放置底部件12的状态。

接下来，使放置底部件12的升降台36向下方移动。此时，第一窗部46和第二窗部48，分别通过第一开闭挡板装置54和第二开闭挡板装置56而关闭。由此，在第一无尘室34的内部不会产生气流，可以防止在放置在底部件12上的中间掩模R上附着灰尘等。升降台36向下方移动时，构成第一开闭挡板装置54的开闭挡板主体54A由驱动部54B驱动，第一窗部46被打开。第一窗部46打开后，通过连杆机构50B，支撑板50A移动，从第二无尘室44经过第一窗部46而进入第一无尘室34。并且，支撑板50A移动到在从底部件12分离的状态下被支撑的中间掩模R的下方，其后，通过连杆机构50B向上方移动。由此，中间掩模R由支撑板50A支撑。中间掩模R由支撑板50A支撑后，支撑板50A再次从第一无尘室34移动到第二无尘室44。

支撑板50A从第一无尘室34移动到第二无尘室44时，构成第一开闭挡板装置54的开闭挡板主体54A由驱动部54B驱动，第一窗部46被关闭。由第一开闭挡板装置54关闭第一窗部46后，构成第二开闭挡板装置56的开闭挡板主体56A由驱动部56B驱动，第二窗部48被打开。这样一来，通过在关闭第一窗部46后打开第二窗部48，在第一无尘室34的内部不会流入空气，在第一无尘室34内不会飞舞灰尘等。

第二窗部48被打开后，支撑中间掩模R的支撑板50A通过连杆机构50B而移动，经过第二窗部48，进入到第三无尘室52内。支撑板50A进入第三无尘室52后，在构成预先待机的、放置在基座部主体58上的步进箱S(各曝光装置专用箱)的底部件S2上放置中间掩模R。在构成步进箱S的底部件S2上放置中间掩模R后，基座部主体58向上方移动，位于第三无尘室52的上壁52U上。基座部主体58位于第三无尘室52的上壁52U上后，盖上盖部件S1，将中间掩模R容纳在步进箱S中。这样一来，中间掩模R从中间掩模容纳箱10转移到步进箱S中。

此外，中间掩模R从中间掩模容纳箱10转移到步进箱S中后，构成第二开闭挡板装置56的开闭挡板主体56A由驱动部56B驱动，第二窗部48关闭。

另外，将预定的中间掩模R调换到步进箱S中后，该中间掩模由设备制造商在曝光装置(省略图示)中使用。在曝光装置(省略图示)中，将形成于中间掩模R上的预定的图形投影/转印到半导体晶片上。

接下来，对将在曝光装置中使用的中间掩模R容纳到中间掩模容纳箱10中的作用进行说明。

在曝光装置中使用的中间掩模R，在被放置在步进箱S的底部S2的状态下，被放置到基座部主体58上，基座部主体58由驱动部机构(省略图示)驱动，在第三无尘室52的内部向下方移动。

接下来，构成第二开闭挡板装置56的开闭挡板主体56A由驱动部56B驱动，第二窗部48被打开。第二窗部48被打开后，支撑板50A通过连杆机构50B而移动，从第二无尘室44经过第二窗部48进入到第三无尘室52内。并且，支撑板50A移动到在从底部件12分离的状态下被支撑的中间掩模R的下方，其后，通过连杆机构50B向上方移动。由此，中间掩模R由支撑板50A支撑。中间掩模R由支撑板50A支撑后，支撑板50A再次从第三无尘室52移动到第二无尘室44。另外，此时，第一窗部46关闭。

支撑中间掩模R的支撑板50A从第三无尘室52移动到第二无尘室44后，构成第二开闭挡板装置56的开闭挡板主体56A由驱动部56B驱动，第二窗部48被关闭，并且构成第一开闭挡板装置54的开闭挡板主体54A由驱动部54B驱动，第一窗部46被打开。

第一窗部46被打开后，支撑板50A通过连杆机构50B而移动，从第二无尘室44经过第一窗部46进入到第一无尘室34内。并且，将中间掩模放置到预先在第一无尘室34的内部向下方移动并待机的升降台36上的底部件12上。此时，中间掩模R被放置在支撑部件14上由该支撑部件14支撑，并且由定位部件16进行定位。由此，中间掩模R从步进箱S调换到中间掩模容纳箱10中。

另外，中间掩模R被放置在底部件12上后，支撑板50A通过连杆机构50B而移动，从第一无尘室34经过第一窗部46返回到第二无尘室44，第一窗部46被关闭。

将中间掩模R放置到底部件12上后，升降台36在第一无尘室34的内部上升，与由支撑臂主体42B支撑的盖部件20配合，通过挂钩部件24将盖部件20固定在底部件12上。由此，将中间掩模R容纳到中间掩模容纳箱10中。中间掩模R被容纳到中间掩模容纳箱10中后，中间掩模容纳箱10被放置在输送台64上，并被收容在储存室62的预定的场所。

如上所述，根据本发明的中间掩模调换装置32及中间掩模管理装置30，通过在各无尘室34、44、52内进行中间掩模R的调换作业，可以防止在中间掩模R上附着灰尘等，可以防止中间掩模R的质量恶化。

此外，在中间掩模调换装置32的附近，设有在被容纳到中间掩模容纳箱10内的状态下分别收容多个中间掩模R的储存室62，因此通过中间掩模调换装置32将中间掩模R从中间掩模容纳箱10调换到步进箱S中时，可以从储存室62迅速且容易地取出需要的中间掩模R。

此外，储存室62在设有中间掩模调换装置32的底板的下方形成，因此可以有效地活用底板下的空间。由此，在无尘室内进行较大的中间掩模R的保管时，需要扩大无尘室的空间，从而管理维持成本大幅增高，但如本发明所示，通过在形成于底板下的储存室62保管中间掩模R，可以大幅降低中间掩模R的维持管理成本，并且可以将无尘室空出的空间有效地用于其他用途。

此外，在曝光装置中不需要设置用于保管中间掩模R的储藏库，可以使曝光装置小型化，并且可以大幅降低曝光装置的制造成本。

另外，可在容纳于中间掩模容纳箱10的中间掩模R上设置专用的ID号，并在中间掩模容纳箱10上也设置专用的ID号，由判断装置(省略图示，判断单元)判断两者是否一致，并在监视器(省略图示，显示单元)上显示其判断结果。由此，用户仅通过确认监视器，就可以瞬间判断中间掩模R和中间掩模容纳箱10是否一致。其结果，可以在中间掩模R和中间掩模容纳箱10对应的状态下保管中间掩模R，可以提高中间掩模R的管理功能。

接下来，对本发明的第一实施方式的中间掩模容纳箱和密封部件的变形例进行说明。

如图14及图15所示，作为变形例的密封部件70被形成为中空状，以在俯视图下大致为四边形状的方式连续形成。此外，密封部件70由一对压力部72A、和连接各压力部72A、72A之间的薄壁部72B构成。其中，各压力部72A、72A被形成为从后端部向前端部逐渐变薄。此外，薄壁部72B的上部，为与后述中间掩模容纳箱74(参照图16)的盖部件76接触的部位，被形成为弯曲状。该薄壁部72B的厚度T被形成为0.2mm以上0.6mm以下，特别优选的是0.3mm。此外，密封部件70被形成为，相对于向在密封部件70的厚度方向上剖开的剖面的高度方向延伸的中心线L，左右对称。

该密封部件70由氟橡胶等合成橡胶材料(橡胶)构成。作为该氟橡胶，从耐热性及气体产生较少的方面来看，优选的是，主链完全被氟化的全氟橡胶(FFKM)、在主链的一部分上存在碳-氢结合的一般的氟橡胶(FKM)、可挤压成形等的氟类热塑性合成橡胶等。

此外，如图16所示，在构成变形例的中间掩模容纳箱74的底部件78的外缘部附近形成沟槽80。在该沟槽80的沟槽宽度方向的中央部，形成有凸部82。此外，对于中间掩模容纳箱74的其他结构，与上述第一实施方式的中间掩模容纳箱的构成相同，因此省略说明。另外，该中间掩模容纳箱74由聚碳酸酯等树脂构成。

接下来，对将变形例的密封部件70安装到中间掩模容纳箱74的底部件78上时的作用进行说明。如图16(A)所示，密封部件70的各压力部72A、72A夹着在沟槽80中形成的凸部82，由此被安装到沟槽80内。此时，从各压力部72A、72A的后端部向前端部逐渐变薄，因此可以容易地将密封部件70插入到沟槽80中。在将密封部件70安装到沟槽80内的状态下，各压力部72A、72A的后端部，作为反作用力对与凸部82在沟槽宽度方向上相对的沟槽侧壁78A、78A作用预定的压力。由此，可以防止密封部件70从沟槽80脱落，并且可以防止在清洗中间掩模容纳箱74时清洗液进入到沟槽80的内部。

接下来，对将中间掩模容纳箱74的盖部件76安装到底部件78上时的作用进行说明。如图16(B)所示，使盖部件76与底部件78配合并直接向下方按压盖部件76时，密封部件70的薄壁部72B弹性变形，向沟槽宽度方向扩展。由此，密封部件70的上部和盖部件76在作用了预定的反作用力的状态下接触，因此可以维持空间部的气密性。此外，密封部件70被形成为相对于中心线L而左右对称，因此在薄壁部72B与盖部件76接触时，薄壁部72B基本不会相对于盖部件76偏移，可以有效地抑制微粒的产生。

此外，薄壁部72B由橡胶等构成，且其厚度T为0.2mm以上0.6mm以下，因此可以确保空间部的气密性，并且可以减小薄壁部72B对盖部件76的压缩反作用力，可以防止在盖部件76产生翘曲等。这样一来，可以同时确保空间部的气密性、以及防止盖部件76的翘曲等的产生。

相反，若薄壁部的厚度大于0.6mm，则薄壁部对盖部件或底部件的压缩反作用力变大，在盖部件或底部件上容易产生翘曲等，从而成为问题。此外，若薄壁部的厚度小于0.2mm，则薄壁部自身的刚性及反弹性不足，对盖部件或底部件的压缩反作用力过小，存在无法确保空间部的气密性的问题。

接下来，对变形例的密封部件的微粒性能的实验进行说明。如图17所示，在实验设备84的内部空间86中设置通过来自空气压力缸88的气压而上下移动的按压部件90，在该按压部件90上粘贴有与中间掩模容纳箱74的盖部件76相同材质的树脂板92。此外，在内部空间86的底面上设置台94，在该台94的上面安装形成于中间掩模容纳箱74的底部件78上的四个沟槽80，在各沟槽80上分别安装上述变形例的密封部件70。并且，使空气压力缸88动作一万次，由树脂板92按压各密封部件70。此时，树脂板92与密封部件70接触后，密封部件70压缩变形了约1.5mm，其后，重复一万次拉起树脂板92释放密封部件70的弹性变形的动作。此时产生的微粒从设于内部空间86的底部的供给路径96引导到外部，由吸附式的微粒计数器(省略图示，吸附量为2.83L/min)测定其个数。另外，经由0.01μm的过滤器98向内部空间86提供空气。

本实验中，除了实验了将变形例的密封部件70安装到沟槽80内的发明产品安装状态之外，还利用同样的条件，实验了没有将密封部件安装到沟槽80内的未安装状态、以及将图13(B)所示的现有的密封部件N安装到沟槽80内的现有产品安装状态。

其中，本实验中使用的变形例的密封部件70，添加了氟橡胶(二氟乙烯/六氟丙稀/四氟乙烯三元类氟橡胶：ダイキン公司制造G921)、交联剂、碳黑等填充材料，由开式滚筒捏炼，生成橡胶复合物。将其填充到金属模具中，在165℃下进行15分钟加热交联成形后，在180℃进行12小时二次加硫，形成密封部件。

上述微粒性能的实验结果，如下表1所示。

表1

粒径(μm)	0.1	0.15	0.2	0.3	0.5	共计(个)
							未安装状态	59	2	2	2	1	66
发明产品安装状态	63	2	1	0	0	66
							现有产品安装状态	632	566	519	417	131	2265

如上述表1所示，在发明产品安装状态下，产生66个微粒，但在未安装状态下也产生66个微粒，从而判明实质上从密封部件产生的微粒接近为零。另一方面，在现有产品安装状态下产生2265个微粒，从而可以判明，在使用本发明产品的密封部件时，与使用现有的密封部件时相比，可以大幅降低微粒。

接下来，对变形例的密封部件的气密性能实验进行说明。

如图18所示，利用相当于中间掩模容纳箱74的底部件78的承受部件81，在该承受部件81上形成沟槽83并安装变形例的密封部件70。并且，利用相当于中间掩模容纳箱74的盖部件76的覆盖部件85，使覆盖部件85与承受部件81配合，使内部的空间部87设定成气密。在内部的空间部87中配置有玻璃基板89。另外，在覆盖部件85上形成贯通路径91，该贯通路径91上连接有负压计93、压力调整阀95、真空泵97。在本实验中，打开压力调整阀95，使真空泵97动作，进行真空吸引使空间部87的压力为-500Pa左右，其后，维持关闭压力调整阀95的状态，由负压计93测定空间部87的压力。负压计93的测定进行两次，分别为：使真空泵97动作，进行真空吸引以使空间部87的压力为-500Pa左右，其后形成关闭了压力调整阀95的状态时马上测定；以及从这开始一周后的测定。

上述气密性能的实验的结果，如下表2所示。

表2

	马上测定	一周后测定
			压力(Pa)	-490	-485

如上述表2所示，使用本发明的密封部件70，可以使空间部87的压力大致维持恒定。

根据上述两个实验结果，通过本发明的密封部件70，可以抑制微粒的产生，并且可以确保空间部的气密性，可以同时兼顾微粒性和气密性。

Claims (21)

1.一种用于容纳玻璃基板的玻璃基板容纳箱，其特征在于，包括：

放置上述玻璃基板的底部件；

盖部件，以覆盖在所述底部件上放置的所述玻璃基板的方式与所述底部件配合，并在其与所述底部件之间形成空间部；

密封部件，被设置在所述底部件或/及所述盖部件上，在所述盖部件与所述底部件配合的状态下，使所述空间部气密；和

挂钩部件，被设置在所述盖部件上，勾挂到所述底部件上，以维持所述盖部件与所述底部件配合的状态。

2.根据权利要求1所述的玻璃基板容纳箱，其特征在于，

所述挂钩部件具有：可旋转地设置在所述盖部件上的轴部；和以所述轴部为旋转轴而旋转、并与所述底部件的底部扣合的爪部。

3.根据权利要求1或2所述的玻璃基板容纳箱，其特征在于，

所述密封部件被配置在形成于所述盖部件或/及所述底部件的沟槽上，

所述密封部件具有：一对压力部，被插入到所述沟槽中，按压所述沟槽的侧壁；和弯曲部，连接所述各压力部之间，在所述盖部件与所述底部件配合时，与所述盖部件或所述底部件接触而弹性变形，

所述各压力部的壁厚形成得比所述弯曲部的壁厚要厚。

4.根据权利要求3所述的玻璃基本容纳箱，其特征在于，

在从所述弯曲部到所述各压力部的至少一部分上设有突起部。

5.根据权利要求4所述的玻璃基板容纳箱，其特征在于，

从所述弯曲部到所述各压力部，壁厚逐渐变厚。

6.根据权利要求1或2所述的玻璃基板容纳箱，其特征在于，

在所述盖部件或/及所述底部件上形成具有凸部的沟槽，

所述密封部件由橡胶构成，

所述密封部件具有：一对压力部，以夹着所述凸部的方式插入到所述沟槽中，按压与所述凸部相对的沟槽侧壁；和薄壁部，连接所述各压力部之间，在所述盖部件与所述底部件配合时，其与所述盖部件或所述底部件接触的部位被形成为弯曲状，在所述盖部件与所述底部件配合时，其与所述盖部件或所述底部件接触而弹性变形。

7.根据权利要求6所述的玻璃基板容纳箱，其特征在于，

所述薄壁部的厚度为0.2mm以上0.6mm以下。

8.根据权利要求6或7所述的玻璃基板容纳箱，其特征在于，

朝向所述压力部与沟槽底面接触的前端部而逐渐变薄。

9.根据权利要求6～8中任一项所述的玻璃基板容纳箱，其特征在于，

所述密封部件被形成为，相对于向在所述密封部件的厚度方向上剖开的剖面的高度方向延伸的中心线对称。

10.一种玻璃基板调换装置，将权利要求1～9中任一项所述的玻璃基板容纳箱中容纳的玻璃基板调换到其他的步进箱中，其特征在于，具有：

升降部件，被设置为可在上下方向上移动，放置有所述玻璃基板容纳箱；

扣合解除部件，解除所述挂钩部件与放置在所述升降部件上的所述玻璃基板容纳箱的所述底部件的勾挂，并且从下方支撑所述盖部件；

基座部件，放置有所述步进箱；和

臂部件，从所述底部件取出在所述升降部件上的所述底部件上放置的所述玻璃基板，并使其移动到所述步进箱侧。

11.根据权利要求10所述的玻璃基板调换装置，其特征在于，

所述扣合解除部件具有：按压部，将所述盖部件按压向所述底部件，使所述密封部件弹性变形，解除所述爪部与所述底部件的扣合；和开放支撑部，使解除了与所述底部件的扣合的所述爪部绕所述轴部旋转的同时将其拉起，并且支撑所述盖部件。

12.一种管理玻璃基板的玻璃基板管理装置，其特征在于，具有：

权利要求10或权利要求11所述的玻璃基板调换装置；和

在设有所述玻璃基板调换装置的底板的下方形成的储存室。

13.一种玻璃基板流通方法，其特征在于，

利用权利要求1～9的任一项所述的玻璃基板容纳箱，从制造所述玻璃基板的玻璃基板制造商流通到在所述玻璃基板上形成预定的图形的绘图者，进而从所述绘图者流通到将所述玻璃基板的图形投影/转印到半导体晶片上的设备制造商。

14.一种密封部件，由弹性体构成，被安装到在各部件间的接合面上形成的沟槽中，其特征在于，

具有：一对压力部，在所述密封部件被安装到所述沟槽中时，按压所述沟槽的侧壁；和连接所述一对压力部的弯曲部，

缩短所述各压力部之间的距离，并安装到所述沟槽中。

15.根据权利要求14所述的密封部件，其特征在于，

从所述弯曲部到所述各压力部，壁厚逐渐变厚。

16.根据权利要求14或15所述的密封部件，其特征在于，

在从所述弯曲部到所述各压力部的一部分上设有突起部。

17.一种密封部件，由橡胶构成，以夹着在各部件间的接合面上形成的沟槽的凸部的方式安装到所述沟槽中，其特征在于，

具有：一对压力部，在所述密封部件被安装到所述沟槽中时，按压与所述凸部相对的沟槽侧壁；和薄壁部，连接所述各压力部之间，与各部件的一方或另一方接触的部位被形成为弯曲状，与所述各部件的一方或另一方接触而弹性变形。

18.根据权利要求17所述的密封部件，其特征在于，

所述薄壁部的厚度为0.2mm以上0.6mm以下。

19.根据权利要求17或18所述的密封部件，其特征在于，

所述压力部向其与沟槽底面接触的前端部逐渐变薄。

20.根据权利要求17～19中任一项所述的密封部件，其特征在于，

其被形成为，相对于向在所述密封部件的厚度方向上剖开的剖面的高度方向延伸的中心线对称。

21.一种密封构造，将权利要求14～20中任一项所述的密封部件安装到所述沟槽中并进行密封，其特征在于，

对所述沟槽的开口边缘进行倒角，以扩大所述沟槽的开口部。

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