TWI752547B - 非密閉式光罩收容裝置 - Google Patents

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Abstract

一種光罩收容裝置包含：一上蓋，具有一頂部和一覆蓋部，該覆蓋部圍繞該頂部；及一下蓋，具有一承載部和一周圍結構，該周圍結構圍繞該承載部。該上蓋與該下蓋結合時，其間定義一通道使裝置的一光罩容置空間未封閉。

Description

非密閉式光罩收容裝置
本發明是關於一種光罩收容裝置，尤其關於一種非密閉(即密封)的光罩盒。
已知的光罩盒通常包含一外盒和一內盒，其中外盒為光罩盒的最外層，而內盒收容在外盒內。在某些態樣中，外盒可由一上蓋及一下蓋組成。相同的，內盒也可由一上蓋及一下蓋組成，並將一光罩容置於其中。
EUV(Extreme Ultraviolet)光罩在微汙染控制方面，主要必須仰賴內盒的上下蓋結合以防止外部粒子及微塵進入內盒中。已知的內盒上下蓋設計利用密封的手段將內盒中的環境與其外部的環境流體隔絕，此阻止內外環境間的氣體流動，故可有效杜絕內盒中的光罩受到汙染。當然，如此密封式的內盒設計也有其缺點。首先，採用表面密封的手段是困難的，例如相互接觸的平面的粗糙度要求非常嚴格。還有，當某些因素(如環境溫度和壓力變化)造成內盒的內部和外部環境的壓力產生較大差異時，開啟內盒的過程會導致內外環境之間的空氣劇烈流動，反而使光罩因此受到 汙染。此通常發生在光罩外盒或內盒運輸的過程。再者，密封式的設計通常需要上蓋和下蓋以一定程度的接觸面積結合，此有可能使上蓋和下蓋的硬件互相碰撞而產生微粒，其同樣可能汙染容置在內盒的光罩。
因此，有必要發展能夠解決封閉式內盒設計所存在的上述問題，確保內盒收容的光罩從在內盒的開啟和關閉過程均處於相對安全的環境。
本發明的目的在於提供一種光罩收容裝置，包含：一上蓋，具有一頂部和一覆蓋部，該覆蓋部圍繞該頂部；一下蓋，具有一承載部和一周圍結構，該周圍結構圍繞該承載部；多個支撐柱，將該上蓋抬升於該下蓋上方，其中，當該上蓋與該下蓋結合時，該承載部與該上蓋的頂部和覆蓋部定義一光罩容置空間，該上蓋的覆蓋部面對該下蓋的周圍結構，該上蓋的覆蓋部的至少一部分與該下蓋的周圍結構的至少一部分藉由該等支撐柱而定義一通道，該通道使該光罩容置空間未封閉，該通道至少由兩個不同方向的延伸結構所組成。
在一具體實施例中，所述至少兩個不同方向的延伸結構是由形成於該覆蓋部的一第一凹部與形成於該周圍結構的一第一凸部所定義，其中該第一凹部與該第一凸部結構對應。
在一具體實施例中，所述至少兩個不同方向的延伸結構還是由形成於該覆蓋部的一第二凸部與形成於該周圍結構的一第二凹部所定義，其中該第二凸部與該第二凹部結構對應。
在一具體實施例中，該第一凹部圍繞該第二凸部，而該第一凸部圍繞該第二凹部。
在一具體實施例中，該通道至少由一第一橫向延伸結構、一第二橫向延伸結構及一縱向延伸結構所組成，該縱向延伸介結構於該第一橫向延伸結構及該第二橫向延伸結構之間，該第一橫向延伸結構及該第二橫向延伸結構分別位於不同水平高度。
在一具體實施例中，該下蓋的周圍結構與該承載部之間定義一溝槽，該溝槽介於該通道與該光罩容置空間之間。
在一具體實施例中，該上蓋的覆蓋部具有多個支撐柱，該等支撐柱自該覆蓋部向下延伸，該下蓋的周圍結構具有對應該等支撐柱的多個容置凹部，該等容置凹部自該周圍結構向下延伸，其中各容置凹部配置成部分地容置對應的支撐柱，使該上蓋的覆蓋部被舉升於該下蓋的周圍結構的上方。
本發明的另一目的在於提供一種光罩收容裝置，包含：一上蓋，具有一頂部和一覆蓋部，該覆蓋部圍繞該頂部；及一下蓋，具有一承載部和一周圍結構，該周圍結構圍繞該承載部。其中，當該上蓋與該下蓋結合時，該承載部與該上蓋的頂部和覆蓋部定義一光罩容置空間，該上蓋的覆蓋部面對該下蓋的周圍結構，該上蓋的覆蓋部的至少一部分與該下蓋的周圍結構的至少一部分定義一通道，該通道使該光罩容置空間未封閉，該通道由複數個延伸結構所組成，該通道具有一入口、一第一轉折點及一第二轉折點，該第一轉折點所在的水平高度高於該入口的水平高度，該第二轉折點的水平高度低於該入口的水平高度。
在一具體實施例中，該下蓋的周圍結構與該承載部之間定義一溝槽，該溝槽介於該通道與該光罩容置空間之間。
在一具體實施例中，該上蓋的覆蓋部具有多個支撐柱，該等支撐柱自該覆蓋部向下延伸，該下蓋的周圍結構具有對應該等支撐柱的多個容置凹部，該等容置凹部自該周圍結構向下延伸，其中各容置凹部配置成部分地容置對應的支撐柱，使該上蓋的覆蓋部被舉升於該下蓋的周圍結構的上方。
在以下本發明的說明書以及藉由本發明原理所例示的圖式當中，將更詳細呈現本發明的這些與其他特色和優點。
101:上蓋
102:下蓋
201:頂部
202:覆蓋部
203:承載部
204:周圍結構
205:入口
AA:剖面線
206:出口
207:第一凹部
208:第一凸部
209:第二凸部
210:第二凹部
211:溝槽
212:支撐柱
BB:剖面線
213:凹部
參照下列圖式與說明，可更進一步理解本發明。非限制性與非窮舉性實例系參照下列圖式而描述。在圖式中的構件並非必須為實際尺寸；重點在於說明結構及原理。
第一A圖及第一B圖分別顯示光罩收容裝置的一俯視圖及一側視圖。
第二圖顯示光罩收容裝置的一立體視圖。
第三A圖至第三C圖為根據AA線的剖面圖，分別顯示通道的三個實施例。
第四A圖為根據BB線的剖面圖，顯示支撐手段的一第一實施例。第四B圖和第四C圖分別顯示上蓋和下蓋的支撐手段。
第五圖為根據BB線的剖面圖，顯示支撐手段的一第二實施例。
第六圖為根據BB線的剖面圖，顯示支撐手段的一第三實施例。
底下將參考圖式更完整說明本發明，並且藉由例示顯示特定範例具體實施例。不過，本主張主題可具體實施於許多不同形式，因此所涵蓋或申請主張主題的建構並不受限於本說明書所揭示的任何範例具體實施例；範例具體實施例僅為例示。同樣，本發明在於提供合理寬闊的範疇給所申請或涵蓋之主張主題。除此之外，例如主張主題可具體實施為方法、裝置或系統。因此，具體實施例可採用例如硬體、軟體、韌體或這些的任意組合(已知並非軟體)之形式。
本說明書內使用的詞彙「一實施例」並不必要參照相同具體實施例，且本說明書內使用的「其他(一些/某些)實施例」並不必要參照不同的具體實施例。其目的在於例如主張的主題包括全部或部分範例具體實施例的組合。
本發明旨在提供一種非封閉式光罩收容裝置。第一圖及第二圖顯示一光罩收容裝置的俯視圖和側視圖。所述光罩收容裝置包含一上蓋(101)及一下蓋(102)。一光罩(未顯示)係容置於上蓋(101)和下蓋(102)之間。所述非封閉式光罩收容裝置的特色在於，當上蓋(101)和下蓋(102)連接結合時，容置的光罩並未被實質密封。換言之，光罩收容裝置的一光罩容置空間與裝置外部環境的壓力實質相同。雖然未顯示，但所述光罩收容裝置還可容納於一外盒中。本發明非封閉式光罩收容裝置主 要關於一內盒，上蓋(101)的表面及下蓋(102)的表面可提供有與所述外盒連接的機構或接觸。
第一圖的俯視圖顯示本發明光罩收容裝置具有一中央區域及圍繞該中央區域的四個邊。光罩容置空間大致上位於中央區域的下方。本發明光罩收容裝置因在中央區域(光罩容置空間)和這些邊之間提供有特定的結構，使上蓋(101)和下蓋(102)結合後形成具有特殊路徑的通道，賦予本發明光罩收容裝置的非封閉特性。氣體可經由如第二圖所示上蓋(101)和下蓋(102)之間位於裝置側面的一縫隙通過所述通道進入光罩容置空間。由於通道的特定路徑，空氣中的粒子可有效被攔截而避免汙染容置的光罩。如第一A圖和第二圖所示，上蓋(101)的頂部可進一步配置有用於回填氣體的多個進氣孔(未編號)以及用於過濾粒子的濾網(未顯示)。
第二圖顯示本發明光罩收容裝置的立體圖以及AA剖面線和BB剖面線。第三A圖至第三C圖是根據AA線的剖面圖，並分別顯示三種通道的實施例。雖然這些圖僅顯示位於一側的通道，但應可想像所述通道是延伸於光罩收容裝置的各側。甚至在某些情況中，光罩收容裝置僅有某些側具有本發明的非密封通道，而其他側則是密封的。此外，第四A圖根據BB線的剖面圖，第四B圖和第四C圖顯示上下蓋耦合結構的第一實施例。第五圖則是上下蓋耦合結構的第二實施例。第六圖則是上下蓋耦合結構的第三實施例。
參第三A圖至第三C圖，一上蓋(101)具有一頂部(201)和一覆蓋部(202)。覆蓋部(202)自頂部(201)橫向及向下延伸，且具 有相對較大的厚度。雖然只有局部顯示，覆蓋部(202)圍繞頂部(201)並沿著上蓋(101)的四邊延伸。一下蓋(102)具有一承載部(203)和一周圍結構(204)。承載部(203)提供一承載面用於承載一光罩。所述承載面(203)可提供有多個支撐或限位元件以定義一光罩放置區域。周圍結構(204)沿著下蓋(102)的四邊圍繞承載部(203)且略低於承載部(203)的承載面。在某些實施例中，周圍結構(204)可高於承載部(203)的承載面。
當上蓋(101)與下蓋(102)結合時，承載部(203)與上蓋(101)的頂部(201)和覆蓋部(202)定義一光罩容置空間。上蓋(101)的覆蓋部(202)面對下蓋(102)的周圍結構(204)，但兩者不相互接觸或僅有部分接觸。上蓋(101)的覆蓋部(202)的至少一部分與下蓋(102)的周圍結構(204)的至少一部分定義一通道，其使光罩容置空間未封閉。通道具有一入口(205)和一出口(206)。入口(205)為位於覆蓋部(202)和周圍結構(204)的最外側之間的縫隙。出口(206)則是位於覆蓋部(202)和周圍結構(204)之間最內側的終端。應瞭解，入口(205)和出口(206)並非限制氣體流動方向的用語，氣體的流動為雙向的。此外，應瞭解，覆蓋部(202)、承載部(203)和周圍結構(204)的設計決定了入口(205)和出口(206)與光罩容置空間的相對關係，意即此決定了通道與光罩容置空間的相對關係。圖僅例示通道位於光罩容置空間下方的配置。
所述通道至少由兩個不同方向的延伸結構所組成。如第三A圖所示實施例，通道的至少兩個不同方向的延伸結構是由形成於覆蓋部(202)的一第一凹部(207)與形成於周圍結構(204)的一第一凸部(208) 所定義。第一凹部(207)與第一凸部(208)結構對應，且第一凸部(208)部分容置於第一凹部(207)中。雖然僅顯示剖面，應瞭解，第一凹部(207)和第一凸部(208)是沿著覆蓋部(202)和周圍結構(204)且圍繞著光罩容置空間延伸的結構。第一凹部(207)和第一凸部(208)在入口(205)和出口(206)間的方向定義了兩個垂直延伸結構和一個橫向延伸結構。
通道的至少兩個不同方向的延伸結構還包含了由形成於覆蓋部(202)的一第二凸部(209)與形成於周圍結構(204)的一第二凹部(210)所定義。第二凸部(209)與第二凹部(210)結構對應，且第二凸部(209)部分容置於第二凹部(210)中。應瞭解，第二凸部(209)和第二凹部(210)也是沿著覆蓋部(202)和周圍結構(204)且圍繞著光罩容置空間延伸的結構。第二凸部(209)和第二凹部(210)在入口(205)和出口(206)間的方向也定義了兩個垂直延伸結構和一個橫向延伸結構。
在覆蓋部(202)上，第一凹部(207)圍繞第二凸部(209)。在周圍結構(204)上，第一凸部(208)圍繞第二凹部(210)。此安排並非限制。可替代地，第二凸部(209)可相對於第一凹部(207)靠近入口(205)，第二凹部(210)可相對第一凸部(208)靠近入口(205)。顯示的這些凹凸結構數量亦非限制，更多或更少數量的凹凸結構也是可行的。舉例而言，在特定的配置下，通道可至少由一第一橫向延伸結構、一第二橫向延伸結構及一縱向延伸結構所組成，其中縱向延伸結構介於第一橫向延伸結構及第二橫向延伸結構之間，且第一橫向延伸結構及第二橫向延伸結構分別位於不同水平高度。此設計旨在創造通道路徑的一水平落差，增加氣流的阻礙。所述橫向延伸結構的一寬度和縱向延伸結構的一寬度介於 0.02mm至0.20mm的範圍。
根據第三A圖的配置，氣體自入口(205)進入後必須依序跨越第一凸部(208)和第二凹部(210)的障礙才會進入光罩容置空間，因而降低粒子抵達光罩的可能性。下蓋的周圍結構(204)與承載部(203)之間可進一步提供一溝槽(211)，其介於通道出口(206)與光罩容置空間之間且向下延伸至低於承載面的一底部。溝槽(211)進一步給予粒子跨越至光罩容置空間的一障礙。加上承載部(203)的承載面高於通道，粒子被迫落入溝槽(211)底部。
第三B圖顯示通道的第二實施例。通道入口(205)和出口(206)之間的延伸包含一傾斜延伸結構。該傾斜延伸結構是由自覆蓋部(202)逐漸變窄的第一凹部207和周圍結構(204)上逐漸變尖的第一凸部(208)定義而成。此例示了從入口(205)至出口(206)方向由低處往高處的傾斜延伸，當然由高處往低處的傾斜也是可行的。在某些實施例中，通道可至少由一橫向延伸結構和一傾斜延伸結構組成。
第三C圖顯示通道的第三實施例。通道可包含如階梯似的延伸。如圖所示，第一凹部(207)具有兩個不同深度的凹入處，第一凸部(208)具有兩個不同高度的階。兩個結構相對應形成如階梯似的路徑，增加氣流障礙。此例示了從入口(205)至出口(206)方向由低處往高處的階梯似延伸結構，當然由高處往低處的階梯似延伸結構也是可行的。
由上蓋的覆蓋部(202)和下蓋的周圍結構(204)所形成的通道在入口(205)和出口(206)之間可至少包含一第一轉折點及一第二轉折點。所述轉折點是指氣流方向改變的通道結構，這些轉折點可有效增 加氣流障礙。如第三A圖至第三C圖所示的第一凹部(207)和第一凸部(208)的位置可視為第一轉折點，而第二凸部(209)和第二凹部(210)可視為第二轉折點。在本實施例中，第一轉折點所在的水平高度高於入口(205)的水平高度，第二轉折點的水平高度低於入口(205)的水平高度，且第一轉折點介於入口(205)和第二轉折點之間。所述轉折點可以是由上蓋(101)和下蓋(102)的相對表面凹凸結構所形成，如上蓋的朝下面為平坦且下蓋的朝上面為凹凸結構，或者下蓋的朝上面為平坦為平坦且上蓋的朝下面為凹凸結構，或者朝上和朝下面均具有凹凸結構。
第四A圖為根據BB線的剖面圖，顯示本發明光罩收容裝置的角落結構，包含用於上蓋(101)和下蓋(102)的一支撐手段。上蓋(101)的覆蓋部(202)具有多個支撐柱(212)，這些支撐柱可提供於上蓋(101)的四個角落(或具有相對較大面積的覆蓋部)自覆蓋部(202)向下延伸。在下蓋(102)的周圍結構(204)具有對應的多個容置凹部(213)，其配置成部分地容置對應的支撐柱(212)，使上蓋(101)的覆蓋部(202)被舉升於下蓋(102)的周圍結構(204)的上方，並形成所述通道。在一實施例中，支撐柱(212)的一高度大於容置凹部(213)的一深度。
第四B圖顯示上蓋(101)的內側。支撐柱(212)形成於覆蓋部(202)的一表面上且位於第二凸部(209)的延伸路徑上。當然支撐柱(212)也可以位在避開第二凸部(209)的其他位置。支撐柱(212)可與上蓋(101)的覆蓋部(202)一體成型。或者，參閱第六圖，支撐柱(212)可為與上蓋(101)覆蓋部(202)連接的異質部件，如軟性支撐柱。第四C圖顯示下蓋(102)的內側。容置凹部(213)形成於周圍結構(204)的一 表面上且位於第二凹部(210)的延伸路徑上。當然容置凹部(213)也可位在避開第二凹部(210)的其他位置。支撐柱(212)和對應的容置凹部(213)為半球形形構。第五圖顯示第二實施例，其中支撐柱(212)和對應的容置凹部(213)可為矩形結構。在某些實施例中，支撐柱和容置凹部的位置交換也是可行的。
綜上所述，本發明光罩收容裝置因在上蓋和下蓋之間提供通道的設計，賦予本裝置或光罩內盒呈非封閉的狀態，有助於裝置的內外壓力平衡，且因通道的特殊路徑使粒子難以到達裝置內的光罩容置空間。
雖然為了清楚瞭解已經用某些細節來描述前述本發明，吾人將瞭解在申請專利範圍內可實施特定變更與修改。因此，以上實施例僅用於說明，並不設限，並且本發明並不受限於此處說明的細節，但是可在附加之申請專利範圍的領域及等同者下進行修改。
101:上蓋
206:出口
102:下蓋
207:第一凹部
201:頂部
208:第一凸部
202:覆蓋部
209:第二凸部
203:承載部
210:第二凹部
204:周圍結構
211:溝槽
205:入口

Claims (13)

  1. 一種光罩收容裝置，包含：一上蓋，具有一頂部和一覆蓋部，該覆蓋部圍繞該頂部；一下蓋，具有一承載部和一周圍結構，該周圍結構圍繞該承載部；及多個支撐柱，延伸於該上蓋的覆蓋部和該下蓋的周圍結構，將該上蓋抬升於該下蓋上方，其中，當該上蓋與該下蓋結合時，該承載部與該上蓋的頂部和覆蓋部定義一光罩容置空間，該上蓋的覆蓋部面對該下蓋的周圍結構，該上蓋的覆蓋部的至少一部分與該下蓋的周圍結構的至少一部分藉由該等支撐柱而定義一通道，該通道使該光罩容置空間未封閉。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光罩收容裝置，其中該通道至少由兩個不同方向的延伸結構所組成，所述至少兩個不同方向的延伸結構是由形成於該覆蓋部的一第一凹部與形成於該周圍結構的一第一凸部所定義，其中該第一凹部與該第一凸部結構對應。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之光罩收容裝置，其中該通道至少由兩個不同方向的延伸結構所組成，所述至少兩個不同方向的延伸結構還是由形成於該覆蓋部的一第二凸部與形成於該周圍結構的一第二凹部所定義，其中該第二凸部與該第二凹部結構對應。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之光罩收容裝置，其中該第一凹部圍繞該第二凸部，而該第一凸部圍繞該第二凹部。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之光罩收容裝置，其中該通道至 少由一第一橫向延伸結構、一第二橫向延伸結構及一縱向延伸結構所組成，該縱向延伸結構介於該第一橫向延伸結構及該第二橫向延伸結構之間，該第一橫向延伸結構及該第二橫向延伸結構分別位於不同水平高度。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之光罩收容裝置，其中該下蓋的周圍結構與該承載部之間定義一溝槽，該溝槽介於該通道與該光罩容置空間之間。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之光罩收容裝置，其中該等支撐柱自該覆蓋部向下延伸，該下蓋的周圍結構具有對應該等支撐柱的多個容置凹部，該等容置凹部自該周圍結構向下延伸，其中各容置凹部配置成部分地容置對應的支撐柱，使該上蓋的覆蓋部被舉升於該下蓋的周圍結構的上方。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之光罩收容裝置，其中該通道的一內側出口的延伸方向與該下蓋所承載的一光罩為平行。
  9. 一種光罩收容裝置，包含：一上蓋，具有一頂部和一覆蓋部，該覆蓋部圍繞該頂部；及一下蓋，具有一承載部和一周圍結構，該周圍結構圍繞該承載部，多個支撐柱，延伸於該上蓋的覆蓋部和該下蓋的周圍結構，將該上蓋抬升於該下蓋上方，其中，當該上蓋與該下蓋結合時，該承載部與該上蓋的頂部和覆蓋部定義一光罩容置空間，該上蓋的覆蓋部面對該下蓋的周圍結構，該上蓋的覆蓋部的至少一部分與該下蓋的周圍結構的至少一部分定義一通 道，該通道使該光罩容置空間未封閉，該通道由複數個延伸結構所組成，該通道具有一第一轉折點及一第二轉折點，該第一轉折點和該第二轉折點改變氣流方向。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之光罩收容裝置，其中該通道還具有一入口，該第一轉折點所在的水平高度高於該入口的水平高度，該第二轉折點的水平高度低於該入口的水平高度。
  11. 如申請專利範圍第9項所述之光罩收容裝置，其中該下蓋的周圍結構與該承載部之間定義一溝槽，該溝槽介於該通道與該光罩容置空間之間。
  12. 如申請專利範圍第9項所述之光罩收容裝置，其中該等支撐柱自該覆蓋部向下延伸，該下蓋的周圍結構具有對應該等支撐柱的多個容置凹部，該等容置凹部自該周圍結構向下延伸，其中各容置凹部配置成部分地容置對應的支撐柱，使該上蓋的覆蓋部被舉升於該下蓋的周圍結構的上方。
  13. 如申請專利範圍第9項所述之光罩收容裝置，其中該通道的一內側出口的延伸方向與該下蓋所承載的一光罩為平行。
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