TW201411178A - 抗眩、抗反射部材及其製造方法 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種具有優異之視認性之抗眩、抗反射部材。本發明之抗眩、抗反射部材1包括基材10、及抗反射層20。於基材10之表層設置有具有凹凸構造之防眩層10a。抗反射層20被設置於防眩層10a上。
Description
本發明係關於一種抗眩、抗反射部材及其製造方法。
先前,自提高顯示裝置之視認性之觀點而言,提出有於顯示裝置之顯示面上設置抗反射層或防眩層。例如於專利文獻1中,記載有於基材上設置包含低折射率層之抗反射層,並且低折射率層之表面經防眩處理之兼具抗反射功能與抗眩功能之抗反射層。
[專利文獻1]日本專利特開平10-221506號公報
有想要進一步提高顯示裝置之視認性之要求。
本發明之主要目的在於提供一種具有優異之視認性之抗眩、抗反射部材。
本發明之抗眩、抗反射部材包括基材、及抗反射層。於基材之表層設置有具有凹凸構造之防眩層。抗反射層被設置於防眩層上。
基材可具有基材本體、及配置於基材本體上且構成防眩層之島狀層。
基材本體可包含樹脂膜、玻璃膜、樹脂板或玻璃板。
本發明之抗眩、抗反射部材較佳為進而包含設置於基材之與抗反射層為相反側之表面上之抗反射層。
抗反射層可包含具有折射率低於基材之低折射率層。
抗反射層亦可為由具有相對較低之折射率之低折射率層、與具有相對較高之折射率之高折射率層交替地積層而成者。
亦可於抗反射層上進而具備含氟之防污層。
本發明之第1抗眩、抗反射部材之製造方法係關於製造上述抗眩、抗反射部材之方法。藉由在透光板之表面上利用噴霧法塗佈透光性材料而形成島狀層,從而製作包含透光板及島狀層之基材。
本發明之第2抗眩、抗反射部材之製造方法係關於製造上述抗眩、抗反射部材之方法。藉由對透光板之表面進行噴砂處理而形成凹凸構造而製作基材。
於本發明之第2抗眩、抗反射部材之製造方法中,較佳為於對透光板之表面進行噴砂處理後進行蝕刻。
根據本發明,可提供一種具有優異之視認性之抗眩、抗反射部材。
1‧‧‧抗眩、抗反射部材
10‧‧‧基材
10a‧‧‧防眩層
11‧‧‧基材本體
11a‧‧‧第1主面
11b‧‧‧第2主面
12‧‧‧島狀層
20‧‧‧抗反射層
30‧‧‧防污層
圖1係本發明之一實施形態之抗眩、抗反射部材之模式性剖面圖。
圖2係本發明之另一實施形態之抗眩、抗反射部材之模式性剖面圖。
以下,對實施本發明之較佳之形態之一例進行說明。但是,下述實施形態僅為例示。本發明並不受下述實施形態任何限定。
又,於實施形態等中所參照之各圖式中,具有實質上相同功能
之部材係以相同符號參照。又,實施形態等中所參照之圖式係模式性地記載者,有圖式中所描繪之物體之尺寸比率等與實際物體之尺寸比率等不同之情況。於圖式相互間,亦有物體之尺寸比率等不同之情況。具體之物體之尺寸比率等應參照以下說明而判斷。
圖1係本實施形態之抗眩、抗反射部材之模式性剖面圖。圖1所示之抗眩、抗反射部材1係例如配置於顯示裝置之顯示面且用以改善顯示裝置之視認性之部材。抗眩、抗反射部材1可為安裝於顯示裝置之顯示面上之膜狀部材,亦可為構成顯示裝置之前表面板之部材。亦即,可為事後安裝於顯示裝置之部材,亦可為顯示裝置之構成部材之一。
抗眩、抗反射部材1具有基材10。於基材10之表層設置有具有凹凸構造且具有抗眩功能之防眩層10a。具體而言,於本實施形態中,基材10具有基材本體11、及島狀層12。
基材本體11之構成材料只要為具有透光性之部材,則無特別限定。基材本體11例如可包含樹脂膜、玻璃膜、樹脂板或玻璃板。玻璃板例如可包含無鹼玻璃基板、鹼石灰玻璃基板、化學強化玻璃基板等。
基材本體11於抗眩、抗反射部材1之使用狀態下具有朝向顯示裝置側之第1主面11a、及朝向觀察者側之第2主面11b。於本實施形態中,第1及第2主面11a、11b分別由平坦面構成。
於第2主面11b上設置有島狀層12。由該島狀層12構成防眩層10a。島狀層12係設為島狀之層。藉由設置覆蓋該第2主面11b之一部分之島狀層12而形成凹凸構造。凹凸構造較佳為不具有規則性。係因為此時,防眩層10a之防眩功能提高之故。
島狀層12之構成材料只要為具有透光性且與基材本體11密接者,則無特別限定。島狀層12例如可包含SiO2、TiO2、Al2O3、ZrO2等。
於防眩層10a上具有抗反射層20。因此,抗反射層20係設置於凹凸構造上。
抗反射層20係具有降低表面反射率之功能之層。抗反射層20只要為表面反射率在設有抗反射層20時較未設置抗反射層20時變低之層即可,未必係表面反射率成為零之層。
抗反射層20例如亦可包含折射率低於基材10之低折射率層。又,抗反射層20亦可包含由折射率相對較低之低折射率層與折射率相對較高之高折射率層交替地積層而成之介電多層膜。
此外,抗反射層之反射抑制功能受抗反射層之厚度之較大影響。因此,反射抑制功能通常被設於平坦面上。因此,例如於設置防眩層與抗反射層之情形時,認為必須首先於基材之平坦面上形成抗反射層,且於抗反射層上形成防眩層。
然而,本發明者等人經銳意研究之結果發現,藉由在具有凹凸構造之防眩層10a上設置抗反射層20可進一步改善顯示裝置之視認性。亦即,本發明者等人發現,即便於已將抗反射層20配置於防眩層10a上之情形時,亦可獲得充分之反射抑制功能。
由於在抗眩、抗反射部材1中設有防眩層10a,故可獲得優異之抗眩特性。進而,於防眩層10a上配置有抗反射層20,故降低了防眩層10a中之反射率。由此,可藉由防眩層10a降低經漫反射之光之光量。因此,可獲得更優異之抗眩特性。
又,由於在觀察者側之最表層設有抗反射層20,故亦可降低背景之映入。
如此,於使用有抗眩、抗反射部材1之情形時,可抑制背景之映入,並且實現優異之抗眩特性。因此,可藉由使用抗眩、抗反射部材1來提高顯示裝置之視認性。
亦可於抗反射層20上形成具有不會損害抗反射層20之功能之程
度之厚度的其他層。例如,亦可如圖2所示般,於抗反射層20上形成厚度為200nm以下之含氟之防污層30。含氟之防污層30例如亦可為具有-Si-O-Si-鍵(矽氧烷鍵)且具有含氟之撥水性之官能基之聚合物。於含氟之防污層中,矽氧烷鍵係藉由將2分子之矽烷醇脫水縮合而合成。
抗眩、抗反射部材1亦可於第1主面11a上設置黏著劑層或接著劑層。可經由黏著劑層或接著劑層使抗眩、抗反射部材1黏著或接著於液晶顯示器等之顯示器畫面上。
再者,抗眩、抗反射部材1例如可根據以下要點而製造。首先,藉由於例如包含玻璃或樹脂之作為透光板之基材本體11上利用噴霧法塗佈透光性材料,並使其乾燥而形成島狀層12,從而製作基材10。其後,可藉由在基材10之島狀層12上形成抗反射層20而製造抗眩、抗反射部材1。抗反射層20例如可藉由濺鍍法或CVD(Chemical Vapor Deposition,化學氣相沈積)法等形成。
基材10例如亦可藉由對透光板之表面進行噴砂處理而形成凹凸構造而製作。於此情形時,較佳為於進行噴砂處理後,預先對表面實施蝕刻。再者,於例如基材包含較薄之玻璃板或玻璃膜之情形時,由於有基材因噴砂處理而損傷之虞,故較佳為使用噴霧法形成防眩層10a。
以下,基於具體之實施例,對本發明進而詳細地說明,但本發明並不受以下實施例任何限定,可於不變更其主旨之範圍內適當地變更而實施。
於厚度為0.5mm、表面粗糙度(Ra)為約0.2nm之日本電氣硝子公司製造之無鹼玻璃OA-10G基板上,使用噴霧法形成包含SiO2且具有凹凸構造之防眩層。防眩層之平均厚度為約500nm。防眩層之霧度值
為約12。
繼而,於防眩層上,使用濺鍍法交替地形成總計5層之SiO2層與Nb2O5層。藉此,於防眩層上設置有SiO2層與Nb2O5層交替地積層而成之抗反射層。根據以上要點而製作出抗眩、抗反射部材。
針對所獲得之抗眩、抗反射部材,藉由下述方法進行有關外景之映入及對比度之評估。將結果示於表1。
關於外景之映入,將於自相對於垂直線為60°之角度以目視確認時,幾乎無法確認到外景之映入之情形評估為「◎」,將可稍微確認之情形評估為「○」,將可確認之情形評估為「△」,將可清晰地確認之情形評估為「×」。
關於對比度,藉由在液晶畫面上載置抗眩、抗反射部材,通過抗眩、抗反射部材觀察液晶畫面上之圖像而進行評估。具體而言,將較直接觀察液晶畫面時更明顯地觀察到圖像之情形評估為「◎」,將與直接觀察液晶畫面時相同程度地明顯觀察到圖像之情形評估為「○」,將較直接觀察液晶畫面時模糊地觀察到圖像之情形評估為「×」。
以與實施例1相同之方式於基板上僅形成防眩層,而未設置抗反射層。對所獲得之部材以與實施例1相同之方式進行有關外景之映入及對比度之評估。將結果示於表1。
以與實施例1相同之方式於基板上僅形成抗反射層,而未設置防眩層。對所獲得之部材以與實施例1相同之方式進行有關外景之映入及對比度之評估。將結果示於表1。
如由表1所示之結果明確般,於實施例1中,幾乎無外景之映入,對比度亦良好。另一方面,於比較例1中,為可稍微確認到外景之映入之程度,但對比度之降低幅度較大。於比較例2中,對比度為良好,但外景之映入防止並不充分。
於厚度為0.7mm、表面粗糙度(Ra)為約0.2nm、熱膨脹係數為102×10-7/℃之玻璃基板上,使用噴霧法形成包含SiO2且具有凹凸構造之防眩層。防眩層之平均厚度為約200nm。防眩層之霧度值為約6.5。
繼而,於防眩層上及基板之與防眩層為相反側之表面上,分別使用濺鍍法交替地形成總計5層之SiO2層及Nb2O5層。藉此,於防眩層上設置有SiO2層與Nb2O5層交替地積層而成之抗反射層。根據以上要點而製作出抗眩、抗反射部材。
針對所獲得之抗眩、抗反射部材,進行有關外景之映入及對比度之評估。關於外景之映入,進行與實施例1相同之評估。關於對比度,除於液晶畫面上在與畫面之間空出2.5mm之間隙而載置抗眩、抗反射部材以外,以與實施例1相同之方式進行評估。其結果,於實施例2中,亦與實施例1同樣地,幾乎無法確認到外景之映入(◎),可與直接觀察液晶畫面時相同程度地明顯地進行觀察(○)。
抗眩、抗反射部材之熱膨脹係數與液晶畫面之熱膨脹係數並非始終相同。於抗眩、抗反射部材之熱膨脹係數與液晶畫面之熱膨脹係數不同之情形時,若使抗眩、抗反射部材與液晶畫面密接,則當溫度
發生變化時,會對抗眩、抗反射部材及液晶畫面施加應力。因此,亦有欲使抗眩、抗反射部材與液晶畫面相隔而配置之情形。然而,若於抗眩、抗反射部材與液晶畫面之間設置間隙,則通常會有對比度降低之傾向。然而,於如本實施例2般,於防眩層上設置抗反射層,並且亦於基板之與防眩層為相反側之表面上設置有抗反射層之情形時,即便在抗眩、抗反射部材與液晶畫面之間存在間隙,對比度亦為良好。自獲得良好之對比度之觀點而言,較佳為如本實施例2般,於防眩層上設置抗反射層,並且亦於基板之與防眩層為相反側之表面上設置抗反射層。
於以與實施例1相同之方式獲得之抗眩、抗反射部材之抗反射層上,以如下方式設置有防污層。
藉由在抗反射層上塗佈氟系塗佈劑(大金公司製造之OPTOOL DSX(註冊商標))並使其乾燥而形成有防污層。防污層之厚度為約20nm。
所獲得之抗眩、抗反射部材具有形成於基板上之防眩層、形成於防眩層上之抗反射層、及形成於抗反射層上之防污層。
針對所獲得之抗眩、抗反射部材,進行有關外景之映入及對比度之評估。關於外景之映入,進行與實施例1相同之評估。關於對比度,除於第1主面上塗佈接著劑層並經由接著劑層使其與液晶畫面接著以外,以與實施例1相同之方式進行評估。再者,使用信越化學公司製造之KE1051J A/B作為接著劑,接著劑層之厚度設為5μm。其結果,於實施例3中,亦與實施例1及2同樣地,幾乎無法確認到外景之映入(◎),可與直接觀察液晶畫面時相同程度地明確地進行觀察(○)。
進而,關於防污層之耐剝離性,以如下方式進行評估。
關於防污層之耐剝離性,藉由測定於在防污層上配置鋼絲絨
#0000且施加有500gf/cm2之荷重之狀態下,使鋼絲絨以40mm之衝程長度、40次往返/分鐘之速度於前後方向上往返2000次後之防污層與水滴之接觸角而進行評估。再者,接觸角係根據基於楊氏(Young)公式之ATAN1/2θ法而測定。具體而言,將接觸角與配置鋼絲絨前之接觸角為相同程度之情形評估為「○」,將較配置鋼絲絨前之接觸角大幅度降低之情形評估為「×」。
其結果,接觸角與配置鋼絲絨前之接觸角為相同程度(○)。
使用比較例2之部材代替實施例1之抗眩、抗反射部材,於該部材之抗反射層上,以與實施例3相同之方式形成有防污層。針對所獲得之部材,以與實施例3相同之方式進行有關外景之映入及對比度之評估。
其結果,與比較例2之結果同樣地,對比度為良好(◎),但外景之映入防止並不充分(△)。
又,以與實施例3相同之方式對防污層之耐剝離性進行評估。其結果,較配置鋼絲絨前之接觸角大幅度地降低(×)。
於厚度為0.1mm、表面粗糙度(Ra)為約0.2nm之日本電氣硝子公司製造之鹼玻璃OA-10G基板上,使用噴霧法形成有包含SiO2且具有凹凸構造之防眩層。防眩層之平均厚度為約60nm。防眩層之霧度值為約3。
繼而,於防眩層上以與實施例1相同之方式設置有抗反射層。
進而,以與實施例3相同之方式於抗反射層上形成有防污層。
針對所獲得之抗眩、抗反射部材,進行有關外景之映入及對比度之評估。關於外景之映入,進行與實施例1相同之評估。關於對比度,除於抗眩、抗反射部材之第1主面上設置黏著劑層並經由黏著劑
層使其黏著於附帶觸控面板之顯示器上以外,以與實施例1相同之方式進行評估。再者,使用Panac公司製造之PD-S1作為黏著劑,黏著劑層之厚度設為25μm。其結果,可稍微確認到外景之映入(○)。關於對比度,可較直接觀察附帶觸控面板之顯示器時更明顯地進行觀察(◎)。
又,關於防污層之耐剝離性,亦以與實施例3相同之方式進行評估。其結果,接觸角與配置鋼絲絨前之接觸角為相同程度(○)。
1‧‧‧抗眩、抗反射部材
10‧‧‧基材
10a‧‧‧防眩層
11‧‧‧基材本體
11a‧‧‧第1主面
11b‧‧‧第2主面
12‧‧‧島狀層
20‧‧‧抗反射層
Claims (10)
- 一種抗眩、抗反射部材,其包括:基材,其表層設置有具有凹凸構造之防眩層;及抗反射層,其係設於上述防眩層上。
- 如請求項1之抗眩、抗反射部材,其中上述基材包含:基材本體;及島狀層,其配置於上述基材本體上,且構成上述防眩層。
- 如請求項2之抗眩、抗反射部材,其中上述基材本體包含樹脂膜、玻璃膜、樹脂板或玻璃板。
- 如請求項1至3中任一項之抗眩、抗反射部材,其進而包含設置於上述基材之與上述抗反射層為相反側之表面上之抗反射層。
- 如請求項1至4中任一項之抗眩、抗反射部材,其中上述抗反射層包含具有折射率低於上述基材之低折射率層。
- 如請求項1至4中任一項之抗眩、抗反射部材,其中上述抗反射層係由具有相對較低之折射率之低折射率層、與具有相對較高之折射率之高折射率層交替地積層而成。
- 如請求項1至6中任一項之抗眩、抗反射部材,其進而包含設置於上述抗反射層上之含氟之防污層。
- 一種抗眩、抗反射部材之製造方法,其係如請求項1至7中任一項之抗眩、抗反射部材之製造方法,且藉由在透光板之表面上利用噴霧法塗佈透光性材料而形成島狀層,從而製作包含上述透光板及上述島狀層之上述基材。
- 一種抗眩、抗反射部材之製造方法,其係如請求項1至7中任一項之抗眩、抗反射部材之製造方法,且藉由對透光板之表面進行噴砂處理而形成上述凹凸構造而製 作上述基材。
- 如請求項9之抗眩、抗反射部材之製造方法,其係於對上述透光板之表面進行噴砂處理後進行蝕刻。
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