KR101892037B1 - 방현 및 반사 방지 필름 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

방현(Anti-Glare) 및 반사 방지(Anti-Reflection) 필름 및 그 제조방법이 개시된다. 본 발명에 따른 방현 및 반사 방지 필름(100)은, 필름의 적어도 일면 상에 형성되고, 마이크로미터 스케일(micrometer scale)의 복수의 돌출부(111)를 가지는 제1 패턴(110) 및 제1 패턴(110) 상에 형성되고, 나노미터 스케일(nanometer scale)의 복수의 돌출부(121)를 가지는 제2 패턴(120)을 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

방현 및 반사 방지 필름 및 그 제조방법 {ANTI-GLARE AND ANTI-REFLECTION FILM AND PRODUCING METHOD THEREOF}
본 발명은 방현(Anti-Glare) 및 반사 방지(Anti-Reflection) 필름 및 그 제조방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 마이크로 구조의 방현 패턴 및 나노 구조의 반사 방지 패턴의 복합 패턴을 이용한 방현 및 반사 방지 필름 및 그 제조방법에 관한 것이다.
휴대폰, 태블릿PC, 차 내비게이션 등 실내외에서 사용되는 디스플레이의 구동시에는 태양광 또는 외부 광원의 반사에 의한 시인성 저하 문제가 발생한다. 터치 스크린 패널이 결합된 디스플레이의 경우에는 최외곽을 유리 기판으로 형성할 수밖에 없으므로, 광원의 정반사(Specular Reflection)에 의한 시인성 저하가 심각한 상황이다. 특히, 차 내비게이션의 경우, 실외에서 사용되므로 태양광의 정반사에 의한 시인성 저하가 심하며, 이러한 시인성의 저하는 주행 중에 원활한 길안내가 어려우며, 사고를 유발하는 원인이 될 수도 있다.
시인성 저하를 해결하기 위해 디스플레이 표면 최외각에 Anti-Glare(AG), Anti-Reflection(AR), 또는 Anti-Glare + Anti-Reflection(AG+AR) 처리를 한 필름을 부착하여 시인성 저하를 해결하고 있는 추세이다. 하지만, AG, AR, AG+AR 필름은 모바일 기기, 디스플레이 등의 수요 증가에도 불구하고, 거의 수입에 의존하고 있는 실정이다.
AG 필름은 표면에 요철 구조를 형성하여 정반사를 방지하는데, 종래의 일 실시예로, 도 1을 참조하면, 다양한 크기 분포를 가지는 실리카 비드(Silica Bead; 11)를 수지(12)에 첨가하고, 이 수지를 기판(10) 상에 도포하여 표면 요철을 형성하는 AG 필름이 제안되었다. 하지만, 이는 헤이즈(Haze)율이 높고, 초고화질의 디스플레이에서 실리카 비드(11)에 의한 화질, 선명도를 저하시키는 문제점이 발생할 수 있다.
AR 필름은 빛의 반사 방지를 위해 굴절율이 다른 여러 층을 적층해야 하므로, 공정 단계가 복잡해지고 생산성이 낮은 문제점이 있다.
도 2는 종래의 실시예에 따라, 도 1의 AG 필름 상에 나노 입자 비드(13)를 스프레이 코팅 등의 방법으로 장식해 놓은 AG+AR 필름이다. 나노 입자 비드(13)와 실리카 비드(11)의 굴절률의 차이, 입자 크기의 차이로 인해 입사광이 반사되는 정도를 낮추는 효과가 발생하지만, 이 필름을 제조하는 공정 역시 AG 패턴 제조 -> AR 패턴 제조의 2단계로 진행되는 번거로움이 있고, 나노 입자 비드(13)가 방현 효과를 낮출 수도 있는 문제점이 있다. 한편, 이 외에, 도 1의 AG 필름 상에 e beam 등으로 공기층과 베이스 필름의 중간 굴절율을 가진 물질을 여러번 코팅하여 반사율을 줄인 AG+AR필름을 제조할 수도 있으나, 상술한 AG+AR 필름과 동일한 문제점을 내포하고 있다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 디스플레이의 품질을 저하시키지 않고, 투과율, 헤이즈, 반사도 저감 특성이 우수한 방현 및 반사 방지 필름 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 공정을 간소화 할 수 있고, 대면적 대량 생산이 가능한 방현 및 반사 방지 필름 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 방현(Anti-Glare) 및 반사 방지(Anti-Reflection) 필름은, 필름의 적어도 일면 상에 형성되고, 마이크로미터 스케일(micrometer scale)의 복수의 돌출부를 가지는 제1 패턴; 및 상기 제1 패턴 상에 형성되고, 나노미터 스케일(nanometer scale)의 복수의 돌출부를 가지는 제2 패턴을 포함하는 것을 특징으로 한다.
그리고, 상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 방현(Anti-Glare) 및 반사 방지(Anti-Reflection) 필름은, 필름의 적어도 일면 상에 형성되고, 마이크로미터 스케일(micrometer scale)의 복수의 돌출부를 가지는 제1 패턴; 및 상기 제1 패턴 상에 형성되고, 나노미터 스케일(nanometer scale)의 복수의 함몰부를 가지는 제2 패턴을 포함하는 것을 특징으로 한다.
그리고, 상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 방현(Anti-Glare) 및 반사 방지(Anti-Reflection) 필름은, 필름의 적어도 일면 상에 형성되고, 마이크로미터 스케일(micrometer scale)의 함몰부를 가지는 제1 패턴; 및 상기 제1 패턴 상에 형성되고, 나노미터 스케일(nanometer scale)의 돌출부를 가지는 제2 패턴을 포함하는 것을 특징으로 한다.
그리고, 상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 방현(Anti-Glare) 및 반사 방지(Anti-Reflection) 필름은, 필름의 적어도 일면 상에 형성되고, 마이크로미터 스케일(micrometer scale)의 함몰부를 가지는 제1 패턴; 및 상기 제1 패턴 상에 형성되고, 나노미터 스케일(nanometer scale)의 함몰부를 가지는 제2 패턴을 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 제1 패턴은 입사된 광을 산란시키는 방현 패턴으로 사용될 수 있다.
상기 제1 패턴의 표면 각 부분마다 빛의 굴절각이 상이할 수 있다.
상기 제2 패턴은 입사된 광의 반사를 방지하는 반사 방지 패턴으로 사용될 수 있다.
상기 제2 패턴의 돌출부는 상단에서 하단으로 갈수록 평단면적이 증가하는 형태일 수 있다.
상기 제2 패턴의 돌출부의 상단에서 하단으로 갈수록, 해당 평단면에서의 굴절률은 공기의 굴절률에서 상기 필름의 굴절률에 수렴할 수 있다.
상기 제2 패턴의 함몰부는 상단에서 하단으로 갈수록 평단면적이 작아지는 형태일 수 있다.
상기 제2 패턴의 함몰부의 상단에서 하단으로 갈수록, 해당 평단면에서의 굴절률은 공기의 굴절률에서 상기 필름의 굴절률에 수렴할 수 있다.
상기 제2 패턴의 단위 구조의 높이는 일정할 수 있다.
상기 제1 패턴의 단위 구조의 폭은 5㎛ 내지 50㎛이고, 높이는 0.1㎛ 내지 5㎛일 수 있다.
상기 제2 패턴의 단위 구조의 높이는 20nm 내지 300nm이며, 각각의 상기 제2 패턴의 단위 구조 간의 피치는 50nm 내지 300nm 일 수 있다.
상기 필름은 전광선 투과율(%)이 적어도 90보다 크고, 반사도(60° gloss)가 적어도 80보다 작을 수 있다.
그리고, 상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 방현(Anti-Glare) 및 반사 방지(Anti-Reflection) 필름의 제조 방법은, (a) 평판 또는 원통 형상의 금속 마스터 기판을 준비하는 단계; (b) 상기 금속 마스터 기판의 표면에 마이크로미터 스케일(micrometer scale)의 복수의 돌출부 또는 복수의 함몰부를 가지는 몰드 패턴을 형성하는 단계; (c) 상기 금속 마스터 기판을 베이스 기판에 압착하여 상기 베이스 기판에 상기 몰드 패턴의 역상(reverse image)인 제1 마스터 패턴을 형성하는 단계; 및 (d) 상기 베이스 기판의 상기 제1 마스터 패턴 상에 나노미터 스케일(nanometer scale)의 복수의 돌출부 또는 복수의 함몰부를 가지는 제2 마스터 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
(e) 상기 제1 마스터 패턴 및 상기 제2 마스터 패턴이 형성된 상기 베이스 기판의 면과 대향하도록 타겟 필름을 배치하는 단계; 및 (f) 상기 타겟 필름에 상기 제1 마스터 패턴 및 상기 제2 마스터 패턴의 역상을 전사하여 제1 패턴 및 제2 패턴을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 (d) 단계에서, 상기 제2 마스터 패턴은 플라즈마 건식 에칭을 사용하여 형성할 수 있다.
상기 제1 마스터 패턴의 단위 구조의 폭은 5㎛ 내지 50㎛이고, 높이는 0.1㎛ 내지 5㎛일 수 있다.
상기 제2 마스터 패턴의 단위 구조의 높이는 20nm 내지 300nm이며, 각각의 상기 제2 마스터 패턴의 단위 구조 간의 피치는 50nm 내지 300nm 일 수 있다.
상기와 같이 구성된 본 발명에 따르면, 디스플레이의 품질을 저하시키지 않고, 투과율, 헤이즈, 반사도 특성이 우수한 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 공정을 간소화 할 수 있고, 대면적 대량 생산이 가능한 효과가 있다.
도 1은 종래의 방현 필름을 나타내는 도면이다.
도 2는 종래의 방현 및 반사 방지 필름을 나타내는 도면이다.
도 3 및 도 4는 본 발명의 여러 실시예에 따른 방현 및 반사 방지 패턴을 포함하는 필름의 확대 단면도이다.
도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 제2 패턴에서 굴절률이 변화하는 원리를 나타내는 개략도이다.
도 7 내지 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 방현 및 반사 방지 필름을 제조하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 방현 및 반사 방지 필름을 롤투롤 임프린팅 공정으로 제조하는 장치를 나타내는 사진이다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 방현 및 반사 방지 필름의 마이크로미터 스케일의 제1 패턴을 나타내는 사진이다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 방현 및 반사 방지 필름의 나노미터 스케일의 제2 패턴을 나타내는 사진이다.
도 14는 일 실험예에 따른 여러 종류의 필름을 디스플레이에 부착하여 방현 및 반사 방지 성능을 테스트한 결과를 나타내는 사진이다.
도 15는 다른 실험예에 따른 여러 종류의 필름을 디스플레이에 부착하여 방현 및 반사 방지 성능을 테스트한 결과를 나타내는 그래프이다.
후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 3 및 도 4는 본 발명의 여러 실시예에 따른 방현(Anti-Glare) 및 반사 방지(Anti-Reflection) 패턴을 포함하는 필름(100-400)의 확대 단면도이다.
본 발명의 방현 및 반사 방지 필름(100-400)은 디스플레이에 부착되어 사용할 수 있는 필름으로서, 빛이 투과되는 재질로 구성될 수 있다. 투명한 폴리머 재질이 바람직하며, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET) 계열 투명 폴리머 필름, 불소계 투명 폴리머 필름, 아크릴계 투명 폴리머필름, 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylene naphthlate, PEN), 폴리에테르설폰(polyether sulfone, PES), 폴리시클로 올레핀(polycyclo olefin) 및 폴리우레탄(polyiourethane)에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 재질일 수 있다.
본 발명에 따른 방현 및 반사 방지 필름(100-400)은 마이크로미터 스케일(micrometer scale)의 제1 패턴(110, 210, 310, 410)과 나노미터 스케일(nanometer scale)의 제2 패턴(120, 220, 320, 420)을 포함할 수 있다. 여기서, 마이크로미터, 나노미터 스케일은, 구조의 크기를 수㎛ 내지 수백㎛, 수nm 내지 수백nm로 표현할 수 있을 정도의 크기임을 의미할 수 있다.
제2 패턴(120, 220, 320, 420)은 제1 패턴(110, 210, 310, 410) 상에 형성될 수 있다. 여기서, 제1 패턴(110, 210, 310, 410) 상에 형성된다는 의미는 제1 패턴(110, 210, 310, 410)의 상단에 구성요소가 추가되어 형태 외에도, 제1 패턴(110, 210, 310, 410)의 상부에서 돌출 또는 함몰되는 형태로 형성되는 것까지 포함함을 밝혀둔다.
우선, 도 3의 (a)의 필름(100)에 대해서 제1 실시예로 상정하여 설명하고, 나머지 제2 - 4 실시예의 필름(200-400)에 대해서는 중복된 설명을 생략하고 차이점에 대해서만 설명한다.
도 3의 (a)를 참조하면, 제1 실시예의 방현 및 반사 방지 필름(100)은 필름의 일면 상에 형성되고, 마이크로미터 스케일의 복수의 돌출부(111)를 가지는 제1 패턴(110), 및 제1 패턴(110) 상에 형성되고, 나노미터 스케일의 복수의 돌출부(121)를 가지는 제2 패턴(120)을 포함하는 것을 특징으로 한다.
복수의 돌출부(111)는 필름의 일면 상에서 대략 볼록 렌즈와 같이 돌출된 형태일 수 있으며, 각각의 돌출부(111)[또는, 제1 패턴(110)의 단위 구조]는 마이크로미터 수준의 크기를 가질 수 있다. 일 예로, 돌출부(111)의 폭은 5㎛ 내지 50㎛, 높이는 0.1㎛ 내지 5㎛로 형성될 수 있다.
복수의 돌출부(111)들은 연속적으로 또는 단속적으로 배열되어 군집된 형태로 제1 패턴(110)을 구성할 수 있다. 제1 패턴(110)[또는, 돌출부(111)]는 입사된 광을 산란(L1)시키는 것을 특징으로 한다. 그리하여, 제1 패턴(110)은 방현(Anti-Glare) 패턴으로서 기능할 수 있다. 제1 패턴(110)은 마이크로미터 스케일을 가지는, 정형화되지 않은 패턴일 수 있다.
돌출부(111)는 폭과 높이가 동일하지 않고, 폭이 높이보다 더 큰 크기를 가지는 대략 볼록 렌즈 형태이므로, 돌출부(111)의 표면 각 부분마다 빛의 굴절각이 상이할 수 있다. 그리하여, 돌출부(111)에 입사된 광들은 일정한 규칙대로 반사되지 않고, 무작위적으로 반사됨에 따라 광이 산란(L1)되는 효과가 나타날 수 있다.
제1 패턴(110)[또는, 돌출부(111)] 상에는 돌출된 형태를 가지는 복수의 돌출부(121)가 형성될 수 있다. 복수의 돌출부(121)[또는, 제2 패턴(120)의 단위 구조]는 나노미터 수준의 크기를 가질 수 있다. 일 예로, 돌출부(121)의 높이는 20nm 내지 300nm로 형성될 수 있고, 돌출부(121) 간의 피치는 50nm 내지 300nm 일 수 있다. 피치는 이웃하는 돌출부(121)의 최상단 꼭지점 간의 거리를 의미할 수 있다.
복수의 돌출부(121)들은 이격적[또는, 단속적]으로 배열되어 군집된 형태로 제2 패턴(120)을 구성할 수 있다. 제2 패턴(120)[또는, 돌출부(121)]은 입사된 광의 반사를 방지하는 것을 특징으로 한다. 그리하여, 제2 패턴(120)은 반사 방지(Anti-Reflection) 패턴으로서 기능할 수 있다.
필름의 모든 부분에서 반사 방지 효과가 균일할 수 있도록, 돌출부(121)의 높이는 일정하게 형성되는 것이 바람직하다. 즉, 돌출부(111)의 각 표면 상에서 동일한 높이의 돌출부(121)가 배열될 수 있다.
돌출부(121)는 상단에서 하단으로 갈수록 평단면적이 증가하는 형태를 가질 수 있다. 입사된 광이 반사되지 않도록 하기 위해서는, 굴절률이 증가하는 경로를 광이 통과(L2)하도록 해야한다. 공기의 굴절률은 약 1.0이고, 필름 재질의 굴절률은 약 1.5이다. 그리고, 돌출부(121)의 평단면적이 점점 넓어져 굴절률이 증가하는 형태를 가지므로, 돌출부(121)에 입사된 광은 반사되지 않고 돌출부(121)를 통과(L2)할 수 있다.
도 5를 참조하면, 돌출부(121)의 상단부, 중간부, 하단부에서의 평단면을 각각 a, b, c로 나타낼 때, 특정 평단면에서의 굴절률(ni)은 아래 식으로 나타낼 수 있다.
ni = nair * X + np2 * Y
[ni는 (i= a, b, c) 단면에서의 굴절률, nair는 공기의 굴절률, np2는 돌출부(121)의 굴절률, X는 단면에서 공기의 면적비, Y는 단면에서 돌출부(121)의 면적비]
a 평단면에서는 공기가 면적의 대부분을 차지하므로 X는 1에 가까운 값을 가지고 Y는 0에 가까운 값을 가지며, a에서 c 평단면으로 갈수록 돌출부(121)가 차지하는 면적이 늘어나므로, X는 0에 수렴하고 Y는 1에 수렴하게 된다. 공기의 굴절률(nair)은 1.0이고, 필름 재질의 굴절률(np2)은 1.5일 경우, a에서 c로 갈수록 굴절률은 1.0에서 1.5로 점점 증가할 수 있다. 돌출부(121)는 상단에서 하단으로 갈수록 평단면적이 점점 넓어져 굴절률이 증가할 수 있고, 그리하여 돌출부(121)에 입사된 광의 반사가 방지되는 효과가 나타날 수 있다.
돌출부(121)를 투과한 광은 제1 패턴(110)의 돌출부(111)로 입사될 수 있다. 이러한 광들은 무작위적으로 반사되어 광이 산란되어 방현 효과가 다시 증가될 수 있다. 즉, 본 발명의 방현 및 반사 방지 필름(100)은 제2 패턴(120)을 통해 표면 반사를 최소화 시키고, 투과된 빛이 제1 패턴(110)을 통해 산란되게 함으로써 방현 및 반사 방지의 효과를 나타낼 수 있다.
이 외에 돌출부(121)를 투과하여 돌출부(111)로 진입하지 않고, 돌출부(121)에서 빠져 나오거나, 반사된 광 중의 일부는 돌출부(121)보다 큰 단위로 형성된 제1 패턴(110)의 돌출부(111)로 다시 입사될 수도 있다. 이러한 광들은 다시 산란되어 방현 효과의 증가에 기여할 수 있다. 즉, 본 발명의 방현 및 반사 방지 필름(100)은 제2 패턴(120)에서 누락된 빛들이 제1 패턴(110)에서 다시 산란되는 일련의 과정이 반복됨으로써 방현 및 반사 방지의 효과가 더욱 증가될 수 있다.
도 3의 (b)를 참조하면, 제2 실시예의 방현 및 반사 방지 필름(200)은 필름의 일면 상에 형성되고, 마이크로미터 스케일의 복수의 돌출부(211)를 가지는 제1 패턴(210), 및 제1 패턴(210) 상에 형성되고, 나노미터 스케일의 복수의 함몰부(221)를 가지는 제2 패턴(220)을 포함하는 것을 특징으로 한다.
제2 실시예의 제1 패턴(210)은 제1 실시예의 제1 패턴(110)과 동일한 구조를 가지고, 방현 원리도 동일하므로 구체적인 설명을 생략한다.
제1 패턴(210)[또는, 돌출부(211)] 상에는 함몰된 형태를 가지는 복수의 함몰부(221)가 형성될 수 있다. 복수의 돌출부(121)[또는, 제2 패턴(120)의 단위 구조]는 나노미터 수준의 크기를 가질 수 있다. 일 예로, 함몰부(221)의 높이는 20nm 내지 300nm로 형성될 수 있고, 함몰부(221) 간의 피치는 50nm 내지 300nm 일 수 있다. 피치는 이웃하는 함몰부(221)의 최하단 꼭지점 간의 거리를 의미할 수 있다.
복수의 함몰부(221)들은 이격적[또는, 단속적]으로 배열되어 군집된 형태로 제2 패턴(220)을 구성할 수 있다. 제2 패턴(220)[또는, 함몰부(221)]는 입사된 광의 반사를 방지하는 것을 특징으로 한다. 그리하여, 제2 패턴(220)은 반사 방지 패턴으로서 기능할 수 있다.
필름의 모든 부분에서 반사 방지 효과가 균일할 수 있도록, 함몰부(221)의 높이는 일정하게 형성되는 것이 바람직하다. 즉, 돌출부(111)의 각 표면 상에서 동일한 높이의 함몰부(121)가 형성 배열될 수 있다.
함몰부(221)는 상단에서 하단으로 갈수록 평단면적이 감소하는 형태를 가질 수 있다. 입사된 광이 반사되지 않도록 하기 위해서는, 굴절률이 증가하는 경로를 광이 통과(L2)하도록 해야한다. 공기의 굴절률은 약 1.0이고, 필름 재질의 굴절률은 약 1.5이다. 그리고, 함몰부(221)의 평단면적이 점점 작아져 굴절률이 증가하는 형태를 가지므로, 함몰부(221)에 입사된 광은 반사되지 않고 함몰부(221)를 통과(L2)할 수 있다.
도 6을 참조하면, 함몰부(221)의 상단부, 중간부, 하단부에서의 평단면을 각각 d, e, f로 나타낼 때, 특정 평단면에서의 굴절률(ni)은 아래 식으로 나타낼 수 있다.
ni = nair * X + np2 * Y
[ni는 (i= d, e, f) 단면에서의 굴절률, nair는 공기의 굴절률, np2는 함몰부(221) 외 필름의 굴절률, X는 단면에서 공기의 면적비, Y는 단면에서 함몰부(221) 외 필름의 면적비]
함몰부(221)는 필름이 채워진 공간이 아니고, 비워진 공간이므로, 실질적으로 공기와 굴절률, 면적비가 같다고 볼 수 있다. 따라서, 위 식에서 np2 및 Y는 함몰부(221)의 굴절률, 면적비가 아니며, 평단면 내에서 함몰부(221) 공간을 제외한 필름의 부분(211이 해당될 수 있음)을 나타내는 것으로 이해되어야 한다.
d 평단면에서는 공기가 면적의 대부분을 차지하므로 X는 1에 가까운 값을 가지고 Y는 0에 가까운 값을 가지며, d에서 f 평단면으로 갈수록 함몰부(221)[또는, 공기]가 차지하는 면적이 작아지므로, X는 0에 수렴하고 Y는 1에 수렴하게 된다. 공기의 굴절률(nair)은 1.0이고, 필름 재질의 굴절률(np2)은 1.5일 경우, d에서 f로 갈수록 굴절률은 1.0에서 1.5로 점점 증가할 수 있다. 함몰부(221)는 상단에서 하단으로 갈수록 평단면적이 점점 작아져 굴절률이 증가할 수 있고, 그리하여 함몰부(221)에 입사된 광의 반사가 방지되는 효과가 나타날 수 있다.
도 4의 (a)를 참조하면, 제3 실시예의 방현 및 반사 방지 필름(300)은 필름의 일면 상에 형성되고, 마이크로미터 스케일의 복수의 함몰부(311)를 가지는 제1 패턴(310), 및 제1 패턴(310) 상에 형성되고, 나노미터 스케일의 복수의 돌출부(321)를 가지는 제2 패턴(320)을 포함하는 것을 특징으로 한다.
복수의 함몰부(311)는 필름의 일면 상에서 대략 오목 렌즈와 같이 함몰된 형태일 수 있으며, 각각의 함몰부(311)[또는, 제1 패턴(310)의 단위 구조]는 마이크로미터 수준의 크기를 가질 수 있다. 일 예로, 함몰부(311)의 폭은 5㎛ 내지 50㎛, 높이는 0.1㎛ 내지 5㎛로 형성될 수 있다.
복수의 함몰부(311)들은 연속적으로 또는 단속적으로 배열되어 군집된 형태로 제1 패턴(310)을 구성할 수 있다. 제1 패턴(310)[또는, 함몰부(311)]는 입사된 광을 산란(L1)시키는 것을 특징으로 한다. 그리하여, 제1 패턴(310)은 방현 패턴으로서 기능할 수 있다.
함몰부(311)는 폭과 높이가 동일하지 않고, 폭이 높이보다 더 큰 크기를 가지는 대략 오목 렌즈 형태이므로, 함몰부(311)의 표면 각 부분마다 빛의 굴절각이 상이할 수 있다. 그리하여, 함몰부(311)에 입사된 광들은 일정한 규칙대로 반사되지 않고, 무작위적으로 반사됨에 따라 광이 산란(L1)되는 효과가 나타날 수 있다.
제3 실시예의 제2 패턴(320)은 제1 실시예의 제2 패턴(120)과 동일한 구조를 가지고, 반사 방지 원리도 동일하므로 구체적인 설명을 생략한다.
도 4의 (b)를 참조하면, 제4 실시예의 방현 및 반사 방지 필름(400)은 필름의 일면 상에 형성되고, 마이크로미터 스케일의 복수의 함몰부(411)를 가지는 제1 패턴(410), 및 제1 패턴(410) 상에 형성되고, 나노미터 스케일의 복수의 함몰부(421)를 가지는 제2 패턴(420)을 포함하는 것을 특징으로 한다.
제4 실시예의 제1 패턴(410)은 제3 실시예의 제1 패턴(310)과 동일한 구조를 가지고 방현 원리도 동일하며, 제4 실시예의 제2 패턴(320)은 제2 실시예의 제2 패턴(220)과 동일한 구조를 가지고 반사 방지 원리도 동일하므로 구체적인 설명을 생략한다.
다만, 도 4의 (b)와 같이 제1, 2 패턴(410, 420)이 모두 함몰된 구조를 가지는 경우에는, 도 3의 (a)와 같이 제1, 2 패턴(110, 120)이 모두 돌출된 구조를 가지거나, 도 3의 (b), 도 4의 (a)와 같이 제1 패턴(210) 또는 제2 패턴(320) 중 하나가 돌출된 구조를 가지는 경우보다 내마모성이 뛰어난 효과를 가질 수 있다. 터치형 디스플레이에 부착하여 사용하는 경우, 디스플레이 사용자가 필름 면을 손접촉하여 사용하게 되므로, 함몰된 구조에 비해 돌출된 구조에 응력이 가해지기 쉽기 때문이다.
이하에서는, 본 발명의 방현 및 반사 방지 필름의 제조 방법에 대해 설명한다.
도 7 내지 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 방현 및 반사 방지 필름을 제조하는 과정을 나타내는 개략도이다. 도 7 내지 도 10에서는 제4 실시예의 방현 및 반사 방지 필름(400)을 제조하는 것을 상정하여 설명하나, 나머지 제1 - 3 실시예의 방현 및 반사 방지 필름(100-300)도 동일한 제조 과정을 적용할 수 있다.
도 7을 참조하면, 먼저, 금속 마스터 기판(500)을 준비한다. 금속 마스터 기판(500)은 평판 형상[도 7의 (a)] 또는 롤투롤(roll to roll) 공정을 위한 원통 형상[도 7의 (b)]을 가질 수 있다.
다음으로, 금속 마스터 기판(500)의 표면에 마이크로미터 스케일의 복수의 돌출부 또는 복수의 함몰부를 형성할 수 있다. 복수의 돌출부/함몰부들은 몰드 패턴(510)으로서 기능할 수 있다. 함몰 구조의 제1 패턴(410)을 가지는 필름(400)을 제조할 때, 몰드 패턴(510)은 복수의 함몰부(511)를 포함할 수 있다. 반대로, 돌출 구조의 제1 패턴(110, 210)을 가지는 필름(100, 200)을 제조하려면, 몰드 패턴(510)이 복수의 돌출부(511)를 가지도록 형성할 수 있을 것이다.
금속 마스터 기판(500)에 몰드 패턴(510)을 형성하는 방법으로는, PR(photo resist)를 이용한 리소그래피, 레이저 식각, 에칭(ehching), 샌딩(sanding) 등 마이크로 구조의 패턴을 형성하는 공지의 기술을 사용할 수 있다.
다음으로, 도 8을 참조하면, 금속 마스터 기판(500)을 베이스 기판(600)에 압착(P)하여 베이스 기판(600)에 몰드 패턴(500)의 역상(reverse image)인 제1 마스터 패턴(610)을 형성할 수 있다. 제1 마스터 패턴(610)의 단위 구조(611)의 폭은 5㎛ 내지 50㎛이고, 높이는 0.1㎛ 내지 5㎛일 수 있다.
베이스 기판(600)은 대량의 임프린팅 공정에서 마스터 필름, 몰드로 사용될 수 있다. 또는, 대량 생산을 고려함이 없이, 베이스 기판(600)을 투명 폴리머 재질을 사용하는 경우라면, 베이스 기판(600)에 제1 패턴(610) 및 제2 패턴(620)[도 9의 단계까지 진행]을 형성하고, 베이스 기판(600')을 곧바로 방현 및 반사 방지 필름으로 사용할 수도 있다. 이 경우, 베이스 기판(600')은 제1 실시예의 방현 및 반사 방지 필름(100)과 동일할 수 있다.
한편, 베이스 기판(600) 상에 광경화성 수지(601)를 도포하고, 금속 마스터 기판(500)을 베이스 기판(600)에 압착(P)하면서 UV 등의 광 에너지를 조사하여 제1 마스터 패턴(610)을 형성할 수도 있다. 이때, 광경화성 수지(200)는 사슬의 양 말단 또는 사슬의 측쇄에 광 중합이 가능한 비닐기, 알릴기, 아크릴기, 아크릴레이트기, 메타크릴레이트기, 에폭시기 및 광경화가 가능한 유기 관능기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상의 관능기를 포함하는 유기 고분자를 사용할 수 있다.
다음으로, 도 9를 참조하면, 베이스 기판(600)의 제1 마스터 패턴(610) 상에 나노미터 스케일의 복수의 돌출부 또는 복수의 함몰부를 포함하는 제2 마스터 패턴(620)을 형성할 수 있다. 제2 마스터 패턴(620)의 단위 구조(621)의 높이는 20nm 내지 300nm일 수 있다. 그리고, 각각의 제2 마스터 패턴(620)의 단위 구조(621)간의 피치는 50nm 내지 300nm 일 수 있다.
제2 마스터 패턴(620)의 복수의 돌출부 또는 복수의 함몰부는 에칭을 사용하여 형성할 수 있으며, 특히, 나노미터 스케일의 패턴을 형성하기 위해 플라즈마 건식 에칭을 사용하는 것이 바람직하다.
플라즈마 건식 에칭에 사용되는 물질로는, Ar, O2, H2, He, N2에서 선택된 적어도 하나의 기체일 수 있고, 이 기체를 포함하여 형성되는 플라즈마에 베이스 기판(600)을 노출시키면, 표면이 에칭되어 나노미터 스케일의 제2 마스터 패턴(620)이 형성된 베이스 기판(600')이 제조될 수 있다.
제2 마스터 패턴(620) 형성 시에 광학적 특성 제어를 위해 에칭 노출 시간이 제어될 수 있으며, 일 실시예에 따라 베이스 기판(600)을 플라즈마에 노출시키는 시간은 7분 미만으로 제어될 수 있다.
한편, 베이스 기판(600')을 방현 및 반사 방지 필름으로 곧바로 사용하는 경우가 아닌, 대량 생산을 위한 마스터 필름, 몰드로서 사용하는 경우에는 아래와 같은 추가 공정이 더 수행될 수 있다.
도 10을 참조하면, 제1 마스터 패턴(610) 및 제2 마스터 패턴(620)이 형성된 베이스 기판(600')의 면과 대향하도록 타겟 필름(700)을 배치할 수 있다. 그리고, 베이스 기판(600')의 제1, 2 마스터 패턴(610, 620)의 역상을 타겟 필름(700)의 일면에 전사할 수 있다. 임프린팅, 롤투롤 임프린팅 등과 같은 공지의 필름 복제 방식이 사용될 수 있다.
타겟 필름(700)에는 제1, 2 마스터 패턴(610, 620)과 역상인 마이크로미터 스케일의 제1 패턴(710)과 나노미터 스케일의 제2 패턴(720)이 형성될 수 있다. 제1 패턴(710)은 함몰부(711)를 가지고, 제2 패턴(720)은 함몰부(721)를 가지므로, 도 4의 (b)에서 상술한 제4 실시예의 방현 및 반사 방지 필름(400)과 동일한 필름을 제조할 수 있다.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 방현 및 반사 방지 필름을 롤투롤 임프린팅 공정으로 제조하는 장치를 나타내는 사진이다.
도 11을 참조하면, 도 10의 베이스 기판(600')을 마스터 필름, 몰드로서 사용한 롤투롤 임프린팅 공정으로, 제1 패턴(710) 및 제2 패턴(720)이 형성된 타겟 필름(700)을 제조하는 것이 도시되어 있다. 타겟 필름(700)은 제4 실시예의 방현 및 반사 방지 필름(400)과 동일하다. 롤투롤 임프린팅 공정을 통해 방현 및 반사 방지 필름의 대량 생산이 가능하다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 방현 및 반사 방지 필름(100-400)의 마이크로미터 스케일의 제1 패턴(110, 210, 310, 410)을 나타내는 사진이다.
도 12를 참조하면, 방현 기능을 주로 하는 마이크로미터 스케일의 제1 패턴(110, 210, 310, 410)은 관찰되나, 나노미터 스케일의 제2 패턴(120, 220, 320, 420)은 미세해서 관찰되지 않음을 확인할 수 있다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 방현 및 반사 방지 필름(100-400)의 나노미터 스케일의 제2 패턴(120, 220, 320, 420)을 나타내는 사진이다.
도 13의 (a)는 제1 실시예에 따른 돌출부(111)를 가지는 제1 패턴(110) 상에 돌출부(121)를 가지는 제2 패턴(120)이 형성된 모습을 나타낸다. 제1 패턴(110) 및 제2 패턴(120)이 돌출된 구조를 가지므로 그 형상이 밝게 관찰되고, 나노미터 스케일의 돌출부(121)들을 확인할 수 있다.
도 13의 (b)는 제3 실시예에 따른 함몰부(311)를 가지는 제1 패턴(310) 상에 돌출부(321)를 가지는 제2 패턴(320)이 형성된 모습을 나타낸다. 제1 패턴(310)이 함몰된 구조를 가지므로 도 13의 (a)보다는 어둡게 관찰되고, 나노미터 스케일의 돌출부(321)들을 확인할 수 있다.
도 13의 (c)는 제4 실시예에 따른 함몰부(411)를 가지는 제1 패턴(410) 상에 함몰부(421)를 가지는 제2 패턴(420)이 형성된 모습을 나타낸다. 나노미터 스케일의 함몰부(421)들을 확인할 수 있다.
도 14는 일 실험예에 따른 여러 종류의 필름을 디스플레이에 부착하여 방현 및 반사 방지 성능을 테스트한 결과를 나타내는 사진이다.
①은 필름을 부착하지 않은 상태이다. 디스플레이 상에서 형광등의 빛이 그대로 반사되어 나타났고, 디스플레이에 표시되는 글씨가 나타나지 않았다.
그리고, 아래 표는 ②-⑤ 필름에서 전광선 투과율과 반사도를 측정한 결과를 나타낸다.
Figure 112016114277520-pat00001
②는 AG, AR 처리가 되지 않은 일반 보호 필름이다. 반사도가 높게 나타났고, 형광등의 빛이 반사되는 정도가 커서 디스플레이에 표시되는 글씨가 나타나지 않았다.
③은 AR 필름이다. 전광선 투과율이 높지만, 반사도도 높게 나타나기 때문에, 형광등의 빛이 반사되는 정도가 커서 디스플레이에 표시되는 글씨를 육안으로 식별하기 어려운 수준이었다.
④는 AG 필름이다. 반사도는 낮지만, 전광선 투과율이 비교적 낮은 편으로 나타났다. 형광등의 빛이 반사되는 정도가 낮으므로, 디스플레이에 표시되는 글씨가 식별가능한 정도로 나타났다.
⑤는 본 발명의 일 실시예에 따른 AG+AR 필름이다. 전광선 투과율이 높게 나타나고, 반사도가 낮게 나타났다. 형광등의 빛이 반사되는 정도가 낮으므로, 디스플레이에 표시되는 글씨가 식별가능한 정도로 나타났다.
④, ⑤ 필름은 헤이즈(Haze)가 11.8%, 11.6% 수준으로 목표하는 15% 미만을 만족하였다. 특히, ⑤ 필름은 반사도가 50으로 목표하는 80미만을 만족할 뿐 아니라, ④ 필름의 반사도보다도 낮은 반사도 수치를 나타냈다. 이는, 제1 패턴 및 제2 패턴 내에서 빛의 산란, 빛의 투과 현상이 일어날 뿐 아니라, 반사된 빛들이 다시 산란되는 일련의 과정이 반복됨에 따라 더욱 반사도 수치를 낮춘 결과로 판단된다. 따라서, ⑤ 필름은 형광등 빛뿐만 아니라, 실외의 강한 빛에서도 디스플레이 식별을 용이하게 할 수 있음을 제시한다.
도 15는 다른 실험예에 따른 여러 종류의 필름을 디스플레이에 부착하여 방현 및 반사 방지 성능을 테스트한 결과를 나타내는 그래프이다. 400nm 내지 700nm의 가시광선 파장 영역대에서 투과율(%)을 측정하였다.
도 15를 참조하면, AG, AR 처리가 되지 않은 일반 보호 필름(PET)보다 AR 처리가 된 AR 필름이 투과율이 현저하게 높게 나타남을 확인할 수 있다. AR 필름의 투과율은 4 종류의 필름 중에서 가장 높게 나타난다.
그리고, AG 처리가 된 AR 필름은 빛이 산란되는 특성이 있으므로 투과율은 일반 보호 필름(PET)보다 낮아질 수 있음을 확인할 수 있다. 다만, 본 발명의 일 실시예에 따른 AG+AR 필름의 경우는, AR 효과가 더 추가되므로, AG 필름보다 투과율이 높게 나타나고, 평균적으로 투과율이 90%을 초과함을 확인할 수 있다.
위와 같이, 본 발명은 방현 및 반사 방지 필름은, 디스플레이의 품질을 저하시키지 않고, 투과율, 헤이즈, 반사도 저감 특성이 우수한 효과가 있다. 또한, 방현 및 반사 방지 필름을 제조하는 공정을 간소화 할 수 있고, 롤투롤 임프린팅 공정으로 대면적 대량 생산이 가능한 효과가 있다.
본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 특허청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.
100-400: 방현 및 반사 방지 필름
110, 210, 310, 410: 마이크로미터 스케일의 제1 패턴
111, 211, 311, 411: 제1 패턴의 단위 구조, 제1 패턴의 돌출부/함몰부
120, 220, 320, 420: 나노미터 스케일의 제2 패턴
121, 221, 321, 421: 제2 패턴의 단위 구조, 제2 패턴의 돌출부/함몰부
500: 금속 마스터 기판
600: 베이스 기판
700: 타겟 필름

Claims (20)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 필름의 적어도 일면 상에 형성되고, 단위 구조인 마이크로미터 스케일(micrometer scale)의 함몰부를 복수개 가지는 제1 패턴 - 상기 마이크로미터 스케일의 함몰부는 폭이 높이보다 더 큰 크기를 가지는 오목 렌즈 형태이고, 폭은 5㎛ 내지 50㎛이고, 높이는 0.1㎛ 내지 5㎛임 - ; 및
    상기 제1 패턴 상에 형성되고, 나노미터 스케일(nanometer scale)의 돌출부를 가지는 제2 패턴
    을 포함하고,
    상기 제2 패턴의 돌출부는 상단에서 하단으로 갈수록 평단면적이 증가하는 형태인, 방현(Anti-Glare) 및 반사 방지(Anti-Reflection) 필름.
  4. 필름의 적어도 일면 상에 형성되고, 단위 구조인 마이크로미터 스케일(micrometer scale)의 함몰부를 가지는 복수개 제1 패턴 - 상기 마이크로미터 스케일의 함몰부는 폭이 높이보다 더 큰 크기를 가지는 오목 렌즈 형태이고, 폭은 5㎛ 내지 50㎛이고, 높이는 0.1㎛ 내지 5㎛임 - ; 및
    상기 제1 패턴 상에 형성되고, 나노미터 스케일(nanometer scale)의 함몰부를 가지는 제2 패턴
    을 포함하고,
    상기 제2 패턴의 함몰부는 상단에서 하단으로 갈수록 평단면적이 작아지는 형태인, 방현(Anti-Glare) 및 반사 방지(Anti-Reflection) 필름.
  5. 제3항 또는 제4항에 있어서,
    상기 제1 패턴은 입사된 광을 산란시키는 방현 패턴으로 사용되는, 방현 및 반사 방지 필름.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제1 패턴의 표면 각 부분마다 빛의 굴절각이 상이한, 방현 및 반사 방지 필름.
  7. 제3항 또는 제4항에 있어서,
    상기 제2 패턴은 입사된 광의 반사를 방지하는 반사 방지 패턴으로 사용되는, 방현 및 반사 방지 필름.
  8. 삭제
  9. 제3항에 있어서,
    상기 제2 패턴의 돌출부의 상단에서 하단으로 갈수록, 해당 평단면에서의 굴절률은 공기의 굴절률에서 상기 필름의 굴절률에 수렴하는, 방현 및 반사 방지 필름.
  10. 삭제
  11. 제4항에 있어서,
    상기 제2 패턴의 함몰부의 상단에서 하단으로 갈수록, 해당 평단면에서의 굴절률은 공기의 굴절률에서 상기 필름의 굴절률에 수렴하는, 방현 및 반사 방지 필름.
  12. 제3항 또는 제4항에 있어서,
    상기 제2 패턴의 단위 구조의 높이는 일정한, 방현 및 반사 방지 필름.
  13. 삭제
  14. 제3항 또는 제4항에 있어서,
    상기 제2 패턴의 단위 구조의 높이는 20nm 내지 300nm이며, 각각의 상기 제2 패턴의 단위 구조 간의 피치는 50nm 내지 300nm인, 방현 및 반사 방지 필름.
  15. 제3항 또는 제4항에 있어서,
    상기 필름은 전광선 투과율(%)이 적어도 90보다 크고, 반사도(60° gloss)가 적어도 80보다 작은, 방현 및 반사 방지 필름.
  16. (a) 평판 또는 원통 형상의 금속 마스터 기판을 준비하는 단계;
    (b) 상기 금속 마스터 기판의 표면에 마이크로미터 스케일(micrometer scale)의 복수의 함몰부를 가지는 몰드 패턴을 형성하는 단계;
    (c) 상기 금속 마스터 기판을 베이스 기판에 압착하여 상기 베이스 기판에 상기 몰드 패턴의 역상(reverse image)인 제1 마스터 패턴을 형성하는 단계; 및
    (d) 상기 베이스 기판의 상기 제1 마스터 패턴 상에 나노미터 스케일(nanometer scale)의 복수의 함몰부를 가지는 제2 마스터 패턴을 형성하는 단계
    (e) 상기 제1 마스터 패턴 및 상기 제2 마스터 패턴이 형성된 상기 베이스 기판의 면과 대향하도록 타겟 필름을 배치하는 단계; 및
    (f) 상기 타겟 필름에 상기 제1 마스터 패턴 및 상기 제2 마스터 패턴의 역상을 전사하여 제1 패턴 및 제2 패턴을 형성하는 단계
    를 포함하고,
    (f) 단계 후, 상기 타겟 필름은,
    단위 구조인 마이크로미터 스케일(micrometer scale)의 함몰부를 복수개 가지는 제1 패턴 - 상기 마이크로미터 스케일의 함몰부는 폭이 높이보다 더 큰 크기를 가지는 오목 렌즈 형태이고, 폭은 5㎛ 내지 50㎛이고, 높이는 0.1㎛ 내지 5㎛임 -; 및 상기 제1 패턴 상에 형성되고, 나노미터 스케일(nanometer scale)의 돌출부를 가지는 제2 패턴을 포함하고,
    상기 제2 패턴의 돌출부는 상단에서 하단으로 갈수록 평단면적이 증가하는 형태인, 방현 및 반사 방지 필름 제조 방법.
  17. (a) 평판 또는 원통 형상의 금속 마스터 기판을 준비하는 단계;
    (b) 상기 금속 마스터 기판의 표면에 마이크로미터 스케일(micrometer scale)의 복수의 함몰부를 가지는 몰드 패턴을 형성하는 단계;
    (c) 상기 금속 마스터 기판을 베이스 기판에 압착하여 상기 베이스 기판에 상기 몰드 패턴의 역상(reverse image)인 제1 마스터 패턴을 형성하는 단계; 및
    (d) 상기 베이스 기판의 상기 제1 마스터 패턴 상에 나노미터 스케일(nanometer scale)의 복수의 돌출부를 가지는 제2 마스터 패턴을 형성하는 단계
    (e) 상기 제1 마스터 패턴 및 상기 제2 마스터 패턴이 형성된 상기 베이스 기판의 면과 대향하도록 타겟 필름을 배치하는 단계; 및
    (f) 상기 타겟 필름에 상기 제1 마스터 패턴 및 상기 제2 마스터 패턴의 역상을 전사하여 제1 패턴 및 제2 패턴을 형성하는 단계
    를 포함하고,
    (f) 단계 후, 상기 타겟 필름은,
    단위 구조인 마이크로미터 스케일(micrometer scale)의 함몰부를 복수개 가지는 제1 패턴 - 상기 마이크로미터 스케일의 함몰부는 폭이 높이보다 더 큰 크기를 가지는 오목 렌즈 형태이고, 폭은 5㎛ 내지 50㎛이고, 높이는 0.1㎛ 내지 5㎛임 - ; 및 상기 제1 패턴 상에 형성되고, 나노미터 스케일(nanometer scale)의 함몰부를 가지는 제2 패턴을 포함하고,
    상기 제2 패턴의 함몰부는 상단에서 하단으로 갈수록 평단면적이 작아지는 형태인, 방현 및 반사 방지 필름 제조 방법.
  18. 제16항 또는 제17항에 있어서,
    상기 (d) 단계에서, 상기 제2 마스터 패턴은 플라즈마 건식 에칭을 사용하여 형성하는, 방현 및 반사 방지 필름 제조 방법.
  19. 삭제
  20. 제16항 또는 제17항에 있어서,
    상기 제2 마스터 패턴의 단위 구조의 높이는 20nm 내지 300nm이며, 각각의 상기 제2 마스터 패턴의 단위 구조 간의 피치는 50nm 내지 300nm인, 방현 및 반사 방지 필름 제조 방법.
KR1020160156007A 2016-11-22 2016-11-22 방현 및 반사 방지 필름 및 그 제조방법 KR101892037B1 (ko)

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