JP4473670B2 - 半導体ウェハ収納容器用ブレスフィルタ - Google Patents

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本発明は、ミニ・エンバイロメント方式の半導体クリーンルームで使用される半導体ウェハ収納容器(FOUP)のブレスフィルタに関するものである。
半導体IC回路の微細化により、300mmウェハの製造ラインでは、製造環境も大幅な変革が進み、従来の製造ラインを設置するクリーンルームにおいては、全体のクリーン度を上げるボールルーム方式から、ウェハの周囲のみのクリーン度を上げるミニ・エンバイロメント方式に変わってきた。
前記ミニ・エンバイロメント方式クリーンルームでは、初期投資、ランニングコスト削減の目的からクリーンルーム全体のクリーン度を従来より低くして、装置用のウェハの搬送波密閉型収納容器に収納して行われている。前記半導体ウェハ収納容器は、FOUPと称され、その仕様は世界標準となっている。
そして、従来、半導体ウェハ収納容器内の水分やケミカルガスを除去すると共に、空気を清浄化して、再び半導体ウェハ収納容器に送気する半導体ウェハ収納容器に取付けられるブレスフィルタとしては、図7の組立分解斜視図に示すものが公知である。
すなわち、従来、半導体ウェハ収納容器に取付けられるブレスフィルタ91は、1重の円形の濾材92が外枠93に取付けられて形成され、且つ該ブレスフィルタ91は、固定リング94の円筒状の周壁面を半導体ウェハ収納容器の取付板の呼吸口に嵌挿して取付けられている。
前記世界標準の半導体ウェハ収納容器は、ケミカルガスに対するシール性が完全ではなくて、通常のクリーンルームに長時間放置すると、クリーンルーム内のケミカルガスが、前記半導体ウェハ収納容器の取付板に設けられた呼吸口から、該半導体ウェハ収納容器内に侵入して、ウェハ表面に付着することにより、加工工程での歩留まり低下を引き起こすという課題があった。
また、加工工程によっては、有機物の膜が形成されたウェハが、半導体ウェハ収納容器に収納されることにより、該半導体ウェハ収納容器内壁にケミカルガス成分が付着し、次の工程で加工されたウェハ表面に、前記半導体ウェハ収納容器内壁に付着したケミカルガス成分が再度付着し、歩留まり低下を引き起こすという課題があった。
更に、前記歩留まり低下を防ぐために、半導体ウェハ収納容器の内側と外側の圧力を均一にするべく、該半導体ウェハ収納容器に1個または複数個付けられているブレスフィルタを介して、前記半導体ウェハ収納容器内部の空気を循環濾過することが試みられている。しかしながら、従来のブレスフィルタは、図7に示すように、1重の円形の濾材シートを使用しているため、空気通過時の圧力損失が大きく、現状のブレスフィルタの構造、特性では、前記半導体ウェハ収納容器内部の空気を、短時間に置換・循環させることは困難であるという課題があった。
本発明は、半導体ウェハ収納容器に1個または複数個設置されるブレスフィルタであって、該ブレスフィルタは、シート状濾材を波形状に折曲して形成された円筒状フィルタの一方側端縁部を外枠の装入凹溝に装入してシール樹脂を充填して密に固定し、更に、前記円筒状フィルタの他方側端縁部を、蓋部材の装入逆凹溝に装入してシール樹脂を充填して密に固定する一方、前記円筒状フィルタと外枠間に、環状の通気空間を備えて形成され、且つ該ブレスフィルタは、固定リングにより半導体ウェハ収納容器に通気可能に密に連結固定するという手段を採用することにより、上記課題を解決した。
本発明ブレスフィルタは、波形状に折曲されたシート状濾材を円筒状として多数の濾過面を形成することにより、空気の濾材通過面積を増やすと共に、空気通過時の圧力損失を少なくすることができる。そして、前記空気通過時の圧力損失を少なくすることができるので、本発明ブレスフィルタを半導体ウェハ収納容器内空気清浄装置に使用すると、半導体ウェハ収納容器内の空気の循環・置換が容易にできる。
シート状濾材を波形状に折曲して形成された円筒状フィルタの一方側端縁部を外枠の装入凹溝に装入してシール樹脂を充填して密に固定し、更に、前記円筒状フィルタの他方側端縁部を、蓋部材の装入逆凹溝に装入してシール樹脂を充填して密に固定する一方、前記円筒状フィルタと外枠間に、環状の通気空間を備えて形成されたブレスフィルタを、固定リングにより半導体ウェハ収納容器に通気可能に密に連結固定する。
本発明半導体ウェハ収納容器用ブレスフィルタの実施例を図面に基づいて詳細に説明する。図1は、本発明ブレスフィルタを取付けた半導体ウェハ収納容器の斜視図、図2は同要部の一部切欠き縦断面図、図3は同ブレスフィルタの組立分解斜視図である。
図1においては、本発明半導体ウェハ収納容器用のブレスフィルタ1が半導体ウェハ収納容器2の取付板3に2個装置されている例が図示されているが、1個または3個以上装置されてもよい。
本発明ブレスフィルタ1は、図3に示すように、シート状濾材4を波形状に折曲して濾過面5を多数設けて濾過面積を大とすると共に、通気中空部6を備えて全体を円筒状に成型して形成された円筒状フィルタ7を、ケーシング8に収納固定して形成されている。
前記ケーシング8は、前記円筒状フィルタ7を外周より被覆する円筒状の外枠9と、該円筒状フィルタ7を前記外枠9の外部より固定する蓋部材10と、且つ前記外枠9を半導体ウェハ収納容器2の取付板3に支持固定する固定リング11とにより構成されている。
前記円筒状フィルタ7を外周より被覆する円筒状の外枠9は、該円筒状フィルタ7より径が大きい円筒体12により形成されており、且つ該円筒体12の一方端側の外周面部には、半導体ウェハ収納容器2の取付板3に設けられた取付用溝13の内周面部に密に挿着固定するためのOリング14を取付けるOリング取付凹溝15が周設されると共に、前記円筒体12の一方端側の内周壁面に外方向へ拡開した第1の傾斜面16が周設されている。
また、前記円筒体12の他方端側は段部17を設けて直径が絞られると共に、該円筒体12の該段部17部分の他方端の内周壁面に外方向へ拡開した第2の傾斜面18を周設し、更に前記円筒体12の他方端側の内周面には、前記第2の傾斜面18に連なって、円筒状フィルタ7の他方側端縁部を装入する装入凹溝19が周設され、且つ該円筒体12の外周面には前記固定リング11を螺挿するための雄螺子20が周設されている。
また、前記円筒状フィルタ7を前記外枠9の一方側方向より固定する蓋部材10は、径が円筒状フィルタ7とほぼ同径の円板状の蓋板21の外周部裏面に、前記円筒状フィルタ7の一方側端縁部を装入する装入逆凹溝22が周設されると共に、前記蓋板21の表面中央に、前記外枠9の径とほぼ同一長さの方形状の固定バー23を嵌合する嵌合凹溝24を凹設し、更に前記固定バー23の両端部を嵌合する嵌合凹欠部25が前記外枠9の一方端側外周縁の直径方向にそれぞれ凹設され、且つ前記固定バー23および嵌合凹溝24の中央に、固定ねじ26を螺挿するねじ孔27・28をそれぞれ穿設して形成されている。
更に、前記円筒状フィルタ7を前記半導体ウェハ収納容器2の取付板3に支持固定する固定リング11は、半導体ウェハ収納容器2の取付板3の取付用孔13に連設された取付用の円筒状壁板29の内周壁面に摺接する円筒板30と、該円筒板30の内周壁面に前記外枠9の雄螺子20に螺合する雌螺子31を周設すると共に、前記円筒板30の他方側外周壁面に、前記円筒状壁板29の外周端縁部に当接する環状の段部32を備えて形成されている。
前記構成より成る円筒状フィルタ7の他端部周縁部を外枠9を構成する装入凹溝19に装入して、該装入凹溝19にシール樹脂19aを充填して、前記円筒状フィルタ7の他方側端縁部を前記装入凹溝19に密に接着固定する。
そして、前記蓋部材10を構成する蓋板21を、前記外枠9の外部より円筒状フィルタ7に被覆して、該円筒状フィルタ7の一方側端縁部を装入逆凹溝22に装入して、該装入逆凹溝22にシール樹脂22aを充填して、前記円筒状フィルタ7の一方側端縁部を前記装入逆凹溝22に密に接着固定すると共に、固定バー23を嵌合凹溝24および嵌合凹欠部25に嵌合して、固定ねじ26をねじ孔27・28に螺合して、前記固定バー23と蓋板21とを一体に連結固定する一方、該固定バー23の両端部が外枠9の円筒体12の嵌合凹欠部25に嵌合して蓋板21の移動を阻止して、円筒状フィルタ7を外枠9に一体に固定して、ブレスフィルタ1が形成される。
前記のように、円筒状フィルタ7を外枠9に装入固定してブレスフィルタ1が形成されると、外枠9の径は、円筒状フィルタ7より径大に形成されているため、該円筒状フィルタ7と外枠9の内周壁面間には、環状の通気空間34が形成される。
そして、前記ブレスフィルタ1を構成する外枠9のOリング取付凹溝15にOリング14を嵌入して、該ブレスフィルタ1を半導体ウェハ収納容器2の取付板3に設けられた取付用孔13に圧入して、前記Oリング14の外周面部を前記取付板3の内周面部に密接固定し、且つ外枠9の一方端側のフランジ9aを取付板3の取付用孔13の外周縁部に当接する一方、前記ブレスフィルタ1を構成する外枠9の雄螺子20に固定リング11の雌ねじ31を螺挿して、前記半導体ウェハ収納容器2の取付板3の取付用孔13に連設された円筒状壁板29の内周壁面に、固定リング11の円筒板30の外周壁面を摺接すると共に、環状の段部32を前記円筒状壁板29の端縁部に当接して、ブレスフィルタ1を固定リング11を介して半導体ウェハ収納容器2の取付板3に固定する。
図6は、本発明ブレスフィルタを取付けた半導体ウェハ収納容器内空気清浄装置の使用状態を示す一部切欠き縦断面図である。すなわち、半導体ウェハ収納容器内空気清浄装置Mは、ファン駆動部41およびケミカルガス・塵除去フィルタ部42とにより構成されている。前記ファン駆動部41とケミカルガス・塵除去フィルタ部42とは、方形状のケーシング43を区画壁44によって2つに区画された第1の区画室44aと第2の区画室44b内にそれぞれ設置されている。
前記第1の区画室44a内に設置されたファン駆動部41は、送風ファン45と、該送風ファン45を内蔵したファンケース46を備え、且つ該ファン駆動部41側のケーシング43の覆板43aに、半導体ウェハ収納容器2からの塵およびケミカルガスを含んだ空気47を吸気するための吸気用開口部48を開口すると共に、該吸気用開口部48の外周縁上に吸気ノズル49を突接して形成されている。
また、前記第2の区画室44b内に設置されたケミカルガス・塵除去フィルタ部42は、塵除去用フィルタ50とケミカルガス除去用フィルタ51とが間隔を有して2列に亘って配設されると共に、該ケミカルガス除去用フィルタ51より他方側の第2の区画室44bと、前記第1の区画室44a内のファンケース46とは連通管52を介して連通される。
そして、前記ケミカルガス・塵除去フィルタ部42側のケーシング43の覆板43aに、前記ケミカルガス除去用フィルタ51および塵除去用フィルタ50とにより、ケミカルガスおよび塵が除去された清浄空気53を、半導体ウェハ収納容器2内へ供給するための供給用開口部54を開口すると共に、該供給用開口部54の外周縁上に供給ノズル55を突設して形成されている。
前記塵除去用フィルタ50は、特に限定する必要はないが、好ましくは高性能フィルタを使用することが推奨される。なお、前記吸気ノズル49および供給ノズル55は、半導体ウェハ収納容器2の複数個設置された呼吸口のうち、2つの呼吸口56a・56bに対応した位置に突設される。
前記ケミカルガス除去用フィルタ51は、特に限定する必要はないが、好ましくは、通気小孔を多数設けた収納ケース57内に、ケミカルガスを吸着して除去する、例えば、ゼオライト、活性炭等の粒状濾材58を充填して形成することが推奨される。
そして、前記構成より成る半導体ウェハ収納容器内空気清浄装置Mに連通して設置する半導体ウェハ収納容器2は、既に実用に供されているものを使用する。すなわち、半導体ウェハ収納容器2は、図4・図5に示すように、ドア取付けフランジ部61、ドア62および2つの呼吸口56a・56bをそれぞれ備えると共に、該各呼吸口56a(吸気ノズル49側)・56b(供給ノズル55側)に本発明ブレスフィルタ1a・1bがそれぞれ設置され、そして、前記半導体ウェハ収納容器2内にはウェハ63が収納される。
前記構成より成る半導体ウェハ収納容器内空気清浄装置Mに連通して、前記半導体ウェハ収納容器2が設置されるが、該半導体ウェハ収納容器2を半導体ウェハ収納容器内空気清浄装置Mに連通して設置すると、図6に示すように、ファン駆動部41とケミカルガス・塵除去フィルタ部42の吸気ノズル49と供給ノズル55が、半導体ウェハ収納容器2の底板3に設けられた各呼吸口56a・56bの底部開口内周縁部に装入密着して連結固定される。なお、既に実用に供されている半導体ウェハ収納容器2の底板3には、3個以上の呼吸口を設けているものもあるが、本発明においては、そのうちの2個の呼吸口を使用するものとして説明する。
前記吸気ノズル49と供給ノズル55は、前記各呼吸口56a・56bとのシール性が保たれるように、ゴム等の弾性を有する材料により形成することが好ましい。
本発明ブレスフィルタ1a・1bを使用した半導体ウェハ収納容器内空気清浄装置Mの作用について説明する。先ず、ファン駆動部41の送風ファン45を作動させて、半導体ウェハ収納容器2の一方側の呼吸口56aから、前記半導体ウェハ収納容器2内のケミカルガス等により汚染された空気47を、前記ブレスフィルタ1aを構成する円筒状フィルタ7と外枠9間の環状の通気空間33を経て、前記円筒状フィルタ7の多数の濾過面5を通って、吸気ノズル49から半導体ウェハ収納容器内空気清浄装置M内へ吸い込む。また、前記外枠9の内周面には、第1・第2の傾斜面16・18が設けられているため、該外枠9の一方端側から前記環状の通気空間33を通過する空気47の流れはスムーズである。
そして、前記環状の通気空間33および円筒状フィルタ7を通過した空気47は、通気中空部6から前記送風ファン45によりファン駆動部41のファンケース46内に吸引され、更に該吸引した前記汚染された空気47を、該送風ファン45により連通管52を介して、ケミカルガス除去用フィルタ51の下流側へ送気して、収納ケース57の上流側から、前記汚染された空気47を粒状濾材58内に流入させて、該粒状濾材58に接触させ、該汚染された空気47中に含まれたケミカルガスを前記粒状濾材58に吸着させて除去して、下流側の塵除去用フィルタ50へ送気する。
その後、前記ケミカルガスを除去された空気47は、塵除去用フィルタ50内に流入し、該流入した空気47は塵除去用フィルタ50によって濾過され、清浄空気53となり、更に前記ブレスフィルタ1bを構成する円筒状フィルタ7の通気中空部6を経て、該円筒状フィルタ7の多数の濾過面5によって塵が更に濾過されて、前記円筒状フィルタ7と外枠9間の環状の通気空間33を通って、供給ノズル55から他方の呼吸口56bを経て半導体ウェハ収納容器2内に供給される。また、前記外枠9の内周面には、第2・第1の傾斜面18・16が設けられているため、通気中空部6から多数の濾過面5で透過されて、前記環状の通気空間33を通過する清浄空気53の流れはスムーズである。
前記半導体ウェハ収納容器2内に清浄空気53が供給されると共に、該清浄空気53が供給されて半導体ウェハ収納容器2が加圧されることにより、外部からのケミカルガスおよび塵の浸入を防ぎ、半導体ウェハ収納容器2内の清浄化状態の維持を達成することができる。以下、前記動作を繰返して半導体ウェハ収納容器2内の空気を循環しながら清浄化するのである。
更に、前記塵に汚染された空気47を濾過するブレスフィルタ1aの円筒状フィルタ7、および清浄空気53を更に濾過するブレスフィルタ1bの円筒状フィルタ7のいずれも、シート状の濾材4を多数の濾過面を有するよう波形状に折曲して形成されているため、空気通過時の圧力損失が小さく、半導体ウェハ収納容器2の内部の空気を、短時間に置換・循環させることができる。
本発明ブレスフィルタを取付けた半導体ウェハ収納容器の斜視図である。 同要部の一部切欠き縦断面図である。 同ブレスフィルタの組立分解斜視図である 本発明ブレスフィルタを取付けた半導体ウェハ収納容器の縦断面図である。 同底面図である。 本発明ブレスフィルタを取付けた半導体ウェハ収納容器内空気清浄装置の使用状態を示す一部切欠き縦断面図である。 従来のブレスフィルタの組立分解斜視図である。
符号の説明
半導体ウェハ収納容器内空気清浄装置
1 ブレスフィルタ
2 半導体ウェハ収納容器
4 シート状濾材
7 円筒状フィルタ
9 外枠
11 固定リング
19 装入凹溝
19a シール樹脂
22 装入逆凹溝
22a シール樹脂
33 環状の通気空間

Claims (1)

  1. 半導体ウェハ収納容器に1個または複数個設置されるブレスフィルタであって、該ブレスフィルタは、シート状濾材を波形状に折曲して形成された円筒状フィルタの一方側端縁部を外枠の装入凹溝に装入してシール樹脂を充填して密に固定し、更に、前記円筒状フィルタの他方側端縁部を、蓋部材の装入逆凹溝に装入してシール樹脂を充填して密に固定する一方、前記円筒状フィルタと外枠間に、環状の通気空間を備えて形成され、且つ該ブレスフィルタは、固定リングにより半導体ウェハ収納容器に通気可能に密に連結固定することを特徴とする半導体ウェハ収納容器用ブレスフィルタ。
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TWI737595B (zh) * 2015-03-11 2021-09-01 美商恩特葛瑞斯股份有限公司 半導體晶圓載具總成、門總成、基板容器與吸氣劑模組之組合及降低前開式容器內污染物濃度之方法
TWI655025B (zh) * 2018-01-24 2019-04-01 淳靖股份有限公司 濾芯框、濾芯及濾芯的上膠方法
CN112216635A (zh) * 2020-10-22 2021-01-12 常永青 一种用于芯片晶圆的智能储存装置
CN116280713B (zh) * 2022-12-05 2023-12-01 江苏晨达半导体科技有限公司 半导体通风存放设备

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