JP2007041438A - 導電性反射防止積層体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】少なくとも、基材(2)と、高屈折率透明薄膜層(11、13)および銀を含有する合金層からなる金属薄膜層(12)とが交互に設けられた導電性薄膜積層体層(5)と、低屈折率透明薄膜層(6)と、防汚層(7)とからなる導電性反射防止積層体(1)であって、前記低屈折率透明薄膜層(6)が水蒸気バリア性を有することを特徴とする導電性反射防止積層体である。
【選択図】図1
Description
等が挙げられる。また、基材(2)は、透明性を有する無機化合物成形物または有機化合物成形物の積層体であってもよい。
キシルトリメトキシシラン等が挙げられる。
ムを含んだ混合物等が挙げられる。これらのうちITO、ICOおよび酸化ニオブは、可視光領域における屈折率が2.0以上あり、かつ消衰係数がゼロに近いため、可視光領域での透明性に優れ、材料による光の吸収が少ないことから好適である。また、ITOおよびICOは、自由電子密度が高い、すなわち比抵抗が小さいため、高い電磁波シールド性を可能にする。また、直流電源によるスパッタ成膜が可能であり、成膜速度を向上させ、結果として高い生産性に寄与する。
に限定はされず、高屈折率透明薄膜層と金属薄膜層とが交互に設けられ、かつ最上層および最下層が高屈折率透明薄膜層であれば、3層の高屈折率透明薄膜層と2層の金属薄膜層とが交互に設けられた5層構造のもの、または7層以上のものであってもよい。高屈折率透明薄膜層を増やすことにより、導電性反射防止積層体(1)は、反射率が低くなる可視光領域の波長範囲が広くなる。ただし、後述の低屈折率透明薄膜層(6)を設けることで、導電性反射防止積層体(1)は、反射率が低くなる可視光の波長範囲が充分に広くなるため、導電性反射防止積層体(1)の薄膜化の観点から、3層構造のものが好ましい。
ェットプロセスにより形成できる。該防汚層(7)の物理膜厚は、5〜10nm程度である。該防汚層(7)の膜厚を変化させることによって導電性反射防止積層体(1)の反射色味を制御することが可能である。
基材(2)である、厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(波長550nmの光の屈折率1.51)(以下、TACフィルムと記す)上に、電離放射線硬化型アクリル系樹脂をウェットコーティングによって成膜し、物理膜厚5μmのハードコート層(3)を形成した。該ハードコート層(3)上に、SiOx をスパッタリング法により堆積させ、物理膜厚3nmのプライマー層(4)を形成した。
実施例1において、低屈折率透明薄膜層(6)として、スパッタリング法によりSiO2を堆積させ、物理膜厚45nmの高密度層(15)を形成した以外は、実施例1と同様にして導電性反射防止積層体(1)を得た。
実施例1において、低屈折率透明薄膜層(6)として、蒸着法によりSiO2を堆積させ、物理膜厚45nmの低密度層(14)を形成した以外は、実施例1と同様にして導電性反射防止積層体(1)を得た。
実施例1、比較例1および比較例2で得られた導電性反射防止積層体(1)について、以下の評価を行った。結果を表1〜3に示した。
(1)1%NaCl水溶液浸漬試験:200mm×200mmのサンプルを、200mm×200mmの石英ガラス基板上に、粘着層(8)側が石英ガラス基板側になるように貼り合わせ、これを1質量%のNaCl水溶液に浸漬した。導電性反射防止層の経時変化を
観察し、金属薄膜層の銀の凝集点を目視により数えた。サンプルの浸漬中、NaCl水溶液の温度は20℃に保った。
(2)5%NaCl水溶液浸漬試験:1質量%のNaCl水溶液を5質量%のNaCl水溶液に変更した以外は、(1)と同様にして金属薄膜層の銀の凝集点を目視により数えた。
(3)耐湿熱性試験:200mm×200mmのサンプルを、200mm×200mmの石英ガラス基板上に、粘着層(8)側が石英ガラス基板側になるように貼り合わせ、これを60℃−90%RHとした恒温恒湿槽内に入れ、1000時間までの耐湿熱試験を実施した。導電性反射防止層の経時変化を観察し、金属薄膜層の銀の凝集点を目視により数えた。
実施例1、比較例1および比較例2で得られた導電性反射防止積層体(1)について、以下の評価を行った。結果を表4に示した。
(4)純水による接触角測定:協和界面化学(株)製、接触角計CA−Xを用いて測定した。(5)オレイン酸による接触角測定:協和界面化学(株)製、接触角計CA−Xを用いて測定した。
2・・・基材
3・・・ハードコート層
4・・・プライマー層
5・・・導電性薄膜積層体層(導電性機能層)
6・・・低屈折率透明薄膜層
7・・・防汚層
8・・・粘着層
11・・・高屈折率透明薄膜層(透明金属酸化物層)
12・・・金属薄膜層(金属層)
13・・・高屈折率透明薄膜層(透明金属酸化物層)
14・・・低密度層
15・・・高密度層
Claims (5)
- 少なくとも、基材と、高屈折率透明薄膜層および銀を含有する合金層からなる金属薄膜層とが交互に設けられた導電性薄膜積層体層と、低屈折率透明薄膜層と、防汚層とからなる導電性反射防止積層体であって、前記低屈折率透明薄膜層が水蒸気バリア性を有することを特徴とする導電性反射防止積層体。
- 前記低屈折率透明薄膜層が低密度層と高密度層との積層構造をとり、膜応力が低いことを特徴とする請求項1記載の導電性反射防止積層体。
- 前記低屈折率透明薄膜層の、高密度層が最外層側に位置することを特徴とする請求項1又は2記載の導電性反射防止積層体。
- 前記低屈折率透明薄膜層が、低密度層と高密度層とを交互に積層した多層構造であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の導電性反射防止積層体。
- 前記低屈折率透明薄膜層の、低密度層と高密度層の膜密度が連続的に変化していることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の導電性反射防止積層体。
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