TW202319226A - 附反射防止膜之透明基體 - Google Patents

Abstract

本發明係關於一種附反射防止膜之透明基體，其於具有兩個主面之透明基體之至少一主面具備積層有至少2層折射率互不相同之層之多層膜，上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層之透濕度為300 g/m ²/天以下，上述多層膜之層中之至少一層主要由Si氧化物構成，上述多層膜之層中之另外至少一層主要由選自由Mo及W所組成之A群中之至少1種之氧化物與選自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn及In所組成之B群中之至少1種之氧化物的混合氧化物構成，且相對於該混合氧化物中所含之A群元素與該混合氧化物中所含之B群元素之合計，該混合氧化物中所含之B群元素之含有率未達80質量%。

Description

附反射防止膜之透明基體

本發明係關於一種附反射防止膜之透明基體。

近年來，就美觀性之觀點而言，使用在液晶顯示器之類之圖像顯示裝置之前表面設置覆蓋玻璃之方法。

於上述技術中，由覆蓋玻璃反射外界光所導致之映入成為一問題。為了解決該問題，大多情況下於覆蓋玻璃之表面設置具有積層構造之多層膜。然而，於先前之反射防止膜中，圖像顯示裝置之黑框部分與圖像顯示部之邊界線較為明顯，美觀性較差。

因此，已知對作為積層有至少2層折射率互不相同之介電層之多層膜的反射防止膜賦予光吸收能力。藉此，可使圖像顯示裝置之黑框部分與圖像顯示部之邊界線變得不明顯。進而亦可抑制覆蓋玻璃與反射防止膜之界面處之反射。

例如，於專利文獻1中揭示有一種具有光吸收能力且具有絕緣性之附反射防止膜之透明基體。

於專利文獻2中揭示有一種依次積層有氧化矽層及銅層之透明導電積層體。

於專利文獻3中揭示有一種反射防止膜，其於玻璃板表面具有包含高折射率材料之覆膜及包含低折射率材料之覆膜，且包含低折射率材料之覆膜配置於最表面。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2018-115105號公報 [專利文獻2]日本專利特開2016-068470號公報 [專利文獻3]日本專利特開2008-201633號公報

[發明所欲解決之問題]

如上所述，已知藉由對多層膜賦予光吸收能力而具備美觀性，進而抑制來自覆蓋玻璃與反射防止膜之界面處之反射的技術。

然而，尚未實現滿足具有光吸收能力、且抑制由水分自外部滲入所引起之反射防止膜之透過率變化的技術。

因此，本發明之目的在於提供一種具有光吸收能力、且由水分自外部滲入所引起之反射防止膜之透過率變化得到抑制之附反射防止膜之透明基體。 [解決問題之技術手段]

本發明人等發現，藉由如下附反射防止膜之透明基體，可解決上述課題，從而完成本發明；上述附反射防止膜之透明基體於具有兩個主面之透明基體之至少一主面具備積層有至少2層折射率互不相同之層之多層膜，上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層之透濕度為300 g/m ²/天以下。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為，上述多層膜為積層有至少2層折射率互不相同之層之構造，上述多層膜之層中之至少一層主要由Si氧化物構成，上述多層膜之層中之另外至少一層主要由選自由Mo及W所組成之A群中之至少1種之氧化物與選自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn及In所組成之B群中之至少1種之氧化物的混合氧化物構成，相對於該混合氧化物中所含之A群元素與該混合氧化物中所含之B群元素之合計，該混合氧化物中所含之B群元素之含有率未達80質量%。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為，上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層之算術平均高度(Sa)為1.00 nm以下，上述算術平均高度(Sa)表示1 μm×1 μm之測定範圍內之表面粗糙度。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為，上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層之算術平均高度(Sa)為0.90 nm以下，上述算術平均高度(Sa)表示5 μm×5 μm之測定範圍內之表面粗糙度。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為，上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層之硬度為5.0 GPa以上。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為，上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層之彈性模數為70 GPa以上。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為，於上述反射防止膜上進而具有防污膜。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為，上述透明基體為玻璃基板。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為，上述透明基體為樹脂基板。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為，上述透明基體為包含玻璃及樹脂基板之積層體。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為，上述玻璃經化學強化。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為，上述透明基體之具有上述反射防止膜一側之主面經防眩處理。

於本發明之一態樣之附反射防止膜之透明基體中，較佳為具備附反射防止膜之透明基體之圖像顯示裝置。 [發明之效果]

根據本發明之一態樣，可提供一種具有光吸收能力、且可抑制由水分自外部滲入所引起之反射防止膜之透過率變化之附反射防止膜之透明基體。

以下，參照圖式，詳細地說明本發明之實施方式。

本發明之一實施方式之附反射防止膜之透明基體於具有兩個主面之透明基體之至少一個主面具備積層有至少2層折射率互不相同之層之多層膜，且上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層之透濕度為300 g/m ²/天以下。

本實施方式之上述透明基體只要為透光性優異之透明基體，則不受特別限定，可例舉：玻璃或樹脂。

本實施方式之附反射防止膜之透明基體(附多層膜之透明基體)中之多層膜較佳為下述構成。

圖1係模式性地表示附多層膜之透明基體之一構成例之剖視圖。透明基體10上形成有多層膜30。圖1所示之多層膜30係積層有2層折射率互不相同之介電層32、34之積層構造。藉由積層折射率互不相同之介電層32、34而抑制光之反射。介電層32為高折射率層，介電層34為低折射率層。

於圖1所示之多層膜30中，介電層32較佳為包含選自由Mo及W所組成之A群中之至少1種與選自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn及In所組成之B群中之至少1種的混合氧化物。但，關於該混合氧化物，相對於該混合氧化物中所含之A群元素與該混合氧化物中所含之B群元素之合計，該混合氧化物中所含之B群元素之含有率(以下，記載為B群含有率)較佳為未達80質量%。

介電層34較佳為包含SiO _x。

介電層32較佳為包含上述選自由Mo及W所組成之A群中之至少1種之氧化物與選自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn及In所組成之B群中之至少1種之氧化物的混合氧化物。其中，A群較佳為Mo，B群較佳為Nb。

由於介電層34為氧缺失之氧化矽層，介電層32使用Mo及Nb，故而雖然先前之氧缺失之氧化矽層於可見光中帶有黃色，但藉由使用Mo及Nb，而即便產生氧缺失，氧化矽層亦不會帶有黃色，故而更佳。

關於上述介電層32於波長550 nm下之折射率，就與透明基體之透過率之觀點而言，上述介電層32於波長550 nm下之折射率較佳為1.8～2.3。上述介電層32之消光係數較佳為0.005～3，更佳為0.01～1，進而較佳為0.04～0.38。

若消光係數為0.005以上，則可以適當之層數實現所需之吸收率。又，若消光係數為3以下，則相對容易兼顧反射色調與透過率。

圖1所示之多層膜30係積層有介電層32、34此2層之積層構造，但本實施方式中之多層膜不限定於此，可為積層有3層以上之折射率互不相同之層之積層構造。於該情形時，無需所有層之折射率不同。

例如，於3層積層構造之情形時，可形成為：低折射率層、高折射率層、低折射率層之3層積層構造；或高折射率層、低折射率層、高折射率層之3層積層構造。於前者之情形時，所存在之2層低折射率層可為相同之折射率，於後者之情形時，所存在之2層高折射率層可為相同之折射率。

於為4層積層構造之情形時，可形成為：低折射率層、高折射率層、低折射率層、高折射率層之4層積層構造；或高折射率層、低折射率層、高折射率層、低折射率層之4層積層構造。於該情形時，各自所存在之2層低折射率層及高折射率層可為相同之折射率。

再者，此處高折射率層係指例如波長550 nm下之折射率為1.8以上之層，低折射率層係指波長550 nm下之折射率為1.6以下之層。

作為具有光吸收能力且具有絕緣性之光透過膜，已知有半導體製造領域所使用之半色調光罩。作為半色調光罩，使用如包含少量Mo之Mo-SiO _x膜之氧缺失膜。又，作為具有光吸收能力且具有絕緣性之光透過膜，存在半導體製造領域所使用之窄帶隙膜。

然而，由於該等膜於可見光線中之短波長側具有較高之光吸收能力，故而透過光帶有黃色。因此，不適合圖像顯示裝置之覆蓋玻璃。

於本實施方式中，藉由具有Mo之含有率得到了提高之介電層32、及包含SiO _x之介電層34，可獲得具有光吸收能力、具有絕緣性、且密接性及強度優異之附反射防止膜之透明基體。

圖1所示之附反射防止膜之透明基體藉由將多層膜30設為上述構成，而滿足上述本實施方式之附反射防止膜之透明基體之特性。

若包含選自由Mo及W所組成之A群中之至少1種之氧化物與選自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn及In所組成之B群中之至少1種之氧化物的混合氧化物而成之層(A-B-O)32中之B群含有率未達80質量%，則可抑制b*值超過5。B群含有率更佳為70質量%以下，進而較佳為60質量%以下。

於積層有3層以上之折射率互不相同之層之積層構造之情形時，亦可包含除層(A-B-O)及層(SiO _x)以外之層。於該情形時，需要以包含層(A-B-O)及層(SiO _x)在內成為低折射率層、高折射率層、低折射率層之3層積層構造、或高折射率層、低折射率層、高折射率層之3層積層構造、或者低折射率層、高折射率層、低折射率層、高折射率層之4層積層構造、或高折射率層、低折射率層、高折射率層、低折射率層之4層積層構造之方式選擇各層。

但，最表面之層較佳為層(SiO _x)。其原因在於，為了獲得低反射性，若最表面之層為層(SiO _x)，則可相對容易製作。又，於形成防污膜之情形時，就與防污膜之耐久性相關之結合性之觀點而言，防污膜較佳為形成於層(SiO _x)上。

層(A-B-O)32較佳為非晶質。若為非晶質，則可於相對低溫下製作，於透明基體為樹脂之情形時等，樹脂不會因熱而受損，故而可良好地應用。

關於本實施方式之附多層膜之透明基體，上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層之透濕度為300 g/m ²/天以下。若透濕度為上述範圍，則可抑制水分自外部滲入，因此可抑制由水分之滲入所引起之反射防止膜之透過率變化。

再者，透濕度可如下述實施例所記載，藉由JIS Z 0208(1976年)所規定之方法進行測定。本實施方式之附多層膜之透明基體之透濕度較佳為0.1～300 g/m ²/天，更佳為0.1～100 g/m ²/天。

關於本實施方式之附多層膜之透明基體，上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層之1 μm×1 μm之測定範圍內之表面粗糙度(算術平均高度(Sa))較佳為1.00 nm以下。若表面粗糙度(算術平均高度(Sa))為上述範圍，則上述氧化矽層變緻密，可抑制水分自外部滲入，因此可抑制由水分之滲入所引起之反射防止膜之透過率變化。

1 μm×1 μm之測定範圍內之表面粗糙度(算術平均高度(Sa))可如下述實施例所記載，例如依據國際標準規格ISO 25178之規定，藉由掃描型探針顯微鏡進行測定。

本實施方式之附多層膜之透明基體之上述氧化矽層的1 μm×1 μm之測定範圍內之表面粗糙度(算術平均高度(Sa))較佳為0.05～0.99 nm，更佳為0.05～0.98 nm。

關於本實施方式之附多層膜之透明基體，上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層之5 μm×5 μm之測定範圍內之表面粗糙度(算術平均高度(Sa))較佳為0.90 nm以下。若表面粗糙度(算術平均高度(Sa))為上述範圍，則上述氧化矽層變緻密，可抑制水分自外部滲入，因此可抑制由水分之滲入所引起之反射防止膜之透過率變化。

5 μm×5 μm之測定範圍內之表面粗糙度(算術平均高度(Sa))可如下述實施例所記載，例如依據國際標準規格ISO 25178之規定，藉由掃描型探針顯微鏡進行測定。

本實施方式之附多層膜之透明基體之上述氧化矽層的5 μm×5 μm之測定範圍內之表面粗糙度(算術平均高度(Sa))較佳為0.05～0.90 nm，更佳為0.05～0.87 nm。

關於本實施方式之附多層膜之透明基體，上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層於施加0.1 mN荷重進行測定時，硬度較佳為5.0 GPa以上。若硬度為上述範圍，則上述氧化矽層變緻密，可抑制水分自外部滲入，因此可抑制由水分之滲入所引起之反射防止膜之透過率變化。

上述氧化矽層之硬度可如下述實施例所記載，例如藉由表面張力測定裝置(奈米壓痕儀)進行測定。

對本實施方式之附多層膜之透明基體之上述氧化矽層施加0.1 mN荷重進行測定時之硬度較佳為5.0～20.0 GPa，更佳為5.2～15.0 GPa。

關於本實施方式之附多層膜之透明基體，上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層於施加1 mN荷重進行測定時之硬度較佳為6.6 GPa以上。若硬度為上述範圍，則上述氧化矽層變緻密，可抑制水分自外部滲入，因此可抑制由水分之滲入所引起之反射防止膜之透過率變化。

上述氧化矽層之硬度可如下述實施例所記載，例如藉由表面張力測定裝置(奈米壓痕儀)進行測定。

對本實施方式之附多層膜之透明基體之上述氧化矽層施加1 mN荷重進行測定時之硬度較佳為6.6～20.0 GPa，更佳為6.7～15.0 GPa。

關於本實施方式之附多層膜之透明基體，上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層於施加0.1 mN荷重進行測定時之彈性模數較佳為70 GPa以上。若彈性模數為上述範圍，則上述氧化矽層變緻密，可抑制水分自外部滲入，因此可抑制由水分之滲入所引起之反射防止膜之透過率變化。

上述氧化矽層之彈性模數可如下述實施例所記載，例如藉由表面張力測定裝置(奈米壓痕儀)進行測定。

對本實施方式之附多層膜之透明基體之上述氧化矽層施加0.1 mN荷重進行測定時之彈性模數較佳為70～200 GPa，更佳為72～150 GPa。

關於本實施方式之附多層膜之透明基體，上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層於施加1 mN荷重進行測定時之彈性模數較佳為81 GPa以上。若彈性模數為上述範圍，則上述氧化矽層變緻密，可抑制水分自外部滲入，因此可抑制由水分之滲入所引起之反射防止膜之透過率變化。

上述氧化矽層之彈性模數可如下述實施例所記載，例如藉由表面張力測定裝置(奈米壓痕儀)進行測定。對本實施方式之附多層膜之透明基體之上述氧化矽層施加1 mN荷重進行測定時之彈性模數較佳為81～200 GPa，更佳為81～150 GPa。

以下，進一步記載本實施方式之附多層膜之透明基體。

＜透明基體＞ 透明基體較佳為折射率1.4以上1.7以下之材質。其原因在於，於將顯示器或觸控面板等以光學方式接著之情形時，可充分抑制接著面中之反射。

作為透明基體，較佳為玻璃基板或樹脂基板。透明基體亦可為包含玻璃及樹脂基板之積層體。

作為玻璃基板，可利用具有各種組成之玻璃。例如，本實施方式所使用之玻璃較佳為包含鈉，較佳為能夠藉由成形、化學強化處理進行強化之組成。具體而言，例如可例舉：鋁矽酸鹽玻璃、鈉鈣玻璃、硼矽酸玻璃、鉛玻璃、鹼鋇玻璃、鋁硼矽酸鹽玻璃等。

玻璃基板之厚度不受特別限制，於進行化學強化處理之情形時，為了有效地進行化學強化處理，通常較佳為5 mm以下，更佳為3 mm以下。

玻璃基板較佳為經化學強化以使覆蓋玻璃之強度提高之化學強化玻璃。再者，於對玻璃基板實施防眩處理之情形時，化學強化係於防眩處理之後、形成多層膜之前進行。

玻璃基板較佳為對具有多層膜一側之主面實施防眩處理。防眩處理方法不受特別限定，可利用對玻璃主面實施表面處理而形成所需之凹凸之方法。

具體而言，可例舉：對玻璃基板之主面進行化學處理之方法，例如實施磨砂處理之方法。關於磨砂處理，例如，可將作為被處理體之玻璃基板浸漬於氟化氫與氟化銨之混合溶液中，對浸漬面進行化學表面處理。

又，除了此種化學處理之方法以外，亦可利用物理處理，例如：利用加壓空氣將晶質二氧化矽粉、碳化矽粉等吹送至玻璃基板表面之所謂噴砂處理；或用水潤濕附著有晶質二氧化矽粉、碳化矽粉等之刷，並用該潤濕之刷來擦磨等。

作為樹脂基板，較佳為樹脂膜。作為樹脂膜，可使用熱塑性樹脂或熱硬化性樹脂。例如可例舉：聚氯乙烯樹脂、聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙酸乙烯酯樹脂、聚酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、纖維素系樹脂、丙烯酸樹脂、AS(丙烯腈-苯乙烯)樹脂、ABS(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)樹脂、氟系樹脂、熱塑性彈性體、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚縮醛樹脂、聚碳酸酯樹脂、改性聚苯醚樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂、聚對苯二甲酸丁二酯樹脂、聚乳酸系樹脂、環狀聚烯烴樹脂、聚苯硫醚樹脂等。

其中，較佳為纖維素系樹脂，更佳為三乙醯纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂。該等樹脂可單獨使用1種，亦可併用2種以上。

膜之厚度不受特別限制，較佳為20～150 μm，更佳為40～80 μm。

於使用膜作為透明基體10之情形時，本實施方式可設為如下構成：於透明基體10上配設硬塗層(未圖示)或防眩層(未圖示)，於其上設置多層膜30。

進而，作為其他實施方式，可設為如下構成：於上述硬塗層上配設防眩層，於其上設置多層膜30。

作為硬塗層，可塗佈溶解有高分子樹脂者。

防眩層係藉由在膜之單面形成凹凸形狀而提高霧度，賦予防眩性者。防眩層與硬塗層同樣地，可塗佈溶解有高分子樹脂者。構成防眩層之防眩層組合物至少包含使自身具有防眩性之粒子狀物質分散於溶解有作為黏合劑之高分子樹脂之溶液中而成者。

作為上述具有防眩性之粒子狀物質，可例舉：氧化矽、黏土、滑石、碳酸鈣、硫酸鈣、硫酸鋇、矽酸鋁、氧化鈦、合成沸石、氧化鋁、膨潤石等無機微粒子、及包含苯乙烯樹脂、胺基甲酸酯樹脂、苯并胍胺樹脂、矽酮樹脂、丙烯酸樹脂等之有機微粒子。

又，上述硬塗層、上述防眩層中之作為黏合劑之高分子樹脂可使用包含聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、丙烯酸胺基甲酸酯系樹脂、聚酯丙烯酸酯系樹脂、聚胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、環氧丙烯酸酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂之高分子樹脂。

＜多層膜＞ 上述多層膜可使用濺鍍法、真空蒸鍍法或塗佈法等公知之成膜方法形成於透明基體之主面。即，使用濺鍍法、真空蒸鍍法或塗佈法等公知之成膜方法於透明基體之主面按照其積層順序形成構成多層膜之介電層或層。

作為濺鍍法，可例舉：磁控濺鍍、脈衝濺鍍、AC(Alternating Current，交流)濺鍍、數位濺鍍等方法。

例如，磁控濺鍍法為如下方法，即，於成為母體之介電材料之背面設置磁鐵而產生磁場，使氣體離子原子碰撞至上述介電材料表面而被擊出，藉此以數nm之厚度進行濺鍍成膜。根據磁控濺鍍法，可形成介電材料之氧化物或氮化物之介電體之連續膜。

例如，數位濺鍍法不同於通常之磁控濺鍍，其為如下方法，即，首先，藉由濺鍍形成金屬之極薄膜，其後照射氧電漿或氧離子或氧自由基而使其氧化，將該步驟於同一腔室內反覆進行，從而形成金屬氧化物之薄膜。於該情形時，由於成膜分子成膜於基板時為金屬，故而推測與以金屬氧化物之形式成膜之情形相比，具有延展性。因此，認為即便為相同能量，亦容易引起成膜分子之再配置，結果可形成緻密且平滑之膜。

反射防止膜之材料不受特別限定，只要為可抑制光反射之材料，則可利用各種材料。例如，作為反射防止膜，可設為積層有高折射率層及低折射率層之構成。此處所謂高折射率層係指波長550 nm下之折射率為1.8以上之層，低折射率層係指波長550 nm下之折射率為1.6以下之層。

再者，於本實施方式之附反射防止膜之透明基體中，反射防止膜只要設置於透明基體之至少一主面即可，亦可視需要設為設置於透明基體之兩主面之構成。

＜防污膜＞ 關於本實施方式之附多層膜之透明基體，就保護膜最表面之觀點而言，本實施方式之附多層膜之透明基體亦可於上述多層膜上進而具有防污膜(亦稱為「Anti Finger Print(AFP，抗指紋)膜」)。防污膜例如可含有含氟有機矽化合物。

作為含氟有機矽化合物，只要能夠賦予防污性、撥水性、撥油性，則不受特別限定，均可使用。作為含氟有機矽化合物，例如可例舉：具有選自由聚氟聚醚基、聚氟伸烷基及聚氟烷基所組成之群中之1種以上之基的含氟有機矽化合物。再者，聚氟聚醚基係指具有聚氟伸烷基與醚性氧原子交替鍵結之結構之二價基。

又，作為市售之具有選自由聚氟聚醚基、聚氟伸烷基及聚氟烷基所組成之群中之1種以上之基的含氟有機矽化合物，可較佳地使用：KP-801(商品名，信越化學公司製造)、KY178(商品名，信越化學公司製造)、KY-130(商品名，信越化學公司製造)、KY-185(商品名，信越化學公司製造)OPTOOL(註冊商標)DSX及OPTOOL AES(均為商品名，大金公司製造)等。

防污膜積層於反射防止膜上。於在玻璃基板或樹脂基板之兩主面成膜反射防止膜之情形時，亦可使防污膜成膜於兩反射防止膜，但亦可設為僅於任一面積層防污膜之構成。其原因在於，防污膜只要設置於人手等可能接觸之部位即可，可根據其用途等進行選擇。

本實施方式之附多層膜之透明基體適宜用作圖像顯示裝置之覆蓋玻璃、特別是搭載於車輛等之導航系統之圖像顯示裝置之類之搭載於車輛等之圖像顯示裝置之覆蓋玻璃。 [實施例]

以下例舉實施例具體地說明本發明，但本發明不限定於該等。例1～2為實施例，例3～4為比較例。

(例3) 利用以下之方法，於透明基體之一主面形成反射防止膜，製作附反射防止膜之透明基體。

透明基體使用厚度40 μm之三乙醯纖維素樹脂膜(以下為TAC膜)。

其次，利用以下之方法，於透明基體之一主面，作為介電層(1)(金屬氧化物層)，藉由數位濺鍍法，使用將鈮與鉬以重量比60：40之比率加以混合並燒結而得之靶，一面將壓力保持在0.2 Pa，一面高速地反覆進行於氬氣中使微小膜厚之金屬膜成膜，其後立即利用氧氣使其氧化之操作，藉此成膜氧化膜，於貼合有擴散層之透明基體之主表面成膜10 nm之Mo-Nb-O層。

其次，作為介電層(2)(氧化矽層)，藉由數位濺鍍法，使用矽靶，一面將壓力保持在0.3 Pa，一面高速地反覆進行於氬氣中使矽膜成膜，其後立即利用氧氣使其氧化之操作，藉此成膜矽氧化膜，將其重疊於Mo-Nb-O層上，成膜厚度40 nm之包含氧化矽[氧化矽(SiO _x)]之層。此處，利用氧氣使其氧化時之氧流量為500 sccm，氧化源之輸入電力為200 W。

其次，作為介電層(3)(金屬氧化物層)，藉由數位濺鍍法，使用將鈮與鉬以重量比60：40之比率加以混合並燒結而得之靶，一面將壓力保持在0.2 Pa，一面高速地反覆進行於氬氣中使微小膜厚之金屬膜成膜，其後立即利用氧氣使其氧化之操作，藉此成膜氧化膜，將其重疊於氧化矽層上，成膜厚度120 nm之Mo-Nb-O層。

繼而，作為介電層(4)(氧化矽層)，藉由數位濺鍍法，使用矽靶，一面將壓力保持在0.3 Pa，一面高速地反覆進行於氬氣中進行矽膜成膜，其後立即利用氧氣使其氧化之操作，藉此成膜矽氧化膜，將其重疊於Mo-Nb-O層上，成膜厚度100 nm之包含氧化矽[氧化矽(SiO _x)]之層。此處，利用氧氣使其氧化時之氧流量為500 sccm，氧化源之輸入電力為200 W。

又，對於以此方式所獲得之附反射防止膜之透明基體，藉由分光光度計(島津製作所公司製造，商品名：SolidSpec-3700)分別對投入95℃可靠性試驗槽之前之上述透明基體、及投入後經過500小時之上述透明基體測定分光透過率，以計算方式求出視感透過率(JIS Z 8701：1999中所規定之刺激值Y)，根據投入前之視感透過率及經過500小時後之視感透過率，求出視感透過率變化量。

結果，例3之視感透過率變化量為5%。

(例1) 將成膜介電層(2)及介電層(4)之氧化矽層時之壓力變更成0.1 Pa，除此以外，以與例3相同之方式製作附反射防止膜之透明基體。又，例1之視感透過率變化量為2%。

(例2) 成膜介電層(2)及介電層(4)之氧化矽層時使用Linear Ion Source(ULVAC公司製造)，以施加電壓2 kV對成膜面釋出高能量之氬離子，除此以外，以與例1相同之方式製作附反射防止膜之透明基體。又，例2之視感透過率變化量為1.5%。

(例4) 未於例3之透明基體之一主面成膜反射防止膜。

(氧化矽層之透濕度測定) 對於在例1、2及例3之成膜條件下在縱100 mm×橫100 mm×厚度40 μm之三乙醯纖維素樹脂膜上所成膜之厚度100 nm之氧化矽層，基於JIS Z 0208(1976)之「防濕包裝材料之透濕度試驗方法」，使用透濕杯測定透濕度。關於測定，於透濕杯中封入吸濕劑/氯化鈣(無水)，以一定間隔(每24小時或每48小時)重複進行秤量操作，將杯之質量增加評價為水蒸氣之透過量。將實施以下評價所得之結果示於下述表1。

對於在例1、2及例3之成膜條件下在縱100 mm×橫100 mm×厚度1.1 mm之化學強化玻璃基板(Dragontrail：註冊商標，AGC公司製造)上所成膜之厚度100 nm之氧化矽層，實施以下評價，將所得之結果示於下述表1。

(氧化矽層之表面粗糙度(算術平均高度(Sa))) 使用測定裝置[日立高新技術公司製造，裝置名：掃描型探針顯微鏡 AFM5100N]，於測定範圍：1 μm×1 μm(或5 μm×5 μm)、操作頻率：1.2 Hz、輕敲數：256×256之條件下進行測定。

(氧化矽層之硬度) 使用測定裝置[ELIONIX公司製造，裝置名：表面張力測定裝置(奈米壓痕儀)ESF-5000 Plus]，施加0.1 mN(或1 mN)之荷重進行測定。

(氧化矽層之彈性模數) 使用測定裝置[ELIONIX公司製造，裝置名：表面張力測定裝置(奈米壓痕儀)ESF-5000 Plus]，施加0.1 mN(或1 mN)之荷重進行測定。

[表1]

表1
	例1	例2	例3	例4
構造	基體	TAC膜	TAC膜	TAC膜	TAC膜
介電層(1)	Mo-Nb-O (10 nm)	Mo-Nb-O (10 nm)	Mo-Nb-O (10 nm)	-
介電層(2)	SiO x(40 nm)	SiO x(40 nm)	SiO x(40 nm)	-
介電層(3)	Mo-Nb-O (120 nm)	Mo-Nb-O (120 nm)	Mo-Nb-O (120 nm)	-
介電層(4)	SiO x(100 nm)	SiO x(100 nm)	SiO x(100 nm)	-
成膜方法	數位濺鍍	數位濺鍍	數位濺鍍	-
光學特性變化	視感透過率變化量(%)	2	1.5	5	-
氧化矽層之表面粗糙度(算術平均高度(Sa))	1 μm×1 μm (nm)	0.96	0.42	1.28	-
5 μm×5 μm (nm)	0.85	0.40	0.97	-
氧化矽層之硬度(GPa)	0.1 mN	5.4	8.7	4.9	-
1 mN	7.0	8.5	6.5	-
氧化矽層之彈性模數(GPa)	0.1 mN	75	90	68	-
1 mN	82	85	80	-
氧化矽層之透濕度 (g/m 2/天)	第1天	70	3	326以上	326
第2天	62	3	318	327

如表1所示，例1、2之氧化矽層之透濕度為300 g/m ²/天以下，與例3相比，其等之視感透過率變化量受到抑制。

又，表1中，於氧化矽層之1 μm×1 μm之測定範圍內之表面粗糙度(算術平均高度(Sa))為1.00 nm以下的例1、2中，附反射防止膜之透明基體之氧化矽層緻密，可抑制水分自外部滲入，因此與例3相比，視感透過率變化量受到抑制。

以上，一面參照圖式一面對各種實施方式進行說明，當然本發明並不限定於該等例。業者明確，可於申請專利範圍所記載之範圍內，想到各種變化例或修正例，應瞭解，其等當然屬於本發明之技術範圍。又，亦可於不脫離發明之主旨之範圍內，任意組合上述實施方式中之各構成要素。

再者，本申請係基於2020年7月3日提出申請之日本專利申請(特願2020-115919)者，其內容被作為參照而援用於本申請中。

10:透明基體 30:多層膜 32:介電層 34:介電層

圖1係模式性地表示附反射防止膜之透明基體之一構成例之剖視圖。

10:透明基體

30:多層膜

32:介電層

34:介電層

Claims (13)

1. 一種附反射防止膜之透明基體，其於具有兩個主面之透明基體之至少一主面具備積層有至少2層折射率互不相同之層之多層膜，上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層之透濕度為300 g/m ²/天以下， 上述多層膜之層中之至少一層主要由Si氧化物構成，上述多層膜之層中之另外至少一層主要由選自由Mo及W所組成之A群中之至少1種之氧化物與選自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn及In所組成之B群中之至少1種之氧化物的混合氧化物構成，且相對於該混合氧化物中所含之A群元素與該混合氧化物中所含之B群元素之合計，該混合氧化物中所含之B群元素之含有率未達80質量%。
2. 一種附反射防止膜之透明基體，其於具有兩個主面之透明基體之至少一主面具備積層有至少2層折射率互不相同之層之多層膜，上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層之透濕度為300 g/m ²/天以下，且 上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層之彈性模數為70 GPa以上。
3. 如請求項1或2之附反射防止膜之透明基體，其中上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層之算術平均高度(Sa)為1.00 nm以下，上述算術平均高度(Sa)表示1 μm×1 μm之測定範圍內之表面粗糙度。
4. 如請求項1或2之附反射防止膜之透明基體，其中上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層之算術平均高度(Sa)為0.90 nm以下，上述算術平均高度(Sa)表示5 μm×5 μm之測定範圍內之表面粗糙度。
5. 如請求項1至4中任一項之附反射防止膜之透明基體，其中上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層之硬度為5.0 GPa以上。
6. 如請求項1之附反射防止膜之透明基體，其中上述多層膜之層中之至少一層之氧化矽層之彈性模數為70 GPa以上。
7. 如請求項1至6中任一項之附反射防止膜之透明基體，其於上述反射防止膜上進而具有防污膜。
8. 如請求項1至7中任一項之附反射防止膜之透明基體，其中上述透明基體為玻璃基板。
9. 如請求項1至7中任一項之附反射防止膜之透明基體，其中上述透明基體為樹脂基板。
10. 如請求項1至7中任一項之附反射防止膜之透明基體，其中上述透明基體為包含玻璃及樹脂基板之積層體。
11. 如請求項8或10之附反射防止膜之透明基體，其中上述玻璃經化學強化。
12. 如請求項1至11中任一項之附反射防止膜之透明基體，其中上述透明基體之具有上述反射防止膜一側之主面經防眩處理。
13. 一種圖像顯示裝置，其具備如請求項1至12中任一項之附反射防止膜之透明基體。

Images