TW202319780A - 附反射防止膜之透明基體及圖像顯示裝置 - Google Patents

Abstract

本實施方式係關於一種附反射防止膜之透明基體，其係包含具有兩個主面之透明基體且於該透明基體之一主面依次具有擴散層及反射防止膜者，且將視感透過率、D65光源下之透過色b*值、反射防止膜之最表面層之視感反射率(SCI Y)、及反射防止膜之薄片電阻設為特定範圍，反射防止膜為積層有至少2層折射率互不相同之介電層之積層構造，且將漫射(Diffusion)值、及擴散光之亮度(SCE L*)設為特定範圍。

Description

附反射防止膜之透明基體及圖像顯示裝置

本發明係關於一種附反射防止膜之透明基體及具備其之圖像顯示裝置。

近年來，就美觀性之觀點而言，使用在液晶顯示器之類之圖像顯示裝置之前表面設置覆蓋玻璃之方法。該方法中，由覆蓋玻璃反射外界光所導致之映入成為一問題，為了解決該問題，大多情況下於覆蓋玻璃之表面設置多層膜。然而，於先前之反射防止膜中，圖像顯示裝置之黑框部分與圖像顯示部之邊界線較為明顯，美觀性較差。

因此，已知，藉由對作為積層有至少2層折射率互不相同之介電層之多層膜的反射防止膜賦予光吸收能力，而使圖像顯示裝置之黑框部分與圖像顯示部之邊界線變得不明顯，進而亦可抑制來自覆蓋玻璃與反射防止膜之界面處之反射。

例如，於專利文獻1中揭示有一種具有光吸收能力且具有絕緣性之附反射防止膜之透明基體。於專利文獻2中揭示有一種依次積層有氧化矽層及銅層之透明導電積層體。於專利文獻3中揭示有一種反射防止膜，其於玻璃板表面具有包含高折射率材料之覆膜及包含低折射率材料之覆膜，且包含低折射率材料之覆膜配置於最表面。

然而，業界要求進一步而言黑感之美觀性較高之附反射防止膜之透明基體。 先前技術文獻 專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2018-115105號公報 專利文獻2：日本專利特開2016-068470號公報 專利文獻3：日本專利特開2008-201633號公報

[發明所欲解決之問題]

本發明之目的在於提供一種具有光吸收能、具有絕緣性且透過光不帶黃色之附反射防止膜之透明基體及使用其之圖像顯示裝置。 [解決問題之技術手段]

本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體之特徵在於：其係包含具有兩個主面之透明基體且於該透明基體之一主面依次具有擴散層及反射防止膜者，且 (A)視感透過率為20～90%；(B)D65光源下之透過色b*值為5以下；(C)上述反射防止膜之最表面層之視感反射率(SCI Y)為0.4%以下；(D)上述反射防止膜之薄片電阻為10 ⁴Ω/□以上；(E)上述反射防止膜為積層有至少2層折射率互不相同之介電層之積層構造；(F)漫射(Diffusion)值為0.2以上，且擴散光之亮度(SCE L*)為4以下。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為，上述介電層中之至少1層主要由Si氧化物構成，上述積層構造之層中之另外至少一層主要由選自由Mo及W所組成之A群中之至少1種之氧化物與選自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn及In所組成之B群中之至少1種之氧化物的混合氧化物構成，相對於該混合氧化物中所含之A群元素與該混合氧化物中所含之B群元素之合計，該混合氧化物中所含之B群元素之含有率為65質量%以下。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為，於上述反射防止膜上進而具有防污膜。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為，上述透明基體為玻璃基板。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為，上述透明基體為聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、丙烯酸樹脂、矽酮或三乙醯纖維素樹脂膜。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為，上述透明基體為玻璃與選自聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、丙烯酸樹脂、矽酮或三乙醯纖維素樹脂膜之至少1種樹脂之積層體。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為，上述玻璃經化學強化。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為，上述透明基板之具有上述反射防止膜一側之主面經防眩處理。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為具備附反射防止膜之透明基體之圖像顯示裝置。 [發明之效果]

根據本發明之一態樣，提供一種具有光吸收能，具有絕緣性且透過光不帶黃色之附反射防止膜之透明基體。 根據上述特徵，本實施方式之附反射防止膜之透明基體適宜用作圖像顯示裝置之覆蓋玻璃、特別是搭載於車輛等之導航系統之圖像顯示裝置之類之搭載於車輛等之圖像顯示裝置之覆蓋玻璃。

以下，詳細地說明本發明之實施方式。

本實施方式之附反射防止膜之透明基體係包含具有兩個主面之透明基體且於該透明基體之一主面依次具有擴散層及反射防止膜者，且(A)視感透過率為20～90%；(B)D65光源下之透過色b*值為5以下；(C)上述反射防止膜之最表面層之視感反射率(SCI Y)為0.4%以下；(D)上述反射防止膜之薄片電阻為10 ⁴Ω/□以上；(E)上述反射防止膜為積層有至少2層折射率互不相同之介電層之積層構造；(F)漫射(Diffusion)值為0.2以上，且擴散光之亮度(SCE L*)為4以下。

本發明之一態樣係於透明基體之一主面具有反射防止膜之附反射防止膜之透明基體。

(視感透過率) 本實施方式之附反射防止膜之透明基體之視感透過率為20～90%。若視感透過率為上述範圍，則具有適度之光吸收能力，因此於用作圖像顯示裝置之覆蓋玻璃之情形時，可抑制覆蓋玻璃與多層膜之界面處之反射。藉此，圖像顯示裝置之亮處對比度提高。

再者，視感透過率可如下述實施例所記載，藉由JIS Z 8709(1999年)所規定之方法進行測定。

本實施方式之附反射防止膜之透明基體之視感透過率較佳為50～90%，更佳為60～90%。

(D65光源下之透過色之b*值) 本實施方式之附反射防止膜之透明基體的上述多層膜之D65光源下之透過色b*值為5以下。若b*值為上述範圍，則透過光不帶黃色，因此適宜用作圖像顯示裝置之覆蓋玻璃。

再者，D65光源下之透過色之b*值可如下述實施例所記載，藉由JIS Z 8729(2004年)所規定之方法進行測定。

本實施方式之附反射防止膜之透明基體之b*值之上限值更佳為3以下，進而較佳為2以下。b*值之下限值較佳為-6以上，更佳為-4以上。若為上述範圍，則透過光為無色，不會妨礙透過光之光，故而較佳。

(最表面層之視感反射率) 本實施方式之附反射防止膜之透明基體的反射防止膜之最表面層之視感反射率為0.4%以下。最表面之視感反射率可於在透明基體背面貼黑色膠帶等來去除背面反射之狀態下進行測定。若反射防止膜之視感反射率為上述範圍，則於用作圖像顯示裝置之覆蓋玻璃之情形時，防止外界光映入至畫面之效果較高。

再者，視感反射率可如下述實施例所記載，藉由JIS Z 8701(1999年)所規定之方法進行測定。

本實施方式之附反射防止膜之透明基體的反射防止膜之最表面層之視感反射率為0.4%以下，較佳為0.35%以下，更佳為0.3%以下。

(視感反射率) 本實施方式之附反射防止膜之透明基體於非成膜面側配置液晶顯示器，於切斷上述液晶顯示器之電源之狀態下，反射防止膜之視感反射率較佳為1.6%以下。若上述反射防止膜之視感反射率為上述範圍，則於用作圖像顯示裝置之覆蓋玻璃之情形時，防止外界光映入至畫面之效果較高。

再者，於在非成膜面側配置有液晶顯示器之狀態下，反射防止膜之視感反射率可如下述實施例所記載，藉由JIS Z 8701(1999年)所規定之方法進行測定。

本實施方式之附反射防止膜之透明基體於在非成膜面側配置有液晶顯示器之狀態下，反射防止膜之視感反射率較佳為1.6%以下，更佳為1.3%以下。

(薄片電阻) 本實施方式之附反射防止膜之透明基體的反射防止膜之薄片電阻為10 ⁴Ω/□以上。若反射防止膜之薄片電阻為上述範圍，則反射防止膜具有絕緣性，因此於用作圖像顯示裝置之覆蓋玻璃之情形時，即便增添觸控面板，亦可維持由靜電電容式觸控感測器所必需之手指接觸引起的靜電電容之變化，使觸控面板發揮功能。

再者，薄片電阻可如下述實施例所記載，藉由JIS K 6911所規定之方法進行測定。

本實施方式之附反射防止膜之透明基體的反射防止膜之薄片電阻較佳為10 ⁶Ω/□以上，更佳為10 ⁸Ω/□以上。

(漫射(Diffusion)值) 漫射(Diffusion)值係周圍像映入至透明基體之程度，即與防眩性相關之指標，值越大，表明越可抑制映入，透明基體之防眩性越高。

其次，參照圖2，對透明基體之漫射(Diffusion)值之測定方法進行說明。

圖2中模式性地表示測定漫射(Diffusion)值時所使用之測定裝置之一例。

如圖2所示，測定裝置300具有光源350及檢測器370，於測定裝置300內配置有被測定試樣即透明基體A。

透明基體A具有第1表面212及第2表面214。光源350向透明基體A射出101 mm寬之狹縫狀之第1光362。檢測器370自第1表面212接收以特定角度反射之反射光，檢測其亮度。

再者，透明基體A係以第1表面212成為光源350及檢測器370一側之方式配置。因此，由檢測器370檢測之光係被透明基體A反射之反射光。

又，於透明基體A之一表面經防眩處理之情形時，該經防眩處理之表面成為透明基體A之第1表面212。即，於該情形時，透明基體A以經防眩處理之表面成為光源350及檢測器370一側之方式配置於測定裝置300內。於透明基體A之背面藉由丙烯酸系黏著劑貼合有液晶顯示器。

測定時，自測定裝置300之光源350向透明基體A照射第1光362。

第1光362以相對於透明基體A之法線L方向逆時針方向傾斜2°之角度ϕ照射至透明基體A。再者，實際測定時，由於含有誤差，故而更精確而言，角度ϕ包含2°±0.1°之範圍。

其次，使用檢測器370，測定自透明基體A之第1表面212鏡面反射之光(以下，稱為「第1反射光364」)之亮度R ₁。

再者，實際上，相對於第1反射光364之法線L之角度(第1角度α ₁)為α ₁＝-ϕ，因此α ₁＝-2°±0.1°。符號負(-)表示角度相對於上述法線L逆時針方向傾斜，符號正(+)表示角度相對於上述法線順時針方向傾斜。

但，此處，由於將第1反射光364之第1角度α ₁作為基準，故而規定角度α ₁＝0°±0.1°。

同樣地，測定自透明基體A之第1表面212以第2角度α ₂反射之反射光(以下，稱為「第2反射光366」)之亮度R ₂、及以第3角度α ₃反射之反射光(以下，稱為「第3反射光368」)之亮度R ₃。

此處，第2角度α ₂以第1角度α ₁為基準，α ₂＝-0.5°±0.1°。又，第3角度α ₃以第1角度α ₁為基準，α ₃＝+0.5°±0.1°。

使用所獲得之各亮度R ₁、R ₂、R ₃，藉由以下之式(2)，算出透明基體A之漫射(Diffusion)值： 漫射(Diffusion)值＝(R ₂＋R ₃)/(2×R ₁)  式(2)

可確認，該漫射(Diffusion)值與觀察者目測所得之反射圖像擴散性之判斷結果相關，表示接近於人之視覺感知之行為。例如，漫射(Diffusion)值示為較大值(接近1之值)之透明基體之反射圖像擴散性優異，相反地，漫射(Diffusion)值示為較小值之透明基體有反射圖像擴散性變差之傾向。

再者，此種測定例如可藉由使用DM&S公司製造之裝置SMS-1000而實施。

於使用該裝置之情形時，以光圈5.6使用焦點距離為16 mm之C1614A透鏡。又，自透明基體A之第1表面212至相機透鏡之距離約為300 mm，圖像比例(Imaging Scale)設定為0.0276～0.0278之範圍。

本實施方式之附反射防止膜之透明基體之漫射(Diffusion)值為0.2以上，較佳為0.3以上。

(擴散光之亮度) 本實施方式之附反射防止膜之透明基體的反射防止膜之擴散光之亮度(L*)為4以下。若反射防止膜之擴散光之亮度為上述範圍，則於用作圖像顯示裝置之覆蓋玻璃之情形時，防止外界光映入至畫面之效果較高。

再者，擴散光之亮度(L*)可如下述實施例所記載，藉由JIS Z 8722(2009年)所規定之方法進行測定。

本實施方式之附反射防止膜之透明基體的反射防止膜之擴散光之亮度(L*)為4以下，較佳為3.5以下。

本實施方式之上述透明基體只要為透光性優異之透明基體，則不受特別限定，可例舉：玻璃或樹脂。

本實施方式之附反射防止膜之透明基體中之多層膜較佳為下述構成。

圖1係模式性地表示附反射防止膜之透明基體之一構成例之剖視圖。於透明基體10上形成有擴散層31，於擴散層31上形成有多層膜(反射防止膜)30。

圖1所示之多層膜(反射防止膜)30係積層有2層折射率互不相同之介電層32、34之積層構造。藉由積層折射率互不相同之介電層32、34而抑制光之反射。介電層32為高折射率層，介電層34為低折射率層。

於圖1所示之多層膜(反射防止膜)30中，介電層32較佳為包含選自由Mo及W所組成之A群中之至少1種之氧化物與選自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn及In所組成之B群中之至少1種之氧化物的混合氧化物。

但，關於該混合氧化物，相對於該混合氧化物中所含之A群元素與該混合氧化物中所含之B群元素之合計，該混合氧化物中所含之B群元素之含有率(以下，記載為B群含有率)較佳為65質量%以下。

層34較佳為包含SiO _x。

層32較佳為包含上述選自由Mo及W所組成之A群中之至少1種之氧化物與選自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn及In所組成之B群中之至少1種之氧化物的混合氧化物。其中，A群較佳為Mo，B群較佳為Nb。

由於層34為氧缺失之氧化矽層，層32使用Mo及Nb，故而雖然先前氧缺失之氧化矽層於可見光中帶有黃色，但藉由使用Mo及Nb，而即便產生氧缺失，氧化矽層亦不會帶有黃色，故而更佳。

關於上述層32於波長550 nm中之折射率，就與透明基體之透過率之觀點而言，較佳為1.8～2.3。

上述層32之消光係數較佳為0.005～3，更佳為0.04～0.38。若消光係數為0.005以上，則可以適當之層數實現所需之吸收率。又，若消光係數為3以下，則相對容易兼顧反射色調與透過率。

於本實施方式中，藉由使用於可見光線之全波長區域具有較高光吸收能力者作為分散於介電層32中之微粒子，而更有效地防止透過光帶有黃色。於本實施方式中，作為分散於介電層32中之微粒子，較佳為使用選自由Ag、Mo、W、Cu、Au、Pd、Pt、Ir、Ni、Co、Fe、Cr、C、TiC、SiC、TiN及CrN所組成之群中之至少1種。

作為微粒子之選項所例示者雖導電性較高，但由於以微粒子之形式分散於介電層32中，故而反射防止膜30具有絕緣性。

圖1所示之多層膜(反射防止膜)30為積層有介電層32、34此2層之積層構造，但本實施方式中之多層膜(反射防止膜)不限定於此，為積層有至少2層折射率互不相同之介電層之積層構造即可。即，可為積層有3層以上之折射率互不相同之層之積層構造。於該情形時，無需所有層之折射率不同。

例如，於3層積層構造之情形時，可形成為：低折射率層、高折射率層、低折射率層之3層積層構造；或高折射率層、低折射率層、高折射率層之3層積層構造。於前者之情形時，所存在之2層低折射率層可為相同之折射率，於後者之情形時，所存在之2層高折射率層可為相同之折射率。

於為4層積層構造之情形時，可形成為：低折射率層、高折射率層、低折射率層、高折射率層之4層積層構造；或高折射率層、低折射率層、高折射率層、低折射率層之4層積層構造。於該情形時，各自所存在之2層低折射率層及高折射率層可為相同之折射率。

作為具有光吸收能力且具有絕緣性之光透過膜，已知有半導體製造領域所使用之半色調光罩。作為半色調光罩，使用如包含少量Mo之Mo-SiO _x膜之氧缺失膜。又，作為具有光吸收能力且具有絕緣性之光透過膜，存在半導體製造領域所使用之窄帶隙膜。

然而，由於該等膜於可見光線中之短波長側具有較高之光吸收能力，故而透過光帶有黃色。因此，不適合圖像顯示裝置之覆蓋玻璃。

於本實施方式中，藉由具有Mo之含有率得到了提高之層32、及包含SiO _x之層34，可獲得具有光吸收能力、具有絕緣性、且密接性及強度優異之附反射防止膜之透明基體。

圖1所示之附反射防止膜之透明基體藉由將多層膜(反射防止膜)30設為上述構成，而滿足上述本實施方式之附反射防止膜之透明基體之特性。

若包含選自由Mo及W所組成之A群中之至少1種之氧化物與選自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn及In所組成之B群中之至少1種之氧化物的混合氧化物而成之層(A-B-O)32中之B群含有率為65質量%以下，則可抑制b*值超過5。

於積層有3層以上之折射率互不相同之層之積層構造之情形時，亦可包含除層(A-B-O)及層(SiO _x)以外之層。於該情形時，需要以包含層(A-B-O)及層(SiO _x)在內成為低折射率層、高折射率層、低折射率層之3層積層構造、或高折射率層、低折射率層、高折射率層之3層積層構造、或者低折射率層、高折射率層、低折射率層、高折射率層之4層積層構造、或高折射率層、低折射率層、高折射率層、低折射率層之4層積層構造之方式選擇各層。

但，最表面之層較佳為層(SiO _x)。其原因在於，為了獲得低反射性，若最表面之層為層(SiO _x)，則可相對容易製作。又，於形成防污膜之情形時，就與防污膜之耐久性相關之結合性之觀點而言，防污膜較佳為形成於層(SiO _x)上。

層(A-B-O)32較佳為非晶質。若為非晶質，則可於相對低溫下製作，於透明基體為樹脂之情形時等，樹脂不會因熱而受損，故而可良好地應用。

以下，進一步記載本實施方式之附反射防止膜之透明基體。

＜透明基體＞ 透明基體較佳為折射率1.4以上1.7以下之材質。其原因在於，於將光學接著顯示器或觸控面板等以光學方式接著之情形時，可充分抑制接著面中之反射。

作為透明基體，較佳為玻璃基板或樹脂基板。透明基體亦可為包含玻璃及樹脂之積層體。

作為玻璃基板，可利用具有各種組成之玻璃。例如，本實施方式所使用之玻璃較佳為包含鈉，較佳為能夠藉由成形、化學強化處理進行強化之組成。具體而言，例如可例舉：鋁矽酸鹽玻璃、鈉鈣玻璃、硼矽酸玻璃、鉛玻璃、鹼鋇玻璃、鋁硼矽酸鹽玻璃等。

玻璃基板之厚度不受特別限制，於進行化學強化處理之情形時，為了有效地進行化學強化處理，通常較佳為5 mm以下，更佳為3 mm以下。

玻璃基板較佳為經化學強化以使覆蓋玻璃之強度提高之化學強化玻璃。再者，於對玻璃基板實施防眩處理之情形時，化學強化係於防眩處理之後、形成多層膜之前進行。

玻璃基板較佳為對具有多層膜一側之主面實施防眩處理。防眩處理方法不受特別限定，可利用對玻璃主面實施表面處理而形成所需之凹凸之方法。

具體而言，可例舉：對玻璃基板之主面進行化學處理之方法，例如實施磨砂處理之方法。關於磨砂處理，例如，可將作為被處理體之玻璃基板浸漬於氟化氫與氟化銨之混合溶液中，對浸漬面進行化學表面處理。

又，除了此種化學處理之方法以外，亦可利用物理處理，例如：利用加壓空氣將晶質二氧化矽粉、碳化矽粉等吹送至玻璃基板表面之所謂噴砂處理；或用水潤濕附著有晶質二氧化矽粉、碳化矽粉等之刷，並用該潤濕之刷來擦磨等。

作為樹脂基板，較佳為樹脂膜。作為樹脂膜，可使用熱塑性樹脂或熱硬化性樹脂。例如可例舉：聚氯乙烯樹脂、聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙酸乙烯酯樹脂、聚酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、纖維素系樹脂、丙烯酸樹脂、AS(丙烯腈-苯乙烯)樹脂、ABS(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)樹脂、氟系樹脂、熱塑性彈性體、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚縮醛樹脂、聚碳酸酯樹脂、改性聚苯醚樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂、聚對苯二甲酸丁二酯樹脂、聚乳酸系樹脂、環狀聚烯烴樹脂、聚苯硫醚樹脂等。其中，較佳為纖維素系樹脂，更佳為三乙醯纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂。該等樹脂可單獨使用1種，亦可併用2種以上。

或者，作為樹脂基板，較佳為選自聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、丙烯酸樹脂、矽酮或三乙醯纖維素樹脂膜之至少1種樹脂。

膜之厚度不受特別限制，較佳為20～150 μm，更佳為40～80 μm。

於使用膜作為透明基體10之情形時，作為一實施方式，可設為如下構成：於透明基體10上配設硬塗層(未圖示)，於其上設置多層膜(反射防止膜)30。

進而，作為其他實施方式，可設為如下構成：於上述硬塗層上配設防眩層(未圖示，防眩層)，於其上設置多層膜(反射防止膜)30。

作為硬塗層，可塗佈溶解有高分子樹脂者。防眩層係藉由在膜之單面形成凹凸形狀而提高霧度，賦予防眩性者。防眩層與硬塗層同樣地，可塗佈溶解有高分子樹脂者。構成防眩層之防眩層組合物至少包含使自身具有防眩性之粒子狀物質分散於溶解有作為黏合劑之高分子樹脂之溶液中而成者。

作為上述具有防眩性之粒子狀物質，可例舉：氧化矽、黏土、滑石、碳酸鈣、硫酸鈣、硫酸鋇、矽酸鋁、氧化鈦、合成沸石、氧化鋁、膨潤石等無機微粒子、及包含苯乙烯樹脂、胺基甲酸酯樹脂、苯并胍胺樹脂、矽酮樹脂、丙烯酸樹脂等之有機微粒子。

又，上述硬塗層、上述防眩層中之作為黏合劑之高分子樹脂可使用包含聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、丙烯酸胺基甲酸酯系樹脂、聚酯丙烯酸酯系樹脂、聚胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、環氧丙烯酸酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂之高分子樹脂。

＜多層膜＞ 上述多層膜可使用濺鍍法、真空蒸鍍法或塗佈法等公知之成膜方法形成於透明基體之主面。即，使用濺鍍法、真空蒸鍍法或塗佈法等公知之成膜方法於透明基體之主面按照其積層順序形成構成多層膜之介電層或層。

作為濺鍍法，可例舉：磁控濺鍍、脈衝濺鍍、AC(Alternating Current，交流)濺鍍、數位濺鍍等方法。

例如，磁控濺鍍法為如下方法，即，於成為母體之介電材料之背面設置磁鐵而產生磁場，使氣體離子原子碰撞至上述介電材料表面而被擊出，藉此以數nm之厚度進行濺鍍成膜，可形成介電材料之氧化物或氮化物之介電體之連續膜。

例如，數位濺鍍法不同於通常之磁控濺鍍法，其為如下方法，即，首先，藉由濺鍍形成金屬之極薄膜，其後照射氧電漿或氧離子或氧自由基而使其氧化，將該步驟於同一腔室內反覆進行，從而形成金屬氧化物之薄膜。於該情形時，由於成膜分子成膜於基板時為金屬，故而推測與以金屬氧化物之形式成膜之情形相比，具有延展性。因此，認為即便為相同能量，亦容易引起成膜分子之再配置，結果可形成緻密且平滑之膜。

＜防污膜＞ 關於本實施方式之附反射防止膜之透明基體，就保護膜最表面之觀點而言，本實施方式之附反射防止膜之透明基體亦可於上述反射防止膜上進而具有防污膜(亦稱為「Anti Finger Print(AFP，抗指紋)膜」)。防污膜例如可含有含氟有機矽化合物。

作為含氟有機矽化合物，只要能夠賦予防污性、撥水性、撥油性，則不受特別限定，均可使用，例如可例舉：具有選自由聚氟聚醚基、聚氟伸烷基及聚氟烷基所組成之群中之1種以上之基的含氟有機矽化合物。再者，聚氟聚醚基係指具有聚氟伸烷基與醚性氧原子交替鍵結之結構之二價基。

又，作為市售之具有選自由聚氟聚醚基、聚氟伸烷基及聚氟烷基所組成之群中之1種以上之基的含氟有機矽化合物，可較佳地使用：KP-801(商品名，信越化學公司製造)、KY178(商品名，信越化學公司製造)、KY-130(商品名，信越化學公司製造)、KY-185(商品名，信越化學公司製造)OPTOOL(註冊商標)DSX及OPTOOL AES(均為商品名，大金公司製造)等。

防污膜積層於反射防止膜上。於在玻璃基板或樹脂基板之兩主面成膜反射防止膜之情形時，亦可使防污膜成膜於兩反射防止膜，但亦可設為僅於任一面積層防污膜之構成。其原因在於，防污膜只要設置於人手等可能接觸之部位即可，可根據其用途等進行選擇。

本實施方式之附反射防止膜之透明基體適宜用作圖像顯示裝置之覆蓋玻璃、特別是搭載於車輛等之導航系統之圖像顯示裝置之類之搭載於車輛等之圖像顯示裝置之覆蓋玻璃。 [實施例]

以下例舉實施例具體地說明本發明，但本發明不限定於該等。例1～4為實施例，例5～7為比較例。

(例1) 利用以下之方法，於透明基體之一主面形成反射防止膜，製作附反射防止膜之透明基體。

透明基體使用縱50 mm×橫50 mm×厚度2 mm之化學強化玻璃基板(Dragontrail：註冊商標，AGC公司製造)。

於透明基體之一主面藉由丙烯酸系黏著劑貼合防眩TAC膜(Toppan TOMOEGAWA Optical films公司製造，商品名VZ50)。

其次，作為介電層(1)(金屬氧化物層)，藉由數位濺鍍法，使用將鈮與鉬以重量比50：50之比率加以混合並燒結而得之靶，一面利用氬氣將壓力保持在0.2 Pa，一面高速地反覆進行於頻率100 kHz、功率密度10.0 W/cm ²、反轉脈衝寬度3 μsec之條件下進行脈衝濺鍍，使微小膜厚之金屬膜成膜，其後立即利用氧氣使其氧化之操作，藉此成膜氧化膜，於貼合有擴散層之透明基體之主面成膜20 nm之Mo-Nb-O層。

其次，作為介電層(2)(氧化矽層)，藉由相同之數位濺鍍法，使用矽靶，一面利用氬氣將壓力保持在0.2 Pa，一面高速地反覆進行於頻率100 kHz、功率密度10.0 W/cm ²、反轉脈衝寬度3 μsec之條件下進行脈衝濺鍍，使微小膜厚之矽膜成膜，其後立即利用氧氣使其氧化之操作，藉此成膜矽氧化膜，將其重疊於Mo-Nb-O層上，成膜厚度30 nm之包含氧化矽[氧化矽(SiO _x)]之層。此處，利用氧氣使其氧化時之氧流量為500 sccm，氧化源之輸入電力為1000 W。

其次，作為介電層(3)(金屬氧化物層)，藉由相同之數位濺鍍法，使用將鈮與鉬以重量比50：50之比率加以混合並燒結而得之靶，一面利用壓氬氣將壓力保持在0.2 Pa，一面高速地反覆進行於頻率100 kHz、功率密度10.0 W/cm ²、反轉脈衝寬度3 μsec之條件下進行脈衝濺鍍，使微小膜厚之金屬膜成膜，其後立即利用氧氣使其氧化之操作，藉此成膜氧化膜，將其重疊於氧化矽層上，成膜厚度120 nm之Mo-Nb-O層。

繼而，作為介電層(4)(氧化矽層)，藉由相同之數位濺鍍法，使用矽靶，一面利用氬氣將壓力保持在0.2 Pa，一面高速地反覆進行於頻率100 kHz、功率密度10.0 W/cm ²、反轉脈衝寬度3 μsec之條件下進行脈衝濺鍍，使微小膜厚之矽膜成膜，其後立即利用氧氣使其氧化之操作，藉此成膜矽氧化膜，將其重疊於Mo-Nb-O層上，成膜厚度88 nm之包含氧化矽[氧化矽(SiO _x)]之層。此處，利用氧氣使其氧化時之氧流量為500 sccm，氧化源之輸入電力為1000 W。

對於所製作之附反射防止膜之透明基體，實施以下評價。

(附反射防止膜之透明基體之視感透過率) 藉由分光光度計(島津製作所公司製造，商品名：SolidSpec-3700)測定分光透過率，以計算方式求出視感透過率(JIS Z 8701：1999中所規定之刺激值Y)。

(附反射防止膜之透明基體之D65光源下之透過色(b*值)) 根據上述測定分光透過率所獲得之透過光譜，求出JIS Z 8729：2004中所規定之色指標(b*值)。光源使用D65光源。

(反射防止膜之最表面層之視感反射率及擴散光之亮度) 藉由分光測色計(柯尼卡美能達公司製造，商品名：CM2600d)測定反射防止膜之最表面層之視感反射率(SCI Y)及擴散光之亮度(SCE L*)。光源設為D65光源。反射防止膜之最表面層之視感反射率(透明基體最表面之反射率)係藉由在透明基體之背面貼黑色膠帶來去除背面反射成分而進行測定。又，擴散光之亮度係於使用丙烯酸系黏著劑將附反射防止膜之透明基體之非成膜面貼合於液晶顯示器之狀態下進行測定。

(反射防止膜之薄片電阻) 使用測定裝置(Mitsubishi Chemical Analytech公司製造，裝置名：Hiresta UP(MCP-HT450型))測定薄片電阻值。將探針抵於附反射防止膜之透明基體之中央，以10 V通電10秒進行測定。

(漫射(Diffusion)值) 使用測定裝置(DM&S公司製造之裝置SMS-1000)進行測定，藉由上述方法算出漫射(Diffusion)值。將結果示於下述表1。

(例2) 將成膜介電層(1)及(3)之金屬氧化物層時之氧氣流量自500 sccm變成800 sccm，除此以外，以與例1相同之方式成膜，將有關所獲得之附反射防止膜之透明基體之評價結果示於下述表1。

(例3) 於透明基體之一主面藉由丙烯酸系黏著劑貼合防眩TAC膜(大日本印刷公司製造，商品名DSR3)，除此以外，以與例1相同之方式成膜積層有介電層之反射防止膜，將有關所獲得之附反射防止膜之透明基體之評價結果示於下述表1。

(例4) 以與例1相同之方式於透明基體之一主面藉由丙烯酸系黏著劑貼合防眩TAC膜(Toppan TOMOEGAWA Optical films公司製造，商品名VH66H)作為擴散層，除此以外，以與例1相同之方式成膜積層有介電層之反射防止膜，將有關所獲得之附反射防止膜之透明基體之評價結果示於下述表1。

(例5) 以與例1相同之方式於透明基體之一主面藉由丙烯酸系黏著劑貼合防眩TAC膜(Toppan TOMOEGAWA Optical films公司製造，商品名VZ50)作為擴散層。利用以下方法於上述擴散層成膜包含氧化鈦及氧化矽之反射防止膜。

作為反射防止膜之成膜方法，首先，作為介電層(1)(金屬氧化物層)，藉由數位濺鍍法，使用鈦靶，一面利用氬氣將壓力保持在0.2 Pa，一面高速地反覆進行於頻率100 kHz、功率密度10.0 W/cm ²、反轉脈衝寬度3 μsec之條件下進行脈衝濺鍍，使微小膜厚之金屬膜成膜，其後立即利用氧氣使其氧化之操作，藉此成膜氧化膜，於貼合有擴散層之透明基體之主面成膜11 nm之Ti-O層。

其次，作為介電層(2)(氧化矽層)，藉由相同之數位濺鍍法，使用矽靶，一面利用氬氣將壓力保持在0.2 Pa，一面高速地反覆進行於頻率100 kHz、功率密度10.0 W/cm ²、反轉脈衝寬度3 μsec之條件下進行脈衝濺鍍，使微小膜厚之矽膜成膜，其後立即利用氧氣使其氧化之操作，藉此成膜矽氧化膜，將其重疊於Ti-O層上，成膜厚度35 nm之包含氧化矽[氧化矽(SiO _x)]之層。此處，利用氧氣使其氧化時之氧流量為500 sccm，氧化源之輸入電力為1000 W。

其次，作為介電層(3)(金屬氧化物層)，藉由相同之數位濺鍍法，使用鈦靶，一面利用氬氣將壓力保持在0.2 Pa，一面高速地反覆進行於頻率100 kHz、功率密度10.0 W/cm ²、反轉脈衝寬度3 μsec之條件下進行脈衝濺鍍，使微小膜厚之金屬膜成膜，其後立即利用氧氣使其氧化之操作，藉此成膜氧化膜，將其重疊於氧化矽層上，成膜厚度104 nm之Ti-O層。

繼而，作為介電層(4)(氧化矽層)，藉由相同之數位濺鍍法，使用矽靶，一面利用氬氣將壓力保持在0.2 Pa，一面高速地反覆進行於頻率100 kHz、功率密度10.0 W/cm ²、反轉脈衝寬度3 μsec之條件下進行脈衝濺鍍，使微小膜厚之矽膜成膜，其後立即利用氧氣使其氧化之操作，藉此成膜矽氧化膜，將其重疊於Ti-O層上，成膜厚度86 nm之包含氧化矽[氧化矽(SiO _x)]之層。此處，利用氧氣使其氧化時之氧流量為500 sccm，氧化源之輸入電力為1000 W。將有關所獲得之附反射防止膜之透明基體之評價結果示於下述表1。

(例6) 於透明基體之一主面藉由丙烯酸系黏著劑貼合透明硬塗TAC膜(Toppan TOMOEGAWA Optical films公司製造，商品名CHC)，除此以外，以與例1相同之方式成膜積層有介電層之反射防止膜，將有關所獲得之附反射防止膜之透明基體之評價結果示於下述表1。

(例7) 以與例1相同之方式於透明基體之一主面藉由丙烯酸系黏著劑)貼合防眩TAC膜(Toppan TOMOEGAWA Optical films公司製造，商品名VZ50)作為擴散層，以反射率變高之方式調整各層之膜厚，除此以外，以與例1相同之方式成膜積層有介電層之反射防止膜。將有關所獲得之附反射防止膜之透明基體之評價結果示於下述表1。

對於所製作之例1～7之附反射防止膜之透明基體實施上述評價，將結果示於下述表1及表2。

[表1]

表1
	例1	例2	例3	例4
構造	基體	玻璃	玻璃	玻璃	玻璃
防眩TAC膜 (VZ50)	防眩TAC膜 (VZ50)	防眩TAC膜 (DSR3)	防眩TAC膜 (VH66H)
介電層(1)	Mo-Nb-O [20 nm]	Mo-Nb-O [20 nm]	Mo-Nb-O [20 nm]	Mo-Nb-O [20 nm]
介電層(2)	SiO x[30 nm]	SiO x[30 nm]	SiO x[30 nm]	SiO x[30 nm]
介電層(3)	Mo-Nb-O [120 nm]	Mo-Nb-O [120 nm]	Mo-Nb-O [120 nm]	Mo-Nb-O [120 nm]
介電層(4)	SiO x[88 nm]	SiO x[88 nm]	SiO x[88 nm]	SiO x[88 nm]
成膜方法	數位濺鍍	數位濺鍍	數位濺鍍	數位濺鍍
視感透過率(%)	73	89	87	88
透過色b*	1.7	1.3	1.3	1.3
反射防止膜之最表面層之SCI(Y)視感反射率(%)	0.34	0.24	0.32	0.36
SCI(Y)視感反射率(%)	0.98	1.26	1.42	1.49
薄片電阻(Ω/□)	1×10 10	1×10 10	1×10 10	1×10 10
擴散光之亮度(SCE(L*))	2.4	3.2	3.79	3.04
漫射(Diffusion)值	0.45	0.45	0.45	0.25

[表2]

表2
	例5	例6	例7
構造	基體	玻璃	玻璃	玻璃
防眩TAC膜 (VZ50)	防眩TAC膜 (CHC)	防眩TAC膜 (VZ50)
介電層(1)	TiO 2[11 nm]	Mo-Nb-O [20 nm]	Mo-Nb-O [10 nm]
介電層(2)	SiO x[35 nm]	SiO x[30 nm]	SiO x[36 nm]
介電層(3)	TiO 2[104 nm]	Mo-Nb-O [120 nm]	Mo-Nb-O [125 nm]
介電層(4)	SiO x[86 nm]	SiO x[88 nm]	SiO x[90 nm]
成膜方法	數位濺鍍	數位濺鍍	數位濺鍍
視感透過率(%)	95	88	87
透過色b *	0.4	1.3	1.3
反射防止膜之最表面層之SCI(Y)視感反射率(%)	0.12	0.32	0.42
SCI(Y)視感反射率(%)	1.53	1.40	1.47
薄片電阻(Ω/□)	1×10 10	1×10 1 0	1×10 10
擴散光之亮度(SCE(L*))	4.5	0.9	4.05
漫射(Diffusion)值	0.45	0.05	0.45

如表1、2所示，例1～4之附反射防止膜之透明基體係包含具有兩個主面之透明基體且於該透明基體之一主面依次具有擴散層及反射防止膜者，且 (A)視感透過率為20～90%； (B)D65光源下之透過色b*值為5以下； (C)上述反射防止膜之最表面層之視感反射率(SCI Y)為0.4%以下； (D)上述反射防止膜之薄片電阻為10 ⁴Ω/□以上； (E)上述反射防止膜為積層有至少2層折射率互不相同之介電層之積層構造； (F)漫射(Diffusion)值為0.2以上，且擴散光之亮度(SCE L*)為4以下。與例5～7相比，例1～4之附反射防止膜之透明基體係具有光吸收能、具有絕緣性且透過光不帶黃色之附反射防止膜之透明基體。

以上，一面參照圖式一面對各種實施方式進行說明，當然本發明並不限定於該等例。業者明確，可於申請專利範圍所記載之範圍內，想到各種變化例或修正例，應瞭解，其等當然屬於本發明之技術範圍。又，亦可於不脫離發明之主旨之範圍內，任意組合上述實施方式中之各構成要素。

再者，本申請係基於2020年7月22日提出申請之日本專利申請(特願2020-125648)者，其內容被作為參照而援用於本申請中。

10:透明基體 30:多層膜(反射防止膜) 31:擴散層 32:介電層 34:介電層 212:第1表面 214:第2表面 300:測定裝置 350:光源 362:第1光 364:第1反射光 366:第2反射光 368:第3反射光 370:檢測器 A:透明基體 L:法線 α ₁:第1角度 α ₂:第2角度 α ₃:第3角度 ϕ:角度

圖1係模式性地表示附反射防止膜之透明基體之一構成例之剖視圖。 圖2係模式性地表示測定附反射防止膜之透明基體之反射圖像擴散性指標值R時所使用之測定裝置之一例的圖。

10:透明基體

30:多層膜(反射防止膜)

31:擴散層

32:介電層

34:介電層

Claims (9)

1. 一種附反射防止膜之透明基體，其係包含具有兩個主面之透明基體且於該透明基體之一主面依次具有擴散層及反射防止膜者，且 (A)視感透過率為20～90%； (B)D65光源下之透過色b*值為5以下； (C)上述反射防止膜之最表面層之視感反射率(SCI Y)為0.4%以下； (D)上述反射防止膜之薄片電阻為10 ⁴Ω/□以上； (E)上述反射防止膜為積層有至少2層折射率互不相同之介電層之積層構造； (F)漫射值為0.2以上，且擴散光之亮度(SCE L*)為4以下。
2. 如請求項1之附反射防止膜之透明基體，其中上述介電層中之至少1層主要由Si氧化物構成，上述積層構造之層中之另外至少一層主要由選自由Mo及W所組成之A群中之至少1種之氧化物與選自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn及In所組成之B群中之至少1種之氧化物的混合氧化物構成，且相對於該混合氧化物中所含之A群元素與該混合氧化物中所含之B群元素之合計，該混合氧化物中所含之B群元素之含有率為65質量%以下。
3. 如請求項1或2之附反射防止膜之透明基體，其於上述反射防止膜上進而具有防污膜。
4. 如請求項1至3中任一項之附反射防止膜之透明基體，其中上述透明基體為玻璃基板。
5. 如請求項1至3中任一項之附反射防止膜之透明基體，其中上述透明基體為選自聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、丙烯酸樹脂、矽酮或三乙醯纖維素樹脂膜之至少1種樹脂。
6. 如請求項1至3中任一項之附反射防止膜之透明基體，其中上述透明基體為玻璃與選自聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、丙烯酸樹脂、矽酮或三乙醯纖維素樹脂膜之至少1種樹脂之積層體。
7. 如請求項4或6之附反射防止膜之透明基體，其中上述玻璃經化學強化。
8. 如請求項1至7中任一項之附反射防止膜之透明基體，其中上述透明基體之具有上述反射防止膜一側之主面經防眩處理。
9. 一種圖像顯示裝置，其具備如請求項1至8中任一項之附反射防止膜之透明基體。

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