JPWO2016038853A1

JPWO2016038853A1 - 反射防止部材およびその製造方法

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Publication number: JPWO2016038853A1
Application number: JP2016547688A
Authority: JP
Inventors: 利治大石; 高英藤本
Original assignee: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Current assignee: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority date: 2014-09-08
Filing date: 2015-09-02
Publication date: 2017-06-15
Also published as: EP3193194A4; EP3193194A1; US20170205539A1; WO2016038853A1; CN106574984A

Abstract

反射防止部材は、微細凹凸構造を有する防眩層と、積層された複数の膜を有し、防眩層より上層に形成される反射防止層とを有する。防眩層において、微細凹凸構造の表面の傾斜角のバラツキに起因して生じる反射防止層の膜厚バラツキが膜厚比±２０％以内となる傾斜角を有する面が、微細凹凸構造が形成された領域のうち６０％以上を占める。

Description

本発明は、反射防止部材およびその製造方法に関する。

近年、ディスプレイの多用途化が進んでおり、例えば外光または照明が当たる状況など、視認性が低下しやすい状況でディスプレイが使用されることがある。このため、ディスプレイの表示パネルの反射処理性能の向上が求められている。

反射処理の技術には、多層膜により反射光を打ち消し合わせて反射光を少なくさせるＡＲ（Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）技術と、微細凹凸構造を有する防眩層により反射光を拡散させて目立たなくするＡＧ（Ａｎｔｉ−Ｇｌａｒｅ）技術とがある。しかし、照明などが反射する場合、ＡＲ技術では、照明の輪郭が視認できてしまい、この点、表示の視認性が低下する。また、ＡＧ技術では、拡散した反射光により、反射部分が白く光って、表示の視認性が低下する。

従来の技術として、特許文献１には、基材に塗布された透明樹脂に微細凹凸模様が設けられた防眩プラスチックフィルムが開示されている。特許文献２には、微細凹凸構造を有する防眩層の上に低屈折率層が形成された反射防止フィルムが開示されている。低屈折率層は、樹脂を塗布および硬化して形成される。

特開平６−２３４１７５号公報国際公開第２００８／０８４６０４号

本発明は、反射処理性能の高い反射防止部材およびその製造方法を提供する。

本発明の一態様に係る反射防止部材は、微細凹凸構造を有する防眩層と、積層された複数の膜を有し、防眩層より上層に形成される反射防止層とを有する。防眩層において、微細凹凸構造の表面の傾斜角のバラツキに起因して生じる反射防止層の膜厚バラツキが膜厚比±２０％以内となる傾斜角を有する面が、微細凹凸構造が形成された領域のうち６０％以上を占める。

本発明の一態様に係る反射防止部材の製造方法は、凹凸面を有する型を用いた成形処理を行って基材に微細凹凸構造を形成する防眩層形成工程と、微細凹凸構造よりも上層に、積層された複数の膜を有する反射防止層を成膜する反射防止層形成工程とを有する。型の凹凸面は、転写された凹凸面の傾斜角のバラツキに起因して生じる反射防止層の膜厚バラツキが膜厚比±２０％以内となる傾斜角を有する面が、６０％以上を占めるように形成される。

本発明によれば、防眩層より上層に形成される反射防止層の特性を良好にし、反射防止部材の反射処理性能をより向上できる。また、急勾配な傾斜面で囲まれた溝部または凹部を少なくして、溝部または凹部への汚れの付着による視認性の低下も少なくできる。

実施の形態１の反射防止部材を示す模式図実施の形態１の微細凹凸構造の傾斜角を説明する図実施の形態２の反射防止部材を示す模式図実施の形態２の微細凹凸構造の傾斜角を説明する図反射防止層を示す図反射防止層の膜厚比と反射率との関係を示すグラフ比較例の微細凹凸構造の一例の傾斜角を示す模式図比較例の微細凹凸構造の一例の上面図反射防止部材の形状の第１の変形例を説明する図反射防止部材の形状の第２の変形例を説明する図反射防止部材の形状の第３の変形例を説明する図反射防止部材の形状の第４の変形例を説明する図防眩層を形成する型の製造方法の第１例の第１工程を説明する図防眩層を形成する型の製造方法の第１例の第２工程を説明する図防眩層を形成する型の製造方法の第１例における最終的な型の形状を示す模式図防眩層を形成する型の製造方法の第２例の第１工程を説明する図防眩層を形成する型の製造方法の第２例の第２工程を説明する図防眩層を形成する型の製造方法の第２例における最終的な型の形状を示す模式図図１０Ｃに示す型を用いて作製した微細凹凸構造を示す模式図防眩層を形成する型の製造方法の第３例の第１工程を説明する図防眩層を形成する型の製造方法の第３例における最終的な型の形状を示す模式図図１２Ｂに示す型を用いて作製した微細凹凸構造を示す模式図

本発明の実施の形態の説明に先立ち、従来の技術における問題点を簡単に説明する。ＡＧ技術の防眩層上にＡＲ技術の反射防止層を設けることで、各々の欠点を補って反射処理性能を向上することができる。しかしながら、なんら工夫なく、防眩層の凹凸に反射防止層の多層膜を形成すると、凹凸の傾斜によって膜厚がばらつき、反射防止層の良好な特性が得られない。

また、防眩層の凹凸構造に急勾配な傾斜面で囲まれた溝部または凹部が形成されると、ここに汚れが付着して、視認性が低下する。

以下、本発明の各実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、実施の形態において、同一の構成要素には同一の符号を付し、その説明は重複するので省略する。

＜反射防止部材＞
（実施の形態１、２）
図１は、実施の形態１の反射防止部材を示す模式図である。図２は、実施の形態１の微細凹凸構造の傾斜角を説明する図である。

実施の形態１の反射防止部材１０は、シート状の基材１２と、基材１２の一方の面に形成された微細凹凸構造２０と、微細凹凸構造２０の上に成膜された反射防止層１４とを有している。

微細凹凸構造２０は、光を拡散させる防眩層として機能する。微細凹凸構造２０は、表面に多数の凹凸（例えば多数の球面状の凸部２１）を有する構造である。凹凸の横方向のピッチは、０．５〜１０［μｍ］の範囲で、具体的一例として２［μｍ］程度である。本実施の形態の防眩層は、層内部に光拡散する（ヘイズ（ｈａｚｅ）とも言う）微粒子を有さない構成が採用される。

微細凹凸構造２０は、図２に示すように、凹凸表面の傾斜角θが管理されて形成されている。実施の形態１では、傾斜角が、特定角度θ１＝３６．８°以下となる面が、微細凹凸構造２０の形成面中、平面視したときの面積で６０％以上の範囲を占めるように形成されている。傾斜角は、基材１２の上面からの傾斜角を示している。図２中、太線により特定角度θ１を超える範囲を示している。図２中、Ｖ０は基材１２の上面の垂線を示し、ｈ０は凹凸表面の法線を示している。

傾斜角が特定角度θ１以下となる部分は、反射防止層１４の特性を良好にできる部分である。したがって、この範囲が増えると、反射防止部材１０の反射防止の特性を向上できる。よって、傾斜角が特定角度θ１以下となる部分が占める範囲は、微細凹凸構造２０の形成面中、より好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８０％以上にしてもよい。

実施の形態１において、傾斜角が特定角度θ１以下となる面の割合を６０％以上としている理由については後述する。

反射防止層１４の詳細は、後述する。

図３は、実施の形態２の反射防止部材を示す模式図である。図４は、実施の形態２の微細凹凸構造の傾斜角を説明する図である。

実施の形態２の反射防止部材１０Ａは、シート状の基材１２と、基材１２の一方の面に形成された微細凹凸構造２０と、微細凹凸構造２０の上に成膜された反射防止層１４Ａとを有している。

微細凹凸構造２０は、図４に示すように、凹凸表面の傾斜角θが管理されて形成されている。実施の形態２では、傾斜角が、特定角度θ２＝４８．１°以下となる範囲が、微細凹凸構造２０の形成面中、平面視したときの面積で７０％以上の範囲を占めるように形成されている。図４中、太線により特定角度θ２を超える範囲を示している。

傾斜角が特定角度θ２以下の部分は、反射防止層１４Ａの特性を良好にできる部分である。したがって、この範囲が増えると、反射防止部材１０Ａの反射防止の特性を向上できる。よって、傾斜角が特定角度θ２以下となる部分が占める範囲は、微細凹凸構造２０の形成面中、より好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上にしてもよい。

実施の形態２において、傾斜角が特定角度θ２以下となる面の割合を７０％以上としている理由については後述する。

図５は、反射防止層の一例を示す図である。図６は、一例の反射防止層の膜厚比と反射率との関係を示すグラフである。

反射防止層１４、１４Ａは、３層以上の複数種類の膜を積層して構成される。反射防止層１４、１４Ａは、各層の屈折率と膜厚とがコントロールされて形成され、各界面を反射した光が異なる位相で重なることで、互いの光をキャンセルさせて反射光を低減させる。反射防止層１４、１４Ａの全体の厚みは、膜の種類および数によって変わるが、３００〜５００ｎｍなどであり、微細凹凸構造２０の凹凸量に比べて非常に薄い。反射防止層１４、１４Ａは、例えば、ＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３などの透明な金属酸化物で構成される。

反射防止層１４、１４Ａの各膜は、蒸着法、スパッタ法などのドライプロセスを用いて形成されてもよい。蒸着法、スパッタ法は、真空中で蒸発させた材料物質を面上に凝縮させる方法に含まれる。また、上記各膜は、化学液相成長などのウエットプロセスを用いて形成されてもよい。また、反射防止層１４、１４Ａは、ドライプロセスの薄膜とウエットプロセスの薄膜とが積層されていてもよい。すなわち、反射防止層１４、１４Ａの各膜のうち、少なくとも１つは、真空中で蒸発させて材料物質を面上に凝縮させる処理により形成されていてもよく、ウエットプロセスにより形成されていてもよい。

図６に示すように、反射防止層１４、１４Ａは、膜厚が変わることで、可視光の反射率が変化する。膜厚と反射率との関係グラフにおいて、各界面の反射した光が効率的にキャンセルされることにより反射率が１パーセント以下となる範囲など、他の領域より反射率が低くなる膜厚領域がある。この膜厚領域より膜厚が大きくなるか、或いは、小さくなると反射率が急激に増加する。

反射防止層１４、１４Ａにおいて、反射率が低くなる膜厚領域の中央の膜厚を、膜厚比１とすると、図６に示すように、反射率が低くなる領域は、膜厚比０．８〜１．２となる。

実施の形態１の反射防止層１４は、基板の傾斜角がゼロのときに、膜厚比１の膜厚が得られるように形成される。このとき、傾斜角θを有する部分には、例えば蒸着により飛散してくる一定量の薄膜粒子に対して、傾斜角θだけ薄膜粒子が付着する面積が大きくなる。このため、傾斜角θを有する部分の膜厚は、傾斜角ゼロの部分と比べて薄くなる。傾斜角ゼロの部分を膜厚Ｘとすれば、傾斜角θを有する部分の膜厚Ｘ１は、次式（１）のように表わされる。

よって、実施の形態１の反射防止層１４では、傾斜角が０°〜特定角度θ１（＝３６．８°）の面に形成される薄膜の膜厚は、図６の範囲Ｗ１に示すように、膜厚比１〜０．８の膜厚となる。この膜厚領域では、反射率が１％以下となり、反射防止の特性が良好となる。傾斜角が特定角度θ１を超える面では、傾斜角が大きくなるに従って反射防止層１４の反射率が急激に上昇する。

前述したが、実施の形態１では、傾斜角が０°〜特定角度θ１（＝３６．８°）となる範囲が６０％以上を占めることで、反射防止層１４の良好な性能が得られる。

実施の形態２の反射防止層１４Ａは、基板の傾斜角がゼロのときに、膜厚比１．２の膜厚が得られるように形成されている。

上述のように、傾斜角ゼロの部分を膜厚Ｘとすれば、傾斜角θを有する部分の膜厚Ｘ１は、式（１）のように表わされる。よって、傾斜角が０°〜特定角度θ２（＝４８．１°）の面に形成される反射防止層１４Ａの膜厚は、図６の範囲Ｗ２に示すように、膜厚比１．２〜０．８の膜厚となる。この膜厚範囲の反射防止層１４Ａは、反射率が１％以下となり、反射防止の特性が良好となる。傾斜角が特定角度θ２を超える面では、傾斜角が大きくなるに従って反射防止層１４Ａの反射率が急激に上昇する。

前述したが、実施の形態２においても、傾斜角が０°〜特定角度θ２（＝４８．１°）となる範囲が７０％以上を占めることで、反射防止層１４の良好な特性が得られる。

＜比較例＞
ここでは、実施の形態１において、傾斜角が特定角度θ１以下となる面積を６０％以上とした理由、および、実施の形態２において、傾斜角が特定角度θ２以下となる面積を７０％以上とした理由を、図７Ａ、図７Ｂを参照しながら説明する。

図７Ａは、比較例の微細凹凸構造の傾斜角を示す模式図を示し、図７Ｂは比較例の微細凹凸構造の上面図を示す。

図７Ａ、図７Ｂに示される比較例の微細凹凸構造は、基材５０の一つの面に同一径の半球を密に整列させたモデルである。図７Ａの太線部分、および、図７Ｂの斜線部分は、反射防止層の膜厚比が０．８〜１．２を外れる傾斜角の部位を、模式的に示している。

ここで、反射防止層を、平面に膜厚比１．０で作製するのであれば、前述の通り、図７Ａの傾斜角θは３６．８°となる。また、反射防止層を、平面に膜厚比１．２で作製するのであれば、図７Ａの傾斜角θは４８．１°となる。

平面視で、微細凹凸構造が形成された領域に対する、図７Ａの太線部分の割合は、図７Ｂの正三角形Ｔにおける斜線部分の割合と相似の関係にある。ｒ２は、平面視したときに、太線部分の内周側の円の半径であり、ｒ１は、平面視したときに、太線部分の外周側の円の半径である。これらの条件から、平面視したときの太線部分以外の面積の割合は、次のように求めることができる。

まず、正三角形Ｔの一辺の長さは２×ｒ１なので、その面積Ｓ０は、次式（２）となる。

次に、正三角形Ｔに含まれる斜線部の面積Ｓ１は、次式（３）となる。

平面視で太線部分以外の面積の割合Ｒ１と、半径ｒ１、ｒ２の関係とは、次式（４）、（５）となる。

これらの結果から、上記比較例のモデルにおいて、平面視で膜厚比が０．８〜１．２となる面積の割合Ｒ１は、膜厚比１．０の成膜をする場合（θ＝３６．８°）に４２％となり、膜厚比１．２の成膜をする場合（θ＝４８．１°）に６０％となる。

実施の形態１では、平面視において、膜厚比が０．８〜１．２となる面積の割合が６０％以上であり、半球を密に整列させただけの特別な工夫を施していないモデルの割合４２％と比較して十分に大きい。よって、実施の形態１の特有な構成により、反射防止層の作用を十分に得ることができる。

実施の形態２では、平面視において、膜厚比が０．８〜１．２となる面積の割合が７０％以上であり、半球を密に整列させただけの特別な工夫を施していないモデルの割合６０％と比較して十分に大きい。よって、実施の形態２の特有な構成により、反射防止層の作用を十分に得ることができる。

以上のように、実施の形態１、２の反射防止部材１０、１０Ａによれば、防眩層の微細凹凸構造２０により、ＡＧ技術の特性が得られ、反射防止層１４，１４Ａにより、良好な反射防止特性が得られる。よって、高い反射処理性能を有する反射防止部材１０、１０Ａを実現できる。

また、実施の形態１、２の反射防止部材１０、１０Ａによれば、微細凹凸構造２０の傾斜角の管理によって、急勾配な傾斜面で囲まれた溝部または凹部が少なくなるので、溝部または凹部への汚れの付着による視認性の低下も少なくできる。

なお、上記実施の形態１、２では、微細凹凸構造２０として、複数の球面状の凸部２１が形成された例を示したが、凹凸の形状は、これらに限られることはない。

また、上記実施の形態１、２では、微細凹凸構造２０の傾斜角の管理と、傾斜角ゼロの面に膜厚比１または膜厚比１．２の反射防止層１４，１４Ａを形成することで、反射防止層１４，１４Ａの良好な膜厚を実現している。しかしながら、傾斜角ゼロの面に形成される膜厚は、膜厚比０．８〜１．２の何れかにする必要はない。傾斜角ゼロの面に形成される膜厚が、膜厚比１．２以上であっても、微細凹凸構造２０の傾斜角の設け方によって、反射防止層１４，１４Ａの膜厚バラツキを、反射率の低くなる領域で膜厚比±２０％以内に抑えることが可能である。また、このような傾斜角の面の割合を一定以上に制御することも可能である。

また、図８Ａ〜図８Ｄに示すように、反射防止部材の形状は、特に制限されるものでない。反射防止部材１０Ｂ〜１０Ｅは、図８Ａのように板状としても、図８Ｂのようにフィルム状としても、図８Ｃのように帯状としても、図８Ｃのようにブロック状としてもよい。反射防止部材１０Ｂ〜１０Ｅの各形状において、少なくとも１つの面に、上述した防眩層と反射防止層とを有すればよい。

また、反射防止層１４、１４Ａの各薄膜の種類、積層数、膜厚は、図示した具体例に限られず、種々に変更可能である。薄膜の積層数は３層以上とするとよい。

＜反射防止部材の製造方法＞
次に、反射防止部材の製造方法の一例について説明する。

反射防止部材の製造方法は、工程順に、防眩層形成工程と、反射防止層形成工程とを有する。

防眩層形成工程では、微細凹凸構造を有する型３０（図９Ｃ参照）と、透明な基材１２（図１〜図４参照）と、硬化型透明樹脂とが用いられる。型３０は、例えば金型である。基材１２は、例えば、ヘイズの少ない、透明樹脂または透明ガラスなどである。透明樹脂には、例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）、ＰＣ（ポリカーボネート）、または、アクリル樹脂が含まれる。硬化透明樹脂としては、例えば、紫外線硬化型の透明レジンを適用できる。

型３０は、傾斜角が管理された凹凸面を有する。型３０の凹凸面は、転写された凹凸面において、傾斜角のバラツキに起因して生じる反射防止層の膜厚バラツキが膜厚比±２０％以内となる傾斜角を有する面が６０％以上を占めるように形成される。具体的には、実施の形態１の反射防止部材１０を製造する型３０は、転写された凹凸面の中で、傾斜角３６．８°以下の部分が６０％以上を占めるように形成される。実施の形態２の反射防止部材１０Ａを製造する型３０は、転写された凹凸面の中で、傾斜角４８．１°以下の部分が６０％以上を占めるように形成される。型３０の製造方法は後述する。

防眩層形成工程では、型３０を用いた型成形により、型３０の凹凸を転写した形状で、基材１２の上面に硬化型透明樹脂を硬化させる。これにより、基材１２の上面に透明な微細凹凸構造２０が付加されて防眩層が形成される。

反射防止層形成工程では、微細凹凸構造２０を有する基材１２に対して、ドライプロセス或いはウエットプロセスの成膜処理を複数回行う。各成膜処理は、薄膜の膜厚が管理されて行われる。実施の形態１の反射防止部材１０を製造する場合には、傾斜角０°の面に膜厚比１の反射防止層が形成されるように、膜厚が管理される。実施の形態２の反射防止部材１０Ａを製造する場合には、傾斜角０°の面に膜厚比１．２の反射防止層が形成されるように、膜厚が管理される。これにより、防眩層の微細凹凸構造２０より上層に、所定の反射防止層が形成される。

以上の工程により、実施の形態１、２の反射防止部材１０、１０Ａを製造することができる。

なお、反射防止部材の製造方法において、防眩層形成工程と反射防止層形成工程との間に、別の成膜処理が含まれていてもよい。

＜型の製造方法＞
続いて、防眩層形成工程で使用される型３０の製造方法の一例について説明する。

図９Ａ〜図９Ｃは、型の製造方法の第１例を説明する図である。図９Ａは第１工程の説明図、図９Ｂは第２工程の説明図、図９Ｃは最終的な型の形状を示す模式図である。

型３０の製造方法の第１例は、先ず、図９Ａに示すように、型材３１に、ブラスト加工、エッチング加工、又は、放電加工を及ぼして、型材３１の一面に、防眩作用が得られる光学距離のピッチで凹凸を形成する。次に、図９Ｂに示すように、凹凸の下端部を、研磨又はエッチングにより、除去する。図９Ｂの研磨又はエッチングの処理量により、傾斜角が大きくなる範囲の割合を調整することができる。

これにより、図９Ｃに示すように、実施形態１、２の微細凹凸構造２０を転写したような凹凸を有する型３０を製造することができる。

図１０Ａ〜図１０Ｃは、型の製造方法の第２例を説明する図である。図１０Ａは第１工程の説明図、図１０Ｂは第２工程の説明図、図１０Ｃは最終的な型の形状を示す模式図である。

型３０の製造方法の第２例は、先ず、図１０Ａに示すように、型材３１の一面に、ブラスト加工、又は、エッチング加工により、防眩作用を及ぼす光学距離のピッチで凹凸を形成する。次に、図１０Ｂに示すように、凹凸の個々の凹部より小さな径の粒子３２を用いて追加のブラスト加工を行う。追加のブラスト加工では、凹凸の下端部など、薄い部分は、大きく削られ、凹部の中央など、厚みのある部分の削り量は小さくなる。これにより、図１０Ｃに示すように、傾斜角の大きな範囲が削られた微細凹凸構造を有する型３０を製造することができる。

図１１は、図１０Ｃに示す型を用いて作製した微細凹凸構造を示す模式図である。

第２例の型３０を用いて防眩層を形成することで、図１１のような微細凹凸構造２０Ａを作製することができる。微細凹凸構造２０Ａは、特定の角度を超えた傾斜角の面（図中、太線で示す）を、所定割合以下に制御することができる。

図１２Ａ、図１２Ｂは、防眩層を形成する型の製造方法の第３例を説明する図である。図１２Ａは第１工程の説明図、図１２Ｂは最終的な型の形状を示す模式図である。

型３０の製造方法の第３例は、図１２Ａに示すように、微細模様加工４５を施した電極４０を用いて、型材３１に放電加工を行うものである。これにより、図１２Ｂに示すように、微細模様加工４５に応じた一律の微細凹凸形状を有する型３０を形成することができる。

図１３は、図１２Ｂに示す型を用いて作製した微細凹凸構造を示す模式図である。

第３例の型３０を用いて防眩層を形成することで、図１３のような一律の凹凸形状を有する微細凹凸構造２０Ｂを作製することができる。微細凹凸構造２０Ｂは、例えば、断面台形形状の凹凸構造である。これにより、微細凹凸構造２０Ｂの全エリアにおいて、反射防止層の膜厚バラツキが、膜厚比±２０％以内となるように、傾斜角の制御が可能となる。

以上、本発明の各実施の形態について説明した。

なお、上記実施の形態では、反射防止部材の微細凹凸構造の製造方法として型成形を示し、型の製造方法を幾つか具体的に示した。しかし、反射防止部材の微細凹凸構造の製造方法は、特に制限されるものではなく、発明により特定される傾斜角を有する微細凹凸構造が製造できれば、どのような製造方法を用いてもよい。

本発明は、ディスプレイの反射を防止する反射防止部材に利用することができる。

１０，１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ，１０Ｅ反射防止部材
１２，５０基材
１４，１４Ａ反射防止層
２０，２０Ａ，２０Ｂ微細凹凸構造
２１凸部
３０型
３１型材
３２粒子
４０電極
４５微細模様加工

Claims

基材と、
微細凹凸構造を有し、前記基材の表面に設けられた防眩層と、
積層された複数の膜を有し、前記防眩層より上層に形成された反射防止層と、を備え、
前記防眩層において、前記微細凹凸構造の表面の、前記基材の前記表面に対する傾斜角のバラツキに起因して生じる前記反射防止層の膜厚バラツキが膜厚比±２０％以内となる傾斜角を有する面が、前記微細凹凸構造が形成された領域のうち６０％以上を占める、
反射防止部材。
前記傾斜角が０°である面に、膜厚Ｘの前記反射防止層を形成したときに、前記傾斜角がθである面に形成される膜厚がＸ・ｃｏｓθになるものとして、前記傾斜角と前記反射防止層の膜厚バラツキとの関係が定義される、
請求項１記載の反射防止部材。
前記反射防止層の膜厚と反射率との関係グラフにおいて反射率が他の領域と比較して低くなる膜厚領域の中央値を膜厚比１として、
前記反射防止層は、前記傾斜角が０°である面に膜厚比１の膜厚で形成され、
前記防眩層は、前記微細凹凸構造が形成された領域のうち、前記傾斜角が３６．８°以下である面が６０％以上を占める、
請求項１記載の反射防止部材。
前記反射防止層の膜厚と反射率との関係グラフにおいて、前記反射率が他の領域と比較して低くなる膜厚領域の中央値を膜厚比１として、
前記反射防止層は、前記傾斜角が０°である面に膜厚比１．２の膜厚で形成され、
前記防眩層は、前記微細凹凸構造が形成された領域のうち、前記傾斜角が４８．１°以下である面が７０％以上を占める、
請求項１記載の反射防止部材。
前記反射防止層の前記複数の膜のうち、少なくとも１つは、真空中で蒸発させた材料物質を面上に凝縮させる処理により形成されている、
請求項１記載の反射防止部材。
前記反射防止層の前記複数の膜のうち、少なくとも１つは、ウエットプロセスにより形成されている、
請求項１記載の反射防止部材。
凹凸面を有する型を用いた成形処理を行って基材に微細凹凸構造を形成する防眩層形成工程と、
前記微細凹凸構造よりも上層に、積層された複数の膜を有する反射防止層を形成する反射防止層形成工程と、を備え、
前記型の前記凹凸面において、転写された凹凸面の、前記基材の表面に対する傾斜角のバラツキに起因して生じる前記反射防止層の膜厚バラツキが膜厚比±２０％以内となる前記傾斜角を有する面が６０％以上を占めるように形成されている、
反射防止部材の製造方法。
前記型の前記凹凸面は、型材の一面にブラスト加工、エッチング加工、或いは放電加工によって形成した凹凸に、前記凹凸より小さい径の粒子を用いて追加のブラスト加工を行って形成される、
請求項７記載の反射防止部材の製造方法。
前記型の前記凹凸面は、型材の一面にブラスト加工、エッチング加工、或いは放電加工によって形成した凹凸面を、研磨或いはエッチングして形成される、
請求項７記載の反射防止部材の製造方法。
前記型の前記凹凸面は、型材の一面に、凹凸模様が形成された電極を用いた放電加工を行って形成される、
請求項７記載の反射防止部材の製造方法。
前記反射防止層の膜厚と反射率との関係グラフにおいて、前記反射率が他の領域と比較して低くなる膜厚領域の中央値を膜厚比１として、
前記反射防止層形成工程では、前記傾斜角が０°である面に膜厚比１の膜厚で前記反射防止層を形成し、
前記型の前記凹凸面は、前記転写された凹凸面の中で、前記傾斜角が３６．８°以下の部分が６０％以上を占めるように形成されている、
請求項７記載の反射防止部材の製造方法。
前記反射防止層の膜厚と反射率との関係グラフにおいて、前記反射率が他の領域と比較して低くなる膜厚領域の中央値を膜厚比１として、
前記反射防止層形成工程では、前記傾斜角が０°である面に膜厚比１．２の膜厚で前記反射防止層を形成し、
前記型の前記凹凸面は、前記転写された凹凸面の中で、前記傾斜角が４８．１°以下の部分が７０％以上を占めるように形成されている、
請求項７記載の反射防止部材の製造方法。